JP2016223894A - Magnetic sensor - Google Patents

Magnetic sensor Download PDF

Info

Publication number
JP2016223894A
JP2016223894A JP2015110137A JP2015110137A JP2016223894A JP 2016223894 A JP2016223894 A JP 2016223894A JP 2015110137 A JP2015110137 A JP 2015110137A JP 2015110137 A JP2015110137 A JP 2015110137A JP 2016223894 A JP2016223894 A JP 2016223894A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetoresistive element
magnetic sensor
magnetic field
magnetic
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2015110137A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
良徳 高橋
Yoshitoku Takahashi
良徳 高橋
植田 雅也
Masaya Ueda
雅也 植田
篤 板垣
Atsushi Itagaki
篤 板垣
上田 昇
Noboru Ueda
昇 上田
拓也 杉本
Takuya Sugimoto
拓也 杉本
振洪 張
Zhenhong Zhang
振洪 張
弘晃 難波
Hiroaki Nanba
弘晃 難波
秀人 今野
Hideto Konno
秀人 今野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Priority to JP2015110137A priority Critical patent/JP2016223894A/en
Publication of JP2016223894A publication Critical patent/JP2016223894A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Transmission And Conversion Of Sensor Element Output (AREA)
  • Measuring Magnetic Variables (AREA)
  • Hall/Mr Elements (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a compact magnetic sensor that can secure linearity without having to arrange any bias magnet near a magnetic body pattern.SOLUTION: A magnetic sensor 100 is equipped with a rectangular substrate 10 and four magnetic resistance elements MR1 to MR4 formed on the substrate. The magnetic resistance elements MR1 to MR4 constitute a bridge circuit. The electric current routes of mutually connected magnetic resistance elements orthogonally cross each other. The magnetic fields to be detected are applied all the time in parallel to a certain side of the substrate 10, and the electric current routes of the magnetic resistance elements MR1 and MR4 are so formed as to have prescribed angles to the sides of the substrate 10. By using the magnetic fields to be detected as bias magnetic fields, bias magnets that would otherwise have to be arranged in the vicinities of the magnetic body pattern of the magnetic resistance elements are made unnecessary.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、磁気センサに関し、特に、磁気抵抗素子を含む磁気センサに関する。   The present invention relates to a magnetic sensor, and more particularly to a magnetic sensor including a magnetoresistive element.

磁気抵抗効果(MR効果:magneto-resistance effect)を利用した磁気抵抗素子(MR素子)を用いた磁気センサが知られている。   A magnetic sensor using a magnetoresistive element (MR element) utilizing a magneto-resistance effect (MR effect) is known.

特開平6−268281号公報(特許文献1)には、4つの磁気抵抗素子をブリッジ回路に形成した磁気センサが開示されている。特許文献1の磁気センサにおいては、出力特性のリニアリティを向上するために、磁気抵抗素子の磁性体パターンの近傍に外部から永久磁石などからなるバイアス磁石を配置してバイアス磁界を印加している。   JP-A-6-268281 (Patent Document 1) discloses a magnetic sensor in which four magnetoresistive elements are formed in a bridge circuit. In the magnetic sensor of Patent Document 1, in order to improve linearity of output characteristics, a bias magnetic field is applied by arranging a bias magnet made of a permanent magnet or the like from the outside in the vicinity of the magnetic pattern of the magnetoresistive element.

特開平6−268281号公報JP-A-6-268281 特開平1−316980号公報JP-A-1-316980 特開平6−77557号公報JP-A-6-77557 特開昭60−91209号公報JP 60-91209 A 国際公開第2014/111976号International Publication No. 2014/111976

近年、磁気抵抗素子を用いた磁気センサの用途が拡大し、たとえば、携帯端末に用いられるカメラのレンズモジュールのような、非常に小型化された機器における位置検出センサまたは角度検出センサとして用いることのできる磁気センサが望まれている。   In recent years, applications of magnetic sensors using magnetoresistive elements have expanded, and for example, they can be used as position detection sensors or angle detection sensors in very miniaturized devices such as camera lens modules used in portable terminals. A magnetic sensor that can be used is desired.

一方で、センサの精度の観点からは、センサ出力の直線性(リニアリティ)を確保する必要があるが、特許文献1のような、磁性体パターンの近傍にバイアス磁石を配置してバイアス磁界を印加する構成では、設計の自由度が小さくなり、所望のサイズを達成できない場合は生じ得る。   On the other hand, from the viewpoint of the accuracy of the sensor, it is necessary to ensure the linearity of the sensor output. However, as in Patent Document 1, a bias magnetic field is applied by placing a bias magnet near the magnetic pattern. In such a configuration, the degree of freedom in design is reduced, and this may occur when a desired size cannot be achieved.

本発明は、このような課題を解決するためになされたものであり、その目的は、磁気抵抗素子の磁性体パターンの近傍にバイアス磁石を配置することなく、直線性を確保できる小型の磁気センサを提供することである。   The present invention has been made to solve such a problem, and an object of the present invention is to provide a compact magnetic sensor capable of ensuring linearity without arranging a bias magnet in the vicinity of the magnetic body pattern of the magnetoresistive element. Is to provide.

本発明による磁気センサは、矩形状の基板と、基板上に形成され互いに接続される第1および第2の磁気抵抗素子とを備える。第1の磁気抵抗素子の電流経路は、基板の辺に対して所定の角度を有する第1の方向に形成される。第2の磁気抵抗素子の電流経路は、第1の方向に直交する第2の方向に形成される。   A magnetic sensor according to the present invention includes a rectangular substrate and first and second magnetoresistive elements formed on the substrate and connected to each other. The current path of the first magnetoresistive element is formed in a first direction having a predetermined angle with respect to the side of the substrate. The current path of the second magnetoresistive element is formed in a second direction orthogonal to the first direction.

好ましくは、磁気センサは、基板の辺に対して平行に検出すべき磁界が常時印加されており、検出すべき磁界とは異なる外部磁界によるバイアス磁界が印加されない環境において用いられる。   Preferably, the magnetic sensor is used in an environment where a magnetic field to be detected is always applied in parallel to the side of the substrate and a bias magnetic field by an external magnetic field different from the magnetic field to be detected is not applied.

