JP2016501087A - 異方性粒子を含むエナメルコーティング、およびかかるコーティングを備えた調理用品 - Google Patents

Abstract

本発明は、異方形状の粒子（４）が分散した少なくとも１つのエナメル層（３１）を含む保護コーティングに関し、層は、異方性粒子（４）が膜の形状のエナメル層（３１）に垂直な粒子（４１）を本質的に含む少なくとも１つの領域（５）を含む。本発明は、かかるコーティングを含む、例えば調理の用品、およびかかるコーティングの基板への塗布方法にも関係する。

Description

本発明は、一般に、（フレークまたは繊維タイプの）異方性粒子を組み込み、かつあらゆるタイプの基板、特に金属基板に使用できるエナメルコーティングを備えた用品に関する。

本発明は、かかるコーティングの支持体への塗布方法にも関する。

対象とされる分野は、主に加熱用品の分野である。

加熱用品とは、本発明の意味で、その固有の加熱システムを持つ用品か、または外部システムによって加熱され、かつこのシステムによって、用品と接触した第三の材料もしくは物体にもたらされる熱エネルギーを伝達できる用品、または、予め加熱された他の用品を受けるための用品を意味する。

本発明により使用可能な加熱用品の例として、（ソテー用フライパン、片手鍋、中華鍋、クレープ用フライパン、深鍋、寸胴鍋、ココット鍋のような）調理用品、または加熱する蓋、および食物もしくは飲み物の調製装置の加熱する混合ボウル（ｂｏｌｓ ｍｉｘｅｕｒｓ ｃｈａｕｆｆａｎｔｓ）が特に挙げられる。しかし、本発明は、皿敷きのような食卓用品、アイロンの底、カールヘアアイロン、およびストレートヘアアイロン（ｆｅｒ ａ ｌｉｓｓｅｒ）、ラジエータ、タオル掛けもしくは薪ストーブ、またはバーベキューのプレート、バーベキューの箱（ｃｏｆｆｒｅ ｄｅ ｂａｒｂｅｃｕｅ）もしくはバーベキューのタンク（ｃｕｖｅ ｄｅ ｂａｒｂｅｃｕｅ）、保温器のフードのような、あらゆる他のタイプの表面および用品にも関することができる。

エナメルコーティングは、加熱用品、特に調理用品の分野、およびアイロン、更に正確にはアイロンの底の分野において特に高く評価されている。

アイロンの底の場合に、コーティングの摩擦、熱および物理化学特性は、アイロンかけの容易さを保証するために、最も重要である。従って、エナメルコーティングは、それが良好な耐熱性、温度によってほとんど変化しない低い摩擦係数、親水性挙動、耐加水分解性を持つので、アイロンの底の金属カバーをコーティングするための理想的な妥協点である。（特にスチームアイロン、ドライアイロン、および蒸気発生器を含む）アイロンタイプへの応用のためのエナメルコーティングの欠点は、それらの低い耐衝撃性にある。実際に、特にコーティングが、取り扱いによって引き起こされる衝撃を受ける場合、エナメルがけカバーのコーティングされた縁部のレベルに（かつ特にはコーティングされたカバーの周囲に）エナメルの小さな破片が現れ得る。エナメルの小さな破片は、アイロンがけする布地に固定された金属部品（ボタン穴、スナップボタン、ファスナ・・・）に対する繰り返された接触によっても現れ得る。

エナメルコーティングは、それらが、食器洗い機に対する良好な耐性、高い難燃性および耐擦傷性だけでなく、多くの場合、消費者の選択において決定的な、最も重要な装飾的な外観も有する着色コーティングを得ることを可能にするので、調理用品の分野においても特に高く評価されている。しかしながら、それらは、調理用品の強い応力の領域である、特にもろいある種の領域のレベルで容易に剥落するという欠点を有する。これらの領域は、一般に、用品の湾曲領域、または取っ手との接続領域に位置する。

もろい領域として、調理用品に関して、キャップの底部および用品の側壁、もしくは滑らかで平坦な縁部を与えるために切り落とされた（研削された）用品の上縁部の間の接合領域、または取っ手の留め具を支持する領域（なぜなら、それは、固定要素の溶接に由来する変形を受け得るので）、バーナの金網と接触する底部が特に挙げられる。

その上、エナメルコーティングは、用品の底部のレベルで、炎の位置に応じて異なる熱膨張を有するという欠点も有する。しかるに、コーティングが均質な熱膨張を有することは、重要であり、さもなければ食器洗い機に対する耐性を害する微小なひび割れを発生させる。

上述の問題を回避するために、出願人は、フレーク、かつ更に一般には、もろい領域内に形成されたコーティングに本質的に垂直に配向された、異方形状の粒子を含むエナメルがけコーティングを開発した。

コーティングに本質的に垂直な粒子とは、本発明の意味で、コーティングの平均平面に対して２０°から９０°、好ましくは４５から９０°、かつより良好には、６０から９０°の角度αだけ大半が傾斜した粒子を意味する。

フレークのような粒子をエナメルタイプのコーティング中に組み込むことが当業者に知られている。このようにして、例えば特許文献１および特許文献２は、マイカまたは真珠層のフレークをエナメルコーティング中に組み込む調理用品用のエナメルコーティングを記載している。

その上、特許文献３および特許文献４は、顔料または充填材料を含むエナメルコーティングを用いたアイロンの底の装飾に関する。

仏国特許第２４７２５９６号明細書 仏国特許第８１３７３７号明細書 国際公開第２０１１／４２８８６号パンフレット 米国特許第３４８０４６１号明細書

しかしながら、これら参考文献のいずれも、コーティングの特定の領域における、特にその強化のためのこれらの粒子（フレーク、顔料または装填材料）の何らかの配向も、ましてやこの配向がこの領域のレベルで磁界の印加によって行われ得ることも記載していない。

更に特には、本発明は、少なくとも一方が保護コーティングで被覆されている、２つの対向する面を有する支持体を含む加熱用品であって、前記保護コーティングは、異方形状の粒子が分散した少なくとも１つのエナメル層を含み、エナメル層は、異方性粒子が、膜の形状のエナメル層に本質的に垂直な、少なくとも１つの領域を含むことを特徴とする加熱用品を対象とする。

異方形状の粒子は、好適には、エナメル層の総重量の０．０５から１０重量％、好ましくは０．１から７重量％、かつ更に良好には１から５重量％を占めることができる。理想的には、異方形状の粒子は、エナメル層（３１）の総重量の２から３重量％を占める。

粒子が本質的に垂直な領域において、剥落および衝撃に対する耐性は、明らかに改善される。その上、この領域は、コーティングの残りの部分の熱膨張と異なる熱膨張を有さない。

異方形状の粒子とは、本発明の意味で、例えば（本質的に一次元の形状の）繊維または（本質的に二次元または平坦な形状の）フレークのように、特徴的な大きさが、あらゆる方向において同一というわけではない粒子を意味する。

