JP2016204275A

JP2016204275A - Method for producing trifluoromethylsulfonyl compound derivative

Info

Publication number: JP2016204275A
Application number: JP2015084838A
Authority: JP
Inventors: 哲男柴田; Tetsuo Shibata; 賢大楠; Satoshi OKUSU; 香川　巧; Takumi Kagawa; 巧香川
Original assignee: Nagoya Institute of Technology NUC; Tosoh F Tech Inc
Current assignee: Nagoya Institute of Technology NUC; Tosoh F Tech Inc
Priority date: 2015-04-17
Filing date: 2015-04-17
Publication date: 2016-12-08
Anticipated expiration: 2035-04-17
Also published as: JP6664887B2

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative useful as synthetic intermediates for medicines and agrochemicals.SOLUTION: The method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative represented by formula (2) comprises reacting a sulfonyl fluoride derivative represented by formula (1) with trifluoromethane in an organic solvent in the presence of an organic strong base catalyst and a proton scavenger. In the method, the organic strong base is 1-tert-butyl-4,4,4-[tris(dimethylamino)-2,2-bis(tris(dimethylamino)phosphoranylidenamino]-2λ,4λ-catenadi. Formula (1): R-SO-F and formula (2): R-SO-CF(where R is a phenyl group, a phenyl group substituted with an alkyl group or halogen, a 4-biphenyl group or a 1- or 2-naphthyl group).SELECTED DRAWING: None

Description

本発明はトリフルオロメタン（別名フルオロホルム）を原料とし、トリフルオロメチルアニオンを発生させ、スルホニルフルオリド誘導体に求核的トリフルオロメチル化を行い、トリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体を製造する方法に関する。トリフルオロスルホニル化合物誘導体は医・農薬の製造中間体として有用な化合物である。 The present invention relates to a method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative by using trifluoromethane (also known as fluoroform) as a raw material, generating a trifluoromethyl anion, and subjecting the sulfonyl fluoride derivative to nucleophilic trifluoromethylation. Trifluorosulfonyl compound derivatives are useful compounds as intermediates for the production of medicines and agricultural chemicals.

従来より、トリフルオロメチル基の導入方法としては、トリフルオロメチルトリメチルシランを用い、フルオロスルホニル基をトリフルオロメチルスルホニル基へ変換する方法や、ケトン類と反応させトリフルオロメチル基含有アルコール類を製造する方法等が知られている（例えば非特許文献１，２参照）。
また、トリフルオロメタンを原料としトリフルオロメチルアニオンを発生させ、カルボニル化合物類に求核的トリフルオロメチル化を行い、トリフルオロメチル基含有アルコール類を製造する方法としては、有機強塩基としてカリウムＮ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサメチルジシラジドを等モル用いる方法（例えば特許文献１参照）及び有機強塩基として１−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４，４−トリス(ジメチルアミノ)−２，２−ビス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]−２λ^５，４λ^５−カテナジ（以下、Ｐ_４-ｔＢｕと略す）を等モル以上用いる方法（例えば特許文献２参照）等が知られている。 Conventionally, as a method for introducing a trifluoromethyl group, trifluoromethyltrimethylsilane is used to convert a fluorosulfonyl group into a trifluoromethylsulfonyl group, or a trifluoromethyl group-containing alcohol is produced by reacting with a ketone. And the like are known (for example, see Non-Patent Documents 1 and 2).
In addition, as a method for producing a trifluoromethyl group-containing alcohol by generating trifluoromethyl anion from trifluoromethane as a raw material and performing nucleophilic trifluoromethylation on carbonyl compounds, potassium N, A method using equimolar amounts of N, N, N, N, N-hexamethyldisilazide (see, for example, Patent Document 1) and 1-tert-butyl-4,4,4-tris (dimethylamino)-as an organic strong base Known is a method of using equimolar or more of 2,2-bis [tris (dimethylamino) phosphoranylideneamino] -2λ ⁵ , 4λ ⁵ -catenadi (hereinafter abbreviated as P ₄ -tBu) (see, for example, Patent Document 2). It has been.

従来の非特許文献１及び２に記載の方法は、各種反応に用いることが可能であるが、用いるトリフルオロメチルトリメチルシランは比較的高価で、工業的にはより安価なトリフルオロメチルアニオン源が望まれている。
一方、特許文献１及び特許文献２に記載の方法は、カルボニル化合物類へのトリフルオロメチル化に関するものであり、スルホニルフルオリド誘導体との反応は記載されていない。さらに、特許文献１及び特許文献２では、非常に高価なカリウムＮ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ，Ｎ−ヘキサメチルジシラジドやＰ_４-ｔＢｕを等モル以上使用する必要があり、また又反応温度としても−３０℃以下の超低温で実施する必要があるという課題がある。 Although the conventional methods described in Non-Patent Documents 1 and 2 can be used for various reactions, the trifluoromethyltrimethylsilane used is relatively expensive, and an industrially cheaper trifluoromethyl anion source is available. It is desired.
On the other hand, the methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2 relate to trifluoromethylation to carbonyl compounds and do not describe the reaction with sulfonyl fluoride derivatives. Furthermore, in Patent Document 1 and Patent Document 2, it is necessary to use equimolar amounts or more of very expensive potassium N, N, N, N, N, N-hexamethyldisilazide or P ₄ -tBu. There is a problem that it is necessary to carry out the reaction at an ultra-low temperature of −30 ° C. or lower.