好ましくは、磁気センサは、電源端子と、接地端子と、第1および第2の出力端子と、第2の方向に電流経路が形成された第3の磁気抵抗素子と、第1の方向に電流経路が形成された第4の磁気抵抗素子とをさらに備える。第1の磁気抵抗素子は、電源端子と第1の出力端子との間に接続される。第2の磁気抵抗素子は、第1の出力端子と接地端子との間に接続される。第3の磁気抵抗素子は、電源端子と第2の出力端子との間に接続される。第4の磁気抵抗素子は、第2の出力端子と接地端子との間に接続される。   Preferably, the magnetic sensor includes a power supply terminal, a ground terminal, first and second output terminals, a third magnetoresistive element having a current path formed in the second direction, and a current in the first direction. And a fourth magnetoresistive element in which a path is formed. The first magnetoresistive element is connected between the power supply terminal and the first output terminal. The second magnetoresistive element is connected between the first output terminal and the ground terminal. The third magnetoresistive element is connected between the power supply terminal and the second output terminal. The fourth magnetoresistive element is connected between the second output terminal and the ground terminal.

好ましくは、各磁気抵抗素子は、つづら折り形状に形成され、その外形が矩形に形成される。   Preferably, each magnetoresistive element is formed in a zigzag folded shape, and its outer shape is formed in a rectangular shape.

好ましくは、第1の方向の角度は、基板の辺に対して5°以上85°以下の範囲である。   Preferably, the angle in the first direction is in the range of 5 ° to 85 ° with respect to the side of the substrate.

好ましくは、第1の方向の角度は、22.5°以上30.5°以下の範囲である。
好ましくは、第1の方向の角度は、略26.5°である。
Preferably, the angle in the first direction is in the range of 22.5 ° to 30.5 °.
Preferably, the angle in the first direction is approximately 26.5 °.

本発明によれば、バイアス磁界印加用の磁石を用いずとも出力の直線性を確保することができ、それによって磁気センサの小型化を図ることができる。   According to the present invention, output linearity can be ensured without using a magnet for applying a bias magnetic field, whereby the magnetic sensor can be reduced in size.

本実施の形態における磁気センサの積層構造を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated structure of the magnetic sensor in this Embodiment. 図1における磁気抵抗素子アレイのパターンを示す平面図である。It is a top view which shows the pattern of the magnetoresistive element array in FIG. 図2の磁気抵抗素子アレイの等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the magnetoresistive element array in FIG. 2. 本実施の形態における磁気センサの平面図である。It is a top view of the magnetic sensor in this Embodiment. 磁気抵抗素子アレイに対する磁界の角度と、磁気センサの出力電圧を説明するための第1の図である。It is a 1st figure for demonstrating the angle of the magnetic field with respect to a magnetoresistive element array, and the output voltage of a magnetic sensor. 磁気抵抗素子アレイに対する磁界の角度と、磁気センサの出力電圧を説明するための第2の図である。It is a 2nd figure for demonstrating the angle of the magnetic field with respect to a magnetoresistive element array, and the output voltage of a magnetic sensor. 磁気センサに印加される磁界強度と出力電圧との関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the relationship between the magnetic field intensity applied to a magnetic sensor, and an output voltage. 距離検出を行なう場合の原理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the principle in the case of performing distance detection. 角度検出を行なう場合の原理を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the principle in the case of performing angle detection. 角度検出における、磁界の角度と磁気センサの出力電圧との関係を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the relationship between the angle of a magnetic field and the output voltage of a magnetic sensor in angle detection. θ=45°の場合の、磁界の最大振幅と線形性との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the maximum amplitude of a magnetic field in the case of (theta) = 45 degrees and linearity. 変形例の磁気抵抗素子アレイのパターンを示す平面図である。It is a top view which shows the pattern of the magnetoresistive element array of a modification. 2つの磁気抵抗素子からなる磁気センサの気抵抗素子アレイのパターンを示す平面図である。It is a top view which shows the pattern of the gas resistance element array of the magnetic sensor which consists of two magnetoresistive elements.

以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図中同一または相当部分には同一符号を付してその説明は繰り返さない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals and description thereof will not be repeated.

図1は、本実施の形態における磁気センサ100の積層構造を示す断面図である。
図1を参照して、磁気センサ100は、SiO2層またはSi34層などが表面に設けられたSiなどからなる基板10と、当該基板10上に設けられた磁気抵抗素子アレイ20の薄膜とを備える。磁気抵抗素子アレイ20は、たとえば、基板10上に設けられた、NiとFeとを含む合金からなる磁性体層を、イオンミリング法などによりパターニングすることにより形成される。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a laminated structure of a magnetic sensor 100 in the present embodiment.
Referring to FIG. 1, a magnetic sensor 100 includes a substrate 10 made of Si having a SiO 2 layer, a Si 3 N 4 layer or the like provided on the surface thereof, and a magnetoresistive element array 20 provided on the substrate 10. A thin film. The magnetoresistive element array 20 is formed, for example, by patterning a magnetic layer made of an alloy containing Ni and Fe provided on the substrate 10 by an ion milling method or the like.

磁気抵抗素子アレイ20には、電極として用いられるはんだボール50と電気的に接続するための、AuまたはAlなどからなる導電パッド30がウエットエッチングによるパターニングによって形成されている。   In the magnetoresistive element array 20, a conductive pad 30 made of Au, Al, or the like for electrical connection with a solder ball 50 used as an electrode is formed by patterning by wet etching.

磁気抵抗素子アレイ20および導電パッド30は、SiO2からなる保護膜40により覆われている。 The magnetoresistive element array 20 and the conductive pad 30 are covered with a protective film 40 made of SiO 2 .

図2は、図1における磁気抵抗素子アレイ20の磁性体パターンを示す平面図である。また、図3は、図2の磁気抵抗素子アレイ20の等価回路図である。   FIG. 2 is a plan view showing a magnetic pattern of the magnetoresistive element array 20 in FIG. FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the magnetoresistive element array 20 of FIG.