膜に本質的に垂直な粒子とは、本発明の意味で、膜の平均平面に対して２０°から９０°の角度αだけ大半が傾斜した粒子を意味する。

異方性粒子のかかる配向は、使用される異方性粒子のタイプに応じて、様々な方法で得ることができる。

このようにして、（繊維のように）機械的手段によって配向できる粒子の場合に、コーティング層に本質的に垂直な配向は、例えば、マイクロノズル（ｍｉｃｒｏｂｕｓｅ）のような単方向アプリケータを通した配向のように、コーティングの塗布方法に関連した位置決めの結果として、例えば生じ得る。

物理的（例えば電気的または磁気的）手段によって配向できる粒子の場合に、コーティング層に対する異方性粒子の本質的に垂直な配向は、例えば、磁界の影響下での磁化可能な粒子または電界の影響下での帯電性粒子の配向のように、連続した、またはコーティングの塗布と同時の位置決めの結果として生じ得る。

磁化可能な粒子とは、本発明の意味で、磁界の影響下で配向できる粒子を意味する。

磁化可能な粒子は、様々な性質で現れ得る。

本発明の枠内において、磁化可能な粒子は、好適には少なくとも１つの強磁性金属を含む粒子であり得る。

それらは、均質な性質であり得る、すなわち同じ材料で構成されるか、または複合の性質であり得る、すなわち磁化可能な粒子は、強磁性金属が前記粒子のコアおよび／または外被内にある、コア−外被構造を有する。

複合の磁化可能な粒子の例として、例えば（ＭＯ、Ｆｅ₂Ｏ₃）（式中、Ｍは、二価金属である）の形のフェライトで被覆されたマイカフレーク、例えばＦｅ₃Ｏ₄（マグネタイト）またはＦｅ₂Ｏ₃、またはＦｅＯで被覆されたマイカフレークのような、強磁性材料で被覆されたマイカフレークが特に挙げられる。強磁性を有する他の材料も使用できる。すなわち、例えばコバルト、ニッケル、または専ら非強磁性金属からなるホイスラー合金（６１％Ｃｕ、２４％Ｍｎ、１５％Ａｌ）、またはランタノイドのような幾つかの希土類、酸化銅−マンガンおよびアルミニウムが挙げられる。

被覆されたマイカフレークによって示される利点は、それらが金属に関するエナメルの高い焼成温度、すなわちアルミニウムに対するエナメルの５５０℃から、鋼鉄または鋳鋼に対するエナメルの８５０℃に及ぶ温度に特に良好に耐えることにある。その上、これらのマイカフレークは、加水分解によって得られたエナメルのスラリー（例えば１３のｐＨを有するアルミニウムに関するエナメルのスラリー）のアルカリ性に対するより良好な耐性を与える。コーティングの実施のステップの際に、腐食防止としてゾルゲル材料によって被覆されたステンレス鋼繊維、またはコアが強磁性金属製であり、かつ外被がゾルゲル材料製であるフレークも挙げられる。

本発明によるコーティングは、更に、好適には、コーティングの強化を改善するために、磁化不可能な粒子を含んでも良い。

磁化不可能な粒子とは、本発明の意味で、ゼロまたは僅かな（１ ｅｍｕ／ｇ未満）磁気モーメントを有する磁化不可能または僅かに磁化可能な粒子を意味する。

これらの磁化不可能な粒子は、マイクロメートル、更にはナノメートルのサイズの任意の（球形、繊維もしくはフレークまたは「不規則な」）形状であっても良い。

本発明の枠内で使用可能な磁化不可能な粒子として、マイカフレーク、および二酸化チタンで被覆されたマイカまたはシリカフレークが特に挙げられる。

本発明の保護コーティングは、更に、好適には、粒子が、エナメルコーティング層に本質的に垂直である領域に隣接して、粒子が、もろい領域を強化するように、膜の形状を呈するエナメル層に本質的に平行に、かつ／または無作為に配置されている少なくとも１つの領域を含んでも良い。

エナメルコーティング層に本質的に平行な粒子とは、本発明の意味で、コーティング層に対して０°から２０°の角度αだけ大半が傾斜した粒子を意味する。

粒子がエナメル層に本質的に平行に、かつ／または無作為に配置されている領域と、粒子がエナメル層に本質的に垂直である領域との交互の繰り返しは、使用者によって三次元装飾として知覚され得る装飾を画定することを可能にする。

本発明の特に好適な第１の実施形態によれば、本発明による保護コーティングのエナメル層は、連続し、かつ支持体上に配置されるための単一の層を含んでも良い。

本発明の特に好適な第２の実施形態によれば、本発明による保護コーティングのエナメル層は、
− 連続し、かつ支持体上に配置されるための、透明な、かつ磁化可能な粒子のない下層と、
− 磁化可能な粒子が分散した仕上げ層であって、連続し、かつ下層を部分的または完全に被覆する仕上げ層と
を含んでも良い。

仕上げ層とは、本発明の意味で、周囲と接触するための層を意味する。

本発明の特に好適な第３の実施形態によれば、本発明による保護コーティングのエナメル層は、
− 連続し、かつ支持体上に配置されるための、着色した、かつ磁化可能な粒子のない下層と、
− 磁化可能な粒子が分散した仕上げ層であって、連続し、かつ下層を部分的または完全に被覆する仕上げ層と
を含んでも良い。

本発明の特に好適な第４の実施形態によれば、本発明による保護コーティングのエナメル層は、
− 透明なまたは着色した、かつ磁化可能な粒子のない下層であって、連続し、かつ支持体上に配置されるための下層と、
− 磁化可能な粒子が分散した第１の仕上げ層であって、連続し、かつ下層を完全に被覆する第１の仕上げ層と、
− 磁化可能な粒子が同様に分散した第２の仕上げ層であって、連続し、かつ第１の仕上げ層を部分的または完全に被覆する第２の仕上げ層と
を含んでも良い。

本発明の特に好適な第５の実施形態によれば、本発明による保護コーティングのエナメル層は、
− 磁化可能な粒子が分散した、着色した下層であって、連続し、かつ支持体上に配置されるための着色した下層と、
− 磁化可能な粒子が同様に分散した透明な仕上げ層であって、連続し、かつ着色した下層を部分的または完全に被覆する仕上げ層と
を含んでも良い。

かかる実施形態は、各層および各層の間の機械的連結を機械的に強化する利点を有する。

好適には、少なくとも２つの層を有する実施形態（第２から第５の実施形態）に関して、下層は、５から３０μｍの厚さを有しても良く、かつ仕上げ層は、２０から６０μｍの厚さを有しても良い。

