JP2017112261A - X線センサー - Google Patents
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Abstract
【課題】X線の入射によって生成される電荷を効率的に収集して、X線センシングの時間分解能を向上させることが可能なX線センサーを提供する。【解決手段】複数のフォトダイオード11を有する画素13が複数、平面状に並べられた半導体基板12を備え、半導体基板12に入射するX線を検出するX線センサー10において、各フォトダイオード11は、半導体基板12に垂直でX線の入射方向に配した仮想平面Fに沿って設けられ、半導体基板12の一面14側に直線状の開口16を形成するトレンチ部15と、トレンチ部15の周囲に設けられた空乏層20とを有する。【選択図】図1
Description
本発明は、X線の受光強度を計測するX線センサーに関する。
現在、医療用のX線撮像装置においては、シンチエータ等でX線を可視光に変換し、可視光をセンサーによって電気信号に変えてX線の受光強度を計測する間接変換方式が採用されている。間接変換方式は、センサーに従来の可視光用イメージセンサーを利用できるという利点がある反面、変換効率が低く10%程度である。
医療用X線CT装置において断面構造の高精度な画像を得るには、X線被曝量が一回の撮像で6〜20mSvに達する。これは、自然界における年間被曝量1〜2.4mSvに比べ非常に高い値であり、X線画像の撮像は発癌等の放射線被害リスクを高めてしまう。従って、X線画像の撮像回数を制限することや、放射線被害リスクの増大を承知の上で撮像を重ねるといった、X線画像診断効果と放射線被害リスク増大との間でジレンマが生じている。
医療用X線CT装置において断面構造の高精度な画像を得るには、X線被曝量が一回の撮像で6〜20mSvに達する。これは、自然界における年間被曝量1〜2.4mSvに比べ非常に高い値であり、X線画像の撮像は発癌等の放射線被害リスクを高めてしまう。従って、X線画像の撮像回数を制限することや、放射線被害リスクの増大を承知の上で撮像を重ねるといった、X線画像診断効果と放射線被害リスク増大との間でジレンマが生じている。
変換効率を高くする観点においては、間接変換方式ではなく直接変換方式、即ち、X線を電気信号に直接変換する方式が考えられるが、X線は半導体シリコン中を数十mm透過する性質があることから、その実現は容易ではない。これは、現在普及している通常の半導体イメージセンサーは信号電荷を収集できる実効的な厚みが数μm〜10μmと極めて薄く、このセンサーでX線を直接変換検知した場合、厚み方向に入射するX線の収集効率は0.1%以下であり、X線の電気信号への変換効率が大幅に低下するためである。
そこで、ストリップラインで形成される細長いフォトダイオードを半導体チップに設け、その半導体チップの側面にX線を入射させて、X線の入射方向に数十mmの厚みを確保する直接変換型のX線センサーが考案された(特許文献1参照)。
そこで、ストリップラインで形成される細長いフォトダイオードを半導体チップに設け、その半導体チップの側面にX線を入射させて、X線の入射方向に数十mmの厚みを確保する直接変換型のX線センサーが考案された(特許文献1参照)。
特許文献1に記載のX線センサーで採用されているストリップライン方式では、ウエハの厚さでX線センサーの電極間隔と各画素の辺の長さが決定される。一般的に、X線の入射によって生成された電荷を収集する速度は、電極間距離及び電極間電圧によって決定される。X線センサーに入射したX線は、一定の確率で、エネルギーの一部もしくは全部を電荷のペア(電子と正孔)の生成に消費する。生成された電荷のペアは、フォトダイオード内の空乏層領域に生じる電界によって急速に分離され、電子は正電極へ移動し、正孔は負電極へと移動する。一方、電界が極めて小さい空乏層以外の領域で生成された電荷のペアは再結合によって殆どが消滅する。
従って、半導体中でX線により生成された電荷は、主にその空乏層領域中で発生したもののみが収集され検知されることとなり、X線の入射による電荷の収集効率を上げるためには、ウエハの厚み方向において、大部分を空乏層で占める必要がある。
ここで、一般的なウエハ厚は500μm程度であり、ウエハの厚み方向においてその殆どを空乏層にするには、ウエハの不純物濃度を少なくすると共に電極間の逆バイアス電圧を大きくする必要がある。
ここで、一般的なウエハ厚は500μm程度であり、ウエハの厚み方向においてその殆どを空乏層にするには、ウエハの不純物濃度を少なくすると共に電極間の逆バイアス電圧を大きくする必要がある。
つまり、逆バイアス電圧と空乏層幅とウエハ不純物濃度の関係を表す図16のグラフに示すように、空乏層のウエハの厚み方向の長さを500μm程度にするには、ウエハ基板の不純物濃度を、限界近い3.0E+12cm−3まで低くし、かつ、バイアス電圧を600V程度にする必要がある。そのような条件においては、逆バイアス電圧と空乏層の長さと電子の収集最大時間を示す図17のグラフから、電子収集に必要な最大時間は14.6nsとなる。
図17のグラフは、図18のグラフに示す半導体シリコン中の電荷のドリフト速度と電界の関係を用いて、信号検知電極から電界方向に垂直に最も離れた位置で電荷が生成された場合の電子が電極に到達する迄の時間を導出している。なお、図18は、A.S.Grove,”Physics and Technology of Semiconductor Devices”,1967,John Wiley & Sons,Inc.を引用したものである。電子は、正孔の移動に比べ、2倍程度速く移動するので、ここでは、フォトダイオードの信号検知電極を逆バイアス時に正電圧にして、電子の収集量で信号検知するデバイス構成を想定している。従って、ウエハにおいて、フォトダイオードはN型で、基板側はP型となる。
ところで、電子の収集時間を短くするには、図16、図17に示すように、ウエハの不純物濃度をある程度濃くした上で、逆バイアス電圧を低めに設定することが必要となる。