図2を参照して、磁気抵抗素子アレイ20は、第1〜第4の磁気抵抗素子によって形成されたブリッジ回路として構成される。より具体的には、第1の磁気抵抗素子MR1および第2の磁気抵抗素子MR2の直列接続体と、第3の磁気抵抗素子MR3および第4の磁気抵抗MR4の直列接続体とが、電源端子Vccと接地端子GNDとの間に並列接続されている。第1の磁気抵抗素子MR1と第2の磁気抵抗素子MR2との接続点には、第1の出力端子Vout1が接続される。第3の磁気抵抗素子MR3と第4の磁気抵抗素子MR4との接続点には、第2の出力端子Vout2が接続される。   Referring to FIG. 2, the magnetoresistive element array 20 is configured as a bridge circuit formed by first to fourth magnetoresistive elements. More specifically, the series connection body of the first magnetoresistance element MR1 and the second magnetoresistance element MR2 and the series connection body of the third magnetoresistance element MR3 and the fourth magnetoresistance MR4 are power supply terminals. It is connected in parallel between Vcc and the ground terminal GND. A first output terminal Vout1 is connected to a connection point between the first magnetoresistive element MR1 and the second magnetoresistive element MR2. A second output terminal Vout2 is connected to a connection point between the third magnetoresistive element MR3 and the fourth magnetoresistive element MR4.

第1〜第4の磁気抵抗素子の各々は、電流が流れる電流経路が互いに平行になるようにつづら折り形状の磁性体パターンを有している。そして、第1の磁気抵抗素子MR1の電流経路と第4の磁気抵抗素子MR4の電流経路とが互いに平行となるように配置される。第2および第3の磁気抵抗素子MR2,MR3の電流経路は、第1および第4の磁気抵抗素子MR1,MR4の電流経路と直交するように配置される。磁気抵抗素子アレイ20は、全体として略正方形に形成されている。   Each of the first to fourth magnetoresistive elements has a folded magnetic material pattern so that current paths through which current flows are parallel to each other. The current path of the first magnetoresistive element MR1 and the current path of the fourth magnetoresistive element MR4 are arranged so as to be parallel to each other. The current paths of the second and third magnetoresistive elements MR2 and MR3 are arranged so as to be orthogonal to the current paths of the first and fourth magnetoresistive elements MR1 and MR4. The magnetoresistive element array 20 is formed in a substantially square shape as a whole.

なお、本実施の形態においては、4つの磁気抵抗効果素子MR1〜MR4の各々は、AMR(Anisotropic Magneto Resistance)素子であるが、AMR素子に代えて、GMR(Giant Magneto Resistance)素子、TMR(Tunnel Magneto Resistance)素子、BMR(Balistic Magneto Resistance)素子、CMR(Colossal Magneto Resistance)素子などの磁気抵抗素子であってもよい。   In the present embodiment, each of the four magnetoresistive elements MR1 to MR4 is an AMR (Anisotropic Magneto Resistance) element, but instead of the AMR element, a GMR (Giant Magneto Resistance) element, a TMR (Tunnel). A magnetoresistive element such as a Magneto Resistance (BMR) element, a BMR (Balistic Magneto Resistance) element, or a CMR (Colossal Magneto Resistance) element may be used.

図4は、本実施の形態における磁気センサ100の平面図の一例である。図4を参照して、磁気抵抗素子アレイ20は、その略正方形の外形の辺が、矩形状の基板10の辺に対してθの角度となるように配置されている。基板10の4つの角の部分には、電源端子Vcc、接地端子GND、第1の出力端子Vout1、および第2の出力端子Vout2の導電パッド30が形成されている。各端子の導電パッド30には、はんだボール50が設けられている。なお、θは、用途に応じて、5°以上85°以下の範囲から選択することができる。   FIG. 4 is an example of a plan view of the magnetic sensor 100 in the present embodiment. Referring to FIG. 4, the magnetoresistive element array 20 is arranged such that the side of the substantially square outer shape is at an angle θ with respect to the side of the rectangular substrate 10. Conductive pads 30 for the power supply terminal Vcc, the ground terminal GND, the first output terminal Vout1, and the second output terminal Vout2 are formed at the four corner portions of the substrate 10. A solder ball 50 is provided on the conductive pad 30 of each terminal. In addition, (theta) can be selected from the range of 5 degrees or more and 85 degrees or less according to a use.

次に、図5および図6を用いて、磁気抵抗素子アレイ20と検出磁界との角度による磁気センサ100の出力の変化について説明する。   Next, changes in the output of the magnetic sensor 100 depending on the angle between the magnetoresistive element array 20 and the detected magnetic field will be described with reference to FIGS. 5 and 6.

図5および図6を参照して、各磁気抵抗素子は、電流経路と同じ方向に磁界が印加されている場合に最大抵抗値R0を示し、電流経路と磁界の方向との角度が大きくなると徐々に抵抗値が減少する特性を有している。そして、電流経路と直交する方向に磁界が印加されている場合に最小抵抗値(R0−ΔR)を示す。   Referring to FIGS. 5 and 6, each magnetoresistive element exhibits a maximum resistance value R0 when a magnetic field is applied in the same direction as the current path, and gradually increases as the angle between the current path and the direction of the magnetic field increases. The resistance value decreases. When the magnetic field is applied in the direction orthogonal to the current path, the minimum resistance value (R0−ΔR) is shown.

図5(a)に示すように、図中の矢印AR1の方向(X軸方向)に磁界が印加されている場合(すなわち、θ=0°,180°,360°の場合)には、磁界の方向が第1および第4の磁気抵抗素子MR1,MR4の電流経路と直交しているため、第1および第4の磁気抵抗素子MR1,MR4の抵抗値は最小値(R0−ΔR)となり、一方で、第2および第3の磁気抵抗素子MR2,MR3については、磁界の方向が電流経路と平行であるため抵抗値は最大(R0)となる。これにより、中間電位Vout1は最大となり、また中間電位Vout2は最小となるため、これらの中間電位の電位差Vout(=Vout1−Vout2)である磁気センサ100の出力は最大値Aとなる。   As shown in FIG. 5A, when a magnetic field is applied in the direction of the arrow AR1 (X-axis direction) in the drawing (that is, when θ = 0 °, 180 °, 360 °), the magnetic field Is perpendicular to the current paths of the first and fourth magnetoresistive elements MR1 and MR4, the resistance values of the first and fourth magnetoresistive elements MR1 and MR4 are the minimum values (R0−ΔR), On the other hand, the second and third magnetoresistive elements MR2 and MR3 have the maximum resistance value (R0) because the direction of the magnetic field is parallel to the current path. As a result, the intermediate potential Vout1 is maximized and the intermediate potential Vout2 is minimized, so that the output of the magnetic sensor 100 having the potential difference Vout (= Vout1−Vout2) of these intermediate potentials becomes the maximum value A.

