JP2017015758A - Electrochromic element and method for driving the same - Google Patents

Electrochromic element and method for driving the same Download PDF

Info

Publication number
JP2017015758A
JP2017015758A JP2015128852A JP2015128852A JP2017015758A JP 2017015758 A JP2017015758 A JP 2017015758A JP 2015128852 A JP2015128852 A JP 2015128852A JP 2015128852 A JP2015128852 A JP 2015128852A JP 2017015758 A JP2017015758 A JP 2017015758A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
electrochromic
auxiliary electrode
layer
auxiliary
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015128852A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6657615B2 (en
Inventor
圭一郎 油谷
Keiichiro Yutani
圭一郎 油谷
秀和 ▲柳▼沼
秀和 ▲柳▼沼
Hidekazu Yaginuma
史育 金子
Fuminari Kaneko
史育 金子
貴彦 松本
Takahiko Matsumoto
貴彦 松本
藤村 浩
Hiroshi Fujimura
浩 藤村
満美子 井上
Mamiko Inoue
満美子 井上
八代 徹
Toru Yashiro
徹 八代
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ricoh Co Ltd filed Critical Ricoh Co Ltd
Priority to JP2015128852A priority Critical patent/JP6657615B2/en
Publication of JP2017015758A publication Critical patent/JP2017015758A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6657615B2 publication Critical patent/JP6657615B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrochromic (EC) element capable of eliminating remaining colors of both an oxidation type EC material and a reduction type EC material.SOLUTION: An electrochromic element comprises: first and second electrodes that are provided to face each other with an interval therebetween and at least one of which is transparent; a first EC layer that is provided on a second electrode side surface of the first electrode and includes an oxidation type EC material; a second EC layer that is provided on a first electrode side surface of the second electrode and includes a reduction type EC material; an electrolyte provided between the first electrode and the second electrode; a first auxiliary electrode with a through hole and a second auxiliary electrode with a through hole that are provided between the first electrode and the second electrode with an interval and are in contact with the electrolyte; a reduction layer that is provided on a surface of the first auxiliary electrode and includes a reductant of a material capable of being reversibly oxidized and reduced; and an oxide layer that is provided on a surface of the second auxiliary electrode and includes an oxidant of a material capable of being reversibly oxidized and reduced. The reduction layer and the oxide layer are transparent before and after an oxidation-reduction reaction.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、エレクトロクロミック素子及びその駆動方法に関する。   The present invention relates to an electrochromic device and a driving method thereof.

電圧を印加することで、可逆的に酸化還元反応が起こり、可逆的に色が変化する現象をエレクトロクロミズムという。エレクトロクロミズムは、一般に対向する2つの電極間に形成され、イオン伝導可能な電解質層が電極間に満たされた構成で酸化還元反応する。対向する2つの電極のうちの一方の近傍で還元反応が生じるときには、他方の電極の近傍では、逆反応である酸化反応が生じる。   A phenomenon in which a redox reaction occurs reversibly and a color changes reversibly by applying a voltage is called electrochromism. Electrochromism is generally formed between two electrodes facing each other, and undergoes a redox reaction in a configuration in which an electrolyte layer capable of ion conduction is filled between the electrodes. When a reduction reaction occurs in the vicinity of one of the two electrodes facing each other, an oxidation reaction that is a reverse reaction occurs in the vicinity of the other electrode.

エレクトロクロミズムを利用したエレクトロクロミック素子において、透明な表示デバイスを得ようとする場合や、シアン(C)、マゼンタ(M)、及びイエロー(Y)の3層の発色層を積層させた構成のデバイスを構築する場合には、中性状態が透明状態である還元型エレクトロクロミック材料や、中性状態が透明である酸化型エレクトロクロミック材料により構成されていることが重要である。   In an electrochromic element using electrochromism, when a transparent display device is to be obtained, or a device in which three color-developing layers of cyan (C), magenta (M), and yellow (Y) are laminated It is important that the neutral state is composed of a reduced electrochromic material having a transparent neutral state or an oxidized electrochromic material having a neutral neutral state.

又、このような色鮮やかな表示デバイスには置換基によって様々な色を持たせることができる有機エレクトロクロミック材料が適している。特に透明状態(消色状態)と発色状態において高いコントラスト比を実現しようとするためには、一対の電極のうち片方には酸化型エレクトロクロミック材料を含む層を、他方には還元型エレクトロクロミック材料を含む層を有する構成にすることが好ましい。   In addition, for such a colorful display device, an organic electrochromic material that can have various colors by a substituent is suitable. In particular, in order to achieve a high contrast ratio in the transparent state (decolored state) and the colored state, one of the pair of electrodes has a layer containing an oxidized electrochromic material and the other has a reduced electrochromic material. It is preferable to make it the structure which has a layer containing.

しかしながら、このような両極発色型のエレクトロクロミック素子においては、発色消色を繰り返すうちに両極の保持している電荷のバランスが崩れ、消色状態においても片側の電極に電荷が残るため、色が完全には消色せずに消え残る現象が発生する。この消え残りは、デバイス中の微量の不純物や温度、電圧、不可逆な酸化還元等の複数の要因が複雑に影響を及ぼしあって生じる現象であると推測され、更にデバイスの使用状況によってどちらの電極にどの程度の消え残りが発生するか変化する。そのため、完全に防止することや、設計段階で予測することが困難であり課題となっている。   However, in such a bipolar electrochromic device, the charge balance of the bipolar electrode is lost while repeating the color erasing, and the charge remains on the electrode on one side even in the decolored state. Phenomenon that disappears without completely erasing. It is speculated that this unremaining phenomenon is a phenomenon caused by a complex influence of multiple factors such as a small amount of impurities in the device, temperature, voltage, irreversible oxidation-reduction, and which electrode depends on the usage status of the device. How much unerased residue is generated. For this reason, it is difficult and difficult to completely prevent and to predict at the design stage.

この課題を解決するために、例えば、電荷補償用の補助電極を設けて、消え残りの発生した電極と補助電極との間に電圧を印加することで、表示用のエレクトロクロミック材料や電解質に過剰な負荷をかけることなく消え残りを消色するエレクトロクロミック素子が提案されている(例えば、特許文献1参照)。   In order to solve this problem, for example, an auxiliary electrode for charge compensation is provided, and a voltage is applied between the electrode that has disappeared and the auxiliary electrode, whereby an excessive amount is applied to the display electrochromic material or electrolyte. An electrochromic element that erases the remaining color without applying a heavy load has been proposed (see, for example, Patent Document 1).

又、表示に関係しない部分に酸化還元物質を備えた補助電極を形成し、補助電極とエレクトロクロミック層との間に電圧を印加して着色状態又は消色状態を長期にわたって維持し得るエレクトロクロミック素子が提案されている(例えば、特許文献2参照)。   In addition, an electrochromic element that can form an auxiliary electrode having a redox substance in a portion not related to display and can apply a voltage between the auxiliary electrode and the electrochromic layer to maintain a colored state or a decolored state over a long period of time. Has been proposed (see, for example, Patent Document 2).

しかしながら、提案されているエレクトロクロミック素子では、消え残りは全て酸化型エレクトロクロミック材料の消え残りであり、還元型エレクトロクロミック材料の消え残りについては触れられていない。   However, in the proposed electrochromic device, all of the disappearance is the disappearance of the oxidized electrochromic material, and the disappearance of the reduced electrochromic material is not mentioned.

又、補助電極用の酸化還元材料は全て酸化型の材料であり、還元型の材料は開示されていない。そのため、還元型エレクトロクロミック材料が消え残った場合には、補助電極を用いて消え残りを消色しようとすると、補助電極上の酸化還元物質は還元することなく、代わりに補助電極表面で電解質が還元され、電解質の変質や気泡の発生等の不具合につながる。   Moreover, all the oxidation-reduction materials for the auxiliary electrode are oxidation-type materials, and no reduction-type material is disclosed. For this reason, if the reduced electrochromic material remains undisappeared, the redox material on the auxiliary electrode will not be reduced and the electrolyte will not be reduced on the surface of the auxiliary electrode. Reduced, leading to problems such as electrolyte alteration and bubble formation.

特に、提案されているエレクトロクロミック素子では、消え残りの主要因は酸素による酸化であると考えられており、還元型エレクトロクロミック材料の消え残りについては、そもそも想定されておらず、還元型エレクトロクロミック材料の消え残りは高コントラストかつ鮮やかな色再現性を持つ表示デバイスにおける新たな課題である。   In particular, in the proposed electrochromic device, it is considered that the main cause of the disappearance is oxidation by oxygen, and the disappearance of the reduced electrochromic material is not assumed in the first place. The disappearance of the material is a new problem in display devices with high contrast and vivid color reproducibility.

本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、酸化型エレクトロクロミック材料及び還元型エレクトロクロミック材料の両方の消え残りを消色することが可能なエレクトロクロミック素子を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above points, and it is an object to provide an electrochromic device capable of erasing the disappearance of both the oxidized electrochromic material and the reduced electrochromic material. To do.

本エレクトロクロミック素子は、間隔を置いて互いに対向して設けられ、少なくとも一方が透明である第1の電極及び第2の電極と、前記第1の電極の前記第2の電極側の面に設けられた、酸化型エレクトロクロミック化合物と酸化型エレクトロクロミック組成物の何れか一方又は双方を含む第1のエレクトロクロミック層と、前記第2の電極の前記第1の電極側の面に設けられた、還元型エレクトロクロミック化合物と還元型エレクトロクロミック組成物の何れか一方又は双方を含む第2のエレクトロクロミック層と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられた電解質と、前記第1の電極と前記第2の電極との間に間隔を置いて設けられ、前記電解質に接する、貫通孔を備えた第1の補助電極及び貫通孔を備えた第2の補助電極と、前記第1の補助電極の表面に設けられた、可逆的に酸化還元可能な物質の還元体を含む還元層と、前記第2の補助電極の表面に設けられた、可逆的に酸化還元可能な物質の酸化体を含む酸化層と、を有し、前記還元層及び前記酸化層が酸化還元反応の前後において透明であることを要件とする。   The electrochromic element is provided on the surface on the second electrode side of the first electrode, the first electrode and the second electrode which are provided to face each other at an interval and at least one of which is transparent. A first electrochromic layer containing one or both of an oxidized electrochromic compound and an oxidized electrochromic composition, and a surface of the second electrode on the first electrode side, A second electrochromic layer containing one or both of a reduced electrochromic compound and a reduced electrochromic composition, an electrolyte provided between the first electrode and the second electrode, A first auxiliary electrode having a through hole and a second auxiliary electrode having a through hole, which are provided between the first electrode and the second electrode and are in contact with the electrolyte. A reductive layer provided on the surface of the first auxiliary electrode and containing a reductant of a substance capable of reversibly redox, and a reversible redox capable of being provided on the surface of the second auxiliary electrode. It is a requirement that the reduction layer and the oxidation layer are transparent before and after the oxidation-reduction reaction.

開示の技術によれば、酸化型エレクトロクロミック材料及び還元型エレクトロクロミック材料の両方の消え残りを消色することが可能なエレクトロクロミック素子を提供できる。   According to the disclosed technology, it is possible to provide an electrochromic device capable of erasing the disappearance of both the oxidized electrochromic material and the reduced electrochromic material.

本実施の形態に係るエレクトロクロミック素子を例示する断面図である。It is sectional drawing which illustrates the electrochromic element which concerns on this Embodiment.

以下、図面を参照して、実施の形態の説明を行う。なお、各図面において、同一構成部分には同一符号を付し、重複した説明を省略する場合がある。   Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings. In addition, in each drawing, the same code | symbol is attached | subjected to the same component and the overlapping description may be abbreviate | omitted.

[エレクトロクロミック素子の構造]
図1は、本実施の形態に係るエレクトロクロミック素子を例示する断面図である。図1を参照するに、エレクトロクロミック素子1は、第1の支持体10と、第2の支持体11と、第1の電極12と、第2の電極13と、第1のエレクトロクロミック層14と、第2のエレクトロクロミック層15と、絶縁性多孔質層16と、第1の補助電極17と、絶縁性多孔質層18と、第2の補助電極19と、酸化層20と、還元層21と、絶縁性多孔質層22とを有する。
[Structure of electrochromic device]
FIG. 1 is a cross-sectional view illustrating an electrochromic element according to this embodiment. Referring to FIG. 1, the electrochromic element 1 includes a first support 10, a second support 11, a first electrode 12, a second electrode 13, and a first electrochromic layer 14. The second electrochromic layer 15, the insulating porous layer 16, the first auxiliary electrode 17, the insulating porous layer 18, the second auxiliary electrode 19, the oxide layer 20, and the reducing layer. 21 and an insulating porous layer 22.

なお、本実施の形態では、便宜上、エレクトロクロミック素子1の第1の支持体10側を上側又は一方の側、第2の支持体11側を下側又は他方の側とする。又、各部位の第1の支持体10側の面を一方の面又は上面、第2の支持体11側の面を他方の面又は下面とする。但し、エレクトロクロミック素子1は天地逆の状態で用いることができ、又は任意の角度で配置することができる。又、平面視とは対象物を第1の支持体10の一方の面の法線方向から視ることを指し、平面形状とは対象物を第1の支持体10の一方の面の法線方向から視た形状を指すものとする。   In the present embodiment, for the sake of convenience, the first support 10 side of the electrochromic element 1 is defined as the upper side or one side, and the second support 11 side is defined as the lower side or the other side. Further, the surface on the first support 10 side of each part is defined as one surface or upper surface, and the surface on the second support 11 side is defined as the other surface or lower surface. However, the electrochromic element 1 can be used upside down, or can be arranged at an arbitrary angle. The planar view refers to viewing the object from the normal direction of one surface of the first support 10, and the planar shape refers to the normal of the one surface of the first support 10. It shall refer to the shape viewed from the direction.

