JP2017111399A - 表示装置および表示装置の製造方法、ならびに電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】表示品位を向上させることが可能な表示装置および表示装置の製造方法、ならびに電子機器を提供する。【解決手段】本開示の表示装置は、第１基板と、第１基板の上に設けられた複数の第１電極と、複数の第１電極の上に設けられた複数の第２電極と、第１基板に対向配置された第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられた表示層と、表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備えたものであり、隣り合う第２電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向している。【選択図】図１

Description

本開示は、例えば電気泳動素子を含む表示装置およびその製造方法、ならびにこれを備えた電子機器に関する。

電気泳動現象を利用した電気泳動型ディスプレイは、低消費電力であると共に応答速度が速く、読書用途に用いられるモバイル型ディスプレイの有力候補として期待されており、近年、様々な電気泳動型ディスプレイが開発されている。これら電気泳動型ディスプレイには、エッジゴーストやブルーミングといった表示不良の問題がある。これは、分割形成されている電極の間に泳動粒子が位置することによる泳動粒子の移動不良や、隣り合う画素間に発生する横電界によって泳動粒子が想定外の挙動をすることによるものである。これは、開発が進められているカラー表示が可能な電気泳動型ディスプレイにおいても問題となる。

この問題を解決する方法として、例えば特許文献１では、薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor；ＴＦＴ）上に、隔壁層によって環囲されると共に、この隔壁層によって端部が覆われた画素電極を有する電気泳動方式表示素子を備えた電気泳動方式表示装置およびその製作方法が開示されている。また、例えば特許文献２では、隔壁のピッチを背面基板側の電極（背面側電極）よりも十分に小さくした表示装置が開示されている。

特開２００９−９３１５９号公報 特開２０１１−１２３２０５号公報

しかしながら、特許文献１および特許文献２の方法では、エッジゴーストやブルーミングによる表示品位の低下を十分に改善することが難しかった。また、特許文献１の電気泳動方式表示装置では、製造歩留まりが低下すると共に、素子作製のコストが大きく上昇するという問題があった。特許文献２の表示装置では、高精細化が進んだ際には、隔壁の形成プロセスが困難になると同時に、表示領域における隔壁の占有面積が大きくなり、反射率およびコントラスト等が低下し、さらに表示品位が低下するという問題があった。

本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、表示品位を向上させることが可能な表示装置および表示装置の製造方法、ならびに電子機器を提供することにある。

本開示の表示装置は、第１基板と、第１基板の上に設けられた複数の第１電極と、複数の第１電極の上に設けられた複数の第２電極と、第１基板に対向配置された第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられた表示層と、表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備えたものであり、隣り合う第２電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向している。

本開示の表示装置の製造方法は、第１基板上に複数の第１電極を形成する工程と、複数の第２電極上に表示層、表示層を複数の空間に区画する隔壁および第２基板を形成する工程と、第１基板と第２基板とを貼り合わせる工程とを含み、隣り合う第２電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向するように形成する。

本開示の電子機器は、上記本開示の表示装置を備えたものである。

本開示の表示装置および電子機器では、第１基板上に設けられた複数の第１電極上に複数の第２電極を設け、隣り合う第２電極の間隙の少なくとも一部が第１基板と第２基板との間に設けられた表示層を複数の空間に区画する隔壁の一部と対向するようにした。これにより、隣り合う第２電極の間隙に位置する隔壁によって区画された空間の割合が低減される。

本開示の表示装置の製造方法では、複数の第２電極上に、表示層、表示層を複数の空間に区画する隔壁および第２基板を形成したのち、複数の第１電極が形成された第１基板を貼り合わせるようにした。これにより、隣り合う第２電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向した表示装置を容易に形成することが可能となる。これにより、隣り合う第２電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とを容易に対向配置させることが可能となる。

本開示の表示装置および電子機器によれば、第１基板上に互いに積層された複数の第１電極および第２電極を設け、隣り合う第２電極の間隙の少なくとも一部と、表示層を複数の空間に区画する隔壁の一部とが対向するようにしたので、隔壁によって区画される空間が隣り合う第２電極の間隙に位置する割合が低減される。よって、表示品位を向上させることが可能となる。

本開示の表示装置の製造方法によれば、複数の第２電極上に、表示層、表示層を複数の空間に区画する隔壁および第２基板を形成したのち、複数の第１電極が形成された第１基板を貼り合わせるようにしたので、隣り合う第２電極の間隙の少なくとも一部と、隔壁の一部とが対向した表示装置を容易に製造することが可能となる。

なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果であってもよい。

本開示の第１の実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面模式図である。 図１に示した泳動粒子を含む電気泳動素子の構成を表す平面模式図である。 図１に示した表示装置の製造工程を表わす断面図である。 図１に示した表示装置の画素電極の配置を表す平面模式図である。 図３Ａに続く工程を表す断面図である。 図４Ａに続く工程を表す断面図である。 図４Ｂに続く工程を表す断面図である。 図４Ｃに続く工程を表す断面図である。 図１に示した表示装置のＴＦＴ基板の製造工程を表わす断面図である。 図５Ａに続く工程を表す断面図である。 図４Ｃに続く工程を表す断面図である。 図１に示した表示装置のコンタクト電極の配置を表す平面模式図である。 本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の製造工程を表わす断面図である。 図７Ａに続く工程を表す断面図である。 図７Ｂに続く工程を表す断面図である。 本開示の変形例に係る表示装置の平面構成を表す模式図である。 適用例１の外観の一例を表す斜視図である。 適用例１の外観の他の例を表す斜視図である。 適用例２の外観を表す斜視図である。

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（画素電極とコンタクト電極とが積層されると共に、隣り合う画素電極の間隙と、隔壁とが対向配置されている表示装置）
１−１．表示装置の構成
１−２．製造方法
１−３．表示装置の動作
１−４．作用・効果
２．第２の実施の形態（コンタクト電極の形成方法の他の例）
３．変形例（コンタクト電極の他の配設パターン例）
４．適用例

