JP2016201462A - Bonding device and bonding system - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板同士を接合する接合装置、及び当該接合装置を備えた接合システムに関する。 The present invention relates to a bonding apparatus for bonding substrates together and a bonding system including the bonding apparatus.
近年、半導体デバイスの高集積化が進んでいる。高集積化した複数の半導体デバイスを水平面内で配置し、これら半導体デバイスを配線で接続して製品化する場合、配線長が増大し、それにより配線の抵抗が大きくなること、また配線遅延が大きくなることが懸念される。 In recent years, semiconductor devices have been highly integrated. When a plurality of highly integrated semiconductor devices are arranged in a horizontal plane and these semiconductor devices are connected by wiring to produce a product, the wiring length increases, thereby increasing the wiring resistance and wiring delay. There is concern about becoming.
そこで、半導体デバイスを3次元に積層する3次元集積技術を用いることが提案されている。この3次元集積技術においては、例えば特許文献1に記載の接合システムを用いて、2枚の半導体ウェハ(以下、「ウェハ」という。)の接合が行われる。例えば接合システムは、ウェハの接合される表面を改質する表面改質装置と、当該表面改質装置で改質されたウェハの表面を親水化する表面親水化装置と、当該表面親水化装置で表面が親水化されたウェハ同士を接合する接合装置と、を有している。この接合システムでは、表面改質装置においてウェハの表面に対してプラズマ処理を行い当該表面を改質し、さらに表面親水化装置においてウェハの表面に純水を供給して当該表面を親水化した後、接合装置においてウェハ同士をファンデルワールス力及び水素結合(分子間力)によって接合する。 Thus, it has been proposed to use a three-dimensional integration technique in which semiconductor devices are stacked three-dimensionally. In this three-dimensional integration technology, for example, two semiconductor wafers (hereinafter referred to as “wafers”) are bonded using a bonding system described in Patent Document 1. For example, a bonding system includes a surface modifying device for modifying a surface to which a wafer is bonded, a surface hydrophilizing device for hydrophilizing a wafer surface modified by the surface modifying device, and the surface hydrophilizing device. And a bonding apparatus for bonding wafers having hydrophilic surfaces. In this bonding system, the surface of the wafer is subjected to plasma treatment in a surface modification device to modify the surface, and the surface is hydrophilized by supplying pure water to the surface of the wafer in the surface hydrophilization device. In the bonding apparatus, the wafers are bonded to each other by van der Waals force and hydrogen bond (intermolecular force).
上記接合装置は、下面に一のウェハ(以下、「上ウェハ」という。)を保持する上チャックと、上チャックの下方に設けられ、上面に他のウェハ(以下、「下ウェハ」という。)を保持する下チャックと、上チャックの上方に設けられ、上ウェハの中心部を押圧する押動部材と、を有している。上チャックには、いわゆるピンチャック方式が用いられている。すなわち、上チャックは、上ウェハを真空引きする本体部と、本体部の下面に設けられ、上ウェハに接触する複数のピンと、を有している。 The bonding apparatus is provided with an upper chuck for holding one wafer (hereinafter referred to as “upper wafer”) on the lower surface and another wafer (hereinafter referred to as “lower wafer”) on the upper surface. And a pusher member that is provided above the upper chuck and presses the center of the upper wafer. A so-called pin chuck system is used for the upper chuck. That is, the upper chuck has a main body part that evacuates the upper wafer and a plurality of pins that are provided on the lower surface of the main body part and come into contact with the upper wafer.
かかる接合装置では、上チャックに保持された上ウェハと下チャックに保持された下ウェハを対向配置した状態で、押動部材によって上ウェハの中央部を押圧しながら下降させ、当該上ウェハの中心部と下ウェハの中心部を当接させる。その後、上ウェハの中心部と下ウェハの中心部が当接した状態で、上チャックによる上ウェハの真空引きを停止し、上ウェハの中心部から外周部に向けて、上ウェハと下ウェハを順次接合する(以下、この接合の拡がりをボンディングウェーブという)。 In such a bonding apparatus, in a state where the upper wafer held by the upper chuck and the lower wafer held by the lower chuck are arranged to face each other, the center of the upper wafer is lowered while pressing the central portion of the upper wafer by the pushing member. And the central portion of the lower wafer are brought into contact with each other. After that, with the center part of the upper wafer and the center part of the lower wafer in contact with each other, evacuation of the upper wafer by the upper chuck is stopped, and the upper wafer and the lower wafer are moved from the center part of the upper wafer toward the outer peripheral part. Bonding is performed sequentially (hereinafter, this bonding spread is called a bonding wave).
ところで、上述の特許文献1の接合装置では、上ウェハを上チャックから剥離させて上ウェハと下ウェハを接合するが、この上ウェハの剥離性が悪いと、ボンディングウェーブが真円状にならない場合がある。そうすると、上ウェハと下ウェハが接合された重合ウェハには、鉛直方向の歪み(ディストーション)が生じるおそれがある。 By the way, in the above-described joining apparatus of Patent Document 1, the upper wafer is peeled off from the upper chuck and the upper wafer and the lower wafer are joined. If the peelability of the upper wafer is poor, the bonding wave does not become a perfect circle. There is. If it does so, there exists a possibility that the distortion (distortion) of a perpendicular direction may arise in the superposition | polymerization wafer with which the upper wafer and the lower wafer were joined.
そして、上チャックに対する上ウェハの剥離性を向上させるという観点からは、できる限り上ウェハを真空引きする領域が小さい方が好ましい。この点、特許文献1の上チャックは、上ウェハを全面で真空引きするので改善の余地がある。 From the viewpoint of improving the releasability of the upper wafer with respect to the upper chuck, it is preferable that the region where the upper wafer is evacuated is as small as possible. In this regard, the upper chuck of Patent Document 1 has room for improvement because the upper wafer is evacuated over the entire surface.
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、基板を適切に保持しつつ、基板同士を適切に接合することを目的とする。 This invention is made | formed in view of this point, and it aims at joining a board | substrate appropriately, hold | maintaining a board | substrate appropriately.
