JP2017075923A - Measurement device - Google Patents

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富樫 孝宏
Takahiro Togashi
孝宏 富樫
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a measurement device that can suppress increase of the size while detecting a terahertz wave applied to a sample efficiently.SOLUTION: A measurement device 1 includes: a single photoconductive element 110, which emits a terahertz wave THz1, polarizing in a first direction, to a sample 10 and detects a terahertz wave THz2, reflected from the sample to polarize in a second direction, to the sample; and a measurement part 150, which measures the characteristics of the sample based on the result of detecting the terahertz wave. The accuracy of detecting the terahertz wave THz2, which polarizes in the second direction, is higher than the accuracy of detecting the terahertz wave THz1, which polarizes in the first direction.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、例えばテラヘルツ波等の電磁波を用いて試料の特性を計測する計測装置の技術分野に関する。   The present invention relates to a technical field of a measuring apparatus that measures a characteristic of a sample using an electromagnetic wave such as a terahertz wave.

試料の特性を計測するための計測装置として、テラヘルツ波計測装置が知られている。テラヘルツ波計測装置は、以下の手順で、試料の特性を計測する。まず、テラヘルツ波発生素子は、テラヘルツ波を出射する。テラヘルツ波発生素子が出射したテラヘルツ波は、試料に照射される。試料に照射されたテラヘルツ波は、試料によって反射される。試料によって反射されたテラヘルツ波は、テラヘルツ波検出素子によって検出される。テラヘルツ波計測装置は、当該検出したテラヘルツ波(つまり、時間領域のテラヘルツ波であり、電流信号)を解析することで、試料の特性を計測する。   A terahertz wave measuring device is known as a measuring device for measuring the characteristics of a sample. The terahertz wave measuring apparatus measures the characteristics of the sample in the following procedure. First, the terahertz wave generating element emits terahertz waves. The terahertz wave emitted from the terahertz wave generating element is irradiated to the sample. The terahertz wave irradiated on the sample is reflected by the sample. The terahertz wave reflected by the sample is detected by the terahertz wave detecting element. The terahertz wave measuring apparatus measures the characteristics of the sample by analyzing the detected terahertz wave (that is, a terahertz wave in the time domain and a current signal).

試料に照射されるテラヘルツ波の光路(以降、“往路”と称する)と、試料によって反射されたテラヘルツ波の光路(以降、“復路”と称する)とが重なる場合がある。例えば、テラヘルツ波が試料の表面に対して垂直に照射される場合には、往路と復路とが重なる可能性が高い。往路と復路とが重なる場合には、テラヘルツ波発生素子が出射したテラヘルツ波が、テラヘルツ波検出素子ではなく、テラヘルツ波発生素子へ戻ってきてしまう。このため、テラヘルツ波計測装置は、往路を伝搬するテラヘルツ波と復路を伝搬するテラヘルツ波とを分離する(つまり、往路と復路とを分離する)ことが好ましい。   The optical path of the terahertz wave irradiated to the sample (hereinafter referred to as “outward path”) may overlap with the optical path of the terahertz wave reflected by the sample (hereinafter referred to as “return path”). For example, when the terahertz wave is irradiated perpendicularly to the surface of the sample, there is a high possibility that the forward path and the backward path overlap. When the forward path and the return path overlap, the terahertz wave emitted from the terahertz wave generating element returns to the terahertz wave generating element instead of the terahertz wave detecting element. For this reason, it is preferable that the terahertz wave measuring apparatus separates the terahertz wave propagating in the forward path and the terahertz wave propagating in the backward path (that is, separating the forward path and the backward path).

往路を伝搬するテラヘルツ波と復路を伝搬するテラヘルツ波とを分離するテラヘルツ波計測装置の一例が、特許文献1及び2に記載されている。   Patent Documents 1 and 2 describe an example of a terahertz wave measuring apparatus that separates a terahertz wave propagating in the forward path and a terahertz wave propagating in the return path.

特許文献1には、テラヘルツ波発生素子が出射したテラヘルツ波を試料に向けて反射すると共に、試料によって反射されたテラヘルツ波をテラヘルツ波検出素子に向けて透過させるハーフミラーを用いて、往路を伝搬するテラヘルツ波と復路を伝搬するテラヘルツ波とを分離するテラヘルツ波計測装置が記載されている。   In Patent Document 1, a terahertz wave emitted from a terahertz wave generating element is reflected toward a sample, and a half mirror that transmits the terahertz wave reflected by the sample toward the terahertz wave detecting element is used to propagate the forward path. A terahertz wave measuring device that separates a terahertz wave that propagates and a terahertz wave that propagates in the return path is described.

特許文献2には、偏光ビームスプリッタと、フレネルロムプリズムと、放物面鏡とを用いて、往路を伝搬するテラヘルツ波と復路を伝搬するテラヘルツ波とを分離するテラヘルツ波計測装置が記載されている。具体的には、偏光ビームスプリッタは、テラヘルツ波発生素子が出射したテラヘルツ波のうちのP偏光成分のみを試料に向けて透過させる。偏光ビームスプリッタを透過したテラヘルツ波は、フレネルロムプリズムを透過した後、試料によって反射される。試料によって反射されたテラヘルツ波は、フレネルロムプリズムを再度透過した後、偏光ビームプリズムに到達する。偏光ビームプリズムに到達しテラヘルツ波は、フレネルロムプリズムの透過及び試料での反射により、S偏光に変換されている。このため、偏光ビームスプリッタは、試料によって反射されたテラヘルツ波を、テラヘルツ波検出素子に向けて反射する。   Patent Document 2 describes a terahertz wave measuring apparatus that separates a terahertz wave propagating in the forward path and a terahertz wave propagating in the return path by using a polarizing beam splitter, a Fresnel ROM prism, and a parabolic mirror. Yes. Specifically, the polarization beam splitter transmits only the P-polarized component of the terahertz wave emitted from the terahertz wave generating element toward the sample. The terahertz wave that has passed through the polarizing beam splitter is reflected by the sample after passing through the Fresnel ROM prism. The terahertz wave reflected by the sample passes through the Fresnel ROM prism again and then reaches the polarizing beam prism. The terahertz wave that reaches the polarizing beam prism is converted into S-polarized light by transmission through the Fresnel ROM prism and reflection from the sample. For this reason, the polarization beam splitter reflects the terahertz wave reflected by the sample toward the terahertz wave detection element.

特開2014−2024号公報JP 2014-2024 A 特開2009−300108号公報JP 2009-300108 A

特許文献1に記載されたテラヘルツ波計測装置では、テラヘルツ波発生素子が出射したテラヘルツ波を試料に向けて反射する際に、テラヘルツ波の強度が減少する(例えば、約50%にまで減少する)。更に、試料によって反射されたテラヘルツ波をハーフミラーがテラヘルツ波検出素子に向けて透過させる際にも、テラヘルツ波の強度が減少する(例えば、約50%にまで減少する)。このため、テラヘルツ波検出素子に到達するテラヘルツ波の強度の減少に起因して、テラヘルツ波検出素子によるテラヘルツ波の検出効率が悪化する可能性がある。   In the terahertz wave measuring apparatus described in Patent Document 1, when the terahertz wave emitted from the terahertz wave generating element is reflected toward the sample, the intensity of the terahertz wave is reduced (for example, reduced to about 50%). . Further, when the half mirror transmits the terahertz wave reflected by the sample toward the terahertz wave detecting element, the intensity of the terahertz wave is reduced (for example, reduced to about 50%). For this reason, due to the decrease in the intensity of the terahertz wave that reaches the terahertz wave detection element, the detection efficiency of the terahertz wave by the terahertz wave detection element may deteriorate.

特許文献2に記載されたテラヘルツ波計測装置では、往路を伝搬するテラヘルツ波と復路を伝搬するテラヘルツ波とを分離するために必要な光学素子の数が相対的に多くなる。このため、テラヘルツ波計測装置のサイズが大きくなってしまう。   In the terahertz wave measuring apparatus described in Patent Document 2, the number of optical elements necessary for separating the terahertz wave propagating in the forward path and the terahertz wave propagating in the return path is relatively large. For this reason, the size of the terahertz wave measuring apparatus becomes large.

本発明が解決しようとする課題には上記のようなものが一例として挙げられる。本発明は、試料に照射したテラヘルツ波を効率的に検出しつつもサイズの増大を抑制可能な計測装置を提供することを課題とする。   Examples of problems to be solved by the present invention include the above. It is an object of the present invention to provide a measuring device that can suppress an increase in size while efficiently detecting a terahertz wave irradiated on a sample.

本発明の計測装置の第1の例は、試料に向けて第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射し、前記試料によって反射され且つ前記第1方向とは異なる第2方向に偏光している前記テラヘルツ波を検出する単一の光伝導素子と、前記テラヘルツ波の検出結果に基づいて試料の特性を計測する計測部とを備え、前記光伝導素子による前記第2方向に偏光している前記テラヘルツ波の検出感度は、前記第1方向に偏光している前記テラヘルツ波の検出感度よりも高い。   The first example of the measuring apparatus of the present invention emits a terahertz wave polarized in a first direction toward a sample, is reflected by the sample, and is polarized in a second direction different from the first direction. A single photoconductive element that detects the terahertz wave, and a measurement unit that measures the characteristics of the sample based on the detection result of the terahertz wave, and is polarized in the second direction by the photoconductive element The detection sensitivity of the terahertz wave is higher than the detection sensitivity of the terahertz wave polarized in the first direction.

図1は、第1実施例のテラヘルツ波計測装置の構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the terahertz wave measuring apparatus according to the first embodiment. 図2は、光伝導素子の構成を示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the photoconductive element. 図3は、光伝導素子がテラヘルツ波を出射し且つテラヘルツ波を検出するタイミングの一例を示すタイミングチャートである。FIG. 3 is a timing chart showing an example of timing at which the photoconductive element emits terahertz waves and detects terahertz waves. 図4は、光伝導素子がテラヘルツ波を出射し且つテラヘルツ波を検出するタイミングの一例を、光伝導素子にバイアス電圧を印加するタイミングの一例と共に示すタイミングチャートである。FIG. 4 is a timing chart showing an example of timing at which the photoconductive element emits a terahertz wave and detects the terahertz wave, along with an example of timing at which a bias voltage is applied to the photoconductive element. 図5は、交流電圧であるバイアス電圧を光伝導素子に印加するタイミングの一例を示すタイミングチャートである。FIG. 5 is a timing chart showing an example of timing for applying a bias voltage, which is an alternating voltage, to the photoconductive element. 図6は、第3実施例のテラヘルツ波計測装置の構成を示すブロック図である。FIG. 6 is a block diagram showing the configuration of the terahertz wave measuring apparatus according to the third embodiment. 図7は、光伝導素子がテラヘルツ波を出射し且つテラヘルツ波を検出するタイミングの一例を示すタイミングチャートである。FIG. 7 is a timing chart showing an example of timing at which the photoconductive element emits terahertz waves and detects terahertz waves.

以下、計測装置の実施形態について説明を進める。   Hereinafter, an explanation will be given on embodiments of the measuring apparatus.

<1>
本実施形態の計測装置は、試料に向けて第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射し、前記試料によって反射され且つ前記第1方向とは異なる第2方向に偏光している前記テラヘルツ波を検出する単一の光伝導素子と、前記テラヘルツ波の検出結果に基づいて試料の特性を計測する計測部とを備え、前記光伝導素子による前記第2方向に偏光している前記テラヘルツ波の検出感度は、前記第1方向に偏光している前記テラヘルツ波の検出感度よりも高い。
<1>
The measurement apparatus of the present embodiment emits a terahertz wave polarized in a first direction toward the sample, is reflected by the sample, and is polarized in a second direction different from the first direction. A single photoconductive element that detects the terahertz wave, and a measurement unit that measures the characteristics of the sample based on the detection result of the terahertz wave, and the terahertz wave polarized in the second direction by the photoconductive element The detection sensitivity is higher than the detection sensitivity of the terahertz wave polarized in the first direction.

本実施形態の計測装置によれば、試料に向けてテラヘルツ波を出射する光伝導素子と、試料によって反射されたテラヘルツ波を検出する光伝導素子とを別個独立に備えていなくてもよい。このため、本実施形態の計測装置は、往路を伝搬するテラヘルツ波と復路を伝搬するテラヘルツ波とをそもそも分離しなくてもよい。このため、本実施形態の計測装置は、試料に照射したテラヘルツ波を効率的に検出しつつも、そのサイズの増大を抑制することができる。   According to the measurement apparatus of this embodiment, the photoconductive element that emits the terahertz wave toward the sample and the photoconductive element that detects the terahertz wave reflected by the sample may not be provided separately. For this reason, the measuring apparatus of this embodiment does not need to separate the terahertz wave propagating in the forward path and the terahertz wave propagating in the return path from the first. For this reason, the measuring device of this embodiment can suppress the increase in the size, while efficiently detecting the terahertz wave irradiated to the sample.

更に、光伝導素子が出射するテラヘルツ波の偏光方向(つまり、テラヘルツ波を構成する電場の振動方向)と光伝導素子が検出するテラヘルツ波の偏光方向とが異なるがゆえに、単一の光伝導素子がテラヘルツ波を出射しつつも、テラヘルツ波を検出することができる。   Furthermore, since the polarization direction of the terahertz wave emitted from the photoconductive element (that is, the vibration direction of the electric field constituting the terahertz wave) and the polarization direction of the terahertz wave detected by the photoconductive element are different, a single photoconductive element is used. Can detect the terahertz wave while emitting the terahertz wave.