特表２０１４−５１９４８６号公報Special table 2014-519486 gazette 特開２０１４−９１６９１号公報JP 2014-91691 A

ユエルヤグポルスキー（Yu. L. Yagupolski）ら, Synthesis, 1990(12), 1151-1152Yu. L. Yagupolski et al., Synthesis, 1990 (12), 1151-1152 シュレーブジェイエム（Shreeve JM）ら, J. Org. Chem., 1999, 64(8), 2873-2876Shreeve JM et al., J. Org. Chem., 1999, 64 (8), 2873-2876

本発明の目的は、トリフルオロメタンをトリフルオロメチルアニオンの発生剤として用い、高価な有機強塩基を触媒量として用い、かつ一般的に実施可能な−２０℃〜４０℃の温度範囲で実施可能な、スルホニルフルオリド誘導体からトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体を製造する方法を提供することにある。 The object of the present invention is to use trifluoromethane as a generator of trifluoromethyl anion, use an expensive organic strong base as a catalytic amount, and can be carried out in a temperature range of −20 ° C. to 40 ° C. that can be generally carried out. An object of the present invention is to provide a method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative from a sulfonyl fluoride derivative.

本発明者らは、トリフルオロメタンを原料とし、触媒量の有機強塩基を用い、トリフルオロメチルアニオンを発生させ、スルホニルフルオリド誘導体に求核的トリフルオロメチル化を行い、トリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体を製造する方法について、鋭意検討した結果、反応系にプロトン捕捉剤を共存させることにより、有機強塩基を触媒量の使用でトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体を製造することが可能となり、かつ反応温度が−２０℃〜４０℃で実施可能となることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The present inventors use trifluoromethane as a raw material, use a catalytic amount of an organic strong base, generate a trifluoromethyl anion, perform nucleophilic trifluoromethylation on the sulfonyl fluoride derivative, and obtain a trifluoromethylsulfonyl compound derivative. As a result of diligent investigations on the method for producing trifluoromethylsulfonyl compound derivatives, the presence of a proton scavenger in the reaction system enables the production of a trifluoromethylsulfonyl compound derivative using a catalytic amount of a strong organic base, and the reaction temperature is low. It has been found that it can be carried out at −20 ° C. to 40 ° C., and the present invention has been completed.

すなわち本発明は、下記一般式（１）
Ｒ−ＳＯ_２−Ｆ（１）
（式（１）中、Ｒは、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、炭素数３〜４の直鎖若しくは分岐若しくは環式のアルキル基で置換されたフェニル基、ハロゲン原子で置換されたフェニル基、４−ビフェニル基、１−ナフチル基又は２−ナフチル基を示す）
で表わされるスルホニルフルオリド誘導体を有機溶媒中、有機強塩基触媒及びプロトン捕捉剤存在下、トリフルオロメタンを反応させることを特徴とする下記一般式（２）
Ｒ−ＳＯ_２−ＣＦ_３（２）
（式（２）中、Ｒは前記式（１）に同じ）
で表わされるトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法に係る。 That is, the present invention provides the following general formula (1)
_R-SO 2 -F (1)
(In the formula (1), R is phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, carbon. A phenyl group substituted with a linear or branched or cyclic alkyl group of formula 3-4, a phenyl group substituted with a halogen atom, a 4-biphenyl group, a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group)
A sulfonyl fluoride derivative represented by formula (2) is reacted with trifluoromethane in an organic solvent in the presence of an organic strong base catalyst and a proton scavenger.
R—SO ₂ —CF ₃ (2)
(In the formula (2), R is the same as the formula (1))
This relates to a method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative represented by the formula:

本発明により、安価なトルフルオロメタンを用い、高価な有機強塩基を触媒量の使用で、各種トリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造が可能となった。 According to the present invention, various trifluoromethylsulfonyl compound derivatives can be produced by using inexpensive trifluoromethane and using an expensive organic strong base in a catalytic amount.

以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において、炭素数３〜４の直鎖若しくは分岐若しくは環式のアルキル基で置換されたフェニル基とは、２−ｎ−プロピルフェニル基、３−ｎ−プロピルフェニル基、４−ｎ−プロピルフェニル基、２−ｉｓｏ−プロピルフェニル基、３−ｉｓｏ−プロピルフェニル基、４−ｉｓｏ−プロピルフェニル基、２−ｃｙｃｌｏ−プロピルフェニル基、３−ｃｙｃｌｏ−プロピルフェニル基、２−ｎ−ブチルフェニル基、３−ｎ−ブチルフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、２−ｉｓｏ−ブチルフェニル基、３−ｉｓｏ−ブチルフェニル基、４−ｉｓｏ−ブチルフェニル基、２−ｓｅｃ−ブチルフェニル基、３−ｓｅｃ−ブチルフェニル基、４−ｓｅｃ−ブチルフェニル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２−ｃｙｃｌｏ−ブチルフェニル基、３−ｃｙｃｌｏ−ブチルフェニル基、４−ｃｙｃｌｏ−ブチルフェニル基を表わす。 Hereinafter, the present invention will be described in detail.
In the present invention, the phenyl group substituted with a linear or branched or cyclic alkyl group having 3 to 4 carbon atoms is 2-n-propylphenyl group, 3-n-propylphenyl group, 4-n-propyl. Phenyl group, 2-iso-propylphenyl group, 3-iso-propylphenyl group, 4-iso-propylphenyl group, 2-cyclo-propylphenyl group, 3-cyclo-propylphenyl group, 2-n-butylphenyl group 3-n-butylphenyl group, 4-n-butylphenyl group, 2-iso-butylphenyl group, 3-iso-butylphenyl group, 4-iso-butylphenyl group, 2-sec-butylphenyl group, 3 -Sec-butylphenyl group, 4-sec-butylphenyl group, 2-tert-butylphenyl group, 3-tert-butylphenyl Group, 4-tert-butylphenyl group, 2-cyclo- butylphenyl group, 3-cyclo- butyl phenyl group, a 4-cyclo- butylphenyl group.