エレクトロクロミック素子1において、第1の支持体10の下面には、第1の電極12が設けられている。又、第2の支持体11の上面には、第2の電極13が設けられている。第1の電極12と第2の電極13とは厚さ方向に所定の間隔をおいて対向して配置されており、第1の電極12と第2の電極13との間には電解質が配置されている。第1の電極12と第2の電極13のうち少なくとも一方は透明である。   In the electrochromic element 1, a first electrode 12 is provided on the lower surface of the first support 10. A second electrode 13 is provided on the upper surface of the second support 11. The first electrode 12 and the second electrode 13 are disposed to face each other at a predetermined interval in the thickness direction, and an electrolyte is disposed between the first electrode 12 and the second electrode 13. Has been. At least one of the first electrode 12 and the second electrode 13 is transparent.

第1の電極12の下面には、酸化型エレクトロクロミック化合物と酸化型エレクトロクロミック組成物の何れか一方又は双方を含む第1のエレクトロクロミック層14が設けられている。又、第2の電極13の上面には、還元型エレクトロクロミック化合物と還元型エレクトロクロミック組成物の何れか一方又は双方を含む第2のエレクトロクロミック層15が設けられている。   A first electrochromic layer 14 including one or both of an oxidized electrochromic compound and an oxidized electrochromic composition is provided on the lower surface of the first electrode 12. Further, a second electrochromic layer 15 including one or both of a reduced electrochromic compound and a reduced electrochromic composition is provided on the upper surface of the second electrode 13.

第1のエレクトロクロミック層14の下面には、絶縁性多孔質層16を介して、貫通孔を有する第1の補助電極17が設けられている。又、第2のエレクトロクロミック層15の上面には、絶縁性多孔質層18を介して、貫通孔を有する第2の補助電極19が設けられている。第1の補助電極17と第2の補助電極19とは、厚さ方向に所定の間隔をおいて対向して配置されており、電解質と接している。   A first auxiliary electrode 17 having a through hole is provided on the lower surface of the first electrochromic layer 14 via an insulating porous layer 16. Further, a second auxiliary electrode 19 having a through hole is provided on the upper surface of the second electrochromic layer 15 via an insulating porous layer 18. The first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 are arranged to face each other at a predetermined interval in the thickness direction, and are in contact with the electrolyte.

但し、第1の補助電極17と第2の補助電極19は、電解質と接していれば、どのような位置に配されてもよい。例えば、第1の補助電極17及び第2の補助電極19は、必ずしも間隔を置いて互いに対向して設ける必要はなく、平面視において、ずれた位置に配置されてもよい。しかし、間隔を置いて互いに対向して設けることにより(平面視で重複した位置に設けることにより)、後述の消色応答速度を向上する効果が顕著となる。   However, the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 may be arranged at any position as long as they are in contact with the electrolyte. For example, the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 are not necessarily provided to be opposed to each other with an interval therebetween, and may be arranged at a shifted position in plan view. However, the effect of improving the decoloring response speed described later becomes remarkable by providing them facing each other at an interval (by providing them at overlapping positions in plan view).

第1の補助電極17の下面には、酸化層20が設けられている。酸化層20は、可逆的に酸化還元可能な物質の酸化体を含む層である。又、第2の補助電極19の上面には、還元層21が設けられている。還元層21は、可逆的に酸化還元可能な物質の還元体を含む層である。酸化層20及び還元層21は、酸化還元反応の前後において透明である。酸化層20と還元層21との間には、絶縁性多孔質層22が設けられている。   An oxide layer 20 is provided on the lower surface of the first auxiliary electrode 17. The oxide layer 20 is a layer containing an oxidant of a substance that can be reversibly oxidized and reduced. A reduction layer 21 is provided on the upper surface of the second auxiliary electrode 19. The reduction layer 21 is a layer containing a reductant of a substance that can be reversibly oxidized and reduced. The oxidation layer 20 and the reduction layer 21 are transparent before and after the oxidation-reduction reaction. An insulating porous layer 22 is provided between the oxide layer 20 and the reduction layer 21.

但し、酸化層20は、第1の補助電極17の表面に設けられていればよい。具体的には、酸化層20は第1の補助電極17の上面に設けられてもよく、下面に設けられてもよく、上面及び下面の両方に設けられてもよい。同様に、還元層21は、第2の補助電極19の表面に設けられていればよい。具体的には、還元層21は第2の補助電極19の上面に設けられてもよく、下面に設けられてもよく、上面及び下面の両方に設けられてもよい。   However, the oxide layer 20 only needs to be provided on the surface of the first auxiliary electrode 17. Specifically, the oxide layer 20 may be provided on the upper surface of the first auxiliary electrode 17, may be provided on the lower surface, or may be provided on both the upper surface and the lower surface. Similarly, the reduction layer 21 may be provided on the surface of the second auxiliary electrode 19. Specifically, the reduction layer 21 may be provided on the upper surface of the second auxiliary electrode 19, may be provided on the lower surface, or may be provided on both the upper surface and the lower surface.

以下、エレクトロクロミック素子1の各構成要素について詳述する。   Hereinafter, each component of the electrochromic element 1 will be described in detail.

(第1の電極、第2の電極)
第1の電極12及び第2の電極13の材料としては、特に制限されず通常用いられる導電体を用いることができる。前述のように、第1の電極12と第2の電極13のうち少なくとも一方は透明電極であるが、透明電極については導電性を有する透明材料であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択できる。例えば、スズをドープした酸化インジウム(以下、「ITO」と称する場合がある)、フッ素をドープした酸化スズ(以下、「FTO」と称する場合がある)、アンチモンをドープした酸化スズ(以下、「ATO」と称する場合がある)、酸化亜鉛等の無機材料等を用いることができる。これらの中でも、InSnO、GaZnO、SnO、In、ZnOが好ましい。
(First electrode, second electrode)
The material of the first electrode 12 and the second electrode 13 is not particularly limited, and a commonly used conductor can be used. As described above, at least one of the first electrode 12 and the second electrode 13 is a transparent electrode, but the transparent electrode is not particularly limited as long as it is a transparent material having conductivity, and may be appropriately selected according to the purpose. You can choose. For example, indium oxide doped with tin (hereinafter sometimes referred to as “ITO”), tin oxide doped with fluorine (hereinafter sometimes referred to as “FTO”), tin oxide doped with antimony (hereinafter referred to as “ In some cases, inorganic materials such as zinc oxide may be used. Among these, InSnO, GaZnO, SnO, In 2 O 3 and ZnO are preferable.

更に、透明性を有するカーボンナノチューブや、他のAu、Ag、Pt、Cu等の高導電性の非透過性材料等を微細なネットワーク状に形成して、透明度を保持したまま、導電性を改善した電極を用いてもよい。第1の電極12及び第2の電極13の夫々の厚みは、第1のエレクトロクロミック層14及び第2のエレクトロクロミック層15の酸化還元反応に必要な電気抵抗値が得られるように適宜調整できる。   In addition, carbon nanotubes with transparency and other highly conductive non-permeable materials such as Au, Ag, Pt, and Cu are formed in a fine network to improve conductivity while maintaining transparency. You may use the electrode which did. The thickness of each of the first electrode 12 and the second electrode 13 can be adjusted as appropriate so as to obtain an electric resistance value necessary for the oxidation-reduction reaction of the first electrochromic layer 14 and the second electrochromic layer 15. .

例えば、第1の電極12及び第2の電極13の材料としてITOを用いた場合、第1の電極12及び第2の電極13の夫々の平均厚みは、50nm以上500nm以下程度とすることが好ましい。   For example, when ITO is used as the material of the first electrode 12 and the second electrode 13, the average thickness of each of the first electrode 12 and the second electrode 13 is preferably about 50 nm to 500 nm. .

第1の電極12及び第2の電極13の夫々の作製方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法等を用いることができる。但し、第1の電極12及び第2の電極13の夫々の材料が塗布形成できるものであれば特に制限はなく、例えば、スピンコート法、キャスティング法、マイクログラビアコート法、グラビアコート法、バーコート法、ロールコート法、ワイアーバーコート法、ディップコート法、スリットコート法、キャピラリーコート法、スプレーコート法、ノズルコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、オフセット印刷法、反転印刷法、インクジェットプリント法等の各種印刷法を用いることができる。   As a manufacturing method of each of the first electrode 12 and the second electrode 13, for example, a vacuum evaporation method, a sputtering method, an ion plating method, or the like can be used. However, there is no particular limitation as long as each material of the first electrode 12 and the second electrode 13 can be applied and formed. For example, spin coating method, casting method, micro gravure coating method, gravure coating method, bar coating Method, roll coating method, wire bar coating method, dip coating method, slit coating method, capillary coating method, spray coating method, nozzle coating method, gravure printing method, screen printing method, flexographic printing method, offset printing method, reverse printing method Various printing methods such as an inkjet printing method can be used.

(第1の補助電極、第2の補助電極)
本実施の形態では、第1の補助電極17及び第2の補助電極19には、厚さ方向に貫通する多数の微細な貫通孔が形成されている。例えば、以下に示す方法により、第1の補助電極17及び第2の補助電極19に微細な貫通孔を設けることができる。すなわち、第1の補助電極17及び第2の補助電極19を形成する前に予め下地層として凹凸を持つ層を形成し、そのまま凹凸を有する第1の補助電極17及び第2の補助電極19とする方法を用いることができる。
(First auxiliary electrode, second auxiliary electrode)
In the present embodiment, the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 are formed with a large number of fine through holes penetrating in the thickness direction. For example, fine through holes can be provided in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 by the method described below. That is, before forming the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19, a layer having unevenness is formed in advance as a base layer, and the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 having unevenness Can be used.

又、第1の補助電極17及び第2の補助電極19を形成する前にマイクロピラー等の凸形状構造体を形成し、第1の補助電極17及び第2の補助電極19を形成後に凸形状構造体を取り除く方法を用いてもよい。又、第1の補助電極17及び第2の補助電極19を形成する前に発泡性の高分子重合体等を散布し、第1の補助電極17及び第2の補助電極19を形成後に加熱や脱気する等の処理を施して発泡させる方法を用いてもよい。又、第1の補助電極17及び第2の補助電極19に直接各種放射線を輻射して微細な貫通孔を形成させる方法を用いてもよい。   Further, a convex structure such as a micro pillar is formed before the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 are formed, and the convex shape is formed after the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 are formed. A method of removing the structure may be used. Further, before forming the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19, a foamable polymer or the like is sprayed, and after forming the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19, heating or You may use the method of giving a process, such as deaeration, and making it foam. Alternatively, a method may be used in which fine through holes are formed by directly radiating various radiations to the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19.

第1の補助電極17及び第2の補助電極19に微細な貫通孔を形成する方法としては、コロイダルリソグラフィー法が好ましい。コロイダルリソグラフィー法は、まず、微細な貫通孔が積層される下層に微粒子を散布し、散布された微粒子をマスクとして微粒子が散布された面に真空成膜法等により微細な貫通孔となる導電膜を形成する。そして、その後、微粒子ごと導電膜を除去することでパターニングを行う方法である。   As a method of forming fine through holes in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19, a colloidal lithography method is preferable. In the colloidal lithography method, first, fine particles are dispersed in a lower layer where fine through holes are stacked, and a conductive film that forms fine through holes on a surface on which fine particles are dispersed using the dispersed fine particles as a mask. Form. Then, the patterning is performed by removing the conductive film together with the fine particles.

コロイダルリソグラフィー法により、第1の補助電極17及び第2の補助電極19に微細な貫通孔を容易に形成できる。特に、散布する微粒子の直径を第1の補助電極17及び第2の補助電極19の厚み以上とすることにより、第1の補助電極17及び第2の補助電極19に容易に貫通孔を形成できる。又、散布する微粒子分散物の濃度や微粒子の粒子径を変えることで容易に微細な貫通孔の密度や面積を調節できる。   By the colloidal lithography method, a fine through hole can be easily formed in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19. In particular, by setting the diameter of the fine particles to be dispersed to be equal to or greater than the thickness of the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19, through holes can be easily formed in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19. . Further, the density and area of fine through holes can be easily adjusted by changing the concentration of the fine particle dispersion to be dispersed and the particle diameter of the fine particles.

更に、微粒子分散物の散布方法によりコロイダルマスクの面内均一性を容易に高めることができるため、エレクトロクロミック層の発消色濃度の面内均一性を高め、表示性能を向上させることが可能となる。以下、コロイダルリソグラフィー法の具体的な内容について説明する。   Furthermore, since the in-plane uniformity of the colloidal mask can be easily increased by the dispersion method of the fine particle dispersion, it is possible to improve the in-plane uniformity of the color density of the electrochromic layer and improve the display performance. Become. Hereinafter, specific contents of the colloidal lithography method will be described.