＜１．実施の形態＞
（１−１．表示装置の構成）
図１は、本開示の第１の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の断面構成を模式的に表したものである。この表示装置１は、電気泳動現象を利用して画像（例えば文字情報等）を表示する電気泳動型ディスプレイ（いわゆる電子ペーパーディスプレイ）である。表示装置１は、駆動基板１０と対向基板３０との間に配置された表示シート２０（表示層）に表示素子として電気泳動素子２４を有する。本実施の形態では、駆動基板１０上には複数のコンタクト電極１２（第１電極）および複数の画素電極２１（第２電極）が設けられており、コンタクト電極１２と画素電極２１は互いに積層された構成を有する。更に、表示シート２０には、複数の空間に区画する隔壁２３が設けられており、この隔壁２３は隣り合う画素電極２１の間隙との対向位置に設けられた構成を有する。図１は、表示装置１の構成を模式的に表したものであり、実際の寸法および形状とは異なる場合がある。

駆動基板１０は、例えば板状のＴＦＴ基板１１の一方の面に複数のコンタクト電極１２が設けられており、この複数のコンタクト電極１２上には複数の画素電極２１が積層されている。ＴＦＴ基板１１には、例えば板状部材１１１の一方の一面に、例えばゲート電極１１２、ゲート絶縁膜１１３、半導体層１１４およびソース・ドレイン電極（ソース電極１１５Ｓおよびドレイン電極１１５Ｄ）を有するＴＦＴ（Thin Film Transistor）１１０、平坦化膜１１６がこの順に設けられている。ＴＦＴ１１０および画素電極２１は、例えば画素配置に応じてマトリクス状に配置されており、同様にマトリクス状に配置されたコンタクト電極１２を介して電気的に接続されている。

板状部材１１１は、例えば、無機材料，金属材料またはプラスチック材料等により構成されている。無機材料としては、例えば、ケイ素（Ｓｉ），酸化ケイ素（ＳｉＯ_X），窒化ケイ素（ＳｉＮ_X）または酸化アルミニウム（ＡｌＯ_X）等が挙げられる。酸化ケイ素には、ガラスまたはスピンオングラス（ＳＯＧ）等が含まれる。金属材料としては、例えば、アルミニウム（Ａｌ）、ニッケル（Ｎｉ）またはステンレス等が挙げられ、プラスチック材料としては、例えば、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリアセタール類、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエチルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）またはポリオレフィン等が挙げられる。この他、セルロースナノファイバー基板を用いてもよい。

なお、表示装置１では、対向基板３０側に画像が表示されるため、板状部材１１１は非光透過性であってもよい。板状部材１１１を、ウェハ等の剛性を有する基板により構成してもよく、あるいは可撓性を有する薄層ガラスまたはフィルム等により構成してもよい。板状部材１１１に可撓性材料を用いることにより、フレキシブル（折り曲げ可能）な表示装置１を実現できる。

ＴＦＴ１１０は、例えば画素を選択するためのスイッチング用素子であり、例えば画素毎に設けられている。ＴＦＴ１１０は、チャネル層として無機半導体層を用いた無機ＴＦＴでもよいし、有機半導体層を用いた有機ＴＦＴでもよい。平坦化膜１１６は、例えば、ポリイミド等の絶縁性樹脂材料により構成されている。ＴＦＴ１１０と平坦化膜１１６との間には、半導体層１１４を被覆する保護膜を設けてもよい。

コンタクト電極１２は、上記のようにＴＦＴ１１０と画素電極２１とを電気的に接続するためのものである。コンタクト電極１２の材料としては、例えば金（Ａｕ）、銀（Ａｇ），モリブデン（Ｍｏ）または銅（Ｃｕ）等の金属材料が挙げられる。あるいは、ポリチオフェン系導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等の有機導電性材料や金属粒子と有機導電性材料との混合材料を用いてもよい。

画素電極２１は、例えばＡｕ、Ａｇ，ＭｏまたはＣｕ等の金属材料からなる単層膜あるいは積層膜により形成されている。画素電極２１は、平坦化膜１１６に設けられたコンタクトホール１１６Ａ内に設けられたコンタクト電極１２を介してＴＦＴ１１０に接続されている。ここで、画素電極２１は、例えば表示シート２０に設けられた隔壁２３が区画する空間（セル２３Ａ）と略同一の大きさおよび形状を有している。これに対して、コンタクト電極１２は、画素電極２１とＴＦＴ１１０とを電気的に接続することができればよいため、例えば画素電極２１よりも小さく形成することが好ましい。このように、画素電極２１がコンタクト電極１２よりも大きく形成されていることより、画素電極２１に対するコンタクト電極１２のアライメントマージンが大きくなり、位置合わせが容易となる。

画素電極２１上には、粘着層２２が配置されており、これによって駆動基板１０と表示シート２０とが貼り合わされている。粘着層２２の材料としては、例えば高分子ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。

表示シート２０には、上記のように、表示シート２０を複数の空間に区画する隔壁２３が設けられており、隔壁２３によって区画された空間（セル２３Ａ）には、それぞれ電気泳動素子２４が設けられている。

隔壁２３は、表示シート２０（具体的には、表示領域）を、例えば駆動基板１０側から対向基板３０側に延在することによって１または複数の空間に区画すると共に、表示シート２０のＺ軸方向の厚みを支持するためのものである。セル２３Ａには、それぞれ電気泳動素子２４を構成する泳動粒子２４１等が収容されている。セル２３Ａの数および配列パターンは、特に限定されない。但し、セル２３Ａを効率よく配置するため、セル２３Ａはマトリクス状（複数行×複数列の配置）に配列されていることが好ましい。また、セル３６の形状（開口形状）は、特に限定されず、矩形でもよいし、他の形状（六角形等）でもよい。具体的には、セル２３Ａは、例えば画素毎配置されており、駆動基板１０側には、セル２３Ａの形状と略同一の画素電極２１が形成されている。

隔壁２３の形成材料は、電気泳動素子２４の動作性能等に影響を及ぼさない材料であれば、特に限定されないが、成形加工に優れた樹脂等であることが好ましく、例えば、紫外線硬化性樹脂等（フォトリソグラフィ用のレジストを含む）を用いることが好ましい。この他、紫外線以外の光硬化性樹脂あるいは熱可塑性樹脂を用いてもよい。