図5(b)に示すように、印加される磁界が矢印AR2のように図中のX軸方向に対してθ=45°,135°,225°,305°となる場合には、各磁気抵抗素子の抵抗値はすべて等しくなる。そのため、中間電位Vout1,Vout2が同じ電位となり、磁気センサ100の出力はゼロとなる。   As shown in FIG. 5B, when the applied magnetic field is θ = 45 °, 135 °, 225 °, 305 ° with respect to the X-axis direction in the drawing as indicated by an arrow AR2, each magnetic field The resistance values of the resistive elements are all equal. Therefore, the intermediate potentials Vout1 and Vout2 are the same potential, and the output of the magnetic sensor 100 is zero.

図5(c)に示すように、印加される磁界が矢印AR3のように、図中のX軸方向に対して直交する場合、すなわち図中のY軸方向と平行になる場合には、第1および第4の磁気抵抗素子MR1,MR4の抵抗値は最大値(R0)となり、第2および第3の磁気抵抗素子MR2,MR3の抵抗値は最小値(R0−ΔR)となる。そのため、磁気センサ100の出力は最小値−Aとなる。   As shown in FIG. 5 (c), when the applied magnetic field is orthogonal to the X-axis direction in the figure as indicated by an arrow AR3, that is, parallel to the Y-axis direction in the figure, The resistance values of the first and fourth magnetoresistive elements MR1 and MR4 are maximum values (R0), and the resistance values of the second and third magnetoresistive elements MR2 and MR3 are minimum values (R0−ΔR). Therefore, the output of the magnetic sensor 100 is the minimum value -A.

したがって、印加される磁界が1回転した場合には、磁気センサ100からの出力Voutは、図6に示すように角度θについて振幅をAとするcos2θの余弦波となる。   Therefore, when the applied magnetic field rotates once, the output Vout from the magnetic sensor 100 becomes a cosine wave of cos 2θ having an amplitude A with respect to the angle θ as shown in FIG.

図7は、印加される磁界の強度と出力Voutとの一般的な関係を示した図であり、横軸には磁界強度が示され、縦軸には出力Voutが示されている。   FIG. 7 is a diagram showing a general relationship between the strength of the applied magnetic field and the output Vout, where the horizontal axis indicates the magnetic field strength and the vertical axis indicates the output Vout.

図7を参照して、上述のように各磁気抵抗素子は、電流経路と磁界との角度によって抵抗値が変化する。たとえば、図5(a)のようなθ=0°の場合には、所定の磁界強度(H0)になるまでは(図7中の領域I)、磁界強度をゼロから増加するにつれて出力Voutも徐々に増加する。一方で、所定の磁界強度(H0)を超える領域(領域II)においては抵抗値の低下量が飽和してしまい、磁界強度が増加しても出力Voutはほぼ一定になる。   Referring to FIG. 7, as described above, the resistance value of each magnetoresistive element changes depending on the angle between the current path and the magnetic field. For example, when θ = 0 ° as shown in FIG. 5A, the output Vout increases as the magnetic field strength increases from zero until the predetermined magnetic field strength (H0) is reached (region I in FIG. 7). Increase gradually. On the other hand, in the region (region II) exceeding the predetermined magnetic field strength (H0), the amount of decrease in resistance value is saturated, and the output Vout becomes almost constant even when the magnetic field strength increases.

ここで、図7からわかるように、磁界強度が0mTの付近、および飽和磁界強度H0付近においては、出力Voutの線形性が相対的に悪く、磁界強度に対する出力Voutの感度も小さくなっている。また、領域Iにおいては、磁気抵抗素子の磁壁が不連続な動きをしやすいため、磁界強度が増加する方向(図7中の実線L1)と、減少する方向(図7中の破線L2)とで出力Voutにヒステリシスが生じ得る。位置や角度の微小な変化を精密に検出するためには、このヒステリシスを抑制し、直線性を向上させることが必要とされる。   Here, as can be seen from FIG. 7, in the vicinity of the magnetic field strength of 0 mT and the saturation magnetic field strength H0, the linearity of the output Vout is relatively poor, and the sensitivity of the output Vout to the magnetic field strength is also low. In the region I, the domain wall of the magnetoresistive element easily moves discontinuously, so that the magnetic field strength increases (solid line L1 in FIG. 7) and decreases (broken line L2 in FIG. 7). Thus, hysteresis may occur in the output Vout. In order to accurately detect minute changes in position and angle, it is necessary to suppress this hysteresis and improve linearity.

磁気抵抗素子を用いた磁気センサにおいては、ヒステリシスを低減し直線性を改善するために、磁気抵抗素子の磁性体パターンの近傍にバイアス磁石を配置してバイアス磁界を印加する手法が知られている。しかしながら、このようなバイアス磁石を用いると、磁気センサ全体の素子サイズが大きくなり、小型化が要求される用途においてはそのような構成を採用できない場合が生じ得る。   In a magnetic sensor using a magnetoresistive element, a technique of applying a bias magnetic field by arranging a bias magnet near the magnetic pattern of the magnetoresistive element is known in order to reduce hysteresis and improve linearity. . However, when such a bias magnet is used, the element size of the entire magnetic sensor becomes large, and there may be a case where such a configuration cannot be adopted in applications where downsizing is required.

一方で、検出すべき磁界がゼロとならずに常時印加されているような環境で磁気センサが用いられる場合であれば、この検出すべき磁界に対して磁気センサを傾斜させて配置することによって、検出すべき磁界をバイアス磁界として用いることができる。   On the other hand, if the magnetic sensor is used in an environment in which the magnetic field to be detected is constantly applied instead of being zero, the magnetic sensor is inclined with respect to the magnetic field to be detected. The magnetic field to be detected can be used as the bias magnetic field.