本発明において、ハロゲン原子で置換されたフェニル基とは、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、４−フルオロフェニル基、２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−ヨードフェニル基、３−ヨードフェニル基、４−ヨードフェニル基を表わす。 In the present invention, the phenyl group substituted with a halogen atom means a 2-fluorophenyl group, a 3-fluorophenyl group, a 4-fluorophenyl group, a 2-chlorophenyl group, a 3-chlorophenyl group, a 4-chlorophenyl group, 2- A bromophenyl group, a 3-bromophenyl group, a 4-bromophenyl group, a 2-iodophenyl group, a 3-iodophenyl group, and a 4-iodophenyl group are represented.

本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法に適用可能な一般式（１）で表わされるスルホニルフルオリド誘導体としては、具体的には例えば、ベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−トルエンスルホニルフルオリド、ｍ−トルエンスルホニルフルオリド、ｐ−トルエンスルホニルフルオリド、ｏ−エチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−エチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−エチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−ｎ−プロピルベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ｎ−プロピルベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ｎ−プロピルベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−クメンスルホニルフルオリド、ｍ−クメンスルホニルフルオリド、ｐ−クメンスルホニルフルオリド、ｏ−ｃｙｃｌｏ−プロピルベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ｃｙｃｌｏ−プロピルベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ｃｙｃｌｏ−プロピルベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−ｎ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ｎ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ｎ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−ｉｓｏ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ｉｓｏ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ｉｓｏ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−ｓｅｃ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ｓｅｃ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ｓｅｃ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−ｃｙｃｌｏ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ｃｙｃｌｏ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ｃｙｃｌｏ−ブチルベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−フルオロベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−フルオロベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−フルオロベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−クロロベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−クロロベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−クロロベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−ブロモベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ブロモベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ブロモベンゼンスルホニルフルオリド、ｏ−ヨードベンゼンスルホニルフルオリド、ｍ−ヨードベンゼンスルホニルフルオリド、ｐ−ヨードベンゼンスルホニルフルオリド、４−ビフェニルスルホニルフルオリド、１−ナフタレンスルホニルフルオリド、２−ナフタレンスルホニルフルオリド等を挙げることができる。 Specific examples of the sulfonyl fluoride derivative represented by the general formula (1) applicable to the method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative of the present invention include benzenesulfonyl fluoride, o-toluenesulfonyl fluoride, m -Toluenesulfonyl fluoride, p-toluenesulfonyl fluoride, o-ethylbenzenesulfonyl fluoride, m-ethylbenzenesulfonyl fluoride, p-ethylbenzenesulfonyl fluoride, on-propylbenzenesulfonyl fluoride, mn-propylbenzene Sulfonyl fluoride, pn-propylbenzenesulfonyl fluoride, o-cumenesulfonyl fluoride, m-cumenesulfonyl fluoride, p-cumenesulfonyl fluoride, o-cyclo-propylbenzene Sulfonyl fluoride, m-cyclo-propylbenzenesulfonyl fluoride, p-cyclo-propylbenzenesulfonyl fluoride, on-butylbenzenesulfonyl fluoride, mn-butylbenzenesulfonyl fluoride, pn-butyl Benzenesulfonyl fluoride, o-iso-butylbenzenesulfonyl fluoride, m-iso-butylbenzenesulfonyl fluoride, p-iso-butylbenzenesulfonyl fluoride, o-sec-butylbenzenesulfonyl fluoride, m-sec-butyl Benzenesulfonyl fluoride, p-sec-butylbenzenesulfonyl fluoride, o-tert-butylbenzenesulfonyl fluoride, m-tert-butylbenzenesulfonyl fluoride, p-tert-butyl Rubenzenesulfonyl fluoride, o-cyclo-butylbenzenesulfonyl fluoride, m-cyclo-butylbenzenesulfonyl fluoride, p-cyclo-butylbenzenesulfonyl fluoride, o-fluorobenzenesulfonyl fluoride, m-fluorobenzenesulfonyl fluoride P-fluorobenzenesulfonyl fluoride, o-chlorobenzenesulfonyl fluoride, m-chlorobenzenesulfonyl fluoride, p-chlorobenzenesulfonyl fluoride, o-bromobenzenesulfonyl fluoride, m-bromobenzenesulfonyl fluoride, p-bromo Benzenesulfonyl fluoride, o-iodobenzenesulfonyl fluoride, m-iodobenzenesulfonyl fluoride, p-iodobenzenesulfonyl fluoride Examples thereof include olido, 4-biphenylsulfonyl fluoride, 1-naphthalenesulfonyl fluoride, 2-naphthalenesulfonyl fluoride, and the like.