隔壁２３のピッチおよび高さは、特に限定されず、任意に設定可能である。一例を挙げると、隔壁２３のピッチは、例えば３０μｍ〜３００μｍ、好ましくは６０μｍ〜１５０μｍであり、隔壁２３の高さは、例えば１０μｍ〜１００μｍ、好ましくは３０μｍ〜５０μｍである。各隔壁２３の高さは、ほぼ均一であることが好ましい。駆動基板１０と対向基板３０との間の距離（いわゆるギャップ）が一定になるため、電界強度が均一化されるからである。これにより、表示領域内における応答速度のムラが改善される。

なお、図１では、隔壁２３が隣り合う画素電極２１の間隙に対向する位置の全てに設けられている例を示したが、画素電極２１の間隙部分に必ずしも隔壁２３が設けられていなくてもよい。また、隔壁２３が駆動基板１０側の面において連続しているものとして示したが、画素電極２１上に残存する隔壁２３部分は完全に除去されていてもよい。

次に、電気泳動素子２４について説明する。図２は、電気泳動素子２４の平面構成を模式的に表わしたものであ電気泳動素子２４は、電気泳動現象を利用してコントラストを生じさせるものである。電気泳動素子２４は、絶縁性液体２４３中に、泳動粒子２４１と、細孔２４２Ｈを有する多孔質層２４２とを含んでいる。絶縁性液体２４３は、駆動基板１０と対向基板３０との間の空間に充填されており、多孔質層２４２は、例えば隔壁２３によって支持されている。

絶縁性液体２４３が充填されている空間は、例えば、多孔質層２４２を境界として、画素電極２１に近い側の待避領域Ｒ１と、対向電極３２に近い側の表示領域Ｒ２とに区分けされている。なお、図１では、図示内容を簡略化するために、細孔２４２Ｈの一部だけを示している。

絶縁性液体２４３は、例えば、パラフィンまたはイソパラフィン等の有機溶媒により構成されている。絶縁性液体２４３には、１種類の有機溶媒を用いてもよく、あるいは複数種類の有機溶媒を用いるようにしてもよい。絶縁性液体２４３の粘度および屈折率は、できるだけ低くすることが好ましい。絶縁性液体２４３の粘度を低くすると泳動粒子２４１の移動性（応答速度）が向上する。また、これに応じて泳動粒子２４１の移動に必要なエネルギー（消費電力）は低くなる。絶縁性液体２４３の屈折率を低くすると、絶縁性液体２４３と多孔質層２４２との屈折率の差が大きくなり、多孔質層２４２の反射率が高くなる。

絶縁性液体２４３には、例えば、着色剤，電荷調整剤，分散安定剤，粘度調整剤，界面活性剤または樹脂等を添加するようにしてもよい。

泳動粒子２４１は、１または２以上の荷電粒子であり、電界に応じ細孔２４２Ｈを経て移動する。泳動粒子２４１は、例えば任意の光学的反射特性（光反射率）を有しており、泳動粒子２４１の光反射率と、多孔質層２４２の光反射率との違いによりコントラスト（ＣＲ）が生じるようになっている。例えば、泳動粒子２４１が明表示し、多孔質層２４２が暗表示するようにしてもよく、泳動粒子２４１が暗表示し、多孔質層２４２が明表示するようにしてもよい。

外部から電気泳動素子２４を見ると、泳動粒子２４１が明表示する場合には泳動粒子２４１は、例えば、白色または白色に近い色に視認され、暗表示する場合には、例えば、黒色または黒色に近い色に視認される。このような泳動粒子２４１の色は、コントラストを生じさせることができれば特に限定されない。例えば、赤色や青色でもかまわない。

泳動粒子２４１は、例えば、有機顔料，無機顔料，染料，炭素材料，金属材料，金属酸化物，ガラスまたは高分子材料（樹脂）等の粒子（粉末）により構成されている。泳動粒子２４１に、これらのうちの１種類を用いてもよく、または２種類以上を用いてもよい。泳動粒子２４１を、上記粒子を含む樹脂固形分の粉砕粒子またはカプセル粒子等により構成することも可能である。なお、上記炭素材料，金属材料，金属酸化物，ガラスまたは高分子材料に該当する材料は、有機顔料，無機顔料または染料に該当する材料から除く。泳動粒子２４１の粒径は、例えば１０ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは、５０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である。

上記の有機顔料は、例えば、アゾ系顔料、メタルコンプレックスアゾ系顔料、ポリ縮合アゾ系顔料、フラバンスロン系顔料、ベンズイミダゾロン系顔料、フタロシアニン系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン系顔料、ペリノン系顔料、アントラピリジン系顔料、ピランスロン系顔料、ジオキサジン系顔料、チオインジゴ系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料またはインダンスレン系顔料等である。無機顔料は、例えば、亜鉛華、アンチモン白、鉄黒、硼化チタン、ベンガラ、マピコエロー、鉛丹、カドミウムエロー、硫化亜鉛、リトポン、硫化バリウム、セレン化カドミウム、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、クロム酸鉛、硫酸鉛、炭酸バリウム、鉛白またはアルミナホワイト等である。染料は、例えば、ニグロシン系染料、アゾ系染料、フタロシアニン系染料、キノフタロン系染料、アントラキノン系染料またはメチン系染料等である。炭素材料は、例えば、カーボンブラック等である。金属材料は、例えば、金、銀または銅等である。金属酸化物は、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、銅−クロム酸化物、銅−マンガン酸化物、銅−鉄−マンガン酸化物、銅−クロム−マンガン酸化物または銅−鉄−クロム酸化物等である。高分子材料は、例えば、可視光領域に光吸収域を有する官能基が導入された高分子化合物等である。可視光領域に光吸収域を有する高分子化合物であれば、その種類は特に限定されない。

泳動粒子２４１の具体的な材料は、例えば、泳動粒子２４１がコントラストを生じさせるために担う役割に応じて選択される。泳動粒子２４１が明表示する場合、泳動粒子２４１には例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、チタン酸バリウムまたはチタン酸カリウム等の金属酸化物等が用いられる。泳動粒子２４１が暗表示する場合、泳動粒子２４１には例えば、カーボンブラック等の炭素材料または銅−クロム酸化物、銅−マンガン酸化物、銅−鉄−マンガン酸化物、銅−クロム−マンガン酸化物および銅−鉄−クロム酸化物等の金属酸化物等が用いられる。中でも、泳動粒子２４１には炭素材料を用いることが好ましい。炭素材料からなる泳動粒子２４１は、優れた化学的安定性、移動性および光吸収性を示す。