このような磁気センサを用いた装置を形成する場合、他の基板上に、他の素子や回路とともに当該磁気センサが配置されるが、搭載される基板において、磁気センサを含めた各要素は、一般的には基板の辺に対して平行に配置される。しかしながら、検出すべき磁界をバイアス磁界として用いる場合に、基板上において、当該磁気センサを他の素子や回路に対してたとえば45°のような角度を持った状態で配置すると、無駄な実装領域を消費してしまい、かえって装置全体の小型化を阻害する要因となるおそれがある。   When a device using such a magnetic sensor is formed, the magnetic sensor is arranged on another substrate together with other elements and circuits. In the substrate to be mounted, each element including the magnetic sensor is Generally, it is arranged in parallel to the side of the substrate. However, when the magnetic field to be detected is used as the bias magnetic field, if the magnetic sensor is arranged on the substrate with an angle of 45 °, for example, with respect to other elements and circuits, a useless mounting area is obtained. In other words, it may be a factor that hinders downsizing of the entire apparatus.

本実施の形態における磁気センサにおいては、図4に示されるように、磁気センサの内部において、磁気抵抗素子の電流経路が基板の辺に対して角度をもった状態で配置されている。そのため、磁気センサを基板上に他の要素とともに実装する場合に、磁気センサ本体の辺を他の要素と平行に配置することができる。これによって、装置における実装領域に影響を与えることなく、検出すべき磁界をバイアス磁界として利用することができる。したがって、磁性体パターンの近傍にバイアス磁石を配置することなく出力の直線性を確保できるので、装置全体の小型化を実現することができる。   In the magnetic sensor according to the present embodiment, as shown in FIG. 4, the current path of the magnetoresistive element is arranged with an angle with respect to the side of the substrate inside the magnetic sensor. Therefore, when the magnetic sensor is mounted on the substrate together with other elements, the sides of the magnetic sensor main body can be arranged in parallel with the other elements. Thereby, the magnetic field to be detected can be used as the bias magnetic field without affecting the mounting area in the apparatus. Therefore, the linearity of the output can be ensured without arranging a bias magnet in the vicinity of the magnetic material pattern, so that the size of the entire apparatus can be reduced.

次に、当該磁気センサの用途の例について、図8〜11を用いて説明する。一般的には、本実施の形態のような磁気センサは、センサに印加される磁界の強度の変化を検出する場合と、印加される磁界の角度を検出する場合とに大別できる。以下、それぞれの場合について説明する。   Next, examples of applications of the magnetic sensor will be described with reference to FIGS. In general, the magnetic sensor as in the present embodiment can be broadly classified into a case where a change in the strength of a magnetic field applied to the sensor is detected and a case where an angle of the applied magnetic field is detected. Hereinafter, each case will be described.

(磁界強度検出)
図8は、印加される磁界強度の変化を用いて距離を検出する場合の例を示したものである。図8においては、固定された磁気センサ200に対して相対的に直線移動する永久磁石210との距離DISを、当該永久磁石210からの磁界強度の変化によって検出する。ここで、この永久磁石210は、磁気センサ200に対して相対的に直線移動する移動体(図示せず)に固定されるものである。この構成は、たとえば、距離DISを知ることによって移動体の位置を検出する用途として用いられる。
(Magnetic field detection)
FIG. 8 shows an example in which the distance is detected using a change in the applied magnetic field strength. In FIG. 8, the distance DIS from the permanent magnet 210 that linearly moves relative to the fixed magnetic sensor 200 is detected by the change in the magnetic field intensity from the permanent magnet 210. Here, the permanent magnet 210 is fixed to a moving body (not shown) that moves linearly relative to the magnetic sensor 200. This configuration is used, for example, as an application for detecting the position of the moving body by knowing the distance DIS.

図8の矢印AR4に示す移動方向に永久磁石210が移動すると、永久磁石210から磁気センサ200に印加される磁界強度が変化する。この移動方向についての磁界強度の変化に対して、図7の領域Iで磁界を検出することによって、磁界強度の変化を磁気センサ200の出力Voutの変化として検出することができる。   When the permanent magnet 210 moves in the movement direction indicated by the arrow AR4 in FIG. 8, the magnetic field strength applied from the permanent magnet 210 to the magnetic sensor 200 changes. By detecting the magnetic field in the region I in FIG. 7 with respect to the change in the magnetic field strength in the moving direction, the change in the magnetic field strength can be detected as the change in the output Vout of the magnetic sensor 200.

本実施の形態における磁気センサにおいては、図4で示されるように、磁界方向に対して磁気抵抗素子アレイ20がθだけ傾斜するように基板上に配置されている。図4において、図5と同様に磁気抵抗素子アレイ20に対してX−Y軸を定めた場合、検出範囲において、永久磁石210からの磁界のX軸方向の磁界強度(cosθ成分)が磁気抵抗素子の飽和磁界強度以上となり、Y軸方向の磁界強度(sinθ成分)がX軸方向の磁界強度の約1/2(図7における領域RG1)程度となるように、永久磁石210の磁力およびθを設定する。   In the magnetic sensor in the present embodiment, as shown in FIG. 4, the magnetoresistive element array 20 is arranged on the substrate so as to be inclined by θ with respect to the magnetic field direction. 4, when the XY axis is determined for the magnetoresistive element array 20 as in FIG. 5, the magnetic field strength (cos θ component) in the X-axis direction of the magnetic field from the permanent magnet 210 is the magnetoresistance in the detection range. The magnetic force and θ of the permanent magnet 210 are set so that the saturation magnetic field strength of the element is equal to or higher and the magnetic field strength in the Y-axis direction (sin θ component) is about ½ of the magnetic field strength in the X-axis direction (region RG1 in FIG. 7). Set.

