JP2017111399A - 表示装置および表示装置の製造方法、ならびに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】表示品位を向上させることが可能な表示装置および表示装置の製造方法、ならびに電子機器を提供する。【解決手段】本開示の表示装置は、第1基板と、第1基板の上に設けられた複数の第1電極と、複数の第1電極の上に設けられた複数の第2電極と、第1基板に対向配置された第2基板と、第1基板と第2基板との間に設けられた表示層と、表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備えたものであり、隣り合う第2電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向している。【選択図】図1
Description
本開示は、例えば電気泳動素子を含む表示装置およびその製造方法、ならびにこれを備えた電子機器に関する。
電気泳動現象を利用した電気泳動型ディスプレイは、低消費電力であると共に応答速度が速く、読書用途に用いられるモバイル型ディスプレイの有力候補として期待されており、近年、様々な電気泳動型ディスプレイが開発されている。これら電気泳動型ディスプレイには、エッジゴーストやブルーミングといった表示不良の問題がある。これは、分割形成されている電極の間に泳動粒子が位置することによる泳動粒子の移動不良や、隣り合う画素間に発生する横電界によって泳動粒子が想定外の挙動をすることによるものである。これは、開発が進められているカラー表示が可能な電気泳動型ディスプレイにおいても問題となる。
この問題を解決する方法として、例えば特許文献1では、薄膜トランジスタ(Thin Film Transistor;TFT)上に、隔壁層によって環囲されると共に、この隔壁層によって端部が覆われた画素電極を有する電気泳動方式表示素子を備えた電気泳動方式表示装置およびその製作方法が開示されている。また、例えば特許文献2では、隔壁のピッチを背面基板側の電極(背面側電極)よりも十分に小さくした表示装置が開示されている。
しかしながら、特許文献1および特許文献2の方法では、エッジゴーストやブルーミングによる表示品位の低下を十分に改善することが難しかった。また、特許文献1の電気泳動方式表示装置では、製造歩留まりが低下すると共に、素子作製のコストが大きく上昇するという問題があった。特許文献2の表示装置では、高精細化が進んだ際には、隔壁の形成プロセスが困難になると同時に、表示領域における隔壁の占有面積が大きくなり、反射率およびコントラスト等が低下し、さらに表示品位が低下するという問題があった。
本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、表示品位を向上させることが可能な表示装置および表示装置の製造方法、ならびに電子機器を提供することにある。
本開示の表示装置は、第1基板と、第1基板の上に設けられた複数の第1電極と、複数の第1電極の上に設けられた複数の第2電極と、第1基板に対向配置された第2基板と、第1基板と第2基板との間に設けられた表示層と、表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備えたものであり、隣り合う第2電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向している。
本開示の表示装置の製造方法は、第1基板上に複数の第1電極を形成する工程と、複数の第2電極上に表示層、表示層を複数の空間に区画する隔壁および第2基板を形成する工程と、第1基板と第2基板とを貼り合わせる工程とを含み、隣り合う第2電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向するように形成する。
本開示の電子機器は、上記本開示の表示装置を備えたものである。
本開示の表示装置および電子機器では、第1基板上に設けられた複数の第1電極上に複数の第2電極を設け、隣り合う第2電極の間隙の少なくとも一部が第1基板と第2基板との間に設けられた表示層を複数の空間に区画する隔壁の一部と対向するようにした。これにより、隣り合う第2電極の間隙に位置する隔壁によって区画された空間の割合が低減される。
本開示の表示装置の製造方法では、複数の第2電極上に、表示層、表示層を複数の空間に区画する隔壁および第2基板を形成したのち、複数の第1電極が形成された第1基板を貼り合わせるようにした。これにより、隣り合う第2電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向した表示装置を容易に形成することが可能となる。これにより、隣り合う第2電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とを容易に対向配置させることが可能となる。
本開示の表示装置および電子機器によれば、第1基板上に互いに積層された複数の第1電極および第2電極を設け、隣り合う第2電極の間隙の少なくとも一部と、表示層を複数の空間に区画する隔壁の一部とが対向するようにしたので、隔壁によって区画される空間が隣り合う第2電極の間隙に位置する割合が低減される。よって、表示品位を向上させることが可能となる。
本開示の表示装置の製造方法によれば、複数の第2電極上に、表示層、表示層を複数の空間に区画する隔壁および第2基板を形成したのち、複数の第1電極が形成された第1基板を貼り合わせるようにしたので、隣り合う第2電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向した表示装置を容易に製造することが可能となる。
なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態(画素電極とコンタクト電極とが積層されると共に、隣り合う画素電極の間隙と、隔壁とが対向配置されている表示装置)
1−1.表示装置の構成
1−2.製造方法
1−3.表示装置の動作
1−4.作用・効果
2.第2の実施の形態(コンタクト電極の形成方法の他の例)
3.変形例(コンタクト電極の他の配設パターン例)
4.適用例
1.第1の実施の形態(画素電極とコンタクト電極とが積層されると共に、隣り合う画素電極の間隙と、隔壁とが対向配置されている表示装置)
1−1.表示装置の構成
1−2.製造方法
1−3.表示装置の動作
1−4.作用・効果
2.第2の実施の形態(コンタクト電極の形成方法の他の例)
3.変形例(コンタクト電極の他の配設パターン例)
4.適用例
<1.実施の形態>
(1−1.表示装置の構成)
図1は、本開示の第1の実施の形態に係る表示装置(表示装置1)の断面構成を模式的に表したものである。この表示装置1は、電気泳動現象を利用して画像(例えば文字情報等)を表示する電気泳動型ディスプレイ(いわゆる電子ペーパーディスプレイ)である。表示装置1は、駆動基板10と対向基板30との間に配置された表示シート20(表示層)に表示素子として電気泳動素子24を有する。本実施の形態では、駆動基板10上には複数のコンタクト電極12(第1電極)および複数の画素電極21(第2電極)が設けられており、コンタクト電極12と画素電極21は互いに積層された構成を有する。更に、表示シート20には、複数の空間に区画する隔壁23が設けられており、この隔壁23は隣り合う画素電極21の間隙との対向位置に設けられた構成を有する。図1は、表示装置1の構成を模式的に表したものであり、実際の寸法および形状とは異なる場合がある。