更に、第2方向に偏光しているテラヘルツ波の検出感度が第1方向に偏光している前記テラヘルツ波の検出感度よりも高い。このため、光伝導素子が、光伝導素子が出射したもののいまだ試料によって反射されていない第1方向に偏光しているテラヘルツ波を、試料によって反射された第2方向に偏光しているテラヘルツ波として誤って検出する可能性が相対的に小さくなる。このため、光伝導素子は、テラヘルツ波を出射しつつも、テラヘルツ波を検出することができる。   Furthermore, the detection sensitivity of the terahertz wave polarized in the second direction is higher than the detection sensitivity of the terahertz wave polarized in the first direction. Therefore, the terahertz wave polarized in the first direction, which is not reflected by the sample yet emitted from the photoconductive element, is converted into the terahertz wave polarized in the second direction reflected by the sample. The possibility of erroneous detection is relatively reduced. For this reason, the photoconductive element can detect the terahertz wave while emitting the terahertz wave.

<2>
本実施形態の光伝導素子の他の態様では、前記光伝導素子は、前記第1方向に偏光している前記テラヘルツ波を出射すると共に間隙が間に確保されている一対の第1電極と、前記第2方向に偏光している前記テラヘルツ波を検出すると共に前記一対の第1電極の間に確保されている前記間隙が間に確保されている一対の第2電極部とを備える。
<2>
In another aspect of the photoconductive element of the present embodiment, the photoconductive element emits the terahertz wave polarized in the first direction and has a pair of first electrodes with a gap secured therebetween, A terahertz wave polarized in the second direction, and a pair of second electrode portions in which the gap secured between the pair of first electrodes is secured.

この態様によれば、光伝導素子は、一対の第1電極を用いて第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射しつつも、一対の第2電極を用いて第2方向に偏光しているテラヘルツ波を検出することができる。   According to this aspect, the photoconductive element emits the terahertz wave polarized in the first direction using the pair of first electrodes and is polarized in the second direction using the pair of second electrodes. Terahertz waves can be detected.

<3>
上述の如く光伝導素子が一対の第1電極及び一対の第2電極を備える計測装置の他の態様では、前記一対の第1電極の夫々は、前記第1方向に応じた第3方向に沿って延びる長手形状を有しており、前記一対の第2電極の夫々は、前記第3方向とは異なり且つ前記第2方向に応じた第4方向に沿って延びる長手形状を有している。
<3>
As described above, in another aspect of the measuring device in which the photoconductive element includes a pair of first electrodes and a pair of second electrodes, each of the pair of first electrodes extends along a third direction corresponding to the first direction. Each of the pair of second electrodes has a longitudinal shape that is different from the third direction and extends in a fourth direction corresponding to the second direction.

この態様によれば、第2方向に偏光しているテラヘルツ波の検出感度が、第1方向に偏光しているテラヘルツ波の検出感度よりも高くなる。   According to this aspect, the detection sensitivity of the terahertz wave polarized in the second direction is higher than the detection sensitivity of the terahertz wave polarized in the first direction.

<4>
上述の如く光伝導素子が一対の第1電極及び一対の第2電極を備える計測装置の他の態様では、所定の励起光を第1励起光と第2励起光とに分岐する第1光学素子と、前記第2励起光の光路長を調整する第2光学素子と、前記第1励起光と前記光路長が調整された前記第2励起光とが同一の光路を伝搬するように、前記第1励起光と前記光路長が調整された前記第2励起光とを前記光伝導素子に導く第3光学素子とを更に備え、前記第3光学素子が導く前記第1励起光及び前記第2励起光の夫々が、前記間隙に照射される。
<4>
As described above, in another aspect of the measurement apparatus in which the photoconductive element includes the pair of first electrodes and the pair of second electrodes, the first optical element that branches the predetermined excitation light into the first excitation light and the second excitation light. And the second optical element that adjusts the optical path length of the second excitation light, and the first excitation light and the second excitation light that is adjusted in the optical path length propagate in the same optical path. A third optical element that guides the first excitation light and the second excitation light with the adjusted optical path length to the photoconductive element; and the first excitation light and the second excitation guided by the third optical element. Each of the lights is applied to the gap.

この態様によれば、一対の第1電極の間隙が一対の第2電極の間隙としても用いられる場合であっても、光伝導素子は、第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射しつつも、第2方向に偏光しているテラヘルツ波を検出することができる。   According to this aspect, even when the gap between the pair of first electrodes is also used as the gap between the pair of second electrodes, the photoconductive element emits a terahertz wave polarized in the first direction. In addition, the terahertz wave polarized in the second direction can be detected.

<5>
上述の如く光伝導素子が一対の第1電極及び一対の第2電極を備える計測装置の他の態様では、前記光伝導素子は、(i)第1励起光が前記間隙に照射されている第1期間中に、前記第1方向に偏光している前記テラヘルツ波を出射し、(ii)第2励起光が前記間隙に照射されている第2期間中に、前記第2方向に偏光している前記テラヘルツ波を検出し、前記第1期間中に、前記一対の第1電極に、前記テラヘルツ波を出射させるためのバイアス電圧を印加する一方で、前記第2期間中に、前記一対の第1電極に前記バイアス電圧を印加しない印加部を更に備える。
<5>
As described above, in another aspect of the measuring apparatus in which the photoconductive element includes a pair of first electrodes and a pair of second electrodes, the photoconductive element includes: (i) a first excitation light irradiated to the gap; The terahertz wave polarized in the first direction is emitted during one period, and (ii) the second excitation light is polarized in the second direction during the second period when the gap is irradiated to the gap. The terahertz wave is detected, and a bias voltage for emitting the terahertz wave is applied to the pair of first electrodes during the first period, while the pair of first terahertz waves is applied during the second period. An application unit that does not apply the bias voltage to one electrode is further provided.

この態様によれば、テラヘルツ波を出射するべき第1期間中にはバイアス電圧が一対の第1電極に印加されるがゆえに、光伝導素子は、第1期間中に第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射することができる。テラヘルツ波を検出するべき第2期間(つまり、テラヘルツ波を出射しないことが好ましい第2期間)中にはバイアス電圧が一対の第1電極に印加されないがゆえに、光伝導素子は、第2期間中に第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射しない。従って、光伝導素子は、第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射しつつも、第2方向に偏光しているテラヘルツ波を検出することができる。   According to this aspect, since the bias voltage is applied to the pair of first electrodes during the first period in which the terahertz wave is to be emitted, the photoconductive element is polarized in the first direction during the first period. Terahertz waves can be emitted. Since the bias voltage is not applied to the pair of first electrodes during the second period in which the terahertz wave is to be detected (that is, the second period in which it is preferable not to emit the terahertz wave), the photoconductive element is in the second period. In addition, no terahertz wave polarized in the first direction is emitted. Therefore, the photoconductive element can detect the terahertz wave polarized in the second direction while emitting the terahertz wave polarized in the first direction.

<6>
本実施形態の計測装置の他の態様では、前記光伝導素子は、前記第1方向に偏光している第1直線偏光である前記テラヘルツ波を出射し、且つ、前記第2方向に偏光している第2直線偏光である前記テラヘルツ波を検出し、前記光伝導素子から前記試料に向かって伝搬する前記第1直線偏光である前記テラヘルツ波を、円偏光の前記テラヘルツ波に変換し、前記試料から前記光伝導素子に向かって伝搬する円偏光の前記テラヘルツ波を、前記第2方向に偏光している前記第2直線偏光である前記テラヘルツ波に変換する第4光学素子を更に備える。
<6>
In another aspect of the measurement apparatus of the present embodiment, the photoconductive element emits the terahertz wave that is the first linearly polarized light that is polarized in the first direction, and is polarized in the second direction. Detecting the terahertz wave being the second linearly polarized light, converting the terahertz wave being the first linearly polarized light propagating from the photoconductive element toward the sample into the circularly polarized terahertz wave, A fourth optical element that converts the circularly polarized terahertz wave propagating from the light toward the photoconductive element into the terahertz wave that is the second linearly polarized light that is polarized in the second direction.

この態様によれば、光伝導素子が出射した第1直線偏光であるテラヘルツ波は、第4光学素子を通過すると共に試料によって反射されることで、第2直線偏光であるテラヘルツ波として光伝導素子に戻ってくる。このため、光伝導素子は、第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射しつつも、第2方向に偏光しているテラヘルツ波を検出することができる。   According to this aspect, the terahertz wave that is the first linearly polarized light emitted from the photoconductive element passes through the fourth optical element and is reflected by the sample, whereby the photoconductive element is converted into the terahertz wave that is the second linearly polarized light. Come back to. Therefore, the photoconductive element can detect the terahertz wave polarized in the second direction while emitting the terahertz wave polarized in the first direction.

本実施形態の計測装置の作用及び他の利得については、以下に示す実施例において、より詳細に説明する。   The operation and other gains of the measurement apparatus according to the present embodiment will be described in more detail in the following examples.

以上説明したように、本実施形態の計測装置は、第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射し、且つ、第2方向に偏光している前記テラヘルツ波を検出する単一の光伝導素子を備える。従って、試料に照射したテラヘルツ波を効率的に検出しつつもサイズの増大を抑制可能な計測装置が提供される。   As described above, the measuring apparatus according to the present embodiment emits a terahertz wave polarized in the first direction and detects a single photoconductive element that detects the terahertz wave polarized in the second direction. Is provided. Therefore, a measuring apparatus capable of suppressing an increase in size while efficiently detecting a terahertz wave irradiated on a sample is provided.

以下、図面を参照しながら、計測装置の実施例について説明する。特に、以下では、「計測装置」の一具体例であるテラヘルツ波計測装置1を用いて説明を進める。   Hereinafter, embodiments of the measuring apparatus will be described with reference to the drawings. In particular, the following description will be given using the terahertz wave measuring apparatus 1 which is a specific example of “measuring apparatus”.

(1)第1実施例のテラヘルツ波計測装置1
はじめに、図1から図3を参照しながら、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1について説明する。
(1) Terahertz wave measuring apparatus 1 of the first embodiment
First, the terahertz wave measuring apparatus 1 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 3.

(1−1)テラヘルツ波計測装置1の構成
初めに、図1を参照しながら、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1の構成について説明する。図1は、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1の構成を示すブロック図である。
(1-1) Configuration of Terahertz Wave Measuring Device 1 First, the configuration of the terahertz wave measuring device 1 of the first embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a block diagram showing the configuration of the terahertz wave measuring apparatus 1 of the first embodiment.

図1に示すように、テラヘルツ波計測装置1は、テラヘルツ波THzを試料10に照射すると共に、試料10を透過した又は試料10が反射したテラヘルツ波THz(つまり、試料10に照射されたテラヘルツ波THz)を検出する。尚、図1に示す例では、テラヘルツ波計測装置1は、試料10が反射したテラヘルツ波THzを検出している。   As shown in FIG. 1, the terahertz wave measuring apparatus 1 irradiates the sample 10 with the terahertz wave THz, and transmits the sample 10 or reflects the terahertz wave THz reflected by the sample 10 (that is, the terahertz wave irradiated on the sample 10). THz) is detected. In the example shown in FIG. 1, the terahertz wave measuring apparatus 1 detects the terahertz wave THz reflected by the sample 10.

テラヘルツ波THzは、1テラヘルツ(1THz=1012Hz)前後の周波数領域(つまり、テラヘルツ領域)に属する電磁波成分を含む電磁波である。テラヘルツ領域は、光の直進性と電磁波の透過性を兼ね備えた周波数領域である。テラヘルツ領域は、様々な物質が固有の吸収スペクトルを有する周波数領域である。従って、テラヘルツ波計測装置1は、試料10に照射されたテラヘルツ波THzを解析することで、試料10の特性を計測することができる。 The terahertz wave THz is an electromagnetic wave including an electromagnetic wave component belonging to a frequency region (that is, a terahertz region) around 1 terahertz (1 THz = 10 12 Hz). The terahertz region is a frequency region that combines light straightness and electromagnetic wave transparency. The terahertz region is a frequency region in which various substances have unique absorption spectra. Therefore, the terahertz wave measuring apparatus 1 can measure the characteristics of the sample 10 by analyzing the terahertz wave THz irradiated on the sample 10.

ここで、テラヘルツ波THzの周期は、サブピコ秒のオーダーの周期であるがゆえに、当該テラヘルツ波THzの波形を直接的に検出することが技術的に困難である。そこで、テラヘルツ波計測装置1は、時間遅延走査に基づくポンプ・プローブ法を採用することで、テラヘルツ波THzの波形を間接的に検出する。以下、このようなポンプ・プローブ法を採用するテラヘルツ波計測装置1についてより具体的に説明を進める。   Here, since the period of the terahertz wave THz is a period of the order of sub-picoseconds, it is technically difficult to directly detect the waveform of the terahertz wave THz. Therefore, the terahertz wave measuring apparatus 1 indirectly detects the waveform of the terahertz wave THz by employing a pump-probe method based on time delay scanning. Hereinafter, the terahertz wave measuring apparatus 1 that employs such a pump-probe method will be described more specifically.

図1に示すように、テラヘルツ波計測装置1は、パルスレーザ装置1と、光伝導素子110と、1/2波長板161と、「第1光学素子」の一具体例である偏光ビームスプリッタ162と、「第3光学素子」の一具体例である偏光ビームスプリッタ163と、「第4光学素子」の一具体例である直角プリズム170と、「第2光学素子」の一具体例である光学遅延機構120と、「印加部」の一具体例であるバイアス電圧生成部141と、I−V(電流−電圧)変換部142と、制御部150とを備えている。   As shown in FIG. 1, the terahertz wave measuring apparatus 1 includes a pulse laser apparatus 1, a photoconductive element 110, a half-wave plate 161, and a polarization beam splitter 162 that is a specific example of “first optical element”. A polarization beam splitter 163 that is a specific example of “third optical element”, a right-angle prism 170 that is a specific example of “fourth optical element”, and an optical that is a specific example of “second optical element”. The delay mechanism 120 includes a bias voltage generation unit 141, which is a specific example of the “application unit”, an IV (current-voltage) conversion unit 142, and a control unit 150.

