JP2017015898A - Optical film and production method of the same, and production method of film roll body - Google Patents

Optical film and production method of the same, and production method of film roll body Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical film in which bleed-out of an infrared absorbent can be suppressed and a projection can be formed with infrared laser light.SOLUTION: The optical film including an infrared absorbent has a high concentration portion containing an infrared absorbent and a low concentration portion having a concentration of the infrared absorbent lower than that in the high concentration portion. The high concentration portion includes a first high concentration portion and a second high concentration portion; the low concentration portion includes a first low concentration portion, a second low concentration portion, a third low concentration portion, a fourth low concentration portion and a fifth low concentration portion. The first high concentration portion and the second high concentration portion are disposed on either side of the first low concentration portion in a width direction of the optical film; the second low concentration portion and the third low concentration portion are disposed on either side of the first high concentration portion in a thickness direction of the optical film; and the fourth low concentration portion and the fifth low concentration portion are disposed on either side of the second high concentration portion in the thickness direction of the optical film.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、光学フィルム及びその製造方法、並びに、フィルム巻回体の製造方法に関する。   The present invention relates to an optical film, a method for producing the same, and a method for producing a film winding body.

従来、光学フィルムを製造する場合、ある程度の量をまとめて長尺状に製造し、この光学フィルムをロール状に巻き取ってフィルム巻回体として保存することが行われている。長尺の光学フィルムを巻き取る際、光学フィルムの取り扱い性の向上のため、光学フィルムの端部に凹凸部を形成することが知られている。このような凹凸部は、ナールと呼ばれることがあり、このような凹凸部を形成する処理は、ナーリング処理、エンボス処理、ローレット処理等の名称で呼ばれることがある。光学フィルムに前記の凹凸部を形成してから巻き取りを行うことにより、フィルム巻回体における光学フィルム間の摩擦による傷の発生、光学フィルムのブロッキング(フィルム巻回体において、重なった光学フィルムの面が付着する現象)等の不所望な現象が低減され、光学フィルムの取り扱い性を向上させることができる。前記の凹凸部を形成する方法としては、種々の方法が知られており、特に効率的な方法として、フィルムにレーザー光を照射することによって凹凸部を形成する技術が知られている(特許文献1)。   Conventionally, when an optical film is manufactured, a certain amount is collectively manufactured into a long shape, and the optical film is wound into a roll shape and stored as a film winding body. When winding up a long optical film, it is known to form a concavo-convex portion at the end of the optical film in order to improve the handleability of the optical film. Such a concavo-convex portion is sometimes referred to as a knurl, and a process for forming such a concavo-convex portion is sometimes referred to by a name such as a knurling process, an embossing process, or a knurling process. By forming the concavo-convex portion on the optical film and winding it up, scratches due to friction between the optical films in the film winding body, blocking of the optical film (in the film winding body, Undesirable phenomena such as the phenomenon of surface adhesion) can be reduced, and the handleability of the optical film can be improved. Various methods are known as a method for forming the concavo-convex portion, and as a particularly efficient method, a technique for forming the concavo-convex portion by irradiating the film with laser light is known (Patent Document). 1).

特許第5056218号公報Japanese Patent No. 5056218

前記のような光学フィルムは、例えば、溶融押出法により製造しうる。溶融押出法では、溶融状態の樹脂を、適切なダイスからキャストロール等の支持体上に、フィルム状に押し出す。そして、押し出された樹脂を冷却ロール等の冷却装置によって冷却して硬化させることにより、光学フィルムを得る。   The optical film as described above can be produced by, for example, a melt extrusion method. In the melt extrusion method, a molten resin is extruded in a film form from a suitable die onto a support such as a cast roll. Then, the extruded resin is cooled and cured by a cooling device such as a cooling roll to obtain an optical film.

レーザー光の中でも特に赤外線レーザー光によって凹凸部を形成される光学フィルムを製造する場合、光学フィルムの原料として、赤外線吸収剤を含む樹脂を用いることが考えられる。赤外線吸収剤を含む樹脂を用いれば、低出力の赤外線レーザー光によって凹凸部を形成することが可能である。ところが、溶融押出法で光学フィルムを製造する場合、溶融状態の樹脂が高温になっているため、樹脂中の赤外線吸収剤が揮発し、ブリードアウトを生じることがある。   In the case of producing an optical film in which a concavo-convex part is formed by infrared laser light among laser light, it is conceivable to use a resin containing an infrared absorbent as a raw material for the optical film. If a resin containing an infrared absorber is used, it is possible to form the concavo-convex portion with a low-power infrared laser beam. However, when an optical film is produced by the melt extrusion method, since the molten resin is at a high temperature, the infrared absorbent in the resin may volatilize and bleed out.

ブリードアウトによってフィルム外部に出た赤外線吸収剤は、ダイス、支持体、冷却装置などの製造設備に付着し、製造ラインを汚染することがある。このように製造ラインが汚染されると、製造設備に付着した赤外線吸収剤が光学フィルムの表面に移り、光学フィルムの表面が汚れる可能性がある。光学フィルムの表面が赤外線吸収剤で汚れると、当該光学フィルムを別の光学部材と貼り合わせる際の接着性が低下したり、当該光学フィルムの光学特性に乱れが生じたりする可能性がある。   Infrared absorbers that have come out of the film due to bleed-out may adhere to production equipment such as dies, supports, and cooling devices, and may contaminate the production line. When the production line is contaminated in this way, the infrared absorber attached to the production equipment may move to the surface of the optical film, and the surface of the optical film may become dirty. If the surface of the optical film is stained with an infrared absorber, the adhesiveness when the optical film is bonded to another optical member may be lowered, or the optical characteristics of the optical film may be disturbed.

本発明は前記の課題に鑑みて創案されたもので、赤外線吸収剤のブリードアウトを抑制でき、且つ、赤外線レーザー光によって凹凸部を形成することが可能な光学フィルム及びその製造方法;並びに、前記の光学フィルムに凹凸部を形成して得られる成形フィルムを巻き取ってフィルム巻回体を得られるフィルム巻回体の製造方法;を提供することを目的とする。   The present invention was devised in view of the above problems, an optical film capable of suppressing bleed-out of an infrared absorbent and capable of forming a concavo-convex portion by infrared laser light, and a method for producing the same; and It aims at providing the manufacturing method of the film winding body which winds up the shaping | molding film obtained by forming an uneven | corrugated | grooved part in this optical film, and can obtain a film winding body.

本発明者は、前記課題を解決するべく鋭意検討した結果、光学フィルムの内部の所定の部分を、赤外線吸収剤を含む材料で形成することにより、赤外線吸収剤のブリードアウトを抑制でき、且つ、赤外線レーザー光によって凹凸部を形成することが可能な光学フィルムを実現できることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は下記の通りである。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventor can suppress the bleed-out of the infrared absorbent by forming a predetermined portion inside the optical film with a material containing the infrared absorbent, and The present invention has been completed by finding that an optical film capable of forming irregularities by infrared laser light can be realized.
That is, the present invention is as follows.

〔1〕 赤外線吸収剤を含む光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記赤外線吸収剤を含む高濃度部分と、前記赤外線吸収剤の濃度が前記高濃度部分よりも低い低濃度部分とを有し、
前記高濃度部分は、第一高濃度部分及び第二高濃度部分を含み、
前記低濃度部分は、第一低濃度部分、第二低濃度部分、第三低濃度部分、第四低濃度部分及び第五低濃度部分を含み、
前記第一高濃度部分及び前記第二高濃度部分は、前記光学フィルムの幅方向における前記第一低濃度部分の両側に設けられ、
前記第二低濃度部分及び前記第三低濃度部分は、前記光学フィルムの厚み方向における前記第一高濃度部分の両側に設けられ、
前記第四低濃度部分及び前記第五低濃度部分は、前記光学フィルムの厚み方向における前記第二高濃度部分の両側に設けられている、光学フィルム。
〔2〕 前記光学フィルムが、溶融押出法によって製造されたものである、〔1〕記載の光学フィルム。
〔3〕 前記低濃度部分が、前記光学フィルムの厚み方向の表面及び幅方向の表面に露出している、〔1〕又は〔2〕記載の光学フィルム。
〔4〕 前記光学フィルムの厚み方向における前記高濃度部分の表面が、前記低濃度部分に覆われており、
前記光学フィルムの幅方向における前記高濃度部分の表面が、前記低濃度部分に覆われている、〔1〕〜〔3〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔5〕 前記光学フィルムが、長尺のフィルムである、〔1〕〜〔4〕のいずれか一項に記載の光学フィルム。
〔6〕 赤外線吸収剤を含む溶融状態の熱可塑性樹脂Aと、前記熱可塑性樹脂Aよりも前記赤外線吸収剤の濃度が低い溶融状態の熱可塑性樹脂Bとを充填されたダイスから、前記熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bを、フィルム状に押し出す工程を含み、
前記ダイス内において、
前記熱可塑性樹脂Bの層(b1)の幅方向の両側に、前記熱可塑性樹脂Aの層(a1)及び前記熱可塑性樹脂Aの層(a2)が配され、
前記熱可塑性樹脂Aの層(a1)の厚み方向の両側に、前記熱可塑性樹脂Bの層(b2)及び前記熱可塑性樹脂Bの層(b3)が配され、且つ、
前記熱可塑性樹脂Aの層(a2)の厚み方向の両側に、前記熱可塑性樹脂Bの層(b4)及び前記熱可塑性樹脂Bの層(b5)が配されている、光学フィルムの製造方法。
〔7〕 〔6〕記載の製造方法で製造された光学フィルムの表面の、厚み方向から見て前記高濃度部分が設けられた領域に、凹凸部を形成して、成形フィルムを得る工程、及び、
前記成形フィルムを、ロール状に巻き取る工程を含む、フィルム巻回体の製造方法。
〔8〕 前記凹凸部の形成が、レーザー光の照射によって行われる、〔7〕記載のフィルム巻回体の製造方法。
[1] An optical film containing an infrared absorber,
The optical film has a high concentration portion containing the infrared absorber, and a low concentration portion where the concentration of the infrared absorber is lower than the high concentration portion,
The high concentration portion includes a first high concentration portion and a second high concentration portion,
The low concentration portion includes a first low concentration portion, a second low concentration portion, a third low concentration portion, a fourth low concentration portion, and a fifth low concentration portion,
The first high concentration portion and the second high concentration portion are provided on both sides of the first low concentration portion in the width direction of the optical film,
The second low concentration portion and the third low concentration portion are provided on both sides of the first high concentration portion in the thickness direction of the optical film,
The fourth low concentration portion and the fifth low concentration portion are optical films provided on both sides of the second high concentration portion in the thickness direction of the optical film.
[2] The optical film according to [1], wherein the optical film is produced by a melt extrusion method.
[3] The optical film according to [1] or [2], wherein the low concentration portion is exposed on a surface in a thickness direction and a surface in a width direction of the optical film.
[4] The surface of the high concentration portion in the thickness direction of the optical film is covered with the low concentration portion,
The optical film according to any one of [1] to [3], wherein a surface of the high-density portion in the width direction of the optical film is covered with the low-density portion.
[5] The optical film according to any one of [1] to [4], wherein the optical film is a long film.
[6] From a die filled with a molten thermoplastic resin A containing an infrared absorbent and a molten thermoplastic resin B having a lower concentration of the infrared absorbent than the thermoplastic resin A, the thermoplastic Including a step of extruding the resin A and the thermoplastic resin B into a film,
In the die,
The thermoplastic resin A layer (a1) and the thermoplastic resin A layer (a2) are arranged on both sides in the width direction of the thermoplastic resin B layer (b1),
The thermoplastic resin B layer (b2) and the thermoplastic resin B layer (b3) are arranged on both sides in the thickness direction of the thermoplastic resin A layer (a1), and
The method for producing an optical film, wherein the layer (b4) of the thermoplastic resin B and the layer (b5) of the thermoplastic resin B are disposed on both sides in the thickness direction of the layer (a2) of the thermoplastic resin A.
[7] A step of forming a concavo-convex portion in a region of the surface of the optical film produced by the production method according to [6] where the high-concentration portion is provided when viewed from the thickness direction to obtain a molded film; and ,
The manufacturing method of a film winding body including the process of winding up the said molded film in roll shape.
[8] The method for producing a wound film according to [7], wherein the formation of the uneven portion is performed by laser light irradiation.

本発明によれば、赤外線吸収剤のブリードアウトを抑制でき、且つ、赤外線レーザー光によって凹凸部を形成することが可能な光学フィルム及びその製造方法;並びに、光学フィルムに凹凸部を形成して得られる成形フィルムを巻き取ってフィルム巻回体を得られるフィルム巻回体の製造方法;を提供できる。   According to the present invention, an optical film capable of suppressing the bleed-out of the infrared absorbent and capable of forming the concavo-convex portion by infrared laser light, and a method for producing the optical film; A method for producing a film winding body capable of winding a molded film to obtain a film winding body can be provided.

図1は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムをその厚み方向及び幅方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an optical film according to an embodiment of the present invention cut by a plane parallel to the thickness direction and the width direction. 図2は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムをその厚み方向及び幅方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the optical film according to one embodiment of the present invention cut by a plane parallel to the thickness direction and the width direction. 図3は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムをその厚み方向及び幅方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the optical film according to one embodiment of the present invention cut by a plane parallel to the thickness direction and the width direction. 図4は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム及びフィルム巻回体の製造装置を模式的に示す概要図である。FIG. 4 is a schematic view schematically showing an optical film and film winding body manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図5は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法で用いるフィードブロックの断面を模式的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a feed block used in the method for producing an optical film according to one embodiment of the present invention. 図6は、本発明の一実施形態に係る光学フィルムの製造方法で用いるダイスの断面を模式的に示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of a die used in the method for producing an optical film according to an embodiment of the present invention. 図7は、本発明の一実施形態に係る成形フィルムを模式的に示す平面図である。FIG. 7 is a plan view schematically showing a molded film according to an embodiment of the present invention. 図8は、本発明の一実施形態に係る成形フィルムの表面の近傍を模式的に示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing the vicinity of the surface of a molded film according to an embodiment of the present invention.

以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態および例示物に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to embodiments and examples. However, the present invention is not limited to the following embodiments and exemplifications, and can be implemented with any modifications without departing from the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof.

図1は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム10をその厚み方向及び幅方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
図1に示すように、本発明の一実施形態に係る光学フィルム10は、赤外線吸収剤を含むフィルムであって、高濃度部分100及び低濃度部分200を有する。ここで、高濃度部分100とは、光学フィルム10の、赤外線吸収剤を含む部分をいう。また、低濃度部分200とは、光学フィルム10の、赤外線吸収剤の濃度が高濃度部分100よりも低い部分をいう。低濃度部分200は、高濃度部分100よりも低い濃度で赤外線吸収剤を含んでいてもよく、赤外線吸収剤を含んでいなくてもよい。したがって、高濃度部分100においては赤外線吸収剤の濃度が相対的に高く、低濃度部分200においては赤外線吸収剤の濃度が相対的に低い。
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of an optical film 10 according to an embodiment of the present invention cut by a plane parallel to the thickness direction and the width direction.
As shown in FIG. 1, an optical film 10 according to an embodiment of the present invention is a film including an infrared absorber, and has a high concentration portion 100 and a low concentration portion 200. Here, the high concentration portion 100 refers to a portion of the optical film 10 that includes an infrared absorber. Further, the low concentration portion 200 refers to a portion of the optical film 10 where the concentration of the infrared absorber is lower than that of the high concentration portion 100. The low concentration portion 200 may contain an infrared absorber at a concentration lower than that of the high concentration portion 100, and may not contain an infrared absorber. Therefore, the concentration of the infrared absorber is relatively high in the high concentration portion 100, and the concentration of the infrared absorber is relatively low in the low concentration portion 200.

以下の説明において、別に断らない限り、「フィルム幅方向」とは、光学フィルム10の幅方向をいい、「フィルム厚み方向」とは、光学フィルム10の厚み方向をいう。光学フィルム10において、高濃度部分100は、光学フィルム10内のフィルム幅方向の両端部の近傍に設けられた第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102を含む。具体的には、第一高濃度部分101は、光学フィルム10のフィルム幅方向の一方(図中左方)の端部近傍に設けられている。また、第二高濃度部分102は、光学フィルム10のフィルム幅方向の他方(図中右方)の端部近傍に設けられている。   In the following description, unless otherwise specified, “film width direction” refers to the width direction of the optical film 10, and “film thickness direction” refers to the thickness direction of the optical film 10. In the optical film 10, the high concentration portion 100 includes a first high concentration portion 101 and a second high concentration portion 102 provided in the vicinity of both ends in the film width direction in the optical film 10. Specifically, the first high-concentration portion 101 is provided in the vicinity of one end (left side in the drawing) of the optical film 10 in the film width direction. The second high concentration portion 102 is provided in the vicinity of the other end (right side in the drawing) of the optical film 10 in the film width direction.