(1−1.表示装置の構成)
図1は、本開示の第1の実施の形態に係る表示装置(表示装置1)の断面構成を模式的に表したものである。この表示装置1は、電気泳動現象を利用して画像(例えば文字情報等)を表示する電気泳動型ディスプレイ(いわゆる電子ペーパーディスプレイ)である。表示装置1は、駆動基板10と対向基板30との間に配置された表示シート20(表示層)に表示素子として電気泳動素子24を有する。本実施の形態では、駆動基板10上には複数のコンタクト電極12(第1電極)および複数の画素電極21(第2電極)が設けられており、コンタクト電極12と画素電極21は互いに積層された構成を有する。更に、表示シート20には、複数の空間に区画する隔壁23が設けられており、この隔壁23は隣り合う画素電極21の間隙との対向位置に設けられた構成を有する。図1は、表示装置1の構成を模式的に表したものであり、実際の寸法および形状とは異なる場合がある。
駆動基板10は、例えば板状のTFT基板11の一方の面に複数のコンタクト電極12が設けられており、この複数のコンタクト電極12上には複数の画素電極21が積層されている。TFT基板11には、例えば板状部材111の一方の一面に、例えばゲート電極112、ゲート絶縁膜113、半導体層114およびソース・ドレイン電極(ソース電極115Sおよびドレイン電極115D)を有するTFT(Thin Film Transistor)110、平坦化膜116がこの順に設けられている。TFT110および画素電極21は、例えば画素配置に応じてマトリクス状に配置されており、同様にマトリクス状に配置されたコンタクト電極12を介して電気的に接続されている。
板状部材111は、例えば、無機材料,金属材料またはプラスチック材料等により構成されている。無機材料としては、例えば、ケイ素(Si),酸化ケイ素(SiOX),窒化ケイ素(SiNX)または酸化アルミニウム(AlOX)等が挙げられる。酸化ケイ素には、ガラスまたはスピンオングラス(SOG)等が含まれる。金属材料としては、例えば、アルミニウム(Al)、ニッケル(Ni)またはステンレス等が挙げられ、プラスチック材料としては、例えば、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリアセタール類、ポリカーボネート(PC)、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエチルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルサルフォン(PES)またはポリオレフィン等が挙げられる。この他、セルロースナノファイバー基板を用いてもよい。
なお、表示装置1では、対向基板30側に画像が表示されるため、板状部材111は非光透過性であってもよい。板状部材111を、ウェハ等の剛性を有する基板により構成してもよく、あるいは可撓性を有する薄層ガラスまたはフィルム等により構成してもよい。板状部材111に可撓性材料を用いることにより、フレキシブル(折り曲げ可能)な表示装置1を実現できる。
TFT110は、例えば画素を選択するためのスイッチング用素子であり、例えば画素毎に設けられている。TFT110は、チャネル層として無機半導体層を用いた無機TFTでもよいし、有機半導体層を用いた有機TFTでもよい。平坦化膜116は、例えば、ポリイミド等の絶縁性樹脂材料により構成されている。TFT110と平坦化膜116との間には、半導体層114を被覆する保護膜を設けてもよい。
コンタクト電極12は、上記のようにTFT110と画素電極21とを電気的に接続するためのものである。コンタクト電極12の材料としては、例えば金(Au)、銀(Ag),モリブデン(Mo)または銅(Cu)等の金属材料が挙げられる。あるいは、ポリチオフェン系導電性ポリマー(PEDOT/PSS)等の有機導電性材料や金属粒子と有機導電性材料との混合材料を用いてもよい。
画素電極21は、例えばAu、Ag,MoまたはCu等の金属材料からなる単層膜あるいは積層膜により形成されている。画素電極21は、平坦化膜116に設けられたコンタクトホール116A内に設けられたコンタクト電極12を介してTFT110に接続されている。ここで、画素電極21は、例えば表示シート20に設けられた隔壁23が区画する空間(セル23A)と略同一の大きさおよび形状を有している。これに対して、コンタクト電極12は、画素電極21とTFT110とを電気的に接続することができればよいため、例えば画素電極21よりも小さく形成することが好ましい。このように、画素電極21がコンタクト電極12よりも大きく形成されていることより、画素電極21に対するコンタクト電極12のアライメントマージンが大きくなり、位置合わせが容易となる。
画素電極21上には、粘着層22が配置されており、これによって駆動基板10と表示シート20とが貼り合わされている。粘着層22の材料としては、例えば高分子ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
表示シート20には、上記のように、表示シート20を複数の空間に区画する隔壁23が設けられており、隔壁23によって区画された空間(セル23A)には、それぞれ電気泳動素子24が設けられている。
隔壁23は、表示シート20(具体的には、表示領域)を、例えば駆動基板10側から対向基板30側に延在することによって1または複数の空間に区画すると共に、表示シート20のZ軸方向の厚みを支持するためのものである。セル23Aには、それぞれ電気泳動素子24を構成する泳動粒子241等が収容されている。セル23Aの数および配列パターンは、特に限定されない。但し、セル23Aを効率よく配置するため、セル23Aはマトリクス状(複数行×複数列の配置)に配列されていることが好ましい。また、セル36の形状(開口形状)は、特に限定されず、矩形でもよいし、他の形状(六角形等)でもよい。具体的には、セル23Aは、例えば画素毎配置されており、駆動基板10側には、セル23Aの形状と略同一の画素電極21が形成されている。
隔壁23の形成材料は、電気泳動素子24の動作性能等に影響を及ぼさない材料であれば、特に限定されないが、成形加工に優れた樹脂等であることが好ましく、例えば、紫外線硬化性樹脂等(フォトリソグラフィ用のレジストを含む)を用いることが好ましい。この他、紫外線以外の光硬化性樹脂あるいは熱可塑性樹脂を用いてもよい。
隔壁23のピッチおよび高さは、特に限定されず、任意に設定可能である。一例を挙げると、隔壁23のピッチは、例えば30μm〜300μm、好ましくは60μm〜150μmであり、隔壁23の高さは、例えば10μm〜100μm、好ましくは30μm〜50μmである。各隔壁23の高さは、ほぼ均一であることが好ましい。駆動基板10と対向基板30との間の距離(いわゆるギャップ)が一定になるため、電界強度が均一化されるからである。これにより、表示領域内における応答速度のムラが改善される。
なお、図1では、隔壁23が隣り合う画素電極21の間隙に対向する位置の全てに設けられている例を示したが、画素電極21の間隙部分に必ずしも隔壁23が設けられていなくてもよい。また、隔壁23が駆動基板10側の面において連続しているものとして示したが、画素電極21上に残存する隔壁23部分は完全に除去されていてもよい。