絶縁性液体２４３中における泳動粒子２４１の含有量（濃度）は、特に限定されないが、例えば０．１重量％〜１０重量％である。この濃度範囲では、泳動粒子２４１の遮蔽性および移動性が確保される。詳細には、泳動粒子２４１の含有量が０．１重量％よりも少ないと、泳動粒子２４１が多孔質層２４２を遮蔽（隠蔽）しにくくなり、十分にコントラストを生じさせることができない可能性がある。一方、泳動粒子２４１の含有量が１０重量％よりも多いと、泳動粒子２４１の分散性が低下するため、その泳動粒子２４１が泳動しにくくなり、凝集する虞がある。

なお、泳動粒子２４１は、絶縁性液体２４３中における分散性を向上させるために、さらに表面処理がされていてもよい。この表面処理は、例えばロジン処理、界面活性剤処理、顔料誘導体処理、カップリング剤処理、グラフト重合処理またはμｍカプセル化処理等である。特に、グラフト重合処理、μｍカプセル化処理またはこれらを組み合わせて処理を行うことにより、泳動粒子２４１の長期間の分散安定性をさらに向上させることができる。

泳動粒子２４１は、絶縁性液体２４３中で長期間に渡って分散および帯電しやすく、また、多孔質層２４２に吸着しにくいことが好ましい。このため、例えば絶縁性液体２４３中に分散剤が添加される。分散剤と電荷調整剤とを併用するようにしてもよい。

この分散剤または電荷調整剤は、例えば、正、負のどちらか一方、または両方の電荷を有しており、絶縁性液体２４３中の帯電量を増加させると共に、静電反発により泳動粒子２４１を分散させるためのものである。このような分散剤として、例えば、Ｌｕｂｒｉｚｏｌ社製のＳｏｌｓｐｅｒｃｅシリーズ、ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｃ社製のＢＹＫシリーズまたはＡｎｔｉ−Ｔｅｒｒａシリーズ、あるいはＴＣＩ Ａｍｅｒｉｃａ社製Ｓｐａｎシリーズ、Ｃｒｏｄａ社製Ｈｙｐｅｒｍｅｒシリーズ等が挙げられる。

上記泳動粒子２４１を絶縁性液体２４３中に分散させる方法の詳細については、「超微粒子の分散技術とその評価〜表面処理・微粉砕と気中／液中／高分子中の分散安定化〜（サイエンス＆テクノロジー社）」等の書籍に掲載されている。

多孔質層２４２は泳動粒子２４１を遮蔽可能なものであり、繊維状構造体２４２Ａおよび繊維状構造体２４２Ａに保持された非泳動粒子２４２Ｂを有している。この多孔質層２４２は、繊維状構造体２４２Ａにより形成された３次元立体構造物（不織布のような不規則なネットワーク構造物）であり、複数の隙間（細孔２４２Ｈ）が設けられている。繊維状構造体２４２Ａにより、多孔質層２４２の３次元立体構造を構成することで、光（外光）が乱反射（多重散乱）し、多孔質層２４２の反射率が高くなる。従って、多孔質層２４２の厚みが小さい場合であっても高反射率を得ることができ、電気泳動素子２４のコントラストを向上させると共に泳動粒子２４１の移動に必要なエネルギーを小さくすることができる。また、細孔２４２Ｈの平均孔径が大きくなり、かつ多くの細孔２４２Ｈが多孔質層２４２に設けられる。これにより、泳動粒子２４１が細孔２４２Ｈを経由して移動し易くなり、応答速度が向上すると共に、泳動粒子２４１を移動させるために必要なエネルギーがより小さくなる。このような多孔質層２４２の厚みは、例えば、５μｍ〜１００μｍである。

繊維状構造体２４２Ａは、繊維径（直径）に対して十分な長さを有する繊維状物質である。例えば、複数の繊維状構造体２４２Ａが集合し、ランダムに重なって多孔質層２４２を構成する。１つの繊維状構造体２４２Ａがランダムに絡みあって多孔質層２４２を構成していてもよい。あるいは、１つの繊維状構造体２４２Ａによる多孔質層２４２と複数の繊維状構造体２４２Ａによる多孔質層２４２とが混在していてもよい。

繊維状構造体２４２Ａは例えば直線状に延在している。繊維状構造体２４２Ａの形状は、どのようなものであってもよく、例えば、縮れていたり、途中で折れ曲がったりしていてもよい。あるいは、繊維状構造体２４２Ａは途中で分岐していてもよい。

繊維状構造体２４２Ａの最小繊維径は、例えば５００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３００ｎｍ以下である。平均繊維径は、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下であることが好ましいが、上記範囲外であってもよい。平均繊維径を小さくすることにより、光が乱反射し易くなり、また、細孔２４２Ｈの孔径が大きくなる。繊維状構造体２４２Ａが非泳動粒子２４２Ｂを保持できるよう、その繊維径を決定する。平均繊維径は、例えば、走査型電子顕微鏡等を用いた顕微鏡観察により測定することができる。繊維状構造体２４２Ａの平均長さは任意である。繊維状構造体２４２Ａは、例えば、相分離法，相反転法，静電（電界）紡糸法，溶融紡糸法，湿式紡糸法，乾式紡糸法，ゲル紡糸法，ゾルゲル法またはスプレー塗布法等により形成される。このような方法を用いることにより、繊維径に対して十分な長さを有する繊維状構造体２４２Ａを容易に、かつ安定して形成することができる。

繊維状構造体２４２Ａは、高分子材料および無機材料の少なくとも一方により形成されており、特に、ナノファイバーにより構成することが好ましい。ここでナノファイバーとは、繊維径が１ｎｍ〜１０００ｎｍであり、長さが繊維径の１００倍以上である繊維状物質である。このようなナノファイバーを繊維状構造体２４２Ａとして用いることにより、光が乱反射し易くなり、多孔質層２４２の反射率をより向上させることができる。即ち、電気泳動素子２４のコントラストを向上させることが可能となる。また、ナノファイバーからなる繊維状構造体２４２Ａでは、単位体積中に占める細孔２４２Ｈの割合が大きくなり、細孔２４２Ｈを経由して泳動粒子２４１が移動し易くなる。従って、泳動粒子２４１の移動に必要なエネルギーを小さくすることができる。ナノファイバーからなる繊維状構造体２４２Ａは、静電紡糸法により形成することが好ましい。静電紡糸法を用いることにより繊維径が小さい繊維状構造体２４２Ａを容易に、かつ安定して形成することができる。