前記の目的を達成するため、本発明は、基板同士を接合する接合装置であって、下面に第1の基板を真空引きして吸着保持する第1のチャックと、前記第1のチャックの下方に設けられ、上面に第2の基板を真空引きして吸着保持する第2のチャックと、を有し、前記第1のチャックは、本体部と、前記本体部の下面に設けられ、第1の基板に接触し、当該第1の基板を真空引きして吸着する複数の吸引部と、前記本体部の下面において前記複数の吸引部以外の部分に設けられ、第1の基板に接触する複数のピンと、を有することを特徴としている。 In order to achieve the above object, the present invention is a bonding apparatus for bonding substrates, the first chuck holding and sucking the first substrate on the lower surface, and the lower side of the first chuck A second chuck that vacuum-sucks and holds the second substrate on the upper surface, and the first chuck is provided on the main body and the lower surface of the main body. A plurality of suction portions that are in contact with the first substrate and evacuate and suck the first substrate; and a plurality of suction portions that are provided in portions other than the plurality of suction portions on the lower surface of the main body portion and are in contact with the first substrate And a pin.
本発明によれば、第1のチャックにおいて複数の吸引部で第1の基板を真空引きするので、従来のように第1の基板を全面で真空引きする場合に比べて、真空引きする領域を小さくすることができる。したがって、第1のチャックに対する第1の基板の剥離性を向上させることができ、第1の基板と第2の基板が接合された重合基板の鉛直方向の歪みを抑制することができる。また、複数の吸引部で第1の基板を真空引きするので、第1のチャックに保持された第1の基板が水平方向にずれることがない。したがって、基板同士を適切に接合することができる。 According to the present invention, since the first substrate is evacuated by the plurality of suction portions in the first chuck, the region to be evacuated is compared with the case where the first substrate is evacuated over the entire surface as in the prior art. Can be small. Therefore, the peelability of the first substrate with respect to the first chuck can be improved, and vertical distortion of the superposed substrate in which the first substrate and the second substrate are bonded can be suppressed. Further, since the first substrate is evacuated by the plurality of suction portions, the first substrate held by the first chuck does not shift in the horizontal direction. Accordingly, the substrates can be appropriately bonded to each other.
ここで、発明者らは、第1のチャックに対する第1の基板の剥離性を向上させるという観点から、本体部に環状の吸引部を設けることも考えた。しかしながら、例えば第1の基板は、当該第1の基板に拘束力が作用していない通常状態で歪んでいる場合がある。かかる場合、環状の吸引部で第1の基板を吸引すると、当該吸引部において第1の基板が矯正されて、第1の基板全体では歪んでしまう。したがって、かかる観点からも、真空引きする領域を小さくするのが好ましく、本発明は有用である。 Here, the inventors also considered providing an annular suction portion in the main body portion from the viewpoint of improving the peelability of the first substrate with respect to the first chuck. However, for example, the first substrate may be distorted in a normal state in which no binding force acts on the first substrate. In such a case, when the first substrate is sucked by the annular suction portion, the first substrate is corrected by the suction portion, and the entire first substrate is distorted. Therefore, from this point of view, it is preferable to reduce the area to be evacuated, and the present invention is useful.
なお、例えば第1のチャックが真空チャック構造を有する場合、重合基板の鉛直方向の歪みが生じ易くなる。第1のチャックの吸引溝では第1の基板を剥離し易いが、一方、例えばその他の吸着面に窪んだ部分がある場合、真空引きを停止しても、当該窪んだ部分に空気が存在して第1の基板が剥離し難くなる。そうすると、この部分が抵抗になってボンディングウェーブが真円状にならないため、第1の基板が引き伸ばされる。このため、重合基板に鉛直方向の歪みが生じると推察される。 For example, when the first chuck has a vacuum chuck structure, vertical distortion of the superposed substrate is likely to occur. The first groove can easily peel off the first substrate in the suction groove of the first chuck. On the other hand, for example, when there is a depressed portion on the other suction surface, air is present in the depressed portion even when the evacuation is stopped. This makes it difficult for the first substrate to peel off. Then, since this portion becomes a resistance and the bonding wave does not become a perfect circle, the first substrate is stretched. For this reason, it is speculated that vertical distortion occurs in the superposed substrate.
また、基板同士を接合する際には、第1の基板と第2の基板の隙間が小さい方が、重合基板の鉛直方向の歪みを小さくできる。しかしながら、このように隙間を小さくすると、第1のチャックが真空チャック構造を有する場合には、上述した第1のチャックの吸着面の窪んだ部分において、第1の基板がより剥離し難くなる。そうすると、ボンディングウェーブはますます真円状になり難くなり、重合基板に鉛直方向の歪みが生じやすくなる。 Further, when the substrates are bonded to each other, the smaller the gap between the first substrate and the second substrate, the smaller the vertical distortion of the superposed substrate. However, when the gap is reduced in this way, when the first chuck has a vacuum chuck structure, the first substrate is more difficult to peel off at the depressed portion of the suction surface of the first chuck described above. As a result, the bonding wave becomes more difficult to form a perfect circle, and the polymerization substrate is likely to be distorted in the vertical direction.
この点、本発明の第1のチャックはピンチャック構造を有しているので、第1のチャックによる第1の基板の真空引きを停止した際の剥離性が良い。したがって、ボンディングウェーブが真円状になるので、重合基板の鉛直方向の歪みを抑制することができ、基板同士を適切に接合することができる。 In this respect, since the first chuck of the present invention has a pin chuck structure, the peelability when the evacuation of the first substrate by the first chuck is stopped is good. Therefore, since the bonding wave becomes a perfect circle, the vertical distortion of the superposed substrates can be suppressed, and the substrates can be appropriately bonded to each other.
前記複数の吸引部は、前記本体部の下面において同一円周上に設けられていてもよい。 The plurality of suction portions may be provided on the same circumference on the lower surface of the main body portion.
前記複数の吸引部は、前記本体部の下面において複数の円周上に設けられていてもよい。 The plurality of suction portions may be provided on a plurality of circumferences on the lower surface of the main body portion.