パルスレーザ装置1は、当該パルスレーザ装置1に入力される駆動電流に応じた光強度を有するサブピコ秒オーダー又はフェムト秒オーダーのパルスレーザ光LBを生成する。パルスレーザ装置1が生成したパルスレーザ光LBは、不図示の導光路(例えば、光ファイバ等)及び1/2波長板161を介して、偏光ビームスプリッタ162に入射する。尚、パルスレーザ光LBは、「所定の励起光」の一具体例である。   The pulse laser device 1 generates pulse laser light LB in the order of subpicosecond or femtosecond having a light intensity corresponding to the drive current input to the pulse laser device 1. The pulse laser beam LB generated by the pulse laser device 1 is incident on the polarization beam splitter 162 via a light guide (not shown) (for example, an optical fiber) and a half-wave plate 161. The pulse laser beam LB is a specific example of “predetermined excitation light”.

偏光ビームスプリッタ162は、パルスレーザ光LBを、「第1励起光」の一具体例であるポンプ光LB1と「第2励起光」の一具体例であるプローブ光LB2とに分岐する。具体的には、偏光ビームスプリッタ162は、パルスレーザ光LBのうちの第1偏光成分(例えば、第3方向に沿って振動する電場成分を有する偏光成分)を、ポンプ光LB1として透過させる。一方で、偏光ビームスプリッタ162は、パルスレーザ光LBのうちの第2偏光成分(例えば、第3方向とは異なる第4方向に沿って振動する電場成分を有する偏光成分)を、プローブ光LB2として反射する。ポンプ光LB1は、偏光ビームスプリッタ163に入射する。一方で、プローブ光LB2は、不図示の導光路及び光学遅延機構120を介して、偏光ビームスプリッタ163に入射する。   The polarization beam splitter 162 branches the pulsed laser light LB into pump light LB1 which is a specific example of “first excitation light” and probe light LB2 which is a specific example of “second excitation light”. Specifically, the polarization beam splitter 162 transmits the first polarization component (for example, the polarization component having an electric field component oscillating along the third direction) of the pulsed laser light LB as the pump light LB1. On the other hand, the polarization beam splitter 162 uses the second polarization component (for example, a polarization component having an electric field component oscillating along a fourth direction different from the third direction) in the pulsed laser light LB as the probe light LB2. reflect. The pump light LB1 is incident on the polarization beam splitter 163. On the other hand, the probe light LB2 is incident on the polarization beam splitter 163 via a light guide path and an optical delay mechanism 120 (not shown).

尚、ポンプ光LB1の強度とプローブ光LB2の強度との比は、上述した1/2波長板161に依存して決まる。より具体的には、ポンプ光LB1の強度とプローブ光LB2の強度との比は、パルスレーザ光LBの偏光面の方位角(つまり、パルスレーザ光LBを構成する電場の振動方向)と1/2波長板161の高速軸とのずれ量に依存して決まる。   The ratio between the intensity of the pump light LB1 and the intensity of the probe light LB2 is determined depending on the half-wave plate 161 described above. More specifically, the ratio between the intensity of the pump light LB1 and the intensity of the probe light LB2 is determined by the azimuth angle of the polarization plane of the pulse laser light LB (that is, the vibration direction of the electric field constituting the pulse laser light LB) 1 / It depends on the amount of deviation of the two-wave plate 161 from the high-speed axis.

偏光ビームスプリッタ163は、偏光ビームスプリッタ162と同様に、第1偏光成分であるポンプ光LB1を透過させる。偏光ビームスプリッタ163は、更に、偏光ビームスプリッタ162と同様に、第2偏光成分であるプローブ光LB2を反射する。特に、偏光ビームスプリッタ163は、ポンプ光LB1及びプローブ光LB2が同一の光路を伝搬するように、プローブ光LB2を反射する。偏光ビームスプリッタ163が透過させたポンプ光LB1及び偏光ビームスプリッタ163が反射したプローブ光LB2の夫々は、同一の光を伝搬した後、光伝導素子110に入射する。   Similar to the polarization beam splitter 162, the polarization beam splitter 163 transmits the pump light LB1 that is the first polarization component. Similarly to the polarization beam splitter 162, the polarization beam splitter 163 reflects the probe light LB2 that is the second polarization component. In particular, the polarization beam splitter 163 reflects the probe light LB2 so that the pump light LB1 and the probe light LB2 propagate on the same optical path. Each of the pump light LB1 transmitted by the polarization beam splitter 163 and the probe light LB2 reflected by the polarization beam splitter 163 propagates the same light and then enters the photoconductive element 110.

光伝導素子110は、ポンプ光LB1を励起光として用いることで、テラヘルツ波THz(以降、光伝導素子110が出射するテラヘルツ波THzを、“テラヘルツ波THz1”と称する)を出射する。このとき、後に詳述するように、光伝導素子110は、第1方向に沿って振動する電場成分を有する直線偏光であるテラヘルツ波THz1を発生する。   The photoconductive element 110 emits a terahertz wave THz (hereinafter, the terahertz wave THz emitted from the photoconductive element 110 is referred to as “terahertz wave THz1”) by using the pump light LB1 as excitation light. At this time, as will be described in detail later, the photoconductive element 110 generates a terahertz wave THz1, which is linearly polarized light having an electric field component that vibrates along the first direction.

光伝導素子110から出射したテラヘルツ波THz1は、直角プリズム170に入射する。直角プリズム170は、第1面171と、第2面172と、第3面173とを備える。第1面171は、光伝導素子110が出射したテラヘルツ波THz1が入射する光学面である。第2面172は、第1面171を介して直角プリズム170の内部に伝搬してきたテラヘルツ波THz1を反射する光学面である。第3面173は、第1面171に対して90°の角度で交わると共に、第2面172によって反射されたテラヘルツ波THz1が出射する光学面である。   The terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110 enters the right-angle prism 170. The right-angle prism 170 includes a first surface 171, a second surface 172, and a third surface 173. The first surface 171 is an optical surface on which the terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110 is incident. The second surface 172 is an optical surface that reflects the terahertz wave THz1 that has propagated into the right-angle prism 170 via the first surface 171. The third surface 173 is an optical surface that intersects the first surface 171 at an angle of 90 ° and emits the terahertz wave THz1 reflected by the second surface 172.

光伝導素子110から出射したテラヘルツ波THz1は、直角プリズム170の第2面172によって反射(典型的には、全反射)されることで、試料10に向かって伝搬する。第2面172でのテラヘルツ波THz1の反射に起因して、第2面172によって反射されたテラヘルツ波THz1の位相は、第2面172によって反射されていないテラヘルツ波THz1の位相と比較して、π/2だけシフトする。このため、テラヘルツ波THz1は、第2面172でのテラヘルツ波THz1の反射に起因してテラヘルツ波THz1の位相がπ/2だけシフトする入射角度で第2面172に入射する。例えば、直角プリズム170が屈折率3.4のシリコンから構成されている場合には、テラヘルツ波THz1は、41.9度の入射角度で第2面172に入射する。その結果、第2面172でのテラヘルツ波THz1の反射に起因して、直線偏光であったテラヘルツ波THz1は、円偏光(例えば、右回りの円偏光)であるテラヘルツ波THz1に変換される。つまり、直角プリズム170は、テラヘルツ波THz1に対して、1/4波長板として機能する。第2面172によって反射されたテラヘルツ波THz1は、第3面173を介して、直角プリズム170の外部に向かって伝搬する。その結果、第2面172によって反射されたテラヘルツ波THz1は、試料10に照射される。   The terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110 is reflected (typically total reflection) by the second surface 172 of the right-angle prism 170 and propagates toward the sample 10. Due to the reflection of the terahertz wave THz1 on the second surface 172, the phase of the terahertz wave THz1 reflected by the second surface 172 is compared with the phase of the terahertz wave THz1 not reflected by the second surface 172, Shift by π / 2. Therefore, the terahertz wave THz1 is incident on the second surface 172 at an incident angle at which the phase of the terahertz wave THz1 is shifted by π / 2 due to the reflection of the terahertz wave THz1 on the second surface 172. For example, when the right-angle prism 170 is made of silicon having a refractive index of 3.4, the terahertz wave THz1 is incident on the second surface 172 at an incident angle of 41.9 degrees. As a result, due to the reflection of the terahertz wave THz1 on the second surface 172, the terahertz wave THz1 that is linearly polarized light is converted into the terahertz wave THz1 that is circularly polarized light (for example, clockwise circularly polarized light). That is, the right-angle prism 170 functions as a quarter wavelength plate with respect to the terahertz wave THz1. The terahertz wave THz1 reflected by the second surface 172 propagates toward the outside of the right-angle prism 170 via the third surface 173. As a result, the terahertz wave THz1 reflected by the second surface 172 is applied to the sample 10.

試料10に照射されたテラヘルツ波THz1は、試料10によって反射される。以降、試料10から光伝導素子110に向かって伝搬するテラヘルツ波THzを、光伝導素子110が出射したテラヘルツ波THz1(つまり、光伝導素子110から試料に向かって伝搬するテラヘルツ波THz)と区別するために、“テラヘルツ波THz2”と称する。   The terahertz wave THz1 irradiated on the sample 10 is reflected by the sample 10. Hereinafter, the terahertz wave THz propagating from the sample 10 toward the photoconductive element 110 is distinguished from the terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110 (that is, the terahertz wave THz propagating from the photoconductive element 110 toward the sample). Therefore, it is referred to as “terahertz wave THz2”.

試料10によって反射されたテラヘルツ波THz2は、円偏光である。但し、試料10でのテラヘルツ波THz1の反射に起因して、テラヘルツ波THz2の偏光面の回転方向は、テラヘルツ波THz1の偏光面の回転方向と逆である。   The terahertz wave THz2 reflected by the sample 10 is circularly polarized light. However, due to the reflection of the terahertz wave THz1 on the sample 10, the rotation direction of the polarization plane of the terahertz wave THz2 is opposite to the rotation direction of the polarization plane of the terahertz wave THz1.

試料10によって反射されたテラヘルツ波THz2は、再び直角プリズム170(特に、第3面173)に入射する。第3面173に入射したテラヘルツ波THz2は、第2面172によって反射される。第2面172でのテラヘルツ波THz2の反射に起因して、第2面172によって反射されたテラヘルツ波THz2の位相は、第2面172によって反射されていないテラヘルツ波THz2の位相と比較して、π/2だけシフトする。その結果、第2面172でのテラヘルツ波THz2の反射に起因して、円偏光であったテラヘルツ波THz1は、第1方向に直交する第2方向に沿って振動する電場成分を有する直線偏光であるテラヘルツ波THz2に変換される。つまり、直角プリズム170は、テラヘルツ波THz2に対しても、1/4波長板として機能する。第2面172によって反射されたテラヘルツ波THz2は、第1面171を介して、直角プリズム170の外部に向かって伝搬する。その結果、第2面172によって反射されたテラヘルツ波THz2は、光伝導素子110に入射する。   The terahertz wave THz2 reflected by the sample 10 is incident on the right-angle prism 170 (particularly, the third surface 173) again. The terahertz wave THz 2 incident on the third surface 173 is reflected by the second surface 172. Due to the reflection of the terahertz wave THz2 on the second surface 172, the phase of the terahertz wave THz2 reflected by the second surface 172 is compared with the phase of the terahertz wave THz2 not reflected by the second surface 172, Shift by π / 2. As a result, due to the reflection of the terahertz wave THz2 on the second surface 172, the terahertz wave THz1 that was circularly polarized light is linearly polarized light having an electric field component that vibrates along a second direction orthogonal to the first direction. It is converted into a certain terahertz wave THz2. That is, the right-angle prism 170 functions as a quarter-wave plate for the terahertz wave THz2. The terahertz wave THz2 reflected by the second surface 172 propagates toward the outside of the right-angle prism 170 via the first surface 171. As a result, the terahertz wave THz <b> 2 reflected by the second surface 172 enters the photoconductive element 110.

テラヘルツ波THz2が光伝導素子110に入射すると、光伝導素子110は、プローブ光LB2を励起光として用いることで、テラヘルツ波THz2を検出する。特に、上述したように、直線偏光であるテラヘルツ波THz2が有する電場成分の振動方向は、直線偏光であるテラヘルツ波THz1が有する電場成分の振動方向と直交する。従って、光伝導素子110は、第2方向に沿って振動する電場成分を有する直線偏光であるテラヘルツ波THz2を検出する。その結果、光伝導素子110からは、テラヘルツ波THz2の強度に応じた信号強度を有する電流信号が出力される。   When the terahertz wave THz2 is incident on the photoconductive element 110, the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz2 by using the probe light LB2 as excitation light. In particular, as described above, the vibration direction of the electric field component of the terahertz wave THz2 that is linearly polarized light is orthogonal to the vibration direction of the electric field component of the terahertz wave THz1 that is linearly polarized light. Therefore, the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz2, which is linearly polarized light having an electric field component that vibrates along the second direction. As a result, the photoconductive element 110 outputs a current signal having a signal intensity corresponding to the intensity of the terahertz wave THz2.