しかしながら、ウエハの表裏に形成された電極間にかけるバイアス電圧によりウエハ全域を空乏層にするストリップライン方式では、ウエハ厚を薄くしない限り電荷収集速度を速くできない。そして、電荷収集速度が速くなければ、X線センシングにおける時間分解能を高くできないため、特許文献1に記載のX線センサーには、X線センシングの時間分解能が低いという課題が存在する。
しかしながら、ウエハの表裏に形成された電極間にかけるバイアス電圧によりウエハ全域を空乏層にするストリップライン方式では、ウエハ厚を薄くしない限り電荷収集速度を速くできない。そして、電荷収集速度が速くなければ、X線センシングにおける時間分解能を高くできないため、特許文献1に記載のX線センサーには、X線センシングの時間分解能が低いという課題が存在する。
X線センシングの時間分解能が低ければ、フォトンカウンティングにおけるダイナミックレンジが制限される問題やエネルギー分解能が低下する問題が生じる。
また、このストリップライン方式では数百Vという高電圧が常時印加されていることから、半導体デバイスの寿命が短くなるという問題もある。一般にデバイスの寿命は、電圧に対して敏感で、電圧が高くなれば指数関数的に寿命が短くなる性質を持っている。よって、センサーデバイスの寿命を長くし信頼性を高めるには、X線センサーを出来るだけ低い電圧で動作させることが望ましい。
また、このストリップライン方式では数百Vという高電圧が常時印加されていることから、半導体デバイスの寿命が短くなるという問題もある。一般にデバイスの寿命は、電圧に対して敏感で、電圧が高くなれば指数関数的に寿命が短くなる性質を持っている。よって、センサーデバイスの寿命を長くし信頼性を高めるには、X線センサーを出来るだけ低い電圧で動作させることが望ましい。
更に、X線CT装置等へ利用するためにイメージセンサーとして画素を2次元に配置する場合、このストリップライン方式では、画素サイズは少なくとも一辺がウエハ厚になることから、正方形が望まれる画素面積を大きくとることができず画素感度が制限されると共に、ウエハの表裏に形成した電極の存在等により、複数のウエハを密に重ね合わせてもウエハの厚み方向に画素間で隙間が生じ、変換効率の低下を招くことになる。
本発明は、かかる事情に鑑みてなされるもので、X線の入射によって生成される電荷を効率的に収集して、X線センシングの時間分解能を向上させることが可能なX線センサーを提供することを目的とする。
前記目的に沿う本発明に係るX線センサーは、複数のフォトダイオードを有する画素が複数、平面状に並べられた半導体基板を備え、該半導体基板に入射するX線を検出するX線センサーにおいて、前記各フォトダイオードは、前記半導体基板に垂直で前記X線の入射方向に配した仮想平面に沿って設けられ、該半導体基板の一面側に直線状の開口を形成するトレンチ部と、前記トレンチ部の周囲に設けられた空乏層とを有する。
なお、空乏層とは、p型とn型を接合するpn接合部付近に形成され、余剰キャリアが電界によって排除された領域を意味する。
なお、空乏層とは、p型とn型を接合するpn接合部付近に形成され、余剰キャリアが電界によって排除された領域を意味する。
本発明に係るX線センサーにおいて、前記トレンチ部の幅をW、最大の逆バイアス電圧を印加した状態での前記空乏層の厚みをTとして、前記トレンチ部の形成ピッチは、W+2Tより長いのが好ましい。
本発明に係るX線センサーにおいて、最大の逆バイアス電圧を印加した状態で、前記トレンチ部と前記半導体基板の他面との間に、n型拡散層、前記空乏層及びp型層、もしくは、p型拡散層、前記空乏層及びn型層が存在するのが好ましい。
本発明に係るX線センサーにおいて、前記半導体基板は複数あって、該複数の半導体基板は、それぞれ平行配置され、前記X線の入射方向に並べられているのが好ましい。
本発明に係るX線センサーにおいて、前記半導体基板間には、隙間が設けられているのが好ましい。
本発明に係るX線センサーにおいて、前記半導体基板は少なくとも3つあって、前記X線の進行方向下流側の該半導体基板間の隙間は、該X線の進行方向上流側の該半導体基板間の隙間より広いのが好ましい。
本発明に係るX線センサーにおいて、前記複数の半導体基板それぞれで、2次元座標位置が同じ前記画素は、前記複数のフォトダイオードで収集された電荷量に応じた大きさの電流信号を出力する出力側が、該画素外に設けられた1つの電流出力ノードに接続されているのが好ましい。
本発明に係るX線センサーにおいて、2次元座標位置が同じ前記画素に入射して検出された前記X線について、所定の大きさのフォトンエネルギーの該X線が検出された回数を計測するフォトカウンティング回路を更に有するのが好ましい。
本発明に係るX線センサーにおいて、前記フォトカウンティング回路は、2次元座標位置が同じ前記画素に入射して検出された前記X線について、該X線のフォトンエネルギーの大きさごとの検出回数をそれぞれ記憶する複数のカウンタを備えるのが好ましい。
本発明に係るX線センサーは、各フォトダイオードが、半導体基板に垂直でX線の入射方向に配した仮想平面に沿って設けられ、半導体基板の一面側に直線状の開口を形成するトレンチ部と、トレンチ部の周囲に設けられた空乏層とを有するので、トレンチ部の配置ピッチ及びバイアス電圧の調整により、半導体基板内に占める空乏層の割合を大きくすることが容易であり、X線の入射によって半導体基板内に生成される電荷を効率的に収集でき、結果として、X線センシングの時間分解能を向上させることが可能である。
続いて、添付した図面を参照しつつ、本発明を具体化した実施の形態につき説明し、本発明の理解に供する。
図1、図2、図3に示すように、本発明の第1の実施の形態に係るX線センサー10は、複数のフォトダイオード11を有する画素13が複数、平面状に並べられた半導体基板12を備え、半導体基板12に入射するX線を検出するものである。以下、詳細に説明する。
図1、図2、図3に示すように、本発明の第1の実施の形態に係るX線センサー10は、複数のフォトダイオード11を有する画素13が複数、平面状に並べられた半導体基板12を備え、半導体基板12に入射するX線を検出するものである。以下、詳細に説明する。