次に、電気泳動素子24について説明する。図2は、電気泳動素子24の平面構成を模式的に表わしたものであ電気泳動素子24は、電気泳動現象を利用してコントラストを生じさせるものである。電気泳動素子24は、絶縁性液体243中に、泳動粒子241と、細孔242Hを有する多孔質層242とを含んでいる。絶縁性液体243は、駆動基板10と対向基板30との間の空間に充填されており、多孔質層242は、例えば隔壁23によって支持されている。
絶縁性液体243が充填されている空間は、例えば、多孔質層242を境界として、画素電極21に近い側の待避領域R1と、対向電極32に近い側の表示領域R2とに区分けされている。なお、図1では、図示内容を簡略化するために、細孔242Hの一部だけを示している。
絶縁性液体243は、例えば、パラフィンまたはイソパラフィン等の有機溶媒により構成されている。絶縁性液体243には、1種類の有機溶媒を用いてもよく、あるいは複数種類の有機溶媒を用いるようにしてもよい。絶縁性液体243の粘度および屈折率は、できるだけ低くすることが好ましい。絶縁性液体243の粘度を低くすると泳動粒子241の移動性(応答速度)が向上する。また、これに応じて泳動粒子241の移動に必要なエネルギー(消費電力)は低くなる。絶縁性液体243の屈折率を低くすると、絶縁性液体243と多孔質層242との屈折率の差が大きくなり、多孔質層242の反射率が高くなる。
絶縁性液体243には、例えば、着色剤,電荷調整剤,分散安定剤,粘度調整剤,界面活性剤または樹脂等を添加するようにしてもよい。
泳動粒子241は、1または2以上の荷電粒子であり、電界に応じ細孔242Hを経て移動する。泳動粒子241は、例えば任意の光学的反射特性(光反射率)を有しており、泳動粒子241の光反射率と、多孔質層242の光反射率との違いによりコントラスト(CR)が生じるようになっている。例えば、泳動粒子241が明表示し、多孔質層242が暗表示するようにしてもよく、泳動粒子241が暗表示し、多孔質層242が明表示するようにしてもよい。
外部から電気泳動素子24を見ると、泳動粒子241が明表示する場合には泳動粒子241は、例えば、白色または白色に近い色に視認され、暗表示する場合には、例えば、黒色または黒色に近い色に視認される。このような泳動粒子241の色は、コントラストを生じさせることができれば特に限定されない。例えば、赤色や青色でもかまわない。
泳動粒子241は、例えば、有機顔料,無機顔料,染料,炭素材料,金属材料,金属酸化物,ガラスまたは高分子材料(樹脂)等の粒子(粉末)により構成されている。泳動粒子241に、これらのうちの1種類を用いてもよく、または2種類以上を用いてもよい。泳動粒子241を、上記粒子を含む樹脂固形分の粉砕粒子またはカプセル粒子等により構成することも可能である。なお、上記炭素材料,金属材料,金属酸化物,ガラスまたは高分子材料に該当する材料は、有機顔料,無機顔料または染料に該当する材料から除く。泳動粒子241の粒径は、例えば10nm以上500nm以下が好ましく、より好ましくは、50nm以上200nm以下である。
上記の有機顔料は、例えば、アゾ系顔料、メタルコンプレックスアゾ系顔料、ポリ縮合アゾ系顔料、フラバンスロン系顔料、ベンズイミダゾロン系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、アントラピリジン系顔料、ピランスロン系顔料、ジオキサジン系顔料、チオインジゴ系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料またはインダンスレン系顔料等である。無機顔料は、例えば、亜鉛華、アンチモン白、鉄黒、硼化チタン、ベンガラ、マピコエロー、鉛丹、カドミウムエロー、硫化亜鉛、リトポン、硫化バリウム、セレン化カドミウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、クロム酸鉛、硫酸鉛、炭酸バリウム、鉛白またはアルミナホワイト等である。染料は、例えば、ニグロシン系染料、アゾ系染料、フタロシアニン系染料、キノフタロン系染料、アントラキノン系染料またはメチン系染料等である。炭素材料は、例えば、カーボンブラック等である。金属材料は、例えば、金、銀または銅等である。金属酸化物は、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、銅−クロム酸化物、銅−マンガン酸化物、銅−鉄−マンガン酸化物、銅−クロム−マンガン酸化物または銅−鉄−クロム酸化物等である。高分子材料は、例えば、可視光領域に光吸収域を有する官能基が導入された高分子化合物等である。可視光領域に光吸収域を有する高分子化合物であれば、その種類は特に限定されない。
泳動粒子241の具体的な材料は、例えば、泳動粒子241がコントラストを生じさせるために担う役割に応じて選択される。泳動粒子241が明表示する場合、泳動粒子241には例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウムまたはチタン酸カリウム等の金属酸化物等が用いられる。泳動粒子241が暗表示する場合、泳動粒子241には例えば、カーボンブラック等の炭素材料または銅−クロム酸化物、銅−マンガン酸化物、銅−鉄−マンガン酸化物、銅−クロム−マンガン酸化物および銅−鉄−クロム酸化物等の金属酸化物等が用いられる。中でも、泳動粒子241には炭素材料を用いることが好ましい。炭素材料からなる泳動粒子241は、優れた化学的安定性、移動性および光吸収性を示す。
絶縁性液体243中における泳動粒子241の含有量(濃度)は、特に限定されないが、例えば0.1重量%〜10重量%である。この濃度範囲では、泳動粒子241の遮蔽性および移動性が確保される。詳細には、泳動粒子241の含有量が0.1重量%よりも少ないと、泳動粒子241が多孔質層242を遮蔽(隠蔽)しにくくなり、十分にコントラストを生じさせることができない可能性がある。一方、泳動粒子241の含有量が10重量%よりも多いと、泳動粒子241の分散性が低下するため、その泳動粒子241が泳動しにくくなり、凝集する虞がある。
なお、泳動粒子241は、絶縁性液体243中における分散性を向上させるために、さらに表面処理がされていてもよい。この表面処理は、例えばロジン処理、界面活性剤処理、顔料誘導体処理、カップリング剤処理、グラフト重合処理またはμmカプセル化処理等である。特に、グラフト重合処理、μmカプセル化処理またはこれらを組み合わせて処理を行うことにより、泳動粒子241の長期間の分散安定性をさらに向上させることができる。
泳動粒子241は、絶縁性液体243中で長期間に渡って分散および帯電しやすく、また、多孔質層242に吸着しにくいことが好ましい。このため、例えば絶縁性液体243中に分散剤が添加される。分散剤と電荷調整剤とを併用するようにしてもよい。
この分散剤または電荷調整剤は、例えば、正、負のどちらか一方、または両方の電荷を有しており、絶縁性液体243中の帯電量を増加させると共に、静電反発により泳動粒子241を分散させるためのものである。このような分散剤として、例えば、Lubrizol社製のSolsperceシリーズ、BYK−Chemic社製のBYKシリーズまたはAnti−Terraシリーズ、あるいはTCI America社製Spanシリーズ、Croda社製Hypermerシリーズ等が挙げられる。