コロイダルリソグラフィーに用いるコロイダルマスクとなる微粒子の材質については、第1の補助電極17及び第2の補助電極19に微細な貫通孔を形成することが可能であれば何を用いても構わないが、例えば、SiO微粒子等が経済的に優位である。又、コロイダルマスク散布時に用いる分散物は分散性のよいものが好ましく、例えば、コロイダルマスクとなる微粒子としてSiO微粒子を用いる場合は水系の分散物を用いることができる。 As for the material of the fine particles used as the colloidal mask used in the colloidal lithography, any material can be used as long as a fine through hole can be formed in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19. For example, SiO 2 fine particles are economically superior. Further, the dispersion used when spraying the colloidal mask is preferably a dispersion having good dispersibility. For example, when SiO 2 fine particles are used as the fine particles used as the colloidal mask, an aqueous dispersion can be used.

但し、エレクトロクロミック層や絶縁性多孔質層等のコロイダルマスクの下層にダメージを与えるおそれがある場合は、コロイダルマスクとなる微粒子として非水系溶媒に分散するように表面処理したSiO微粒子を用いることが好ましい。この場合には、コロイダルマスク散布時に用いる分散物として非水系の分散物を用いることができる。 However, if there is a risk of damaging the lower layer of the colloidal mask such as an electrochromic layer or an insulating porous layer, use SiO 2 fine particles that have been surface-treated so as to be dispersed in a non-aqueous solvent as fine particles used as the colloidal mask. Is preferred. In this case, a non-aqueous dispersion can be used as a dispersion used when colloidal mask is dispersed.

コロイダルマスクとなる微粒子の粒子径(直径)については、微細な貫通孔を形成する第1の補助電極17及び第2の補助電極19の厚み以上、かつ、エレクトロクロミック層の厚み以下であることが好ましい。コロイダルマスクは、超音波照射法やテープピーリング法等により除去できるが、下層にダメージの少ない方法を選択することが好ましい。又、コロイダルマスクの他の除去方式として、微粒子等の吹付けによるドライ洗浄も可能である。   The particle diameter (diameter) of the fine particles serving as the colloidal mask is not less than the thickness of the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 that form fine through-holes and not more than the thickness of the electrochromic layer. preferable. The colloidal mask can be removed by an ultrasonic irradiation method, a tape peeling method, or the like, but it is preferable to select a method with less damage to the lower layer. As another removal method of the colloidal mask, dry cleaning by spraying fine particles or the like is also possible.

テープピーリング法を用いてコロイダルマスクを除去する場合、一般的なテープにおける粘着層の厚みは1μm以上となっておりコロイダルマスクが埋没してしまう場合が多い。この場合、第1の補助電極17及び第2の補助電極19の表面に粘着層が接触してしまうため、糊残りの少ないテープを使用することが好ましい。超音波照射法を用いてコロイダルマスクを除去する場合、浸漬する溶媒については既に形成している各機能層にダメージの少ない溶媒を用いることが好ましい。   When removing a colloidal mask using a tape peeling method, the thickness of the adhesive layer in a general tape is 1 μm or more, and the colloidal mask is often buried. In this case, since the adhesive layer contacts the surfaces of the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19, it is preferable to use a tape with little adhesive residue. When removing a colloidal mask using an ultrasonic irradiation method, it is preferable to use a solvent with little damage to each functional layer already formed as the solvent to be immersed.

第1の補助電極17及び第2の補助電極19に微細な貫通孔を形成する方法として、コロイダルリソグラフィー法の他に、フォトレジストやドライフィルム等を用いた一般的なリフトオフ法を用いてもよい。具体的には、まず、所望のフォトレジストパターンを形成し、次いで第1の補助電極17及び第2の補助電極19を形成する。その後、フォトレジストパターンを除去することによってフォトレジストパターン上の不要な部分を除去して、第1の補助電極17及び第2の補助電極19に微細な貫通孔を形成する。   As a method of forming fine through holes in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19, a general lift-off method using a photoresist or a dry film may be used in addition to the colloidal lithography method. . Specifically, first, a desired photoresist pattern is formed, and then the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 are formed. Thereafter, unnecessary portions on the photoresist pattern are removed by removing the photoresist pattern, and fine through holes are formed in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19.

一般的なリフトオフ法により第1の補助電極17及び第2の補助電極19に微細な貫通孔を形成する場合、光照射による下層へのダメージを回避する。そのため、対象物への光照射面積が小さくて済むように、使用するフォトレジストはネガ型のものを使用することが好ましい。   When fine through holes are formed in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 by a general lift-off method, damage to the lower layer due to light irradiation is avoided. Therefore, it is preferable to use a negative type photoresist so that the light irradiation area to the object can be small.

ネガ型のフォトレジストとしては、例えば、ポリビニルシンナメート、スチリルピリジニウムホルマール化ポリビニルアルコール、グリコールメタクリレート/ポリビニルアルコール/開始剤、ポリグリシジルメタクリレート、ハロメチル化ポリスチレン、ジアゾレジン、ビスアジド/ジエン系ゴム、ポリヒドロキシスチレン/メラミン/光酸発生剤、メチル化メラミン樹脂、メチル化尿素樹脂等を挙げることができる。   Negative photoresists include, for example, polyvinyl cinnamate, styrylpyridinium formalized polyvinyl alcohol, glycol methacrylate / polyvinyl alcohol / initiator, polyglycidyl methacrylate, halomethylated polystyrene, diazoresin, bisazide / diene rubber, polyhydroxystyrene / Mention may be made of melamine / photoacid generators, methylated melamine resins, methylated urea resins and the like.

更に、レーザ光を用いた加工装置により、第1の補助電極17及び第2の補助電極19に微細な貫通孔を形成することも可能である。一般的にレーザ加工を用いた場合は、形成される微細な貫通孔の孔径が15μm以上になる。   Further, it is possible to form fine through holes in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 by a processing apparatus using laser light. In general, when laser processing is used, the diameter of fine through holes to be formed is 15 μm or more.

第1の補助電極17及び第2の補助電極19に設けられる微細な貫通孔の直径は、10nm以上100μm以下が好ましい。微細な貫通孔の直径が10nm(0.01μm)よりも小さい場合、電解質イオンの透過が悪くなる不具合が生じることがある。一方、微細な貫通孔の直径が100μmよりも大きい場合、目視できるレベル(通常のディスプレイでは1画素電極レベルの大きさ)であり、微細な貫通孔直上の表示性能に不具合が生じることになる。   The diameter of the fine through hole provided in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 is preferably 10 nm or more and 100 μm or less. When the diameter of the fine through hole is smaller than 10 nm (0.01 μm), there may be a problem that the permeation of the electrolyte ions is deteriorated. On the other hand, when the diameter of the fine through-hole is larger than 100 μm, it is at a level that can be visually observed (the size of one pixel electrode in a normal display), and the display performance just above the fine through-hole is defective.

第1の補助電極17及び第2の補助電極19に設けられる微細な貫通孔の第1の補助電極17及び第2の補助電極19の表面積に対する孔面積の比(穴密度)は、適宜設定できるが、例えば、0.01%〜40%程度とすることができる。穴密度が、高すぎると、第1の補助電極17及び第2の補助電極19の表面抵抗が大きくなるため、第1の補助電極17及び第2の補助電極19がない領域面積が広くなることによるクロミック欠陥が出る不具合が生じる。一方、穴密度が低すぎると、電解質イオンの浸透性が悪くなるために、同様に駆動に問題が生じる不具合が生じる。   The ratio (hole density) of the hole area to the surface area of the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 of the fine through holes provided in the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 can be set as appropriate. However, it can be about 0.01% to 40%, for example. If the hole density is too high, the surface resistance of the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 will increase, so that the area of the area where the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 are absent becomes wide. This causes a defect that causes chromic defects. On the other hand, if the hole density is too low, the permeability of the electrolyte ions is deteriorated, so that a problem that causes a problem in driving similarly occurs.

(エレクトロクロミック組成物)
第1のエレクトロクロミック層14や第2のエレクトロクロミック層15に用いることができるエレクトロクロミック組成物は、エレクトロクロミック化合物が導電性又は半導体性ナノ構造体と結合されてなることを特徴とする。エレクトロクロミック組成物の層の好ましい膜厚範囲は0.2〜5.0μmである。この範囲よりも膜厚が薄い場合、発色濃度を得にくくなる。又、この範囲よりも膜厚が厚い場合、製造コストが増大すると共に、着色によって視認性が低下しやすくなる。
(Electrochromic composition)
The electrochromic composition that can be used for the first electrochromic layer 14 or the second electrochromic layer 15 is characterized in that an electrochromic compound is combined with a conductive or semiconducting nanostructure. A preferable film thickness range of the layer of the electrochromic composition is 0.2 to 5.0 μm. When the film thickness is thinner than this range, it is difficult to obtain the color density. On the other hand, when the film thickness is thicker than this range, the manufacturing cost increases, and the visibility tends to be lowered by coloring.

(エレクトロクロミック化合物)
第1のエレクトロクロミック層14や第2のエレクトロクロミック層15に用いることができるエレクトロクロミック化合物とは、酸化反応又は還元反応により色の変化を起こす材料である。このような材料として、ポリマー系、色素系、金属錯体、金属酸化物等の公知のエレクトロクロミック化合物が用いられる。
(Electrochromic compound)
The electrochromic compound that can be used for the first electrochromic layer 14 and the second electrochromic layer 15 is a material that causes a color change by an oxidation reaction or a reduction reaction. As such a material, a known electrochromic compound such as a polymer, a dye, a metal complex, or a metal oxide is used.

具体的に、ポリマー系、色素系のエレクトロクロミック化合物として、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系、等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物、ポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子化合物が用いられる。   Specifically, as polymer-based and dye-based electrochromic compounds, azobenzene, anthraquinone, diarylethene, dihydroprene, styryl, styryl spiropyran, spirooxazine, spirothiopyran, thioindigo, tetrathiafulvalene, Terephthalic acid, triphenylmethane, triphenylamine, naphthopyran, viologen, pyrazoline, phenazine, phenylenediamine, phenoxazine, phenothiazine, phthalocyanine, fluoran, fulgide, benzopyran, metallocene Low molecular organic electrochromic compounds such as polyaniline, and conductive polymer compounds such as polyaniline and polythiophene are used.

上記中、一般式(1)で表されるジピリジン系化合物を含むことが特に好ましい。これらの材料は発消色電位が低いため、複数の表示電極を有するエレクトロクロミック素子を構成した場合においても、還元電位により良好な発色の色値を示す。   Among the above, it is particularly preferable to include a dipyridine compound represented by the general formula (1). Since these materials have a low color development / discoloration potential, even when an electrochromic device having a plurality of display electrodes is formed, a good color value is exhibited by the reduction potential.

Figure 2017015758
一般式(1)において、R1、R2は、夫々独立に置換基を有しても良い炭素数1から30のアルキル基、又はアリール基を表す。Xは1価のアニオンを表す。n、m、lは夫々独立に0又は1を表す。A、B、Cは夫々独立に置換基を有しても良い炭素数2から20のアリール基、複素環基を表す。
Figure 2017015758
In the general formula (1), R1 and R2 each independently represent an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms or an aryl group which may have a substituent. X represents a monovalent anion. n, m, and l each independently represents 0 or 1. A, B, and C each independently represent an aryl group or heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms that may have a substituent.

又、金属錯体系及び金属酸化物系のエレクトロクロミック化合物としては、例えば、酸化チタン、酸化バナジウム、酸化タングステン、酸化インジウム、酸化イリジウム、酸化ニッケル、プルシアンブルー等の無機系エレクトロクロミック化合物を用いることができる。   In addition, as the metal complex-based and metal oxide-based electrochromic compounds, for example, inorganic electrochromic compounds such as titanium oxide, vanadium oxide, tungsten oxide, indium oxide, iridium oxide, nickel oxide, and Prussian blue can be used. it can.

なお、本実施の形態では、初期状態を中性状態として酸化することで可逆的に色が変化する材料を酸化型エレクトロクロミック材料(酸化型エレクトロクロミック化合物又は酸化型エレクトロクロミック組成物)とする。又、初期状態を中性状態として還元することで可逆的に色が変化する材料を還元型エレクトロクロミック材料(還元型エレクトロクロミック化合物又は還元型エレクトロクロミック組成物)とする。   Note that in this embodiment mode, a material whose color is reversibly changed by oxidizing the initial state as a neutral state is an oxidized electrochromic material (an oxidized electrochromic compound or an oxidized electrochromic composition). Further, a material whose color is reversibly changed by reducing the initial state to a neutral state is a reduced electrochromic material (reduced electrochromic compound or reduced electrochromic composition).

電気化学デバイスであるエレクトロクロミック素子1では、第1の電極12及び第2の電極13のうち一方の電極上で酸化反応(電荷を授ける反応)が起こると、もう一方の電極上では還元反応(電荷を受け取る反応)が起こる。従って、一方の電極上(第1の電極12上)に酸化型エレクトロクロミック化合物と酸化型エレクトロクロミック組成物の何れか一方又は双方を含む層(第1のエレクトロクロミック層14)を形成する。そして、もう一方の電極上(第2の電極13上)に還元型エレクトロクロミック化合物と還元型エレクトロクロミック組成物の何れか一方又は双方を含む層(第2のエレクトロクロミック層15)を形成する。これにより、片方を非反応性の電極にした場合に比べて以下の第1〜第5の利点を得ることができる。   In the electrochromic element 1 that is an electrochemical device, when an oxidation reaction (a reaction that imparts a charge) occurs on one of the first electrode 12 and the second electrode 13, a reduction reaction (reaction ( Reaction to receive charge). Therefore, a layer (first electrochromic layer 14) including one or both of the oxidized electrochromic compound and the oxidized electrochromic composition is formed on one electrode (on the first electrode 12). Then, a layer (second electrochromic layer 15) including one or both of the reduced electrochromic compound and the reduced electrochromic composition is formed on the other electrode (on the second electrode 13). Thereby, the following 1st-5th advantages can be acquired compared with the case where one side is made into a non-reactive electrode.