光学遅延機構120は、ポンプ光LB1の光路長とプローブ光LB2の光路長との間の差分(つまり、光路長差)を調整する。具体的には、光学遅延機構120は、プローブ光LB2の光路長を調整することで、光路長差を調整する。光路長差が調整されると、ポンプ光LB1が光伝導素子110に入射するタイミング(或いは、光伝導素子110がテラヘルツ波THz1を発生させるタイミング)と、プローブ光LB2が光伝導素子110に入射するタイミング(或いは、光伝導素子110がテラヘルツ波THz2を検出するタイミング)との時間差が調整される。テラヘルツ波計測装置1は、この時間差を調整することで、テラヘルツ波THz2の波形を間接的に検出する。例えば、光学遅延機構120によってプローブ光LB2の光路が0.3ミリメートル(但し、空気中での光路長)だけ長くなると、プローブ光LB2が光伝導素子110に入射するタイミングが1ピコ秒だけ遅くなる。この場合、光伝導素子110がテラヘルツ波THzを検出するタイミングが、1ピコ秒だけ遅くなる。光伝導素子110に対して同一の波形を有するテラヘルツ波THzが数十MHz程度の間隔で繰り返し入射することを考慮すれば、光伝導素子110がテラヘルツ波THzを検出するタイミングを徐々にずらすことで、光伝導素子110は、テラヘルツ波THzの波形を間接的に検出することができる。つまり、後述するロックイン検出部151は、光伝導素子110の検出結果に基づいて、テラヘルツ波THzの波形を検出することができる。   The optical delay mechanism 120 adjusts the difference (that is, the optical path length difference) between the optical path length of the pump light LB1 and the optical path length of the probe light LB2. Specifically, the optical delay mechanism 120 adjusts the optical path length difference by adjusting the optical path length of the probe light LB2. When the optical path length difference is adjusted, the timing at which the pump light LB1 enters the photoconductive element 110 (or the timing at which the photoconductive element 110 generates the terahertz wave THz1), and the probe light LB2 enters the photoconductive element 110. The time difference from the timing (or the timing at which the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz2) is adjusted. The terahertz wave measuring apparatus 1 indirectly detects the waveform of the terahertz wave THz2 by adjusting this time difference. For example, when the optical path of the probe light LB2 is increased by 0.3 millimeter (however, the optical path length in the air) by the optical delay mechanism 120, the timing at which the probe light LB2 enters the photoconductive element 110 is delayed by 1 picosecond. . In this case, the timing at which the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz is delayed by 1 picosecond. Considering that the terahertz wave THz having the same waveform repeatedly enters the photoconductive element 110 at intervals of about several tens of MHz, the timing at which the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz is gradually shifted. The photoconductive element 110 can indirectly detect the waveform of the terahertz wave THz. That is, the lock-in detector 151 described later can detect the waveform of the terahertz wave THz based on the detection result of the photoconductive element 110.

光伝導素子110から出力される電流信号は、I−V変換部142によって、電圧信号に変換される。   The current signal output from the photoconductive element 110 is converted into a voltage signal by the IV conversion unit 142.

制御部150は、光伝導素子110の検出結果(つまり、I−V変換部142が出力する電圧信号)に基づいて、試料10の特性を計測する。試料10の特性を計測するために、制御部150は、ロックイン検出部151と、信号処理部152とを備えている。   The control unit 150 measures the characteristics of the sample 10 based on the detection result of the photoconductive element 110 (that is, the voltage signal output from the IV conversion unit 142). In order to measure the characteristics of the sample 10, the control unit 150 includes a lock-in detection unit 151 and a signal processing unit 152.

ロックイン検出部151は、I−V変換部142から出力される電圧信号に対して、バイアス電圧生成部141が生成するバイアス電圧を参照信号とする同期検波を行う。その結果、ロックイン検出部151は、テラヘルツ波THz2のサンプル値を検出する。その後、ポンプ光LB1の光路長とプローブ光LB2の光路長との間の差分(つまり、光路長差)を適宜調整しながら同様の動作が繰り返されることで、ロックイン検出部151は、光伝導素子110が検出したテラヘルツ波THz2の波形(時間波形)を検出することができる。ロックイン検出部151は、光伝導素子110が検出したテラヘルツ波THz2の波形を示す波形信号を出力する。   The lock-in detection unit 151 performs synchronous detection on the voltage signal output from the IV conversion unit 142 using the bias voltage generated by the bias voltage generation unit 141 as a reference signal. As a result, the lock-in detection unit 151 detects the sample value of the terahertz wave THz2. Thereafter, the same operation is repeated while appropriately adjusting the difference (that is, the optical path length difference) between the optical path length of the pump light LB1 and the optical path length of the probe light LB2. The waveform (time waveform) of the terahertz wave THz2 detected by the element 110 can be detected. The lock-in detection unit 151 outputs a waveform signal indicating the waveform of the terahertz wave THz2 detected by the photoconductive element 110.

信号処理部152は、ロックイン検出部151から出力される波形信号に基づいて、試料10の特性を計測する。例えば、信号処理部152は、テラヘルツ時間領域分光法を用いてテラヘルツ波THz2の周波数スペクトルを取得すると共に、当該周波数スペクトルに基づいて試料10の特性を計測する。   The signal processing unit 152 measures the characteristics of the sample 10 based on the waveform signal output from the lock-in detection unit 151. For example, the signal processing unit 152 acquires the frequency spectrum of the terahertz wave THz2 using terahertz time domain spectroscopy, and measures the characteristics of the sample 10 based on the frequency spectrum.

(1−2)光伝導素子110の構成
続いて、図2を参照しながら、光伝導素子110の構成について説明する。図2は、光伝導素子110の構成を示す斜視図である。尚、図2では、互いに直交するX軸、Y軸及びZ軸によって定義される三次元座標空間を用いて、光伝導素子110を説明する。
(1-2) Configuration of Photoconductive Element 110 Next, the configuration of the photoconductive element 110 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a perspective view showing the configuration of the photoconductive element 110. In FIG. 2, the photoconductive element 110 will be described using a three-dimensional coordinate space defined by an X axis, a Y axis, and a Z axis orthogonal to each other.

図2に示すように、光伝導素子110は、基板111と、「第1電極」の一具体例であるアンテナ(言い換えれば、伝送線路又は電極、以下同じ)112と、「第1電極」の一具体例であるアンテナ113と、「第2電極」の一具体例であるアンテナ114と、「第2電極」の一具体例であるアンテナ115とを備えている。   As shown in FIG. 2, the photoconductive element 110 includes a substrate 111, an antenna (in other words, a transmission line or an electrode, which is the same hereinafter) 112 as a specific example of “first electrode”, and a “first electrode”. An antenna 113 which is a specific example, an antenna 114 which is a specific example of “second electrode”, and an antenna 115 which is a specific example of “second electrode” are provided.

基板111は、例えば、XY平面に平行な半導体基板である。基板111は、InP(リン化インジウム)基板、GaAs(ガリウム砒素)基板又はSi(シリコン)基板等であってもよい。基板111の形状は板状であるが、その他の形状であってもよい。   The substrate 111 is, for example, a semiconductor substrate parallel to the XY plane. The substrate 111 may be an InP (indium phosphide) substrate, a GaAs (gallium arsenide) substrate, a Si (silicon) substrate, or the like. The shape of the substrate 111 is a plate shape, but may be other shapes.

アンテナ112は、物理的に一体化されている又は電気的に接続されている第1アンテナ部分112−1及び第2アンテナ部分112−2を含む。第1アンテナ部分112−1は、Y軸方向に沿って延びる長手形状を有する。第2アンテナ部分112−2は、X軸方向に沿って延びる長手形状を有する。第1アンテナ部分112−1は、第2アンテナ部分112−2の+X軸側の端部を起点に、−Y軸方向に向かって延びる。第2アンテナ部分112−2は、第1アンテナ部分112−1の+Y軸側の端部を起点に、−X軸方向に向かって延びる。第2アンテナ部分112−2の−X軸側の端部には、バイアス電圧が印加される。   The antenna 112 includes a first antenna portion 112-1 and a second antenna portion 112-2 that are physically integrated or electrically connected. The first antenna portion 112-1 has a longitudinal shape extending along the Y-axis direction. The second antenna portion 112-2 has a longitudinal shape extending along the X-axis direction. The first antenna portion 112-1 extends in the −Y-axis direction from the end on the + X-axis side of the second antenna portion 112-2 as a starting point. The second antenna portion 112-2 extends in the −X-axis direction starting from the end on the + Y-axis side of the first antenna portion 112-1. A bias voltage is applied to the end of the second antenna portion 112-2 on the −X axis side.

アンテナ113は、物理的に一体化されている又は電気的に接続されている第1アンテナ部分113−1及び第2アンテナ部分113−2を含む。第1アンテナ部分113−1は、Y軸方向に沿って延びる長手形状を有する。第2アンテナ部分113−2は、X軸方向に沿って延びる長手形状を有する。第1アンテナ部分113−1は、第2アンテナ部分113−2の−X軸側の端部を起点に、+Y軸方向に向かって延びる。第2アンテナ部分113−2は、第1アンテナ部分113−1の−Y軸側の端部を起点に、+X軸方向に向かって延びる。第2アンテナ部分113−2の+X軸側の端部には、バイアス電圧が印加される。   The antenna 113 includes a first antenna portion 113-1 and a second antenna portion 113-2 that are physically integrated or electrically connected. The first antenna portion 113-1 has a longitudinal shape extending along the Y-axis direction. The second antenna portion 113-2 has a longitudinal shape extending along the X-axis direction. The first antenna portion 113-1 extends in the + Y-axis direction starting from the end portion on the −X-axis side of the second antenna portion 113-2. The second antenna portion 113-2 extends in the + X-axis direction starting from the end portion on the −Y-axis side of the first antenna portion 113-1. A bias voltage is applied to the end of the second antenna portion 113-2 on the + X axis side.

アンテナ114は、物理的に一体化されている又は電気的に接続されている第1アンテナ部分114−1及び第2アンテナ部分114−2を含む。第1アンテナ部分114−1は、X軸方向に沿って延びる長手形状を有する。第2アンテナ部分114−2は、Y軸方向に沿って延びる長手形状を有する。第1アンテナ部分114−1は、第2アンテナ部分114−2の+Y軸側の端部を起点に、+X軸方向に向かって延びる。第2アンテナ部分114−2は、第1アンテナ部分114−1の−X軸側の端部を起点に、−Y軸方向に向かって延びる。   The antenna 114 includes a first antenna portion 114-1 and a second antenna portion 114-2 that are physically integrated or electrically connected. The first antenna portion 114-1 has a longitudinal shape extending along the X-axis direction. The second antenna portion 114-2 has a longitudinal shape extending along the Y-axis direction. The first antenna portion 114-1 extends in the + X-axis direction starting from the end on the + Y-axis side of the second antenna portion 114-2. The second antenna portion 114-2 extends in the −Y-axis direction starting from the −X-axis side end of the first antenna portion 114-1.

アンテナ115は、物理的に一体化されている又は電気的に接続されている第1アンテナ部分115−1及び第2アンテナ部分115−2を含む。第1アンテナ部分115−1は、X軸方向に沿って延びる長手形状を有する。第2アンテナ部分115−2は、Y軸方向に沿って延びる長手形状を有する。第1アンテナ部分115−1は、第2アンテナ部分115−2の−Y軸側の端部を起点に、−X軸方向に向かって延びる。第2アンテナ部分115−2は、第1アンテナ部分115−1の+X軸側の端部を起点に、+Y軸方向に向かって延びる。   The antenna 115 includes a first antenna portion 115-1 and a second antenna portion 115-2 that are physically integrated or electrically connected. The first antenna portion 115-1 has a longitudinal shape extending along the X-axis direction. The second antenna portion 115-2 has a longitudinal shape extending along the Y-axis direction. The first antenna portion 115-1 extends in the −X-axis direction starting from the end portion on the −Y-axis side of the second antenna portion 115-2. The second antenna portion 115-2 extends in the + Y-axis direction starting from the end on the + X-axis side of the first antenna portion 115-1.

第1アンテナ部分112−1及び113−1は、Y軸方向に沿って並ぶ。第1アンテナ部分112−1の−Y軸側の端部と、第1アンテナ部分113−1の+Y軸側の端部との間には、数マイクロメートル程度のギャップ(つまり、間隙)116が確保される。第1アンテナ部分112−1及び113−1は、一対のアンテナを構成する。   The first antenna portions 112-1 and 113-1 are arranged along the Y-axis direction. A gap (that is, a gap) 116 of about several micrometers is formed between the −Y-axis side end of the first antenna portion 112-1 and the + Y-axis side end of the first antenna portion 113-1. Secured. The first antenna portions 112-1 and 113-1 constitute a pair of antennas.

第1アンテナ部分114−1及び115−1は、X軸方向に沿って並ぶ。第1アンテナ部分114−1の+X軸側の端部と、第1アンテナ部分115−1の−X軸側の端部との間には、ギャップ116が確保される。つまり、第1アンテナ部分112−1と第1アンテナ部分113−1との間のギャップ116は、第1アンテナ部分114−1と第1アンテナ部分115−1との間のギャップ116としても用いられる。第1アンテナ部分114−1及び115−1は、一対のアンテナを構成する。   The first antenna portions 114-1 and 115-1 are arranged along the X-axis direction. A gap 116 is secured between the end on the + X-axis side of the first antenna portion 114-1 and the end on the −X-axis side of the first antenna portion 115-1. That is, the gap 116 between the first antenna portion 112-1 and the first antenna portion 113-1 is also used as the gap 116 between the first antenna portion 114-1 and the first antenna portion 115-1. . The first antenna portions 114-1 and 115-1 constitute a pair of antennas.

光伝導素子110は、テラヘルツ波THz1を出射するために、主としてアンテナ112及び113を用いる。この場合、光伝導素子110は、テラヘルツ波THz1を出射するために、アンテナ112及び113(特に、第1アンテナ部分112−1及び113−1)を、一つのダイポールアンテナとして用いる。具体的には、ギャップ116には、アンテナ112及び113を介して、バイアス電圧生成部141から出力されるバイアス電圧が印加されている。有効なバイアス電圧(例えば、0Vでないバイアス電圧)がギャップ116に印加されている状態でポンプ光LB1がギャップ116に照射されると、光伝導素子110には、ポンプ光LB1による光励起によってキャリアが発生する。その結果、光伝導素子110には、発生したキャリアに応じたサブピコ秒オーダーの又はフェムト秒オーダーのパルス状の電流信号が発生する。その結果、光伝導素子110には、当該パルス状の電流信号に起因したテラヘルツ波THz1が発生する。   The photoconductive element 110 mainly uses the antennas 112 and 113 to emit the terahertz wave THz1. In this case, the photoconductive element 110 uses the antennas 112 and 113 (particularly, the first antenna portions 112-1 and 113-1) as one dipole antenna in order to emit the terahertz wave THz1. Specifically, a bias voltage output from the bias voltage generation unit 141 is applied to the gap 116 via the antennas 112 and 113. When the pump light LB1 is irradiated to the gap 116 in a state where an effective bias voltage (for example, a bias voltage other than 0 V) is applied to the gap 116, carriers are generated in the photoconductive element 110 by light excitation by the pump light LB1. To do. As a result, the photoconductive element 110 generates a pulsed current signal in the order of subpicoseconds or in the order of femtoseconds corresponding to the generated carriers. As a result, the terahertz wave THz1 resulting from the pulsed current signal is generated in the photoconductive element 110.