前記第2のチャックは、第2の基板を真空引きする他の本体部と、前記他の本体部の上面に設けられ、第2の基板に接触する複数の他のピンと、を有し、前記第1のチャックにおいて隣り合う前記ピンの間隔は、前記第2のチャックにおいて隣り合う前記他のピンの間隔よりも大きくてもよい。 The second chuck has another main body for evacuating the second substrate, and a plurality of other pins provided on the upper surface of the other main body and contacting the second substrate, An interval between the adjacent pins in the first chuck may be larger than an interval between the other pins adjacent in the second chuck.
前記第1のチャックの上方に設けられ、当該第1のチャックを保持するチャック保持部をさらに有し、前記チャック保持部は、前記本体部の上面に設けられた支持部材と、前記支持部材に設けられ、中空且つ内部天井面が傾斜したブロックと、前記ブロックの内部に設けられ、前記天井面と同じ勾配で傾斜した上面を備えたガイドと、前記ガイドを水平方向に押し引きする押し引きネジと、前記ガイドと前記本体部に固定して設けられ、且つ前記支持部材を挿通して設けられたシャフトと、を有していてもよい。 The chuck further includes a chuck holding portion that is provided above the first chuck and holds the first chuck. The chuck holding portion includes a support member provided on an upper surface of the main body, and a support member. A hollow block having an inclined inner ceiling surface, a guide provided inside the block and having an upper surface inclined at the same gradient as the ceiling surface, and a push-pull screw for pushing and pulling the guide in a horizontal direction And a shaft that is fixedly provided to the guide and the main body and that is provided through the support member.
別な観点による本発明は、前記接合装置を備えた接合システムであって、前記接合装置を備えた処理ステーションと、第1の基板、第2の基板又は第1の基板と第2の基板が接合された重合基板をそれぞれ複数保有可能で、且つ前記処理ステーションに対して第1の基板、第2の基板又は重合基板を搬入出する搬入出ステーションと、を備え、前記処理ステーションは、第1の基板又は第2の基板の接合される表面を改質する表面改質装置と、前記表面改質装置で改質された第1の基板又は第2の基板の表面を親水化する表面親水化装置と、前記表面改質装置、前記表面親水化装置及び前記接合装置に対して、第1の基板、第2の基板又は重合基板を搬送するための搬送装置と、を有し、前記接合装置では、前記表面親水化装置で表面が親水化された第1の基板と第2の基板を接合することを特徴としている。 Another aspect of the present invention is a bonding system including the bonding apparatus, wherein a processing station including the bonding apparatus, a first substrate, a second substrate, or a first substrate and a second substrate are provided. A plurality of bonded superposed substrates, and a loading / unloading station for loading / unloading the first substrate, the second substrate, or the superposed substrate to / from the processing station. Surface modifying device for modifying the surface to which the substrate or the second substrate is bonded, and surface hydrophilization for hydrophilizing the surface of the first substrate or the second substrate modified by the surface modifying device An apparatus, and a transfer device for transferring the first substrate, the second substrate, or the superposed substrate to the surface modification device, the surface hydrophilization device, and the bonding device, and the bonding device In the surface hydrophilizing device, the surface is hydrophilic. It is characterized by bonding a first substrate and a second substrate that is.
本発明によれば、基板を適切に保持しつつ、基板同士を適切に接合することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, board | substrates can be joined appropriately, hold | maintaining a board | substrate appropriately.
以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態にかかる接合システム1の構成の概略を示す平面図である。図2は、接合システム1の内部構成の概略を示す側面図である。 Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view showing the outline of the configuration of the joining system 1 according to the present embodiment. FIG. 2 is a side view illustrating the outline of the internal configuration of the joining system 1.
接合システム1では、図3に示すように例えば2枚の基板としてのウェハWU、WLを接合する。以下、上側に配置されるウェハを、第1の基板としての「上ウェハWU」といい、下側に配置されるウェハを、第2の基板としての「下ウェハWL」という。また、上ウェハWUが接合される接合面を「表面WU1」といい、当該表面WU1と反対側の面を「裏面WU2」という。同様に、下ウェハWLが接合される接合面を「表面WL1」といい、当該表面WL1と反対側の面を「裏面WL2」という。そして、接合システム1では、上ウェハWUと下ウェハWLを接合して、重合基板としての重合ウェハWTを形成する。 In the interface system 1, bonding the wafer W U, W L as substrate, for example two as shown in FIG. Hereinafter, the wafer disposed on the upper side is referred to as “upper wafer W U ” as the first substrate, and the wafer disposed on the lower side is referred to as “lower wafer W L ” as the second substrate. Further, a bonding surface to which the upper wafer W U is bonded is referred to as “front surface W U1 ”, and a surface opposite to the front surface W U1 is referred to as “back surface W U2 ”. Similarly, the bonding surface to which the lower wafer W L is bonded is referred to as “front surface W L1 ”, and the surface opposite to the front surface W L1 is referred to as “back surface W L2 ”. Then, in the bonding system 1, by joining the upper wafer W U and the lower wafer W L, to form the overlapped wafer W T as a polymerization substrate.