本発明の特に好適な第６の実施形態によれば、本発明による保護コーティングは、
− エナメル層であって、
・ 磁化可能な粒子のない、かつ透明なまたは着色した下層であって、連続し、かつ支持体上に配置されるための下層と、
・ 着色した層であるか、磁化可能な粒子（４１）が分散した磁化可能な層である少なくとも１つの中央の層（３１３）であって、連続し、かつ前記下層（３１０）を部分的または完全に被覆する中央の層（３１３）と
を含むエナメル層と、
− 連続し、かつ磁化可能な粒子が分散した第１の磁化可能なワニス層であって、中央エナメル層を部分的または完全に被覆する第１のワニス層と、
− 無色かつ透明で、磁化不可能で、連続し、かつ耐化学性および食器洗い機に対する耐性を保証するように、第１の磁化可能なワニス層を完全に被覆する第２のワニス層と
を含んでも良い。

好適には、この第６の実施形態に関して、下層は、５から３０μｍの厚さを有しても良く、中央エナメル層は、２０から６０μｍの厚さを有しても良い。中央エナメル層を被覆するワニス層に関して、磁化可能なワニス層は、好適には１５から４０μｍの厚さを有しても良く、かつ保護のワニス層は、１０から２０μｍの厚さを有しても良い。

これらの実施形態の全体に関して、（下層、仕上げ層またはワニス層のことである）着色した層とは、本発明の意味で、例えばスピネルのような熱安定性の顔料、セラミック顔料、酸化物、ウルトラマリンブルーのような有機金属化合物、（磁化不可能な）マイカまたはシリカ質のフレーク状（ｐａｉｌｌｅｔｔｅｓ ｍｉｃａｃｅ ｏｕ ｓｉｌｉｃｉｅ）の顔料、金属塩、熱変色性の半導体顔料およびそれらの混合物から選択される少なくとも１種の不透明な顔料を含む層を意味する。

好適には、検討される実施形態がいかなるものであれ、本発明による加熱用品の保護コーティングのエナメル層は、シルクスクリーン印刷またはパッド印刷される、不連続な外部エナメル層を更に含んでも良い。

本発明による加熱用品が調理用品である場合に、外部エナメル層は、好適には球形であり、直径が５から４０μｍ、かつ好ましくは１５から２０μｍである、丸くした装填材料も含んでも良く、外部層（３２）の厚さは、１０から３０μｍの間で変化する。これらのボールは、外部エナメル層の表面で張り出す。

本発明による外部エナメル層において使用可能な、丸くした装填材料（またはボール）として、ステンレス鋼、銅、青銅または耐熱鋼のボールが特に挙げられる。

好ましくは、ステンレス鋼のボールを使用する。丸くした装填材料は、好適には、外部層の総重量に対して１から５重量％の割合で外部エナメル層内に存在する。これらの丸くした装填材料は、エナメルコーティングの耐摩耗性を増加させること、ならびに用品と焼成プレートとの間の接触面積の減少およびエナメル層の硬度に対するボールのより小さい硬度を理由として、その摩擦係数を（装填材料が、エナメル層の表面すれすれに現れるときに）減少させること、を同時に可能にする。このようにして、コーティングは、容易に洗浄可能であり、かつガラスセラミックのプレートまたは電磁調理器のようなもろい表面に擦り傷を付ける危険を有さない。

用品の支持体の性質に関して、それは、金属、ガラスおよびセラミックから選択された材料で製作できる。

本発明に適合した金属の支持体として、次の構造：
− 磨かれた、つや消しされた（ｂｒｏｓｓｅ）、もしくはビーズブラスト処理された（ｍｉｃｒｏｂｉｌｌｅ）、砂を吹き付けられた、化学処理されたアルミニウムもしくはアルミニウム合金、または鋳造アルミニウム、または磨かれた、つや消しされた、もしくはビーズブラスト処理されたステンレス鋼、または鋳鋼もしくは鋳造アルミニウムの、単層、
− あるいは、外部から内部に向かって、次の層、フェライトステンレス鋼／アルミニウム／オーステナイトステンレス鋼、またはステンレス鋼／アルミニウム／銅／アルミニウム／オーステナイトステンレス鋼、またはステンレス鋼の外側の底部の二重にされた、鋳造製品のアルミニウム、アルミニウムもしくはアルミニウム合金のキャップを含む、部分的または全体としての多層の金属支持体
を有する支持体が挙げられる。

本発明による用品の例として、調理用品、加熱する蓋、または食物もしくは飲み物の調製装置の加熱する混合ボウル、またはアイロンの底、例えば皿敷きのような食卓用品、ラジエータもしくは薪ストーブ、またはカールヘアアイロン、およびストレートヘアアイロン、タオル掛け、またはバーベキューのプレート、バーベキューの箱もしくはバーベキューのタンクが特に挙げられる。

最後に、本発明は、加熱用品の支持体上に、異方形状の粒子が分散した少なくとも１つのエナメル層を含むコーティングを製造する方法であって、
エナメル層の少なくとも１つの領域内での、物理的手段による（例えば電界または磁界の印加による）または機械的手段による（例えば、マイクロノズルのような単方向アプリケータを用いたコーティングの塗布の際に）前記異方性粒子の配向ステップを含むことを特徴とする方法を更に対象とする。

支持体および異方性粒子は、先に定義された通りである。

好適には、本発明による方法は、
ａ）支持体の供給ステップと、
ｂ）磁化可能な粒子を含む異方性粒子が分散した、少なくとも１種のエナメル組成物の支持体の面の１つに対する噴霧による塗布ステップと、
ｃ）磁界を印加する、磁化可能な粒子の磁化による配向ステップであって、磁化ｃ）が、支持体に対するエナメル組成物の塗布ｂ）中に、または前記塗布ステップｂ）の直後に行われる配向ステップと、次に
ｄ）任意に、好ましくは周囲温度から１５０℃の間の温度での乾燥ステップと、その後に続く
ｅ）少なくとも５００℃の温度で行われる焼成ステップと
を含んでも良い。

磁化可能な粒子は、先に定義された通りである。

本発明による方法のこの実施形態において、磁化可能な異方形状の粒子を使用する。すなわち磁化可能な粒子の配向ステップｄ）は、従ってエナメル組成物の塗布中か、この塗布ステップｄ）の後であるが、いずれにせよ焼成ステップｅ）に先立って行われる、磁界の印加によって行われる磁化ステップである。

乾燥および焼成の後に、剥落および衝撃に対する高い耐性と、コーティング全体において均質な熱膨張を同時に有する保護コーティングが得られる。

異方性粒子が磁化可能であり、かつ磁化によって配向される、本発明による方法のこの実施形態において、エナメル層の塗布ステップｂ）は、好適には、次の：
− ｂ１）磁化可能な粒子のない下層のエナメル組成物を支持体の面の１つに対して噴霧するサブステップであって、前記エナメル組成物が、非焼成の下層を形成するために、透明であるか、または着色されたサブステップと、次に
− ｂ２）非焼成の仕上げのエナメル層を形成するために、磁化可能な粒子が分散した少なくとも１種の仕上げのエナメル組成物を、この非焼成の下層に対して噴霧するサブステップと
を含んでも良い。