特に、第1アンテナ部分112−1及び113−1がY軸方向に沿って延びるダイポールアンテナとして用いられるがゆえに、光伝導素子110は、Y軸方向に対応する第1方向(典型的には、Y軸方向)に沿って振動する電場成分を有する直線偏光であるテラヘルツ波THz1を出射する。一方で、光伝導素子110は、Y軸方向に直交するX軸方向に対応する第2方向(典型的には、X軸方向)に沿って振動する電場成分を有する直線偏光であるテラヘルツ波THz1を殆ど又は全く出射しない。或いは、光伝導素子110が出射するテラヘルツ波THz1に対して、第2方向(典型的には、X軸方向)に沿って振動する電場成分を有する直線偏光であるテラヘルツ波THz1が占める割合は相対的に又は極めて小さい。   In particular, since the first antenna portions 112-1 and 113-1 are used as dipole antennas extending along the Y-axis direction, the photoconductive element 110 has a first direction corresponding to the Y-axis direction (typically, A terahertz wave THz1 which is linearly polarized light having an electric field component oscillating along the Y-axis direction is emitted. On the other hand, the photoconductive element 110 is a terahertz wave THz1 that is linearly polarized light having an electric field component that vibrates along a second direction (typically, the X-axis direction) corresponding to the X-axis direction orthogonal to the Y-axis direction. Little or no light. Alternatively, the proportion of the terahertz wave THz1 that is linearly polarized light having an electric field component oscillating along the second direction (typically the X-axis direction) is relative to the terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110. Or very small.

一方で、光伝導素子110は、テラヘルツ波THz2を検出するために、主としてアンテナ114及び115を用いる。この場合、光伝導素子110は、テラヘルツ波THz2を検出するために、アンテナ114及び115(特に、第1アンテナ部分114−1及び115−1)を、一つのダイポールアンテナとして用いる。具体的には、ギャップ116にプローブ光LB2が照射されると、光伝導素子110には、プローブ光LB2による光励起によってキャリアが発生する。その結果、キャリアに応じた電流信号が、アンテナ114及び115(特に、第1アンテナ部分114−1及び115−1)に流れる。プローブ光LB2がギャップ116に照射されている状態で光伝導素子110にテラヘルツ波THz2が照射されると、アンテナ114及び115に流れる電流信号の信号強度は、テラヘルツ波THz2の光強度に応じて変化する。テラヘルツ波THz2の光強度に応じて信号強度が変化する電流信号は、アンテナ114及び115(特に、第2アンテナ部分114−2及び115−2)を介して、I−V変換部142に出力される。   On the other hand, the photoconductive element 110 mainly uses the antennas 114 and 115 to detect the terahertz wave THz2. In this case, the photoconductive element 110 uses the antennas 114 and 115 (particularly, the first antenna portions 114-1 and 115-1) as one dipole antenna in order to detect the terahertz wave THz2. Specifically, when the probe light LB2 is irradiated to the gap 116, carriers are generated in the photoconductive element 110 by light excitation by the probe light LB2. As a result, a current signal corresponding to the carrier flows through the antennas 114 and 115 (particularly, the first antenna portions 114-1 and 115-1). When the photoconductive element 110 is irradiated with the terahertz wave THz2 while the probe light LB2 is irradiated to the gap 116, the signal intensity of the current signal flowing through the antennas 114 and 115 changes according to the light intensity of the terahertz wave THz2. To do. A current signal whose signal intensity changes according to the light intensity of the terahertz wave THz2 is output to the IV conversion unit 142 via the antennas 114 and 115 (particularly, the second antenna portions 114-2 and 115-2). The

特に、第1アンテナ部分114−1及び115−1がX軸方向に沿って延びるダイポールアンテナとして用いられるがゆえに、光伝導素子110は、X軸方向に対応する第2方向(典型的には、X軸方向)に沿って振動する電場成分を有する直線偏光であるテラヘルツ波THz2を検出する。一方で、光伝導素子110は、X軸方向に直交するY軸方向に対応する第1方向(典型的には、Y軸方向)に沿って振動する電場成分を有する直線偏光であるテラヘルツ波THz1を殆ど又は全く検出しない。従って、光伝導素子110によるテラヘルツ波THz2の検出感度は、光伝導素子110によるテラヘルツ波THz1の検出感度よりも高くなる。   In particular, since the first antenna portions 114-1 and 115-1 are used as dipole antennas extending along the X-axis direction, the photoconductive element 110 has a second direction corresponding to the X-axis direction (typically, A terahertz wave THz2 which is linearly polarized light having an electric field component oscillating along the (X-axis direction) is detected. On the other hand, the photoconductive element 110 is a terahertz wave THz1 that is linearly polarized light having an electric field component that vibrates along a first direction (typically, the Y-axis direction) corresponding to the Y-axis direction orthogonal to the X-axis direction. Is detected little or no. Therefore, the detection sensitivity of the terahertz wave THz2 by the photoconductive element 110 is higher than the detection sensitivity of the terahertz wave THz1 by the photoconductive element 110.

尚、図2に示す光伝導素子111は、一例である。従って、テラヘルツ波検出装置1は、光伝導素子111に代えて、テラヘルツ波THz1を出射し且つテラヘルツ波THz2を検出可能な構造であって、図2に示す構造とは異なる構造を有する他の光伝導素子を備えていてもよい。例えば、テラヘルツ波検出装置1は、第1方向に沿って振動する電場成分を有するテラヘルツ波THz1を出射可能な一対の第1アンテナと第2方向に沿って振動する電場成分を有するテラヘルツ波THz2を検出可能な一対の第2アンテナとを備える他の光伝導素子を備えていてもよい。   The photoconductive element 111 shown in FIG. 2 is an example. Therefore, the terahertz wave detection device 1 has a structure that emits the terahertz wave THz1 and can detect the terahertz wave THz2 instead of the photoconductive element 111, and has another structure that is different from the structure shown in FIG. A conductive element may be provided. For example, the terahertz wave detection device 1 generates a pair of first antennas that can emit a terahertz wave THz1 having an electric field component that oscillates along a first direction and a terahertz wave THz2 that has an electric field component that oscillates along a second direction. Another photoconductive element including a pair of detectable second antennas may be provided.

他の光伝導素子では、一対の第1アンテナの間のギャップと、一対の第2アンテナの間のギャップとが別個独立に確保されてもよい。この場合、一対の第1アンテナの間のギャップにポンプ光LB1が照射され且つ一対の第2アンテナの間のギャップにプローブ光LB2が照射されるように、ポンプ光LB1及びプローブ光LB2を他の光伝導素子に導く光学系が調整されることが好ましい。   In another photoconductive element, the gap between the pair of first antennas and the gap between the pair of second antennas may be ensured separately and independently. In this case, the pump light LB1 and the probe light LB2 are applied to other gaps so that the gap between the pair of first antennas is irradiated with the pump light LB1 and the gap between the pair of second antennas is irradiated with the probe light LB2. It is preferable to adjust the optical system leading to the photoconductive element.

(1−3)テラヘルツ波THzの出射及び検出に関するタイミングチャート
続いて、図3を参照しながら、光伝導素子110がテラヘルツ波THz1を出射し且つテラヘルツ波THz2を検出するタイミングの一例について説明する。図3は、光伝導素子110がテラヘルツ波THz1を出射し且つテラヘルツ波THz2を検出するタイミングの一例を示すタイミングチャートである。
(1-3) Timing Chart Regarding Terahertz Wave THz Emission and Detection Subsequently, an example of timing at which the photoconductive element 110 emits the terahertz wave THz1 and detects the terahertz wave THz2 will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a timing chart showing an example of timing at which the photoconductive element 110 emits the terahertz wave THz1 and detects the terahertz wave THz2.

図3に示すように、時刻t31において、パルスレーザ装置1がレーザ光LBを出射するものとする。この場合、光伝導素子110のギャップ116には、時刻t31よりも遅い時刻t32においてポンプ光LB1が照射される。その結果、光伝導素子110は、時刻t32において、テラヘルツ波THz1を出射する。   As shown in FIG. 3, it is assumed that the pulse laser device 1 emits the laser beam LB at time t31. In this case, the gap 116 of the photoconductive element 110 is irradiated with the pump light LB1 at time t32 later than time t31. As a result, the photoconductive element 110 emits the terahertz wave THz1 at time t32.

一方で、光伝導素子110のギャップ116には、時刻t31よりも遅い時刻t33において、プローブ光LB2が照射される。その結果、光伝導素子110は、時刻t33において、テラヘルツ波THz2を検出する。   On the other hand, the gap 116 of the photoconductive element 110 is irradiated with the probe light LB2 at time t33 later than time t31. As a result, the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz2 at time t33.

但し、光伝導素子110が出射したテラヘルツ波THz1がテラヘルツ波THz2として光伝導素子110に戻ってくる第1のタイミングと、プローブ光LB2が光伝導素子110のギャップ116に照射される第2のタイミングとが一致又は重複しなければ、光伝導素子110は、時刻t33において、テラヘルツ波THz2を検出することができない。このため、計測装置1は、第1のタイミングと第2のタイミングとを一致又は重複させるために、時刻t33を調整する。ここで、時刻t33と時刻t32との間の時間差は、光学遅延機構120が調整する光路長差に比例する。つまり、時刻t33は、実質的には、光学遅延機構120によって調整される。このため、光学遅延機構120が調整する光路長差がある特定の光路長差になった時点で、第1のタイミングと第2のタイミングとが一致する。以降は、特定の光路長差を中心に光学遅延機構120によって光路長差が調整されながら、光伝導素子110がテラヘルツ波THz2を繰り返し検出する。その結果、光伝導素子110は、ポンプ・プローブ法を用いて、テラヘルツ波THz2の波形を間接的に取得することができる。   However, the first timing at which the terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110 returns to the photoconductive element 110 as the terahertz wave THz2, and the second timing at which the probe light LB2 is applied to the gap 116 of the photoconductive element 110. Does not match or overlap, the photoconductive element 110 cannot detect the terahertz wave THz2 at time t33. For this reason, the measuring device 1 adjusts the time t33 in order to make the first timing coincide with or overlap the second timing. Here, the time difference between time t33 and time t32 is proportional to the optical path length difference adjusted by the optical delay mechanism 120. That is, the time t33 is substantially adjusted by the optical delay mechanism 120. For this reason, the first timing and the second timing coincide with each other when the optical path length difference adjusted by the optical delay mechanism 120 reaches a specific optical path length difference. Thereafter, the photoconductive element 110 repeatedly detects the terahertz wave THz2 while the optical delay mechanism 120 adjusts the optical path length difference around a specific optical path length difference. As a result, the photoconductive element 110 can indirectly acquire the waveform of the terahertz wave THz2 using the pump-probe method.

尚、テラヘルツ波THz1を出射するために用いられる第1アンテナ部分112−1と第1アンテナ部分113−1との間のギャップ116は、テラヘルツ波THz2を検出するために用いられる第1アンテナ部分114−1と第1アンテナ部分115−1との間のギャップ116としても用いられることは上述したとおりである。この場合、ギャップ116にプローブ光LB2が照射される場合には、光伝導素子110は、テラヘルツ波THz2を検出すると同時に、テラヘルツ波THz1を出射する可能性がある。光伝導素子110がテラヘルツ波THz2を検出すると同時にテラヘルツ波THz1を出射する場合には、光伝導素子110は、光伝導素子110が出射したもののいまだ試料10によって反射されていないテラヘルツ波THz1を、試料10によって反射されたテラヘルツ波THz2として誤って検出してしまいかねないとも想定される。しかしながら、上述したように、テラヘルツ波THz1を出射するために用いられる第1アンテナ部分112−1及び113−1がY軸方向に延びる一方で、テラヘルツ波THz2を検出するために用いられる第1アンテナ部分114−1及び115−1がX軸方向に延びている。つまり、光伝導素子110によるテラヘルツ波THz2の検出感度は、光伝導素子110によるテラヘルツ波THz1の検出感度よりも高くなる。従って、光伝導素子110がテラヘルツ波THz1をテラヘルツ波THz2として誤って検出する可能性が相対的に小さくなる。このため、光伝導素子110は、テラヘルツ波THz1を出射しつつも、テラヘルツ波TH2を好適に検出することができる。   Note that a gap 116 between the first antenna portion 112-1 and the first antenna portion 113-1 used for emitting the terahertz wave THz1 is a first antenna portion 114 used for detecting the terahertz wave THz2. -1 and the first antenna portion 115-1 are also used as the gap 116 as described above. In this case, if the gap 116 is irradiated with the probe light LB2, the photoconductive element 110 may emit the terahertz wave THz1 at the same time as detecting the terahertz wave THz2. When the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz2 and emits the terahertz wave THz1 at the same time, the photoconductive element 110 outputs the terahertz wave THz1 that has been emitted from the photoconductive element 110 but has not yet been reflected by the sample 10. It is assumed that it may be erroneously detected as the terahertz wave THz2 reflected by 10. However, as described above, the first antenna portions 112-1 and 113-1 used for emitting the terahertz wave THz1 extend in the Y-axis direction, while the first antenna used for detecting the terahertz wave THz2. The portions 114-1 and 115-1 extend in the X-axis direction. That is, the detection sensitivity of the terahertz wave THz2 by the photoconductive element 110 is higher than the detection sensitivity of the terahertz wave THz1 by the photoconductive element 110. Therefore, the possibility that the photoconductive element 110 erroneously detects the terahertz wave THz1 as the terahertz wave THz2 is relatively reduced. For this reason, the photoconductive element 110 can suitably detect the terahertz wave TH2 while emitting the terahertz wave THz1.