光学フィルム10は、前記の高濃度部分100以外の部分に、低濃度部分200を有している。この低濃度部分200は、下記の第一低濃度部分201〜第九低濃度部分209を含む。
第一低濃度部分201は、フィルム幅方向において、第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102の間に設けられた部分である。
第二低濃度部分202は、フィルム厚み方向において、第一高濃度部分101の一側(図中上側)に設けられた部分である。
第三低濃度部分203は、フィルム厚み方向において、第一高濃度部分101の他側(図中下側)に設けられた部分である。
第四低濃度部分204は、フィルム厚み方向において、第二高濃度部分102の一側(図中上側)に設けられた部分である。
第五低濃度部分205は、フィルム厚み方向において、第二高濃度部分102の他側(図中下側)に設けられた部分である。
第六低濃度部分206は、フィルム幅方向において、第一高濃度部分101の一側(図中左側)に設けられた部分である。
第七低濃度部分207は、フィルム幅方向において、第二高濃度部分102の他側(図中右側)に設けられた部分である。
第八低濃度部分208は、フィルム厚み方向において、第一低濃度部分201の一側(図中上側)に設けられた部分である。
第九低濃度部分209は、フィルム厚み方向において、第一低濃度部分201の他側(図中下側)に設けられた部分である。
The optical film 10 has a low density portion 200 in a portion other than the high density portion 100. The low concentration portion 200 includes a first low concentration portion 201 to a ninth low concentration portion 209 described below.
The first low density portion 201 is a portion provided between the first high density portion 101 and the second high density portion 102 in the film width direction.
The second low concentration portion 202 is a portion provided on one side (the upper side in the drawing) of the first high concentration portion 101 in the film thickness direction.
The third low concentration portion 203 is a portion provided on the other side (lower side in the drawing) of the first high concentration portion 101 in the film thickness direction.
The fourth low concentration portion 204 is a portion provided on one side (the upper side in the drawing) of the second high concentration portion 102 in the film thickness direction.
The fifth low concentration portion 205 is a portion provided on the other side (lower side in the figure) of the second high concentration portion 102 in the film thickness direction.
The sixth low density portion 206 is a portion provided on one side (left side in the figure) of the first high density portion 101 in the film width direction.
The seventh low density portion 207 is a portion provided on the other side (right side in the drawing) of the second high density portion 102 in the film width direction.
The eighth low concentration portion 208 is a portion provided on one side (the upper side in the drawing) of the first low concentration portion 201 in the film thickness direction.
The ninth low concentration portion 209 is a portion provided on the other side (lower side in the drawing) of the first low concentration portion 201 in the film thickness direction.

このような配置で高濃度部分100及び低濃度部分200を含む光学フィルム10では、第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102は、フィルム幅方向における第一低濃度部分201の両側に設けられている。第一低濃度部分201、並びに、当該第一低濃度部分201のフィルム厚み方向の両側に設けられた第八低濃度部分208及び第九低濃度部分209は、光学フィルム10において特定の光学特性を発揮させるための有効領域にあり、画像表示装置等の最終製品に取り付けられるべき製品部分に該当する。そのため、これらの第一低濃度部分201、第八低濃度部分208及び第九低濃度部分209では、光学特性を精密に制御することが求められる。しかし、これらの第一低濃度部分201、第八低濃度部分208及び第九低濃度部分209以外の光学フィルム10の部分は、有効領域の外にあるので、通常は特定の光学特性を有することは求められない。そのため、第一低濃度部分201、第八低濃度部分208及び第九低濃度部分209以外の光学フィルム10の部分に凹凸部を形成しても、光学フィルムの機能は損なわれない。そこで、光学フィルム10では、フィルム幅方向における第一低濃度部分201の両側に第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102を設けることにより、光学フィルム10の光学特性を損なわない領域への凹凸部の形成を可能にしている。   In the optical film 10 including the high density part 100 and the low density part 200 in such an arrangement, the first high density part 101 and the second high density part 102 are provided on both sides of the first low density part 201 in the film width direction. It has been. The first low density portion 201, and the eighth low density portion 208 and the ninth low density portion 209 provided on both sides of the first low density portion 201 in the film thickness direction have specific optical characteristics in the optical film 10. It is in an effective area for exhibiting and corresponds to a product portion to be attached to a final product such as an image display device. Therefore, it is required to precisely control the optical characteristics in the first low concentration portion 201, the eighth low concentration portion 208, and the ninth low concentration portion 209. However, since the portions of the optical film 10 other than the first low-density portion 201, the eighth low-density portion 208, and the ninth low-density portion 209 are outside the effective region, they usually have specific optical characteristics. Is not required. Therefore, even if an uneven portion is formed on the portion of the optical film 10 other than the first low concentration portion 201, the eighth low concentration portion 208, and the ninth low concentration portion 209, the function of the optical film is not impaired. Therefore, in the optical film 10, by providing the first high density portion 101 and the second high density portion 102 on both sides of the first low density portion 201 in the film width direction, the optical characteristics of the optical film 10 can be reduced. Uneven portions can be formed.

また、光学フィルム10では、第二低濃度部分202及び第三低濃度部分203は、フィルム厚み方向における第一高濃度部分101の両側に設けられている。さらに、第四低濃度部分204及び第五低濃度部分205は、フィルム厚み方向における第二高濃度部分102の両側に設けられている。そのため、フィルム厚み方向において、第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102は、光学フィルム10の表面10U及び10Dに露出していない。   Moreover, in the optical film 10, the 2nd low density part 202 and the 3rd low density part 203 are provided in the both sides of the 1st high density part 101 in a film thickness direction. Furthermore, the fourth low density portion 204 and the fifth low density portion 205 are provided on both sides of the second high density portion 102 in the film thickness direction. Therefore, the first high concentration portion 101 and the second high concentration portion 102 are not exposed on the surfaces 10U and 10D of the optical film 10 in the film thickness direction.

また、光学フィルム10では、第六低濃度部分206は、フィルム幅方向において第一高濃度部分101と光学フィルム10の一方(図中左方)の端面10Lとの間に設けられている。さらに、第七低濃度部分207は、フィルム幅方向において第二高濃度部分102と光学フィルムの他方(図中右方)の端面10Rとの間に設けられている。そのため、フィルム幅方向において、第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102は、光学フィルム10の端面10L及び10Rに露出していない。   In the optical film 10, the sixth low density portion 206 is provided between the first high density portion 101 and one end face 10 </ b> L (left side in the drawing) of the optical film 10 in the film width direction. Furthermore, the seventh low density portion 207 is provided between the second high density portion 102 and the other end surface 10R (right side in the drawing) of the optical film in the film width direction. Therefore, in the film width direction, the first high concentration portion 101 and the second high concentration portion 102 are not exposed on the end faces 10L and 10R of the optical film 10.

このような構成により、赤外線吸収剤の濃度が相対的に低い低濃度部分200によって、赤外線吸収剤の濃度が相対的に高い高濃度部分100の全周を包み込むことができる。そのため、高濃度部分100に含まれる赤外線吸収剤が高温環境において気化して光学フィルム10の外部へ出ようとしても、低濃度部分200によって赤外線吸収材の移動が妨げられる。よって、本実施形態に係る光学フィルム10によれば、赤外線吸収剤が揮発して光学フィルム10の外部へ送出されることを抑制できるので、赤外線吸収剤のブリードアウトを抑制できる。   With such a configuration, the entire circumference of the high concentration portion 100 having a relatively high concentration of infrared absorber can be wrapped by the low concentration portion 200 having a relatively low concentration of infrared absorber. Therefore, even if the infrared absorbent contained in the high-concentration portion 100 is vaporized in a high-temperature environment and goes out of the optical film 10, the movement of the infrared-absorbing material is prevented by the low-concentration portion 200. Therefore, according to the optical film 10 which concerns on this embodiment, since it can suppress that an infrared absorber volatilizes and is sent out of the optical film 10, the bleeding out of an infrared absorber can be suppressed.

光学フィルム10において、上述した第一高濃度部分101、第二高濃度部分102、及び、第一低濃度部分201〜第九低濃度部分209以外の部分210〜213における赤外線吸収剤の濃度は、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意である。通常、これらの部分210〜213は、低濃度部分200に含まれる。本実施形態では、フィルム厚み方向において第六低濃度部分206の一側(図中上側)に設けられた部分210、フィルム厚み方向において第六低濃度部分206の他側(図中下側)に設けられた部分211、フィルム厚み方向において第七低濃度部分207の一側(図中上側)に設けられた部分212、及び、フィルム厚み方向において第七低濃度部分207の他側(図中下側)に設けられた部分213が、いずれも低濃度部分200に含まれた例を示す。   In the optical film 10, the concentration of the infrared absorbent in the portions 210 to 213 other than the first high concentration portion 101, the second high concentration portion 102, and the first low concentration portion 201 to the ninth low concentration portion 209 described above is It is optional as long as the effects of the present invention are not significantly impaired. Usually, these portions 210 to 213 are included in the low concentration portion 200. In the present embodiment, the portion 210 provided on one side (upper side in the drawing) of the sixth low concentration portion 206 in the film thickness direction, and the other side (lower side in the drawing) of the sixth low concentration portion 206 in the film thickness direction. The portion 211 provided, the portion 212 provided on one side (upper side in the figure) of the seventh low density portion 207 in the film thickness direction, and the other side (lower side in the figure) in the film thickness direction. An example in which all the portions 213 provided on the side) are included in the low concentration portion 200 is shown.

図2は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム10をその厚み方向及び幅方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
光学フィルム10は、高濃度部分100と低濃度部分200との間に、任意の部分(図示せず。)を備えていてもよい。しかし、図2に示すように、高濃度部分100と低濃度部分200との間には任意の部分を設けず、高濃度部分100と低濃度部分200とが直接に接していることが好ましい。この場合、フィルム厚み方向における高濃度部分100の表面(図2では、第一高濃度部分101の表面101D及び101U、並びに、第二高濃度部分102の表面102D及び102U)を低濃度部分200で覆うことができ、また、フィルム幅方向における高濃度部分100の表面(図2では、第一高濃度部分101の表面101L及び101R、並びに、第二高濃度部分102の表面102L及び102R)を低濃度部分200で覆うことができる。これにより、赤外線吸収剤の揮発を効果的に抑制できるので、赤外線吸収剤のブリードアウトを効果的に抑制できる。
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the optical film 10 according to an embodiment of the present invention cut by a plane parallel to the thickness direction and the width direction.
The optical film 10 may include an arbitrary portion (not shown) between the high concentration portion 100 and the low concentration portion 200. However, as shown in FIG. 2, it is preferable that an arbitrary portion is not provided between the high concentration portion 100 and the low concentration portion 200, and the high concentration portion 100 and the low concentration portion 200 are in direct contact with each other. In this case, the surface of the high density portion 100 in the film thickness direction (the surfaces 101D and 101U of the first high density portion 101 and the surfaces 102D and 102U of the second high density portion 102 in FIG. The surface of the high density portion 100 in the film width direction can be covered (in FIG. 2, the surfaces 101L and 101R of the first high density portion 101 and the surfaces 102L and 102R of the second high density portion 102) are low. It can be covered with the concentration portion 200. Thereby, since volatilization of an infrared absorber can be suppressed effectively, the bleed-out of an infrared absorber can be suppressed effectively.

光学フィルム10は、低濃度部分200よりも外に、任意の部分(図示せず。)を備えていてもよい。しかし、図2に示すように、光学フィルム10の低濃度部分200よりも外には任意の部分を設けないことが好ましい。この場合、低濃度部分200を、光学フィルム10の厚み方向の表面10D及び10U並びに幅方向の表面10L及び10Rに露出させることができる。このような光学フィルム10では、製造ラインに設けられた設備には低濃度部分200が接しうるので、設備に光学フィルム10が接触したときに、赤外線吸収剤による設備の汚染を効果的に抑制できる。   The optical film 10 may include an arbitrary portion (not shown) outside the low concentration portion 200. However, as shown in FIG. 2, it is preferable not to provide an arbitrary portion outside the low density portion 200 of the optical film 10. In this case, the low concentration portion 200 can be exposed on the surfaces 10D and 10U in the thickness direction and the surfaces 10L and 10R in the width direction of the optical film 10. In such an optical film 10, since the low concentration part 200 can contact the equipment provided in the production line, when the optical film 10 comes into contact with the equipment, contamination of the equipment due to the infrared absorber can be effectively suppressed. .

高濃度部分100における赤外線吸収剤の濃度は、高濃度部分100に含まれる材料全体を100重量%として、好ましくは0.001重量%以上、より好ましくは0.005重量%以上、特に好ましくは0.01重量%以上であり、好ましくは1重量%以下、より好ましくは0.5重量%以下、特に好ましくは0.1重量%以下である。高濃度部分100における赤外線吸収剤の濃度を前記範囲の下限値以上にすることにより、高濃度部分100が赤外線レーザー光を効率的に吸収できるので、凹凸部の形成を効率的に行うことができる。また、上限値以下にすることにより、低濃度部分200の厚みが薄くても赤外線吸収剤のブリードアウトを安定して抑制できるので、光学フィルム10の厚みを薄くすることができる。   The concentration of the infrared absorber in the high concentration portion 100 is preferably 0.001 wt% or more, more preferably 0.005 wt% or more, particularly preferably 0, based on 100% by weight of the entire material contained in the high concentration portion 100. 0.01% by weight or more, preferably 1% by weight or less, more preferably 0.5% by weight or less, and particularly preferably 0.1% by weight or less. By setting the concentration of the infrared absorbent in the high concentration portion 100 to be equal to or higher than the lower limit of the above range, the high concentration portion 100 can efficiently absorb infrared laser light, so that the uneven portion can be formed efficiently. . Moreover, since the bleeding out of an infrared absorber can be suppressed stably even if the thickness of the low concentration part 200 is thin by making it below an upper limit, the thickness of the optical film 10 can be made thin.

第一高濃度部分101と第二高濃度部分102とでは、赤外線吸収剤の濃度が異なっていてもよいが、濃度が同じであることが好ましい。また、第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102における赤外線吸収材の濃度は、通常は均一であるが、必ずしも均一でなくてもよい。例えば、第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102がそれぞれ濃度勾配を有していてもよい。第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102における赤外線吸収剤の濃度が均一でない場合、第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102それぞれにおいて、赤外線吸収剤の平均濃度が、前記の高濃度部分100における赤外線吸収剤の濃度の好ましい範囲に収まることが望ましい。   The first high-concentration portion 101 and the second high-concentration portion 102 may have different infrared absorber concentrations, but preferably have the same concentration. In addition, the concentration of the infrared absorbing material in the first high-concentration portion 101 and the second high-concentration portion 102 is usually uniform, but is not necessarily uniform. For example, the first high concentration portion 101 and the second high concentration portion 102 may each have a concentration gradient. When the concentration of the infrared absorber in the first high concentration portion 101 and the second high concentration portion 102 is not uniform, the average concentration of the infrared absorber in each of the first high concentration portion 101 and the second high concentration portion 102 is as described above. It is desirable to be within a preferable range of the concentration of the infrared absorber in the high concentration portion 100.

高濃度部分100が赤外線吸収剤を多く含むので、フィルム厚み方向から見て高濃度部分100がある光学フィルム10の領域11及び12は、通常、赤外波長領域に含まれる少なくとも一の測定波長の赤外線の吸収率が、高い。ここで、領域11は、フィルム厚み方向から見て第一高濃度部分101がある光学フィルム10の領域を示し、領域12は、フィルム厚み方向から見て第二高濃度部分102がある光学フィルム10の領域を示す。領域11及び12における前記赤外線の具体的な吸収率は、好ましくは5%以上、より好ましくは10%以上、特に好ましくは20%以上である。領域11及び12における前記赤外線の吸収率が、前記範囲の下限値以上であることにより、赤外線レーザー光によって効率的に凹凸部の形成を行うことができる。ただし、赤外線吸収剤のコスト、並びに、高濃度部分100と低濃度部分200との境界におけるデラミネーションを考慮すると、赤外線吸収剤の使用量は少ない方が好ましい。この際、領域11における吸収率と領域12における吸収率とは、同じでもよく、異なっていてもよい。また、前記の赤外線の透過率は、フィルム厚み方向に光学フィルム10を透過する赤外線の吸収率を表す。   Since the high-concentration portion 100 contains a large amount of infrared absorber, the regions 11 and 12 of the optical film 10 having the high-concentration portion 100 when viewed from the film thickness direction are usually at least one measurement wavelength included in the infrared wavelength region. Infrared absorption is high. Here, the region 11 indicates a region of the optical film 10 having the first high-density portion 101 when viewed from the film thickness direction, and the region 12 indicates the optical film 10 having the second high-density portion 102 when viewed from the film thickness direction. Indicates the area. The specific absorption rate of the infrared rays in the regions 11 and 12 is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, and particularly preferably 20% or more. When the infrared absorptance in the regions 11 and 12 is equal to or higher than the lower limit of the range, the uneven portion can be efficiently formed by infrared laser light. However, in consideration of the cost of the infrared absorber and delamination at the boundary between the high concentration portion 100 and the low concentration portion 200, it is preferable that the amount of the infrared absorber used is small. At this time, the absorption rate in the region 11 and the absorption rate in the region 12 may be the same or different. Moreover, the said infrared transmittance | permeability represents the infrared absorption factor which permeate | transmits the optical film 10 in the film thickness direction.