繊維状構造体２４２Ａには、その光反射率が泳動粒子２４１の光反射率と異なるものを用いることが好ましい。これにより、多孔質層２４２と泳動粒子２４１との光反射率の差によるコントラストが形成され易くなる。絶縁性液体２４３中で光透過性（無色透明）を示す繊維状構造体２４２Ａを用いるようにしてもよい。

細孔２４２Ｈは、複数の繊維状構造体２４２Ａが重なり合い、または１つの繊維状構造体２４２Ａが絡まりあうことにより構成されている。この細孔２４２Ｈは、泳動粒子２４１が細孔２４２Ｈを経て移動し易いよう、できるだけ大きな平均孔径を有していることが好ましい。細孔２４２Ｈの平均孔径は、例えば、０．１μｍ以上１０μｍ以下である。

非泳動粒子２４２Ｂは、繊維状構造体２４２Ａに固定されており、電気泳動を行わない１または２以上の粒子である。非泳動粒子２４２Ｂは、保持されている繊維状構造体２４２Ａの内部に埋設されていてもよく、あるいは、繊維状構造体２４２Ａから部分的に露出していてもよい。

非泳動粒子２４２Ｂには、その光反射率が泳動粒子２４１の光反射率と異なるものを用いる。非泳動粒子２４２Ｂは、上記泳動粒子２４１と同様の材料により構成することが可能である。詳細には、非泳動粒子２４２Ｂ（多孔質層２４２）が明表示する場合には上記泳動粒子２４１が明表示する場合の材料、非泳動粒子２４２Ｂが暗表示する場合には上記泳動粒子２４１が暗表示する場合の材料をそれぞれ用いることができる。多孔質層２４２により明表示を行うとき、非泳動粒子２４２Ｂを金属酸化物により構成することが好ましい。これにより、優れた化学的安定性、定着性および光反射性を得ることができる。非泳動粒子２４２Ｂ、泳動粒子２４１それぞれの構成材料は同じであってもよく、異なっていてもよい。非泳動粒子２４２Ｂが明表示または暗表示を行うときに外部から視認される色は、上記泳動粒子２４１について説明したものと同様である。

電気泳動素子２４は、上記のように、泳動粒子２４１の光反射率と多孔質層２４２の光反射率との差によりコントラストを生じさせるものである。具体的には、泳動粒子２４１および多孔質層２４２のうち、明表示する方の光反射率が暗表示する方の光反射率よりも高くなっている。このような表示を行うことにより、明表示がなされる際の光反射率が、多孔質層２４２（３次元立体構造物）による光の乱反射を利用して著しく高くなる。従って、これに応じ、コントラストも著しく向上する。

対向基板３０は、例えば板状部材３１および対向電極３２を有しており、板状部材３１の全面（駆動基板１０との対向面）に対向電極３２が設けられている。対向電極３２を、画素電極２１と同様に、マトリクス状またはセグメント状に配置するようにしてもよい。

板状部材３１は、光透過性であることを除き、板状部材１１１と同様の材料により構成されている。対向電極３２には、例えば、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ）、酸化アンチモン−酸化スズ（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）またはアルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）等の光透光性導電性材料（透明電極材料）を用いることができる。

対向基板３０側に画像を表示する場合には、対向電極３２を介して電気泳動素子２４を見ることになるため、対向電極３２の光透過性（透過率）は、できるだけ高いことが好ましく、例えば、８０％以上である。また、対向電極３２の電気抵抗は、できるだけ低いことが好ましく、例えば、１００Ω／□以下である。

（１−２．製造方法）
このような表示装置１は、例えば以下の方法により形成することができる。まず、図３Ａに示したように、支持基板４１上に犠牲層４２として金属酸化物膜（例えば、ＷＯｘ／ＭｏＯｘ膜）あるいは、有機絶縁膜（例えば、ＣＹＴＯＰ（登録商標））を成膜する。続いて、犠牲層４２上に金属材料（例えば、Ｃｕからなる単層膜あるいはＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの積層膜）を、例えば１５０ｎｍの厚みでスパッタリングにより成膜したのち、フォトリソグラフィ法を用いて図３Ａおよび図３Ｂに示したように互いに分離された複数の画素電極２１を形成する。次に、図４Ａに示したように、粘着層２２（例えば、東洋紡 バイロンＵＲ８７００（登録商標））を、例えばグラビアコート法により、例えば１０μｍの厚みで塗布したのち、乾燥させる。続いて、粘着層２２上に紫外線硬化性樹脂（例えば、日本化薬 ＳＵ−８（登録商標））を例えば１５μｍの厚みでグラビアコート法によって塗工したのち、支持基板４１の裏面から紫外線を照射して露光・現像を行う。これにより、図４Ｂに示したように、画素電極２１がマスクとなって自己整合的に隣り合う画素電極２１の間隙に隔壁２３が形成される。即ち、隣り合う画素電極２１の間隙と対向すると共に、隔壁２３の側面位置と、画素電極２１の側面位置とが一致した隔壁２３が形成される。

続いて、図４Ｃに示したように、隔壁２３によって形成されたセル２３Ａ内に泳動粒子２４１および多孔質層２４２を収容すると共に、絶縁性液体２４３を充填する。次に、図４Ｄに示したように対向電極３２を備えた対向基板３０にてセル２３Ａを封止したのち、画素電極２１から支持基板４１を剥離する。

図５Ａおよび図５Ｂは、駆動基板１０側の加工工程を表したものである。まず、図５Ａに示したように、板状部材１１１上に、一般的な方法を用いてゲート電極１１２、ゲート絶縁膜１１３、半導体層１１４およびソース・ドレイン電極（ソース電極１１５Ｓおよびドレイン電極１１５Ｄ）をこの順に形成したのち、平坦化膜１１６を形成する。続いて、例えばフォトリソグラフィ法を用いて平坦化膜１１６を貫通するコンタクトホール１１６Ａを形成したのち、平坦化膜１１６上およびコンタクトホール１１６Ａ内に、金属材料（例えば、ＣｕあるいはＭｏ／Ａｌ／Ｍｏの積層膜）を、例えばスパッタリングにより成膜したのち、例えばエッチングにより、図６Ａおよび図６Ｂに示したように互いに分離された複数のコンタクト電極１２を形成する。

