JP2017018859A - 膜洗浄制御方法、膜洗浄制御装置、及び水処理システム - Google Patents
膜洗浄制御方法、膜洗浄制御装置、及び水処理システム Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】実施形態の膜洗浄制御方法は、取得工程と、決定工程とを持つ。取得工程では、ろ過膜を薬液洗浄した直後のろ過膜の膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値を取得する。決定工程では、膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値に基づいて、次の薬液洗浄を行う際の洗浄強度を決定する。
【選択図】なし
Description
なお、以下の説明で用いられる図面においては、各構成要素を見やすくするため、構成要素によって寸法の縮尺を異ならせて示すことがある。また、以下の説明で例示される材料、寸法等は一例であって、実施形態はそれらに必ずしも限定されるものではなく、適宜変更して実施することが可能である。
先ず、実施形態の膜洗浄制御方法について説明する前に、水処理システム1による原水の処理方法について説明する。水処理システム1では、先ず、原水が送水経路L1を介して無酸素槽2に供給される。無酸素槽2に供給された原水は、活性汚泥と混合された状態で返送経路L2を介して無酸素槽2及び好気槽3を循環する。
以上の工程により膜モジュール4を薬液洗浄することができる。
実施形態の膜洗浄制御装置10は、複数の装置を用いて構成されてもよい。例えば、図2に示される膜洗浄制御装置10の機能部のうち、一部が他の装置に実装され、通信を行うことによって膜洗浄制御方法が実行されてもよい。
TMP=μJPR ・・・(1)
上記一般式(1)中、TMPは膜間差圧(kPa)、μは粘性係数[kPa/d]、Jは膜モジュール4のろ過膜を透過する処理水のフラックス[m/d]、Rは膜ろ過抵抗[1/m]、Pはべき定数を示す。
R=TMP/μJP ・・・(2)
上記一般式(2)中、べき乗定数Pは通常、1〜2の間で設定される調整パラメータである。
R=B・TMP/JP ・・・(3)
上記一般式(3)中、Bを定数とすると、膜ろ過抵抗を膜間差圧とろ過水量から計算されるフラックスの値とから計算することができる。
Claims (10)
- ろ過膜を薬液洗浄した後のろ過再開直後の前記ろ過膜の膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値を取得する取得工程と、
前記膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値に基づいて、次の前記薬液洗浄を行う際の洗浄強度を決定する決定工程と、
を含む膜洗浄制御方法。 - 前記洗浄強度に基づいて前記薬液洗浄に用いる薬液の濃度を決定し、当該濃度の前記薬液を用いて前記薬液洗浄を行う洗浄工程をさらに含む、請求項1に記載の膜洗浄制御方法。
- 前記洗浄強度に基づいて前記薬液洗浄の洗浄時間を決定し、当該洗浄時間のあいだ前記薬液洗浄を行う洗浄工程をさらに含む、請求項1に記載の膜洗浄制御方法。
- 前記膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値が所定の値を超えた場合に、前記洗浄工程において、前記薬液洗浄に用いる薬液としてシュウ酸又はクエン酸を選択する、請求項2又は請求項3に記載の膜洗浄制御方法。
- 前記洗浄強度が3段階以上に分かれている、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の膜洗浄制御方法。
- ろ過膜を薬液洗浄した後のろ過再開直後の前記ろ過膜の膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値を取得する値取得部と、
前記膜間差圧値又は膜ろ過抵抗値に基づいて、次の前記薬液洗浄を行う際の洗浄強度を決定する洗浄強度決定部と、
を備える膜洗浄制御装置。 - 前記洗浄強度に基づいて、前記薬液洗浄に用いる薬液の濃度又は前記薬液洗浄の洗浄時間を決定する洗浄条件決定部をさらに備える、請求項6に記載の膜洗浄制御装置。
- 被処理水を貯留する槽と、
前記槽内に設けられ、前記被処理水をろ過する膜と、
前記膜の二次側の圧力を測定する圧力計と、
ろ過した後の処理水を貯留する処理水槽と、
薬液を貯留する薬液槽と、
前記処理水槽及び前記薬液槽と接続され、前記薬液と前記処理水とを混合することにより前記薬液の濃度を調整する薬液濃度調整槽と、
請求項6又は請求項7に記載の膜洗浄制御装置と、
を備え、
前記膜洗浄制御装置の前記値取得部は、前記二次側の圧力に基づいて前記膜間差圧値を取得し、
前記膜洗浄制御装置は、前記薬液槽から前記薬液濃度調整槽へ供給する前記薬液の供給量、又は前記薬液濃度調整槽から前記膜への前記薬液の供給時間を制御する、膜洗浄制御部をさらに備える、水処理システム。 - 被処理水を貯留する槽と、
前記槽内に設けられ、前記被処理水をろ過する膜と、
前記膜の二次側の圧力を測定する圧力計と、
前記膜がろ過した処理水の量であるろ過水量を計測するろ過水量計と、
ろ過した後の前記処理水を貯留する処理水槽と、
薬液を貯留する薬液槽と、
前記処理水槽及び前記薬液槽と接続され、前記薬液と前記処理水とを混合することにより前記薬液の濃度を調整する薬液濃度調整槽と、
請求項6又は請求項7に記載の膜洗浄制御装置と、
を備え、
前記膜洗浄制御装置の前記値取得部は、前記二次側の圧力と前記ろ過水量に基づいて前記膜ろ過抵抗値を取得し、
前記膜洗浄制御装置は、前記薬液槽から前記薬液濃度調整槽へ供給する前記薬液の供給量、又は前記薬液濃度調整槽から前記膜への前記薬液の供給時間を制御する、膜洗浄制御部をさらに備える、水処理システム。 - 前記膜ろ過抵抗値は、前記二次側の圧力に基づき取得した膜間差圧を前記ろ過水量から計算されるフラックスのべき乗で除した値により演算する、請求項9に記載の水処理システム。
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