本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法により製造できる一般式（２）で表わされるトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体としては、具体的には例えば、トリフルオロメチルスルホニルベンゼン、１−メチル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−メチル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−メチル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−エチル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−エチル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−エチル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｎ−プロピル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｎ−プロピル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｎ−プロピル−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｉｓｏ−プロピル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｉｓｏ−プロピル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｉｓｏ−プロピル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｃｙｃｌｏ−プロピル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｃｙｃｌｏ−プロピル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｃｙｃｌｏ−プロピル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｎ−ブチル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｎ−ブチル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｎ−ブチル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｉｓｏ−ブチル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｉｓｏ−ブチル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｉｓｏ−ブチル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｓｅｃ−ブチル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｓｅｃ−ブチル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｓｅｃ−ブチル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｔｅｒｔ−ブチル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｔｅｒｔ−ブチル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（トリフルオロメチル）スルホニルベンゼン、１−ｃｙｃｌｏ−ブチル−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｃｙｃｌｏ−ブチル−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ｃｙｃｌｏ−ブチル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−フルオロ−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−フルオロ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−フルオロ−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−クロロ−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−クロロ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−クロロ−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ブロモ−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ブロモ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ブロモ−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ヨード−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ヨード−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、１−ヨード−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン、４−（トリフルオロメチルスルホニル）ビフェニル、１−（トリフルオロメチルスルホニル）ナフタレン、２−（トリフルオロメチルスルホニル）ナフタレン等を挙げることができる。 Specific examples of the trifluoromethylsulfonyl compound derivative represented by the general formula (2) that can be produced by the method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative of the present invention include trifluoromethylsulfonylbenzene, 1-methyl-2- (Trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-methyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-methyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-ethyl-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-ethyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-ethyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-n-propyl-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-n-propyl- 3- (Trifluoromethylsulfoni ) Benzene, 1-n-propyl- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-iso-propyl-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-iso-propyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1 -Iso-propyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-cyclo-propyl-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-cyclo-propyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-cyclo -Propyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-n-butyl-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-n-butyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-n-butyl -4- (trifluoromethylsulfoni ) Benzene, 1-iso-butyl-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-iso-butyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-iso-butyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene 1-sec-butyl-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-sec-butyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-sec-butyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1 -Tert-butyl-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-tert-butyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-tert-butyl-4- (trifluoromethyl) sulfonylbenzene, 1-cyclo -Butyl-2- (trifluoromethylsulfo Nyl) benzene, 1-cyclo-butyl-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-cyclo-butyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-fluoro-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-fluoro-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-fluoro-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-chloro-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-chloro-3- (trimethyl) Fluoromethylsulfonyl) benzene, 1-chloro-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-bromo-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-bromo-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1- Bromo-4- (trifluoromethylsulf Nyl) benzene, 1-iodo-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-iodo-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 1-iodo-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene, 4- (tri Fluoromethylsulfonyl) biphenyl, 1- (trifluoromethylsulfonyl) naphthalene, 2- (trifluoromethylsulfonyl) naphthalene and the like.

本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法に適用可能な有機強塩基としては、塩基として用いられる有機化合物の総称であって、プロトンを受容するブレンステッド塩基を示し、窒素上に容易にプロトンを受容してアンモニウムなどのカチオン（共役酸）を形成する化合物である。
本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法に適用可能な有機強塩基としては、具体的には例えば、１，１，３，３−テトラメチルブチルイミノ−トリス（ジメチルアミノ）フォスフォラン（以下Ｐ_１-Ｏｃｔと略す）、ｔｅｒｔ−ブチルイミノ−トリス（ジメチルアミノ）フォスフォラン（以下Ｐ_１-^ｔＢｕと略す）、２−ｔｅｒｔ−ブチルイミノ−２−ジエチルアミノ−１，３−ジメチルペルヒドロ−１，３，２−ジアザホスホリン（以下ＢＥＭＰと略す）、ｔｅｒｔ−ブチルイミノ−トリス（ピロリジノ）フォスフォラン（以下ＢＴＰＰと略す）、Ｎ'''−［Ｎ−エチル−Ｐ，Ｐ−ビス（ジメチルアミノ）フォスフィニミル］−Ｎ，Ｎ，Ｎ'，Ｎ'，Ｎ''，Ｎ''−ヘキサメチルフォスフォリミジクトリアミド（以下Ｐ_２−Ｅｔと略す）、１−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４，４−トリス(ジメチルアミノ)−２，２−ビス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]−２λ^５，４λ^５−カテナジ（以下Ｐ_４-^ｔＢｕと略す）等が挙げられ、反応に具する一般式（１）で表されるスルホニルフルオリド誘導体に対して、０．０５モル量〜０．５０モル量使用するとよい。 The organic strong base applicable to the method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative of the present invention is a general term for organic compounds used as a base, and represents a Bronsted base that accepts a proton, and is easily protonated on nitrogen. Is a compound that accepts and forms cations (conjugated acids) such as ammonium.
As the organic strong base applicable to the method for producing the trifluoromethylsulfonyl compound derivative of the present invention, specifically, for example, 1,1,3,3-tetramethylbutylimino-tris (dimethylamino) phosphorane (hereinafter referred to as “1,1,3,3-tetramethylbutylimino-tris (dimethylamino) phosphorane”). P ₁ -Oct), tert-butylimino-tris (dimethylamino) phosphorane (hereinafter abbreviated as P ₁ ^-t Bu), 2-tert-butylimino-2-diethylamino-1,3-dimethylperhydro-1, 3,2-diazaphosphorin (hereinafter abbreviated as BEMP), tert-butylimino-tris (pyrrolidino) phosphorane (hereinafter abbreviated as BTPP), N ′ ″-[N-ethyl-P, P-bis (dimethylamino) phosphini Mill] -N, N, N ′, N ′, N ″, N ″ -hexamethylphosphorimiditriamide (hereinafter P ₂ -Et), 1-tert-butyl-4,4,4-tris (dimethylamino) -2,2-bis [tris (dimethylamino) phosphoranylideneamino] -2λ ⁵ , 4λ ⁵ -catenadi (hereinafter referred to as “-Et”) P ₄ ^-t Bu) and the like, and it is preferable to use 0.05 mol amount to 0.50 mol amount with respect to the sulfonyl fluoride derivative represented by the general formula (1) included in the reaction.