なお、コンタクト電極１２の形状は図６Ｂに示したような円形状に限定されず、例えば矩形形状としてもよい。また、コンタクト電極１２は、画素電極２１よりも小さく形成することが好ましい。例えば、画素電極２１およびコンタクト電極１２を、それぞれ正方形状として形成する場合、画素電極２１の一辺をＡμｍ、コンタクト電極１２の一辺をＢμｍとして形成すると、ＸＹ方向に（Ａ−Ｂ）μｍのアライメントマージンが形成される。理想的には、位置合わせ精度の観点から、画素電極２１は、例えば一辺が５０μｍ〜５０００μｍの範囲とすることが好ましく、コンタクト電極は、例えば一辺１０μｍ〜５０μｍの範囲とすることが好ましい。

次に、図５Ｂに示したように、例えばコンタクト電極１２の形成部分を除いた平坦化膜１１６の高さｈが、板状部材１１１からコンタクト電極１２の表面までの高さＨよりも低くなるように、平坦化膜１１６を、例えばエッチング法を用いて薄膜化する。これにより、画素電極２１とＴＦＴ１１０との電気的な接触不良の発生が低減される。最後に、コンタクト電極１２まで形成した駆動基板１０を表示シート２０と貼り合わせることにより、図１に示した表示装置１が完成する。なお、コンタクト電極１２と画素電極２１とは、互いに直接積層されていてもよいし、間に、例えば接着層等を介していていもよい。

なお、有機材料を用いて成膜方法は、上記方法の他に、スピンコート法，エアドクタコーター法、ブレードコーター法、ロッドコーター法、ナイフコーター法、スクイズコーター法、リバースロールコーター法、トランスファーロールコーター法、グラビアコーター法、キスコーター法、キャストコーター法、スプレーコーター法、スリットオリフィスコーター法、カレンダーコーター法、浸漬法等の塗布法の他、化学的気相成長法や蒸着重合法等の真空プロセスを用いてもよい。

（１−３．表示装置の動作）
電気泳動素子２４内では、具体的には泳動粒子２４１が下記のような挙動を示すことによって表示がなされる。泳動粒子２４１は、一対の電極間に電圧が印加されると、それによって生じた電界の範囲内で多孔質層２４２の細孔を経て対応する電極側に移動する。泳動粒子２４１の移動した領域、移動しない領域に応じて、明表示および暗表示のうちのどちらか一方がなされ、画像が表示される。なお、非泳動粒子２４２Ｂの光反射率を、泳動粒子２４１よりも高くして、多孔質層２４２で明表示し、泳動粒子２４１で暗表示することが好ましい。

初期状態の表示装置１では、泳動粒子２４１が待避領域Ｒ１に配置されている。この場合には、全ての画素で泳動粒子２４１が多孔質層２４２により遮蔽されているため、対向基板３０側から電気泳動素子２４を見ると、コントラストが生じていない（画像が表示されていない）状態にある。

一方、ＴＦＴ１１０により画素が選択され、画素電極２１と対向電極３２との間に電界が印加されると、画素毎に泳動粒子２４１が待避領域Ｒ１から多孔質層２４２（細孔２４２Ｈ）を経由して表示領域Ｒ２に移動する。この場合には、泳動粒子２４１が多孔質層２４２により遮蔽されている画素と遮蔽されていない画素とが併存するため、対向基板３０側から電気泳動素子２４を見ると、コントラストが生じている状態になる。これにより、画像が表示される。

この表示装置１によれば、例えば各セル２３Ａに異なる色の泳動粒子２４１を収容することにより、カラー表示が可能な表示装置を構成することができる。

（１−４．作用・効果）
電気泳動現象を利用した電気泳動型ディスプレイには、前述したように、表示不良の問題がある。この表示不良（例えば、エッジゴーストやブルーミング）は、分割形成されている電極の間に位置する泳動粒子の移動不良や、隣り合う画素間で発生する横電界によって泳動粒子の想定外の挙動によって起こる。これは、例えば画素毎にＲＧＢＷや、ＣＭＹＫの塗り分けによってカラー表示が可能な電気泳動型ディスプレイにおける混色の発生の原因にもなる。エッジゴーストやブルーミングの原因は、背面側の基板に形成された画素電極と表示シートに形成されている隔壁構造の位置が一致していないためと考えられている。

この問題を解決するために、前述した画素電極の端部を隔壁によって覆い、この隔壁によって画素を環囲した電気泳動方式表示装置や、隔壁のピッチを背面側の電極（画素電極）よりも十分に小さくした表示装置等が開発されている。しかしながら、これら表示装置においてもエッジゴーストやブルーミングによる表示不良を十分に改善することは難しく、さらに製造歩留まりの低下やコストの増加、あるいは、隔壁の占有面積の層化による反射率およびコントラストの低下等の新たな課題が生じるという問題があった。

この他、フラッシングと呼ばれる表示画面を全白および全黒に複数回切り替えを行う駆動方法によって表示不良を緩和させる方法が開発されている。しかし、フラッシング動作自体が表示品位や切り替え速度を低下させるという問題があった。また、この方法は、カラー表示を行う電気泳動型ディスプレイへの応用は困難であった。

これに対して、本実施の形態では、駆動基板１０に、互いに積層された複数のコンタクト電極１２および画素電極２１を設け、この複数の画素電極２１の間隙の少なくとも一部と、表示シート２０に設けられた隔壁２３の一部とを対向配置するようにした。このような隔壁２３は、例えばマトリクス状に配置された複数の画素電極２１をマスクとした露光・現像によって設けられる。これによって、隔壁２３によって区画されるセル２３Ａが隣り合う画素電極２１の間隙に位置する割合が低減される。即ち、画素電極２１の間隙に位置する泳動粒子２４１の確率が低減される。