第1に、エレクトロクロミック化合物又はエレクトロクロミック組成物は他の物質より酸化還元電位が低いので発色電圧を小さくできる。第2に、エレクトロクロミック化合物又はエレクトロクロミック組成物は他の物質より電荷の授受が起こりやすいので発色に必要な電荷量を小さくできる。第3に、電極上で不可逆な負荷反応が起こり難くなるのでエレクトロクロミック素子1の劣化を少なくできる。第4に、エレクトロクロミック化合物又はエレクトロクロミック組成物は他の物質より発色状態が安定のためメモリ時間を長くできる。第5に、両電極上のエレクトロクロミック材料が共に発色するので濃度の高い色を発色することができる。   First, since the electrochromic compound or the electrochromic composition has a lower redox potential than other substances, the color development voltage can be reduced. Second, since the electrochromic compound or the electrochromic composition is more likely to transfer charges than other substances, the amount of charge necessary for color development can be reduced. Third, since irreversible load reaction hardly occurs on the electrode, deterioration of the electrochromic element 1 can be reduced. Fourth, since the electrochromic compound or electrochromic composition is more stable in color development than other substances, the memory time can be extended. Fifth, since the electrochromic material on both electrodes develops color, a high-density color can be developed.

なお、第5の利点に記載した『発色』に関しては、酸化型エレクトロクロミック化合物又は酸化型エレクトロクロミック組成物が発色する色と還元型エレクトロクロミック化合物又は還元型エレクトロクロミック組成物が発色する色の混色となる。例えば、黒色を表示したい場合は、単独で黒色発色するエレクトロクロミック材料はあまり存在しないので複数の材料の混色を使うことは有用である。酸化型エレクトロクロミック化合物又は酸化型エレクトロクロミック組成物が発色する色と、還元型エレクトロクロミック化合物又は還元型エレクトロクロミック組成物が発色する色が、補色の関係で合わせて黒色になると好適である。この場合、透明と濃黒色とを高いコントラストで切り替え可能な調光デバイスを実現できる。   Regarding “color development” described in the fifth advantage, a color mixture of the color produced by the oxidized electrochromic compound or oxidized electrochromic composition and the color produced by the reduced electrochromic compound or reduced electrochromic composition. It becomes. For example, when displaying black, it is useful to use a color mixture of a plurality of materials because there are not many electrochromic materials that black color alone. It is preferable that the color developed by the oxidized electrochromic compound or the oxidized electrochromic composition and the color developed by the reduced electrochromic compound or the reduced electrochromic composition are combined in a complementary color and become black. In this case, a light control device that can switch between transparent and dark black with high contrast can be realized.

酸化型エレクトロクロミック化合物としては、スチリル系、アルキルアミン系、トリフェニルアミン系、フェノチアジン系、酸化イリジウム、プルシアンブルー等が挙げられる。又、還元型エレクトロクロミック化合物としては、ジピリジル系、アントラキノン系、テレフタル酸系、酸化タングステン、酸化チタン等が挙げられる。   Examples of the oxidized electrochromic compound include styryl, alkylamine, triphenylamine, phenothiazine, iridium oxide, and Prussian blue. Examples of reduced electrochromic compounds include dipyridyl, anthraquinone, terephthalic acid, tungsten oxide, and titanium oxide.

(導電性又は半導体性ナノ構造体)
本実施の形態に係る導電性又は半導体性ナノ構造体とは、ナノ粒子若しくはナノポーラス構造体等、ナノスケールの凹凸を有する構造体である。
(Conductive or semiconducting nanostructure)
The conductive or semiconducting nanostructure according to this embodiment is a structure having nanoscale unevenness, such as a nanoparticle or a nanoporous structure.

エレクトロクロミック化合物が、結合又は吸着構造としてホスホン酸基、リン酸基或いはカルボキシル基を有するとき、このエレクトロクロミック化合物は容易にナノ構造体と複合化し、発色画像保持性に優れたエレクトロクロミック組成物となる。   When the electrochromic compound has a phosphonic acid group, a phosphoric acid group or a carboxyl group as a bond or adsorption structure, the electrochromic compound is easily complexed with the nanostructure, and the electrochromic composition having excellent color image retention Become.

又、エレクトロクロミック化合物が、シリル基又はシラノール基を有するとき、シロキサン結合を介してナノ構造体と結合されてその結合は強固なものとなり、やはり安定なエレクトロクロミック組成物が得られる。ここで言うシロキサン結合とは、ケイ素原子及び酸素原子を介した化学結合である。   Further, when the electrochromic compound has a silyl group or a silanol group, it is bonded to the nanostructure through a siloxane bond, and the bond becomes strong, and a stable electrochromic composition is obtained. The siloxane bond referred to here is a chemical bond via a silicon atom and an oxygen atom.

又、エレクトロクロミック組成物は、エレクトロクロミック化合物とナノ構造体がシロキサン結合を介して結合した構造をしていればよく、特にその結合方法や形態は限定されない。   Moreover, the electrochromic composition should just have the structure which the electrochromic compound and the nanostructure couple | bonded through the siloxane bond, and the coupling | bonding method and form in particular are not limited.

導電性又は半導体性ナノ構造体を構成する材質としては、透明性や導電性の面から金属酸化物が好ましい。このような金属酸化物の例としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化イットリウム、酸化ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物を用いることができる。又、これらの金属酸化物は、単独で用いられてもよく、2種以上が混合され用いられてもよい。   The material constituting the conductive or semiconducting nanostructure is preferably a metal oxide in terms of transparency and conductivity. Examples of such metal oxides include titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, cerium oxide, yttrium oxide, boron oxide, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate. Metal oxides mainly composed of calcium oxide, ferrite, hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide, vanadium oxide, aluminosilicate, calcium phosphate, aluminosilicate, etc. Can be used. Moreover, these metal oxides may be used independently and 2 or more types may be mixed and used.

電気伝導性等の電気的特性や光学的性質等の物理的特性を鑑みるに、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タングステン等の金属酸化物から選ばれる一種、若しくはそれらの混合物が用いられたとき、発消色の応答速度に優れる。とりわけ、酸化チタンが用いられたとき、より発消色の応答速度に優れる。   In view of physical properties such as electrical properties and optical properties such as electrical conductivity, from metal oxides such as titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, iron oxide, magnesium oxide, indium oxide and tungsten oxide When one kind selected or a mixture thereof is used, the response speed of color development and decoloration is excellent. In particular, when titanium oxide is used, the response speed of color development and decoloration is more excellent.

金属酸化物の形状としては、平均一次粒子径が30nm以下の金属酸化物微粒子であることが好ましい。粒子径が小さいほど金属酸化物に対する光の透過率が向上し、単位体積当たりの表面積(以下、「比表面積」という)が大きい形状が用いられる。大きな比表面積を有することで、より効率的にエレクトロクロミック化合物が担持され、発消色の表示コントラスト比に優れた多色カラー表示が可能である。ナノ構造の比表面積は、特に限定されるものではないが、例えば、100m/g以上とすることができる。 The shape of the metal oxide is preferably metal oxide fine particles having an average primary particle diameter of 30 nm or less. As the particle diameter is smaller, the light transmittance to the metal oxide is improved, and a shape having a large surface area per unit volume (hereinafter referred to as “specific surface area”) is used. By having a large specific surface area, the electrochromic compound is more efficiently supported, and a multicolor display with an excellent display contrast ratio for color development and decoloration is possible. Although the specific surface area of a nanostructure is not specifically limited, For example, it can be 100 m < 2 > / g or more.

(可逆的に酸化還元可能な物質)
本実施の形態で用いることができる可逆的に酸化還元可能な物質としては、酸化還元反応の前後で透明状態を保持する酸化還元物質であれば特に限定されない。還元体の材料としては、中性状態から酸化反応を起こす材料で、具体的には、スチリル系、アルキルアミン系、トリフェニルアミン系、フェノチアジン系、酸化イリジウム、プルシアンブルー等を用いることができる。酸化体の材料としては、中性状態から還元反応を起こす材料で、具体的には、ビオロゲン系、ジピリジル系、アントラキノン系、テレフタル酸系、酸化タングステン、酸化チタン、フェノール系、ヒンダードフェノール骨格系等が挙を用いることができる。
(Reversible redox material)
There is no particular limitation on the reversibly redox-able substance that can be used in this embodiment as long as it is a redox substance that maintains a transparent state before and after the redox reaction. The material of the reductant is a material that causes an oxidation reaction from a neutral state. Specifically, styryl, alkylamine, triphenylamine, phenothiazine, iridium oxide, Prussian blue, and the like can be used. The material of the oxidant is a material that causes a reduction reaction from a neutral state, specifically, a viologen-based, dipyridyl-based, anthraquinone-based, terephthalic acid-based, tungsten oxide, titanium oxide, phenol-based, hindered phenol skeleton-based material. Etc. can be used.

又、本実施の形態で用いることができる可逆的に酸化還元可能な物質は、イオン透過性を担保する必要がある。そのため、例えば、導電性又は半導体性ナノ構造体に担持されていることが好ましい。具体的には、例示した骨格に前述の導電性又は半導体性ナノ構造体に吸着する吸着基構造を具備していることが好ましい。吸着基構造としては、ホスホン酸基、リン酸基、カルボン酸基、シリル基又はシラノール基を含む基であり、例えば、表1のものが好ましく選ばれる。   In addition, the reversibly oxidizable substance that can be used in this embodiment needs to ensure ion permeability. Therefore, for example, it is preferably carried on a conductive or semiconducting nanostructure. Specifically, it is preferable that the exemplified skeleton has an adsorptive group structure that adsorbs to the above-described conductive or semiconducting nanostructure. The adsorptive group structure is a group containing a phosphonic acid group, a phosphoric acid group, a carboxylic acid group, a silyl group or a silanol group. For example, those in Table 1 are preferably selected.

Figure 2017015758
(電解質)
電解質は、第1の電極12と第2の電極13との間に充填されており、第1の補助電極17及び第2の補助電極19とも接している。電解質としては、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、4級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができ、具体的には、LiClO、LiBF、LiAsF、LiPF、LiCFSO、LiCFCOO、KCl、NaClO、NaCl、NaBF、NaSCN、KBF、Mg(ClO、Mg(BF等が挙げられる。
Figure 2017015758
(Electrolytes)
The electrolyte is filled between the first electrode 12 and the second electrode 13 and is also in contact with the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19. As the electrolyte, for example, inorganic ion salts such as alkali metal salts and alkaline earth metal salts, quaternary ammonium salts, acids, and supporting salts of alkalis can be used. Specifically, LiClO 4 , LiBF 4 , Examples include LiAsF 6 , LiPF 6 , LiCF 3 SO 3 , LiCF 3 COO, KCl, NaClO 3 , NaCl, NaBF 4 , NaSCN, KBF 4 , Mg (ClO 4 ) 2 , and Mg (BF 4 ) 2 .

電解質の材料としては、イオン性液体を用いることもできる。これらの中でも、有機のイオン性液体は、室温を含む幅広い温度領域で液体を示す分子構造を有しているため、用いることが好ましい。分子構造において、カチオン成分としては、例えば、N、N−ジメチルイミダゾール塩、N、N−メチルエチルイミダゾール塩、N、N−メチルプロピルイミダゾール塩等のイミダゾール誘導体;N、N−ジメチルピリジニウム塩、N、N−メチルプロピルピリジニウム塩等のピリジニウム誘導体;トリメチルプロピルアンモニウム塩、トリメチルヘキシルアンモニウム塩、トリエチルヘキシルアンモニウム塩等の脂肪族4級アンモニウム系等が挙げられる。   An ionic liquid can also be used as the electrolyte material. Among these, the organic ionic liquid is preferably used because it has a molecular structure showing the liquid in a wide temperature range including room temperature. In the molecular structure, examples of the cation component include imidazole derivatives such as N, N-dimethylimidazole salt, N, N-methylethylimidazole salt, N, N-methylpropylimidazole salt; N, N-dimethylpyridinium salt, N And pyridinium derivatives such as N-methylpropylpyridinium salt; aliphatic quaternary ammonium compounds such as trimethylpropylammonium salt, trimethylhexylammonium salt and triethylhexylammonium salt.

又、アニオン成分としては、大気中での安定性を考慮して、フッ素を含んだ化合物を用いることが好ましく、例えば、BF 、CFSO 、PF 、(CFSO等が挙げられる。 As the anion component, in consideration of the stability in the atmosphere, it is preferable to use containing a fluorine compound, for example, BF 4 -, CF 3 SO 3 -, PF 4 -, (CF 3 SO 2 ) 2 N- and the like.

電解質の材料としては、カチオン成分とアニオン成分とを任意に組み合わせたイオン性液体を用いることが好ましい。イオン性液体は、光重合性モノマー、オリゴマー、及び液晶材料の何れかに直接溶解させてもよい。なお、溶解性が悪い場合は、少量の溶媒に溶解させて、該溶液を光重合性モノマー、オリゴマー、及び液晶材料の何れかと混合して用いればよい。   As the electrolyte material, an ionic liquid in which a cation component and an anion component are arbitrarily combined is preferably used. The ionic liquid may be directly dissolved in any of the photopolymerizable monomer, oligomer, and liquid crystal material. If the solubility is poor, the solution may be dissolved in a small amount of solvent and mixed with any of photopolymerizable monomers, oligomers, and liquid crystal materials.