低濃度部分200における赤外線吸収剤の濃度は、低濃度部分200に含まれる材料全体を100重量%として、好ましくは0.001重量%以下、より好ましくは0.0005重量%以下、更に好ましくは0.0001重量%以下であり、特に好ましくはゼロ%である。低濃度部分200における赤外線吸収剤の濃度をこのように低くすることにより、赤外線吸収剤のブリードアウトを特に効果的に抑制できる。   The concentration of the infrared absorber in the low concentration portion 200 is preferably 0.001 wt% or less, more preferably 0.0005 wt% or less, and still more preferably 0, based on 100% by weight of the entire material contained in the low concentration portion 200. 0.0001% by weight or less, particularly preferably 0%. By reducing the concentration of the infrared absorber in the low concentration portion 200 in this way, the bleed-out of the infrared absorber can be particularly effectively suppressed.

低濃度部分200における赤外線吸収剤の濃度は、通常は均一である。しかし、低濃度部分200における赤外線吸収剤の濃度は、必ずしも均一でなくてもよく、例えば低濃度部分200が濃度勾配を有していてもよい。低濃度部分200における赤外線吸収剤の濃度が均一でない場合、低濃度部分200における赤外線吸収剤の平均濃度が、前記の低濃度部分200における赤外線吸収剤の濃度の好ましい範囲に収まることが望ましい。   The concentration of the infrared absorber in the low concentration portion 200 is usually uniform. However, the concentration of the infrared absorber in the low concentration portion 200 may not necessarily be uniform. For example, the low concentration portion 200 may have a concentration gradient. When the concentration of the infrared absorber in the low concentration portion 200 is not uniform, it is desirable that the average concentration of the infrared absorber in the low concentration portion 200 be within the preferable range of the concentration of the infrared absorber in the low concentration portion 200.

高濃度部分100と低濃度部分200との間の赤外線吸収剤の濃度差は、好ましくは0.001重量%以上、より好ましくは0.005重量%以上、特に好ましくは0.01重量%以上である。濃度差をこのように大きくすることにより、赤外線吸収剤のブリードアウトを特に効果的に抑制できる。前記の濃度差の上限値に特に制限はないが、好ましくは0.1重量%以下、より好ましくは0.05重量%以下である。   The concentration difference of the infrared absorber between the high concentration portion 100 and the low concentration portion 200 is preferably 0.001 wt% or more, more preferably 0.005 wt% or more, and particularly preferably 0.01 wt% or more. is there. By increasing the concentration difference in this way, the bleed-out of the infrared absorber can be particularly effectively suppressed. The upper limit of the concentration difference is not particularly limited, but is preferably 0.1% by weight or less, more preferably 0.05% by weight or less.

ところで、高濃度部分100と低濃度部分200との間に濃度勾配が形成されることにより、高濃度部分100と低濃度部分200との間の明確な境界を決定できない場合がありえる。このような場合でも、光学フィルム10内のある部分を低濃度部分(第一低濃度部分201に相当。)として見て、その部分のフィルム幅方向の両側に高濃度部分(第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102に相当。)が見出され、更にそれらの高濃度部分のフィルム厚み方向の両側に低濃度部分(第二低濃度部分202〜第五低濃度部分205に相当。)が見出されるのであれば、その光学フィルム10は本発明の技術的範囲に含まれる。   By the way, since a concentration gradient is formed between the high concentration portion 100 and the low concentration portion 200, there may be a case where a clear boundary between the high concentration portion 100 and the low concentration portion 200 cannot be determined. Even in such a case, a part in the optical film 10 is viewed as a low density part (corresponding to the first low density part 201), and a high density part (first high density part) is formed on both sides of the part in the film width direction. 101 and the second high density portion 102), and low density portions (corresponding to the second low density portion 202 to the fifth low density portion 205) on both sides of the high density portion in the film thickness direction. ) Is found, the optical film 10 is included in the technical scope of the present invention.

低濃度部分200における赤外線吸収剤の濃度が小さいので、フィルム厚み方向から見て高濃度部分100が無い光学フィルム10の領域13〜15は、通常、赤外波長領域に含まれる少なくとも一の測定波長の赤外線の吸収率が、低い。ここで、前記の測定波長は、フィルム厚み方向から見て高濃度部分100がある光学フィルム10の領域11及び12における吸収率の測定対象となった赤外線の測定波長を示す。また、領域13は、フィルム厚み方向から見て第一低濃度部分201、第八低濃度部分208及び第九低濃度部分209がある光学フィルム10の領域を示し、領域14は、フィルム厚み方向から見て第六低濃度部分206がある光学フィルム10の領域を示し、領域15は、フィルム厚み方向から見て第七低濃度部分207がある光学フィルム10の領域を示す。領域13〜15における前記赤外線の具体的な吸収率は、通常0%以上であり、好ましくは20%以下、より好ましくは10%以下、特に好ましくは5%以下である。領域13〜15における前記赤外線の吸収率が、前記範囲の上限値以下であることにより、赤外線吸収剤の使用量を抑えて低コスト化を図ることができる。この際、領域13における吸収率、領域14における吸収率、及び、領域15における吸収率は、同じでもよく、異なっていてもよい。   Since the density | concentration of the infrared absorber in the low concentration part 200 is small, the area | regions 13-15 of the optical film 10 which do not have the high density part 100 seeing from a film thickness direction are normally at least 1 measurement wavelength contained in an infrared wavelength area | region. The absorption rate of infrared rays is low. Here, the said measurement wavelength shows the measurement wavelength of the infrared rays used as the measuring object of the absorptance in the area | regions 11 and 12 of the optical film 10 with the high concentration part 100 seeing from a film thickness direction. In addition, the region 13 indicates a region of the optical film 10 having the first low concentration portion 201, the eighth low concentration portion 208, and the ninth low concentration portion 209 as viewed from the film thickness direction, and the region 14 indicates from the film thickness direction. The region of the optical film 10 where the sixth low density portion 206 is seen is shown, and the region 15 is the region of the optical film 10 where the seventh low density portion 207 is seen as seen from the film thickness direction. The specific absorption rate of the infrared rays in the regions 13 to 15 is usually 0% or more, preferably 20% or less, more preferably 10% or less, and particularly preferably 5% or less. When the infrared absorptance in the regions 13 to 15 is equal to or lower than the upper limit of the range, the amount of the infrared absorber used can be suppressed and the cost can be reduced. At this time, the absorption rate in the region 13, the absorption rate in the region 14, and the absorption rate in the region 15 may be the same or different.

フィルム厚み方向から見て高濃度部分100が無い光学フィルム10の領域13〜15の前記赤外線の吸収率は、通常、フィルム厚み方向から見て高濃度部分100がある光学フィルム10の領域11及び12の前記赤外線の吸収率よりも、低い。この際、高濃度部分100がある領域11及び12の吸収率と高濃度部分100が無い領域13〜15の吸収率との差は、好ましくは5%以上、より好ましくは10%以上、特に好ましくは20%以上である。前記赤外線の吸収率の差を、前記範囲の下限値以上にすることにより、赤外線レーザー光による加工のみではなく、遠赤外線ヒーターを用いた加熱加工を行いうる。遠赤外線ヒーターを用いた加熱加工としては、例えば加熱ロールを用いた押圧によるエンボス加工などの予熱が挙げられる。   The infrared absorptivity of the regions 13 to 15 of the optical film 10 without the high-density portion 100 when viewed from the film thickness direction is usually the regions 11 and 12 of the optical film 10 with the high-density portion 100 when viewed from the film thickness direction. Lower than the infrared absorption rate. At this time, the difference between the absorptivity of the regions 11 and 12 with the high concentration portion 100 and the absorptance of the regions 13 to 15 without the high concentration portion 100 is preferably 5% or more, more preferably 10% or more, and particularly preferably. Is 20% or more. By setting the difference in the infrared absorption rate to be equal to or greater than the lower limit of the above range, not only the processing by the infrared laser beam but also the heating processing using the far infrared heater can be performed. Examples of the heating process using a far infrared heater include preheating such as embossing by pressing using a heating roll.

図3は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム10をその厚み方向及び幅方向に平行な平面で切った断面を模式的に示す断面図である。
図3に示すように、第一高濃度部分101の幅W101、及び、第二高濃度部分102の幅W102は、それぞれ独立して、好ましくは5mm以上、より好ましくは10mm以上、特に好ましくは12mm以上であり、好ましくは30mm以下、より好ましくは20mm以下、特に好ましくは15mm以下である。幅W101及び102を、前記範囲の下限値以上にすることによって、十分に広い領域に凹凸部を形成して光学フィルム10の取り扱い性を効果的に高めることができ、前記範囲の上限値以下にすることによって、所望の光学特性を発揮しうる有効領域を十分に広くして光学フィルム10の製造効率を高めることができる。
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the optical film 10 according to one embodiment of the present invention cut by a plane parallel to the thickness direction and the width direction.
As shown in FIG. 3, the width W 101 of the first high concentration portion 101 and the width W 102 of the second high concentration portion 102 are each independently preferably 5 mm or more, more preferably 10 mm or more, and particularly preferably. Is 12 mm or more, preferably 30 mm or less, more preferably 20 mm or less, and particularly preferably 15 mm or less. By setting the widths W 101 and 102 to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, it is possible to effectively improve the handleability of the optical film 10 by forming uneven portions in a sufficiently wide region, and below the upper limit value of the above range. By making it, the effective area | region which can exhibit a desired optical characteristic can be fully widened, and the manufacturing efficiency of the optical film 10 can be improved.

また、光学フィルム10の幅Wに対する第一高濃度部分101の幅W101の比率W101/W、及び、光学フィルム10の幅Wに対する第二高濃度部分102の幅W102の比率W102/Wは、所定の範囲に収まることが好ましい。具体的には、前記の比率W101/W及びW102/Wは、それぞれ独立して、好ましくは1/1000以上、より好ましくは5/1000以上、特に好ましくは8/1000以上であり、好ましくは30/1000以下、より好ましくは20/1000以下、特に好ましくは15/1000以下である。比率W101/W及びW102/Wを、前記範囲の下限値以上にすることによって、十分に広い領域に凹凸部を形成して光学フィルム10の取り扱い性を効果的に高めることができ、前記範囲の上限値以下にすることによって、所望の光学特性を発揮しうる有効領域を十分に広くして光学フィルム10の製造効率を高めることができる。 Further, the ratio W 101 / W of the width W 101 of the first high density portion 101 to the width W of the optical film 10 and the ratio W 102 / W of the width W 102 of the second high density portion 102 to the width W of the optical film 10. W is preferably within a predetermined range. Specifically, the ratios W 101 / W and W 102 / W are each independently preferably at least 1/1000, more preferably at least 5/1000, particularly preferably at least 8/1000, preferably Is 30/1000 or less, more preferably 20/1000 or less, and particularly preferably 15/1000 or less. By setting the ratios W 101 / W and W 102 / W to be equal to or higher than the lower limit value of the above range, it is possible to effectively improve the handleability of the optical film 10 by forming uneven portions in a sufficiently wide region, By making it below the upper limit of the range, it is possible to sufficiently widen the effective area where desired optical characteristics can be exhibited and to increase the production efficiency of the optical film 10.

第一高濃度部分101の厚みT101、及び、第二高濃度部分102の厚みT102は、それぞれ独立して、好ましくは1μm以上、より好ましくは5μm以上、特に好ましくは10μm以上であり、好ましくは35μm以下、より好ましくは30μm以下、特に好ましくは25μm以下である。幅T101及びT102を、前記範囲の下限値以上にすることによって、赤外線レーザー光を効率良く吸収して凹凸部を容易に形成でき、前記範囲の上限値以下にすることによって、光学フィルム10の厚みを薄くすることができる。 The thickness T 101 of the first high concentration portion 101 and the thickness T 102 of the second high concentration portion 102 are each independently preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, and particularly preferably 10 μm or more. Is 35 μm or less, more preferably 30 μm or less, and particularly preferably 25 μm or less. By setting the widths T 101 and T 102 to be equal to or higher than the lower limit value of the range, the infrared laser beam can be efficiently absorbed to easily form the uneven portion, and by setting the width T 101 and T 102 to be equal to or lower than the upper limit value of the range. Can be made thinner.

また、光学フィルム10の厚みTに対する第一高濃度部分101の厚みT101の比率T101/T、及び、光学フィルム10の厚みTに対する第二高濃度部分102の厚みT102の比率T102/Tは、所定の範囲に収まることが好ましい。具体的には、前記の比率T101/T及びT102/Tは、それぞれ独立して、好ましくは1/100以上、より好ましくは5/100以上、特に好ましくは1/10以上であり、好ましくは1/2以下、より好ましくは1/5以下、特に好ましくは1/8以下である。比率T101/T及びT102/Tを、前記範囲の下限値以上にすることによって、赤外線レーザー光を効率良く吸収して凹凸部を容易に形成でき、前記範囲の上限値以下にすることによって、光学フィルム10の厚みを薄くすることができる。 Further, the ratio T 101 / T of the thickness T 101 of the first high concentration portion 101 to the thickness T of the optical film 10 and the ratio T 102 / T of the thickness T 102 of the second high concentration portion 102 to the thickness T of the optical film 10. T preferably falls within a predetermined range. Specifically, the ratios T 101 / T and T 102 / T are each independently preferably 1/100 or more, more preferably 5/100 or more, particularly preferably 1/10 or more, preferably Is 1/2 or less, more preferably 1/5 or less, and particularly preferably 1/8 or less. By setting the ratios T 101 / T and T 102 / T to be equal to or higher than the lower limit value of the range, the infrared laser beam can be efficiently absorbed to easily form the uneven portion, and by setting the ratio T 101 / T and the lower limit value of the range or less. The thickness of the optical film 10 can be reduced.

第一低濃度部分201の幅W201は、所望の光学特性を発揮しうる有効領域の幅に相当するので、光学フィルム10の製造効率を高める観点では、広いことが好ましい。前記の幅W201の具体的な範囲は、好ましくは500mm以上、より好ましくは800mm以上、特に好ましくは1000mm以上である。幅W201の上限に特に制限は無いが、工業生産上で現実的な範囲を挙げると、好ましくは2000mm以下、より好ましくは1700mm以下、特に好ましくは1500mm以下である。 Since the width W 201 of the first low-concentration portion 201 corresponds to the width of an effective region that can exhibit desired optical characteristics, it is preferable that the width W 201 is wide from the viewpoint of increasing the manufacturing efficiency of the optical film 10. The specific range of the width W 201 is preferably 500 mm or more, more preferably 800 mm or more, and particularly preferably 1000 mm or more. There is no particular limitation on the upper limit of the width W 201, to name a realistic range on industrial production, preferably 2000mm or less, more preferably 1700mm or less, particularly preferably 1500mm or less.

第二低濃度部分202の厚みT202、第三低濃度部分203の厚みT203、第四低濃度部分204の厚みT204、及び、第五低濃度部分205の厚みT205は、それぞれ独立して、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、特に好ましくは3μm以上であり、好ましくは30μm以下、より好ましくは20μm以下、特に好ましくは10μm以下である。前記の厚みT202、T203、T204及びT205を、前記範囲の下限値以上にすることによって、赤外線吸収剤のブリードアウトを効果的に抑制でき、前記範囲の上限値以下にすることによって、光学フィルム10の厚みを薄くできる。 The thickness T 202 of the second low density portion 202, a third thickness T 203 of the low-density portion 203, the thickness T 204 of the fourth low density portion 204, and the thickness T 205 of the fifth low density portion 205 independently The thickness is preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, particularly preferably 3 μm or more, preferably 30 μm or less, more preferably 20 μm or less, and particularly preferably 10 μm or less. By setting the thicknesses T 202 , T 203 , T 204 and T 205 to be equal to or higher than the lower limit value of the range, the bleed-out of the infrared absorbent can be effectively suppressed, and by setting the thickness T 202 or lower to be equal to or lower than the upper limit value of the range. The thickness of the optical film 10 can be reduced.

第六低濃度部分206の幅W206、及び、第七低濃度部分207の幅W207は、それぞれ独立して、好ましくは1μm以上、より好ましくは2μm以上、特に好ましくは3μm以上であり、好ましくは100mm以下、より好ましくは80mm以下、特に好ましくは50mm以下である。前記の幅W206及びW207を、前記範囲の下限値以上にすることによって、赤外線吸収剤のブリードアウトを効果的に抑制でき、前記範囲の上限値以下にすることによって、所望の光学特性を発揮しうる有効領域を十分に広くして光学フィルム10の製造効率を高めることができる。 The width W 206 of the sixth low concentration portion 206 and the width W 207 of the seventh low concentration portion 207 are each independently preferably 1 μm or more, more preferably 2 μm or more, and particularly preferably 3 μm or more. Is 100 mm or less, more preferably 80 mm or less, and particularly preferably 50 mm or less. By making the widths W 206 and W 207 equal to or higher than the lower limit value of the range, the bleed-out of the infrared absorber can be effectively suppressed, and by setting the width W 206 or lower to the upper limit value or less of the range, desired optical characteristics can be obtained. The effective area that can be exhibited can be sufficiently widened to increase the production efficiency of the optical film 10.

光学フィルム10の幅Wは、好ましくは600mm以上、より好ましくは1100mm以上、特に好ましくは1400mm以上であり、好ましくは2000mm以下、より好ましくは1900mm以下、特に好ましくは1800mm以下である。   The width W of the optical film 10 is preferably 600 mm or more, more preferably 1100 mm or more, particularly preferably 1400 mm or more, preferably 2000 mm or less, more preferably 1900 mm or less, and particularly preferably 1800 mm or less.