接合システム1は、図1に示すように例えば外部との間で複数のウェハWU、WL、複数の重合ウェハWTをそれぞれ収容可能なカセットCU、CL、CTが搬入出される搬入出ステーション2と、ウェハWU、WL、重合ウェハWTに対して所定の処理を施す各種処理装置を備えた処理ステーション3とを一体に接続した構成を有している。
As shown in FIG. 1, the bonding system 1 carries in and out cassettes C U , C L , and C T that can accommodate a plurality of wafers W U and W L and a plurality of superposed wafers W T , respectively, with the outside. The loading /
搬入出ステーション2には、カセット載置台10が設けられている。カセット載置台10には、複数、例えば4つのカセット載置板11が設けられている。カセット載置板11は、水平方向のX方向(図1中の上下方向)に一列に並べて配置されている。これらのカセット載置板11には、接合システム1の外部に対してカセットCU、CL、CTを搬入出する際に、カセットCU、CL、CTを載置することができる。このように、搬入出ステーション2は、複数の上ウェハWU、複数の下ウェハWL、複数の重合ウェハWTを保有可能に構成されている。なお、カセット載置板11の個数は、本実施の形態に限定されず、任意に設定することができる。また、カセットの1つを異常ウェハの回収用として用いてもよい。すなわち、種々の要因で上ウェハWUと下ウェハWLとの接合に異常が生じたウェハを、他の正常な重合ウェハWTと分離することができるカセットである。本実施の形態においては、複数のカセットCTのうち、1つのカセットCTを異常ウェハの回収用として用い、他のカセットCTを正常な重合ウェハWTの収容用として用いている。
The loading /
搬入出ステーション2には、カセット載置台10に隣接してウェハ搬送部20が設けられている。ウェハ搬送部20には、X方向に延伸する搬送路21上を移動自在なウェハ搬送装置22が設けられている。ウェハ搬送装置22は、鉛直方向及び鉛直軸周り(θ方向)にも移動自在であり、各カセット載置板11上のカセットCU、CL、CTと、後述する処理ステーション3の第3の処理ブロックG3のトランジション装置50、51との間でウェハWU、WL、重合ウェハWTを搬送できる。
In the loading /
処理ステーション3には、各種装置を備えた複数例えば3つの処理ブロックG1、G2、G3が設けられている。例えば処理ステーション3の正面側(図1のX方向負方向側)には、第1の処理ブロックG1が設けられ、処理ステーション3の背面側(図1のX方向正方向側)には、第2の処理ブロックG2が設けられている。また、処理ステーション3の搬入出ステーション2側(図1のY方向負方向側)には、第3の処理ブロックG3が設けられている。
The
例えば第1の処理ブロックG1には、ウェハWU、WLの表面WU1、WL1を改質する表面改質装置30が配置されている。表面改質装置30では、例えば減圧雰囲気下において、処理ガスである酸素ガス又は窒素ガスが励起されてプラズマ化され、イオン化される。この酸素イオン又は窒素イオンが表面WU1、WL1に照射されて、表面WU1、WL1がプラズマ処理され、改質される。
For example, in the first processing block G1, a
例えば第2の処理ブロックG2には、例えば純水によってウェハWU、WLの表面WU1、WL1を親水化すると共に当該表面WU1、WL1を洗浄する表面親水化装置40、ウェハWU、WLを接合する接合装置41が、搬入出ステーション2側からこの順で水平方向のY方向に並べて配置されている。
For example, the second processing block G2 includes, for example, a
表面親水化装置40では、例えばスピンチャックに保持されたウェハWU、WLを回転させながら、当該ウェハWU、WL上に純水を供給する。そうすると、供給された純水はウェハWU、WLの表面WU1、WL1上を拡散し、表面WU1、WL1が親水化される。なお、接合装置41の構成については後述する。
In
例えば第3の処理ブロックG3には、図2に示すようにウェハWU、WL、重合ウェハWTのトランジション装置50、51が下から順に2段に設けられている。
For example, the third processing block G3, the wafer W U as shown in FIG. 2, W L, a
図1に示すように第1の処理ブロックG1〜第3の処理ブロックG3に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域60が形成されている。ウェハ搬送領域60には、例えばウェハ搬送装置61が配置されている。
As shown in FIG. 1, a
ウェハ搬送装置61は、例えば鉛直方向、水平方向(Y方向、X方向)及び鉛直軸周りに移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置61は、ウェハ搬送領域60内を移動し、周囲の第1の処理ブロックG1、第2の処理ブロックG2及び第3の処理ブロックG3内の所定の装置にウェハWU、WL、重合ウェハWTを搬送できる。
The
以上の接合システム1には、図1に示すように制御部70が設けられている。制御部70は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部(図示せず)を有している。プログラム格納部には、接合システム1におけるウェハWU、WL、重合ウェハWTの処理を制御するプログラムが格納されている。また、プログラム格納部には、上述の各種処理装置や搬送装置などの駆動系の動作を制御して、接合システム1における後述のウェハ接合処理を実現させるためのプログラムも格納されている。なお、前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体Hに記録されていたものであって、その記憶媒体Hから制御部70にインストールされたものであってもよい。
The above joining system 1 is provided with a
次に、上述した接合装置41の構成について説明する。接合装置41は、図4に示すように内部を密閉可能な処理容器100を有している。処理容器100のウェハ搬送領域60側の側面には、ウェハWU、WL、重合ウェハWTの搬入出口101が形成され、当該搬入出口101には開閉シャッタ102が設けられている。
Next, the structure of the joining
処理容器100の内部は、内壁103によって、搬送領域T1と処理領域T2に区画されている。上述した搬入出口101は、搬送領域T1における処理容器100の側面に形成されている。また、内壁103にも、ウェハWU、WL、重合ウェハWTの搬入出口104が形成されている。
The inside of the
搬送領域T1のX方向正方向側には、ウェハWU、WL、重合ウェハWTを一時的に載置するためのトランジション110が設けられている。トランジション110は、例えば2段に形成され、ウェハWU、WL、重合ウェハWTのいずれか2つを同時に載置することができる。
A
搬送領域T1には、ウェハ搬送機構111が設けられている。ウェハ搬送機構111は、図4及び図5に示すように例えば鉛直方向、水平方向(Y方向、X方向)及び鉛直軸周りに移動自在な搬送アームを有している。そして、ウェハ搬送機構111は、搬送領域T1内、又は搬送領域T1と処理領域T2との間でウェハWU、WL、重合ウェハWTを搬送できる。
A