シリコン半導体を加工した板状の半導体基板12には、図1、図2、図3に示すように、複数のフォトダイオード11を横方向に等ピッチで配した画素13が、縦横に並べられている。画素13は、半導体基板12に入射するX線を検出する最小単位である。
各フォトダイオード11には、図1、図2に示すように、半導体基板12(画素13)の表面(一面の一例)14から裏面(他面の一例)14a側に向かって形成された深さDのトレンチ部15が設けられている。トレンチ部15は、図1に示すように、平面視して、縦方向に長尺で、半導体基板12の表面14に平面視して縦方向に長尺の開口16を形成している。
各フォトダイオード11には、図1、図2に示すように、半導体基板12(画素13)の表面(一面の一例)14から裏面(他面の一例)14a側に向かって形成された深さDのトレンチ部15が設けられている。トレンチ部15は、図1に示すように、平面視して、縦方向に長尺で、半導体基板12の表面14に平面視して縦方向に長尺の開口16を形成している。
本実施の形態において、X線の光源と半導体基板12の位置関係は、図2に示すように、X線が半導体基板12に垂直な方向に進んで半導体基板12の表面14から半導体基板12に入射するように調整されているがこれに限定されない。即ち、図1、図2に示すように、各トレンチ部15の形成位置に設けられ、半導体基板12に垂直な仮想平面を仮想平面Fとして、半導体基板12は、各仮想平面FがX線の入射方向に配される(実質的に配される)ように配置されていればよい。例えば、半導体基板12は、X線が半導体基板12に垂直な方向に進んで半導体基板12の裏面14aから半導体基板12に入射するように配することや、X線が直線状の開口16に平行な方向に進んで、半導体基板12の側部から半導体基板12に入射するにように配することができる。
従って、トレンチ部15は仮想平面Fに沿って設けられていることになる。
従って、トレンチ部15は仮想平面Fに沿って設けられていることになる。
各フォトダイオード11には、トレンチ部15の内壁(側壁部及び底部)を形成する金属膜17が設けられ、金属膜17は、半導体基板12の表面14において開口16の周囲に形成されている。トレンチ部15の周囲には、金属膜17全体に接するn型拡散層18が設けられている。フォトダイオード11の外側領域は、半導体基板12の表面14側の一部を除いて、p型層19によって構成されている。そして、各フォトダイオード11において、n型拡散層18とp型層19の間には、n型拡散層18とp型層19の接合面からそれぞれの不純物濃度と電界に応じて排除された余剰キャリアが存在しない領域である空乏層20が形成されている。よって、空乏層20は、n型拡散層18を介してトレンチ部15の周囲に設けられていることになる。
半導体基板12にX線が入射することにより、各フォトダイオード11において、電荷が生成され、主として空乏層20で生成された電荷が金属膜17を介して電極に収集される。
空乏層20の厚み(幅)は、フォトダイオード11に与えられる電圧に応じて変化し、最大の逆バイアス電圧が印加された際に最も厚くなる。
本実施の形態では、p型層19において、p型の不純物濃度が他の領域より濃い領域が、半導体基板12の表面14側及び裏面14a側に設けられ、そのp型の不純物濃度が濃い領域によって、空乏層20が半導体基板12の裏面14aに設けられた図示しない金属面に達するのを防止したり、p型層19と電極との接続を容易にしたりしている。但し、半導体基板12の表面14側にp型の不純物濃度が濃い領域を設けることは必須ではない。
空乏層20の厚み(幅)は、フォトダイオード11に与えられる電圧に応じて変化し、最大の逆バイアス電圧が印加された際に最も厚くなる。
本実施の形態では、p型層19において、p型の不純物濃度が他の領域より濃い領域が、半導体基板12の表面14側及び裏面14a側に設けられ、そのp型の不純物濃度が濃い領域によって、空乏層20が半導体基板12の裏面14aに設けられた図示しない金属面に達するのを防止したり、p型層19と電極との接続を容易にしたりしている。但し、半導体基板12の表面14側にp型の不純物濃度が濃い領域を設けることは必須ではない。
トレンチ部15は、図1、図2に示すように、左右方向(平面視して横方向)に等ピッチで形成されている。図2に示すように、トレンチ部15の形成ピッチをP、トレンチ部15の幅をW、最大の逆バイアス電圧を印加した状態での空乏層20の厚みをTとして、P>W+2Tが成立する(即ち、トレンチ部15の形成ピッチPは、W+2Tより長い)。
半導体基板12を、P>W+2Tが成立するように設計しているのは、最大の逆バイアス電圧を印加した状態でも、隣り合うフォトダイオード11の空乏層20間にp型層19を存在させることで、2つの空乏層20の接続を回避するためである。
半導体基板12を、P>W+2Tが成立するように設計しているのは、最大の逆バイアス電圧を印加した状態でも、隣り合うフォトダイオード11の空乏層20間にp型層19を存在させることで、2つの空乏層20の接続を回避するためである。
また、半導体基板12の厚みをTwとして、D≦Tw−Tが成立し、最大の逆バイアス電圧を印加した状態でも、半導体基板12には、トレンチ部15と半導体基板12の裏面14aとの間に、n型拡散層18及び空乏層20に加えp型層19が存在する。トレンチ部と半導体基板の裏面間に空乏層とp型層が存在する場合、トレンチ部と半導体基板の裏面間に空乏層のみが存在する場合に比べ、キャリアの収集効率は向上する。
なお、本実施の形態に係る半導体基板12は、エッチング加工や不純物のドーピング処理等によって製造可能である。
また、金属膜全体に接する層をp型拡散層とし、フォトダイオードの外周部を構成する層をn型層としたフォトダイオードを備える画素を採用してもよいことは言うまでもない。但し、半導体中のキャリアの移動度(動き易さ)は、電子の方が正孔の約2倍であり、キャリアを効率的に収集する観点においては、電子を信号電極に集めるのが好ましい。そして、金属膜全体に接する層をp型拡散層とし、フォトダイオードの外周部を構成する層をn型層とする場合も、最大の逆バイアス電圧を印加した状態で、トレンチ部と半導体基板の裏面との間に、p型拡散層及び空乏層に加えn型層が存在するように半導体基板を設計するのが好ましい。