上記泳動粒子241を絶縁性液体243中に分散させる方法の詳細については、「超微粒子の分散技術とその評価〜表面処理・微粉砕と気中/液中/高分子中の分散安定化〜(サイエンス&テクノロジー社)」等の書籍に掲載されている。
多孔質層242は泳動粒子241を遮蔽可能なものであり、繊維状構造体242Aおよび繊維状構造体242Aに保持された非泳動粒子242Bを有している。この多孔質層242は、繊維状構造体242Aにより形成された3次元立体構造物(不織布のような不規則なネットワーク構造物)であり、複数の隙間(細孔242H)が設けられている。繊維状構造体242Aにより、多孔質層242の3次元立体構造を構成することで、光(外光)が乱反射(多重散乱)し、多孔質層242の反射率が高くなる。従って、多孔質層242の厚みが小さい場合であっても高反射率を得ることができ、電気泳動素子24のコントラストを向上させると共に泳動粒子241の移動に必要なエネルギーを小さくすることができる。また、細孔242Hの平均孔径が大きくなり、かつ多くの細孔242Hが多孔質層242に設けられる。これにより、泳動粒子241が細孔242Hを経由して移動し易くなり、応答速度が向上すると共に、泳動粒子241を移動させるために必要なエネルギーがより小さくなる。このような多孔質層242の厚みは、例えば、5μm〜100μmである。
繊維状構造体242Aは、繊維径(直径)に対して十分な長さを有する繊維状物質である。例えば、複数の繊維状構造体242Aが集合し、ランダムに重なって多孔質層242を構成する。1つの繊維状構造体242Aがランダムに絡みあって多孔質層242を構成していてもよい。あるいは、1つの繊維状構造体242Aによる多孔質層242と複数の繊維状構造体242Aによる多孔質層242とが混在していてもよい。
繊維状構造体242Aは例えば直線状に延在している。繊維状構造体242Aの形状は、どのようなものであってもよく、例えば、縮れていたり、途中で折れ曲がったりしていてもよい。あるいは、繊維状構造体242Aは途中で分岐していてもよい。
繊維状構造体242Aの最小繊維径は、例えば500nm以下であることが好ましく、より好ましくは300nm以下である。平均繊維径は、例えば0.1μm以上10μm以下であることが好ましいが、上記範囲外であってもよい。平均繊維径を小さくすることにより、光が乱反射し易くなり、また、細孔242Hの孔径が大きくなる。繊維状構造体242Aが非泳動粒子242Bを保持できるよう、その繊維径を決定する。平均繊維径は、例えば、走査型電子顕微鏡等を用いた顕微鏡観察により測定することができる。繊維状構造体242Aの平均長さは任意である。繊維状構造体242Aは、例えば、相分離法,相反転法,静電(電界)紡糸法,溶融紡糸法,湿式紡糸法,乾式紡糸法,ゲル紡糸法,ゾルゲル法またはスプレー塗布法等により形成される。このような方法を用いることにより、繊維径に対して十分な長さを有する繊維状構造体242Aを容易に、かつ安定して形成することができる。
繊維状構造体242Aは、高分子材料および無機材料の少なくとも一方により形成されており、特に、ナノファイバーにより構成することが好ましい。ここでナノファイバーとは、繊維径が1nm〜1000nmであり、長さが繊維径の100倍以上である繊維状物質である。このようなナノファイバーを繊維状構造体242Aとして用いることにより、光が乱反射し易くなり、多孔質層242の反射率をより向上させることができる。即ち、電気泳動素子24のコントラストを向上させることが可能となる。また、ナノファイバーからなる繊維状構造体242Aでは、単位体積中に占める細孔242Hの割合が大きくなり、細孔242Hを経由して泳動粒子241が移動し易くなる。従って、泳動粒子241の移動に必要なエネルギーを小さくすることができる。ナノファイバーからなる繊維状構造体242Aは、静電紡糸法により形成することが好ましい。静電紡糸法を用いることにより繊維径が小さい繊維状構造体242Aを容易に、かつ安定して形成することができる。
繊維状構造体242Aには、その光反射率が泳動粒子241の光反射率と異なるものを用いることが好ましい。これにより、多孔質層242と泳動粒子241との光反射率の差によるコントラストが形成され易くなる。絶縁性液体243中で光透過性(無色透明)を示す繊維状構造体242Aを用いるようにしてもよい。
細孔242Hは、複数の繊維状構造体242Aが重なり合い、または1つの繊維状構造体242Aが絡まりあうことにより構成されている。この細孔242Hは、泳動粒子241が細孔242Hを経て移動し易いよう、できるだけ大きな平均孔径を有していることが好ましい。細孔242Hの平均孔径は、例えば、0.1μm以上10μm以下である。
非泳動粒子242Bは、繊維状構造体242Aに固定されており、電気泳動を行わない1または2以上の粒子である。非泳動粒子242Bは、保持されている繊維状構造体242Aの内部に埋設されていてもよく、あるいは、繊維状構造体242Aから部分的に露出していてもよい。
非泳動粒子242Bには、その光反射率が泳動粒子241の光反射率と異なるものを用いる。非泳動粒子242Bは、上記泳動粒子241と同様の材料により構成することが可能である。詳細には、非泳動粒子242B(多孔質層242)が明表示する場合には上記泳動粒子241が明表示する場合の材料、非泳動粒子242Bが暗表示する場合には上記泳動粒子241が暗表示する場合の材料をそれぞれ用いることができる。多孔質層242により明表示を行うとき、非泳動粒子242Bを金属酸化物により構成することが好ましい。これにより、優れた化学的安定性、定着性および光反射性を得ることができる。非泳動粒子242B、泳動粒子241それぞれの構成材料は同じであってもよく、異なっていてもよい。非泳動粒子242Bが明表示または暗表示を行うときに外部から視認される色は、上記泳動粒子241について説明したものと同様である。
電気泳動素子24は、上記のように、泳動粒子241の光反射率と多孔質層242の光反射率との差によりコントラストを生じさせるものである。具体的には、泳動粒子241および多孔質層242のうち、明表示する方の光反射率が暗表示する方の光反射率よりも高くなっている。このような表示を行うことにより、明表示がなされる際の光反射率が、多孔質層242(3次元立体構造物)による光の乱反射を利用して著しく高くなる。従って、これに応じ、コントラストも著しく向上する。
対向基板30は、例えば板状部材31および対向電極32を有しており、板状部材31の全面(駆動基板10との対向面)に対向電極32が設けられている。対向電極32を、画素電極21と同様に、マトリクス状またはセグメント状に配置するようにしてもよい。
板状部材31は、光透過性であることを除き、板状部材111と同様の材料により構成されている。対向電極32には、例えば、酸化インジウム−酸化スズ(ITO)、酸化アンチモン−酸化スズ(ATO)、フッ素ドープ酸化スズ(FTO)またはアルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)等の光透光性導電性材料(透明電極材料)を用いることができる。
対向基板30側に画像を表示する場合には、対向電極32を介して電気泳動素子24を見ることになるため、対向電極32の光透過性(透過率)は、できるだけ高いことが好ましく、例えば、80%以上である。また、対向電極32の電気抵抗は、できるだけ低いことが好ましく、例えば、100Ω/□以下である。