本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法に適用可能なプロトン捕捉剤としては、具体的には例えば、トリス（トリメチルシリル）アミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルトリメチルシリルアミン、１−（トリメチルシリル）プロピン等が挙げられ、反応に具する一般式（１）で表されるスルホニルフルオリド誘導体に対して、１．００モル量〜２．００モル量使用するとよい。 Specific examples of the proton scavenger applicable to the method for producing the trifluoromethylsulfonyl compound derivative of the present invention include tris (trimethylsilyl) amine, N, N-dimethyltrimethylsilylamine, 1- (trimethylsilyl) propyne and the like. It is good to use 1.00 mol amount-2.00 mol amount with respect to the sulfonyl fluoride derivative represented by General formula (1) mentioned and mentioned for reaction.

本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法に使用するトリフルオロメタンの使用量は、反応に具する一般式（１）で表されるスルホニルフルオリド誘導体に対して、１．００モル量〜１００．００モル量とするとよく、通常はスルホニルフルオリド誘導体に対して大過剰使用するとよい。
本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法に適用可能な有機溶媒としては、反応に不活性なものであれば特に制限されないが、具体的には例えば、エーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦと略す）等のエーテル系有機溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性有機溶媒等が挙げられ、反応に具する一般式（１）で表されるスルホニルフルオリド誘導体に対して、２．０重量倍〜１００重量倍量使用するとよい。 The amount of trifluoromethane used in the method for producing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative of the present invention is from 1.00 to 100 mol based on the sulfonyl fluoride derivative represented by the general formula (1) included in the reaction. The amount is preferably 0.000 mol, and usually in a large excess with respect to the sulfonyl fluoride derivative.
The organic solvent applicable to the method for producing the trifluoromethylsulfonyl compound derivative of the present invention is not particularly limited as long as it is inert to the reaction. Specifically, for example, ether, diisopropyl ether, tetrahydrofuran (hereinafter, Ether-based organic solvents such as THF) and aprotic polar organic solvents such as N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and dimethyl sulfoxide. It is good to use 2.0 weight times-100 weight times amount with respect to the sulfonyl fluoride derivative represented.

本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法における反応温度及び時間としては、−２０〜４０℃の温度範囲で１〜２４時間とするとよい。
本発明のトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法の後処理としては、特に制限されず周知の方法で実施可能であり、例えば、飽和の塩化アンモニウム水溶液を添加、ジクロロメタン等の溶剤で抽出、抽出液を硫酸ナトリウム上で乾燥、ろ過、濃縮の後、さらに、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等で精製し、一般式（２）で表わされるトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体を得ることができる。 As reaction temperature and time in the manufacturing method of the trifluoromethylsulfonyl compound derivative of this invention, it is good to set it as 1 to 24 hours in the temperature range of -20-40 degreeC.
The post-treatment of the method for producing the trifluoromethylsulfonyl compound derivative of the present invention is not particularly limited and can be carried out by a known method. For example, a saturated aqueous ammonium chloride solution is added, and extraction with a solvent such as dichloromethane is performed. Can be dried over sodium sulfate, filtered, concentrated, and further purified by silica gel column chromatography or the like to obtain a trifluoromethylsulfonyl compound derivative represented by the general formula (2).

以下実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。
なお、分析には下記機器を使用した。
^１Ｈ−ＮＭＲ及び^１９Ｆ−ＮＭＲ：バリアン社製マーキュリー３００（Varian Mercury 300）。
^１３Ｃ−ＮＭＲ：ブルカー社製アバンス５００（Burker Avance 500）。
ＧＣＭＳ（ＥＩ）：島津社製ＧＣＭＳ−ＱＰ５０５０Ａ。
ＩＲ：ジャスコ社製ＦＴ／ＩＲ−２００スペクトロメーター（JASCO FT/IR-200 spectrometer）。
ＨＲＭＳ：ウオーターズ社製ＧＣＴプレマイアー（Waters GCT Premier）。
融点：ビュッヒ社製メルティングポイントＭ−５６５（BUCHI Melting Point M-565）
実施例１４−（トリフルオロメチルスルホニル）ビフェニル（３）の調製 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited only to these examples.
The following equipment was used for the analysis.
¹ H-NMR and ¹⁹ F-NMR: Varian Mercury 300 manufactured by Varian.
¹³ C-NMR: Bruker Avance 500 (Burker Avance 500).
GCMS (EI): Shimadzu GCMS-QP5050A.
IR: FT / IR-200 spectrometer (JASCO FT / IR-200 spectrometer) manufactured by Jusco.
HRMS: Waters GCT Premier manufactured by Waters.
Melting point: BUCHI Melting Point M-565
Example 1 Preparation of 4- (trifluoromethylsulfonyl) biphenyl (3)