以上説明したように、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1は、テラヘルツ波THz1を出射し、且つ、テラヘルツ波THz2を検出する単一の光伝導素子110を備える。つまり、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1は、テラヘルツ波THz1を出射する光伝導素子と、テラヘルツ波THz2を検出する光伝導素子とを別個独立に備えていなくてもよい。このため、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1は、光伝導素子110から試料10に向かうテラヘルツ波THz1と試料10から光伝導素子110に向かうテラヘルツ波THz2とをそもそも分離しなくてもよい。従って、テラヘルツ波THz1及びTHz2のうちの少なくとも一方の光路にハーフミラー又は偏光ビームスプリッタを配置することでテラヘルツ波THz1とテラヘルツ波THz2とを分離する第1比較例のテラヘルツ波計測装置と比較して、光伝導素子110が検出するテラヘルツ波THzの強度が高くなる。その結果、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1は、試料10によって反射されたテラヘルツ波THz2を効率的に検出することができる。更に、テラヘルツ波THz1を出射する光伝導素子とテラヘルツ波THz2を検出する光伝導素子とを別個独立に備える第2比較例のテラヘルツ波計測装置と比較して、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1のサイズの増大が抑制される。   As described above, the terahertz wave measuring apparatus 1 according to the first embodiment includes the single photoconductive element 110 that emits the terahertz wave THz1 and detects the terahertz wave THz2. That is, the terahertz wave measuring apparatus 1 according to the first embodiment may not include the photoconductive element that emits the terahertz wave THz1 and the photoconductive element that detects the terahertz wave THz2 separately. For this reason, the terahertz wave measuring apparatus 1 according to the first embodiment does not need to separate the terahertz wave THz1 from the photoconductive element 110 toward the sample 10 and the terahertz wave THz2 from the sample 10 toward the photoconductive element 110 in the first place. Therefore, in comparison with the terahertz wave measuring apparatus of the first comparative example that separates the terahertz wave THz1 and the terahertz wave THz2 by arranging a half mirror or a polarizing beam splitter in at least one optical path of the terahertz waves THz1 and THz2. The intensity of the terahertz wave THz detected by the photoconductive element 110 is increased. As a result, the terahertz wave measuring apparatus 1 according to the first embodiment can efficiently detect the terahertz wave THz2 reflected by the sample 10. Furthermore, the terahertz wave measuring apparatus of the first embodiment is compared with the terahertz wave measuring apparatus of the second comparative example that is provided with a photoconductive element that emits the terahertz wave THz1 and a photoconductive element that detects the terahertz wave THz2 separately. The increase in the size of 1 is suppressed.

更に、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1では、光伝導素子110が出射するテラヘルツ波THzの偏光方向(つまり、テラヘルツ波THz1を構成する電場の振動方向)と光伝導素子110が検出するテラヘルツ波THz2の偏光方向とが異なる。このため、単一の光伝導素子110がテラヘルツ波THz1を出射しつつも、テラヘルツ波THz2を検出することができる。   Further, in the terahertz wave measuring apparatus 1 according to the first embodiment, the polarization direction of the terahertz wave THz emitted from the photoconductive element 110 (that is, the vibration direction of the electric field constituting the terahertz wave THz1) and the terahertz detected by the photoconductive element 110 are detected. The polarization direction of the wave THz2 is different. For this reason, the terahertz wave THz2 can be detected while the single photoconductive element 110 emits the terahertz wave THz1.

(2)第2実施例のテラヘルツ波計測装置2
続いて、第2実施例のテラヘルツ波計測装置2について説明する。尚、第2実施例のテラヘルツ波計測装置2は、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1と比較して、光伝導素子110にバイアス電圧を印加するタイミングが異なると言う点で異なっている。第2実施例のテラヘルツ波計測装置2のその他の構成要件及び動作は、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1のその他の構成要件及び動作と同一であってもよい。従って、以下では、図4及び図5を参照しながら、第2実施例のテラヘルツ波計測装置2が光伝導素子110にバイアス電圧を印加するタイミングについて説明を進める。図4は、光伝導素子110がテラヘルツ波THz1を出射し且つテラヘルツ波THz2を検出するタイミングの一例を、光伝導素子110にバイアス電圧を印加するタイミングの一例と共に示すタイミングチャートである。図5は、交流電圧であるバイアス電圧を光伝導素子110に印加するタイミングの一例を示すタイミングチャートである。
(2) Terahertz wave measuring apparatus 2 of the second embodiment
Next, the terahertz wave measuring apparatus 2 according to the second embodiment will be described. The terahertz wave measuring apparatus 2 according to the second embodiment is different from the terahertz wave measuring apparatus 1 according to the first embodiment in that the timing at which the bias voltage is applied to the photoconductive element 110 is different. Other configuration requirements and operations of the terahertz wave measurement apparatus 2 of the second embodiment may be the same as other configuration requirements and operations of the terahertz wave measurement apparatus 1 of the first embodiment. Therefore, in the following, the timing at which the terahertz wave measuring apparatus 2 according to the second embodiment applies a bias voltage to the photoconductive element 110 will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a timing chart showing an example of the timing at which the photoconductive element 110 emits the terahertz wave THz1 and detects the terahertz wave THz2, together with an example of the timing at which the bias voltage is applied to the photoconductive element 110. FIG. 5 is a timing chart showing an example of timing for applying a bias voltage, which is an AC voltage, to the photoconductive element 110.

図4に示すように、第2実施例では、有効なバイアス電圧は、ポンプ光LB1が光伝導素子110のギャップ116に照射される第1期間中に、アンテナ112及び113に印加される。一方で、有効なバイアス電圧は、プローブ光LB2が光伝導素子110のギャップ116に照射される第2期間中に、アンテナ112及び113に印加されない。尚、参考までに、第1実施例では、有効なバイアス電圧は、ポンプ光LB1が光伝導素子110のギャップ116に照射される第1期間中のみならず、プローブ光LB2が光伝導素子110のギャップ116に照射される第2期間中にも、アンテナ112及び113に印加される。   As shown in FIG. 4, in the second embodiment, an effective bias voltage is applied to the antennas 112 and 113 during the first period in which the pump light LB1 is irradiated to the gap 116 of the photoconductive element 110. On the other hand, an effective bias voltage is not applied to the antennas 112 and 113 during the second period in which the probe light LB2 is applied to the gap 116 of the photoconductive element 110. For reference, in the first embodiment, the effective bias voltage is not only during the first period in which the pump light LB1 is applied to the gap 116 of the photoconductive element 110, but also when the probe light LB2 is applied to the photoconductive element 110. It is also applied to the antennas 112 and 113 during the second period during which the gap 116 is irradiated.

第1期間にバイアス電圧を印加する一方で第2期間にバイアス電圧を印加しないバイアス切替制御を行うために、テラヘルツ波計測装置2は、バイアス電圧生成部141とアンテナ112及び113のうちの少なくとも一方との間の電気的な接続を制御する制御機構(典型的には、スイッチ)を備えていてもよい。この場合、制御機構によってバイアス電圧生成部141とアンテナ112及び113のうちの少なくとも一方との間が電気的に接続されると、バイアス電圧がアンテナ112及び113に印加される。一方で、制御機構によってバイアス電圧生成部141とアンテナ112及び113のうちの少なくとも一方との間が電気的に遮断(絶縁)されると、バイアス電圧がアンテナ112及び113に印加されない。   In order to perform the bias switching control in which the bias voltage is applied in the first period and the bias voltage is not applied in the second period, the terahertz wave measuring apparatus 2 includes at least one of the bias voltage generation unit 141 and the antennas 112 and 113. There may be provided a control mechanism (typically a switch) for controlling the electrical connection between the two. In this case, when the bias voltage generator 141 and at least one of the antennas 112 and 113 are electrically connected by the control mechanism, the bias voltage is applied to the antennas 112 and 113. On the other hand, if the bias voltage generator 141 and at least one of the antennas 112 and 113 are electrically disconnected (insulated) by the control mechanism, the bias voltage is not applied to the antennas 112 and 113.

或いは、バイアス電圧生成部141自身が、バイアス切替制御を行ってもよい。つまり、バイアス電圧生成部141は、第1期間中に有効なバイアス電圧を生成する一方で、第2期間中に有効なバイアス電圧を生成しなくてもよい。   Alternatively, the bias voltage generation unit 141 itself may perform bias switching control. That is, the bias voltage generation unit 141 does not need to generate an effective bias voltage during the second period while generating an effective bias voltage during the first period.

第2実施例のテラヘルツ波計測装置2によれば、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1が享受する効果と同様の効果を好適に享受することができる。更に、第2実施例では、ギャップ116にプローブ光LB2が照射される第2期間中には、光伝導素子110は、テラヘルツ波THz2を検出するものの、テラヘルツ波THz1を出射することはない。従って、光伝導素子110がテラヘルツ波THz1をテラヘルツ波THz2として誤って検出する可能性がより一層小さくなる又はなくなる。このため、光伝導素子110は、テラヘルツ波THz1を出射しつつも、テラヘルツ波TH2を好適に検出することができる。   According to the terahertz wave measuring apparatus 2 of the second embodiment, it is possible to preferably enjoy the same effects as those received by the terahertz wave measuring apparatus 1 of the first embodiment. Further, in the second embodiment, during the second period in which the gap 116 is irradiated with the probe light LB2, the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz2, but does not emit the terahertz wave THz1. Therefore, the possibility that the photoconductive element 110 erroneously detects the terahertz wave THz1 as the terahertz wave THz2 is further reduced or eliminated. For this reason, the photoconductive element 110 can suitably detect the terahertz wave TH2 while emitting the terahertz wave THz1.

尚、バイアス電圧がロックイン検出部151の参照信号として用いられることは上述したとおりである。このため、図5の3段目のグラフに示すように、バイアス電圧は、正弦波状に電圧値が変化する交流電圧であることが多い。このように、バイアス電圧が交流電圧である場合であっても、テラヘルツ波計測装置2は、バイアス切替制御を行うことが好ましい。   Note that the bias voltage is used as a reference signal for the lock-in detection unit 151 as described above. For this reason, as shown in the third graph in FIG. 5, the bias voltage is often an alternating voltage whose voltage value changes in a sine wave shape. Thus, even when the bias voltage is an AC voltage, the terahertz wave measuring apparatus 2 preferably performs bias switching control.

ここで、バイアス電圧生成部141とアンテナ112及び113のうちの少なくとも一方との間の電気的な接続を制御する制御機構を用いてバイアス切替制御が行われる場合には、バイアス電圧生成部141は、図5の3段目のグラフに示す正弦波状に電圧値が変化する交流電圧をバイアス電圧として生成してもよい。この場合、ロックイン検出部151は、バイアス電圧生成部141が生成するバイアス電圧を参照信号として用いることができる。更に、制御機構の動作により、図5の4段目のグラフに示すように、実際に光伝導素子110に印加されるバイアス電圧は、第1期間中に有効な電圧値を有する一方で第2期間中に有効な電圧値を有さないパルス電圧となる。更に、第1期間中のパルス電圧の電圧値を結ぶ線は、正弦波状に変化する。   Here, when the bias switching control is performed using the control mechanism that controls the electrical connection between the bias voltage generation unit 141 and at least one of the antennas 112 and 113, the bias voltage generation unit 141 Alternatively, an alternating voltage whose voltage value changes in a sine wave shape shown in the third graph of FIG. 5 may be generated as a bias voltage. In this case, the lock-in detection unit 151 can use the bias voltage generated by the bias voltage generation unit 141 as a reference signal. Furthermore, the bias voltage actually applied to the photoconductive element 110 by the operation of the control mechanism has an effective voltage value during the first period as shown in the fourth graph of FIG. The pulse voltage does not have a valid voltage value during the period. Furthermore, the line connecting the voltage values of the pulse voltage during the first period changes in a sine wave shape.

一方で、バイアス電圧生成部141自身がバイアス切替制御を行う場合には、バイアス電圧生成部141は、バイアス電圧として、図5の4段目のグラフに示すように、第1期間中に有効な電圧値を有する一方で第2期間中に有効な電圧値を有さないパルス電圧であって且つ第1期間中のパルス電圧の電圧値を結ぶ線が正弦波状に変化するパルス電圧を生成することが好ましい。このようなパルス電圧がバイアス電圧として生成される場合には、ロックイン検出部151は、バイアス電圧生成部141が生成するバイアス電圧を参照信号として用いることができる。   On the other hand, when the bias voltage generation unit 141 itself performs bias switching control, the bias voltage generation unit 141 is effective as the bias voltage during the first period as shown in the fourth graph of FIG. A pulse voltage that has a voltage value but does not have an effective voltage value during the second period and in which a line connecting the voltage values of the pulse voltage during the first period changes in a sine wave form is generated. Is preferred. When such a pulse voltage is generated as a bias voltage, the lock-in detection unit 151 can use the bias voltage generated by the bias voltage generation unit 141 as a reference signal.

(3)第3実施例のテラヘルツ波計測装置3
続いて、第3実施例のテラヘルツ波計測装置3について説明する。尚、第2実施例のテラヘルツ波計測装置2は、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1と比較して、試料10が反射したテラヘルツ波THz2に加えて、試料10を透過したテラヘルツ波THz(以降、“テラヘルツ波THz3”と称する)をも検出すると言う点で異なっている。第3実施例のテラヘルツ波計測装置3のその他の構成要件及び動作は、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1のその他の構成要件及び動作と同一であってもよい。従って、以下では、図6を参照しながら、第3実施例のテラヘルツ波計測装置3を構成する構成要素のうちテラヘルツ波THz3を検出するための構成要素について説明を進める。図6は、第3実施例のテラヘルツ波計測装置3の構成を示すブロック図である。
(3) Terahertz wave measuring apparatus 3 of the third embodiment
Next, the terahertz wave measuring apparatus 3 according to the third embodiment will be described. In addition, the terahertz wave measuring apparatus 2 of the second embodiment is compared with the terahertz wave measuring apparatus 1 of the first embodiment, in addition to the terahertz wave THz2 reflected by the sample 10, the terahertz wave THz ( Hereinafter, “Terahertz wave THz3”) is also detected. Other configuration requirements and operations of the terahertz wave measurement apparatus 3 of the third embodiment may be the same as other configuration requirements and operations of the terahertz wave measurement apparatus 1 of the first embodiment. Therefore, in the following, with reference to FIG. 6, description will be given on the components for detecting the terahertz wave THz3 among the components constituting the terahertz wave measuring apparatus 3 of the third embodiment. FIG. 6 is a block diagram illustrating a configuration of the terahertz wave measuring apparatus 3 according to the third embodiment.