溶媒としては、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、1、2−ジメトキシエタン、1、2−エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類、又はこれらの混合溶媒等が挙げられる。   Examples of the solvent include propylene carbonate, acetonitrile, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, sulfolane, dioxolane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-ethoxymethoxyethane, polyethylene glycol, Alcohols or a mixed solvent thereof may be used.

電解質は低粘性の液体である必要はなく、ゲル状や高分子架橋型、液晶分散型等の様々な形態をとることが可能である。電解質はゲル状、固体状に形成することで、素子強度向上、信頼性向上等の利点が得られる。固体化手法としては、電解質と溶媒をポリマー樹脂中に保持することが好ましい。これにより高いイオン伝導度と固体強度が得られるためである。   The electrolyte need not be a low-viscosity liquid and can take various forms such as a gel, a polymer cross-linked type, and a liquid crystal dispersed type. By forming the electrolyte in a gel or solid form, advantages such as improved element strength and improved reliability can be obtained. As a solidification method, it is preferable to hold the electrolyte and the solvent in the polymer resin. This is because high ionic conductivity and solid strength can be obtained.

更に、ポリマー樹脂としては光硬化可能な樹脂が好ましい。熱重合や溶剤を蒸発させることにより薄膜化する方法に比べて、低温かつ短時間で素子を製造できるためである。電解質からなる電解質層の平均厚みは、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択できるが、100nm以上100μm以下が好ましい。   Furthermore, as the polymer resin, a photocurable resin is preferable. This is because the device can be manufactured at a low temperature and in a short time as compared with the method of thinning by thermal polymerization or evaporation of the solvent. There is no restriction | limiting in particular in the average thickness of the electrolyte layer which consists of electrolytes, Although it can select suitably according to the objective, 100 nm or more and 100 micrometers or less are preferable.

(第1の支持体、第2の支持体)
第1の支持体10及び第2の支持体11としては、各層を支持できる透明材料であれば、周知の有機材料や無機材料をそのまま用いることができる。第1の支持体10及び第2の支持体11としては、例えば、無アルカリガラス、硼珪酸ガラス、フロートガラス、ソーダ石灰ガラス等のガラス基板を用いることができる。又、第1の支持体10及び第2の支持体11として、ポリカーボネイト樹脂、アクリル樹脂、ポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂基板を用いてもよい。
(First support, second support)
As the 1st support body 10 and the 2nd support body 11, if it is a transparent material which can support each layer, a well-known organic material and an inorganic material can be used as it is. As the 1st support body 10 and the 2nd support body 11, glass substrates, such as an alkali free glass, borosilicate glass, float glass, soda lime glass, can be used, for example. Also, as the first support 10 and the second support 11, resin substrates such as polycarbonate resin, acrylic resin, polyethylene, polyvinyl chloride, polyester, epoxy resin, melamine resin, phenol resin, polyurethane resin, polyimide resin, and the like are used. It may be used.

又、第1の支持体10及び第2の支持体11の表面に、水蒸気バリア性、ガスバリア性、紫外線耐性、及び視認性を高めるために透明絶縁層、UVカット層、反射防止層等がコーティングされていてもよい。第1の支持体10及び第2の支持体11の形状は、長方形であっても丸型であってもよく、特に限定されない。第1の支持体10及び第2の支持体11は複数の重ねあわせでもよく、例えば、2枚のガラス基板でエレクトロクロミック素子を挟持する構造にすることで、水蒸気バリア性及びガスバリア性を高めることが可能である。なお、エレクトロクロミック素子1は、第1の支持体10及び第2の支持体11の何れか一方のみを有する構成としてもよい。   In addition, the surfaces of the first support 10 and the second support 11 are coated with a transparent insulating layer, a UV cut layer, an antireflection layer, etc. in order to improve water vapor barrier properties, gas barrier properties, UV resistance, and visibility. May be. The shapes of the first support 10 and the second support 11 may be rectangular or round, and are not particularly limited. The first support 10 and the second support 11 may be a plurality of stacked layers. For example, a structure in which an electrochromic element is sandwiched between two glass substrates increases the water vapor barrier property and the gas barrier property. Is possible. Note that the electrochromic element 1 may have only one of the first support 10 and the second support 11.

(絶縁性多孔質層)
絶縁性多孔質層16、18、及び22は、第1の電極12、第2の電極13、第1の補助電極17、第2の補助電極19が夫々電気的に絶縁されるように隔離すると共に、電解質を保持する機能を有する。絶縁性多孔質層16、18、及び22の材料としては、多孔質であれば特に制限はなく、絶縁性及び耐久性が高く成膜性に優れた有機材料や無機材料、及びそれらの複合体を用いることが好ましい。
(Insulating porous layer)
The insulating porous layers 16, 18, and 22 are isolated so that the first electrode 12, the second electrode 13, the first auxiliary electrode 17, and the second auxiliary electrode 19 are electrically insulated from each other. In addition, it has a function of holding the electrolyte. The material of the insulating porous layers 16, 18, and 22 is not particularly limited as long as it is porous, and organic materials and inorganic materials that have high insulating properties and durability and excellent film forming properties, and composites thereof. Is preferably used.

絶縁性多孔質層16、18、及び22の形成方法としては、例えば、高分子微粒子や無機粒子を、バインダ等を添加して部分的に融着させ、粒子間に生じた孔を利用する燒結法を用いることができる。又、溶剤に可溶な有機物又は無機物類と溶剤に溶解しないバインダ等とで構成層を形成した後、溶剤で有機物又は無機物類を溶解させることによって細孔を得る抽出法を用いることができる。又、高分子重合体等を加熱し、又は脱気する等によって発泡させる発泡法を用いることができる。又、良溶媒と貧溶媒を操作することによって高分子類の混合物を相分離させる相転換法を用いることができる。又、各種放射線を輻射することによって細孔を形成させる放射線照射法を用いることができる。   As a method for forming the insulating porous layers 16, 18, and 22, for example, polymer fine particles or inorganic particles are partially fused by adding a binder or the like, and a pore formed between the particles is used. Can be used. In addition, an extraction method can be used in which pores are obtained by forming a constituent layer with an organic or inorganic substance soluble in a solvent and a binder that does not dissolve in the solvent, and then dissolving the organic or inorganic substance with the solvent. Further, a foaming method in which foaming is performed by heating or degassing a polymer or the like can be used. Further, a phase change method in which a mixture of polymers is phase-separated by manipulating a good solvent and a poor solvent can be used. In addition, a radiation irradiation method in which pores are formed by radiating various types of radiation can be used.

(封止材)
エレクトロクロミック素子1において、貼り合せた各層の側面を封止する封止材を設けることが好ましい。封止材を設けることにより、電解質の漏洩を防ぐ効果や、大気中の水分や酸素等のエレクトロクロミック素子1が安定的に動作するために不要なものの侵入を防ぐ等の効果を奏する。封止材としては特に限定されず、例えば、紫外線硬化型や熱硬化型の樹脂を用いることができ、具体的には、アクリル系、ウレタン系、エポキシ系樹脂等が挙げられる。
(Encapsulant)
In the electrochromic element 1, it is preferable to provide a sealing material that seals the side surfaces of the bonded layers. By providing the sealing material, an effect of preventing leakage of the electrolyte and an effect of preventing invasion of unnecessary things such as moisture and oxygen in the atmosphere for stable operation of the electrochromic element 1 are exhibited. The sealing material is not particularly limited, and for example, an ultraviolet curable resin or a thermosetting resin can be used, and specific examples include acrylic, urethane, and epoxy resins.

[エレクトロクロミック素子の駆動方法]
(第1の駆動方法)
本実施の形態に係るエレクトロクロミック素子1の第1の駆動方法は、まず、第1の補助電極17と第2の補助電極19との間に電圧を印加して電荷を充電する工程を行う。次に、第1の電極12と第1の補助電極17又は第2の電極13と第2の補助電極19との間に電圧を印加して電荷を放電する工程を行い、第1の電極12又は第2の電極13上のエレクトロクロミック化合物又はエレクトロクロミック組成物を元の色に戻す。
[Driving method of electrochromic element]
(First driving method)
In the first driving method of the electrochromic element 1 according to the present embodiment, first, a step of charging a charge by applying a voltage between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 is performed. Next, a step of discharging a charge by applying a voltage between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 or between the second electrode 13 and the second auxiliary electrode 19 is performed. Alternatively, the electrochromic compound or electrochromic composition on the second electrode 13 is returned to its original color.

エレクトロクロミック素子1を用いて、例えば、第1の電極12上に生じた消え残りを消色する際に、第1の電極12と第2の電極13との間に電圧を印加して消色するよりも、上記の駆動方法により消色することで劣化を軽減できる。この原理を以下に示す。   For example, when the electrochromic element 1 is used to erase the remaining color generated on the first electrode 12, the voltage is erased by applying a voltage between the first electrode 12 and the second electrode 13. Instead, the deterioration can be reduced by erasing with the above driving method. This principle is shown below.

両極発色型のエレクトロクロミック素子においては、発色消色を繰り返すうちに両極の保持している電荷のバランスが崩れ、消色状態においても片側の電極に電荷が残るため色が完全には消色せずに消え残る現象が発生する。この消え残りはデバイス中の微量の不純物や温度、電圧、付加逆な酸化還元等の複数の要因が複雑に影響を及ぼしあって生じる現象であると推測される。更に、デバイスの使用状況によってどちらの電極にどの程度の消え残りが発生するか変化するため、完全に防止することや設計段階で予測することが困難であり課題となっている。   In bipolar chromophoric electrochromic devices, the charge balance of both electrodes is lost as color erasing is repeated, and the charge remains on one electrode even in the erased state. The phenomenon that remains without disappearing. This disappearance is presumed to be a phenomenon caused by a complex influence of a plurality of factors such as a small amount of impurities in the device, temperature, voltage, and additional reverse oxidation / reduction. Furthermore, since how much disappearance is generated in which electrode changes depending on the use state of the device, it is difficult to completely prevent or predict in the design stage, which is a problem.

例えば、第1の電極12上の第1のエレクトロクロミック層14のエレクトロクロミック化合物の消え残りを消色するのは還元反応であるため、消色するためには何れかの電極において酸化反応を起こす必要がある。しかし、第2の電極13上の第2のエレクトロクロミック層15のエレクトロクロミック化合物は還元型であるため、そのままではエレクトロクロミック化合物や電解質の不可逆な酸化反応が起こりデバイスが劣化してしまう。   For example, since it is a reduction reaction that erases the disappearance of the electrochromic compound of the first electrochromic layer 14 on the first electrode 12, an oxidation reaction is caused at any electrode to erase the color. There is a need. However, since the electrochromic compound of the second electrochromic layer 15 on the second electrode 13 is a reduced type, an irreversible oxidation reaction of the electrochromic compound or the electrolyte occurs and the device deteriorates.

そこで、まず第1の補助電極17と第2の補助電極19との間で充電を行い、第1の補助電極17上の酸化層20を還元し、第2の補助電極19上の還元層21を酸化する工程を、消え残りを消色する工程の前に行う。こうすることで、第1の補助電極17で酸化反応を起こすことが可能となり、第1の電極12と第1の補助電極17との間で消え残りを消色させることが可能となる。そのため、デバイスを劣化させることなく、速やかに消え残りを消色することができる。   Therefore, charging is first performed between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19, the oxide layer 20 on the first auxiliary electrode 17 is reduced, and the reducing layer 21 on the second auxiliary electrode 19 is reduced. The step of oxidizing is performed before the step of erasing the remaining residue. By doing so, it is possible to cause an oxidation reaction at the first auxiliary electrode 17, and it is possible to erase the remaining color between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17. Therefore, it is possible to quickly erase and erase the remaining color without degrading the device.

一方で、第1の補助電極17と第2の補助電極19との間の酸化還元状態を常時充電状態にしておくのではなく、消え残りを消色する際のみに充電を行うことで、通常状態では第1の補助電極17と第2の補助電極19との間の電圧を小さく保つことができる。これにより、エレクトロクロミック化合物や電解質の劣化を防止することが可能となる。   On the other hand, the oxidation / reduction state between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 is not always charged, and charging is performed only when the remaining color disappears. In the state, the voltage between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 can be kept small. Thereby, it becomes possible to prevent deterioration of the electrochromic compound or the electrolyte.

ところで、従来のエレクトロクロミック素子における補助電極を用いての消色は、補助電極として1つ或いは1種の電極のみを用いており、消色応答時間が非常に長くなるという問題がある。消色応答時間を短くするためには、補助電極の酸化還元電位とエレクトロクロミック材料の酸化還元電位の電位差を大きくすることが有効であるが、一方で大きな電位差は電極間の電解質に大きな負荷をかけることになる。そのため、電解質の劣化をもたらし耐久性に課題がある。   By the way, the decoloring using the auxiliary electrode in the conventional electrochromic element uses only one or one kind of electrode as the auxiliary electrode, and there is a problem that the decoloring response time becomes very long. In order to shorten the decoloring response time, it is effective to increase the potential difference between the redox potential of the auxiliary electrode and the redox potential of the electrochromic material. On the other hand, a large potential difference places a large load on the electrolyte between the electrodes. It will be over. Therefore, the electrolyte is deteriorated and there is a problem in durability.