光学フィルム10の厚みTは、好ましくは5μm以上、より好ましくは8μm以上、特に好ましくは10μm以上であり、好ましくは100μm以下、より好ましくは80μm以下、特に好ましくは50μm以下である。   The thickness T of the optical film 10 is preferably 5 μm or more, more preferably 8 μm or more, particularly preferably 10 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 80 μm or less, and particularly preferably 50 μm or less.

光学フィルム10は、長尺のフィルムであることが好ましい。ここで長尺とは、フィルムの幅方向に対して5倍以上の長さを有するものをいい、好ましくは10倍もしくはそれ以上の長さを有し、具体的には巻回されてフィルム巻回体の形状とされ、保管または運搬される程度の長さを有するものを言う。長尺の光学フィルム10は、効率の良い製造が可能である。   The optical film 10 is preferably a long film. Here, the long length means one having a length of 5 times or more with respect to the width direction of the film, and preferably has a length of 10 times or more. It has a round shape and is long enough to be stored or transported. The long optical film 10 can be efficiently manufactured.

上述した光学フィルム10は、通常、熱可塑性樹脂のフィルムである。したがって、光学フィルム10において、高濃度部分100は、通常、赤外線吸収剤を含む熱可塑性樹脂Aを含む部分であり、また、低濃度部分200は、通常、熱可塑性樹脂Aよりも赤外線吸収剤の濃度が低い熱可塑性樹脂Bを含む部分である。   The optical film 10 described above is usually a thermoplastic resin film. Therefore, in the optical film 10, the high concentration portion 100 is usually a portion containing the thermoplastic resin A containing an infrared absorber, and the low concentration portion 200 is usually more of an infrared absorber than the thermoplastic resin A. It is a portion containing the thermoplastic resin B having a low concentration.

熱可塑性樹脂Aとしては、通常、重合体及び赤外線吸収剤を含み、必要に応じて任意の成分を含む樹脂を用いる。
熱可塑性樹脂Aが含みうる重合体としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル;ポリフェニレンサルファイドなどのポリアリーレンサルファイド;ポリビニルアルコール;ポリカーボネート;ポリアリレート;セルロースエステル重合体;ポリエーテルスルホン;ポリスルホン;ポリアリルサルホン;ポリ塩化ビニル;環状オレフィン重合体;棒状液晶ポリマー;スチレン又はスチレン誘導体の単独重合体、又はスチレン又はスチレン誘導体、及びこれらと共重合しうるコモノマーとの共重合体を含むポリスチレン系重合体;ポリアクリロニトリル、ポリメチルメタクリレート;あるいは、これらの多元共重合ポリマー、などが挙げられる。これらは、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
As the thermoplastic resin A, a resin containing a polymer and an infrared absorber, and optionally containing optional components is used.
Polymers that can be contained in the thermoplastic resin A include, for example, polyolefins such as polyethylene and polypropylene; polyesters such as polyethylene terephthalate and polybutylene terephthalate; polyarylene sulfides such as polyphenylene sulfide; polyvinyl alcohol; polycarbonate; polyarylate; Polyethersulfone; Polysulfone; Polyallylsulfone; Polyvinyl chloride; Cyclic olefin polymer; Rod-like liquid crystal polymer; Styrene or styrene derivative homopolymer, or styrene or styrene derivative, and a comonomer copolymerizable therewith Polystyrene-based polymers including these copolymers; polyacrylonitrile, polymethyl methacrylate; or multi-component copolymers of these, etc. It is. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.

中でも、機械特性、耐熱性、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性に優れることから、環状オレフィン重合体が好ましい。環状オレフィン重合体は、その重合体の構造単位が脂環式構造を有する重合体である。   Among these, a cyclic olefin polymer is preferable because of excellent mechanical properties, heat resistance, transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, and lightness. The cyclic olefin polymer is a polymer in which the structural unit of the polymer has an alicyclic structure.

環状オレフィン重合体は、主鎖に脂環式構造を有する重合体、側鎖に脂環式構造を有する重合体、主鎖及び側鎖に脂環式構造を有する重合体、並びに、これらの2以上の任意の比率の混合物としうる。中でも、機械的強度及び耐熱性の観点から、主鎖に脂環式構造を有する重合体が好ましい。   The cyclic olefin polymer includes a polymer having an alicyclic structure in a main chain, a polymer having an alicyclic structure in a side chain, a polymer having an alicyclic structure in a main chain and a side chain, and these 2 It can be set as a mixture of the above arbitrary ratios. Among these, from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance, a polymer having an alicyclic structure in the main chain is preferable.

脂環式構造の例としては、飽和脂環式炭化水素(シクロアルカン)構造、及び不飽和脂環式炭化水素(シクロアルケン、シクロアルキン)構造が挙げられる。中でも、機械強度及び耐熱性の観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、中でもシクロアルカン構造が特に好ましい。   Examples of the alicyclic structure include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure. Among these, from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are preferable, and a cycloalkane structure is particularly preferable.

脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは4個以上、より好ましくは5個以上であり、好ましくは30個以下、より好ましくは20個以下、特に好ましくは15個以下である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲であると、熱可塑性樹脂Aの機械強度、耐熱性及び成形性が高度にバランスされる。   The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, preferably 30 or less, more preferably 20 or less, particularly preferably per alicyclic structure. Is 15 or less. When the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is within this range, the mechanical strength, heat resistance and moldability of the thermoplastic resin A are highly balanced.

環状オレフィン重合体において、脂環式構造を有する構造単位の割合は、光学フィルム10の使用目的に応じて選択しうる。環状オレフィン重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは55重量%以上、さらに好ましくは70重量%以上、特に好ましくは90重量%以上である。環状オレフィン重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合がこの範囲にあると、熱可塑性樹脂Aの透明性及び耐熱性が良好となる。   In the cyclic olefin polymer, the proportion of the structural unit having an alicyclic structure can be selected according to the purpose of use of the optical film 10. The proportion of the structural unit having an alicyclic structure in the cyclic olefin polymer is preferably 55% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. When the proportion of the structural unit having an alicyclic structure in the cyclic olefin polymer is within this range, the transparency and heat resistance of the thermoplastic resin A are improved.

環状オレフィン重合体の中でも、シクロオレフィン重合体が好ましい。シクロオレフィン重合体とは、シクロオレフィン単量体を重合して得られる構造を有する重合体である。また、シクロオレフィン単量体は、炭素原子で形成される環構造を有し、かつ該環構造中に重合性の炭素−炭素二重結合を有する化合物である。重合性の炭素−炭素二重結合の例としては、開環重合等の重合が可能な炭素−炭素二重結合が挙げられる。また、シクロオレフィン単量体の環構造の例としては、単環、多環、縮合多環、橋かけ環及びこれらを組み合わせた多環等が挙げられる。中でも、得られる重合体の誘電特性及び耐熱性等の特性を高度にバランスさせる観点から、多環のシクロオレフィン単量体が好ましい。   Of the cyclic olefin polymers, cycloolefin polymers are preferred. A cycloolefin polymer is a polymer having a structure obtained by polymerizing a cycloolefin monomer. The cycloolefin monomer is a compound having a ring structure formed of carbon atoms and having a polymerizable carbon-carbon double bond in the ring structure. Examples of the polymerizable carbon-carbon double bond include a carbon-carbon double bond capable of polymerization such as ring-opening polymerization. Examples of the ring structure of the cycloolefin monomer include monocycles, polycycles, condensed polycycles, bridged rings, and polycycles obtained by combining these. Among these, a polycyclic cycloolefin monomer is preferable from the viewpoint of highly balancing the dielectric properties and heat resistance of the resulting polymer.

上記のシクロオレフィン重合体の中でも好ましいものとしては、ノルボルネン系重合体、単環の環状オレフィン系重合体、環状共役ジエン系重合体、及び、これらの水素化物等が挙げられる。これらの中でも、ノルボルネン系重合体は、成形性が良好なため、特に好適である。   Among the above cycloolefin polymers, preferred are norbornene polymers, monocyclic olefin polymers, cyclic conjugated diene polymers, hydrides thereof, and the like. Among these, norbornene-based polymers are particularly suitable because of good moldability.

ノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びその水素化物;ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びその水素化物が挙げられる。また、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の開環単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の開環共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる他の単量体との開環共重合体が挙げられる。さらに、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する1種類の単量体の付加単独重合体、ノルボルネン構造を有する2種類以上の単量体の付加共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる他の単量体との付加共重合体が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素化物は、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性、軽量性などの観点から、特に好適である。   Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof; an addition polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof. Examples of a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure include a ring-opening homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure and a ring-opening of two or more kinds of monomers having a norbornene structure. Examples thereof include a copolymer and a ring-opening copolymer with a monomer having a norbornene structure and another monomer that can be copolymerized therewith. Furthermore, examples of the addition polymer of a monomer having a norbornene structure include an addition homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of two or more kinds of monomers having a norbornene structure. And addition copolymers with monomers having a norbornene structure and other monomers copolymerizable therewith. Among these, a hydride of a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of moldability, heat resistance, low moisture absorption, dimensional stability, lightness, and the like.

ノルボルネン構造を有する単量体の例としては、ビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−エン(慣用名:ノルボルネン)、トリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3,7−ジエン(慣用名:ジシクロペンタジエン)、7,8−ベンゾトリシクロ[4.3.0.12,5]デカ−3−エン(慣用名:メタノテトラヒドロフルオレン)、テトラシクロ[4.4.0.12,5.17,10]ドデカ−3−エン(慣用名:テトラシクロドデセン)、およびこれらの化合物の誘導体(例えば、環に置換基を有するもの)を挙げることができる。ここで、置換基の例としては、アルキル基、アルキレン基、及び極性基を挙げることができる。また、これらの置換基は、同一または相異なって、複数個が環に結合していてもよい。ノルボルネン構造を有する単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the monomer having a norbornene structure include bicyclo [2.2.1] hept-2-ene (common name: norbornene), tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] deca-3,7. -Diene (common name: dicyclopentadiene), 7,8-benzotricyclo [4.3.0.1 2,5 ] dec-3-ene (common name: methanotetrahydrofluorene), tetracyclo [4.4. 0.1 2,5 . 1 7,10 ] dodec-3-ene (common name: tetracyclododecene) and derivatives of these compounds (for example, those having a substituent in the ring). Here, examples of the substituent include an alkyl group, an alkylene group, and a polar group. Moreover, these substituents may be the same or different, and a plurality thereof may be bonded to the ring. One type of monomer having a norbornene structure may be used alone, or two or more types may be used in combination at any ratio.

極性基の例としては、ヘテロ原子、及びヘテロ原子を有する原子団が挙げられる。ヘテロ原子の例としては、酸素原子、窒素原子、硫黄原子、ケイ素原子、及びハロゲン原子が挙げられる。極性基の具体例としては、カルボキシル基、カルボニルオキシカルボニル基、エポキシ基、ヒドロキシル基、オキシ基、エステル基、シラノール基、シリル基、アミノ基、アミド基、イミド基、ニトリル基、及びスルホン酸基が挙げられる。   Examples of the polar group include heteroatoms and atomic groups having heteroatoms. Examples of the hetero atom include an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom, a silicon atom, and a halogen atom. Specific examples of polar groups include carboxyl groups, carbonyloxycarbonyl groups, epoxy groups, hydroxyl groups, oxy groups, ester groups, silanol groups, silyl groups, amino groups, amide groups, imide groups, nitrile groups, and sulfonic acid groups. Is mentioned.

ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な単量体の例としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテンなどのモノ環状オレフィン類およびその誘導体;シクロヘキサジエン、シクロヘプタジエンなどの環状共役ジエンおよびその誘導体が挙げられる。ノルボルネン構造を有する単量体と開環共重合可能な単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of monomers capable of ring-opening copolymerization with monomers having a norbornene structure include monocyclic olefins such as cyclohexene, cycloheptene, and cyclooctene and derivatives thereof; cyclic conjugated dienes such as cyclohexadiene and cycloheptadiene; And derivatives thereof. As the monomer having a norbornene structure and a monomer capable of ring-opening copolymerization, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination at any ratio.

ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体は、例えば、単量体を開環重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。   A ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing a monomer in the presence of a ring-opening polymerization catalyst.

ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な単量体の例としては、エチレン、プロピレン、1−ブテンなどの炭素原子数2〜20のα−オレフィンおよびこれらの誘導体;シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセンなどのシクロオレフィンおよびこれらの誘導体;並びに1,4−ヘキサジエン、4−メチル−1,4−ヘキサジエン、5−メチル−1,4−ヘキサジエンなどの非共役ジエンが挙げられる。これらの中でも、α−オレフィンが好ましく、エチレンがより好ましい。また、ノルボルネン構造を有する単量体と付加共重合可能な単量体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   Examples of monomers that can be addition copolymerized with a monomer having a norbornene structure include α-olefins having 2 to 20 carbon atoms such as ethylene, propylene, and 1-butene, and derivatives thereof; cyclobutene, cyclopentene, and cyclohexene. And non-conjugated dienes such as 1,4-hexadiene, 4-methyl-1,4-hexadiene, 5-methyl-1,4-hexadiene, and the like. Among these, α-olefin is preferable and ethylene is more preferable. Moreover, the monomer which can carry out addition copolymerization with the monomer which has a norbornene structure may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体は、例えば、単量体を付加重合触媒の存在下に重合又は共重合することにより製造しうる。   An addition polymer of a monomer having a norbornene structure can be produced, for example, by polymerizing or copolymerizing a monomer in the presence of an addition polymerization catalyst.

上述した開環重合体及び付加重合体の水素化物は、例えば、これらの開環重合体及び付加重合体の溶液において、ニッケル、パラジウム等の遷移金属を含む水素化触媒の存在下で、炭素−炭素不飽和結合を、好ましくは90%以上水素化することによって製造しうる。   The hydride of the ring-opening polymer and the addition polymer described above is, for example, in the presence of a hydrogenation catalyst containing a transition metal such as nickel or palladium in a solution of these ring-opening polymer and addition polymer. The carbon unsaturated bond can be produced by hydrogenating preferably 90% or more.

ノルボルネン系重合体の中でも、構造単位として、X:ビシクロ[3.3.0]オクタン−2,4−ジイル−エチレン構造と、Y:トリシクロ[4.3.0.12,5]デカン−7,9−ジイル−エチレン構造とを有し、これらの構造単位の量が、ノルボルネン系重合体の構造単位全体に対して90重量%以上であり、かつ、Xの割合とYの割合との比が、X:Yの重量比で100:0〜40:60であるものが好ましい。このような重合体を用いることにより、当該ノルボルネン系重合体を含む光学フィルム10を、長期的に寸法変化がなく、光学特性の安定性に優れるものにできる。 Among norbornene-based polymers, as structural units, X: bicyclo [3.3.0] octane-2,4-diyl-ethylene structure and Y: tricyclo [4.3.0.1 2,5 ] decane- Having a 9,9-diyl-ethylene structure, the amount of these structural units being 90% by weight or more based on the total structural units of the norbornene polymer, and the ratio of X and Y It is preferable that the ratio is 100: 0 to 40:60 by weight ratio of X: Y. By using such a polymer, the optical film 10 containing the norbornene-based polymer can be excellent in stability of optical characteristics without long-term dimensional change.

単環の環状オレフィン系重合体の例としては、シクロヘキセン、シクロヘプテン、シクロオクテン等の単環を有する環状オレフィン系モノマーの付加重合体を挙げることができる。   Examples of the monocyclic olefin polymer include addition polymers of cyclic olefin monomers having a single ring such as cyclohexene, cycloheptene, cyclooctene and the like.

環状共役ジエン系重合体の例としては、1,3−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の共役ジエン系モノマーの付加重合体を環化反応して得られる重合体;シクロペンタジエン、シクロヘキサジエン等の環状共役ジエン系モノマーの1,2−または1,4−付加重合体;およびこれらの水素化物を挙げることができる。   Examples of cyclic conjugated diene polymers include polymers obtained by cyclization of addition polymers of conjugated diene monomers such as 1,3-butadiene, isoprene and chloroprene; cyclic conjugates such as cyclopentadiene and cyclohexadiene Mention may be made of 1,2- or 1,4-addition polymers of diene monomers; and their hydrides.

熱可塑性樹脂Aに含まれる重合体の重量平均分子量(Mw)は、光学フィルム10の使用目的に応じて適宜選定でき、好ましくは10,000以上、より好ましくは15,000以上、特に好ましくは20,000以上であり、好ましくは100,000以下、より好ましくは80,000以下、特に好ましくは50,000以下である。重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、光学フィルム10の機械的強度および成型加工性が高度にバランスされる。ここで、前記の重量平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサンを用いて(但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい)ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーで測定したポリイソプレン又はポリスチレン換算の重量平均分子量である。   The weight average molecular weight (Mw) of the polymer contained in the thermoplastic resin A can be appropriately selected according to the purpose of use of the optical film 10, and is preferably 10,000 or more, more preferably 15,000 or more, and particularly preferably 20. , Or more, preferably 100,000 or less, more preferably 80,000 or less, and particularly preferably 50,000 or less. When the weight average molecular weight is in such a range, the mechanical strength and molding processability of the optical film 10 are highly balanced. Here, the weight average molecular weight is calculated by polyisoprene or polystyrene measured by gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent (however, toluene may be used when the sample does not dissolve in cyclohexane). The weight average molecular weight of

熱可塑性樹脂Aに含まれる重合体の分子量分布(重量平均分子量(Mw)/数平均分子量(Mn))は、好ましくは1.2以上、より好ましくは1.5以上、特に好ましくは1.8以上であり、好ましくは3.5以下、より好ましくは3.0以下、特に好ましくは2.7以下である。分子量分布を前記下限値以上にすることにより、重合体の生産性を高め、製造コストを抑制できる。また、上限値以下にすることにより、低分子成分の量が小さくなるので、高温曝露時の緩和を抑制して、光学フィルム10の安定性を高めることができる。   The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the polymer contained in the thermoplastic resin A is preferably 1.2 or more, more preferably 1.5 or more, and particularly preferably 1.8. Or more, preferably 3.5 or less, more preferably 3.0 or less, and particularly preferably 2.7 or less. By making molecular weight distribution more than the said lower limit, productivity of a polymer can be improved and manufacturing cost can be suppressed. Moreover, since the quantity of a low molecular component becomes small by making it into an upper limit or less, relaxation at the time of high temperature exposure can be suppressed and stability of the optical film 10 can be improved.