(1−2.製造方法)
このような表示装置1は、例えば以下の方法により形成することができる。まず、図3Aに示したように、支持基板41上に犠牲層42として金属酸化物膜(例えば、WOx/MoOx膜)あるいは、有機絶縁膜(例えば、CYTOP(登録商標))を成膜する。続いて、犠牲層42上に金属材料(例えば、Cuからなる単層膜あるいはMo/Al/Moの積層膜)を、例えば150nmの厚みでスパッタリングにより成膜したのち、フォトリソグラフィ法を用いて図3Aおよび図3Bに示したように互いに分離された複数の画素電極21を形成する。次に、図4Aに示したように、粘着層22(例えば、東洋紡 バイロンUR8700(登録商標))を、例えばグラビアコート法により、例えば10μmの厚みで塗布したのち、乾燥させる。続いて、粘着層22上に紫外線硬化性樹脂(例えば、日本化薬 SU−8(登録商標))を例えば15μmの厚みでグラビアコート法によって塗工したのち、支持基板41の裏面から紫外線を照射して露光・現像を行う。これにより、図4Bに示したように、画素電極21がマスクとなって自己整合的に隣り合う画素電極21の間隙に隔壁23が形成される。即ち、隣り合う画素電極21の間隙と対向すると共に、隔壁23の側面位置と、画素電極21の側面位置とが一致した隔壁23が形成される。
このような表示装置1は、例えば以下の方法により形成することができる。まず、図3Aに示したように、支持基板41上に犠牲層42として金属酸化物膜(例えば、WOx/MoOx膜)あるいは、有機絶縁膜(例えば、CYTOP(登録商標))を成膜する。続いて、犠牲層42上に金属材料(例えば、Cuからなる単層膜あるいはMo/Al/Moの積層膜)を、例えば150nmの厚みでスパッタリングにより成膜したのち、フォトリソグラフィ法を用いて図3Aおよび図3Bに示したように互いに分離された複数の画素電極21を形成する。次に、図4Aに示したように、粘着層22(例えば、東洋紡 バイロンUR8700(登録商標))を、例えばグラビアコート法により、例えば10μmの厚みで塗布したのち、乾燥させる。続いて、粘着層22上に紫外線硬化性樹脂(例えば、日本化薬 SU−8(登録商標))を例えば15μmの厚みでグラビアコート法によって塗工したのち、支持基板41の裏面から紫外線を照射して露光・現像を行う。これにより、図4Bに示したように、画素電極21がマスクとなって自己整合的に隣り合う画素電極21の間隙に隔壁23が形成される。即ち、隣り合う画素電極21の間隙と対向すると共に、隔壁23の側面位置と、画素電極21の側面位置とが一致した隔壁23が形成される。
続いて、図4Cに示したように、隔壁23によって形成されたセル23A内に泳動粒子241および多孔質層242を収容すると共に、絶縁性液体243を充填する。次に、図4Dに示したように対向電極32を備えた対向基板30にてセル23Aを封止したのち、画素電極21から支持基板41を剥離する。
図5Aおよび図5Bは、駆動基板10側の加工工程を表したものである。まず、図5Aに示したように、板状部材111上に、一般的な方法を用いてゲート電極112、ゲート絶縁膜113、半導体層114およびソース・ドレイン電極(ソース電極115Sおよびドレイン電極115D)をこの順に形成したのち、平坦化膜116を形成する。続いて、例えばフォトリソグラフィ法を用いて平坦化膜116を貫通するコンタクトホール116Aを形成したのち、平坦化膜116上およびコンタクトホール116A内に、金属材料(例えば、CuあるいはMo/Al/Moの積層膜)を、例えばスパッタリングにより成膜したのち、例えばエッチングにより、図6Aおよび図6Bに示したように互いに分離された複数のコンタクト電極12を形成する。
なお、コンタクト電極12の形状は図6Bに示したような円形状に限定されず、例えば矩形形状としてもよい。また、コンタクト電極12は、画素電極21よりも小さく形成することが好ましい。例えば、画素電極21およびコンタクト電極12を、それぞれ正方形状として形成する場合、画素電極21の一辺をAμm、コンタクト電極12の一辺をBμmとして形成すると、XY方向に(A−B)μmのアライメントマージンが形成される。理想的には、位置合わせ精度の観点から、画素電極21は、例えば一辺が50μm〜5000μmの範囲とすることが好ましく、コンタクト電極は、例えば一辺10μm〜50μmの範囲とすることが好ましい。
次に、図5Bに示したように、例えばコンタクト電極12の形成部分を除いた平坦化膜116の高さhが、板状部材111からコンタクト電極12の表面までの高さHよりも低くなるように、平坦化膜116を、例えばエッチング法を用いて薄膜化する。これにより、画素電極21とTFT110との電気的な接触不良の発生が低減される。最後に、コンタクト電極12まで形成した駆動基板10を表示シート20と貼り合わせることにより、図1に示した表示装置1が完成する。なお、コンタクト電極12と画素電極21とは、互いに直接積層されていてもよいし、間に、例えば接着層等を介していていもよい。
なお、有機材料を用いて成膜方法は、上記方法の他に、スピンコート法,エアドクタコーター法、ブレードコーター法、ロッドコーター法、ナイフコーター法、スクイズコーター法、リバースロールコーター法、トランスファーロールコーター法、グラビアコーター法、キスコーター法、キャストコーター法、スプレーコーター法、スリットオリフィスコーター法、カレンダーコーター法、浸漬法等の塗布法の他、化学的気相成長法や蒸着重合法等の真空プロセスを用いてもよい。
(1−3.表示装置の動作)
電気泳動素子24内では、具体的には泳動粒子241が下記のような挙動を示すことによって表示がなされる。泳動粒子241は、一対の電極間に電圧が印加されると、それによって生じた電界の範囲内で多孔質層242の細孔を経て対応する電極側に移動する。泳動粒子241の移動した領域、移動しない領域に応じて、明表示および暗表示のうちのどちらか一方がなされ、画像が表示される。なお、非泳動粒子242Bの光反射率を、泳動粒子241よりも高くして、多孔質層242で明表示し、泳動粒子241で暗表示することが好ましい。
電気泳動素子24内では、具体的には泳動粒子241が下記のような挙動を示すことによって表示がなされる。泳動粒子241は、一対の電極間に電圧が印加されると、それによって生じた電界の範囲内で多孔質層242の細孔を経て対応する電極側に移動する。泳動粒子241の移動した領域、移動しない領域に応じて、明表示および暗表示のうちのどちらか一方がなされ、画像が表示される。なお、非泳動粒子242Bの光反射率を、泳動粒子241よりも高くして、多孔質層242で明表示し、泳動粒子241で暗表示することが好ましい。
初期状態の表示装置1では、泳動粒子241が待避領域R1に配置されている。この場合には、全ての画素で泳動粒子241が多孔質層242により遮蔽されているため、対向基板30側から電気泳動素子24を見ると、コントラストが生じていない(画像が表示されていない)状態にある。
一方、TFT110により画素が選択され、画素電極21と対向電極32との間に電界が印加されると、画素毎に泳動粒子241が待避領域R1から多孔質層242(細孔242H)を経由して表示領域R2に移動する。この場合には、泳動粒子241が多孔質層242により遮蔽されている画素と遮蔽されていない画素とが併存するため、対向基板30側から電気泳動素子24を見ると、コントラストが生じている状態になる。これにより、画像が表示される。