搬送領域T1のX方向負方向側には、ウェハWU、WLの水平方向の向きを調節する位置調節機構120が設けられている。位置調節機構120は、ウェハWU、WLを保持して回転させる保持部(図示せず)を備えた基台121と、ウェハWU、WLのノッチ部の位置を検出する検出部122と、を有している。そして、位置調節機構120では、基台121に保持されたウェハWU、WLを回転させながら検出部122でウェハWU、WLのノッチ部の位置を検出することで、当該ノッチ部の位置を調節してウェハWU、WLの水平方向の向きを調節している。なお、基台121においてウェハWU、WLを保持する構造は特に限定されるものではなく、例えばピンチャック構造やスピンチャック構造など、種々の構造が用いられる。
A
また、搬送領域T1には、上ウェハWUの表裏面を反転させる反転機構130が設けられている。反転機構130は、上ウェハWUを保持する保持アーム131を有している。保持アーム131は、水平方向(Y方向)に延伸している。また保持アーム131には、上ウェハWUを保持する保持部材132が例えば4箇所に設けられている。
Further, in the transfer region T1 is reversing
保持アーム131は、例えばモータなどを備えた駆動部133に支持されている。この駆動部133によって、保持アーム131は水平軸周りに回動自在である。また保持アーム131は、駆動部133を中心に回動自在であると共に、水平方向(Y方向)に移動自在である。駆動部133の下方には、例えばモータなどを備えた他の駆動部(図示せず)が設けられている。この他の駆動部によって、駆動部133は鉛直方向に延伸する支持柱134に沿って鉛直方向に移動できる。このように駆動部133によって、保持部材132に保持された上ウェハWUは、水平軸周りに回動できると共に鉛直方向及び水平方向に移動できる。また、保持部材132に保持された上ウェハWUは、駆動部133を中心に回動して、位置調節機構120から後述する上チャック140との間を移動できる。
The holding
処理領域T2には、上ウェハWUを下面で吸着保持する第1のチャックとしての上チャック140と、下ウェハWLを上面で載置して吸着保持する第2のチャックとしての下チャック141とが設けられている。下チャック141は、上チャック140の下方に設けられ、上チャック140と対向配置可能に構成されている。すなわち、上チャック140に保持された上ウェハWUと下チャック141に保持された下ウェハWLは対向して配置可能となっている。
The processing region T2, the first and on the
上チャック140は、当該上チャック140の上方に設けられた上チャック保持部150に保持されている。上チャック保持部150は、処理容器100の天井面に設けられている。すなわち、上チャック140は、上チャック保持部150を介して処理容器100に固定されて設けられている。
The
上チャック保持部150には、下チャック141に保持された下ウェハWLの表面WL1を撮像する上部撮像部151が設けられている。すなわち、上部撮像部151は上チャック140に隣接して設けられている。上部撮像部151には、例えばCCDカメラが用いられる。
The upper
下チャック141は、当該下チャック141の下方に設けられた第1の下チャック移動部160に支持されている。第1の下チャック移動部160は、後述するように下チャック141を水平方向(Y方向)に移動させるように構成されている。また、第1の下チャック移動部160は、下チャック141を鉛直方向に移動自在、且つ鉛直軸回りに回転可能に構成されている。
The
第1の下チャック移動部160には、上チャック140に保持された上ウェハWUの表面WU1を撮像する下部撮像部161が設けられている。すなわち、下部撮像部161は下チャック141に隣接して設けられている。下部撮像部161には、例えばCCDカメラが用いられる。
The first lower
第1の下チャック移動部160は、当該第1の下チャック移動部160の下面側に設けられ、水平方向(Y方向)に延伸する一対のレール162、162に取り付けられている。そして、第1の下チャック移動部160は、レール162に沿って移動自在に構成されている。
The first lower
一対のレール162、162は、第2の下チャック移動部163に配設されている。第2の下チャック移動部163は、当該第2の下チャック移動部163の下面側に設けられ、水平方向(X方向)に延伸する一対のレール164、164に取り付けられている。そして、第2の下チャック移動部163は、レール164に沿って移動自在に構成され、すなわち下チャック141を水平方向(X方向)に移動させるように構成されている。なお、一対のレール164、164は、処理容器100の底面に設けられた載置台165上に配設されている。
The pair of
次に、接合装置41の上チャック140と上チャック保持部150の詳細な構成について説明する。
Next, detailed configurations of the
上チャック140には、図6〜図8に示すようにピンチャック方式が採用されている。上チャック140は、平面視において少なくとも上ウェハWUより大きい径を有する本体部170を有している。本体部170の下面には、上ウェハWUの裏面WU2に接触する複数のピン171が設けられている。
The
また、本体部170の下面には、上ウェハWUを真空引きして吸着する複数の吸引部172、173が設けられている。吸引部172、173は、それぞれピン171と同じ高さを有し、上ウェハWUの裏面WU2に接触する。また、吸引部172、173は、それぞれ平面視において円弧形状を有している。内側吸引部172は、本体部170の内周部において(外側吸引部173の内側)、本体部170と同一円周上に複数、例えば3つ設けられている。外側吸引部173は、本体部170の外周部において(内側吸引部172の外側)、本体部170と同一円周上に複数、例えば3つ設けられている。
Further, on the lower surface of the
なお、吸引部172、173が上ウェハWUを真空引きする力は、各吸引部172、173の大きさ(開口面積)で決まる。そこで、上ウェハWUを適切に吸着保持するように、吸引部172、173の大きさが決定される。
Incidentally, the
また、吸引部172、173数や配置は、本実施の形態に限定されず、任意に設定することができる。例えば吸引部172、173は、それぞれ同一円周上に2つ設けられていてもよいし、あるいは4つ以上設けられていてもよい。また、本体部170において、吸引部172、173は2重の円周上に設けられていたが、いずれか一方を省略して1重としてもよいし、あるいは3重以上設けられていてもよい。
Further, the number and arrangement of the
内側吸引部172には、第1の吸引管174aが接続されている。さらに第1の吸引管174aには、第1の真空ポンプ175aが接続されている。外側吸引部173には、第2の吸引管174bが接続されている。さらに第2の吸引管174bには、第2の真空ポンプ175bが接続されている。
A
そして、吸引部172、173からの真空引きによって、上チャック140に上ウェハWUが吸着保持される。このとき、従来のように本体部170の全面で上ウェハWUを真空引きする場合に比べて、真空引きする領域を小さくした分、上チャック140に対する上ウェハWUの剥離性を向上させることができる。
Then, the vacuum from the
しかも、本体部170の下面において吸引部172、173以外の部分では、上ウェハWUの裏面WU2は複数のピン171に支持されているので、上チャック140に対する上ウェハWUの剥離性をさらに向上させることができる。
In addition, since the back surface W U2 of the upper wafer W U is supported by a plurality of
また、本体部170の下面において複数のピン171の高さが均一なので、上チャック140の下面の平面度をさらに小さくすることができる。このように上チャック140の下面を平坦にすることで(下面の平面度を小さくして)、上チャック140に保持された上ウェハWUを平坦にして、鉛直方向の歪みを抑制することができる。