好ましくは、エナメル層の塗布ステップｂ）は、ステップｂ２）の後であるが、焼成ｅ）に先立って、非焼成の第２の仕上げのエナメル層（３１２）を形成するために、磁化可能な粒子が同様に分散した、少なくとも１種の第２の仕上げのエナメル組成物を、前記非焼成の仕上げのエナメル層に対して噴霧するステップｂ３）をさらに、含んでも良い。

最後に、本発明による方法は、形成された仕上げのエナメル層の乾燥ステップｄ）を行った後に（その場合、乾燥ステップは、もはや任意ではなく、この実施形態に必要である）、丸くした充填材料を含んでも、含まなくても良い、前記仕上げのエナメル層に対するエナメルペースト層のシルクスクリーン印刷による塗布ステップをさらに、含んでも良い。

これらの丸くした充填材料（またはボール）は、先に定義した通りである。

本発明の他の利点および特性は、非限定的な例として与えられ、かつ添付図面を参照してなされる、以下に続く記載の結果として生じるであろう。

第１の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 （２つの下位変形形態２ａおよび２ｂのうちの前者を示す）第２の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 （２つの下位変形形態２ａおよび２ｂのうちの後者を示す）第２の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 （２つの下位変形形態３ａおよび３ｂのうちの前者を示す）第３の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 （２つの下位変形形態３ａおよび３ｂのうちの後者を示す）第３の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 第４の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 （４つの下位変形形態５ａから５ｄのうちの一形態である５ａを示す）第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 （４つの下位変形形態５ａから５ｄのうちの一形態である５ｂを示す）第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 （４つの下位変形形態５ａから５ｄのうちの一形態である５ｃを示す）第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 （４つの下位変形形態５ａから５ｄのうちの一形態である５ｄを示す）第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図である。 第６の実施変形形態による本発明に従った調理用品の支持体の一部の略断面図である。 第７の実施変形形態による本発明に従ったアイロンの底の一部の略断面図である。 図７に表したアイロンの底の底面図である。 磁化ステップを行うためにコーティングされた用品の支持体の下の磁石の配置の略断面図である。 （２つの磁石の縁部および磁極間隙によって画定される）領域Ｚのレベルでの図９の詳細な図である。 三角形の輪郭を有する帯形状の永久磁石をその下に配置した、アイロンの底の一部の平面図（写真）である。 （２つの磁石の縁部および磁極間隙によって画定される）特定の領域Ｚのレベルでの図１の詳細な図である。 特定の領域Ｚのレベルで行われた、図３のアイロンの底の断面の走査電子顕微鏡検査（ＭＥＢ）の一連の３つの画像１３ａから１３ｂのうちの１３ａの図である。 特定の領域Ｚのレベルで行われた、図３のアイロンの底の断面の走査電子顕微鏡検査（ＭＥＢ）の一連の３つの画像１３ａから１３ｂのうちの１３ｂの図である。 特定の領域Ｚのレベルで行われた、図３のアイロンの底の断面の走査電子顕微鏡検査（ＭＥＢ）の一連の３つの画像１３ａから１３ｂのうちの１３ｃの図である。

図１に、第１の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部を表した。支持体２の面２１の１つは、異方形状の粒子４１が分散した、連続し、かつエナメルコーティングの単層の膜３１を備える。

図１は、膜３１が少なくとも１つの領域５を含み、該領域５において異方形状の粒子４１が膜３１に本質的に垂直であることを示す。

領域５における異方性粒子４１のこの特定の配向は、異方性粒子４１が磁化可能な粒子を含む場合、例えば磁化によって得ることができる。実際には、次のように行う：支持体２の下で、コーティングされない面２２の側に、永久磁石、特にエラストマタイプの永久磁石（このことは、磁化条件を８０℃未満の温度に限定する）または電磁石を配置する。フェライトもしくはネオジムタイプの永久磁石、または電気的に誘導された磁石を使用することも可能である。この場合に、磁化が実行される条件の最大温度の値は８０℃を超えても良いが、使用される磁石のキュリー温度未満に留まられねばならない。特定のホログラフィー画像を得るために、永久強磁性材料または電気的に誘導された材料内で切断および／または加工される、所望の形状を有する磁石を使用する。

好ましくは、強度が４０から１００ｍＴであり、かつ好ましくは約７０ｍＴである磁界を放出する磁石を使用する。

図１は、単層のエナメル膜３１の磁化可能な粒子４１が、特定の領域５において、この領域５のすぐ下に置かれた永久磁石によって生成された磁界の線に沿って、この膜に垂直に配向されることを明瞭に示す。

図２は、それぞれ図２ａおよび図２ｂに例示された２つの下位変形形態を示す、第２の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体２の一部の略断面図を表す。図２ａおよび図２ｂに例示された２つの下位変形形態は、膜３１の形状のエナメルコーティングが二層であることにおいて、図１に例示された実施変形形態と異なる。

図２ａおよび図２ｂに例示された２つの下位変形形態に関して、二層コーティング３１は、（異方形状の粒子のない）支持体２の面２１の１つに配置された下層３１０と、下層３１０を被覆する連続したエナメル膜の形状を呈する仕上げ層３１１とを含み、異方性粒子４１は、仕上げ層３１１に含まれる。下層２１０は、図２ａに示すように着色されていても良いか、または図２ｂに示すように透明でも良い。異方性粒子４１の配向は、第１の実施変形形態と同じように、これらの異方性粒子４１が磁気粒子を含む場合、磁化によって行っても良い。

図３は、それぞれ図３ａおよび図３ｂに例示された２つの下位変形形態を同様に示す、第３の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図を表す。これら下位変形形態３ａおよび図３ｂの各々は、エナメルコーティング３１が、異方性粒子４１が同様に分散した第２の仕上げ層３１２を、二層にする（ｂｉｃｏｕｃｈｅｒ）ことにおいて、それぞれ図２ａおよび図２ｂに例示された実施変形形態と異なる。

図３は、図３の二層のエナメルコーティング３１が、コーティング３１に本質的に平行な異方性粒子４１を有する領域６、および膜に本質的に垂直な異方性粒子４１を有する領域５の交互の繰り返しによって形成される三次元の模様を含むことを同様に示す。

ここでも、領域５内の異方性粒子４１の特定の配向は、異方性粒子が磁化可能である場合、磁化によって行われる。

このようにして、コーティングされるための支持体の底部がほぼ円形状を有する調理用品の場合に、この磁化は、例えば（ほぼ円形状の）支持体の下で、コーティングされない面２２の側に、同じ強度のまたは異なる強度の、例えば独立して測定される約８０ｍＴの、磁界を放出するエラストマ製の同心の複数の永久磁石を配置して、行われ得る。これらの同心の磁石は、好適には、（例えば、１５ｍｍ以下の）短い直径の中心ディスク、および約１０から１５ｍｍの幅のこの中心ディスクの周りに配置された複数の同心のリングの形状を呈し得る。これらの磁石は、好適には、用品の支持体に垂直に移動し得る基板（例えばステンレス鋼のトレー）上に配置できる。この移動は、磁極間隙を画定するように、基板（またはトレー）を磁化すべき用品の近傍に運ぶジャッキを用いて行われ得る。