この表示装置1によれば、例えば各セル23Aに異なる色の泳動粒子241を収容することにより、カラー表示が可能な表示装置を構成することができる。
(1−4.作用・効果)
電気泳動現象を利用した電気泳動型ディスプレイには、前述したように、表示不良の問題がある。この表示不良(例えば、エッジゴーストやブルーミング)は、分割形成されている電極の間に位置する泳動粒子の移動不良や、隣り合う画素間で発生する横電界によって泳動粒子の想定外の挙動によって起こる。これは、例えば画素毎にRGBWや、CMYKの塗り分けによってカラー表示が可能な電気泳動型ディスプレイにおける混色の発生の原因にもなる。エッジゴーストやブルーミングの原因は、背面側の基板に形成された画素電極と表示シートに形成されている隔壁構造の位置が一致していないためと考えられている。
電気泳動現象を利用した電気泳動型ディスプレイには、前述したように、表示不良の問題がある。この表示不良(例えば、エッジゴーストやブルーミング)は、分割形成されている電極の間に位置する泳動粒子の移動不良や、隣り合う画素間で発生する横電界によって泳動粒子の想定外の挙動によって起こる。これは、例えば画素毎にRGBWや、CMYKの塗り分けによってカラー表示が可能な電気泳動型ディスプレイにおける混色の発生の原因にもなる。エッジゴーストやブルーミングの原因は、背面側の基板に形成された画素電極と表示シートに形成されている隔壁構造の位置が一致していないためと考えられている。
この問題を解決するために、前述した画素電極の端部を隔壁によって覆い、この隔壁によって画素を環囲した電気泳動方式表示装置や、隔壁のピッチを背面側の電極(画素電極)よりも十分に小さくした表示装置等が開発されている。しかしながら、これら表示装置においてもエッジゴーストやブルーミングによる表示不良を十分に改善することは難しく、さらに製造歩留まりの低下やコストの増加、あるいは、隔壁の占有面積の層化による反射率およびコントラストの低下等の新たな課題が生じるという問題があった。
この他、フラッシングと呼ばれる表示画面を全白および全黒に複数回切り替えを行う駆動方法によって表示不良を緩和させる方法が開発されている。しかし、フラッシング動作自体が表示品位や切り替え速度を低下させるという問題があった。また、この方法は、カラー表示を行う電気泳動型ディスプレイへの応用は困難であった。
これに対して、本実施の形態では、駆動基板10に、互いに積層された複数のコンタクト電極12および画素電極21を設け、この複数の画素電極21の間隙の少なくとも一部と、表示シート20に設けられた隔壁23の一部とを対向配置するようにした。このような隔壁23は、例えばマトリクス状に配置された複数の画素電極21をマスクとした露光・現像によって設けられる。これによって、隔壁23によって区画されるセル23Aが隣り合う画素電極21の間隙に位置する割合が低減される。即ち、画素電極21の間隙に位置する泳動粒子241の確率が低減される。
以上、本実施の形態の表示装置1およびその製造方法では、駆動基板10に互いに積層された複数のコンタクト電極12および画素電極21を設け、この複数の画素電極21の間隙の少なくとも一部と、表示シート20に設けられた隔壁23の一部とを対向配置するようにした。これによって、画素電極21の間隙に位置する泳動粒子241の確率が低減され、エッジゴーストやブルーミング等の発生を低減することが可能となる。よって、表示品位の向上した表示装置を提供することが可能となる。
また、画素電極21をマスクとした露光・現像によって隔壁23を形成することにより、画素電極21の側面と、隔壁23の側面とが一致、換言すると、画素電極21の平面形状と、隔壁23によって区画されるセル23Aの平面形状とが一致した表示装置1を容易に製造することが可能となる。更に、画素電極21の平面形状と、隔壁23によって区画されるセル23Aの平面形状とが一致していることで、泳動粒子241が隣り合う画素間に生じる横電界に影響を受けることを低減することが可能となる。
更にまた、画素電極21に対してコンタクト電極12を小さく形成することにより、画素電極21とコンタクト電極12との位置合わせが容易となり、製造歩留まりを向上させることが可能となる。
また、TFT基板11を構成する板状部材111からコンタクト電極12が突出する、具体的には、コンタクト電極12の表面までの高さHが他の領域の高さhよりも高くなるようにコンタクト電極12の周辺領域を薄膜化することにより、TFT110(具体的には、コンタクト電極12)と画素電極21との接触不良が低減される。よって、信頼性の向上した表示装置1を提供することが可能となる。
<2.第2の実施の形態>
図7A〜図7Cは、本開示の第2の実施の形態に係る表示装置の製造工程の一部(コンタクト電極52の製造工程)を表したものである。本実施の形態では、コンタクト電極52を、例えば印刷プロセスを用いて形成することにより、コンタクト電極52と画素電極21との接触不良をさらに低減可能なコンタクト電極52を形成することが可能となる。
図7A〜図7Cは、本開示の第2の実施の形態に係る表示装置の製造工程の一部(コンタクト電極52の製造工程)を表したものである。本実施の形態では、コンタクト電極52を、例えば印刷プロセスを用いて形成することにより、コンタクト電極52と画素電極21との接触不良をさらに低減可能なコンタクト電極52を形成することが可能となる。
コンタクト電極52は、TFT110と画素電極21とを電気的に接続するためのものである。コンタクト電極52の材料としては、印刷プロセスを用いての形成が可能な導電性材料を選択することが好ましく、また、弾性を有する材料を選択することが好ましい。このような材料としては、例えばポリチオフェン系導電性ポリマー(PEDOT/PSS)等の有機導電性材料や金属粒子と有機導電性材料との混合材料が挙げられる。
コンタクト電極52は、例えば以下の方法により形成することができる。まず、図7Aに示したように板状部材111上にTFT110を形成する。続いて、図7Bに示したように、ドレイン電極115D上に、例えばスクリーン印刷法を用いて、例えば電極径が10μm〜30μm、高さ1〜4μm程度のコンタクト電極52を形成する。次に、板状部材111上に、一般的な層間絶縁膜材料、例えばアクリル樹脂やポリイミドを塗布し、例えば1μm程度の平坦化膜116を形成する。このとき、アクリル樹脂やポリイミド等の絶縁性材料を溶解させる溶剤を適宜選択することで、表面エネルギーおよび濡れ性の違いによって、コンタクト電極52の周囲に間隙を有する平坦化膜116が形成される。一例として、コンタクト電極52の材料としてPEDOT/PSSを用いる場合には、上記絶縁性材料は、脂肪族炭化水素やシクロヘキサン等の非極性溶剤に溶解させて用いることが好ましい。これにより、フォトリソグラフィ法等のコストの高い製造工程を利用することなく、コンタクトホール116Aを形成することが可能となる。
以上、本実施の形態では、コンタクト電極52を、印刷プロセスを用いて形成することにより、上記第1の実施の形態における効果に加えて、コンタクト電極52と画素電極21との接触不良をさらに低減可能なコンタクト電極52を容易に形成することが可能となるという効果を奏する。特に、コンタクト電極52の材料として、弾性を有する材料を用いることにより、より確実にコンタクト電極52と画素電極21とを接触させることが可能となる。