また、金属膜全体に接する層をp型拡散層とし、フォトダイオードの外周部を構成する層をn型層としたフォトダイオードを備える画素を採用してもよいことは言うまでもない。但し、半導体中のキャリアの移動度(動き易さ)は、電子の方が正孔の約2倍であり、キャリアを効率的に収集する観点においては、電子を信号電極に集めるのが好ましい。そして、金属膜全体に接する層をp型拡散層とし、フォトダイオードの外周部を構成する層をn型層とする場合も、最大の逆バイアス電圧を印加した状態で、トレンチ部と半導体基板の裏面との間に、p型拡散層及び空乏層に加えn型層が存在するように半導体基板を設計するのが好ましい。
各画素13には、図1に示すように、各フォトダイオード11の金属膜17に接続された回路部21が設けられている。回路部21は、各トレンチ部15から間隔を空けた位置に配されている。回路部21と回路部21に最も近いトレンチ部15との距離は、回路部21に与えられる電圧等の使用条件及び半導体基板12の製造プロセスに基づくデバイス特性によって決定される。
各画素13において、トレンチ部15及び回路部21は、それぞれ画素13の外縁まで距離を有する位置に設けられ、その距離をWedとして、本実施の形態では、Wed≧P/2が成立する。
各画素13において、トレンチ部15及び回路部21は、それぞれ画素13の外縁まで距離を有する位置に設けられ、その距離をWedとして、本実施の形態では、Wed≧P/2が成立する。
なお、本実施の形態においては、トレンチ部15が平面視して横方向に並んだ画素13を採用しているが、これに限定されず、例えば、図4に示す画素24を採用することもできる。画素24は、図4に示すように、それぞれ金属膜23を具備する複数のトレンチ部22が、平面視して縦横に設けられ、画素24の表面に直線状の複数の開口22aを形成している。平面視して、トレンチ部22間の縦方向の距離は、トレンチ部22間の横方向の距離と実質的に等しく、横方向に並んだトレンチ部22の間にp型層25が設けられているのに加え、縦方向に並んだトレンチ部22の間にもp型層25が設けられている。
各トレンチ部22において、トレンチ部22とp型層25の間に、n型拡散層及び空乏層が設けられている点は、画素13、24で共通している。
画素24において、複数の画素24を平面状に並べた半導体基板に垂直で、トレンチ部22内に配された仮想平面を仮想平面F’として、仮想平面F’はX線の入射方向に配され、トレンチ部22は仮想平面F’に沿って設けられていることとなる。なお、画素24には、各金属膜23に接続された回路部26が設けられている。
なお、図1及び図4において、n型拡散層18は省略している。
画素24において、複数の画素24を平面状に並べた半導体基板に垂直で、トレンチ部22内に配された仮想平面を仮想平面F’として、仮想平面F’はX線の入射方向に配され、トレンチ部22は仮想平面F’に沿って設けられていることとなる。なお、画素24には、各金属膜23に接続された回路部26が設けられている。
なお、図1及び図4において、n型拡散層18は省略している。
また、本実施の形態では、半導体基板12の厚みTwが、一般的なウエハの厚みと同レベルで略500μmである。X線は半導体シリコン中を数10mm透過するため、X線の入射により効率的に電荷を生成するには、X線の入射方向に複数の半導体基板12を並べる必要がある。
そこで、図3に示すように、複数(n枚)の半導体基板12をX線の入射方向に重ねることによって、センサー長をn×500μmに拡張している。センサー長は、n=20であれば10mmとなり、n=40であれば20mmとなる。
そこで、図3に示すように、複数(n枚)の半導体基板12をX線の入射方向に重ねることによって、センサー長をn×500μmに拡張している。センサー長は、n=20であれば10mmとなり、n=40であれば20mmとなる。
複数の半導体基板12は、それぞれ平行配置された状態でX線の入射方向に並べられ、複数の半導体基板12には、各半導体基板12平面における2次元座標が同じ画素13がそれぞれ存在する。そのため、一の半導体基板12の二次元座標(X1、Y1)に位置する画素13を通過したX線は、他の半導体基板12の二次元座標(X1、Y1)に位置する画素13を通過する。
また、隣り合う半導体基板12は接触している必要はなく、複数の半導体基板12の全部又は一部が半導体基板12間に隙間を設けた状態で配されていてもよい。これは、半導体基板12間の隙間に空気等の気体のみが存在する条件において、X線が、半導体基板12間の隙間を通過する際に消失するエネルギーは極めて微量であり、X線の検出精度への影響が実質的に生じないためである。半導体基板間に隙間を設けられることで設計の自由度を高めることができる。
なお、図3には、上から1番目、2番目、3番目の半導体基板12が重ねられ、上から3番目と4番目の半導体基板12間に隙間を設けた例を記載しているが、例えば、X線の進行方向下流側の半導体基板間の隙間を、X線の進行方向上流側の半導体基板間の隙間より広くすることもできる(この場合、半導体基板は少なくとも3つあることとなる)。
また、全ての半導体基板12において、画素13の大きさが同じである必要はなく、各半導体基板間で画素の大きさが異なっていてもよい。
図5に示す本発明の第2の実施の形態に係るX線センサー28は、半導体基板29、30、31、32が、それぞれ平行配置され、X線の入射方向において上流側から下流側に並べられている。半導体基板29に設けられた画素33、半導体基板30に設けられた画素34、半導体基板31に設けられた画素35及び半導体基板32に設けられた画素36それぞれの平面視した面積の大小関係は、画素33<画素34<画素35<画素36である。