コーティングされるためのほぼ三角形状のカバーを有するアイロンの底の場合に、（例えば支持体２２の強化すべき領域の下で、コーティングされない面２２の側にエラストマの磁石の帯を例えば配置する。これらの帯は、連続するか、または不連続であっても良く、かつカバーのほぼ三角形状を有しても良い。それらは、同じ強度の、または異なる強度の、例えば独立して測定される約８０ｍＴの磁界を放出する。

磁化可能な異方性粒子は、その場合に磁界の線に沿って配向され、すなわち下に磁石を配置した領域５のレベルで支持体２（または膜３１）に垂直に（磁界の線は、エナメルコーティング３１に垂直であり）、かつ磁界の線が支持体２に平行である領域６内で支持体２（および、従ってコーティング３１）に平行に、これら２つの領域の間で磁化可能な異方性粒子の漸進的な配向の連続を伴って配向される。

図４は、下層３１０が、異方性粒子４１を含むことにおいて、図２ａに例示された実施の下位変形形態と異なる、第４の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図を表す。図３ａ）および図３ｂ）に例示された第３の実施変形形態と同じように、図３の二層のエナメルコーティング３１は、コーティング３１に本質的に平行な異方性粒子４１を有する領域６、および膜に本質的に垂直な異方性粒子４１を有する領域５の交互の繰り返しによって形成される三次元の模様を含む。異方性粒子４１が磁気粒子を含むかまたは磁気粒子である場合、領域５における粒子の配向は、磁石を支持体２の下に配置して得ることができる。

図５は、それぞれ図５ａから図５ｄに例示された４つの下位変形形態を示す、第５の実施変形形態による本発明に従った用品の支持体の一部の略断面図を表す。これらの図は、支持体２の面２１の１つが、
・ 磁化可能な粒子４１のない、かつ（図５ａおよび図５ｂに例示されるように）透明であるか、または（図５ｃおよび図５ｄに例示されるように）着色した下層３１０と、
・ （図５ｂおよび図５ｄに例示されるように）着色した層であるか、異方性粒子４１、好ましくは磁化可能な異方性粒子４１が分散した磁化可能な層である、中央の層３１３であって、連続し、かつ下層３１０を被覆する中央の層３１３と
を含むエナメル層でコーティングされることを示す。

中央の層３１３は、それ自体が：
・ 連続し、かつ好ましくは磁化可能である異方性粒子４１が分散した第１の透明なまたは着色したワニス層３２１と、
・ 連続し、かつ第１のワニス層３２１を完全かつ／または部分的に被覆する第２の無色のワニス層３２２と
によって被覆されている。

ここでも、領域５における異方性粒子４１の特定の配向は、異方性粒子が磁化可能であるならば、磁化によって行われる。

図６は、第６の実施変形形態による本発明に従った調理用品の支持体の一部の略断面図を表す。フライパン１のような調理用品に特有のこの変形形態において、支持体２は、フライパン１内に受けられる可能性のある食品の側に配向された面である内面２２と、外部の熱源に向けて配置されるための外面２１とを含む。支持体２は、その内面２２上に、（例えばゾルゲル材料、またはフッ化炭素樹脂製の）接着防止コーティング７を含み、かつその外面２１上に、
・ 顔料で着色され、かつ磁化可能な粒子４１を含む、連続したエナメル層３１と、
・ 磁化可能な粒子４１が分散した、連続した無色なワニス層３２と、
・ シルクスクリーン印刷またはパッド印刷によって得られ、（銅、青銅または耐熱鋼製の）金属ボール３４を含む、不連続な外部エナメル層３３と
を含むコーティング３を含む。

図７は、第７の実施変形形態による本発明に従ったアイロンの底の一部の略断面図を表し、かつ図８は、図７に例示した底の底面図を表す。

アイロンの底に特有なこの変形形態において、支持体２は、アイロンがけする布類と接触するための外面２１上に、図６に例示したそれとほぼ同一であるコーティング３を含む。すなわち、それは不連続の外部エナメル層３３内の丸くした装填材料の欠如によってのみ異なる。

図９から図１３は、本発明を、その範囲を限定することなく例示する、以下に続く実施例のレベルで更に詳細に記載される。

これらの実施例において、別段の指示のない限り、全ての百分率および部は、質量百分率で表現される。

剥落に対する耐性の検査
同じ厚さ（７０から８０μｍ）の、かつ同一の金属基板に塗布された、様々な保護コーティングの剥落に耐える適性は、次のように評価された。

これらのコーティングは、直径５０μｍで較正された、ダイヤモンドの先端によって誘発され、０から５ニュートンに漸進的に増加する力によって加えられた、長さ１０ｍｍの擦り傷を受けた。このために、ＣＳＭ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社の「Ｍｉｃｒｏｓｃｒａｔｃｈ ｔｅｓｔｅｒ」という名称で市販されている装置を使用する。

擦り傷の形成後、どの強さから金属までのコーティングの剥落が目に見えるかを顕微鏡下で判定する（結果の表３を参照せよ）。

生成物
支持体
− アルミニウム合金（例えば合金４９１７）の調理用品の支持体、
− アルミニウム合金（例えば合金３００３）のアイロンの底のカバー、
− 鋳鋼および鋼板の調理用品の支持体。

強磁性フレーク
本発明の枠内で使用可能な強磁性フレークとして、組成物Ｂ１およびＶ１において、
− ＥＣＫＡＲＴ社によってＳＴＡＰＡ ＴＡ Ｆｅｒｒｉｃｏｎ ２００の名称で市販されている酸化鉄で被覆されたマイカフレーク（磁化可能なフレーク）、
− ＭＥＲＣＫ社によってＣｏｌｏｒｏｎａ Ｂｌａｃｋｓｔａｒ ｂｌｕｅまたはｇｒｅｅｎの名称で市販されている酸化鉄で被覆されたマイカフレーク（磁化可能なフレーク）、
− ＭＥＲＣＫ社によってＩｒｉｏｄｉｎ １１９の名称で市販されている被覆されていないマイカフレーク（磁化不可能なフレーク）
を使用できる。

装填材料
− ステンレス鋼のボール

組成物
アルミニウム基板のための磁化可能な装填材料を用いた顔料で着色されたエナメルのスラリーＢ１の組成物（アルミニウムまたは鋳造アルミニウムの調理用品、アイロンの底・・・）。

組成が下記表１において以下に与えられる、エナメルのフリットのスラリーＢ１を調製する。

表示された含有量は、１００重量部のフリットに対する重量部である（スラリーの組成物中の基準量）。

エナメルのフリットＦ１の組成は、下記表２に与えられる。

表示された含有量は、フリットの重量に対する質量百分率である。
鋳鋼の調理用品の支持体のためのエナメルのスラリーＢ２の組成物
組成が下記表３において以下に与えられる、エナメルのフリットのスラリーＢ２を調製する。