熱可塑性樹脂Aにおける重合体の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは80重量%以上、特に好ましくは95重量%以上であり、好ましくは99.999重量%以下、より好ましくは99.99重量%以下、特に好ましくは99.9重量%以下である。重合体の割合を、前記範囲の下限値以上にすることにより、光学フィルム10が十分な耐熱性及び透明性を発揮でき、前記範囲の上限値以下にすることにより、高濃度部分100によって赤外線を効率良く吸収できる。   The ratio of the polymer in the thermoplastic resin A is preferably 50% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, particularly preferably 95% by weight or more, preferably 99.999% by weight or less, more preferably 99.% by weight. It is 99 weight% or less, Most preferably, it is 99.9 weight% or less. By making the ratio of the polymer equal to or higher than the lower limit value of the above range, the optical film 10 can exhibit sufficient heat resistance and transparency. Can be absorbed efficiently.

赤外線吸収剤としては、赤外波長領域に含まれる一以上の波長の光を吸収しうる化合物を用いうる。ここで、赤外波長領域とは、波長750nm以上の波長領域を言い、近赤外波長領域、中赤外領域及び遠赤外領域を含む。これらの化合物の中でも、赤外線吸収剤としては、赤外線レーザー光の波長において吸収を有する化合物が好ましい。赤外線レーザー光の波長において吸収を有する赤外線吸収剤は、赤外線レーザー光を効率良く吸収できるので、凹凸部の形成を容易にできる。具体的には、赤外線吸収剤は、808nm、940nm、1064nm、1080nm等の近赤外波長領域、及び9.3μm、9.4μm、9.6μm、10.2μm、10.6μm等の長波長赤外領域からなる群より選ばれる1以上の波長において吸収を有することが好ましい。   As the infrared absorber, a compound capable of absorbing light having one or more wavelengths included in the infrared wavelength region can be used. Here, the infrared wavelength region means a wavelength region having a wavelength of 750 nm or more, and includes a near infrared wavelength region, a mid infrared region, and a far infrared region. Among these compounds, the infrared absorber is preferably a compound having absorption at the wavelength of infrared laser light. Since the infrared absorbent having absorption at the wavelength of the infrared laser beam can efficiently absorb the infrared laser beam, the uneven portion can be easily formed. Specifically, the infrared absorber is a near-infrared wavelength region such as 808 nm, 940 nm, 1064 nm, and 1080 nm, and a long wavelength red such as 9.3 μm, 9.4 μm, 9.6 μm, 10.2 μm, and 10.6 μm. It is preferable to have absorption at one or more wavelengths selected from the group consisting of outer regions.

赤外線吸収剤としては、呈色した化合物を用いてもよく、無色の化合物を用いてもよい。よって、赤外線吸収剤としては、可視波長領域の光を吸収しうる化合物を用いてもよく、可視波長領域の光を透過しうる化合物を用いてもよい。可視波長領域の光を吸収しうる赤外線吸収剤を用いた場合、所望の光学特性を発揮させるための有効領域とそれ以外の領域とを肉眼で見分けられるようになるので、光学フィルム10の取り扱いを容易にできる。   As the infrared absorber, a colored compound may be used, or a colorless compound may be used. Therefore, as the infrared absorber, a compound that can absorb light in the visible wavelength region or a compound that can transmit light in the visible wavelength region may be used. When an infrared absorber capable of absorbing light in the visible wavelength region is used, an effective region for exhibiting desired optical characteristics can be distinguished from other regions with the naked eye. Easy to do.

赤外線吸収剤としては、溶融押出法によって光学フィルム10を製造する際の温度において揮発しうる程度に高い揮発性を有するものが好ましい。また、赤外線吸収剤は、通常の温度条件においては、高い揮発性を示さないものが好ましい。ここで揮発性とは、赤外線吸収剤が気体となって発散する性質のことをいい、気体となる以前の赤外線吸収剤が固体であったか液体であったかは問わない。また、高い揮発性を有するとは、光学フィルム10を製造するために溶融させた熱可塑性樹脂から揮発して熱可塑性樹脂から失われる赤外線吸収剤の量が、赤外線吸収剤の全配合量100重量%に対して、通常1重量%以上、好ましくは5重量%以上であることをいう。   As the infrared absorber, those having high volatility to such an extent that they can be volatilized at the temperature at which the optical film 10 is produced by a melt extrusion method are preferable. The infrared absorber is preferably one that does not exhibit high volatility under normal temperature conditions. Here, the term “volatile” refers to the property of the infrared absorber to be emitted as a gas, and it does not matter whether the infrared absorber before becoming a gas was solid or liquid. Moreover, having high volatility means that the amount of the infrared absorber that is volatilized from the thermoplastic resin melted to produce the optical film 10 and lost from the thermoplastic resin is 100 wt% of the total amount of the infrared absorber. % Is usually 1% by weight or more, preferably 5% by weight or more.

このような赤外線吸収剤としては、通常、有機化合物を用いる。赤外線吸収剤の例としては、シアニン化合物、フタロシアニン化合物、ジチオール金属錯体、ジインモニウム化合物、アゾ化合物などが挙げられる。さらに、無機化合物などでは、酸化ケイ素(シリカ)が挙げられる。また、赤外線吸収剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   As such an infrared absorber, an organic compound is usually used. Examples of infrared absorbers include cyanine compounds, phthalocyanine compounds, dithiol metal complexes, diimmonium compounds, azo compounds, and the like. Furthermore, silicon oxide (silica) is mentioned as an inorganic compound. Moreover, an infrared absorber may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

熱可塑性樹脂Aにおける赤外線吸収剤の濃度は、高濃度部分100における赤外線吸収剤の濃度として上述した範囲と同様の範囲の濃度に設定しうる。   The density | concentration of the infrared absorber in the thermoplastic resin A can be set to the density | concentration of the range similar to the range mentioned above as a density | concentration of the infrared absorber in the high concentration part 100.

熱可塑性樹脂Aにおける任意の成分としては、重合体及び赤外線吸収剤以外の成分を用いうる。任意の成分の例としては、紫外線吸収剤、酸化防止剤、可塑剤などが挙げられる。中でも、任意の成分としては、溶融押出法によって光学フィルム10を製造する際の温度において揮発しない程度に揮発性が低いものが好ましい。また、任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。   As an arbitrary component in the thermoplastic resin A, components other than the polymer and the infrared absorber can be used. Examples of optional components include ultraviolet absorbers, antioxidants, plasticizers and the like. Especially, as an arbitrary component, a thing with low volatility is preferable so that it may not volatilize at the temperature at the time of manufacturing the optical film 10 by a melt extrusion method. Moreover, arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.

本実施形態では、高濃度部分100を形成する熱可塑性樹脂Aが光学フィルム10内のいずれの部分においても一様な組成を有する例を示して説明するが、高濃度部分100において樹脂の組成は必ずしも一様でなくてもよい。例えば、第一高濃度部分101と第二高濃度部分102とで、熱可塑性樹脂Aに含まれる成分の一部又は全部が異なっていてもよい。   In the present embodiment, the thermoplastic resin A forming the high concentration portion 100 will be described with an example having a uniform composition in any portion in the optical film 10, but the resin composition in the high concentration portion 100 is as follows. It is not necessarily uniform. For example, the first high-concentration portion 101 and the second high-concentration portion 102 may be different from some or all of the components contained in the thermoplastic resin A.

熱可塑性樹脂Aのガラス転移温度は、好ましくは100℃以上、より好ましくは110℃以上、特に好ましくは120℃以上であり、好ましくは190℃以下、より好ましくは180℃以下、特に好ましくは170℃以下である。ガラス転移温度が前記範囲内であることにより、耐久性に優れる光学フィルム10が容易に得られる。さらに、光学フィルム10として延伸フィルムを製造する場合、ガラス転移温度を、前記範囲の下限値以上にすることにより、高温環境下における延伸フィルムの配向緩和を効果的に抑制でき、前記範囲の上限値以下にすることにより、延伸処理を容易に行える。   The glass transition temperature of the thermoplastic resin A is preferably 100 ° C. or higher, more preferably 110 ° C. or higher, particularly preferably 120 ° C. or higher, preferably 190 ° C. or lower, more preferably 180 ° C. or lower, particularly preferably 170 ° C. It is as follows. When the glass transition temperature is within the above range, the optical film 10 having excellent durability can be easily obtained. Furthermore, when producing a stretched film as the optical film 10, by making the glass transition temperature equal to or higher than the lower limit of the above range, the orientation relaxation of the stretched film in a high temperature environment can be effectively suppressed, and the upper limit of the above range. By making the following, the stretching process can be easily performed.

熱可塑性樹脂Aの光弾性係数の絶対値は、好ましくは10×10−12Pa−1以下、より好ましくは7×10−12Pa−1以下、特に好ましくは4×10−12Pa−1以下である。光弾性係数の絶対値が前記範囲内であることにより、高性能な光学フィルム10を容易に製造することができる。また、光学フィルム10として延伸フィルムを製造する場合、その面内レターデーションのバラツキを小さくすることができる。ここで、光弾性係数Cは、複屈折をΔn、応力をσとしたとき、C=Δn/σで表される値である。 The absolute value of the photoelastic coefficient of the thermoplastic resin A is preferably 10 × 10 −12 Pa −1 or less, more preferably 7 × 10 −12 Pa −1 or less, and particularly preferably 4 × 10 −12 Pa −1 or less. It is. When the absolute value of the photoelastic coefficient is within the above range, the high-performance optical film 10 can be easily manufactured. Moreover, when manufacturing a stretched film as the optical film 10, the variation in the in-plane retardation can be made small. Here, the photoelastic coefficient C is a value represented by C = Δn / σ, where birefringence is Δn and stress is σ.

熱可塑性樹脂Bとしては、通常、重合体を含み、必要に応じて赤外線吸収剤及び任意の成分を含みうる樹脂を用いる。熱可塑性樹脂Bが含みうる重合体としては、例えば、熱可塑性樹脂Aが含みうる重合体として上述した範囲から選ばれる重合体を任意に用いうる。また、この重合体は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、熱可塑性樹脂Bが含む重合体としては、熱可塑性樹脂Aが含む重合体と同じ重合体を用いることが好ましい。これにより、光学フィルム10の高濃度部分100の収縮性と低濃度部分200の収縮性とを同程度にできるので、温度変化時に光学フィルム10のシワ、カール及びたわみ、等の変形を抑制できる。   As the thermoplastic resin B, a resin that usually contains a polymer and can contain an infrared absorber and optional components as necessary is used. As the polymer that the thermoplastic resin B can contain, for example, a polymer selected from the above-described range as the polymer that the thermoplastic resin A can contain can be arbitrarily used. Moreover, this polymer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Especially, as a polymer which the thermoplastic resin B contains, it is preferable to use the same polymer as the polymer which the thermoplastic resin A contains. Thereby, since the shrinkability of the high density part 100 of the optical film 10 and the shrinkage of the low density part 200 can be made comparable, deformations, such as a wrinkle, a curl, and a deflection, of the optical film 10 at the time of a temperature change can be suppressed.

熱可塑性樹脂Bにおける重合体の割合は、好ましくは50重量%以上、より好ましくは80重量%以上、特に好ましくは95重量%以上であり、好ましくは100重量%以下、より好ましくは99.999重量%以下、特に好ましくは99.99重量%以下である。重合体の割合を前記範囲にすることにより、重合体の透明性、吸水性などの特性を維持できる。   The ratio of the polymer in the thermoplastic resin B is preferably 50% by weight or more, more preferably 80% by weight or more, particularly preferably 95% by weight or more, preferably 100% by weight or less, more preferably 99.999% by weight. % Or less, particularly preferably 99.99% by weight or less. By setting the ratio of the polymer within the above range, it is possible to maintain characteristics such as transparency and water absorption of the polymer.

熱可塑性樹脂Bが含みうる赤外線吸収剤としては、例えば、熱可塑性樹脂Aが含みうる赤外線吸収剤として上述した範囲から選ばれる赤外線吸収剤を任意に用いうる。また、この赤外線吸収剤は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、通常は、熱可塑性樹脂Bが含む赤外線吸収剤としては、熱可塑性樹脂Aが含む赤外線吸収剤と同じ赤外線吸収剤を用いる。   As the infrared absorbent that can be contained in the thermoplastic resin B, for example, an infrared absorbent selected from the above-described range as the infrared absorbent that can be contained in the thermoplastic resin A can be arbitrarily used. Moreover, this infrared absorber may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. However, normally, as the infrared absorbent contained in the thermoplastic resin B, the same infrared absorbent as the infrared absorbent contained in the thermoplastic resin A is used.

熱可塑性樹脂Bにおける赤外線吸収剤の濃度は、低濃度部分200における赤外線吸収剤の濃度として上述した範囲と同様の範囲の濃度に設定しうる。したがって、熱可塑性樹脂Bにおける赤外線吸収剤の濃度は、少ないほど好ましく、特に好ましくはゼロ重量%である。   The density | concentration of the infrared absorber in the thermoplastic resin B can be set to the density | concentration of the range similar to the range mentioned above as a density | concentration of the infrared absorber in the low concentration part 200. FIG. Therefore, the concentration of the infrared absorbent in the thermoplastic resin B is preferably as small as possible, and particularly preferably 0% by weight.

熱可塑性樹脂Bにおける任意の成分としては、例えば、熱可塑性樹脂Aが含みうる任意の成分として上述した範囲から選ばれる成分を任意に用いうる。また、任意の成分は、1種類を単独で用いてもよく、2種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。中でも、任意の成分としては、溶融押出法によって光学フィルム10を製造する際の温度において揮発しない程度に揮発性が低いものを有するものが好ましい。   As an arbitrary component in the thermoplastic resin B, for example, a component selected from the above-mentioned range as an arbitrary component that the thermoplastic resin A can contain can be arbitrarily used. Moreover, arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. Especially, as an arbitrary component, what has a low volatility to such an extent that it does not volatilize at the temperature at the time of manufacturing the optical film 10 by a melt extrusion method is preferable.

本実施形態では、低濃度部分200を形成する熱可塑性樹脂Bが光学フィルム10内のいずれの部分においても一様な組成を有する例を示して説明するが、低濃度部分200において樹脂の組成は必ずしも一様でなくてもよい。例えば、第一低濃度部分201〜第九低濃度部分209において、それぞれ、熱可塑性樹脂Bに含まれる成分の一部又は全部が異なっていてもよい。   In the present embodiment, an example in which the thermoplastic resin B forming the low concentration portion 200 has a uniform composition in any portion of the optical film 10 will be described. However, the resin composition in the low concentration portion 200 is as follows. It is not necessarily uniform. For example, in the first low concentration portion 201 to the ninth low concentration portion 209, some or all of the components contained in the thermoplastic resin B may be different from each other.

熱可塑性樹脂Bのガラス転移温度は、熱可塑性樹脂Aのガラス転移温度の説明に記載した範囲と同様の範囲に収めうる。これにより、熱可塑性樹脂Aのガラス転移温度の説明に記載したのと同様の利点が得られる。   The glass transition temperature of the thermoplastic resin B can fall within the same range as that described in the explanation of the glass transition temperature of the thermoplastic resin A. Thereby, the same advantage as described in the explanation of the glass transition temperature of the thermoplastic resin A is obtained.

熱可塑性樹脂Bの光弾性係数の絶対値は、熱可塑性樹脂Aの光弾性係数の絶対値の説明に記載した範囲と同様の範囲に収めうる。これにより、熱可塑性樹脂Aの光弾性係数の説明に記載したのと同様の利点が得られる。   The absolute value of the photoelastic coefficient of the thermoplastic resin B can fall within a range similar to the range described in the description of the absolute value of the photoelastic coefficient of the thermoplastic resin A. Thereby, the advantage similar to having described in description of the photoelastic coefficient of the thermoplastic resin A is acquired.

光学フィルム10の飽和吸水率は、好ましくは0.05%以下、より好ましくは0.03%以下、特に好ましくは0.01%以下であり、理想的にはゼロ%である。光学フィルム10の飽和吸水率をこのように低くすることにより、光学フィルム10の光学特性の継時的な変化を抑制することができる。   The saturated water absorption rate of the optical film 10 is preferably 0.05% or less, more preferably 0.03% or less, particularly preferably 0.01% or less, and ideally 0%. By lowering the saturated water absorption rate of the optical film 10 in this way, it is possible to suppress changes over time in the optical characteristics of the optical film 10.