図5に示す本発明の第2の実施の形態に係るX線センサー28は、半導体基板29、30、31、32が、それぞれ平行配置され、X線の入射方向において上流側から下流側に並べられている。半導体基板29に設けられた画素33、半導体基板30に設けられた画素34、半導体基板31に設けられた画素35及び半導体基板32に設けられた画素36それぞれの平面視した面積の大小関係は、画素33<画素34<画素35<画素36である。
このようにX線の入射方向で画素の大きさを変えることにより、放射状に照射されるX線それぞれが所定の画素33、34、35、36を通過するようになり、結果として、X線を安定的に検出することが可能となる。なお、X線の入射方向は、半導体基板29、30、31、32の方面それぞれに対して、実質的に垂直(例えば、89〜91°の範囲)である。
本実施の形態において、画素33、34、35、36で、平面視して横方向の長さが異なり、縦方向の長さは同じであるが、これに限定されず、例えば、各半導体基板の画素は、横方向の長さに加え、縦方向の長さが異なっていても良い。各半導体基板の画素の大きさを拡大する割合や、どの方向に拡大するか等は、X線の発光源と半導体基板の距離等によって決定することができる。
本実施の形態において、画素33、34、35、36で、平面視して横方向の長さが異なり、縦方向の長さは同じであるが、これに限定されず、例えば、各半導体基板の画素は、横方向の長さに加え、縦方向の長さが異なっていても良い。各半導体基板の画素の大きさを拡大する割合や、どの方向に拡大するか等は、X線の発光源と半導体基板の距離等によって決定することができる。
次に、X線センサー10の回路及びX線の検出方法について説明する。
画素13の回路部21には、図6に示すように、主として、リセット用のトランジスタ37、ダイオード電圧を電流増幅するトランジスタ38及び読み出し選択用のスイッチトランジスタ39によって構成されるp型MOSFETが設けられている。図6において、/Rstはリセット信号を表し、/Redは読み出し選択信号を表す。
画素13の回路部21には、図6に示すように、主として、リセット用のトランジスタ37、ダイオード電圧を電流増幅するトランジスタ38及び読み出し選択用のスイッチトランジスタ39によって構成されるp型MOSFETが設けられている。図6において、/Rstはリセット信号を表し、/Redは読み出し選択信号を表す。
回路部21は、リセット信号がLowレベルになることで、並列接続された各フォトダイオード11の信号検知電圧がリセット状態となり、読み出し選択信号がLowになるとトランジスタ38の電流が、スイッチトランジスタ39を通って、図7に示すOutノード(電流出力ノード)へ出力される。従って、回路部21のp型MOSFETは、並列接続された複数のフォトダイオード11で収集された電荷量に応じた大きさの電流信号をOutノードに出力することとなる。スイッチトランジスタ39は、読み出し選択が必要でない回路構成の場合は不要であり、読み出し選択が必要ない場合、トランジスタ38のドレインがそのOutノードに接続される。
回路部21は、一般的な画素回路からなり、トランジスタ37のドレイン電圧及びトランジスタ38のゲード電圧の各耐圧は、フォトダイオード11のバイアス電圧Vbiasが最大となった際にも破壊されないレベルであるのが好ましいが、運用にもよるので、必須ではない。
なお、p型MOSFETに代えてn型MOSFETを採用することもできる。n型MOSFETを採用する場合、各トランジスタのソースに接続される電源電圧を変更する必要があることは言うまでもない。
なお、p型MOSFETに代えてn型MOSFETを採用することもできる。n型MOSFETを採用する場合、各トランジスタのソースに接続される電源電圧を変更する必要があることは言うまでもない。
複数の半導体基板12それぞれで、半導体基板12が配された仮想面での2次元座標位置(以下、単に「2次元座標位置」とも言う)が同じ画素13の出力側(p型MOSFETの出力側)は、図7に示すように、画素13外に設けられた共通する一つのOutノードに接続されている。
X線センサー10は、1つの半導体基板12が備える画素13と同数の電流電圧変換回路40を具備し、Outノードは電流電圧変換回路40のIN(入力側)に接続されている。
X線センサー10は、1つの半導体基板12が備える画素13と同数の電流電圧変換回路40を具備し、Outノードは電流電圧変換回路40のIN(入力側)に接続されている。
そのため、2次元座標位置が同じ複数の画素13から出力される電流信号は、各Outノードで合算され、電流電圧変換回路40のINに入力する。X線の通過速度を考慮すれば、2次元座標位置が同じ複数の画素13から、実質的に同じタイミングで(即ち、時間分解能における最小時間単位内に)Outノードに電流信号が出力される。
なお、図7の回路構成においてはスイッチトランジスタ39は不要である。
なお、図7の回路構成においてはスイッチトランジスタ39は不要である。
最小時間単位内でOutノードに出力される電流信号は、一つのX線フォトンの合計信号と見なすことができる。なお、コンプトン散乱の散乱角によっては、2次元座標位置が同じ複数の画素13で、発生した電荷の一部しか検知できないことがあると考えられるが、そのような場合には、周囲の画素13による検知タイミングの同時性を後処理において評価し、検知した値を合計する設計を行えばよい。従って、シリコン中でコンプトン散乱が生じ易くなる数十KeVを超えるエネルギーのX線に対しても正確なフォトンカウンティングが可能となる。
そして、各画素13から出力され特定のOutノードで合算されて電流電圧変換回路40のINに入力された電流は、電圧信号に変換され、電流電圧変換回路40のVoutから出力される。
そして、各画素13から出力され特定のOutノードで合算されて電流電圧変換回路40のINに入力された電流は、電圧信号に変換され、電流電圧変換回路40のVoutから出力される。
各電流電圧変換回路40のVoutは、図7、図8に示すように、フォトカウンティング回路41に接続されている。なお、複数の電流電圧変換回路40はそれぞれ、別個のフォトカウンティング回路41に接続されている。