図6に示すように、テラヘルツ波計測装置3は、テラヘルツ波計測装置1と比較して、テラヘルツ波THz3を検出するための構成要素として、1/2波長板361と、光学遅延機構320と、反射鏡362と、直角プリズム370と、光伝導素子310とを更に備えていると言う点で異なっている。   As shown in FIG. 6, the terahertz wave measuring device 3 includes, as components for detecting the terahertz wave THz3, as compared with the terahertz wave measuring device 1, a half-wave plate 361, an optical delay mechanism 320, The difference is that it further includes a reflecting mirror 362, a right-angle prism 370, and a photoconductive element 310.

試料10を透過したテラヘルツ波THz3は、直角プリズム370に入射する。直角プリズム370は、第1面371と、第2面372と、第3面373とを備える。第1面371は、試料10を透過したテラヘルツ波THz3が入射する光学面である。第2面372は、第1面271を介して直角プリズム370の内部に伝搬してきたテラヘルツ波THz3を反射する光学面である。第3面373は、第1面371に対して90°の角度で交わると共に、第2面372によって反射されたテラヘルツ波THz3が出射する光学面である。   The terahertz wave THz3 transmitted through the sample 10 enters the right-angle prism 370. The right-angle prism 370 includes a first surface 371, a second surface 372, and a third surface 373. The first surface 371 is an optical surface on which the terahertz wave THz3 transmitted through the sample 10 is incident. The second surface 372 is an optical surface that reflects the terahertz wave THz3 that has propagated into the right-angle prism 370 through the first surface 271. The third surface 373 is an optical surface that intersects the first surface 371 at an angle of 90 ° and emits the terahertz wave THz3 reflected by the second surface 372.

試料10を透過したテラヘルツ波THz3は、直角プリズム370の第2面372によって反射されることで、光伝導素子310に向かって伝搬する。光伝導素子310の構造は、光伝導素子110の構造と同一である。但し、光伝導素子310はテラヘルツ波THz1を出射しなくてもよい。このため、光伝導素子310は、アンテナ112及びアンテナ113を備えていなくてもよい。   The terahertz wave THz3 transmitted through the sample 10 is reflected by the second surface 372 of the right-angle prism 370 and propagates toward the photoconductive element 310. The structure of the photoconductive element 310 is the same as that of the photoconductive element 110. However, the photoconductive element 310 may not emit the terahertz wave THz1. For this reason, the photoconductive element 310 may not include the antenna 112 and the antenna 113.

光伝導素子310がテラヘルツ波THz3を検出するために、光伝導素子310には、プローブ光LB2が照射される。具体的には、第3実施例では、光学遅延機構120によって光路長が調整されたプローブ光LB2は、1/2波長板361を介して、偏光ビームスプリッタ163に入射する。偏光ビームスプリッタ163は、プローブ光LB2のうちの第1偏光成分(例えば、第5方向に沿って振動する電場成分を有する偏光成分)を、光伝導素子110に入射するプローブ光LB2として反射する。一方で、偏光ビームスプリッタ163は、プローブ光LB2のうちの第2偏光成分(例えば、第6方向に沿って振動する電場成分を有する偏光成分)を、光伝導素子310に入射するプローブ光LB2(以降、光伝導素子310に入射するプローブ光LB2を、光伝導素子110に入射するプローブ光LB2と区別するために、“プローブ光LB3”と称する)として透過させる。プローブ光LB2は、光伝導素子110のギャップ116に照射される。一方で、プローブ光LB3は、不図示の導光路、光学遅延機構320及び反射鏡362を介して、光伝導素子310のギャップ116に照射される。   In order for the photoconductive element 310 to detect the terahertz wave THz3, the photoconductive element 310 is irradiated with the probe light LB2. Specifically, in the third embodiment, the probe light LB2 whose optical path length is adjusted by the optical delay mechanism 120 enters the polarization beam splitter 163 via the half-wave plate 361. The polarization beam splitter 163 reflects a first polarization component (for example, a polarization component having an electric field component oscillating along the fifth direction) in the probe light LB2 as the probe light LB2 incident on the photoconductive element 110. On the other hand, the polarization beam splitter 163 receives the second polarization component (for example, a polarization component having an electric field component oscillating along the sixth direction) of the probe light LB2 and enters the photoconductive element 310 with the probe light LB2 ( Thereafter, the probe light LB2 incident on the photoconductive element 310 is transmitted as “probe light LB3” in order to distinguish it from the probe light LB2 incident on the photoconductive element 110). The probe light LB2 is applied to the gap 116 of the photoconductive element 110. On the other hand, the probe light LB3 is irradiated to the gap 116 of the photoconductive element 310 via a light guide path (not shown), the optical delay mechanism 320, and the reflecting mirror 362.

尚、光伝導素子110に入射するプローブ光LB2の強度と光伝導素子310に入射するプローブ光LB3の強度との比は、上述した1/2波長板361に依存して決まる。より具体的には、光伝導素子110に入射するプローブ光LB2の強度と光伝導素子310に入射するプローブ光LB3の強度との比は、1/2波長板361に入射するプローブ光LB2の偏光面の方位角(つまり、プローブ光LB2を構成する電場の振動方向)と1/2波長板361の高速軸とのずれ量に依存して決まる。   The ratio of the intensity of the probe light LB2 incident on the photoconductive element 110 and the intensity of the probe light LB3 incident on the photoconductive element 310 is determined depending on the half-wave plate 361 described above. More specifically, the ratio between the intensity of the probe light LB2 incident on the photoconductive element 110 and the intensity of the probe light LB3 incident on the photoconductive element 310 is the polarization of the probe light LB2 incident on the half-wave plate 361. It is determined depending on the amount of deviation between the azimuth angle of the surface (that is, the vibration direction of the electric field constituting the probe light LB2) and the high speed axis of the half-wave plate 361.

ここで、ポンプ・プローブ法を用いてテラヘルツ波計測装置3がテラヘルツ波THz3の波形を間接的に検出するためには、ポンプ光LB1の光路長とプローブ光LB3の光路長との間の差分(つまり、光路長差)が調整される必要がある。一方で、プローブ光LB3が光学遅延機構120を通過してきたプローブ光LB2のうちの一部であることを考慮すると、プローブ光LB3の光路長は、光学遅延機構120によって既に調整されていると言える。従って、第3実施例では、光学遅延機構320は、ポンプ光LB1の光路長とプローブ光LB3の光路長との間の差分(つまり、光路長差)を調整するために、プローブ光LB3の光路長を調整しなくてもよい。   Here, in order for the terahertz wave measuring apparatus 3 to indirectly detect the waveform of the terahertz wave THz3 using the pump-probe method, the difference between the optical path length of the pump light LB1 and the optical path length of the probe light LB3 ( That is, the optical path length difference) needs to be adjusted. On the other hand, considering that the probe light LB3 is a part of the probe light LB2 that has passed through the optical delay mechanism 120, it can be said that the optical path length of the probe light LB3 has already been adjusted by the optical delay mechanism 120. . Therefore, in the third embodiment, the optical delay mechanism 320 adjusts the optical path length of the probe light LB3 in order to adjust the difference between the optical path length of the pump light LB1 and the optical path length of the probe light LB3 (that is, the optical path length difference). It is not necessary to adjust the length.

但し、第3実施例では、光学遅延機構320は、光伝導素子110が出射したテラヘルツ波THz1がテラヘルツ波THz3として光伝導素子310に戻ってくる第3のタイミングと、プローブ光LB3が光伝導素子310のギャップ116に照射される第4のタイミングとが一致又は重複するように、プローブ光LB3の光路長を調整する。光学遅延機構320は、第3のタイミングと第4のタイミングとが一旦一致又は重複した後には、プローブ光LB3の光路長を調整しなくてもよい。つまり、光学遅延機構320は、第3のタイミングと第4のタイミングとが一旦一致した後には、プローブ光LB3の光路長を固定してもよい。   However, in the third embodiment, the optical delay mechanism 320 is configured such that the terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110 returns to the photoconductive element 310 as the terahertz wave THz3, and the probe light LB3 is the photoconductive element. The optical path length of the probe light LB3 is adjusted so that the fourth timing irradiated to the gap 116 of 310 matches or overlaps. The optical delay mechanism 320 does not need to adjust the optical path length of the probe light LB3 after the third timing and the fourth timing once match or overlap. That is, the optical delay mechanism 320 may fix the optical path length of the probe light LB3 after the third timing and the fourth timing are once matched.

以降は、光学遅延機構120によってポンプ光LB1の光路長とプローブ光LB3の光路長との間の差分(光路長差)が調整されながら、光伝導素子310がテラヘルツ波THz3を繰り返し検出する。その結果、光伝導素子310は、ポンプ・プローブ法を用いて、テラヘルツ波THz3の波形を間接的に取得することができる。   Thereafter, the photoconductive element 310 repeatedly detects the terahertz wave THz3 while adjusting the difference (optical path length difference) between the optical path length of the pump light LB1 and the optical path length of the probe light LB3 by the optical delay mechanism 120. As a result, the photoconductive element 310 can indirectly acquire the waveform of the terahertz wave THz3 using the pump-probe method.

ここで、図7を参照しながら、光伝導素子110がテラヘルツ波THz1を出射し且つテラヘルツ波THz2を検出するタイミング及び光伝導素子310がテラヘルツ波THz3を検出するタイミングの一例について説明する。図7は、光伝導素子110がテラヘルツ波THz1を出射し且つテラヘルツ波THz2を検出するタイミング及び光伝導素子310がテラヘルツ波THz3を検出するタイミングの一例を示すタイミングチャートである。   Here, an example of the timing at which the photoconductive element 110 emits the terahertz wave THz1 and detects the terahertz wave THz2 and the timing at which the photoconductive element 310 detects the terahertz wave THz3 will be described with reference to FIG. FIG. 7 is a timing chart showing an example of the timing at which the photoconductive element 110 emits the terahertz wave THz1 and detects the terahertz wave THz2, and the timing at which the photoconductive element 310 detects the terahertz wave THz3.

図7に示すように、時刻t71において、パルスレーザ装置1がレーザ光LBを出射するものとする。この場合、光伝導素子110のギャップ116には、時刻t71よりも遅い時刻t72においてポンプ光LB1が照射される。その結果、光伝導素子110は、時刻t72において、テラヘルツ波THz1を出射する。   As shown in FIG. 7, it is assumed that the pulse laser device 1 emits the laser beam LB at time t71. In this case, the gap 116 of the photoconductive element 110 is irradiated with the pump light LB1 at time t72 later than time t71. As a result, the photoconductive element 110 emits the terahertz wave THz1 at time t72.

一方で、光伝導素子110のギャップ116には、時刻t71よりも遅い時刻t73において、プローブ光LB2が照射される。その結果、光伝導素子110は、時刻t73において、テラヘルツ波THz2を検出する。但し、第3実施例においても、第1実施例と同様に、光伝導素子110が出射したテラヘルツ波THz1がテラヘルツ波THz2として光伝導素子110に戻ってくる第1のタイミングとプローブ光LB2が光伝導素子110のギャップ116に照射される第2のタイミングとを一致又は重複させるために、時刻t73が光学遅延機構120によって調整される。このため、光学遅延機構120が調整するポンプ光LB1とプローブ光LB2の光路長差がある特定の第1光路長差になった時点で、第1のタイミングと第2のタイミングとが一致する。以降は、特定の第1光路長差を中心に光学遅延機構120によってポンプ光LB1とプローブ光LB2の光路長差が調整されながら、光伝導素子110がテラヘルツ波THz2を繰り返し検出する。その結果、光伝導素子110は、ポンプ・プローブ法を用いて、テラヘルツ波THz2の波形を間接的に取得することができる。   On the other hand, the gap 116 of the photoconductive element 110 is irradiated with the probe light LB2 at time t73 later than time t71. As a result, the photoconductive element 110 detects the terahertz wave THz2 at time t73. However, in the third embodiment, as in the first embodiment, the first timing when the terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110 returns to the photoconductive element 110 as the terahertz wave THz2 and the probe light LB2 are light. The time t73 is adjusted by the optical delay mechanism 120 in order to match or overlap with the second timing irradiated to the gap 116 of the conductive element 110. For this reason, the first timing and the second timing coincide with each other when the optical path length difference between the pump light LB1 and the probe light LB2 adjusted by the optical delay mechanism 120 reaches a specific first optical path length difference. Thereafter, the photoconductive element 110 repeatedly detects the terahertz wave THz2 while the optical path length difference between the pump light LB1 and the probe light LB2 is adjusted by the optical delay mechanism 120 around the specific first optical path length difference. As a result, the photoconductive element 110 can indirectly acquire the waveform of the terahertz wave THz2 using the pump-probe method.