In addition, since the height of the plurality of
上チャック140において、本体部170の中心部には、当該本体部170を厚み方向に貫通する貫通孔176が形成されている。この本体部170の中心部は、上チャック140に吸着保持される上ウェハWUの中心部に対応している。そして貫通孔176には、後述する押動部材190におけるアクチュエータ部191の先端部が挿通するようになっている。
In the
上チャック保持部150は、図5に示すように上チャック140の本体部170の上面に設けられた支持部材180を有している。支持部材180は、平面視において少なくとも本体部170の上面を覆うように設けられ、且つ本体部170に対して例えばネジ止めによって固定されている。支持部材180は、処理容器100の天井面に設けられた複数の支持柱181に支持されている。
The upper
支持部材180の上面には、図6に示すように上ウェハWUの中心部を押圧する押動部材190がさらに設けられている。押動部材190は、アクチュエータ部191とシリンダ部192とを有している。
The upper surface of the
アクチュエータ部191は、電空レギュレータ(図示せず)から供給される空気により一定方向に一定の圧力を発生させるもので、圧力の作用点の位置によらず当該圧力を一定に発生させることができる。そして、電空レギュレータからの空気によって、アクチュエータ部191は、上ウェハWUの中心部と当接して当該上ウェハWUの中心部にかかる押圧荷重を制御することができる。また、アクチュエータ部191の先端部は、電空レギュレータからの空気によって、貫通孔176を挿通して鉛直方向に昇降自在になっている。
The
アクチュエータ部191は、シリンダ部192に支持されている。シリンダ部192は、例えばモータを内蔵した駆動部によってアクチュエータ部191を鉛直方向に移動させることができる。
The
以上のように押動部材190は、アクチュエータ部191によって押圧荷重の制御をし、シリンダ部192によってアクチュエータ部191の移動の制御をしている。そして、押動部材190は、後述するウェハWU、WLの接合時に、上ウェハWUの中心部と下ウェハWLの中心部とを当接させて押圧することができる。
As described above, the pressing
次に、接合装置41の下チャック141の詳細な構成について説明する。
Next, a detailed configuration of the
下チャック141には、図6及び図9に示すように上チャック140と同様にピンチャック方式が採用されている。下チャック141は、平面視において少なくとも下ウェハWLより大きい径を有する本体部200を有している。本体部200の上面には、下ウェハWLの裏面WL2に接触する複数のピン201が設けられている。また、本体部200の上面の外周部には、ピン201と同じ高さを有し、下ウェハWLの裏面WL2の外周部を支持する外側リブ202が設けられている。外側リブ202は、複数のピン201の外側に環状に設けられている。
As shown in FIGS. 6 and 9, the
また、本体部200の上面には、外側リブ202の内側において、ピン201と同じ高さを有し、下ウェハWLの裏面WL2を支持する内側リブ203が設けられている。内側リブ203は、外側リブ202と同心円状に環状に設けられている。そして、外側リブ202の内側の領域204(以下、吸引領域204という場合がある。)は、内側リブ203の内側の第1の吸引領域204aと、内側リブ203の外側の第2の吸引領域204bとに区画されている。
On the upper surface of the
本体部200の上面には、第1の吸引領域204aにおいて、下ウェハWLを真空引きするための第1の吸引口205aが形成されている。第1の吸引口205aは、例えば第1の吸引領域204aにおいて1箇所に形成されている。第1の吸引口205aには、本体部200の内部に設けられた第1の吸引管206aが接続されている。さらに第1の吸引管206aには、第1の真空ポンプ207aが接続されている。
The upper surface of the
また、本体部200の上面には、第2の吸引領域204bにおいて、下ウェハWLを真空引きするための第2の吸引口205bが形成されている。第2の吸引口205bは、例えば第2の吸引領域204bにおいて2箇所に形成されている。第2の吸引口205bには、本体部200の内部に設けられた第2の吸引管206bが接続されている。さらに第2の吸引管206bには、第2の真空ポンプ207bが接続されている。
Further, on the upper surface of the
このように下チャック141は、第1の吸引領域204aと第2の吸引領域204b毎に下ウェハWLを真空引き可能に構成されている。なお、吸引口205a、205bの配置は、本実施の形態に限定されず、任意に設定することができる。
The
そして、下ウェハWL、本体部200及び外側リブ202に囲まれて形成された吸引領域204a、204bをそれぞれ吸引口205a、205bから真空引きし、吸引領域204a、204bを減圧する。このとき、吸引領域204a、204bの外部の雰囲気が大気圧であるため、下ウェハWLは減圧された分だけ大気圧によって吸引領域204a、204b側に押され、下チャック141に下ウェハWLが吸着保持される。
The lower wafer W L, evacuated
かかる場合、外側リブ202が下ウェハWLの裏面WL2の外周部を支持するので、下ウェハWLはその外周部まで適切に真空引きされる。このため、下チャック141に下ウェハWLの全面が吸着保持され、当該下ウェハWLの平面度を小さくして、下ウェハWLを平坦にすることができる。
In this case, since the
しかも、複数のピン201の高さが均一なので、下チャック141の上面の平面度をさらに小さくすることができる。このように下チャック141の上面を平坦にして(上面の平坦度を小さくして)、下チャック141に保持された下ウェハWLの鉛直方向の歪みを抑制することができる。
In addition, since the height of the plurality of
また、下ウェハWLの裏面WL2は複数のピン201に支持されているので下チャック141による下ウェハWLの真空引きを解除する際、当該下ウェハWLが下チャック141から剥がれ易くなる。
Further, when releasing the vacuum of the lower wafer W L by the
下チャック141において、本体部200の中心部付近には、当該本体部200を厚み方向に貫通する貫通孔208が例えば3箇所に形成されている。そして貫通孔208には、第1の下チャック移動部160の下方に設けられた昇降ピンが挿通するようになっている。
In the
本体部200の外周部には、ウェハWU、WL、重合ウェハWTが下チャック141から飛び出したり、滑落するのを防止するガイド部材209が設けられている。ガイド部材209は、本体部200の外周部に複数個所、例えば4箇所に等間隔に設けられている。
The outer peripheral portion of the
なお、接合装置41における各部の動作は、上述した制御部70によって制御される。
Note that the operation of each unit in the
次に、以上のように構成された接合システム1を用いて行われるウェハWU、WLの接合処理方法について説明する。図10は、かかるウェハ接合処理の主な工程の例を示すフローチャートである。 Next, a method for bonding the wafers W U and W L performed using the bonding system 1 configured as described above will be described. FIG. 10 is a flowchart showing an example of main steps of the wafer bonding process.