フォトカウンティング回路41は、図8に示すように、電流電圧変換回路40のVoutから出力されたアナログの電圧信号を増幅するアンプ42と、アンプ42で増幅されたアナログの電圧信号をデジタルデータに変換する変換回路部43を備えている。
フォトカウンティング回路41は、図8に示すように、電流電圧変換回路40のVoutから出力されたアナログの電圧信号を増幅するアンプ42と、アンプ42で増幅されたアナログの電圧信号をデジタルデータに変換する変換回路部43を備えている。
アンプ42は、図9に示すように、一般的なオペアンプ42a、42bを具備する電圧増幅器であり、画素13をリセットした際の信号レベルをオフセット電圧Vrefで調整し、画素13のリセット時及び信号検知が無い時の出力が“0”になるようにする。変換回路部43の分解能は、検知対象のフォトンのエネルギー分解能に対応する。
変換回路部43の出力側には、図8に示すように、レジスタ44が接続され、変換回路部43の出力データは、図10に示すクロック信号Φに同期してレジスタ44にラッチされる。
変換回路部43の出力側には、図8に示すように、レジスタ44が接続され、変換回路部43の出力データは、図10に示すクロック信号Φに同期してレジスタ44にラッチされる。
レジスタ44に接続されたレジスタ45には、1クロック前の変換回路部43からの出力データが保持され、レジスタ44、45は、出力側がレジスタ46に接続された減算器47の入力側に接続されている。減算器47はレジスタ44の値からレジスタ45の値を減算し、その減算値はレジスタ46にラッチされる。
図8に示すレジスタ48、49には、図10に示すように、共通のクロック信号Φに同期して、レジスタ46に1クロック前にラッチされていた値及びレジスタ46に2クロック前にラッチされていた値がそれぞれラッチされる。
図8に示すレジスタ48、49には、図10に示すように、共通のクロック信号Φに同期して、レジスタ46に1クロック前にラッチされていた値及びレジスタ46に2クロック前にラッチされていた値がそれぞれラッチされる。
レジスタ48、49の各値は、図8に示す加算器50によって加算され、レジスタ46、48からの出力データは、図8に示す零検知回路部51、52によって“0”であるか否かが検知される。
零検知回路部51、52はそれぞれ、レジスタ46、48からの出力データが“0”の場合“1”を出力し、それ以外の場合“0”を出力する。加算器50の出力側には、図8に示すように、データセレクタ53が接続されている。
零検知回路部51、52はそれぞれ、レジスタ46、48からの出力データが“0”の場合“1”を出力し、それ以外の場合“0”を出力する。加算器50の出力側には、図8に示すように、データセレクタ53が接続されている。
データセレクタ53は、レジスタ46からの出力データが “0”の場合で且つレジスタ48の出力データが“0”以外の場合に、加算器50で加算された値を、レジスタ54にラッチさせる。レジスタ46の出力データが“0”以外か、レジスタ48の出力データが “0”の場合、レジスタ54には“0”がラッチされる。
従って、クロック信号Φに同期して全ての処理を並列して行うことができ、所謂パイプライン処理による高速演算処理を実現可能である。また、レジスタ54には、同じ2次元座標位置の複数の画素13に入射したX線のフォトンエネルギーの大きさに応じた大きさの値がラッチされる。
従って、クロック信号Φに同期して全ての処理を並列して行うことができ、所謂パイプライン処理による高速演算処理を実現可能である。また、レジスタ54には、同じ2次元座標位置の複数の画素13に入射したX線のフォトンエネルギーの大きさに応じた大きさの値がラッチされる。
X線が入射するタイミングは分からないため、クロック信号Φに同期して処理する場合、2つのクロックにまたがってX線が検知される場合を考慮する必要がある。この点、本実施の形態では、複数のレジスタ44、45、46、48、49、54、減算器47及び加算器50等を採用して、フォトンカウンタの時間分解能における最小時間単位とクロック信号Φの一周期を同じ長さにしても、2つのクロックにまたがるタイミングで入射されたX線に対して、それぞれのクロックで検知された信号の差分を加算することで正確な計測を可能にしている。
レジスタ54には、図8に示すように、デコーダ55が接続され、デコーダ55には、X線のフォトンエネルギーレベル毎に割り与えられた複数のカウンタ56がゲート57を介して接続されている。デコーダ55は、図10に示すように、レジスタ54から出力される値の大きさに応じて、ゲート57を介し、対応するカウンタ56内の数字をカウントアップする信号を送る。
従って、各カウンタ56には、2次元座標位置が同じ画素13に入射して検出されたX線について、X線のフォトンエネルギーの大きさごとの検出回数が記憶される。なお、図10に記載されたカウンタ0、1、5は、それぞれ、レジスタ54から出力される値が、0、1、5である際に、カウントアップされるカウンタ56を意味する。
従って、各カウンタ56には、2次元座標位置が同じ画素13に入射して検出されたX線について、X線のフォトンエネルギーの大きさごとの検出回数が記憶される。なお、図10に記載されたカウンタ0、1、5は、それぞれ、レジスタ54から出力される値が、0、1、5である際に、カウントアップされるカウンタ56を意味する。
各カウンタ56は、図8、図10に示すように、Crstからのリセット信号が、計測期間開始のタイミングでHighレベルになることによって、ラッチしている値を“0”にリセットし、計測期間中、ClkCからのカウントアップゲート信号がHighレベルになる毎に、デコーダ55からの出力信号によるカウントアップ処理を行う。
計測期間が終了したタイミングで、Rsetからのデータセット信号がHighレベルになり、各カウンタ56内の値が、各カウンタ56に接続された図8に示すレジスタ58にラッチされる。