他方で、光伝導素子310のギャップ116には、時刻t71よりも遅い時刻t74において、プローブ光LB3が照射される。その結果、光伝導素子310は、時刻t74において、テラヘルツ波THz3を検出する。但し、上述したように、光伝導素子110が出射したテラヘルツ波THz1がテラヘルツ波THz3として光伝導素子310に戻ってくる第3のタイミングとプローブ光LB3が光伝導素子310のギャップ116に照射される第4のタイミングとを一致又は重複させるために、時刻t74が光学遅延機構320によって調整される。具体的には、光学遅延機構320は、時刻t74を調整するために、プローブ光LB3の光路長を調整する。光学遅延機構320が調整するプローブ光LB3の光路長がある特定の第2光路長になった時点で、第3のタイミングと第4のタイミングとが一致する。以降は、光学遅延機構320は、プローブ光LB3の光路長を調整しない。一方で、光学遅延機構120によってポンプ光LB1とプローブ光LB2の光路長差が調整されると、ポンプ光LB1とプローブ光LB3の光路長差もまた調整される。従って、光学遅延機構120によってポンプ光LB1とプローブ光LB3の光路長差が調整されながら、光伝導素子310がテラヘルツ波THz3を繰り返し検出する。その結果、光伝導素子310は、ポンプ・プローブ法を用いて、テラヘルツ波THz3の波形を間接的に取得することができる。   On the other hand, the gap 116 of the photoconductive element 310 is irradiated with the probe light LB3 at time t74 which is later than time t71. As a result, the photoconductive element 310 detects the terahertz wave THz3 at time t74. However, as described above, the third timing when the terahertz wave THz1 emitted from the photoconductive element 110 returns to the photoconductive element 310 as the terahertz wave THz3 and the probe light LB3 are irradiated to the gap 116 of the photoconductive element 310. The time t74 is adjusted by the optical delay mechanism 320 in order to match or overlap the fourth timing. Specifically, the optical delay mechanism 320 adjusts the optical path length of the probe light LB3 in order to adjust the time t74. When the optical path length of the probe light LB3 adjusted by the optical delay mechanism 320 reaches a certain second optical path length, the third timing matches the fourth timing. Thereafter, the optical delay mechanism 320 does not adjust the optical path length of the probe light LB3. On the other hand, when the optical path length difference between the pump light LB1 and the probe light LB2 is adjusted by the optical delay mechanism 120, the optical path length difference between the pump light LB1 and the probe light LB3 is also adjusted. Accordingly, the photoconductive element 310 repeatedly detects the terahertz wave THz3 while the optical path length difference between the pump light LB1 and the probe light LB3 is adjusted by the optical delay mechanism 120. As a result, the photoconductive element 310 can indirectly acquire the waveform of the terahertz wave THz3 using the pump-probe method.

第3実施例のテラヘルツ波計測装置3によれば、第1実施例のテラヘルツ波計測装置1が享受する効果と同様の効果を好適に享受することができる。更に、第3実施例では、試料10が反射したテラヘルツ波THz2のみならず、試料10を透過したテラヘルツ波THz3も検出される。従って、テラヘルツ波計測装置3は、試料10の特性をより高精度に計測することができる。   According to the terahertz wave measuring apparatus 3 of the third embodiment, it is possible to suitably enjoy the same effects as those received by the terahertz wave measuring apparatus 1 of the first embodiment. Furthermore, in the third embodiment, not only the terahertz wave THz2 reflected by the sample 10 but also the terahertz wave THz3 transmitted through the sample 10 is detected. Therefore, the terahertz wave measuring apparatus 3 can measure the characteristics of the sample 10 with higher accuracy.

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う計測装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the gist or concept of the invention that can be read from the claims and the entire specification. Moreover, it is included in the technical scope of the present invention.

1、2、3 テラヘルツ波計測装置
10 試料
101 パルスレーザ装置
110 光伝導素子
111 基板
112、113、114、115 アンテナ
116 ギャップ
120 光学遅延機構
150 制御部
151 ロックイン検出部
152 信号処理部
162、163 ビームスプリッタ
170 直角プリズム
310 光伝導素子
320 光学遅延機構
361 1/2波長板
362 反射鏡
370 直角プリズム
LB1 ポンプ光
LB2 プローブ光
LB3 プローブ光
THz、THz1、THz2、THz3 テラヘルツ波
1, 2, 3 Terahertz wave measuring device 10 Sample 101 Pulse laser device 110 Photoconductive element 111 Substrate 112, 113, 114, 115 Antenna 116 Gap 120 Optical delay mechanism 150 Control unit 151 Lock-in detection unit 152 Signal processing unit 162, 163 Beam splitter 170 Right angle prism 310 Photoconductive element 320 Optical delay mechanism 361 Half wave plate 362 Reflector 370 Right angle prism LB1 Pump light LB2 Probe light LB3 Probe light THz, THz1, THz2, THz3 Terahertz wave

Claims (6)

試料に向けて第1方向に偏光しているテラヘルツ波を出射し、前記試料によって反射され且つ前記第1方向とは異なる第2方向に偏光している前記テラヘルツ波を検出する単一の光伝導素子と、
前記テラヘルツ波の検出結果に基づいて試料の特性を計測する計測部と
を備え、
前記光伝導素子による前記第2方向に偏光している前記テラヘルツ波の検出感度は、前記第1方向に偏光している前記テラヘルツ波の検出感度よりも高い
ことを特徴とする計測装置。
A single photoconductive device that emits a terahertz wave polarized in a first direction toward the sample and detects the terahertz wave reflected by the sample and polarized in a second direction different from the first direction. Elements,
A measurement unit that measures the characteristics of the sample based on the detection result of the terahertz wave,
The measurement apparatus according to claim 1, wherein the photoconductive element has higher detection sensitivity of the terahertz wave polarized in the second direction than detection sensitivity of the terahertz wave polarized in the first direction.
前記光伝導素子は、
前記第1方向に偏光している前記テラヘルツ波を出射すると共に間隙が間に確保されている一対の第1電極と、
前記第2方向に偏光している前記テラヘルツ波を検出すると共に前記一対の第1電極の間に確保されている前記間隙が間に確保されている一対の第2電極と
を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の計測装置。
The photoconductive element is:
A pair of first electrodes for emitting the terahertz wave polarized in the first direction and having a gap therebetween;
A pair of second electrodes that detect the terahertz wave polarized in the second direction and that have the gap secured between the pair of first electrodes. The measuring device according to claim 1.
前記一対の第1電極の夫々は、前記第1方向に応じた第3方向に沿って延びる長手形状を有しており、
前記一対の第2電極の夫々は、前記第3方向とは異なり且つ前記第2方向に応じた第4方向に沿って延びる長手形状を有している
ことを特徴とする請求項2に記載の計測装置。
Each of the pair of first electrodes has a longitudinal shape extending along a third direction corresponding to the first direction,
3. The pair of second electrodes each have a longitudinal shape that is different from the third direction and extends along a fourth direction corresponding to the second direction. 4. Measuring device.
所定の励起光を第1励起光と第2励起光とに分岐する第1光学素子と、
前記第2励起光の光路長を調整する第2光学素子と、
前記第1励起光と前記光路長が調整された前記第2励起光とが同一の光路を伝搬するように、前記第1励起光と前記光路長が調整された前記第2励起光とを前記光伝導素子に導く第3光学素子と
を更に備え、
前記第3光学素子が導く前記第1励起光及び前記第2励起光の夫々が、前記間隙に照射される
ことを特徴とする請求項2又は3に記載の計測装置。
A first optical element for branching predetermined excitation light into first excitation light and second excitation light;
A second optical element for adjusting an optical path length of the second excitation light;
The first excitation light and the second excitation light having the adjusted optical path length are transmitted so that the first excitation light and the second excitation light having the adjusted optical path length propagate through the same optical path. A third optical element that leads to the photoconductive element;
4. The measurement apparatus according to claim 2, wherein each of the first excitation light and the second excitation light guided by the third optical element is applied to the gap. 5.
前記光伝導素子は、(i)第1励起光が前記間隙に照射されている第1期間中に、前記第1方向に偏光している前記テラヘルツ波を出射し、(ii)第2励起光が前記間隙に照射されている第2期間中に、前記第2方向に偏光している前記テラヘルツ波を検出し、
前記第1期間中に、前記一対の第1電極に、前記テラヘルツ波を出射させるためのバイアス電圧を印加する一方で、前記第2期間中に、前記一対の第1電極に前記バイアス電圧を印加しない印加部を更に備える
ことを特徴とする請求項2から4のいずれか一項に記載の計測装置。
The photoconductive element (i) emits the terahertz wave polarized in the first direction during a first period in which the first excitation light is applied to the gap, and (ii) second excitation light. Detecting the terahertz wave polarized in the second direction during a second period during which the gap is irradiated to the gap,
During the first period, a bias voltage for emitting the terahertz wave is applied to the pair of first electrodes, while the bias voltage is applied to the pair of first electrodes during the second period. The measuring device according to claim 2, further comprising an application unit that does not.
前記光伝導素子は、前記第1方向に偏光している第1直線偏光である前記テラヘルツ波を出射し、且つ、前記第2方向に偏光している第2直線偏光である前記テラヘルツ波を検出し、
前記光伝導素子から前記試料に向かって伝搬する前記第1直線偏光である前記テラヘルツ波を、円偏光の前記テラヘルツ波に変換し、前記試料から前記光伝導素子に向かって伝搬する円偏光の前記テラヘルツ波を、前記第2方向に偏光している前記第2直線偏光である前記テラヘルツ波に変換する第4光学素子を更に備える
ことを特徴とする請求項1から5のいずれか一項に記載の計測装置。
The photoconductive element emits the terahertz wave that is the first linear polarization polarized in the first direction and detects the terahertz wave that is the second linear polarization polarized in the second direction. And
The terahertz wave, which is the first linearly polarized wave propagating from the photoconductive element toward the sample, is converted into the circularly polarized terahertz wave, and the circularly polarized wave propagating from the sample toward the photoconductive element 6. The optical system according to claim 1, further comprising: a fourth optical element that converts the terahertz wave into the terahertz wave that is the second linearly polarized light that is polarized in the second direction. Measuring device.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020090783A1 (en) * 2018-10-30 2020-05-07 パイオニア株式会社 Electromagnetic-wave detecting system
CN112130245A (en) * 2020-09-16 2020-12-25 武汉理工大学 Broadband high-transmittance asymmetric metamaterial polarization regulator and manufacturing method thereof

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006098294A (en) * 2004-09-30 2006-04-13 Japan Science & Technology Agency Infra-red ray emitter, time series conversion pulse spectrometric measuring instrument, and infra-red ray emission method
JP2006170822A (en) * 2004-12-16 2006-06-29 Tochigi Nikon Corp Terahertz photodetector, terahertz photodetection method, and terahertz imaging apparatus
JP2008141273A (en) * 2006-11-30 2008-06-19 Japan Radio Co Ltd 2-frequency double crossed polarization slotted waveguide array antenna and double crossed polarization communication system
JP2009141661A (en) * 2007-12-06 2009-06-25 Optical Comb Inc Electromagnetic wave detecting element and electromagnetic wave detecting device
JP2009145312A (en) * 2007-12-12 2009-07-02 Terahertz Laboratory Co Inspection apparatus and inspection method
JP2009300108A (en) * 2008-06-10 2009-12-24 Sony Corp Terahertz spectroscopic device
JP2013181929A (en) * 2012-03-04 2013-09-12 Canon Inc Measuring apparatus and method, tomography device and method
US8748822B1 (en) * 2011-06-20 2014-06-10 University Of Massachusetts Chirped-pulse terahertz spectroscopy
JP2015049096A (en) * 2013-08-30 2015-03-16 独立行政法人物質・材料研究機構 Polarization sensitivity terahertz wave detector
US20150102225A1 (en) * 2013-06-19 2015-04-16 Ohio State Innovation Foundation Non-contact probe measurement test bed for millimeter wave and terahertz circuits, integrated devices/components, systems for spectroscopy using sub-wavelength-size-samples
JP2016102770A (en) * 2014-11-28 2016-06-02 キヤノン株式会社 Sensor and information acquisition device using the sensor

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006098294A (en) * 2004-09-30 2006-04-13 Japan Science & Technology Agency Infra-red ray emitter, time series conversion pulse spectrometric measuring instrument, and infra-red ray emission method
JP2006170822A (en) * 2004-12-16 2006-06-29 Tochigi Nikon Corp Terahertz photodetector, terahertz photodetection method, and terahertz imaging apparatus
JP2008141273A (en) * 2006-11-30 2008-06-19 Japan Radio Co Ltd 2-frequency double crossed polarization slotted waveguide array antenna and double crossed polarization communication system
JP2009141661A (en) * 2007-12-06 2009-06-25 Optical Comb Inc Electromagnetic wave detecting element and electromagnetic wave detecting device
JP2009145312A (en) * 2007-12-12 2009-07-02 Terahertz Laboratory Co Inspection apparatus and inspection method
JP2009300108A (en) * 2008-06-10 2009-12-24 Sony Corp Terahertz spectroscopic device
US8748822B1 (en) * 2011-06-20 2014-06-10 University Of Massachusetts Chirped-pulse terahertz spectroscopy
JP2013181929A (en) * 2012-03-04 2013-09-12 Canon Inc Measuring apparatus and method, tomography device and method
US20150102225A1 (en) * 2013-06-19 2015-04-16 Ohio State Innovation Foundation Non-contact probe measurement test bed for millimeter wave and terahertz circuits, integrated devices/components, systems for spectroscopy using sub-wavelength-size-samples
JP2015049096A (en) * 2013-08-30 2015-03-16 独立行政法人物質・材料研究機構 Polarization sensitivity terahertz wave detector
JP2016102770A (en) * 2014-11-28 2016-06-02 キヤノン株式会社 Sensor and information acquisition device using the sensor

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020090783A1 (en) * 2018-10-30 2020-05-07 パイオニア株式会社 Electromagnetic-wave detecting system
JPWO2020090783A1 (en) * 2018-10-30 2021-09-24 パイオニア株式会社 Electromagnetic wave detection system
JP2022161995A (en) * 2018-10-30 2022-10-21 パイオニア株式会社 Electromagnetic wave detection system
CN112130245A (en) * 2020-09-16 2020-12-25 武汉理工大学 Broadband high-transmittance asymmetric metamaterial polarization regulator and manufacturing method thereof
CN112130245B (en) * 2020-09-16 2021-10-29 武汉理工大学 Broadband high-transmittance asymmetric metamaterial polarization regulator and manufacturing method thereof

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