表示された含有量は、１００重量部のフリットに対する重量部である（スラリーの組成物中の基準量）。

エナメルのフリットＦ２の組成は、下記表４に与えられる。

表示された含有量は、フリットの重量に対する質量百分率である。
磁化可能な装填材料を用いた顔料で着色されたワニスＶ１の組成物
組成が下記表５において以下に与えられる、ワニスＶ１の組成物を調製する。

（磁化可能な装填材料を用いた）鋳鋼用の被覆の白色エナメルのスラリーの組成物Ｂ３
被覆の白色エナメルを構成するためのエナメルフリットの顔料で着色されたスラリーＢ３を調製する。その組成は、下記表６に与えられる。

表７は、白色被覆のエナメル用に使用されるフリットＦ３の組成を写す。

（丸くした装填材料を有する、および有さない）シルクスクリーン印刷のペーストの組成物
組成が下記表８において以下に与えられる、装填材料のないシルクスクリーン印刷のペーストＰ３の第１の組成物を調製する。

組成が下記表８において同様に以下に与えられる、装填材料を有するシルクスクリーン印刷のペーストＰ４の第２の組成物を調製する。

実施例１：アルミニウム合金の調理用品の支持体の外面上での本発明に従った保護コーティングの製作。

アルミニウム合金の調理用品の支持体の外面上に、（厚さ３５μｍの）エナメル層３１を形成するために、組成が表１に与えられたスラリーＢ１を噴霧によって塗布する。次に、このエナメル層３１上に、（厚さ３５μｍの）ワニス層３２を形成するために、組成が表２に与えられたワニスＶ１の組成物を塗布する。

図９および図１０に概略的に例示されるように、基板の下に（この場合に、コーティングされた面に対向する支持体の面の下に）配置された２つの永久磁石５１、５２を用いた７０ｍＴの磁界の印加によって、エナメル層３１およびワニス層３２の塗布の直後に、保護コーティングの幾つかの領域において、これらの層に含まれる磁化可能なフレークを磁化によって配向させる。磁界の作用により、マイカフレークは、その磁性酸化鉄の被覆のために、磁界の線に沿って、すなわち磁石と直角に、かつ特には図９に表された領域Ｐ１およびＰ２内でほぼ垂直に配向される。

フレークのこの配向を促進するためには、塗布される層の粘度ができるだけ低いことが好ましい。このために、へキシレングリコールのような少量の非ＶＯＣの重質溶剤の導入が、噴霧での蒸発の減少を可能にし、かつ容易にされた噴霧後に配向を可能にする更に高い磁石の印加時間をもたらす。従って、磁気装填材料を配向する前のエナメル層のあらゆる乾燥が回避される。しかしながら、磁石が配向を固めるために、コーティングの最終乾燥まで塗布できる。この形態は、凹凸の明白な知覚を有する装飾を得ることを望むのであれば、特に推奨される。

これらの層は、次に不連続な外部エナメル層３３を形成するために、組成が表４に与えられた（鋼ボールを含む）エナメルペーストＰ３をシルクスクリーン印刷によって塗布した、乾燥した素焼き（ｂｉｓｃｕｉｔ ｓｅｃ）を得るために、１５０℃未満、好ましくは６０から８０℃の温度で乾燥させる。次にコーティングすべき支持体に応じて、５００から１０００℃で、５から３０分間、従来の対流式の炉または放射炉で用品の焼成を行う。

領域Ｚのレベルで、走査電子顕微鏡（ＭＥＢ）でのこのコーティングの観察は、（アイロンの底に関する）図１３に表された画像ＭＥＢに対応し、
・ フレークは、磁界の線が支持体２に垂直な場所で、すなわち領域５（図１３ｃ）に対応する領域Ｃにおいて、支持体に垂直に配向される傾向があり（すなわち、それらの大半が、４５から９０°の支持体に対する傾斜角度を有する）、
・ フレークは、磁界の線が支持体２に垂直な場所で（図１３ｂは、領域６に対応する領域Ｂを特に示す）、支持体に平行に配向される傾向がある（すなわち、それらの大半が、２０°未満の支持体に対する傾斜角度を有する）
ことを示す。

実施例２：アイロンの底のカバー上での本発明に従った保護コーティングの製作。

外部エナメル層内に鋼ボールのないこと（この外部エナメル層は、鋼ボールのないシルクスクリーン印刷のペーストＰ４から得られる）を除き、実施例１と同じコーティングをアイロンの底のカバー上に製作する。

磁化可能な粒子の配向は、実施例１のように、図９および図１０に概略的に、かつ図１１に実際に例示されるように、基板の下に（この場合に、コーティングされた面に対向する支持体の面の下に）配置された２つの永久磁石５１、５２を用いて７０ｍＴの磁界の印加によって行われる。磁界の作用で、マイカフレークは、その磁性酸化鉄の被覆のために、磁界の線に沿って、すなわち磁石と直角に、ほぼ垂直に（領域Ｃ）、配向される。

領域Ｚのレベルで、走査電子顕微鏡（ＭＥＢ）でのこのコーティングの観察は、図１３に表された画像ＭＥＢよって表される（図１３ａから図１３ｃは、それぞれ領域ＡからＣを示す）。

領域Ｚのレベルで、光学顕微鏡でのこのコーティングの観察は、図１２に表され、様々な領域Ａ、ＢおよびＣの連続を視覚化することが可能である。この図で、
・ 磁界の線が支持体に垂直である、２つの磁石５１および５２の間の領域である（図１から図７の参照符号５に対応する）領域Ｃは、（支持体に対するその垂直な位置のために）磁化可能な粒子が反射を僅かにしか知覚されず、更には全く知覚されないので、黒色の領域であり、
・ 磁界の線が支持体に平行である場所で、磁石５１の縁部に置かれる（図１から図７の参照符号６に対応する）領域Ｂは、磁化可能な粒子の反射が最も強烈なのがこの領域なので、明るく、かつ輝く領域であり、
・ 磁石５１の中心部として本質的に画定される領域Ａは、磁化可能な粒子が（２０°を超えるが、領域Ｃにおいて観察される角度よりも小さい）中間角度で支持体に対して配向されるので（領域Ｂにおいて観察される輝度と、領域Ｃにおいて観察される輝度との間の）中程度の輝度を有する。

実施例３：鋳鋼の調理用品の支持体の内面および／または外面上での本発明に従った保護コーティングの製作。

この用品は、一般的に２回の焼成によって、２層で処理される。

予めショットブラストを施され、かつ脱脂された鋳鋼の調理用品の支持体の内壁および外壁上に、一般的に不透明な、エナメルのスラリーＢ２（表５および表６を参照せよ）の第１の層を噴霧によって塗布する。この層は、８００℃から８５０℃で４から１２分間、焼成される。

第１の層から、強磁性フレークを使用することが可能であることに気が付くであろう。すなわち、それが当てはまる場合、エナメルがまだ液体であるときに、すなわち乾燥および焼成の前に磁石が適用されるときに、それらの配向は容易にされよう。乾燥は、磁石の磁界を受けたフレークの配向を維持することを可能としよう。