フィルムの飽和吸水率は、JIS K7209に従い、下記の手順で測定しうる。
フィルムを50℃で24時間乾燥し、デシケータ中で放冷する。次いで、乾燥したフィルムの質量(M1)を測定する。
このフィルムを、温度23℃、相対湿度50%の室内で24時間水に浸漬しフィルムを水で飽和させる。その後、水からフィルムを取り出し、24時間浸漬後のフィルムの質量(M2)を測定する。
これらの質量の測定値から、次式により、フィルムの飽和吸水率を求めうる。
飽和吸水率(%)=[(M2−M1)/M1]×100(%)
The saturated water absorption of the film can be measured according to the following procedure according to JIS K7209.
The film is dried at 50 ° C. for 24 hours and allowed to cool in a desiccator. Next, the mass (M1) of the dried film is measured.
This film is immersed in water in a room at a temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 50% for 24 hours to saturate the film with water. Thereafter, the film is taken out from the water, and the mass (M2) of the film after immersion for 24 hours is measured.
From these measured mass values, the saturated water absorption rate of the film can be determined by the following equation.
Saturated water absorption (%) = [(M2−M1) / M1] × 100 (%)

光学フィルム10の飽和吸水率を前記の範囲に収める方法としては、例えば、光学フィルム10中の重合体の種類を調整する方法が挙げられる。   Examples of a method for keeping the saturated water absorption rate of the optical film 10 within the above range include a method of adjusting the type of polymer in the optical film 10.

光学フィルム10は、光学部材としての機能を安定して発揮させる観点から、有効領域としての領域13(図2参照)での全光線透過率が、85%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。光線透過率は、JIS K0115に準拠して、分光光度計(日本分光社製、紫外可視近赤外分光光度計「V−570」)を用いて測定しうる。   From the viewpoint of stably exhibiting the function as an optical member, the optical film 10 preferably has a total light transmittance of 85% or more in the region 13 (see FIG. 2) as an effective region, and is 90% or more. It is more preferable that The light transmittance can be measured using a spectrophotometer (manufactured by JASCO Corporation, UV-visible near-infrared spectrophotometer “V-570”) in accordance with JIS K0115.

光学フィルム10の有効領域としての領域13(図2参照)でのヘイズは、好ましくは1%以下、より好ましくは0.8%以下、特に好ましくは0.5%以下である。ヘイズを低い値とすることにより、光学フィルム10を組み込んだ表示装置の表示画像の鮮明性を高めることができる。ここで、ヘイズは、JIS K7361−1997に準拠して、日本電色工業社製「濁度計 NDH−300A」を用いて、5箇所測定し、それから求めた平均値である。   The haze in the region 13 (see FIG. 2) as the effective region of the optical film 10 is preferably 1% or less, more preferably 0.8% or less, and particularly preferably 0.5% or less. By setting the haze to a low value, the sharpness of the display image of the display device incorporating the optical film 10 can be enhanced. Here, the haze is an average value obtained by measuring five points using a “turbidimeter NDH-300A” manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. according to JIS K7361-1997.

上述した光学フィルム10は、溶融押出法によって製造しうる。例えば、溶融状態の熱可塑性樹脂A及び溶融状態の熱可塑性樹脂Bを充填されたダイスから、これらの熱可塑性樹脂A及び溶融状態の熱可塑性樹脂Bをフィルム状に押し出す工程を含む製造方法によって、光学フィルム10を製造しうる。通常、製造された光学フィルム10は、当該光学フィルム10の表面10Uに凹凸部を形成して成形フィルム20を得る工程、及び、この成形フィルム20をロール状に巻き取ってフィルム巻回体30を得る工程を含む、フィルム巻回体30の製造方法に供され、フィルム巻回体30として回収される。以下、図面を示して、この製造方法の例を説明する。   The optical film 10 described above can be manufactured by a melt extrusion method. For example, by a manufacturing method including a step of extruding these thermoplastic resin A and molten thermoplastic resin B into a film form from a die filled with molten thermoplastic resin A and molten thermoplastic resin B, The optical film 10 can be manufactured. Usually, the manufactured optical film 10 has a step of forming a concavo-convex portion on the surface 10U of the optical film 10 to obtain a molded film 20, and the film wound body 30 is wound up in a roll shape. It is used for the manufacturing method of the film winding body 30 including the process to obtain, and is collect | recovered as the film winding body 30. FIG. Hereinafter, an example of this manufacturing method will be described with reference to the drawings.

図4は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム10及びフィルム巻回体30の製造装置1を模式的に示す概要図である。
図4に示すように、この製造装置1は、第一の溶融樹脂供給系2及び第二の溶融樹脂供給系3を有する。これらの溶融樹脂供給系2及び3は、それぞれ熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bからなる樹脂材料(ペレット)が供給されるホッパ2a及び3a、ホッパ2a及び3aに供給された樹脂材料を加熱して溶融混練する押出機2b及び3b、押出機2b及び3bにより溶融された熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bをそれぞれ定量供給するギヤポンプ2c及び3c、不溶融の異物等を除去する濾過装置2d及び3dをそれぞれ備える。濾過装置2dには、濾過装置2dから溶融状態の熱可塑性樹脂Aを合流装置としてのフィードブロック4に供給しうる配管2eが接続されている。また、濾過装置3dには、濾過装置3dから溶融状態の熱可塑性樹脂Bをフィードブロック4に供給しうる配管3eが接続されている。
FIG. 4 is a schematic diagram schematically showing the manufacturing apparatus 1 for the optical film 10 and the film winding body 30 according to an embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 4, the manufacturing apparatus 1 includes a first molten resin supply system 2 and a second molten resin supply system 3. These molten resin supply systems 2 and 3 heat hoppers 2a and 3a to which resin materials (pellets) made of thermoplastic resin A and thermoplastic resin B are supplied, and resin materials supplied to hoppers 2a and 3a, respectively. Extruders 2b and 3b for melting and kneading, gear pumps 2c and 3c for quantitatively supplying the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B melted by the extruders 2b and 3b, and a filtering device 2d for removing unmelted foreign matters 3d is provided. A pipe 2e that can supply the molten thermoplastic resin A from the filtration device 2d to the feed block 4 as a merging device is connected to the filtration device 2d. Further, a pipe 3e that can supply the molten thermoplastic resin B from the filtration device 3d to the feed block 4 is connected to the filtration device 3d.

フィードブロック4は、当該フィードブロック4の内部に、第一の溶融樹脂供給系2から供給される熱可塑性樹脂Aが流通するための流路(図示せず。)、及び、第二の溶融樹脂供給系3から供給される熱可塑性樹脂Bが流通するための流路(図示せず。)を有している。これらの流路は、フィードブロック4内で合流し、合流後の流路において熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bに所望の位置を流通させられるように形成されている。   The feed block 4 includes a flow path (not shown) through which the thermoplastic resin A supplied from the first molten resin supply system 2 flows and the second molten resin. It has a flow path (not shown) through which the thermoplastic resin B supplied from the supply system 3 flows. These flow paths are formed in the feed block 4 so that desired positions can be passed through the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B in the flow path after the merge.

フォードブロック4の下流には、ダイス5が設けられている。本例では、ダイス5として、単層用のTダイを示して説明する。このダイス5としては、リップ部を炭化タングステン等の硬質の材料で構成し、クロムメッキ等を施して平滑に仕上げ、フィルムにダイラインが発生することを抑制することが好ましい。ダイス5の形状に特に制限はなく、例えばストレートマニホールド形、フィッシュテール形、コートハンガー形を採用しうる。これらの中で、コートハンガー形のダイスは、厚みTのばらつきの少ない光学フィルム10を製造でき、好ましい。   A die 5 is provided downstream of the Ford block 4. In this example, a single layer T-die is shown and described as the die 5. As this die 5, it is preferable that the lip portion is made of a hard material such as tungsten carbide, is subjected to chrome plating or the like to finish smoothly, and generation of a die line on the film is suppressed. There is no restriction | limiting in particular in the shape of the die | dye 5, For example, a straight manifold type, a fishtail type, and a coat hanger type can be employ | adopted. Among these, a coat hanger type die is preferable because it can produce the optical film 10 with less variation in the thickness T.

ダイス5は、溶融状態の熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bを支持体としてのキャストロール6a上にフィルム状に押し出し、第一冷却ロール6b及び第二冷却ロール6cで順次冷却することにより、光学フィルム10が得られるように設けられている。また、ダイス5の開口部の近傍には、光学フィルム10の両端に静電気を印加しうるように、図示しない静電ピニング装置が設けられている。この静電ピニング装置は、光学フィルム10の両端を、キャストロール6aに静電吸着させうるように設けらえている。   The die 5 is formed by extruding the molten thermoplastic resin A and thermoplastic resin B onto a cast roll 6a as a support in the form of a film, and sequentially cooling with a first cooling roll 6b and a second cooling roll 6c. It is provided so that the film 10 can be obtained. In addition, an electrostatic pinning device (not shown) is provided in the vicinity of the opening of the die 5 so that static electricity can be applied to both ends of the optical film 10. This electrostatic pinning device is provided so that both ends of the optical film 10 can be electrostatically attracted to the cast roll 6a.

キャストロール6a、第一冷却ロール6b及び第二冷却ロール6cの引取速度は、均一な膜厚を得るため、光学フィルム10の熱収縮の程度に応じて適切に設定される。また、第二冷却ロール6cの下流には、キャストロール6a、第一冷却ロール6b及び第二冷却ロール6cにおいて冷却された光学フィルム10をレーザー光照射機8に搬送するための搬送ロール7が設けられている。   The take-up speeds of the cast roll 6a, the first cooling roll 6b, and the second cooling roll 6c are appropriately set according to the degree of thermal contraction of the optical film 10 in order to obtain a uniform film thickness. Moreover, the conveyance roll 7 for conveying the optical film 10 cooled in the cast roll 6a, the 1st cooling roll 6b, and the 2nd cooling roll 6c to the laser beam irradiation machine 8 is provided downstream of the 2nd cooling roll 6c. It has been.

レーザー光照射機8は、矢印Aで示すように、光学フィルム10に赤外線レーザー光を照射するための装置である。このレーザー光照射機8は、光学フィルム10の表面10Uに赤外線レーザー光を照射することにより、凹凸部を形成して、成形フィルム20を得うるように設けられている。 Laser light irradiation apparatus 8, as shown by arrow A 8, a device for irradiating an infrared laser beam to the optical film 10. The laser beam irradiator 8 is provided so as to obtain a molded film 20 by forming an uneven portion by irradiating the surface 10U of the optical film 10 with infrared laser light.

レーザー光照射機8の下流には、成形フィルム20をロール状に巻き取るための巻取ロール9が設けられている。よって、本例の製造装置1は、成形フィルム20をロール状に巻き取って、フィルム巻回体30として回収しうるように設けられている。   A take-up roll 9 for taking up the molded film 20 in a roll shape is provided downstream of the laser beam irradiator 8. Therefore, the manufacturing apparatus 1 of this example is provided so that the molded film 20 can be wound up in a roll shape and recovered as a film winding body 30.

前記の製造装置1を用いて光学フィルム10を製造する場合、図4に示すように、第一の溶融樹脂供給系2により、赤外線吸収剤を含む溶融状態の熱可塑性樹脂Aをフィードブロック4に供給し、第二の溶融樹脂供給系3により、熱可塑性樹脂Aよりも赤外線吸収剤の濃度が低い溶融状態の熱可塑性樹脂Bをフォードブロック4に供給する。   When manufacturing the optical film 10 using the said manufacturing apparatus 1, as shown in FIG. 4, the thermoplastic resin A of the molten state containing an infrared absorber is made into the feed block 4 by the 1st molten resin supply system 2. As shown in FIG. The second molten resin supply system 3 supplies the Ford block 4 with a molten thermoplastic resin B in which the concentration of the infrared absorber is lower than that of the thermoplastic resin A.

図5は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム10の製造方法で用いるフィードブロック4の断面を模式的に示す断面図である。図5においては、熱可塑性樹脂Aが流通するための流路及び熱可塑性樹脂Bが流通するための流路が合流した後の流路4aが形成された部分においてフィードブロック4を切断した断面を示す。
図5に示すように、フィードブロック4内の流路4aにおいて、熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bは合流して、各樹脂が所定の位置に層となって流通する。この際、熱可塑性樹脂Aの層300及び熱可塑性樹脂Bの層400の位置は、光学フィルム10における高濃度部分100及び低濃度部分200の位置に応じて設定される。本例では、流路4a内において、流路4aの幅方向の両端部の近傍部分に熱可塑性樹脂Aの層300が配され、それ以外の部分に熱可塑性樹脂Bの層400が配されている。熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bは、このような位置関係を維持したままダイス5に供給される。
FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the feed block 4 used in the method for manufacturing the optical film 10 according to one embodiment of the present invention. In FIG. 5, the cross section which cut | disconnected the feed block 4 in the part in which the flow path 4a after the flow path for the thermoplastic resin A distribute | circulating and the flow path for the thermoplastic resin B flow merged was formed. Show.
As shown in FIG. 5, in the flow path 4a in the feed block 4, the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B merge and each resin circulates as a layer at a predetermined position. At this time, the positions of the layer 300 of the thermoplastic resin A and the layer 400 of the thermoplastic resin B are set according to the positions of the high-density portion 100 and the low-density portion 200 in the optical film 10. In this example, in the flow path 4a, the layer 300 of the thermoplastic resin A is disposed in the vicinity of both ends in the width direction of the flow path 4a, and the layer 400 of the thermoplastic resin B is disposed in the other part. Yes. The thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B are supplied to the die 5 while maintaining such a positional relationship.

ダイス5に供給された熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bは、ダイス5内に充填される。そして、ダイス5は、図4に示すように、これらの熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bを、フィルム状に押し出す工程を行う。   The thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B supplied to the die 5 are filled in the die 5. And the dice | dies 5 perform the process of extruding these thermoplastic resins A and thermoplastic resins B in the shape of a film, as shown in FIG.

図6は、本発明の一実施形態に係る光学フィルム10の製造方法で用いるダイス5の断面を模式的に示す断面図である。図6に示すように、ダイス5内において、熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bは、フィードブロック4の流路4a内を流通する際の位置関係を維持している。よって、ダイス5内において、熱可塑性樹脂Bの層(b1)401の幅方向の両側に、熱可塑性樹脂Aの層(a1)301及び熱可塑性樹脂Aの層(a2)302が配されている。また、熱可塑性樹脂Aの層(a1)301の厚み方向の両側に、熱可塑性樹脂Bの層(b2)402及び熱可塑性樹脂Bの層(b3)403が配されている。さらに、熱可塑性樹脂Aの層(a2)302の厚み方向の両側に、熱可塑性樹脂Bの層(b4)404及び熱可塑性樹脂Bの層(b5)405が配されている。また、熱可塑性樹脂Aの層(a1)301の幅方向の熱可塑性樹脂Bの層(b1)401とは反対側には熱可塑性樹脂Bの層(b6)406が配され、熱可塑性樹脂Aの層(a2)302の幅方向の熱可塑性樹脂Bの層(b1)401とは反対側には熱可塑性樹脂Bの層(b7)407が配され、熱可塑性樹脂Bの層(b1)401の厚み方向の両側には熱可塑性樹脂Bの層(b8)408及び熱可塑性樹脂Bの層(b9)409が配されている。そして、このダイス5から、熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bの位置関係を維持したままで、熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bがフィルム状に押し出される。   FIG. 6 is a cross-sectional view schematically showing a cross section of the die 5 used in the method for manufacturing the optical film 10 according to one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 6, in the die 5, the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B maintain the positional relationship when flowing through the flow path 4 a of the feed block 4. Therefore, in the die 5, the thermoplastic resin A layer (a 1) 301 and the thermoplastic resin A layer (a 2) 302 are disposed on both sides in the width direction of the thermoplastic resin B layer (b 1) 401. . Further, a thermoplastic resin B layer (b2) 402 and a thermoplastic resin B layer (b3) 403 are disposed on both sides of the thermoplastic resin A layer (a1) 301 in the thickness direction. Further, a layer (b4) 404 of thermoplastic resin B and a layer (b5) 405 of thermoplastic resin B are disposed on both sides in the thickness direction of the layer (a2) 302 of thermoplastic resin A. Further, a layer (b6) 406 of the thermoplastic resin B is disposed on the side opposite to the layer (b1) 401 of the thermoplastic resin B in the width direction of the layer (a1) 301 of the thermoplastic resin A, and the thermoplastic resin A A layer (b7) 407 of the thermoplastic resin B is disposed on the side opposite to the layer (b1) 401 of the thermoplastic resin B in the width direction of the layer (a2) 302 of this layer, and the layer (b1) 401 of the thermoplastic resin B is disposed. A layer (b8) 408 of thermoplastic resin B and a layer (b9) 409 of thermoplastic resin B are disposed on both sides in the thickness direction. Then, the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B are extruded from the die 5 in the form of a film while maintaining the positional relationship between the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B.