これにより、X軸方向に常に飽和磁界強度以上のバイアス磁界が印加された状態となるので、磁壁の不連続な動きが減少し、ヒステリシスを低減することができる。また、抵抗値に関しては、X軸方向は飽和領域(図7中の領域II)であるため抵抗値の変動はほとんどなく、一方、Y軸方向については、磁界強度に応じて抵抗値が変動する(領域I)。そのため、永久磁石210からの磁界強度の変化(すなわち距離DIS)に応じて磁気抵抗素子内の電流ベクトルの方向が変化し、磁気センサの出力電圧が変動する。したがって、磁気センサの出力から、永久磁石210の変動距離を検出することができる。   As a result, a bias magnetic field greater than or equal to the saturation magnetic field strength is always applied in the X-axis direction, so that the discontinuous movement of the domain wall is reduced and hysteresis can be reduced. Further, regarding the resistance value, since the X-axis direction is a saturated region (region II in FIG. 7), there is almost no variation in the resistance value, while in the Y-axis direction, the resistance value varies according to the magnetic field strength. (Region I). Therefore, the direction of the current vector in the magnetoresistive element changes according to the change in the magnetic field intensity from the permanent magnet 210 (that is, the distance DIS), and the output voltage of the magnetic sensor changes. Therefore, the fluctuation distance of the permanent magnet 210 can be detected from the output of the magnetic sensor.

特に、Y軸方向の磁界強度を飽和磁界強度の約1/2程度とすることで、図7の領域RG1のように、領域Iの中でも相対的に直線性のよい領域で検出することが可能となる。たとえば、Y軸方向の磁界強度をX軸方向の磁界強度の0.4以上0.6以下程度の範囲とする場合には、θは約22.5°以上30.5°以下の範囲と設定すればよい。同様に、Y軸方向の磁界強度をX軸方向の磁界強度の1/2(=0.5)とする場合には、tan-1(0.5)より、θは約26.5°に設定すればよい。 In particular, by setting the magnetic field strength in the Y-axis direction to about half of the saturation magnetic field strength, it is possible to detect in a region having relatively good linearity in the region I, such as the region RG1 in FIG. It becomes. For example, when the magnetic field strength in the Y-axis direction is in the range of about 0.4 to 0.6 of the magnetic field strength in the X-axis direction, θ is set to a range of about 22.5 ° to 30.5 °. do it. Similarly, when the magnetic field strength in the Y-axis direction is ½ (= 0.5) of the magnetic field strength in the X-axis direction, θ is about 26.5 ° from tan −1 (0.5). You only have to set it.

(磁界の角度検出)
次に、図9〜11を用いて、本実施の形態の磁気センサによって角度検出を行なう場合の例について説明する。
(Magnetic angle detection)
Next, an example in which angle detection is performed by the magnetic sensor of the present embodiment will be described with reference to FIGS.

図9を参照して、矢印AR5で示す所定の磁界が、磁気センサ200に対してたとえばφの範囲で回転する場合を考える。ここで、この矢印AR5で示す所定の磁界は、磁気センサ200に対して相対的に回転移動する移動体(図示せず)に固定された永久磁石によって生成されるものである。このとき、図5および図6で説明したように、磁気センサ200の出力Voutは、最大振幅をAとすると、回転角度θに応じてAcos2θのように変動する。このとき、図10で示すように、X軸,Y軸となす角が45°となるときに、出力Voutの曲線の傾きの絶対値が最大となり、直線性および感度が良好となる。   Referring to FIG. 9, consider a case where a predetermined magnetic field indicated by an arrow AR5 rotates with respect to the magnetic sensor 200 within a range of φ, for example. Here, the predetermined magnetic field indicated by the arrow AR <b> 5 is generated by a permanent magnet fixed to a moving body (not shown) that rotates and moves relative to the magnetic sensor 200. At this time, as described with reference to FIGS. 5 and 6, the output Vout of the magnetic sensor 200 varies as A cos 2θ according to the rotation angle θ, where A is the maximum amplitude. At this time, as shown in FIG. 10, when the angle between the X axis and the Y axis is 45 °, the absolute value of the slope of the curve of the output Vout becomes maximum, and the linearity and sensitivity are improved.

そのため、角度検出の場合には、図4における傾斜θが45°となるように磁気抵抗素子アレイを基板上に配置し、検出すべき磁界をバイアス磁界として用いることで、磁性体パターンの近傍にバイアス磁石を配置することなく直線性を向上させることができる。なお、検出すべき磁界の強度を飽和磁界強度以上としておくことで、ヒステリシスについても低減することができる。   Therefore, in the case of angle detection, the magnetoresistive element array is arranged on the substrate so that the inclination θ in FIG. 4 is 45 °, and the magnetic field to be detected is used as the bias magnetic field, so Linearity can be improved without arranging a bias magnet. Note that the hysteresis can be reduced by setting the intensity of the magnetic field to be detected to be equal to or higher than the saturation magnetic field intensity.

ここで、磁気センサの出力Voutは、Vout=Acos2θとして表すことができるので、図10のように、θ=φ+45°とおいた場合には、
Vout=Acos2θ
=Acos{2(φ+45°)}
=Acos(2φ+90°)
=−Asin2φ
となる。そのため、φが微小である場合には、Vout≒−2Aφとなり、磁気センサからの出力は、角度変動φに対して、最大振幅に比例した線形の出力となる(図11)。
Here, since the output Vout of the magnetic sensor can be expressed as Vout = Acos 2θ, when θ = φ + 45 ° as shown in FIG.
Vout = Acos 2θ
= Acos {2 (φ + 45 °)}
= Acos (2φ + 90 °)
= -Asin2φ
It becomes. Therefore, when φ is very small, Vout≈−2Aφ, and the output from the magnetic sensor is a linear output proportional to the maximum amplitude with respect to the angle fluctuation φ (FIG. 11).

上記のように、磁気抵抗素子を用いた磁気センサにおいて、磁気抵抗素子が配置される基板上において、各磁気抵抗素子を、その電流経路が基板の辺に対して所定の角度だけ傾斜するように配置することによって、検出すべき磁界をバイアス磁界として利用し、磁気抵抗素子の磁性体パターンの近傍にバイアス磁石を配置することなくヒステリシスを低減するとともに出力の直線性を向上させることができる。   As described above, in a magnetic sensor using a magnetoresistive element, on the substrate on which the magnetoresistive element is arranged, each magnetoresistive element is arranged such that its current path is inclined at a predetermined angle with respect to the side of the substrate. By arranging the magnetic field to be detected as a bias magnetic field, the hysteresis can be reduced and the output linearity can be improved without arranging a bias magnet in the vicinity of the magnetic pattern of the magnetoresistive element.