計測期間が終了したタイミングで、Rsetからのデータセット信号がHighレベルになり、各カウンタ56内の値が、各カウンタ56に接続された図8に示すレジスタ58にラッチされる。
レジスタ58にラッチされた値は、カウント値読み出し用のクロック信号ClkDに同期したシフト動作により、図8に示すOUTdから順次出力される。
従って、フォトカウンティング回路41は、計測期間内(即ち、所定期間内)に2次元座標位置が同じ画素13に入射して検出されたX線について、所定の大きさのフォトンエネルギーのX線が検出された回数を計測しOUTdから出力することとなる。検知されるフォトンエネルギーの大きさは、電流電圧変換回路40から出力される電圧の変化量に対応しており、計測期間中に検知したその変化量ごとの出現回数がそれぞれのエネルギーごとのフォトンカウント値となる。
従って、フォトカウンティング回路41は、計測期間内(即ち、所定期間内)に2次元座標位置が同じ画素13に入射して検出されたX線について、所定の大きさのフォトンエネルギーのX線が検出された回数を計測しOUTdから出力することとなる。検知されるフォトンエネルギーの大きさは、電流電圧変換回路40から出力される電圧の変化量に対応しており、計測期間中に検知したその変化量ごとの出現回数がそれぞれのエネルギーごとのフォトンカウント値となる。
本実施の形態では、図10に示すように、カウント値の読み出し処理と次の計測期間の処理を並行して実行する。そして、カウント値を1クロックで図示しない読み出し専用のレジスタへ送ることによって、効率的なフォトンカウントを可能にしている。計測期間におけるフォトダイオード11のリセットは、定期的に行ってもよいし、各画素13のカウント値がオーバフローした時点で行ってもよい。
以下、従来のストリップライン方式と本実施の形態の違いを説明する。
従来のストリップライン方式は、図11に簡略化して示すように、1つの画素60に、1つの信号検出回路が設けられている。
一方、X線センサー10は、図12に簡略化して示すように、従来の画素60より小さい複数の画素13それぞれにおいて電流を増幅し、増幅した電流を1つの電流電圧変換回路40に出力して電圧変換する。従って、センサー長が数十mmのX線センサー10は、従来のストリップライン方式のデバイスに比べ、S/N特性を大幅に改善できる。
従来のストリップライン方式は、図11に簡略化して示すように、1つの画素60に、1つの信号検出回路が設けられている。
一方、X線センサー10は、図12に簡略化して示すように、従来の画素60より小さい複数の画素13それぞれにおいて電流を増幅し、増幅した電流を1つの電流電圧変換回路40に出力して電圧変換する。従って、センサー長が数十mmのX線センサー10は、従来のストリップライン方式のデバイスに比べ、S/N特性を大幅に改善できる。
また、第1の実施の形態で採用した図7に示す回路構成の代わりに、図13、図14にそれぞれ示す回路構成を採用してもよい。図13、図14にそれぞれ示す本発明の第3、第4の実施の形態に係るX線センサーの回路構成は、画素内フォトダイオードの逆バイアス時に流れる微小なリーク電流、所謂、暗電流をキャンセルして、フォトンセンシングにおけるダイナミックレンジを維持する為の回路構成である。なお、暗電流とは、フォトダイオード11の逆バイアス時に流れる微小なリーク電流を意味する。
一般に、フォトダイオードの暗電流は、少数キャリアや接合付近の絶縁膜界面における結晶格子の欠損等によって生じ、完全に除去することはできない。暗電流は、極めて微量ながら入射X線量に関わらず(バイアス電圧と環境温度が変化しなければ)略一定であり、露光期間は入射X線量が無い状態でも、フォトダイオードの端子電圧を露光時間に比例して低下させる。従って、この暗電流による信号レベルの変動を抑制しない限り、X線検知信号のダイナミックレンジが狭くなる。
以下、図13、図14に示す回路について説明する。なお、第1の実施の形態と同様の構成については、同じ符号を付して詳しい説明は書略する。
図13に示す回路構成においては、各画素13のリセット用のトランジスタ37に対する共通ゲート信号/Rstをインバータ回路61を介して与えるようにしている。
図13に示す回路構成においては、各画素13のリセット用のトランジスタ37に対する共通ゲート信号/Rstをインバータ回路61を介して与えるようにしている。
インバータ回路61は、p型MOSFETのソース電極にバイアス電圧VLbiasが与えられている。バイアス電圧VLbiasは、電源電圧より低く、かつ、トランジスタ37が飽和領域で動作する電圧レベルに設定されている。その結果、インバータ回路61は、入力信号Rstが電源電圧レベルの場合、出力がGndレベルになり、入力信号RstがGndレベルの場合、出力がバイアス電圧VLbiasレベルになる。
従って、トランジスタ37は、リセット時(Rst=電源電圧の時)には、通常の開放(ON)状態となり、フォトダイオード11の端子電圧をVpixレベルへリセットし、露光期間(リセット終了時から次のリセット開始迄の期間で、Rst=Gndの期間)においては、定電流源として機能する。
トランジスタ37が定電流源として機能する際の定電流量は、トランジスタ37のゲートサイズ(ゲート幅/ゲート長)及びバイアス電圧VLbiasの調整によって、暗電流と同等の値にすることが可能である。
トランジスタ37が定電流源として機能する際の定電流量は、トランジスタ37のゲートサイズ(ゲート幅/ゲート長)及びバイアス電圧VLbiasの調整によって、暗電流と同等の値にすることが可能である。
図14に示す回路構成では、各回路部70内のダイオード端子に定電流源用のトランジスタ71を設けている。2次元座標位置が同じ画素72において、トランジスタ71のゲートには、共通のバイアス電圧VLbiasが与えられている。トランジスタ71の定電流量はトランジスタ71のゲートサイズ及びバイアス電圧VLbiasによって設定できるため、暗電流によるフォトダイオード11の端子電圧の低下を抑制することができ、ダイナミックレンジを維持することが可能である。