これに対して、本実施の形態に係るエレクトロクロミック素子1では、前述のように第1の補助電極17及び第2の補助電極19の2つの補助電極を具備し、かつ、夫々に可逆的に酸化還元反応する物質を含む酸化層20及び還元層21を設けている。そのため、エレクトロクロミック化合物や電解質の劣化を抑制できる。これは、補助電極として1つ或いは1種の電極のみを用いる従来の構成では実現できない原理である。   On the other hand, the electrochromic element 1 according to the present embodiment includes the two auxiliary electrodes, the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 as described above, and is reversibly reversible. An oxide layer 20 and a reduction layer 21 containing a substance that undergoes a redox reaction are provided. Therefore, deterioration of the electrochromic compound and the electrolyte can be suppressed. This is a principle that cannot be realized by the conventional configuration using only one or one kind of electrode as the auxiliary electrode.

(第2の駆動方法)
本実施の形態に係るエレクトロクロミック素子1の第2の駆動方法は、まず、第1の電極12と第1の補助電極17との間、又は第2の電極13と第2の補助電極19との間に電圧を印加して電荷を放電する工程を行う。そして、次に、更に第1の補助電極17と第2の補助電極19との間に電圧を印加して電荷を放電する工程を行い、第1の電極12又は第2の電極13上のエレクトロクロミック化合物又はエレクトロクロミック組成物を元の色に戻す。
(Second driving method)
In the second driving method of the electrochromic device 1 according to the present embodiment, first, between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 or between the second electrode 13 and the second auxiliary electrode 19, A step of discharging a charge by applying a voltage between is performed. Next, a process of discharging a charge by applying a voltage between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 is performed, and the electrolysis on the first electrode 12 or the second electrode 13 is performed. Return the chromic compound or electrochromic composition to its original color.

第1の電極12と第1の補助電極17との間、又は第2の電極13と第2の補助電極19との間に電圧を印加して第1の電極12又は第2の電極13上の消え残りを消色する際には、以下の点に注意を要する。すなわち、第1の補助電極17又は第2の補助電極19でエレクトロクロミック化合物や電解質の不可逆な反応を起こさないようにする必要がある。そのためには、第1の電極12又は第2の電極13上の消え残りとして保持されている電荷量よりも大きな電荷量を予め第1の補助電極17と第2の補助電極19との間に充電しておく必要がある。   On the first electrode 12 or the second electrode 13 by applying a voltage between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 or between the second electrode 13 and the second auxiliary electrode 19. The following points should be noted when erasing the remaining part of. That is, it is necessary to prevent the irreversible reaction of the electrochromic compound or the electrolyte with the first auxiliary electrode 17 or the second auxiliary electrode 19. For this purpose, a charge amount larger than the charge amount retained as the unerased residue on the first electrode 12 or the second electrode 13 is previously placed between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19. It needs to be charged.

しかし、一方で、予め充電しておく電荷量が消え残りの電荷量よりも大きい。そのため、第1の電極12と第1の補助電極17との間、又は第2の電極13と第2の補助電極19との間に電圧を印加して第1の電極12又は第2の電極13上の消え残りを消色した際に、次のような問題が生じる。すなわち、第1の補助電極17又は第2の補助電極19上の電荷量は0にならず、余分な電荷が残ってしまう。   However, on the other hand, the charge amount charged in advance is larger than the remaining charge amount. Therefore, a voltage is applied between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 or between the second electrode 13 and the second auxiliary electrode 19 to apply the first electrode 12 or the second electrode. The following problem arises when the unerasing residue on 13 is erased. That is, the amount of charge on the first auxiliary electrode 17 or the second auxiliary electrode 19 does not become zero, and extra charge remains.

エレクトロクロミック素子1はある程度のメモリ性を持っているものの、完全ではない。そのため、時間の経過とともに第1の補助電極17又は第2の補助電極19上の電荷はなくなっていくが、その間は高電圧が印加されている状態であり、エレクトロクロミック化合物や電解質の劣化が起こってしまう。   Although the electrochromic element 1 has a certain degree of memory, it is not perfect. Therefore, the electric charge on the first auxiliary electrode 17 or the second auxiliary electrode 19 disappears with the passage of time, but a high voltage is applied during that time, and the electrochromic compound and the electrolyte deteriorate. End up.

そこで、第1の電極12と第1の補助電極17との間、又は第2の電極13と第2の補助電極19との間に電圧を印加して第1の電極12又は第2の電極13上の消え残りを消色した後に、第1の補助電極17と第2の補助電極19との間に電圧を印加して電荷を放電する。これにより、第1の補助電極17又は第2の補助電極19上の電荷を可能な限り少なくすることが可能となり、エレクトロクロミック化合物や電解質の劣化を抑制できる。   Therefore, a voltage is applied between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 or between the second electrode 13 and the second auxiliary electrode 19 to apply the first electrode 12 or the second electrode. After erasing the disappearance remaining on 13, a voltage is applied between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 to discharge the charge. As a result, the charge on the first auxiliary electrode 17 or the second auxiliary electrode 19 can be reduced as much as possible, and deterioration of the electrochromic compound or the electrolyte can be suppressed.

このように、エレクトロクロミック素子1は、消え残りが少なく耐久性に優れている。そのため、例えば、エレクトロクロミックディスプレイ、株価の表示板等の大型表示板、防眩ミラー、調光ガラス等の調光素子、タッチパネル式キースイッチ等の低電圧駆動素子、光スイッチ、光メモリ、電子ペーパー、電子アルバム等に好適に使用できる。   As described above, the electrochromic element 1 has less disappearance and is excellent in durability. Therefore, for example, electrochromic displays, large display boards such as stock price display boards, anti-glare mirrors, dimmer elements such as dimmer glass, low-voltage drive elements such as touch panel key switches, optical switches, optical memories, electronic paper, It can be suitably used for electronic albums and the like.

以下、本発明の実施例について説明するが、本発明は下記実施例に何ら限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited to the following examples.

〈実施例1〉
(第1のエレクトロクロミック層14の形成)
まず、第1の支持体10であるガラス基板上に、第1の電極12であるITOが形成されたITOガラス基板(40mm×40mm、厚み0.7mm、ITO膜厚:約100nm)を準備した。そして、ポリエチレングリコールジアクリレート(日本化薬、PEG400DA)と、光開始剤(BASF、IRGACURE184)と、構造式Aで表される化合物と2−ブタノンを質量比(57:3:140:800)で混合した溶液を生成した。その後、生成した溶液をITOガラス基板上にスピンコート法により塗布し、窒素雰囲気下でUV硬化させて第1の電極12上に構造式Aで表される化合物を含む厚み1.1μmの第1のエレクトロクロミック層14を形成した。
<Example 1>
(Formation of the first electrochromic layer 14)
First, an ITO glass substrate (40 mm × 40 mm, thickness 0.7 mm, ITO film thickness: about 100 nm) in which ITO as the first electrode 12 was formed on the glass substrate as the first support 10 was prepared. . Then, polyethylene glycol diacrylate (Nippon Kayaku, PEG400DA), photoinitiator (BASF, IRGACURE184), the compound represented by the structural formula A and 2-butanone in a mass ratio (57: 3: 140: 800). A mixed solution was produced. Thereafter, the produced solution is applied onto an ITO glass substrate by a spin coating method, UV-cured in a nitrogen atmosphere, and the first electrode 12 having a thickness of 1.1 μm containing the compound represented by the structural formula A is formed on the first electrode 12. The electrochromic layer 14 was formed.

Figure 2017015758
(絶縁性多孔質層16の形成)
次に、第1のエレクトロクロミック層14上に平均一次粒径20nmのSiO微粒子分散液(シリカ固形分濃度24.8質量%、ポリビニルアルコール1.2質量%、及び水74質量%)をスピンコート法にて塗布し、絶縁性多孔質層16を形成した。形成した絶縁性多孔質層16の厚みは約2μmであった。
Figure 2017015758
(Formation of insulating porous layer 16)
Next, a SiO 2 fine particle dispersion (silica solid content concentration 24.8 mass%, polyvinyl alcohol 1.2 mass%, and water 74 mass%) having an average primary particle diameter of 20 nm is spun onto the first electrochromic layer 14. The insulating porous layer 16 was formed by coating by a coating method. The thickness of the formed insulating porous layer 16 was about 2 μm.

(第1の補助電極17の形成)
次に、絶縁性多孔質層16上に、平均一次粒径450nmのSiO微粒子分散液(シリカ固形分濃度1質量%、2−プロパノール99質量%)をスピンコート法により塗布して、微細貫通孔形成用マスク(コロイダルマスク)を形成した。続いて、微細貫通孔形成用マスク上にスパッタ法により厚み約100nmのITO膜を、第1の電極12であるITO膜と重なる領域にメタルマスクを介して形成し、第1の補助電極17を作製した。その後、2−プロパノール中で超音波照射を3分間行い、コロイダルマスクである450nmのSiO微粒子の除去処理を行った。SEM観察により250nm程度の微細な貫通孔が形成された第1の補助電極17が形成されていることを確認した。
(Formation of the first auxiliary electrode 17)
Next, an SiO 2 fine particle dispersion liquid (silica solid content concentration 1 mass%, 2-propanol 99 mass%) having an average primary particle diameter of 450 nm is applied on the insulating porous layer 16 by a spin coating method to finely penetrate. A hole forming mask (colloidal mask) was formed. Subsequently, an ITO film having a thickness of about 100 nm is formed on the fine through-hole forming mask by a sputtering method in a region overlapping with the ITO film as the first electrode 12 through the metal mask, and the first auxiliary electrode 17 is formed. Produced. Thereafter, ultrasonic irradiation was performed in 2-propanol for 3 minutes to remove 450 nm SiO 2 fine particles as a colloidal mask. It was confirmed by SEM observation that the first auxiliary electrode 17 having a fine through hole of about 250 nm was formed.

(酸化層20の形成)
次に、第1の補助電極17上に、酸化チタンナノ粒子分散液(商品名:SP210、昭和タイタニウム株式会社製、平均粒子径:約20nm)をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。次いで、下記構造式B表される化合物を1質量%含有するメタノール溶液をスピンコート法により塗布し、120℃で10分間のアニール処理を行った。以上により、可逆的に酸化還元可能な物質の酸化体を含む酸化層20を形成した。
(Formation of oxide layer 20)
Next, a titanium oxide nanoparticle dispersion (trade name: SP210, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average particle size: about 20 nm) was applied on the first auxiliary electrode 17 by a spin coating method. And the nanostructure semiconductor material which consists of a titanium oxide particle film of about 1.0 micrometer was formed by performing an annealing process for 15 minutes at 120 degreeC. Next, a methanol solution containing 1% by mass of a compound represented by the following structural formula B was applied by spin coating, and annealed at 120 ° C. for 10 minutes. Thus, the oxide layer 20 containing an oxidant of a substance that can be reversibly oxidized and reduced was formed.

Figure 2017015758
(第2のエレクトロクロミック層15、絶縁性多孔質層18の形成)
まず、第2の支持体11であるガラス基板上に、第2の電極13であるITOが形成されたITOガラス基板(40mm×40mm、厚み0.7mm、ITO膜厚:約100nm)を準備した。そして、第2の電極13上に、酸化チタンナノ粒子分散液(商品名:SP210、昭和タイタニウム株式会社製、平均粒子径:約20nm)をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。
Figure 2017015758
(Formation of second electrochromic layer 15 and insulating porous layer 18)
First, an ITO glass substrate (40 mm × 40 mm, thickness 0.7 mm, ITO film thickness: about 100 nm) in which ITO as the second electrode 13 was formed on the glass substrate as the second support 11 was prepared. . Then, a titanium oxide nanoparticle dispersion (trade name: SP210, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average particle size: about 20 nm) was applied on the second electrode 13 by a spin coating method. And the nanostructure semiconductor material which consists of a titanium oxide particle film of about 1.0 micrometer was formed by performing an annealing process for 15 minutes at 120 degreeC.

次いで、得られた酸化チタン粒子膜上に、下記構造式Cで表されるエレクトロクロミック化合物を1質量%含有する2,2,3,3−テトラフロロプロパノール(以下、「TFP」と略記する)溶液をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で10分間のアニール処理を行った。以上により、酸化チタン粒子膜とエレクトロクロミック化合物からなる第2のエレクトロクロミック層15を形成した。   Next, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol (hereinafter abbreviated as “TFP”) containing 1% by mass of an electrochromic compound represented by the following structural formula C on the obtained titanium oxide particle film. The solution was applied by spin coating. And the annealing process for 10 minutes was performed at 120 degreeC. Thus, the second electrochromic layer 15 made of the titanium oxide particle film and the electrochromic compound was formed.

Figure 2017015758
続いて、第2のエレクトロクロミック層15上に平均一次粒径20nmのSiO微粒子分散液(シリカ固形分濃度24.8質量%、ポリビニルアルコール1.2質量%、及び水74質量%)をスピンコート法にて塗布し、絶縁性多孔質層18を形成した。形成した絶縁性多孔質層18の厚みは約2μmであった。
Figure 2017015758
Subsequently, a SiO 2 fine particle dispersion liquid (silica solid content concentration 24.8 mass%, polyvinyl alcohol 1.2 mass%, and water 74 mass%) having an average primary particle diameter of 20 nm is spun onto the second electrochromic layer 15. The insulating porous layer 18 was formed by coating by a coating method. The thickness of the formed insulating porous layer 18 was about 2 μm.