(変形例)
なお、上記の実施の形態においては、各磁気抵抗素子の形状、および磁気抵抗素子アレイ全体の形状が略正方形に形成され、磁気抵抗素子アレイが全体を回転させることによって、電流経路を基板の辺に対して傾斜させる例について説明したが、磁気抵抗素子の形状、および磁気抵抗素子アレイの形状は、このような正方形には限定されない。
(Modification)
In the above embodiment, the shape of each magnetoresistive element and the overall shape of the magnetoresistive element array are formed in a substantially square shape, and the magnetoresistive element array is rotated so that the current path is changed to the side of the substrate. However, the shape of the magnetoresistive element and the shape of the magnetoresistive element array are not limited to such a square.

図12は、変形例における磁気センサ100Aの平面図を示す。図12においては、各磁気抵抗素子における電流経路が基板10の辺に対して傾斜した長方形であり、各磁気抵抗素子が導電パッドを介して接続されるように、磁気抵抗素子が形成されている。なお、図1においては、例としてθ=45°の場合が示されているが、用途に応じて図4と同様の角度としてもよい。   FIG. 12 is a plan view of a magnetic sensor 100A according to a modification. In FIG. 12, the current path in each magnetoresistive element is a rectangle inclined with respect to the side of the substrate 10, and the magnetoresistive element is formed so that each magnetoresistive element is connected via a conductive pad. . In FIG. 1, the case of θ = 45 ° is shown as an example, but an angle similar to that in FIG. 4 may be used depending on the application.

図12のような磁気抵抗素子の形状とすることによって、基板内における個々の磁気抵抗素子のレイアウトの自由度が増加するので、磁気センサ全体のサイズをさらに小型化できる可能性がある。   By adopting the shape of the magnetoresistive element as shown in FIG. 12, the degree of freedom of the layout of the individual magnetoresistive elements in the substrate increases, so that there is a possibility that the size of the entire magnetic sensor can be further reduced.

また、磁気抵抗素子アレイにおける磁気抵抗素子の数は4つに限られず、図13の磁気センサ100Bに示されるように、電流経路が互いに直交するように接続された2つの磁気抵抗素子MR1,MR2を用いたハーフブリッジ回路の磁気抵抗素子アレイ20Bとすることも可能である。この場合、センサ出力Voutは、磁気抵抗素子MR1,MR2の接続点における中間電位となり、Vccが正の電圧であれば、出力Voutも常に正となる。図13の磁気センサ100Bのような構成が使用可能な用途であれば、さらに磁気センサのサイズを小さくすることが可能となる。   Further, the number of magnetoresistive elements in the magnetoresistive element array is not limited to four. As shown in the magnetic sensor 100B of FIG. 13, two magnetoresistive elements MR1 and MR2 connected so that their current paths are orthogonal to each other. It is also possible to use a magnetoresistive element array 20B of a half bridge circuit using In this case, the sensor output Vout is an intermediate potential at the connection point of the magnetoresistive elements MR1 and MR2, and if Vcc is a positive voltage, the output Vout is always positive. If the configuration such as the magnetic sensor 100B of FIG. 13 can be used, the size of the magnetic sensor can be further reduced.

今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は上記した説明ではなく特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。   The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, rather than the description above, and is intended to include any modifications within the scope and meaning equivalent to the terms of the claims.

10 基板、20,20A,20B 磁気抵抗素子アレイ、30 導電パッド、40 保護膜、50 はんだボール、100,100A,100B,200 磁気センサ、210 永久磁石、GND 接地端子、MR1〜MR4 磁気抵抗素子、Vcc 電源端子、Vout,Vout1,Vout2 出力端子。   10 substrate, 20, 20A, 20B magnetoresistive element array, 30 conductive pad, 40 protective film, 50 solder ball, 100, 100A, 100B, 200 magnetic sensor, 210 permanent magnet, GND ground terminal, MR1 to MR4 magnetoresistive element, Vcc power supply terminal, Vout, Vout1, Vout2 output terminal.

Claims (7)

矩形状の基板と、
前記基板上に形成され、互いに接続される第1および第2の磁気抵抗素子とを備え、
前記第1の磁気抵抗素子の電流経路は、前記基板の辺に対して所定の角度を有する第1の方向に形成され、
前記第2の磁気抵抗素子の電流経路は、前記第1の方向に直交する第2の方向に形成される、磁気センサ。
A rectangular substrate;
Comprising first and second magnetoresistive elements formed on the substrate and connected to each other;
A current path of the first magnetoresistive element is formed in a first direction having a predetermined angle with respect to a side of the substrate;
A magnetic sensor in which a current path of the second magnetoresistive element is formed in a second direction orthogonal to the first direction.
前記磁気センサは、前記基板の辺に対して平行に検出すべき磁界が常時印加されており、前記検出すべき磁界とは異なる外部磁界によるバイアス磁界が印加されない環境において用いられる、請求項1に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor is used in an environment in which a magnetic field to be detected is always applied in parallel to a side of the substrate and a bias magnetic field by an external magnetic field different from the magnetic field to be detected is not applied. The magnetic sensor described. 電源端子と、
接地端子と、
第1および第2の出力端子と、
前記第2の方向に電流経路が形成された第3の磁気抵抗素子と、
前記第1の方向に電流経路が形成された第4の磁気抵抗素子とをさらに備え、
前記第1の磁気抵抗素子は、前記電源端子と前記第1の出力端子との間に接続され、
前記第2の磁気抵抗素子は、前記第1の出力端子と前記接地端子との間に接続され、
前記第3の磁気抵抗素子は、前記電源端子と前記第2の出力端子との間に接続され、
前記第4の磁気抵抗素子は、前記第2の出力端子と前記接地端子との間に接続される、請求項1または2に記載の磁気センサ。
A power terminal;
A grounding terminal;
First and second output terminals;
A third magnetoresistive element having a current path formed in the second direction;
A fourth magnetoresistive element having a current path formed in the first direction,
The first magnetoresistive element is connected between the power supply terminal and the first output terminal,
The second magnetoresistive element is connected between the first output terminal and the ground terminal;
The third magnetoresistive element is connected between the power supply terminal and the second output terminal,
The magnetic sensor according to claim 1, wherein the fourth magnetoresistive element is connected between the second output terminal and the ground terminal.
各磁気抵抗素子は、つづら折り形状に形成され、その外形が矩形に形成される、請求項1〜3のいずれか1項に記載の磁気センサ。   4. The magnetic sensor according to claim 1, wherein each magnetoresistive element is formed in a zigzag folded shape, and an outer shape thereof is formed in a rectangular shape. 前記角度は、5°以上85°以下の範囲である、請求項1に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to claim 1, wherein the angle is in a range of 5 ° to 85 °. 前記角度は、22.5°以上30.5°以下の範囲である、請求項5に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to claim 5, wherein the angle is in a range of 22.5 ° to 30.5 °. 前記角度は、略26.5°である、請求項6に記載の磁気センサ。   The magnetic sensor according to claim 6, wherein the angle is approximately 26.5 °.
JP2015110137A 2015-05-29 2015-05-29 Magnetic sensor Pending JP2016223894A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015110137A JP2016223894A (en) 2015-05-29 2015-05-29 Magnetic sensor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015110137A JP2016223894A (en) 2015-05-29 2015-05-29 Magnetic sensor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016223894A true JP2016223894A (en) 2016-12-28