第１の層のエナメルがけ用品の焼成および冷却後に、被覆のエナメルのスラリーＢ３を塗布する。

この第２の層の厚さは、１００から２００μｍである。この層は、磁界の印加時にフレークの配向に関連した機械的強化を得ることを可能にする。このステップは、エナメルのスラリーがまだ液体であるときに、最適であり、かつ容易にされよう（可動性が助長される）。この第２の焼成は、７５０℃から８２０℃で４から１２分間、実行されよう。

調理用途または小型家庭電化製品のための鋳鋼の金属の場合に、上記のエナメルが、用品の内部であれ、用品の外部であれ、塗布できることに気が付くであろう。機械的特性のそれらの強化は、用品の内部（台所用品、すなわち泡立て器、包丁、へら・・・との多数の接触）で、または用品の外部（焼成プレート、流し、金網・・・）で行われ得る。

上記のコーティングは、スラリーＢ３中に配向された磁化可能なフレークのない同じコーティングに対して重要な改善を有する。剥落に対する耐性の最適化は、従来の使用時に、例えば金属の台所用品の衝撃において有益である。

耐性の増大は、１５ｃｍの高さからエナメルがけ鋳鉄の用品の表面に対して１秒未満で落下する質量３００ｇのハンマーを使用して、規格化されていない検査によって観察可能である。衝突は、フレークの装填されたスラリーの場合に剥落なしに行われ、他方で、フレークがない場合にその１つが観察される。

比較例４：磁化可能な粒子のないアイロンの底の外面上での保護コーティングの製作。

実施例２と同じように、ワニス層３２、次にシルクスクリーン印刷のエナメル層３３を堆積させた、エナメル層３１を含む保護コーティングを製作する。比較例１の保護コーティングは、エナメル層３１、ワニス層３２、およびシルクスクリーン印刷のエナメル層３３内での磁化可能なフレークの欠如によって実施例１のそれと異なる。

実施例５：アルミニウムの調理用品上での剥落に対する耐性の評価
先に表示した検査に従って、領域ＢおよびＣのレベルでの実施例２の、ならびに比較例２（磁化がないので、特定の領域はない）における保護コーティングの剥落に耐える適性を評価する。得られた結果は、下記表９に示される。

表５に表示した剥離の値は、試料当たり４回の測定に関する、金属での破片の平均値に対応する。

実施例１または２の領域Ｂのレベルで測定された剥離の値の比較例２のそれとの比較は、水平のフレークが剥離を容易にする可能性があるので、金属での剥離を得るために検査時に加えられる力が、磁化可能なフレークのない場合よりも、粒子がコーティングに平行に配向される場合の方が低いことを示す。

実施例１または２の領域Ｃのレベルで測定された剥離の値の同じ実施例の領域Ｂのレベルで測定されたそれとの比較は、金属での剥離を得るために検査時に加える力が、粒子が平行であるときよりも、粒子がコーティングに垂直に配向されるときにより大きいことを明瞭に示し、このことは、コーティングが配向された粒子を含むときに、剥落に対する耐性が良好であることを意味する。この場合に、それらは、強化の役割を有する。

Claims (30)