先ず、複数枚の上ウェハWUを収容したカセットCU、複数枚の下ウェハWLを収容したカセットCL、及び空のカセットCTが、搬入出ステーション2の所定のカセット載置板11に載置される。その後、ウェハ搬送装置22によりカセットCU内の上ウェハWUが取り出され、処理ステーション3の第3の処理ブロックG3のトランジション装置50に搬送される。
First, the cassette C U, the cassette C L accommodating the lower wafer W L of the plurality, and the empty cassette C T is a predetermined
次に上ウェハWUは、ウェハ搬送装置61によって第1の処理ブロックG1の表面改質装置30に搬送される。表面改質装置30では、所定の減圧雰囲気下において、処理ガスである酸素ガス又は窒素ガスが励起されてプラズマ化され、イオン化される。この酸素イオン又は窒素イオンが上ウェハWUの表面WU1に照射されて、当該表面WU1がプラズマ処理される。そして、上ウェハWUの表面WU1が改質される(図10の工程S1)。
Then the upper wafer W U is transferred to the
次に上ウェハWUは、ウェハ搬送装置61によって第2の処理ブロックG2の表面親水化装置40に搬送される。表面親水化装置40では、スピンチャックに保持された上ウェハWUを回転させながら、当該上ウェハWU上に純水を供給する。そうすると、供給された純水は上ウェハWUの表面WU1上を拡散し、表面改質装置30において改質された上ウェハWUの表面WU1に水酸基(シラノール基)が付着して当該表面WU1が親水化される。また、当該純水によって、上ウェハWUの表面WU1が洗浄される(図10の工程S2)。
Then the upper wafer W U is transferred to a
次に上ウェハWUは、ウェハ搬送装置61によって第2の処理ブロックG2の接合装置41に搬送される。接合装置41に搬入された上ウェハWUは、トランジション110を介してウェハ搬送機構111により位置調節機構120に搬送される。そして位置調節機構120によって、上ウェハWUの水平方向の向きが調節される(図10の工程S3)。
Then the upper wafer W U is transferred to the
その後、位置調節機構120から反転機構130の保持アーム131に上ウェハWUが受け渡される。続いて搬送領域T1において、保持アーム131を反転させることにより、上ウェハWUの表裏面が反転される(図10の工程S4)。すなわち、上ウェハWUの表面WU1が下方に向けられる。
Thereafter, the upper wafer W U is transferred from the
その後、反転機構130の保持アーム131が、駆動部133を中心に回動して上チャック140の下方に移動する。そして、反転機構130から上チャック140に上ウェハWUが受け渡される。上ウェハWUは、上チャック140にその裏面WU2が吸着保持される(図10の工程S5)。具体的には、真空ポンプ175a、175bを作動させ、吸引部172、173で上ウェハWUを真空引きし、上ウェハWUが上チャック140に吸着保持される。このとき、上チャック140の上面が平坦になっているので、上チャック140に保持された上ウェハWUも平坦になっている。
Thereafter, the holding
上ウェハWUに上述した工程S1〜S5の処理が行われている間、当該上ウェハWUに続いて下ウェハWLの処理が行われる。先ず、ウェハ搬送装置22によりカセットCL内の下ウェハWLが取り出され、処理ステーション3のトランジション装置50に搬送される。
During the processing of steps S1~S5 described above on the wafer W U is being performed, the processing of the lower wafer W L Following the on wafer W U is performed. First, the lower wafer W L in the cassette C L is taken out by the
次に下ウェハWLは、ウェハ搬送装置61によって表面改質装置30に搬送され、下ウェハWLの表面WL1が改質される(図10の工程S6)。なお、工程S6における下ウェハWLの表面WL1の改質は、上述した工程S1と同様である。
Lower wafer W L then is conveyed to the
その後、下ウェハWLは、ウェハ搬送装置61によって表面親水化装置40に搬送され、下ウェハWLの表面WL1が親水化される共に当該表面WL1が洗浄される(図10の工程S7)。なお、工程S7における下ウェハWLの表面WL1の親水化及び洗浄は、上述した工程S2と同様である。
Thereafter, the lower wafer W L is transferred to the
その後、下ウェハWLは、ウェハ搬送装置61によって接合装置41に搬送される。接合装置41に搬入された下ウェハWLは、トランジション110を介してウェハ搬送機構111により位置調節機構120に搬送される。そして位置調節機構120によって、下ウェハWLの水平方向の向きが調節される(図10の工程S8)。
Thereafter, the lower wafer W L is transported to the
その後、下ウェハWLは、ウェハ搬送機構111によって下チャック141に搬送され、下チャック141にその裏面WL2が吸着保持される(図10の工程S9)。具体的には、真空ポンプ207a、207bを作動させ、吸引領域204a、204bにおいて吸引口205a、205bを介して下ウェハWLを真空引きし、下ウェハWLが下チャック141に吸着保持される。このとき、下チャック141の上面が平坦になっているので、下チャック141に保持された下ウェハWLも平坦になっている。
Thereafter, the lower wafer W L is transferred to the
次に、上チャック140に保持された上ウェハWUと下チャック141に保持された下ウェハWLとの水平方向の位置調節を行う。具体的には、第1の下チャック移動部160と第2の下チャック移動部163によって下チャック141を水平方向(X方向及びY方向)に移動させ、上部撮像部151を用いて、下ウェハWLの表面WL1上の予め定められた基準点を順次撮像する。同時に、下部撮像部161を用いて、上ウェハWUの表面WU1上の予め定められた基準点を順次撮像する。撮像された画像は、制御部70に出力される。制御部70では、上部撮像部151で撮像された画像と下部撮像部161で撮像された画像に基づいて、上ウェハWUの基準点と下ウェハWLの基準点がそれぞれ合致するような位置に、第1の下チャック移動部160と第2の下チャック移動部163によって下チャック141を移動させる。こうして上ウェハWUと下ウェハWLの水平方向位置が調節される(図10の工程S10)。