ダイス5からフィルム状に押し出された熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bは、図4に示すように、キャストロール6a、第一冷却ロール6b及び第二冷却ロール6cで順次冷却されることによって硬化するので、上述した所望の光学フィルム10が得られる。得られた光学フィルム10は、通常、長尺のフィルムとなっている。光学フィルム10は、上述したように、高濃度部100が高い濃度で赤外線吸収剤を含む。したがって、光学フィルム10は、フィルム厚み方向から見て高濃度部分100がある領域11及び12(図2参照。)において、赤外線レーザー光による加工を行うことができる。また、この光学フィルム10では、高濃度部分100に含まれる赤外線吸収剤の移動が低濃度部分200によって妨げられるので、赤外線吸収剤のブリードアウトを抑制できる。そのため、前記の製造方法においては、製造装置1が備える製造設備の赤外線吸収材による汚染を抑制できる。   As shown in FIG. 4, the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B extruded from the die 5 in a film form are cured by being sequentially cooled by a cast roll 6a, a first cooling roll 6b, and a second cooling roll 6c. Therefore, the desired optical film 10 described above is obtained. The obtained optical film 10 is usually a long film. As described above, the optical film 10 includes the infrared absorber at a high concentration in the high concentration portion 100. Therefore, the optical film 10 can be processed with infrared laser light in the regions 11 and 12 (see FIG. 2) where the high-density portion 100 is present when viewed from the film thickness direction. Moreover, in this optical film 10, since the movement of the infrared absorber contained in the high concentration portion 100 is hindered by the low concentration portion 200, the bleed out of the infrared absorber can be suppressed. Therefore, in the said manufacturing method, the contamination by the infrared absorber of the manufacturing equipment with which the manufacturing apparatus 1 is provided can be suppressed.

こうして得られた光学フィルム10は、搬送ロール7を経由して、レーザー光照射機8へと搬送され、フィルム巻回体30の製造方法に供される。
レーザー光照射機8は、光学フィルム10の表面10Uの、フィルム厚み方向から見て高濃度部分100が設けられた領域11及び12に、凹凸部を形成して、成形フィルム20を得る工程を行う。具体的には、レーザー光照射機8は、赤外線レーザー光を矢印Aで示すように光学フィルム10の表面10Uへと照射する。照射された赤外線レーザー光は、赤外線吸収剤を高い濃度で含む高濃度部分100で効率的に吸収される。このように赤外線レーザー光を吸収したことにより、高濃度部分100は高温となり、局所的に熱溶融又はアブレーションが生じる。このため、赤外線レーザー光が照射された場所では、光学フィルム10の表面10Uに、凹凸部を生じさせることができる。通常、赤外線レーザー光が照射された場所には、中央部に形成された凹部と、当該凹部の周囲に形成された凸部とを有する凹凸部が形成される。この凹凸部が有する凸部によって、成形フィルム20の見かけ上の厚みが厚くなるので、成形フィルム20の巻き取り性等の取り扱い性を向上させることができる。
The optical film 10 obtained in this way is conveyed to the laser beam irradiator 8 via the conveying roll 7 and used for the method of manufacturing the film winding body 30.
The laser beam irradiator 8 performs a step of forming a concavo-convex portion in the regions 11 and 12 where the high concentration portion 100 is provided as viewed from the film thickness direction on the surface 10U of the optical film 10 to obtain the molded film 20. . Specifically, the laser beam irradiation unit 8 irradiates to the surface 10U of the optical film 10 to indicate the infrared laser beam by the arrow A 8. The irradiated infrared laser light is efficiently absorbed by the high concentration portion 100 containing the infrared absorber at a high concentration. By absorbing the infrared laser light in this way, the high-concentration portion 100 becomes high temperature, and heat melting or ablation occurs locally. For this reason, an uneven | corrugated | grooved part can be produced in the surface 10U of the optical film 10 in the place irradiated with the infrared laser beam. Usually, an uneven portion having a concave portion formed in the central portion and a convex portion formed around the concave portion is formed at a location irradiated with infrared laser light. Since the apparent thickness of the molded film 20 is increased by the convex portions of the concave and convex portions, the handleability such as the winding property of the molded film 20 can be improved.

赤外線レーザー光としては、高濃度部分100が含む赤外線吸収剤が吸収しうる波長のレーザー光を用いうる。通常は、赤外線レーザー光の波長は、9μm〜12μmの範囲内に設定する。例えば、レーザー光照射機8として炭酸ガスレーザー装置を用いる場合、赤外線レーザー光の波長は、10.6μm付近の波長(たとえば10.5μm〜10.7μm)、10.2μm付近の波長(たとえば10.1μm〜10.3μm)、9.6μm付近の波長(例えば9.5μm〜9.7μm)、9.3μm付近の波長(たとえば9.2μm〜9.4μm)に設定しうる。中でも、波長9.3μmの赤外線レーザー光を用いた場合、炭化水素重合体を含む光学フィルム10の凹凸部の形成を、特に良好に行うことができる。   As the infrared laser light, laser light having a wavelength that can be absorbed by the infrared absorbent included in the high-concentration portion 100 can be used. Usually, the wavelength of the infrared laser beam is set within a range of 9 μm to 12 μm. For example, when a carbon dioxide laser device is used as the laser beam irradiator 8, the wavelength of the infrared laser beam is a wavelength near 10.6 μm (for example, 10.5 μm to 10.7 μm), and a wavelength near 10.2 μm (for example, 10. 1 μm to 10.3 μm), a wavelength near 9.6 μm (for example, 9.5 μm to 9.7 μm), and a wavelength near 9.3 μm (for example, 9.2 μm to 9.4 μm). In particular, when an infrared laser beam having a wavelength of 9.3 μm is used, the uneven portion of the optical film 10 containing the hydrocarbon polymer can be formed particularly well.

レーザー光照射機8としては、例えば、ArFエキシマレーザー装置、KrFエキシマレーザー装置、XeClエキシマレーザー装置、YAGレーザー装置(特に、第3高調波若しくは第4高調波)、YLF若しくはYVO4の固体レーザー装置(特に、第3高調波若しくは第4高調波)、Ti:Sレーザー装置、半導体レーザー装置、ファイバーレーザー装置、及び炭酸ガスレーザー装置が挙げられる。これらのレーザー装置の中でも、比較的安価であり、且つフィルムの加工に適した出力が効率的に得られる観点から、炭酸ガスレーザー装置が好ましい。   Examples of the laser beam irradiator 8 include an ArF excimer laser device, a KrF excimer laser device, a XeCl excimer laser device, a YAG laser device (particularly, third harmonic or fourth harmonic), YLF or YVO4 solid laser device ( In particular, the third harmonic or the fourth harmonic), a Ti: S laser device, a semiconductor laser device, a fiber laser device, and a carbon dioxide laser device may be mentioned. Among these laser apparatuses, a carbon dioxide laser apparatus is preferable from the viewpoint of being relatively inexpensive and efficiently obtaining an output suitable for film processing.

高濃度部分100が赤外線を効率良く吸収できるので、赤外線レーザー光の出力が小さくても、凹凸部の形成は可能である。赤外線レーザー光の具体的な出力は、好ましくは1W以上、より好ましくは5W以上、さらに好ましくは15W以上であり、好ましくは2000W以下、より好ましくは1000W以下、さらに好ましくは400W以下、さらにより好ましくは250W以下である。赤外線レーザー光の出力を、前記範囲の下限値以上にすることにより、赤外線レーザー光の照射量が不足するのを防止して、光学フィルム10の表面10Uに凹凸部を安定して形成することができ、前記範囲の上限値以下とすることにより、光学フィルム10に貫通孔が生じるのを抑制できる。   Since the high-concentration portion 100 can efficiently absorb infrared rays, the uneven portions can be formed even if the output of the infrared laser light is small. The specific output of the infrared laser beam is preferably 1 W or more, more preferably 5 W or more, further preferably 15 W or more, preferably 2000 W or less, more preferably 1000 W or less, still more preferably 400 W or less, and even more preferably. 250 W or less. By setting the output of the infrared laser light to be equal to or higher than the lower limit of the above range, it is possible to prevent the irradiation amount of the infrared laser light from being insufficient and to stably form the uneven portion on the surface 10U of the optical film 10. It is possible to suppress the formation of through holes in the optical film 10 by setting the upper limit of the above range.

図7は、本発明の一実施形態に係る成形フィルム20を模式的に示す平面図である。図7に示すように、成形フィルム20には、通常、複数の凹凸部23が形成される。これらの凹凸部23は、フィルム厚み方向から見て高濃度部分100が設けられていた光学フィルム10の領域11及び12に対応する領域21及び22に形成されている。そのため、成形フィルム20の面20Uにおいて、凹凸部23は、成形フィルム20の両端部の近傍に形成される。これらの凹凸部23により、フィルム巻回体30におけるフィルム間の摩擦による傷の発生及びブロッキングを低減することができるので、成形フィルム20の取り扱い性を向上させることが可能である。   FIG. 7 is a plan view schematically showing a molded film 20 according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 7, a plurality of uneven portions 23 are usually formed on the molded film 20. These concavo-convex portions 23 are formed in regions 21 and 22 corresponding to the regions 11 and 12 of the optical film 10 where the high-density portion 100 was provided when viewed from the film thickness direction. Therefore, the uneven portion 23 is formed in the vicinity of both end portions of the molded film 20 on the surface 20U of the molded film 20. Since these uneven portions 23 can reduce the occurrence of scratches and blocking due to friction between the films in the film winding body 30, it is possible to improve the handleability of the molded film 20.

凹凸部23の形状及び配置は、成形フィルム20の使用目的に応じた任意の形状及び配置としうる。赤外線レーザー光が光学フィルム10の表面10Uに当たる軌跡を制御することにより、赤外線レーザー光により所望の形状の凹凸部23を描画することができる。個々の凹凸部23の形状(フィルム厚み方向から観察した際の形状)の例としては、ドット状の形状、線形の形状、円形の形状、楕円形の形状、多角形の形状等の形状が挙げられる。凹凸部23の配置は、例えば、フィルムの長手方向及び幅方向に沿って一定の規則性を有する配置、又は、ランダムな配置としうる。   The shape and arrangement of the concavo-convex portion 23 can be any shape and arrangement according to the purpose of use of the molded film 20. By controlling the trajectory of the infrared laser light hitting the surface 10U of the optical film 10, the uneven portion 23 having a desired shape can be drawn by the infrared laser light. Examples of the shape of the individual concavo-convex portions 23 (the shape when observed from the film thickness direction) include dot-like shapes, linear shapes, circular shapes, elliptical shapes, polygonal shapes, and the like. It is done. The arrangement of the uneven portions 23 can be, for example, an arrangement having a certain regularity along the longitudinal direction and the width direction of the film, or a random arrangement.

図8は、本発明の一実施形態に係る成形フィルム20の表面20Uの近傍を模式的に示す断面図である。図8に示すように、凹凸部23のうちの凸部は、成形フィルム20の表面20Uから突出して形成される。この凹凸部23のうちの凸部の高さHは、好ましくは3μm以上、より好ましくは4μm以上、特に好ましくは5μm以上、また、好ましくは20μm以下、より好ましくは18μm以下、特に好ましくは16μm以下としうる。凹凸部23の凸部の高さHを、前記範囲の下限値以上にすることにより、成形フィルム20の取り扱い性を効果的に向上させることができ、前記範囲の上限値以下にすることにより、凹凸部23がある領域とない領域との見かけ上の厚みの差によるシワの発生を抑制できる。   FIG. 8 is a cross-sectional view schematically showing the vicinity of the surface 20U of the molded film 20 according to one embodiment of the present invention. As shown in FIG. 8, the convex portion of the concavo-convex portion 23 is formed to protrude from the surface 20 </ b> U of the molded film 20. The height H of the convex portion of the concavo-convex portion 23 is preferably 3 μm or more, more preferably 4 μm or more, particularly preferably 5 μm or more, preferably 20 μm or less, more preferably 18 μm or less, particularly preferably 16 μm or less. It can be. By making the height H of the convex part of the concavo-convex part 23 equal to or higher than the lower limit value of the range, the handleability of the molded film 20 can be effectively improved, It is possible to suppress the occurrence of wrinkles due to the difference in apparent thickness between the region with the uneven portion 23 and the region without the uneven portion 23.

凹凸部23の幅Dは、好ましくは100μm以上、より好ましくは200μm以上、特に好ましくは300μm以上であり、好ましくは2000μm以下、より好ましくは1000μm以下、特に好ましくは800μm以下である。凹凸部23の幅Dを、前記範囲の下限値以上にすることにより、成形フィルム20の取り扱い性を効果的に向上させることができ、前記範囲の上限値以下にすることにより、凹凸部23を多く設けられるので、圧力の集中による成形フィルム20の破損を抑制できる。   The width D of the uneven portion 23 is preferably 100 μm or more, more preferably 200 μm or more, particularly preferably 300 μm or more, preferably 2000 μm or less, more preferably 1000 μm or less, particularly preferably 800 μm or less. By making the width D of the concavo-convex part 23 equal to or greater than the lower limit value of the range, the handleability of the molded film 20 can be effectively improved, and by making the concavo-convex part 23 or less the upper limit value of the range. Since many are provided, damage to the molded film 20 due to pressure concentration can be suppressed.

図4に示すように、前記のようにして製造された成形フィルム20は、巻取ロール9へと搬送される。巻取ロール9は、成形フィルム20を、ロール状に巻き取る工程を行う。このように成形フィルム20を巻き取ることにより、フィルム巻回体30が得られる。成形フィルム20が凹凸部23を有するので、このフィルム巻回体30においては、摩擦による傷の発生及びブロッキングを低減することが可能である。   As shown in FIG. 4, the molded film 20 manufactured as described above is conveyed to the take-up roll 9. The winding roll 9 performs a step of winding the molded film 20 into a roll shape. Thus, the film winding body 30 is obtained by winding up the molded film 20. Since the molded film 20 has the concavo-convex part 23, in this film winding body 30, it is possible to reduce the generation | occurrence | production and blocking of the damage | wound by friction.

以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は更に変更して実施しうる。
例えば、上述した実施形態では、高濃度部分100が第一高濃度部分101及び第二高濃度部分102という2個の部分を有する光学フィルム10を例として示したが、光学フィルムにおける高濃度部分は、3個以上の部分を有していてもよい。
As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention can be changed and implemented further.
For example, in the above-described embodiment, the optical film 10 in which the high-density portion 100 has two parts, the first high-density portion 101 and the second high-density portion 102, is shown as an example. You may have three or more parts.

また、上述した実施形態では、光学フィルムの製造方法として、ホッパ2aに供給される樹脂材料として赤外線吸収剤を含む熱可塑性樹脂Aを用いた例を示したが、樹脂材料として赤外線吸収剤を含まないものを用い、押出機2b内で別途供給された赤外線吸収剤と前記の樹脂材料とを混合して、赤外線吸収剤を含む熱可塑性樹脂Aを調製してもよい。   Moreover, in embodiment mentioned above, although the example using the thermoplastic resin A containing an infrared absorber as a resin material supplied to the hopper 2a was shown as a manufacturing method of an optical film, an infrared absorber is included as a resin material. A thermoplastic resin A containing an infrared absorber may be prepared by mixing an infrared absorber separately supplied in the extruder 2b and the resin material.

さらに、光学フィルムの製造方法において、熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bに加えて、更に別の熱可塑性樹脂を共押し出しすることによって、複層構造を有するフィルムを光学フィルムとして製造してもよい。   Furthermore, in the method for producing an optical film, a film having a multilayer structure may be produced as an optical film by co-extrusion of another thermoplastic resin in addition to the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B. .

また、光学フィルムの製造方法は、上述した以外の工程を含んでいてもよい。例えば、光学フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bを押し出す工程の後に、得られたフィルムに延伸処理を施す工程を含んでいてもよい。これにより、所望のレターデーションを有する光学フィルムを得ることができる。   Moreover, the manufacturing method of an optical film may include processes other than those described above. For example, the method for producing an optical film may include a step of stretching the obtained film after the step of extruding the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B. Thereby, an optical film having a desired retardation can be obtained.

さらに、光学フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bを押し出す工程の後に、得られたフィルム上に更に任意の層を形成する工程を含んでいてもよい。任意の層を形成する工程としては、例えば、溶融押出法によって得られたフィルムと任意の層に対応するフィルム層とを貼り合わせる工程、溶融押出法によって得られたフィルム上へ任意の層の材料を塗布する工程、などが挙げられる。   Furthermore, the method for producing an optical film may include a step of further forming an arbitrary layer on the obtained film after the step of extruding the thermoplastic resin A and the thermoplastic resin B. Examples of the step of forming an arbitrary layer include, for example, a step of bonding a film obtained by a melt extrusion method and a film layer corresponding to the arbitrary layer, and a material of an arbitrary layer on the film obtained by the melt extrusion method. The process of apply | coating is mentioned.

また、上述した実施形態では、光学フィルム10の一方の面10Uにのみ凹凸部23を形成した例を示したが、必要に応じて、光学フィルム10の両方の面10U及び10Dに凹凸部23を形成してもよい。   Moreover, although the example which formed the uneven | corrugated | grooved part 23 only in one surface 10U of the optical film 10 was shown in embodiment mentioned above, the uneven | corrugated | grooved part 23 was shown in both surfaces 10U and 10D of the optical film 10 as needed. It may be formed.