1. 少なくとも一方（２１）が保護コーティング（３）で被覆されている、２つの対向する面（２１、２２）を有する支持体（２）を含むことを特徴とする加熱用品（１）であって、
   前記保護コーティング（３）は、異方形状の粒子（４）が分散した少なくとも１つのエナメル層（３１）を含み、前記層は、前記異方性粒子（４）が膜の形状の前記エナメル層（３１）に垂直な粒子（４１）を本質的に含む、少なくとも１つの領域（５）を含むことを特徴とする加熱用品。
2. 前記粒子（４）が、前記エナメル層（３１）の総重量に対して０．０５から１０重量を占めることを特徴とする請求項１に記載の用品。
3. 前記粒子（４）が、前記エナメル層（３１）の総重量に対して０．１から７重量％を占めることを特徴とする請求項２に記載の用品。
4. 前記粒子が、前記エナメル層（３１）の総重量の１から５重量％、好ましくは２から３重量％を占めることを特徴とする請求項３に記載の用品。
5. 前記粒子が、機械的または物理的手段によって配向できる粒子（４１）を含むことを特徴とする請求項１から４のいずれかに記載の用品。
6. 配向できる前記粒子（４１）が、磁化可能な粒子であることを特徴とする請求項５に記載の用品。
7. 前記磁化可能な粒子（４１）が、少なくとも１つの強磁性金属を含むことを特徴とする請求項６に記載の用品。
8. 前記エナメル層（３１）が、磁化不可能な粒子を更に含むことを特徴とする請求項６または７に記載の用品。
9. 前記磁化可能な粒子（４１）、および必要な場合に前記磁化不可能な粒子が、コア−外被構造を有することを特徴とする請求項６から８のいずれかに記載の用品。
10. 前記磁化可能な粒子（４１）の強磁性金属が、前記粒子（４１）のコアおよび／または外被内にあることを特徴とする請求項９に記載の用品。
11. 前記磁化可能な粒子（４１）が、酸化鉄Ｆｅ₃Ｏ₄またはＦｅ₂Ｏ₃またはＦｅＯで被覆されたマイカフレークであることを特徴とする請求項１０に記載の用品。
12. 前記領域（５）に隣接して、前記異方形状の粒子（４）が、無作為に、または前記エナメル層（３１）に本質的に平行に配置されている少なくとも１つの領域（６）を更に含むことを特徴とする請求項１から１１のいずれかに記載の用品。
13. 前記領域（５）および（６）の交互の繰り返しが、装飾を画定することを特徴とする請求項１２に記載の用品。
14. 前記エナメル層（３１）が、
    − 連続し、かつ支持体上に配置されるための、透明な、かつ磁化可能な粒子（４１）のない下層（３１０）と、
    − 前記磁化可能な粒子（４１）が分散した少なくとも１つの仕上げ層（３１１）であって、連続し、かつ前記下層（３１０）を部分的または完全に被覆する仕上げ層（３１１）と
    を含むことを特徴とする請求項６から１３のいずれかに記載の用品（３）。
15. 前記エナメル層（３１）が、
    − 連続し、かつ支持体上に配置されるための、着色した、かつ磁化可能な粒子（４１）のない下層（３１０）と、
    − 前記磁化可能な粒子（４１）が分散した仕上げ層（３１１）であって、連続し、かつ前記下層（３１０）を部分的または完全に被覆する仕上げ層（３１１）と
    を含むことを特徴とする請求項６から１３のいずれかに記載の用品（３）。
16. 前記エナメル層（３１）は、
    − 透明なまたは着色した、かつ磁化可能な粒子（４１）のない下層（３１０）であって、連続し、かつ支持体上に配置されるための下層（３１０）と、
    − 磁化可能な粒子（４１）が分散した第１の仕上げ層（３１１）であって、連続し、かつ前記下層（３１０）を完全に被覆する第１の仕上げ層（３１１）と、
    − 磁化可能な粒子（４１）が同様に分散した第２の仕上げ層（３１２）であって、連続し、かつ前記第１の仕上げ層（３１１）を部分的または完全に被覆する第２の仕上げ層（３１１）と
    を含むことを特徴とする請求項６から１３のいずれかに記載の用品（３）。
17. 前記エナメル層（３１）が、
    − 磁化可能な粒子（４１）が分散した、着色した下層（３１０）であって、連続し、かつ支持体上に配置されるための下層（３１０）と、
    − 磁化可能な粒子（４１）が同様に分散した少なくとも１つの透明な仕上げ層（３１１）であって、連続し、かつ前記下層（３１０）を部分的または完全に被覆する仕上げ層（３１１）と
    を含むことを特徴とする請求項６から１３のいずれかに記載の用品（３）。
18. − 前記下層（３１０）が、５から３０μｍの厚さを有し、かつ
    − 前記仕上げ層（３１１、３１２）が、２０から６０μｍの厚さを有することを特徴とする請求項１４から１７のいずれかに記載の用品（３）。
19. − 前記エナメル層（３１）が、
    ・ 磁化可能な粒子（４１）のない、かつ透明なまたは着色した下層（３１０）であって、連続し、かつ支持体上に配置されるための下層（３１０）と、
    ・ 着色した層であるか、磁化可能な粒子（４１）が分散した磁化可能な層である中央の層（３１３）であって、連続し、かつ前記下層（３１０）を部分的または完全に被覆する中央の層（３１３）と
    を含み、
    − 前記中央の層（３１３）は、
    ・ 連続し、かつ磁化可能な粒子（４１）が分散した第１の磁化可能なワニス層（３２１）と、
    ・ 無色かつ透明で、連続し、かつ前記第１の磁化可能なワニス層（３２１）を完全に被覆する第２のワニス層（３２２）と
    によって完全または部分的に被覆されていることを特徴とする請求項６から１３のいずれかに記載の用品（３）。
20. − 前記下層（３１０）が、５から３０μｍの厚さを有し、
    − 前記中央の層（３１３）が、２０から６０μｍの厚さを有し、
    − 前記磁化可能なワニス層（３２１）が、１５から４０μｍの厚さを有し、かつ
    − 前記保護のワニス層（３２２）が、１０から２０μｍの厚さを有することを特徴とする請求項１９に記載の用品（３）。
21. 前記エナメル層（３１）が、シルクスクリーン印刷またはパッド印刷される、不連続な外部エナメル層（３３）を更に含むことを特徴とする請求項１４から２０のいずれかに記載の用品（３）。
22. 前記外部エナメル層（３３）が、好ましくはステンレス鋼、銅、青銅または耐熱鋼のボールである丸くした装填材料を含むことを特徴とする請求項２１に記載の用品（３）。
23. 前記支持体（２）が、金属、ガラスおよびセラミックから選択された材料で製作されることを特徴とする請求項１から２２のいずれかに記載の用品。
24. 前記支持体（２）が、
    − 磨かれた、つや消しされた、もしくはビーズブラスト処理された、砂を吹き付けられた、化学処理されたアルミニウムもしくはアルミニウム合金、または鋳造アルミニウム、または磨かれた、つや消しされた、もしくはビーズブラスト処理されたステンレス鋼、または鋳鋼もしくは鋳造アルミニウムの単層の金属支持体か、
    − あるいは、外部から内部に向かって、次の層、フェライトステンレス鋼／アルミニウム／オーステナイトステンレス鋼、またはステンレス鋼／アルミニウム／銅／アルミニウム／オーステナイトステンレス鋼、またはステンレス鋼の外側の底部の二重にされた、鋳造製品のアルミニウム、アルミニウムもしくはアルミニウム合金のキャップを含む部分的に、または全体として多層の金属支持体
    であることを特徴とする請求項２３に記載の用品。
25. 調理用品、または加熱する蓋、または食物もしくは飲み物の調製装置の加熱する混合ボウル、またはアイロンの底、テーブル敷きのような食卓用品、またはラジエータ、またはタオル掛けもしくは薪ストーブ、またはバーベキューのプレート、バーベキューの箱もしくはタンクであることを特徴とする請求項１から２４のいずれかに記載の用品。
26. 加熱用品（１）の支持体（２）上に、異方形状の粒子（４）が分散した少なくとも１つのエナメル層（３１）を含む保護コーティング（３）を製作する方法であって、
    前記エナメル層（３１）の少なくとも１つの領域（５）内での、物理的または機械的手段による前記異方性粒子（４）の配向ステップを含むことを特徴とする方法。
27. ａ）前記支持体（２）の供給ステップと、
    ｂ）磁化可能な粒子（４１）を含む異方性粒子が分散した、少なくとも１種のエナメル組成物の前記支持体（２）の面の１つに対する噴霧による塗布ステップと、
    ｃ）磁界を印加することによる、前記磁化可能な粒子（４１）の磁化による配向ステップであって、前記磁化ｃ）が、前記支持体に対する前記エナメル組成物の塗布ｂ）中に、または前記塗布ステップｂ）の直後に行われる配向ステップと、次に
    ｄ）任意選択で、好ましくは周囲温度から１５０℃の間の温度での乾燥ステップと、その後に続く、
    ｄ）少なくとも５００℃の温度で行われる焼成ステップと
    を含むことを特徴とする請求項２６に記載の方法。
28. 前記塗布ステップｂ）が、
    − ｂ１）磁化可能な粒子のない、下層のエナメル組成物の前記支持体（２）の面の１つに対する噴霧であって、前記エナメル組成物が、非焼成の下層（３１０）を形成するために、透明であるか、または着色されている噴霧と、次に
    − ｂ２）非焼成の仕上げのエナメル層（３１１）を形成するための、磁化可能な粒子（４１）が分散した、少なくとも１種の仕上げのエナメル組成物の前記非焼成の下層（３１０）に対する噴霧と
    を含むことを特徴とする請求項２７に記載の方法。
29. 前記ステップｂ）が、ステップｂ２）と乾燥ステップｄ）または焼成ステップｅ）との間に、非焼成の第２の仕上げのエナメル層（３１２）を形成するための、磁化可能な粒子（４１）が同様に分散した、少なくとも１種の第２の仕上げのエナメル組成物の前記非焼成の仕上げのエナメル層（３１１）に対する噴霧ステップｂ３）を更に含むことを特徴とする請求項２８に記載の方法。
30. 前記仕上げのエナメル層（３１１、３１２）の乾燥ステップｄ）を行った後に、丸くした充填材料を含んでも、含まなくても良い、エナメルペースト層（３３）の前記仕上げのエナメル層（３１１、３１２）に対するシルクスクリーン印刷による塗布ステップを含むことを特徴とする請求項２７から２９のいずれかに記載の方法。