以上、本実施の形態の表示装置１およびその製造方法では、駆動基板１０に互いに積層された複数のコンタクト電極１２および画素電極２１を設け、この複数の画素電極２１の間隙の少なくとも一部と、表示シート２０に設けられた隔壁２３の一部とを対向配置するようにした。これによって、画素電極２１の間隙に位置する泳動粒子２４１の確率が低減され、エッジゴーストやブルーミング等の発生を低減することが可能となる。よって、表示品位の向上した表示装置を提供することが可能となる。

また、画素電極２１をマスクとした露光・現像によって隔壁２３を形成することにより、画素電極２１の側面と、隔壁２３の側面とが一致、換言すると、画素電極２１の平面形状と、隔壁２３によって区画されるセル２３Ａの平面形状とが一致した表示装置１を容易に製造することが可能となる。更に、画素電極２１の平面形状と、隔壁２３によって区画されるセル２３Ａの平面形状とが一致していることで、泳動粒子２４１が隣り合う画素間に生じる横電界に影響を受けることを低減することが可能となる。

更にまた、画素電極２１に対してコンタクト電極１２を小さく形成することにより、画素電極２１とコンタクト電極１２との位置合わせが容易となり、製造歩留まりを向上させることが可能となる。

また、ＴＦＴ基板１１を構成する板状部材１１１からコンタクト電極１２が突出する、具体的には、コンタクト電極１２の表面までの高さＨが他の領域の高さｈよりも高くなるようにコンタクト電極１２の周辺領域を薄膜化することにより、ＴＦＴ１１０（具体的には、コンタクト電極１２）と画素電極２１との接触不良が低減される。よって、信頼性の向上した表示装置１を提供することが可能となる。

＜２．第２の実施の形態＞
図７Ａ〜図７Ｃは、本開示の第２の実施の形態に係る表示装置の製造工程の一部（コンタクト電極５２の製造工程）を表したものである。本実施の形態では、コンタクト電極５２を、例えば印刷プロセスを用いて形成することにより、コンタクト電極５２と画素電極２１との接触不良をさらに低減可能なコンタクト電極５２を形成することが可能となる。

コンタクト電極５２は、ＴＦＴ１１０と画素電極２１とを電気的に接続するためのものである。コンタクト電極５２の材料としては、印刷プロセスを用いての形成が可能な導電性材料を選択することが好ましく、また、弾性を有する材料を選択することが好ましい。このような材料としては、例えばポリチオフェン系導電性ポリマー（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）等の有機導電性材料や金属粒子と有機導電性材料との混合材料が挙げられる。

コンタクト電極５２は、例えば以下の方法により形成することができる。まず、図７Ａに示したように板状部材１１１上にＴＦＴ１１０を形成する。続いて、図７Ｂに示したように、ドレイン電極１１５Ｄ上に、例えばスクリーン印刷法を用いて、例えば電極径が１０μｍ〜３０μｍ、高さ１〜４μｍ程度のコンタクト電極５２を形成する。次に、板状部材１１１上に、一般的な層間絶縁膜材料、例えばアクリル樹脂やポリイミドを塗布し、例えば１μｍ程度の平坦化膜１１６を形成する。このとき、アクリル樹脂やポリイミド等の絶縁性材料を溶解させる溶剤を適宜選択することで、表面エネルギーおよび濡れ性の違いによって、コンタクト電極５２の周囲に間隙を有する平坦化膜１１６が形成される。一例として、コンタクト電極５２の材料としてＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを用いる場合には、上記絶縁性材料は、脂肪族炭化水素やシクロヘキサン等の非極性溶剤に溶解させて用いることが好ましい。これにより、フォトリソグラフィ法等のコストの高い製造工程を利用することなく、コンタクトホール１１６Ａを形成することが可能となる。

以上、本実施の形態では、コンタクト電極５２を、印刷プロセスを用いて形成することにより、上記第１の実施の形態における効果に加えて、コンタクト電極５２と画素電極２１との接触不良をさらに低減可能なコンタクト電極５２を容易に形成することが可能となるという効果を奏する。特に、コンタクト電極５２の材料として、弾性を有する材料を用いることにより、より確実にコンタクト電極５２と画素電極２１とを接触させることが可能となる。

また、印刷プロセスを用いた場合、コンタクト電極５２の電極径を小さく形成することが可能となるため、画素電極２１との貼り合わせ時におけるアライメントマージンをより拡大させることが可能となる。よって、より高歩留まりな表示装置の製造方法および信頼性が向上した表示装置を提供することが可能となる。

＜３．変形例＞
図８は、本変形例に係る表示装置のコンタクト電極６２の配設パターンを表したものである。上記第１の実施の形態では、画素毎にＴＦＴ１１０を形成したため、コンタクト電極１２を画素電極２１と同様にマトリクス状に形成した。本変形例では、例えば表示領域の外の周辺領域にＴＦＴ１１０を形成し、そこから例えば、Ｙ軸方向に延伸する、いわゆるセグメント上に配設された複数のコンタクト電極６２を形成するようにしてもよい。このとき、コンタクト電極６２のＸ軸方向の幅ｗは、上記実施の形態と同様に、画素電極２１のＸ軸方向の幅Ｗよりも十分に小さくすることが好ましい。これにより、コンタクト電極６２と画素電極２１との貼り合わせ時におけるアライメントマージンを拡大することが可能となる。

＜４．適用例＞
次に、本開示の表示装置１の適用例について説明する。本開示の表示装置１は、各種用途の電子機器に適用可能であり、その電子機器の種類は特に限定されない。この表示装置１は、例えば、以下の電子機器に搭載可能である。ただし、以下で説明する電子機器の構成はあくまで一例であるため、その構成は適宜変更可能である。

（適用例１）
図９Ａ，９Ｂは、電子ブックの外観構成を表している。この電子ブックは、例えば、表示部２１０および非表示部２２０と、操作部２３０とを備えている。なお、操作部２３０は、図９Ａに示したように非表示部２２０の前面に設けられていてもよいし、図９Ｂに示したように上面に設けられていてもよい。表示部２１０が表示装置１により構成される。なお、表示装置１は、図９Ａ，９Ｂに示した電子ブックと同様の構成を有するＰＤＡ（Personal Digital Assistants）等に搭載されてもよい。

（適用例２）
図１０は、タブレットパーソナルコンピュータの外観を表したものである。このタブレットパーソナルコンピュータは、例えば、タッチパネル部３１０および筐体３２０を有しており、タッチパネル部３１０が上記表示装置１により構成されている。