以下、参考例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は、以下に示す参考例に限定されるものでは無い。
以下の説明において、量を表す「%」及び「部」は、別に断らない限り、重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。
The present invention will be specifically described below with reference examples. However, the present invention is not limited to the following reference examples.
In the following description, “%” and “parts” representing amounts are based on weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under normal temperature and normal pressure conditions unless otherwise specified.

[製造例1.サンプルフィルムの製造]
波長808nm、940nm及び1064nmの赤外線に対する高い吸収能力を有する赤外線吸収剤(BASF社製「Quaterrylimide」)を用意した。この赤外線吸収剤を、ガラス転移温度が126℃の環状オレフィン重合体を含むシクロオレフィン樹脂(日本ゼオン社製「ゼオノア」)に混合して、赤外線吸収剤を表1に示す濃度で含む熱可塑性樹脂1〜4を調製した。さらに、赤外線吸収剤を混合しないシクロオレフィン樹脂を、熱可塑性樹脂5として用意した。
[Production Example 1. Production of sample film]
An infrared absorber (“Quaterlimide” manufactured by BASF) having a high absorption capability for infrared rays having wavelengths of 808 nm, 940 nm, and 1064 nm was prepared. This infrared absorbent is mixed with a cycloolefin resin (“ZEONOR” manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) containing a cyclic olefin polymer having a glass transition temperature of 126 ° C., and a thermoplastic resin containing the infrared absorbent at a concentration shown in Table 1. 1-4 were prepared. Furthermore, a cycloolefin resin not mixed with an infrared absorber was prepared as the thermoplastic resin 5.

用意した熱可塑性樹脂1〜5それぞれを、溶融させ、型に流し込む方法によって、厚み300μmのフィルム状に成形して、サンプルフィルム1〜5を製造した。   Each of the prepared thermoplastic resins 1 to 5 was melted and poured into a mold to form a film having a thickness of 300 μm, thereby producing sample films 1 to 5.

Figure 2017015898
Figure 2017015898

[参考例1.赤外線レーザー光による加工性の評価実験]
サンプルフィルム1〜5を、スライダー上に設置した。そして、スライダーを一定速度で移動させながら、当該スライダー上のサンプルフィルム1〜5に、それぞれ同一の光学条件(波長9.4μm、スポット径約140μm)で赤外線レーザー光を照射した。
前記の操作を、赤外線レーザー光の出力を表2に示すように調整して行い、サンプルフィルム1〜5を切断するのに要する出力を評価した。結果を、表2に示す。表2において、符号の意味は、下記の通りである。
「○」は、レーザー光によってフィルムが切断されたことを示す。
「△」は、レーザー光の照射によってフィルムが溶融するが、切断に至らなかったことを示す。
「×」は、レーザー光の照射によってフィルム表面にマークはできるが、切断に至らなかったことを示す。
「−」は、評価を行っていないことを示す。
[Reference Example 1. Evaluation experiment of workability by infrared laser beam]
Sample films 1 to 5 were placed on a slider. Then, while moving the slider at a constant speed, each of the sample films 1 to 5 on the slider was irradiated with infrared laser light under the same optical conditions (wavelength: 9.4 μm, spot diameter: about 140 μm).
The above operation was performed by adjusting the output of the infrared laser light as shown in Table 2, and the output required to cut the sample films 1 to 5 was evaluated. The results are shown in Table 2. In Table 2, the meanings of the symbols are as follows.
“◯” indicates that the film was cut by the laser beam.
“Δ” indicates that the film was melted by laser light irradiation but was not cut.
“X” indicates that the film surface was marked by laser light irradiation, but was not cut.
“-” Indicates that evaluation is not performed.

Figure 2017015898
Figure 2017015898

表2に示すように、赤外線吸収剤を0.001%〜0.1%の濃度で含むサンプルフィルム1〜3は、160Wのレーザー出力で溶融切断を行うことができる。他方、赤外線吸収剤を0.0001%の濃度で含むサンプルフィルム4は、出力を240Wまで上げないと切断できず、赤外線吸収剤を含まない酸プリフィルム5と同様の結果となっている。以上の結果から、赤外線吸収剤の使用により、赤外線レーザー光を照射されたときの加熱が促進され、加工性が向上することが確認された。   As shown in Table 2, sample films 1 to 3 containing the infrared absorber at a concentration of 0.001% to 0.1% can be melt-cut with a laser output of 160 W. On the other hand, the sample film 4 containing the infrared absorbent at a concentration of 0.0001% cannot be cut unless the output is increased to 240 W, and the result is the same as the acid prefilm 5 containing no infrared absorbent. From the above results, it was confirmed that the use of the infrared absorbent promotes the heating when irradiated with the infrared laser beam and improves the workability.

[参考例2.赤外線レーザー光による凹凸部の形成実験]
サンプルフィルム1〜5それぞれに、レーザーマーカー(パナソニックデバイスサンクス社製「LP−430」;発するレーザー光の波長は10.6μm)を用いて、走査速度2000mm/秒で一定出力の赤外線レーザー光を照射することにより、菱形の凹凸部を4個並べて形成した。この凹凸部の形成を合計5回繰り返して、4個ずつ並んだ5組の凹凸部を形成した。その後、形成された凹凸部が有する凸部の高さを測定し、サンプルフィルム1〜5毎に凸部の高さの平均値を計算した。結果を表3に示す。
[Reference Example 2. Convex and concave portion formation experiment using infrared laser light]
Each sample film 1 to 5 is irradiated with infrared laser light having a constant output at a scanning speed of 2000 mm / sec using a laser marker (“LP-430” manufactured by Panasonic Device Sunkus; the wavelength of the emitted laser light is 10.6 μm). By doing so, four rhombus uneven portions were formed side by side. The formation of the concavo-convex portions was repeated 5 times in total to form five sets of concavo-convex portions arranged in groups of four. Then, the height of the convex part which the formed uneven | corrugated part has was measured, and the average value of the convex part height was calculated for every sample films 1-5. The results are shown in Table 3.

Figure 2017015898
Figure 2017015898

表3に示すように、赤外線吸収剤を0.1%又は0.01%の濃度で含むサンプルフィルム1及び2は、赤外線吸収剤の濃度が低いサンプルフィルム3〜5と比較して、形成された凹凸部のうちの凸部の平均高さが2μm程度高くなっている。この結果から、凹凸部を効率良く形成する観点では、赤外線吸収剤の濃度には好ましい範囲があることが確認された。特に、サンプルフィルム2とサンプルフィルム3とで凸部の平均高さに大きな差があることから、赤外線吸収剤の濃度を0.01%以上にすることには、赤外線吸収剤の濃度を0.01%未満とした場合に比較して、凹凸部の形成を容易にする観点で臨界的な意義があることが分かる。   As shown in Table 3, the sample films 1 and 2 containing the infrared absorber at a concentration of 0.1% or 0.01% are formed in comparison with the sample films 3 to 5 having a low concentration of the infrared absorber. The average height of the convex portions of the uneven portions is increased by about 2 μm. From this result, it was confirmed that there is a preferable range in the concentration of the infrared absorbent from the viewpoint of efficiently forming the uneven portion. In particular, since there is a large difference in the average height of the protrusions between the sample film 2 and the sample film 3, the concentration of the infrared absorber is set to 0.00% in order to make the concentration of the infrared absorber 0.01% or more. It can be seen that there is a critical significance from the viewpoint of facilitating the formation of the concavo-convex portion as compared with the case of less than 01%.

1 製造装置
2 第一の溶融樹脂供給系
2a ホッパ
2b 押出機
2c ギヤポンプ
2d 濾過装置
2e 配管
3 第二の溶融樹脂供給系
3a ホッパ
3b 押出機
3c ギヤポンプ
3d 濾過装置
3e 配管
4 フィードブロック
4a フィードブロック内の流路
5 ダイス
6a キャストロール
6b 第一冷却ロール
6c 第二冷却ロール
7 搬送ロール
8 レーザー光照射機
9 巻取ロール
10 光学フィルム
11 フィルム厚み方向から見て、第一高濃度部分がある光学フィルムの領域。
12 フィルム厚み方向から見て、第二高濃度部分がある光学フィルムの領域。
13 フィルム厚み方向から見て、第一低濃度部分、第八低濃度部分及び第九低濃度部分がある光学フィルムの領域。
14 フィルム厚み方向から見て、第六低濃度部分がある光学フィルムの領域。
15 フィルム厚み方向から見て、第七低濃度部分がある光学フィルムの領域。
20 成形フィルム
21及び22 フィルム厚み方向から見て、高濃度部分が設けられていた光学フィルムの領域に対応する領域
23 凹凸部
30 フィルム巻回体
100 高濃度部分
101 第一高濃度部分
102 第二高濃度部分
200 低濃度部分
201 第一低濃度部分
202 第二低濃度部分
203 第三低濃度部分
204 第四低濃度部分
205 第五低濃度部分
206 第六低濃度部分
207 第七低濃度部分
208 第八低濃度部分
209 第九低濃度部分
210 フィルム厚み方向において、第六低濃度部分の一側に設けられた部分。
211 フィルム厚み方向において、第六低濃度部分の他側に設けられた部分。
212 フィルム厚み方向において、第七低濃度部分の一側に設けられた部分。
213 フィルム厚み方向において、第七低濃度部分の他側に設けられた部分。
300 熱可塑性樹脂Aの層
301 熱可塑性樹脂Aの層(a1)
302 熱可塑性樹脂Aの層(a2)
400 熱可塑性樹脂Bの層
401 熱可塑性樹脂Bの層(b1)
402 熱可塑性樹脂Bの層(b2)
403 熱可塑性樹脂Bの層(b3)
404 熱可塑性樹脂Bの層(b4)
405 熱可塑性樹脂Bの層(b5)
406 熱可塑性樹脂Bの層(b6)
407 熱可塑性樹脂Bの層(b7)
408 熱可塑性樹脂Bの層(b8)
409 熱可塑性樹脂Bの層(b9)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Manufacturing apparatus 2 1st molten resin supply system 2a Hopper 2b Extruder 2c Gear pump 2d Filtration apparatus 2e Piping 3 2nd molten resin supply system 3a Hopper 3b Extruder 3c Gear pump 3d Filtration apparatus 3e Piping 4 Feed block 4a In feed block 5 dice 6a cast roll 6b first cooling roll 6c second cooling roll 7 transport roll 8 laser beam irradiator 9 take-up roll 10 optical film 11 optical film having a first high-concentration portion when viewed from the film thickness direction Area.
12 An area of the optical film having the second high density portion as seen from the film thickness direction.
13 A region of an optical film having a first low-density portion, an eighth low-density portion, and a ninth low-density portion as seen from the film thickness direction.
14 An area of the optical film having a sixth low density portion when viewed from the film thickness direction.
15 An area of the optical film having a seventh low-density portion when viewed from the film thickness direction.
20 Molded films 21 and 22 Area corresponding to the area of the optical film in which the high density portion was provided as seen from the film thickness direction 23 Concavity and convexity part 30 Film wound body 100 High density part 101 First high density part 102 Second High concentration portion 200 Low concentration portion 201 First low concentration portion 202 Second low concentration portion 203 Third low concentration portion 204 Fourth low concentration portion 205 Fifth low concentration portion 206 Sixth low concentration portion 207 Seventh low concentration portion 208 Eighth low concentration portion 209 Ninth low concentration portion 210 A portion provided on one side of the sixth low concentration portion in the film thickness direction.
211 A portion provided on the other side of the sixth low-density portion in the film thickness direction.
212 A portion provided on one side of the seventh low-density portion in the film thickness direction.
213 A portion provided on the other side of the seventh low concentration portion in the film thickness direction.
300 layer of thermoplastic resin A 301 layer of thermoplastic resin A (a1)
302 Layer of thermoplastic resin A (a2)
400 Layer of thermoplastic resin B 401 Layer of thermoplastic resin B (b1)
402 Layer of thermoplastic resin B (b2)
403 layer of thermoplastic resin B (b3)
404 Layer of thermoplastic resin B (b4)
405 layer of thermoplastic resin B (b5)
406 Layer of thermoplastic resin B (b6)
407 Layer of thermoplastic resin B (b7)
408 layer of thermoplastic resin B (b8)
409 layer of thermoplastic resin B (b9)

Claims (8)

赤外線吸収剤を含む光学フィルムであって、
前記光学フィルムは、前記赤外線吸収剤を含む高濃度部分と、前記赤外線吸収剤の濃度が前記高濃度部分よりも低い低濃度部分とを有し、
前記高濃度部分は、第一高濃度部分及び第二高濃度部分を含み、
前記低濃度部分は、第一低濃度部分、第二低濃度部分、第三低濃度部分、第四低濃度部分及び第五低濃度部分を含み、
前記第一高濃度部分及び前記第二高濃度部分は、前記光学フィルムの幅方向における前記第一低濃度部分の両側に設けられ、
前記第二低濃度部分及び前記第三低濃度部分は、前記光学フィルムの厚み方向における前記第一高濃度部分の両側に設けられ、
前記第四低濃度部分及び前記第五低濃度部分は、前記光学フィルムの厚み方向における前記第二高濃度部分の両側に設けられている、光学フィルム。
An optical film containing an infrared absorber,
The optical film has a high concentration portion containing the infrared absorber, and a low concentration portion where the concentration of the infrared absorber is lower than the high concentration portion,
The high concentration portion includes a first high concentration portion and a second high concentration portion,
The low concentration portion includes a first low concentration portion, a second low concentration portion, a third low concentration portion, a fourth low concentration portion, and a fifth low concentration portion,
The first high concentration portion and the second high concentration portion are provided on both sides of the first low concentration portion in the width direction of the optical film,
The second low concentration portion and the third low concentration portion are provided on both sides of the first high concentration portion in the thickness direction of the optical film,
The fourth low concentration portion and the fifth low concentration portion are optical films provided on both sides of the second high concentration portion in the thickness direction of the optical film.
前記光学フィルムが、溶融押出法によって製造されたものである、請求項1記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the optical film is produced by a melt extrusion method. 前記低濃度部分が、前記光学フィルムの厚み方向の表面及び幅方向の表面に露出している、請求項1又は2記載の光学フィルム。   The optical film according to claim 1, wherein the low concentration portion is exposed on a surface in a thickness direction and a surface in a width direction of the optical film. 前記光学フィルムの厚み方向における前記高濃度部分の表面が、前記低濃度部分に覆われており、
前記光学フィルムの幅方向における前記高濃度部分の表面が、前記低濃度部分に覆われている、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光学フィルム。
The surface of the high concentration portion in the thickness direction of the optical film is covered with the low concentration portion,
The optical film as described in any one of Claims 1-3 with which the surface of the said high concentration part in the width direction of the said optical film is covered with the said low concentration part.
前記光学フィルムが、長尺のフィルムである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光学フィルム。   The optical film according to any one of claims 1 to 4, wherein the optical film is a long film. 赤外線吸収剤を含む溶融状態の熱可塑性樹脂Aと、前記熱可塑性樹脂Aよりも前記赤外線吸収剤の濃度が低い溶融状態の熱可塑性樹脂Bとを充填されたダイスから、前記熱可塑性樹脂A及び熱可塑性樹脂Bを、フィルム状に押し出す工程を含み、
前記ダイス内において、
前記熱可塑性樹脂Bの層(b1)の幅方向の両側に、前記熱可塑性樹脂Aの層(a1)及び前記熱可塑性樹脂Aの層(a2)が配され、
前記熱可塑性樹脂Aの層(a1)の厚み方向の両側に、前記熱可塑性樹脂Bの層(b2)及び前記熱可塑性樹脂Bの層(b3)が配され、且つ、
前記熱可塑性樹脂Aの層(a2)の厚み方向の両側に、前記熱可塑性樹脂Bの層(b4)及び前記熱可塑性樹脂Bの層(b5)が配されている、光学フィルムの製造方法。
From a die filled with a molten thermoplastic resin A containing an infrared absorbent and a molten thermoplastic resin B having a concentration of the infrared absorbent lower than that of the thermoplastic resin A, the thermoplastic resin A and Including a step of extruding the thermoplastic resin B into a film,
In the die,
The thermoplastic resin A layer (a1) and the thermoplastic resin A layer (a2) are arranged on both sides in the width direction of the thermoplastic resin B layer (b1),
The thermoplastic resin B layer (b2) and the thermoplastic resin B layer (b3) are arranged on both sides in the thickness direction of the thermoplastic resin A layer (a1), and
The method for producing an optical film, wherein the layer (b4) of the thermoplastic resin B and the layer (b5) of the thermoplastic resin B are disposed on both sides in the thickness direction of the layer (a2) of the thermoplastic resin A.
請求項6記載の製造方法で製造された光学フィルムの表面の、厚み方向から見て前記高濃度部分が設けられた領域に、凹凸部を形成して、成形フィルムを得る工程、及び、
前記成形フィルムを、ロール状に巻き取る工程を含む、フィルム巻回体の製造方法。
Forming a concavo-convex portion in a region of the surface of the optical film manufactured by the manufacturing method according to claim 6 where the high-concentration portion is provided when viewed from the thickness direction, and obtaining a molded film; and
The manufacturing method of a film winding body including the process of winding up the said molded film in roll shape.
前記凹凸部の形成が、レーザー光の照射によって行われる、請求項7記載のフィルム巻回体の製造方法。   The manufacturing method of the film winding body of Claim 7 with which the formation of the said uneven | corrugated | grooved part is performed by irradiation of a laser beam.
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