Family

ID=57747881

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015110137A Pending JP2016223894A (en) 2015-05-29 2015-05-29 Magnetic sensor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2016223894A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018123772A1 (en) 2017-10-31 2019-05-02 Tdk Corporation Magnetic sensor and position detection device
JP2019211417A (en) * 2018-06-08 2019-12-12 Tdk株式会社 Magnetic detector
US10627255B2 (en) 2017-03-24 2020-04-21 Tdk Corporation Position detection device
US10712177B2 (en) 2017-10-31 2020-07-14 Tdk Corporation Position detection device
CN111693911A (en) * 2019-03-11 2020-09-22 Tdk株式会社 Magnetic sensor device
CN112014778A (en) * 2020-08-24 2020-12-01 歌尔微电子有限公司 Micro-electro-mechanical system magnetoresistive sensor, sensor single body and electronic equipment
WO2021044769A1 (en) * 2019-09-02 2021-03-11 株式会社村田製作所 Lens-driving device
WO2022004227A1 (en) * 2020-07-03 2022-01-06 株式会社村田製作所 Position detecting device
CN115267623A (en) * 2022-09-23 2022-11-01 微传智能科技(常州)有限公司 Magnetic resistance magnetic switch sensor
CN117250571A (en) * 2023-09-18 2023-12-19 苏州纳芯微电子股份有限公司 High-precision magnetic field sensing device and motion sensor

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10627255B2 (en) 2017-03-24 2020-04-21 Tdk Corporation Position detection device
DE102018123772A1 (en) 2017-10-31 2019-05-02 Tdk Corporation Magnetic sensor and position detection device
US11953347B2 (en) 2017-10-31 2024-04-09 Tdk Corporation Position detection device
US10712178B2 (en) 2017-10-31 2020-07-14 Tdk Corporation Position detection device for detecting position of an object moving in a predetermined direction, and a magnetic sensor for use with the position detection device
US10712177B2 (en) 2017-10-31 2020-07-14 Tdk Corporation Position detection device
US11674822B2 (en) 2017-10-31 2023-06-13 Tdk Corporation Position detection device
US11204263B2 (en) 2017-10-31 2021-12-21 Tdk Corporation Position detection device for detecting position of an object moving in a predetermined direction, and a magnetic sensor for use with the position detection device
US11002803B2 (en) 2018-06-08 2021-05-11 Tdk Corporation Magnetic field detection device
US11531071B2 (en) 2018-06-08 2022-12-20 Tdk Corporation Magnetic field detection device
JP2019211417A (en) * 2018-06-08 2019-12-12 Tdk株式会社 Magnetic detector
CN111693911A (en) * 2019-03-11 2020-09-22 Tdk株式会社 Magnetic sensor device
WO2021044769A1 (en) * 2019-09-02 2021-03-11 株式会社村田製作所 Lens-driving device
WO2022004227A1 (en) * 2020-07-03 2022-01-06 株式会社村田製作所 Position detecting device
CN112014778A (en) * 2020-08-24 2020-12-01 歌尔微电子有限公司 Micro-electro-mechanical system magnetoresistive sensor, sensor single body and electronic equipment
CN112014778B (en) * 2020-08-24 2023-11-07 歌尔微电子有限公司 Magneto-resistive sensor of micro-electromechanical system, sensor unit and electronic equipment
CN115267623A (en) * 2022-09-23 2022-11-01 微传智能科技(常州)有限公司 Magnetic resistance magnetic switch sensor
CN115267623B (en) * 2022-09-23 2023-10-20 微传智能科技(常州)有限公司 Magneto-resistance magnetic switch sensor
CN117250571A (en) * 2023-09-18 2023-12-19 苏州纳芯微电子股份有限公司 High-precision magnetic field sensing device and motion sensor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016223894A (en) Magnetic sensor
US9970997B2 (en) Magnetic field sensing apparatus and magnetic field sensing module
JP4626728B2 (en) Magnetic detector
US20150185297A1 (en) Device, magnetic sensor device and method
JP5297442B2 (en) Magnetic sensor
TWI633321B (en) Tunneling magneto-resistor device for sensing magnetic field
WO2013067865A1 (en) Magnetic field sensing device
JP6265484B2 (en) Magnetic sensor module
US11035913B2 (en) Magnetic field sensing device
US9903920B2 (en) Magnetic field sensor device
WO2016013650A1 (en) Magnetic sensor device
WO2011074488A1 (en) Magnetic sensor
US11009569B2 (en) Magnetic field sensing device
US7279891B1 (en) Permalloy bridge with selectable wafer-anistropy using multiple layers
JP2016145745A (en) Magnetic sensor
US20170016745A1 (en) Magnetic sensor
JP6927044B2 (en) Magnetic sensor
JP2014081318A (en) Magnetic sensor and magnetic detection method thereof
JP2008014954A (en) Magnetic sensor
JP2019052891A (en) Magnetic sensor
JP6222897B2 (en) Multi-axis magnetic sensor and manufacturing method thereof
US10094890B2 (en) Magnetic sensor
JP6210596B2 (en) Rotation detector
JP2015194389A (en) Magnetic field detection device and multi piece substrate
JP2019095319A (en) Magnetic sensor