(第2の補助電極19の形成)
次に、絶縁性多孔質層18上に、平均一次粒径450nmのSiO微粒子分散液(シリカ固形分濃度1質量%、2−プロパノール99質量%)をスピンコート法により塗布して、微細貫通孔形成用マスク(コロイダルマスク)を形成した。続いて、微細貫通孔形成用マスク上にスパッタ法により厚み約100nmのITO膜を、第2の電極13であるITO膜と重なる領域にメタルマスクを介して形成し、第2の補助電極19を作製した。その後、2−プロパノール中で超音波照射を3分間行い、コロイダルマスクである450nmのSiO微粒子の除去処理を行った。SEM観察により250nm程度の微細な貫通孔が形成された第2の補助電極19が形成されていることを確認した。
(Formation of the second auxiliary electrode 19)
Next, an SiO 2 fine particle dispersion liquid (silica solid content concentration 1 mass%, 2-propanol 99 mass%) having an average primary particle diameter of 450 nm is applied on the insulating porous layer 18 by a spin coating method to finely penetrate. A hole forming mask (colloidal mask) was formed. Subsequently, an ITO film having a thickness of about 100 nm is formed on the fine through-hole forming mask by a sputtering method in a region overlapping with the ITO film as the second electrode 13 through the metal mask, and the second auxiliary electrode 19 is formed. Produced. Thereafter, ultrasonic irradiation was performed in 2-propanol for 3 minutes to remove 450 nm SiO 2 fine particles as a colloidal mask. It was confirmed by SEM observation that the second auxiliary electrode 19 having a fine through hole of about 250 nm was formed.

(還元層21の形成)
次に、第2の補助電極19上に、酸化チタンナノ粒子分散液(商品名:SP210、昭和タイタニウム株式会社製、平均粒子径:約20nm)をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。次いで、下記構造式Dで表される化合物を1質量%含有するメタノール溶液をスピンコート法により塗布し、120℃で10分間のアニール処理を行った。以上により、可逆的に酸化還元可能な物質の還元体を含む還元層21を形成した。
(Formation of the reduced layer 21)
Next, a titanium oxide nanoparticle dispersion (trade name: SP210, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average particle size: about 20 nm) was applied on the second auxiliary electrode 19 by a spin coating method. And the nanostructure semiconductor material which consists of a titanium oxide particle film of about 1.0 micrometer was formed by performing an annealing process for 15 minutes at 120 degreeC. Next, a methanol solution containing 1% by mass of a compound represented by the following structural formula D was applied by spin coating, and annealed at 120 ° C. for 10 minutes. As described above, the reduction layer 21 containing the reductant of the substance that can be reversibly oxidized and reduced was formed.

Figure 2017015758
(電解質の充填)
このようにして、第1の電極12、第1のエレクトロクロミック層14、絶縁性多孔質層16、第1の補助電極17、及び酸化層20が形成された第1の支持体10が作製された。又、第2の電極13、第2のエレクトロクロミック層15、及び第2の補助電極19、及び還元層21が形成された第2の支持体11が作製された。これらを第1の支持体10及び第2の支持体11を外側に向けて、約100μmのスペーサを設けて貼り合せた。そして、第1の支持体10と第2の支持体11との間に、電解質として電解液:1−エチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメチルスルホニル)イミド(Sigma−Aldrich社製)を充填した。以上によりエレクトロクロミック素子1Aを作製した。
Figure 2017015758
(Electrolyte filling)
Thus, the 1st support body 10 in which the 1st electrode 12, the 1st electrochromic layer 14, the insulating porous layer 16, the 1st auxiliary electrode 17, and the oxide layer 20 were formed is produced. It was. In addition, the second support 11 on which the second electrode 13, the second electrochromic layer 15, the second auxiliary electrode 19, and the reduction layer 21 were formed was produced. These were bonded together with a spacer of about 100 μm provided with the first support 10 and the second support 11 facing outward. And between the 1st support body 10 and the 2nd support body 11, electrolyte solution: 1-ethyl-3-methylimidazolium bis (trifluoromethylsulfonyl) imide (made by Sigma-Aldrich) is used as electrolyte. Filled. Thus, an electrochromic element 1A was produced.

(繰り返し試験)
作製したエレクトロクロミック素子1Aについて、表示部である第1の電極12と第2の電極13との間に発色時−2Vの電圧を5秒、消色時+0.5Vの電圧を5秒印加して発消色駆動を500回繰り返した。その後、消え残りが生じている場合は第1の電極12と第1の補助電極17との間及び第2の補助電極19と第2の電極13との間に+1Vの電圧を夫々印加して消え残りを消色した。
(Repeated test)
For the produced electrochromic element 1A, a voltage of −2 V is applied for 5 seconds during color development and a voltage of +0.5 V for 5 seconds is applied between the first electrode 12 and the second electrode 13 serving as a display portion for 5 seconds. The color-decoloring driving was repeated 500 times. After that, in the case where the disappearance remains, a voltage of +1 V is applied between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 and between the second auxiliary electrode 19 and the second electrode 13, respectively. Disappearance was erased.

そして、その際の可視領域(400nm〜800nm)の吸収極大波長λmaxについて表示領域の中心の透過率をOcean Optics社製、USB4000で測定し、透過率が初期状態の95%以上に戻るまでの時間を計測した。更に、この試験を10回連続して行い、合計5000回繰り返し試験を行った。このとき消え残りの消色駆動を60秒行っても透過率が初期状態の95%以上に戻らなくなった繰り返し回数を計測した。なお、繰り返し試験において、電極Aと電極Bとの間に○○Vの電圧を印加するとは、電極Aの電位に対して○○Vの電位となるように電極Bに電圧を印加するという意味である。   And the transmittance | permeability of the center of a display area is measured by Ocean Optics, USB4000 about the absorption maximum wavelength (lambda) max of the visible region (400 nm-800 nm) in that case, and time until transmittance | permeability returns to 95% or more of an initial state Was measured. Furthermore, this test was continuously performed 10 times, and the test was repeated 5000 times in total. At this time, the number of repetitions in which the transmittance did not return to 95% or more of the initial state even when the unerased erasing drive was performed for 60 seconds was measured. In the repeated test, applying a voltage of OOV between the electrode A and the electrode B means applying a voltage to the electrode B so that the potential of the electrode A is XXV. It is.

〈実施例2〉
(第1のエレクトロクロミック層14の形成)
第1の電極12上に、酸化チタンナノ粒子分散液(商品名:SP210、昭和タイタニウム株式会社製、平均粒子径:約20nm)をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。
<Example 2>
(Formation of the first electrochromic layer 14)
A titanium oxide nanoparticle dispersion (trade name: SP210, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average particle size: about 20 nm) was applied on the first electrode 12 by a spin coating method. And the nanostructure semiconductor material which consists of a titanium oxide particle film of about 1.0 micrometer was formed by performing an annealing process for 15 minutes at 120 degreeC.

次いで、得られた酸化チタン粒子膜上に、下記構造式Eで表されるエレクトロクロミック化合物を1質量%含有する2,2,3,3−テトラフロロプロパノール(以下、「TFP」と略記する)溶液をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で10分間のアニール処理を行った。以上により、酸化チタン粒子膜とエレクトロクロミック化合物からなる第1のエレクトロクロミック層14を形成した。これ以外は実施例1と同様にして、エレクトロクロミック素子1Bを作製し、実施例1と同様の繰り返し試験を実施した。   Next, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol (hereinafter abbreviated as “TFP”) containing 1% by mass of an electrochromic compound represented by the following structural formula E on the obtained titanium oxide particle film. The solution was applied by spin coating. And the annealing process for 10 minutes was performed at 120 degreeC. Thus, the first electrochromic layer 14 made of the titanium oxide particle film and the electrochromic compound was formed. Except for this, an electrochromic element 1B was produced in the same manner as in Example 1, and the same repeated test as in Example 1 was performed.

Figure 2017015758
〈実施例3〉
第1の支持体10の第1の電極12上に、第1のエレクトロクロミック層14、絶縁性多孔質層16、第1の補助電極17、酸化層20を実施例1と同様に作製した。続いて、第2の電極13上に、酸化チタンナノ粒子分散液(商品名:SP210、昭和タイタニウム株式会社製、平均粒子径:約20nm)をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、約1.0μmの酸化チタン粒子膜からなるナノ構造半導体材料を形成した。
Figure 2017015758
<Example 3>
On the 1st electrode 12 of the 1st support body 10, the 1st electrochromic layer 14, the insulating porous layer 16, the 1st auxiliary electrode 17, and the oxidation layer 20 were produced similarly to Example 1. FIG. Subsequently, a titanium oxide nanoparticle dispersion (trade name: SP210, manufactured by Showa Titanium Co., Ltd., average particle size: about 20 nm) was applied on the second electrode 13 by a spin coating method. And the nanostructure semiconductor material which consists of a titanium oxide particle film of about 1.0 micrometer was formed by performing an annealing process for 15 minutes at 120 degreeC.

次いで、得られた酸化チタン粒子膜上に、下記構造式Fで表されるエレクトロクロミック化合物を1質量%含有する2,2,3,3−テトラフロロプロパノール(以下、「TFP」と略記する)溶液をスピンコート法により塗布した。そして、120℃で10分間のアニール処理を行った。以上により、酸化チタン粒子膜とエレクトロクロミック化合物からなる第2のエレクトロクロミック層15を形成した。これ以外は実施例1と同様にして、エレクトロクロミック素子1Cを作製し、実施例1と同様の繰り返し試験を実施した。   Next, 2,2,3,3-tetrafluoropropanol (hereinafter abbreviated as “TFP”) containing 1% by mass of an electrochromic compound represented by the following structural formula F on the obtained titanium oxide particle film. The solution was applied by spin coating. And the annealing process for 10 minutes was performed at 120 degreeC. Thus, the second electrochromic layer 15 made of the titanium oxide particle film and the electrochromic compound was formed. Except for this, an electrochromic element 1C was produced in the same manner as in Example 1, and the same repeated test as in Example 1 was performed.

Figure 2017015758
〈実施例4〉
第1の支持体10の第1の電極12上に、第1のエレクトロクロミック層14、絶縁性多孔質層16、第1の補助電極17、酸化層20を実施例1と同様に作製した。続いて、第2の支持体11の第2の電極13上に、第2のエレクトロクロミック層15、絶縁性多孔質層18、第2の補助電極19、還元層21を実施例2と同様に作製した。これ以外は実施例1と同様にして、エレクトロクロミック素子1Dを作製し、実施例1と同様の繰り返し試験を実施した。
Figure 2017015758
<Example 4>
On the 1st electrode 12 of the 1st support body 10, the 1st electrochromic layer 14, the insulating porous layer 16, the 1st auxiliary electrode 17, and the oxidation layer 20 were produced similarly to Example 1. FIG. Subsequently, the second electrochromic layer 15, the insulating porous layer 18, the second auxiliary electrode 19, and the reducing layer 21 are formed on the second electrode 13 of the second support 11 in the same manner as in the second embodiment. Produced. Except for this, an electrochromic element 1D was produced in the same manner as in Example 1, and the same repeated test as in Example 1 was performed.

〈実施例5〉
実施例1と同様にしてエレクトロクロミック素子1Eを作製し、以下の繰り返し試験を実施した。
<Example 5>
An electrochromic element 1E was produced in the same manner as in Example 1, and the following repeated tests were performed.

(繰り返し試験)
作製したエレクトロクロミック素子1Eについて、表示部である第1の電極12と第2の電極13との間に発色時−2Vの電圧を5秒、消色時+0.5Vの電圧を5秒印加して発消色駆動を500回繰り返した。その後、消え残りが生じている場合は、まず第1の補助電極17と第2の補助電極19との間に−2Vの電圧を1秒印加した。更に、第1の電極12と第1の補助電極17との間及び第2の補助電極19と第2の電極13との間に+1Vの電圧を夫々印加して消え残りを消色した。その他は実施例1と同様にして繰り返し試験を行った。
(Repeated test)
For the produced electrochromic element 1E, a voltage of −2 V is applied for 5 seconds during color development and a voltage of +0.5 V for 5 seconds is applied between the first electrode 12 and the second electrode 13 which are display portions for 5 seconds. The color-decoloring driving was repeated 500 times. After that, in the case where the disappearance remained, first, a voltage of −2 V was applied between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 for 1 second. Further, a voltage of +1 V was applied between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 and between the second auxiliary electrode 19 and the second electrode 13 to erase the remaining color. The other tests were repeated in the same manner as in Example 1.

〈実施例6〉
実施例1と同様にしてエレクトロクロミック素子1Fを作製し、以下の繰り返し試験を実施した。
<Example 6>
An electrochromic element 1F was produced in the same manner as in Example 1, and the following repeated tests were performed.

(繰り返し試験)
作製したエレクトロクロミック素子1Fについて、表示部である第1の電極12と第2の電極13との間に発色時−2Vの電圧を5秒、消色時+0.5Vの電圧を5秒印加して発消色駆動を500回繰り返した。その後、消え残りが生じている場合は、まず第1の補助電極17と第2の補助電極19との間に−2Vの電圧を1秒印加した。その後に、第1の電極12と第1の補助電極17との間及び第2の補助電極19と第2の電極13との間に+1Vの電圧を夫々印加して消え残りを消色した。更に、第1の補助電極17と第2の補助電極19との間に+0.5Vの電圧を1秒印加した。その他は実施例1と同様にして繰り返し試験を行った。
(Repeated test)
For the produced electrochromic element 1F, a voltage of −2 V is applied for 5 seconds during color development and a voltage of +0.5 V for 5 seconds is applied between the first electrode 12 and the second electrode 13 which are display portions for 5 seconds. The color-decoloring driving was repeated 500 times. After that, in the case where the disappearance remained, first, a voltage of −2 V was applied between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 for 1 second. Thereafter, a voltage of +1 V was applied between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 and between the second auxiliary electrode 19 and the second electrode 13 to erase the remaining color. Further, a voltage of +0.5 V was applied between the first auxiliary electrode 17 and the second auxiliary electrode 19 for 1 second. The other tests were repeated in the same manner as in Example 1.