室温下、攪拌子を備えたシュレンク管に、４−ビフェニルスルホニルフルオリド（２３．６ｍｇ，０．１０ｍｍｏｌ）、トリス（トリメチルシリル）アミン（７０．１ｍｇ，０．３０ｍｍｏｌ，１．５ｅｑｕｉｖ．）のＤＭＦ（０．５０ｍＬ）溶液を仕込み、０℃に冷却の後、これにＰ_４−ｔＢｕ塩基（３７．５μＬ，０．０３０ｍｍｏｌ，０．３０ｅｑｕｉｖ．）を添加した。次いでトリフルオロメタン（過剰）を１分間バブリング供給した後、同温度で７時間反応を行った。反応終了後、飽和の塩化アンモニウム水溶液を添加、塩化メチレンで抽出、得られた有機層を飽和の塩化ナトリウム水溶液で洗浄、無水硫酸ナトリウム上で乾燥、減圧下溶媒留去し粗製物を得た。得られた粗製物をシリカゲルクロマトグラフィーで精製することにより目的物の４−（トリフルオロメチルスルホニル）ビフェニル（３）を収率８４％で得た。
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ７．５０−７．５２（ｍ，３Ｈ），７．６４（ｄ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ），７．８６（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），８．１０（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，２８２ＭＨｚ）δ−７８．９（ｓ，３Ｆ）。
ＭＳ（ＥＩ，ｍ／ｚ）２８６（Ｍ^＋）。 At room temperature, a Schlenk tube equipped with a stirrer was charged with 4-biphenylsulfonyl fluoride (23.6 mg, 0.10 mmol), tris (trimethylsilyl) amine (70.1 mg, 0.30 mmol, 1.5 equiv.) In DMF ( 0.50 mL) solution was charged and cooled to 0 ° C., and then P ₄ -tBu base (37.5 μL, 0.030 mmol, 0.30 equiv.) Was added thereto. Subsequently, trifluoromethane (excess) was bubbled in for 1 minute, and then the reaction was performed at the same temperature for 7 hours. After completion of the reaction, a saturated aqueous ammonium chloride solution was added, extracted with methylene chloride, and the resulting organic layer was washed with a saturated aqueous sodium chloride solution, dried over anhydrous sodium sulfate, and the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain a crude product. The obtained crude product was purified by silica gel chromatography to obtain the desired 4- (trifluoromethylsulfonyl) biphenyl (3) in a yield of 84%.
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 7.50-7.52 (m, 3H), 7.64 (d, J = 6.3 Hz, 2H), 7.86 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 8.10 (d, J = 8.4 Hz, 2H).
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 282 MHz) δ-78.9 (s, 3F).
MS (EI, m / z) 286 (M ^<+> ).

実施例２〜９各種トリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の調製
実施例１と同じ反応装置を用い、表１中に示した条件下、下記に示す反応を行った。結果を、ＲＳＯ_２Ｆ（４）、ＲＳＯ_２ＣＦ_３（５）、Ｐ_４−ｔＢｕ（equiv.）、Ｔｅｍｐ（温度、℃）、Ｔｉｍｅ（時間、ｈｒｓ）、収率（％）として、表１中に示した。 Examples 2 to 9 Preparation of various trifluoromethylsulfonyl compound derivatives The following reaction was performed under the conditions shown in Table 1 using the same reaction apparatus as in Example 1. The results are shown in Table 1 as RSO ₂ F (4), RSO ₂ CF ₃ (5), P ₄ -tBu (equiv.), Temp (temperature, ° C.), Time (hour, hrs), and yield (%). Shown in.