以上、第１，第２の実施の形態および変形例を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。

なお、本明細書中に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものではなく、また、他の効果があってもよい。

なお、本開示は、以下のような構成であってもよい。
（１）
第１基板と、
前記第１基板の上に設けられた複数の第１電極と、
前記複数の第１電極の上に設けられた複数の第２電極と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた表示層と、
前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
隣り合う前記第２電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
表示装置。
（２）
前記複数の第２電極のうちの少なくとも一つの端面は前記隔壁の側面と一致している、前記（１）に記載の表示装置。
（３）
前記第２電極は前記第１電極よりも大きい、前記（１）または（２）に記載の表示装置。
（４）
前記第１基板は、前記表示層に前記複数の第２電極ごとに電圧を印加する駆動素子と、前記駆動素子の上に形成された絶縁層とを有し、
前記第１電極は、前記絶縁層の表面より突出している、前記（１）乃至（３）のうちのいずれかに記載の表示装置。
（５）
前記第１電極は、前記駆動素子と電気的に接続されている、前記（４）に記載の表示装置。
（６）
前記第１電極は、有機導電性材料により形成されている、前記（１）乃至（５）のうちのいずれかに記載の表示装置。
（７）
前記表示層は、泳動粒子と、前記泳動粒子とは異なる反射特性を有する多孔質層とを有する、前記（１）乃至（６）のうちのいずれかに記載の表示装置。
（８）
前記多孔質層は、前記泳動粒子とは異なる光学的反射特性を有する非泳動粒子を含む、前記（７）に記載の表示装置。
（９）
第１基板上に複数の第１電極を形成する工程と、
複数の第２電極上に表示層、前記表示層を複数の空間に区画する隔壁および第２基板を形成する工程と、
前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせる工程とを含み、
隣り合う前記第２電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向するように形成する
表示装置の製造方法。
（１０）
前記第２電極上に樹脂膜を塗布したのち、前記第２電極をマスクとした露光・現像によって前記隔壁を形成する、前記（９）に記載の表示装置の製造方法。
（１１）
前記隔壁を形成したのち、前記隔壁によって区画される前記複数の空間に前記表示層を形成する、前記（９）または（１０）に記載の表示装置の製造方法。
（１２）
支持基板上に犠牲層を形成したのち、前記犠牲層の上に前記複数の第２電極、前記隔壁、前記表示層および前記第２基板をこの順に形成する、前記（９）乃至（１１）のうちのいずれかに記載の表示装置の製造方法。
（１３）
表示装置を備え、
前記表示装置は、
第１基板と、
前記第１基板の上に設けられた複数の第１電極と、
前記複数の第１電極の上に設けられた複数の第２電極と、
前記第１基板に対向配置された第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた表示層と、
前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
隣り合う前記第２電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
電子機器。

１…表示装置、１０…駆動基板、１１…ＴＦＴ基板、１２…コンタクト電極、２０…表示シート、２１…画素電極、２２…粘着層、２３…隔壁、２３Ａ…セル、２４…電気泳動素子、３０…対向基板、３１，１１１…板状部材、３２…対向電極、１１０…ＴＦＴ、１１２…ゲート電極、１１３…ゲート絶縁膜、１１４…半導体層、１１５Ｓ…ソース電極、１１５Ｄ…ドレイン電極、１１６…平坦化膜、２４１…泳動粒子、２４２…多孔質層、２４３…絶縁性液体、２４２Ａ…繊維状構造体、２４２Ｂ…非泳動粒子、２４２Ｈ…細孔。

Claims (13)

1. 第１基板と、
   前記第１基板の上に設けられた複数の第１電極と、
   前記複数の第１電極の上に設けられた複数の第２電極と、
   前記第１基板に対向配置された第２基板と、
   前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた表示層と、
   前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
   隣り合う前記第２電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
   表示装置。
2. 前記複数の第２電極のうちの少なくとも一つの端面は前記隔壁の側面と一致している、請求項１に記載の表示装置。
3. 前記第２電極は前記第１電極よりも大きい、請求項１に記載の表示装置。
4. 前記第１基板は、前記表示層に前記複数の第２電極ごとに電圧を印加する駆動素子と、前記駆動素子の上に形成された絶縁層とを有し、
   前記第１電極は、前記絶縁層の表面より突出している、請求項１に記載の表示装置。
5. 前記第１電極は、前記駆動素子と電気的に接続されている、請求項４に記載の表示装置。
6. 前記第１電極は、有機導電性材料により形成されている、請求項１に記載の表示装置。
7. 前記表示層は、泳動粒子と、前記泳動粒子とは異なる反射特性を有する多孔質層とを有する、請求項１に記載の表示装置。
8. 前記多孔質層は、前記泳動粒子とは異なる光学的反射特性を有する非泳動粒子を含む、請求項７に記載の表示装置。
9. 第１基板上に複数の第１電極を形成する工程と、
   複数の第２電極上に表示層、前記表示層を複数の空間に区画する隔壁および第２基板を形成する工程と、
   前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせる工程とを含み、
   隣り合う前記第２電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向するように形成する
   表示装置の製造方法。
10. 前記第２電極上に樹脂膜を塗布したのち、前記第２電極をマスクとした露光・現像によって前記隔壁を形成する、請求項９に記載の表示装置の製造方法。
11. 前記隔壁を形成したのち、前記隔壁によって区画される前記複数の空間に前記表示層を形成する、請求項９に記載の表示装置の製造方法。
12. 支持基板上に犠牲層を形成したのち、前記犠牲層の上に前記複数の第２電極、前記隔壁、前記表示層および前記第２基板をこの順に形成する、請求項９に記載の表示装置の製造方法。
13. 表示装置を備え、
    前記表示装置は、
    第１基板と、
    前記第１基板の上に設けられた複数の第１電極と、
    前記複数の第１電極の上に設けられた複数の第２電極と、
    前記第１基板に対向配置された第２基板と、
    前記第１基板と前記第２基板との間に設けられた表示層と、
    前記表示層を複数の空間に区画する隔壁とを備え、
    隣り合う前記第２電極の間隙の少なくとも一部と、前記隔壁の一部とが対向している
    電子機器。

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