また、図8に示すフォトカウンティング回路41の代わりに、図15に示すフォトカウンティング回路80を採用することができる。フォトカウンティング回路80のフォトカウンティング回路41との主な相違は、図8、図15に示すように、レジスタ44、45の間に入力の一側にレジスタ44が接続された加算器81を設けた点、加算器81の入力の他側に出力側が接続されたレジスタ82を追加した点である。なお、フォトカウンティング回路80において、フォトカウンティング回路41と同様の構成については、同じ符号を付して詳しい説明は書略する。
これによって、レジスタ45の値は、レジスタ82の値分大きくなり、レジスタ46の値は、(レジスタ44の値)−(レジスタ45の値)−(レジスタ82の値)となる。従って、レジスタ82の値をラッチ周期における暗電流による電圧低下量に調整すれば、暗電流の影響をキャンセルすることができる。
本発明の第3、第4の実施の形態に係るX線センサーの回路構成においては、画素13(画素72)間の暗電流バラツキ(主に絶縁膜界面の欠損等のバラツキに起因するもの)が、暗電流の絶対値と比べ無視できる程度に小さいものとして、そのバラツキについて詳しく述べていないが、各半導体基板12における2次元座標位置が同じ画素13(画素72)間のバラツキについても、同様の回路構成でバイアス電圧VLbias値やレジスタ82の設置値を画素13(画素72)毎に調整する等によって抑制可能である。
本発明の第3、第4の実施の形態に係るX線センサーの回路構成においては、画素13(画素72)間の暗電流バラツキ(主に絶縁膜界面の欠損等のバラツキに起因するもの)が、暗電流の絶対値と比べ無視できる程度に小さいものとして、そのバラツキについて詳しく述べていないが、各半導体基板12における2次元座標位置が同じ画素13(画素72)間のバラツキについても、同様の回路構成でバイアス電圧VLbias値やレジスタ82の設置値を画素13(画素72)毎に調整する等によって抑制可能である。
以上、本発明の実施の形態を説明したが、本発明は、上記した形態に限定されるものでなく、要旨を逸脱しない条件の変更等は全て本発明の適用範囲である。
例えば、画素におけるトレンチ部の配置は、図1、図4に示すものに限定されない。また、トレンチ部間で、深さや半導体基板の表面に形成される開口の幅が異なっていてもよい。
例えば、画素におけるトレンチ部の配置は、図1、図4に示すものに限定されない。また、トレンチ部間で、深さや半導体基板の表面に形成される開口の幅が異なっていてもよい。
10:X線センサー、11:フォトダイオード、12:半導体基板、13:画素、14:表面、14a:裏面、15:トレンチ部、16:開口、17:金属膜、18:n型拡散層、19:p型層、20:空乏層、21:回路部、22:トレンチ部、22a:開口、23:金属膜、24:画素、25:p型層、26:回路部、28:X線センサー、29〜32:半導体基板、33〜36:画素、37、38:トランジスタ、39:スイッチトランジスタ、40:電流電圧変換回路、41:フォトカウンティング回路、42:アンプ、42a、42b:オペアンプ、43:変換回路部、44、45、46:レジスタ、47:減算器、48、49:レジスタ、50:加算器、51、52:零検知回路部、53:データセレクタ、54:レジスタ、55:デコーダ、56:カウンタ、57:ゲート、58:レジスタ、60:画素、61:インバータ回路、70:回路部、71:トランジスタ、72:画素、80:フォトカウンティング回路、81:加算器、82:レジスタ、F、F’:仮想平面
Claims (9)
- 複数のフォトダイオードを有する画素が複数、平面状に並べられた半導体基板を備え、該半導体基板に入射するX線を検出するX線センサーにおいて、
前記各フォトダイオードは、前記半導体基板に垂直で前記X線の入射方向に配した仮想平面に沿って設けられ、該半導体基板の一面側に直線状の開口を形成するトレンチ部と、前記トレンチ部の周囲に設けられた空乏層とを有することを特徴とするX線センサー。 - 請求項1記載のX線センサーにおいて、前記トレンチ部の幅をW、最大の逆バイアス電圧を印加した状態での前記空乏層の厚みをTとして、前記トレンチ部の形成ピッチは、W+2Tより長いことを特徴とするX線センサー。
- 請求項1又は2記載のX線センサーにおいて、最大の逆バイアス電圧を印加した状態で、前記トレンチ部と前記半導体基板の他面との間に、n型拡散層、前記空乏層及びp型層、もしくは、p型拡散層、前記空乏層及びn型層が存在することを特徴とするX線センサー。
- 請求項1〜3のいずれか1項に記載のX線センサーにおいて、前記半導体基板は複数あって、該複数の半導体基板は、それぞれ平行配置され、前記X線の入射方向に並べられていることを特徴とするX線センサー。
- 請求項4記載のX線センサーにおいて、前記半導体基板間には、隙間が設けられていることを特徴とするX線センサー。
- 請求項5記載のX線センサーにおいて、前記半導体基板は少なくとも3つあって、前記X線の進行方向下流側の該半導体基板間の隙間は、該X線の進行方向上流側の該半導体基板間の隙間より広いことを特徴とするX線センサー。
- 請求項4〜6のいずれか1項に記載のX線センサーにおいて、前記複数の半導体基板それぞれで、2次元座標位置が同じ前記画素は、前記複数のフォトダイオードで収集された電荷量に応じた大きさの電流信号を出力する出力側が、該画素外に設けられた1つの電流出力ノードに接続されていることを特徴とするX線センサー。
- 請求項7記載のX線センサーにおいて、2次元座標位置が同じ前記画素に入射して検出された前記X線について、所定の大きさのフォトンエネルギーの該X線が検出された回数を計測するフォトカウンティング回路を更に有することを特徴とするX線センサー。
- 請求項8記載のX線センサーにおいて、前記フォトカウンティング回路は、2次元座標位置が同じ前記画素に入射して検出された前記X線について、該X線のフォトンエネルギーの大きさごとの検出回数をそれぞれ記憶する複数のカウンタを備えることを特徴とするX線センサー。
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