^１）実施例２の生成物：１−クロロ−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ７．６６（ｄ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ），７．９８（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，２８２ＭＨｚ）δ−７８．８（ｓ，３Ｆ）。
ＭＳ（ＥＩｍ／ｚ）２４４（Ｍ^＋）。
^２）実施例３の生成物：１−ブロモ−２−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ７．６１−７．６２（ｍ，２Ｈ），７．８８（ｄ，Ｊ＝２．４Ｈｚ，１Ｈ），８．２３（ｍ，１Ｈ）。
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１２５．８ＭＨｚ）δ１１９．８（ｑ，Ｊ＝３３６．７Ｈｚ），１２３．６，１２８．４，１３１．７（ｄ，Ｊ＝１．３Ｈｚ），１３５．２，１３６．８，１３７．１。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１８８ＭＨｚ）δ−７６．２（ｓ，３Ｆ）。
ＩＲ（ｎｅａｔ）３０９０，２９２５，１５７４，１４２３，１３７２，１２６０，１２１７，１１４４，１０９１，１０２６，７６２，７３５，６９９，６４９，６０４，５７６，５４２，５２３，５０９，５０１。
ＭＳ（ＥＩ，ｍ／ｚ）２８８（Ｍ^＋−１），２９０（Ｍ^＋＋１）。
ＨＲＭＳ（ＥＩ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_８Ｈ_４ＢｒＦ_３Ｏ_２Ｓ（Ｍ）^＋：２８７．９０６７Ｆｏｕｎｄ：２８７．９０７７。
^３）実施例４の生成物：１−ブロモ−３−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ７．５７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，１Ｈ），７．９８（ｍ，２Ｈ），８．１８（ｓ，１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，２８２ＭＨｚ）δ−７８．５（ｓ，３Ｆ）。
ＭＳ（ＥＩ，ｍ／ｚ）２８８（Ｍ^＋−１），２９０（Ｍ^＋＋１）。
^４）実施例５の生成物：１−ブロモ−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ７．８３（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，２８２ＭＨｚ）δ−７８．７（ｓ，３Ｆ）。
ＭＳ（ＥＩ，ｍ／ｚ）２８８（Ｍ^＋−１），２９０（Ｍ^＋＋１）。
^５）実施例６の生成物：１−ヨード−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ７．７２（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），８．０６（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ）。
^１３Ｃ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１２５．８ＭＨｚ）δ１０５．９，１１９．６（ｑ，Ｊ＝３２５．８Ｈｚ），１３０．９，１３１．７，１３９．３。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，１８８ＭＨｚ）δ−７８．８（ｓ，３Ｆ）。
ＩＲ（ＫＢｒ）３０９０，２９２５，１９２３，１７９６，１６４９，１５６６，１４７０，１３６３，１２７５，１２１４，１１４０，１０７２，１００７，９５６，８８７，８１８，７６４，７３２，６９８，６１４，５７８，５２１ｃｍ^−１。
ｍｐ＝７５．６−７６．６ oＣ（ＣＨＣｌ_３）。
ＭＳＥＩ，ｍ／ｚ）３３６（Ｍ^＋）。
ＨＲＭＳ（ＥＩ）ｃａｌｃｄ．ｆｏｒＣ_７Ｈ_４Ｆ_３ＩＯ_２（Ｍ^＋）：３３５．８９２９Ｆｏｕｎｄ：３３５．８９４０。
^６）実施例７の生成物：１−ｉｓｏ−プロピル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ１．３１（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ），３．０３−３．０８（ｍ，１Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ），７．９５（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，２８２ＭＨｚ）δ−７９．１（ｓ，３Ｆ）。
ＭＳ（ＥＩ，ｍ／ｚ）２５２（Ｍ^＋）。
^７）実施例８の生成物：１−ｔｅｒｔ−ブチル−４−（トリフルオロメチルスルホニル）ベンゼン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ１．３８（ｓ，９Ｈ），７．６７（ｄ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），７．９６（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，２Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，２８２ＭＨｚ）δ−７９．１（ｓ，３Ｆ）。
ＭＳ（ＥＩ，ｍ／ｚ）２６６（Ｍ^＋）。
^８）実施例９の生成物：１−（トリフルオロメチルスルホニル）ナフタレン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ７．６６−７．７９（ｍ，３Ｈ），８．０１（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．３０（ｄ，Ｊ＝７．８Ｈｚ，１Ｈ），８．４７（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１Ｈ），８．８２（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，２８２ＭＨｚ）δ−７８．３（ｓ，３Ｆ）。
ＭＳ（ＥＩ，ｍ／ｚ）２６０（Ｍ^＋）。
^９）実施例１０の生成物：２−（トリフルオロメチルスルホニル）ナフタレン
^１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，３００ＭＨｚ）δ７．７１−７．７８（ｍ，２Ｈ），７．９４−８．０１（ｍ，２Ｈ），８．０６−８．１１（ｍ，２Ｈ），８．６６（ｓ，１Ｈ）。
^１９Ｆ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３，２８２ＭＨｚ）δ−７８．７（ｓ，３Ｆ）。
ＭＳ（ＥＩ，ｍ／ｚ）２６０（Ｍ^＋）。 ¹⁾ Product of Example 2: 1-chloro-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 7.66 (d, J = 6.6 Hz, 2H), 7.98 (d, J = 6.9 Hz, 2H).
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 282 MHz) δ-78.8 (s, 3F).
MS (EI m / z) 244 (M ^<+> ).
²⁾ Product of Example 3: 1-bromo-2- (trifluoromethylsulfonyl) benzene
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 7.61-7.62 (m, 2H), 7.88 (d, J = 2.4 Hz, 1H), 8.23 (m, 1H).
¹³ C-NMR (CDCl ₃ , 125.8 MHz) δ 119.8 (q, J = 336.7 Hz), 123.6, 128.4, 131.7 (d, J = 1.3 Hz), 135.2 136.8, 137.1.
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 188 MHz) δ-76.2 (s, 3F).
IR (neat) 3090, 2925, 1574, 1423, 1372, 1260, 1217, 1144, 1091, 1026, 762, 735, 699, 649, 604, 576, 542, 523, 509, 501.
MS (EI, m / z) 288 (M ⁺ -1), 290 (M ⁺⁺ 1).
HRMS (EI) calcd. _{_{_{for C 8 H 4 BrF 3 O}}} 2 S (M) +: 287.9067 Found: 287.9077.
³⁾ Product of Example 4: 1-bromo-3- (trifluoromethylsulfonyl) benzene
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 7.57 (t, J = 7.2 Hz, 1H), 7.98 (m, 2H), 8.18 (s, 1H).
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 282 MHz) δ-78.5 (s, 3F).
MS (EI, m / z) 288 (M ⁺ -1), 290 (M ⁺⁺ 1).
⁴⁾ Product of Example 5: 1-bromo-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 7.83 (d, J = 8.4 Hz, 2H), 7.90 (d, J = 8.1 Hz, 2H).
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 282 MHz) δ-78.7 (s, 3F).
MS (EI, m / z) 288 (M ⁺ -1), 290 (M ⁺⁺ 1).
⁵⁾ Product of Example 6: 1-iodo-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 7.72 (d, J = 8.1 Hz, 2H), 8.06 (d, J = 8.4 Hz, 2H).
¹³ C-NMR (CDCl ₃ , 125.8 MHz) δ 105.9, 119.6 (q, J = 325.8 Hz), 130.9, 131.7, 139.3.
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 188 MHz) δ-78.8 (s, 3F).
IR (KBr) 3090, 2925, 1923, 1796, 1649, 1566, 1470, 1363, 1275, 1214, 1140, 1072, 1007, 956, 887, 818, 764, 732, 698, 614, 578, 521 cm ⁻¹ .
_{mp = 75.6-76.6 oC (CHCl 3)} .
MS EI, m / z) 336 (M ^<+> ).
HRMS (EI) calcd. _{_{_{for C 7 H 4 F 3 IO}}} 2 (M +): 335.8929 Found: 335.8940.
⁶⁾ Product of Example 7: 1-iso-propyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 1.31 (d, J = 6.9 Hz, 6H), 3.03-3.08 (m, 1H), 7.51 (d, J = 7.5 Hz, 2H), 7.95 (d, J = 7.2 Hz, 2H).
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 282 MHz) δ-79.1 (s, 3F).
MS (EI, m / z) 252 (M ^<+> ).
⁷⁾ Product of Example 8: 1-tert-butyl-4- (trifluoromethylsulfonyl) benzene
^{_{1 H-NMR (CDCl 3,}} 300MHz) δ1.38 (s, 9H), 7.67 (d, J = 7.2Hz, 2H), 7.96 (d, J = 7.8Hz, 2H).
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 282 MHz) δ-79.1 (s, 3F).
MS (EI, m / z) 266 (M ^<+> ).
⁸⁾ Product of Example 9: 1- (trifluoromethylsulfonyl) naphthalene
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 7.66-7.79 (m, 3H), 8.01 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.30 (d, J = 7.8 Hz, 1H), 8.47 (d, J = 6.9 Hz, 1H), 8.82 (d, J = 8.4 Hz, 1H).
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 282 MHz) δ-78.3 (s, 3F).
MS (EI, m / z) 260 (M ^<+> ).
⁹⁾ Product of Example 10: 2- (trifluoromethylsulfonyl) naphthalene
¹ H-NMR (CDCl ₃ , 300 MHz) δ 7.71-7.78 (m, 2H), 7.94-8.01 (m, 2H), 8.06-8.11 (m, 2H), 8 .66 (s, 1H).
¹⁹ F-NMR (CDCl ₃ , 282 MHz) δ-78.7 (s, 3F).
MS (EI, m / z) 260 (M ^<+> ).