〈比較例〉
第1の補助電極17上に酸化層20を形成せず、第2の補助電極19上に還元層21を形成しなかった。これ以外は実施例1と同様にして、エレクトロクロミック素子1Gを作製し、実施例1と同様の繰り返し試験を実施した。
<Comparative example>
The oxide layer 20 was not formed on the first auxiliary electrode 17, and the reduction layer 21 was not formed on the second auxiliary electrode 19. Except for this, an electrochromic device 1G was produced in the same manner as in Example 1, and the same repeated test as in Example 1 was performed.

〈実施例と比較例の検討〉
実施例1〜6と比較例における繰り返し試験の結果を表2に示す。
<Examination of Examples and Comparative Examples>
Table 2 shows the results of repeated tests in Examples 1 to 6 and the comparative example.

Figure 2017015758
表2より、比較例では第1の電極12と第1の補助電極17との間及び第2の補助電極19と第2の電極13との間に+1Vの電圧を夫々60秒ずつ印加しても透過率が初期状態の95%以上に戻らなかった。これに対して、実施例1〜6では、少なくとも3000回の繰り返し回数を確保できている。
Figure 2017015758
From Table 2, in the comparative example, a voltage of +1 V was applied for 60 seconds between the first electrode 12 and the first auxiliary electrode 17 and between the second auxiliary electrode 19 and the second electrode 13 respectively. However, the transmittance did not return to 95% or more of the initial state. On the other hand, in Examples 1-6, the number of repetitions of at least 3000 times can be secured.

このように、実施例1〜6のエレクトロクロミック素子及びその駆動方法では、酸化型エレクトロクロミック材料及び還元型エレクトロクロミック材料の両方の消え残りを十分かつ速やかに消色可能であることが分かった。   Thus, it was found that the electrochromic elements of Examples 1 to 6 and the driving method thereof can sufficiently and quickly erase the disappearance of both the oxidized electrochromic material and the reduced electrochromic material.

以上、好ましい実施の形態及び実施例について詳説したが、上述した実施の形態及び実施例に制限されることはなく、特許請求の範囲に記載された範囲を逸脱することなく、上述した実施の形態及び実施例に種々の変形及び置換を加えることができる。   The preferred embodiments and examples have been described in detail above, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples, and the above-described embodiments are not deviated from the scope described in the claims. Various modifications and substitutions can be made to the embodiments.

1 エレクトロクロミック素子
10 第1の支持体
11 第2の支持体
12 第1の電極
13 第2の電極
14 第1のエレクトロクロミック層
15 第2のエレクトロクロミック層
16、18、22 絶縁性多孔質層
17 第1の補助電極
19 第2の補助電極
20 酸化層
21 還元層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electrochromic element 10 1st support body 11 2nd support body 12 1st electrode 13 2nd electrode 14 1st electrochromic layer 15 2nd electrochromic layer 16, 18, 22 Insulating porous layer 17 1st auxiliary electrode 19 2nd auxiliary electrode 20 Oxidation layer 21 Reduction layer

特開平4−60617号公報JP-A-4-60617 特開昭59−159134号公報JP 59-159134 A

Claims (7)

間隔を置いて互いに対向して設けられ、少なくとも一方が透明である第1の電極及び第2の電極と、
前記第1の電極の前記第2の電極側の面に設けられた、酸化型エレクトロクロミック化合物と酸化型エレクトロクロミック組成物の何れか一方又は双方を含む第1のエレクトロクロミック層と、
前記第2の電極の前記第1の電極側の面に設けられた、還元型エレクトロクロミック化合物と還元型エレクトロクロミック組成物の何れか一方又は双方を含む第2のエレクトロクロミック層と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に設けられた電解質と、
前記第1の電極と前記第2の電極との間に間隔を置いて設けられ、前記電解質に接する、貫通孔を備えた第1の補助電極及び貫通孔を備えた第2の補助電極と、
前記第1の補助電極の表面に設けられた、可逆的に酸化還元可能な物質の還元体を含む還元層と、
前記第2の補助電極の表面に設けられた、可逆的に酸化還元可能な物質の酸化体を含む酸化層と、を有し、
前記還元層及び前記酸化層が酸化還元反応の前後において透明であるエレクトロクロミック素子。
A first electrode and a second electrode which are provided facing each other at an interval and at least one of which is transparent;
A first electrochromic layer including one or both of an oxidized electrochromic compound and an oxidized electrochromic composition provided on a surface of the first electrode on the second electrode side;
A second electrochromic layer containing either one or both of a reduced electrochromic compound and a reduced electrochromic composition provided on the first electrode side surface of the second electrode;
An electrolyte provided between the first electrode and the second electrode;
A first auxiliary electrode having a through-hole and a second auxiliary electrode having a through-hole, which are provided between the first electrode and the second electrode and are in contact with the electrolyte;
A reduction layer provided on the surface of the first auxiliary electrode, containing a reductant of a substance that can be reversibly oxidized and reduced; and
An oxide layer provided on the surface of the second auxiliary electrode and containing an oxidant of a reversibly oxidizable substance,
An electrochromic device in which the reduction layer and the oxidation layer are transparent before and after the oxidation-reduction reaction.
前記貫通孔の直径は、10nm以上100μm以下である請求項1に記載のエレクトロクロミック素子。   The electrochromic device according to claim 1, wherein a diameter of the through hole is 10 nm or more and 100 μm or less. 前記第1の補助電極と前記第2の補助電極とは、互いに対向して設けられている請求項1又は2に記載のエレクトロクロミック素子。   The electrochromic device according to claim 1, wherein the first auxiliary electrode and the second auxiliary electrode are provided to face each other. 前記可逆的に酸化還元可能な物質は、導電性又は半導体性ナノ構造体に担持されている請求項1乃至3の何れか一項に記載のエレクトロクロミック素子。   The electrochromic device according to any one of claims 1 to 3, wherein the reversibly redox material is supported on a conductive or semiconducting nanostructure. 前記可逆的に酸化還元可能な物質は、前記導電性又は前記半導体性ナノ構造体に吸着する吸着基構造を具備している請求項4に記載のエレクトロクロミック素子。   The electrochromic device according to claim 4, wherein the reversibly oxidizable substance has an adsorbing group structure that adsorbs to the conductive or semiconducting nanostructure. 請求項1乃至5の何れか一項に記載のエレクトロクロミック素子の駆動方法であって、
前記第1の補助電極と前記第2の補助電極との間に電圧を印加して電荷を充電する工程の次に、前記第1の電極と前記第1の補助電極との間又は前記第2の電極と前記第2の補助電極との間に電圧を印加して電荷を放電する工程を行い、前記第1のエレクトロクロミック層又は前記第2のエレクトロクロミック層を元の色に戻すことを特徴とするエレクトロクロミック素子の駆動方法。
A method for driving an electrochromic device according to any one of claims 1 to 5,
Next to the step of charging the charge by applying a voltage between the first auxiliary electrode and the second auxiliary electrode, between the first electrode and the first auxiliary electrode or the second auxiliary electrode. A step of discharging a charge by applying a voltage between the first electrode and the second auxiliary electrode to return the first electrochromic layer or the second electrochromic layer to the original color. A method for driving an electrochromic device.
請求項1乃至5の何れか一項に記載のエレクトロクロミック素子の駆動方法であって、
前記第1の電極と前記第1の補助電極との間又は前記第2の電極と前記第2の補助電極との間に電圧を印加して電荷を放電する工程の次に、更に前記第1の補助電極と前記第2の補助電極との間に電圧を印加して電荷を放電する工程を行い、前記第1のエレクトロクロミック層又は前記第2のエレクトロクロミック層を元の色に戻すことを特徴とするエレクトロクロミック素子の駆動方法。
A method for driving an electrochromic device according to any one of claims 1 to 5,
Following the step of applying a voltage between the first electrode and the first auxiliary electrode or between the second electrode and the second auxiliary electrode to discharge the charge, the first electrode is further added. Performing a step of discharging a charge by applying a voltage between the auxiliary electrode and the second auxiliary electrode to return the first electrochromic layer or the second electrochromic layer to the original color. A method for driving an electrochromic device, which is characterized.
JP2015128852A 2015-06-26 2015-06-26 Electrochromic device and driving method thereof Active JP6657615B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015128852A JP6657615B2 (en) 2015-06-26 2015-06-26 Electrochromic device and driving method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015128852A JP6657615B2 (en) 2015-06-26 2015-06-26 Electrochromic device and driving method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017015758A true JP2017015758A (en) 2017-01-19
JP6657615B2 JP6657615B2 (en) 2020-03-04

Family

ID=57830483

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015128852A Active JP6657615B2 (en) 2015-06-26 2015-06-26 Electrochromic device and driving method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6657615B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018138969A (en) * 2017-02-24 2018-09-06 株式会社カネカ Electrochromic device

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59159134A (en) * 1983-03-02 1984-09-08 Nissan Motor Co Ltd Electrochromic display element
JPS6180126A (en) * 1984-09-27 1986-04-23 Nissan Motor Co Ltd Variable transparency glass
JPH01211734A (en) * 1987-05-29 1989-08-24 Nissan Motor Co Ltd Electrochromic display body
JPH0365122U (en) * 1989-10-31 1991-06-25
JPH0460617A (en) * 1990-06-29 1992-02-26 Central Glass Co Ltd Electrochromic display body
US5446577A (en) * 1993-01-05 1995-08-29 Martin Marietta Corporation Electrode for display devices
US6211995B1 (en) * 1998-09-22 2001-04-03 Forkarpatent 1 Uppsala Ab Electrochromic device comprising tandem layers of cathodic/anodic materials
JP2014523000A (en) * 2011-06-30 2014-09-08 ユニバーシティー オブ フロリダ リサーチ ファウンデーション,インコーポレイテッド Multiple controlled electrochromic devices for visible and infrared modulation

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59159134A (en) * 1983-03-02 1984-09-08 Nissan Motor Co Ltd Electrochromic display element
JPS6180126A (en) * 1984-09-27 1986-04-23 Nissan Motor Co Ltd Variable transparency glass
JPH01211734A (en) * 1987-05-29 1989-08-24 Nissan Motor Co Ltd Electrochromic display body
JPH0365122U (en) * 1989-10-31 1991-06-25
JPH0460617A (en) * 1990-06-29 1992-02-26 Central Glass Co Ltd Electrochromic display body
US5446577A (en) * 1993-01-05 1995-08-29 Martin Marietta Corporation Electrode for display devices
US6211995B1 (en) * 1998-09-22 2001-04-03 Forkarpatent 1 Uppsala Ab Electrochromic device comprising tandem layers of cathodic/anodic materials
JP2014523000A (en) * 2011-06-30 2014-09-08 ユニバーシティー オブ フロリダ リサーチ ファウンデーション,インコーポレイテッド Multiple controlled electrochromic devices for visible and infrared modulation

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018138969A (en) * 2017-02-24 2018-09-06 株式会社カネカ Electrochromic device

Also Published As

Publication number Publication date
JP6657615B2 (en) 2020-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6597373B2 (en) Electrochromic element, display device and driving method thereof
JP5966526B2 (en) Method for manufacturing electrochromic display device
JP6318633B2 (en) Electrochromic display device and manufacturing method thereof
JP6323154B2 (en) ELECTROCHROMIC DISPLAY ELEMENT AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME, DISPLAY DEVICE, INFORMATION DEVICE, AND ELECTROCHROMIC Dimmer
JP6610023B2 (en) Electrochromic display device
JP6064761B2 (en) Electrochromic device and manufacturing method thereof
JP6003332B2 (en) Electrochromic device and manufacturing method thereof
JP2016027361A (en) Electrochromic display device, and manufacturing method and driving method of the same
JP2013254196A (en) Electrochromic display device
JP2015096879A (en) Electrochromic device and manufacturing method thereof
JP6171812B2 (en) Electrochromic display element, electrochromic dimming lens, display device, information device, and method for manufacturing electrochromic display element
JP2017026750A (en) Electrochromic device, light control glasses, and method for manufacturing the electrochromic device
JP6870288B2 (en) Electrochromic element
JP2016156930A (en) Electrochromic display element, display device, information appliance, manufacturing method for electrochromic display element, and electrochromic light control lens
WO2016203700A1 (en) Electrochromic element, display device and driving method thereof
JP6657615B2 (en) Electrochromic device and driving method thereof
JP2016024303A (en) Electrochromic device and method for manufacturing the same
JP2012123055A (en) Electrochromic display element
JP6244687B2 (en) Electrochromic display device
JP5994241B2 (en) Electrochromic display device
JP5445338B2 (en) Method for manufacturing electrochromic display element
JP2016133648A (en) Electrochromic device and manufacturing method thereof
WO2016002212A1 (en) Electrochromic display device
JP2017003806A (en) Electrochromic display element, display device, information equipment, manufacturing method of electrochromic display element, electrochromic lighting control lens
JP2019191579A (en) Electrochromic element and method for manufacturing electrochromic element

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180608

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20190517

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20190528

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190729

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200107

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200120

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6657615

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151