また、印刷プロセスを用いた場合、コンタクト電極52の電極径を小さく形成することが可能となるため、画素電極21との貼り合わせ時におけるアライメントマージンをより拡大させることが可能となる。よって、より高歩留まりな表示装置の製造方法および信頼性が向上した表示装置を提供することが可能となる。
<3.変形例>
図8は、本変形例に係る表示装置のコンタクト電極62の配設パターンを表したものである。上記第1の実施の形態では、画素毎にTFT110を形成したため、コンタクト電極12を画素電極21と同様にマトリクス状に形成した。本変形例では、例えば表示領域の外の周辺領域にTFT110を形成し、そこから例えば、Y軸方向に延伸する、いわゆるセグメント上に配設された複数のコンタクト電極62を形成するようにしてもよい。このとき、コンタクト電極62のX軸方向の幅wは、上記実施の形態と同様に、画素電極21のX軸方向の幅Wよりも十分に小さくすることが好ましい。これにより、コンタクト電極62と画素電極21との貼り合わせ時におけるアライメントマージンを拡大することが可能となる。
図8は、本変形例に係る表示装置のコンタクト電極62の配設パターンを表したものである。上記第1の実施の形態では、画素毎にTFT110を形成したため、コンタクト電極12を画素電極21と同様にマトリクス状に形成した。本変形例では、例えば表示領域の外の周辺領域にTFT110を形成し、そこから例えば、Y軸方向に延伸する、いわゆるセグメント上に配設された複数のコンタクト電極62を形成するようにしてもよい。このとき、コンタクト電極62のX軸方向の幅wは、上記実施の形態と同様に、画素電極21のX軸方向の幅Wよりも十分に小さくすることが好ましい。これにより、コンタクト電極62と画素電極21との貼り合わせ時におけるアライメントマージンを拡大することが可能となる。
<4.適用例>
次に、本開示の表示装置1の適用例について説明する。本開示の表示装置1は、各種用途の電子機器に適用可能であり、その電子機器の種類は特に限定されない。この表示装置1は、例えば、以下の電子機器に搭載可能である。ただし、以下で説明する電子機器の構成はあくまで一例であるため、その構成は適宜変更可能である。
次に、本開示の表示装置1の適用例について説明する。本開示の表示装置1は、各種用途の電子機器に適用可能であり、その電子機器の種類は特に限定されない。この表示装置1は、例えば、以下の電子機器に搭載可能である。ただし、以下で説明する電子機器の構成はあくまで一例であるため、その構成は適宜変更可能である。
(適用例1)
図9A,9Bは、電子ブックの外観構成を表している。この電子ブックは、例えば、表示部210および非表示部220と、操作部230とを備えている。なお、操作部230は、図9Aに示したように非表示部220の前面に設けられていてもよいし、図9Bに示したように上面に設けられていてもよい。表示部210が表示装置1により構成される。なお、表示装置1は、図9A,9Bに示した電子ブックと同様の構成を有するPDA(Personal Digital Assistants)等に搭載されてもよい。
図9A,9Bは、電子ブックの外観構成を表している。この電子ブックは、例えば、表示部210および非表示部220と、操作部230とを備えている。なお、操作部230は、図9Aに示したように非表示部220の前面に設けられていてもよいし、図9Bに示したように上面に設けられていてもよい。表示部210が表示装置1により構成される。なお、表示装置1は、図9A,9Bに示した電子ブックと同様の構成を有するPDA(Personal Digital Assistants)等に搭載されてもよい。
(適用例2)
図10は、タブレットパーソナルコンピュータの外観を表したものである。このタブレットパーソナルコンピュータは、例えば、タッチパネル部310および筐体320を有しており、タッチパネル部310が上記表示装置1により構成されている。
図10は、タブレットパーソナルコンピュータの外観を表したものである。このタブレットパーソナルコンピュータは、例えば、タッチパネル部310および筐体320を有しており、タッチパネル部310が上記表示装置1により構成されている。
以上、第1,第2の実施の形態および変形例を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。
なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。
なお、本開示は、以下のような構成であってもよい。
(1)
第1基板と、
前記第1基板の上に設けられた複数の第1電極と、
前記複数の第1電極の上に設けられた複数の第2電極と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた表示層と、
前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
表示装置。
(2)
前記複数の第2電極のうちの少なくとも一つの端面は前記隔壁の側面と一致している、前記(1)に記載の表示装置。
(3)
前記第2電極は前記第1電極よりも大きい、前記(1)または(2)に記載の表示装置。
(4)
前記第1基板は、前記表示層に前記複数の第2電極ごとに電圧を印加する駆動素子と、前記駆動素子の上に形成された絶縁層とを有し、
前記第1電極は、前記絶縁層の表面より突出している、前記(1)乃至(3)のうちのいずれかに記載の表示装置。
(5)
前記第1電極は、前記駆動素子と電気的に接続されている、前記(4)に記載の表示装置。
(6)
前記第1電極は、有機導電性材料により形成されている、前記(1)乃至(5)のうちのいずれかに記載の表示装置。
(7)
前記表示層は、泳動粒子と、前記泳動粒子とは異なる反射特性を有する多孔質層とを有する、前記(1)乃至(6)のうちのいずれかに記載の表示装置。
(8)
前記多孔質層は、前記泳動粒子とは異なる光学的反射特性を有する非泳動粒子を含む、前記(7)に記載の表示装置。
(9)
第1基板上に複数の第1電極を形成する工程と、
複数の第2電極上に表示層、前記表示層を複数の空間に区画する隔壁および第2基板を形成する工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程とを含み、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向するように形成する
表示装置の製造方法。
(10)
前記第2電極上に樹脂膜を塗布したのち、前記第2電極をマスクとした露光・現像によって前記隔壁を形成する、前記(9)に記載の表示装置の製造方法。
(11)
前記隔壁を形成したのち、前記隔壁によって区画される前記複数の空間に前記表示層を形成する、前記(9)または(10)に記載の表示装置の製造方法。
(12)
支持基板上に犠牲層を形成したのち、前記犠牲層の上に前記複数の第2電極、前記隔壁、前記表示層および前記第2基板をこの順に形成する、前記(9)乃至(11)のうちのいずれかに記載の表示装置の製造方法。
(13)
表示装置を備え、
前記表示装置は、
第1基板と、
前記第1基板の上に設けられた複数の第1電極と、
前記複数の第1電極の上に設けられた複数の第2電極と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた表示層と、