本発明のトリフルオロメタンを用い、直接、求核的トリフルオロメチル基を導入する方法は、医農薬や電子材料分野において、トリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の合成方法として有用である。 The method of directly introducing a nucleophilic trifluoromethyl group using the trifluoromethane of the present invention is useful as a method for synthesizing a trifluoromethylsulfonyl compound derivative in the fields of medical and agricultural chemicals and electronic materials.

Claims

下記一般式（１）
Ｒ−ＳＯ_２−Ｆ（１）
（式（１）中、Ｒは、フェニル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、２−エチルフェニル基、３−エチルフェニル基、４−エチルフェニル基、炭素数３〜４の直鎖若しくは分岐若しくは環式のアルキル基で置換されたフェニル基、ハロゲン原子で置換されたフェニル基、４−ビフェニル基、１−ナフチル基又は２−ナフチル基を示す）
で表わされるスルホニルフルオリド誘導体を有機溶媒中、有機強塩基触媒及びプロトン捕捉剤存在下、トリフルオロメタンを反応させることを特徴とする下記一般式（２）
Ｒ−ＳＯ_２−ＣＦ_３（２）
（式（２）中、Ｒは前記式（１）に同じ）
で表わされるトリフルオロメチルスルホニル化合物誘導体の製造方法。 The following general formula (1)
_R-SO 2 -F (1)
(In the formula (1), R is phenyl group, 2-methylphenyl group, 3-methylphenyl group, 4-methylphenyl group, 2-ethylphenyl group, 3-ethylphenyl group, 4-ethylphenyl group, carbon. A phenyl group substituted with a linear or branched or cyclic alkyl group of formula 3-4, a phenyl group substituted with a halogen atom, a 4-biphenyl group, a 1-naphthyl group or a 2-naphthyl group)
A sulfonyl fluoride derivative represented by formula (2) is reacted with trifluoromethane in an organic solvent in the presence of an organic strong base catalyst and a proton scavenger.
R—SO ₂ —CF ₃ (2)
(In the formula (2), R is the same as the formula (1))
The manufacturing method of the trifluoromethylsulfonyl compound derivative represented by these.

有機強塩基が１−ｔｅｒｔ−ブチル−４，４，４−トリス(ジメチルアミノ)−２，２−ビス[トリス(ジメチルアミノ)ホスホラニリデンアミノ]−２λ^５，４λ^５−カテナジであることを特徴とする請求項１に記載の製造方法。 The organic strong base is 1-tert-butyl-4,4,4-tris (dimethylamino) -2,2-bis [tris (dimethylamino) phosphoranylideneamino] -2λ ⁵ , 4λ ⁵ -catenadi The manufacturing method of Claim 1 characterized by the above-mentioned.

有機強塩基の使用量が、原料のスルホニルフルオリド誘導体に対して０．０１モル量〜０．５０モル量の範囲であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の製造方法。 3. The production method according to claim 1, wherein the amount of the organic strong base used is in a range of 0.01 mol amount to 0.50 mol amount with respect to the sulfonyl fluoride derivative as a raw material.