前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
電子機器。
(1)
第1基板と、
前記第1基板の上に設けられた複数の第1電極と、
前記複数の第1電極の上に設けられた複数の第2電極と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた表示層と、
前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
表示装置。
(2)
前記複数の第2電極のうちの少なくとも一つの端面は前記隔壁の側面と一致している、前記(1)に記載の表示装置。
(3)
前記第2電極は前記第1電極よりも大きい、前記(1)または(2)に記載の表示装置。
(4)
前記第1基板は、前記表示層に前記複数の第2電極ごとに電圧を印加する駆動素子と、前記駆動素子の上に形成された絶縁層とを有し、
前記第1電極は、前記絶縁層の表面より突出している、前記(1)乃至(3)のうちのいずれかに記載の表示装置。
(5)
前記第1電極は、前記駆動素子と電気的に接続されている、前記(4)に記載の表示装置。
(6)
前記第1電極は、有機導電性材料により形成されている、前記(1)乃至(5)のうちのいずれかに記載の表示装置。
(7)
前記表示層は、泳動粒子と、前記泳動粒子とは異なる反射特性を有する多孔質層とを有する、前記(1)乃至(6)のうちのいずれかに記載の表示装置。
(8)
前記多孔質層は、前記泳動粒子とは異なる光学的反射特性を有する非泳動粒子を含む、前記(7)に記載の表示装置。
(9)
第1基板上に複数の第1電極を形成する工程と、
複数の第2電極上に表示層、前記表示層を複数の空間に区画する隔壁および第2基板を形成する工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程とを含み、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向するように形成する
表示装置の製造方法。
(10)
前記第2電極上に樹脂膜を塗布したのち、前記第2電極をマスクとした露光・現像によって前記隔壁を形成する、前記(9)に記載の表示装置の製造方法。
(11)
前記隔壁を形成したのち、前記隔壁によって区画される前記複数の空間に前記表示層を形成する、前記(9)または(10)に記載の表示装置の製造方法。
(12)
支持基板上に犠牲層を形成したのち、前記犠牲層の上に前記複数の第2電極、前記隔壁、前記表示層および前記第2基板をこの順に形成する、前記(9)乃至(11)のうちのいずれかに記載の表示装置の製造方法。
(13)
表示装置を備え、
前記表示装置は、
第1基板と、
前記第1基板の上に設けられた複数の第1電極と、
前記複数の第1電極の上に設けられた複数の第2電極と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた表示層と、
前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
電子機器。
1…表示装置、10…駆動基板、11…TFT基板、12…コンタクト電極、20…表示シート、21…画素電極、22…粘着層、23…隔壁、23A…セル、24…電気泳動素子、30…対向基板、31,111…板状部材、32…対向電極、110…TFT、112…ゲート電極、113…ゲート絶縁膜、114…半導体層、115S…ソース電極、115D…ドレイン電極、116…平坦化膜、241…泳動粒子、242…多孔質層、243…絶縁性液体、242A…繊維状構造体、242B…非泳動粒子、242H…細孔。
Claims (13)
- 第1基板と、
前記第1基板の上に設けられた複数の第1電極と、
前記複数の第1電極の上に設けられた複数の第2電極と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた表示層と、
前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
表示装置。 - 前記複数の第2電極のうちの少なくとも一つの端面は前記隔壁の側面と一致している、請求項1に記載の表示装置。
- 前記第2電極は前記第1電極よりも大きい、請求項1に記載の表示装置。
- 前記第1基板は、前記表示層に前記複数の第2電極ごとに電圧を印加する駆動素子と、前記駆動素子の上に形成された絶縁層とを有し、
前記第1電極は、前記絶縁層の表面より突出している、請求項1に記載の表示装置。 - 前記第1電極は、前記駆動素子と電気的に接続されている、請求項4に記載の表示装置。
- 前記第1電極は、有機導電性材料により形成されている、請求項1に記載の表示装置。
- 前記表示層は、泳動粒子と、前記泳動粒子とは異なる反射特性を有する多孔質層とを有する、請求項1に記載の表示装置。
- 前記多孔質層は、前記泳動粒子とは異なる光学的反射特性を有する非泳動粒子を含む、請求項7に記載の表示装置。
- 第1基板上に複数の第1電極を形成する工程と、
複数の第2電極上に表示層、前記表示層を複数の空間に区画する隔壁および第2基板を形成する工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを貼り合わせる工程とを含み、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向するように形成する
表示装置の製造方法。 - 前記第2電極上に樹脂膜を塗布したのち、前記第2電極をマスクとした露光・現像によって前記隔壁を形成する、請求項9に記載の表示装置の製造方法。
- 前記隔壁を形成したのち、前記隔壁によって区画される前記複数の空間に前記表示層を形成する、請求項9に記載の表示装置の製造方法。
- 支持基板上に犠牲層を形成したのち、前記犠牲層の上に前記複数の第2電極、前記隔壁、前記表示層および前記第2基板をこの順に形成する、請求項9に記載の表示装置の製造方法。
- 表示装置を備え、
前記表示装置は、
第1基板と、
前記第1基板の上に設けられた複数の第1電極と、
前記複数の第1電極の上に設けられた複数の第2電極と、
前記第1基板に対向配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板との間に設けられた表示層と、
前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
隣り合う前記第2電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
電子機器。
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JP2015247723A JP2017111399A (ja) | 2015-12-18 | 2015-12-18 | 表示装置および表示装置の製造方法、ならびに電子機器 |
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JP2015247723A JP2017111399A (ja) | 2015-12-18 | 2015-12-18 | 表示装置および表示装置の製造方法、ならびに電子機器 |
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