Next, the adjusted horizontal position of the wafer W U and the lower wafer W held by the
その後、第1の下チャック移動部160によって下チャック141を鉛直上方に移動させて、上チャック140と下チャック141の鉛直方向位置の調節を行い、当該上チャック140に保持された上ウェハWUと下チャック141に保持された下ウェハWLとの鉛直方向位置の調節を行う(図10の工程S11)。そして、図11に示すように上ウェハWUと下ウェハWLが所定の位置に対向配置される。
Thereafter, the first lower
次に、上チャック140に保持された上ウェハWUと下チャック141に保持された下ウェハWLの接合処理が行われる。
Next, the bonding process of the lower wafer W L held on the wafer W U and the
先ず、図12に示すように押動部材190のシリンダ部192によってアクチュエータ部191を下降させる。そうすると、このアクチュエータ部191の下降に伴い、上ウェハWUの中心部が押圧されて下降する。このとき、電空レギュレータから供給される空気によって、アクチュエータ部191には、所定の押圧荷重がかけられる。そして、押動部材190によって、上ウェハWUの中心部と下ウェハWLの中心部を当接させて押圧する(図10の工程S12)。このとき、第1の真空ポンプ175aの作動を停止して、内側吸引部172からの上ウェハWUの真空引きを停止すると共に、第2の真空ポンプ175bは作動させたままにし、外側吸引部173で上ウェハWUを真空引きする。そして、押動部材190で上ウェハWUの中心部を押圧する際にも、上チャック140によって上ウェハWUの外周部を保持することができる。
First, as shown in FIG. 12, the
そうすると、押圧された上ウェハWUの中心部と下ウェハWLの中心部との間で接合が開始する(図12中の太線部)。すなわち、上ウェハWUの表面WU1と下ウェハWLの表面WL1はそれぞれ工程S1、S6において改質されているため、先ず、表面WU1、WL1間にファンデルワールス力(分子間力)が生じ、当該表面WU1、WL1同士が接合される。さらに、上ウェハWUの表面WU1と下ウェハWLの表面WL1はそれぞれ工程S2、S7において親水化されているため、表面WU1、WL1間の親水基が水素結合し(分子間力)、表面WU1、WL1同士が強固に接合される。 Then, the bonding is started between the central portion of the central portion and the lower wafer W L of the upper wafer W U which pressed (thick line portion in FIG. 12). That is, since the surface W U1 of the upper wafer W U and the surface W L1 of the lower wafer W L are modified in steps S1 and S6, respectively, first, the van der Waals force (intermolecular) between the surfaces W U1 and W L1. Force) is generated, and the surfaces W U1 and W L1 are joined to each other. Furthermore, since the surface W U1 of the upper wafer W U and the surface W L1 of the lower wafer W L are hydrophilized in steps S2 and S7, respectively, hydrophilic groups between the surfaces W U1 and W L1 are hydrogen bonded (intermolecular). Force), the surfaces W U1 and W L1 are firmly bonded to each other.
その後、図13に示すように押動部材190によって上ウェハWUの中心部と下ウェハWLの中心部を押圧した状態で第2の真空ポンプ175bの作動を停止して、外側吸引部173からの上ウェハWUの真空引きを停止する。そうすると、上ウェハWUが下ウェハWL上に落下する。そして上ウェハWUが下ウェハWL上に順次落下して当接し、上述した表面WU1、WL1間のファンデルワールス力と水素結合による接合が順次拡がる。こうして、図14に示すように上ウェハWUの表面WU1と下ウェハWLの表面WL1が全面で当接し、上ウェハWUと下ウェハWLが接合される(図10の工程S13)。
Then, stop the operation of the
この工程S13において、上ウェハWUの裏面WU2は複数のピン171に支持されているので、上チャック140による上ウェハWUの真空引きを解除した際、当該上ウェハWUが上チャック140から剥がれ易くなっている。このため、上ウェハWUと下ウェハWLの接合の拡がり(ボンディングウェーブ)が真円状になり、上ウェハWUと下ウェハWLが適切に接合される。
In this step S13, since the back surface W U2 of the upper wafer W U is supported by a plurality of
その後、図15に示すように押動部材190のアクチュエータ部191を上チャック140まで上昇させる。また、真空ポンプ207a、207bの作動を停止し、吸引領域204における下ウェハWLの真空引きを停止して、下チャック141による下ウェハWLの吸着保持を停止する。このとき、下ウェハWLの裏面WL2は複数のピン201に支持されているので、下チャック141による下ウェハWLの真空引きを解除した際、当該下ウェハWLが下チャック141から剥がれ易くなっている。
Thereafter, as shown in FIG. 15, the
上ウェハWUと下ウェハWLが接合された重合ウェハWTは、ウェハ搬送装置61によってトランジション装置51に搬送され、その後搬入出ステーション2のウェハ搬送装置22によって所定のカセット載置板11のカセットCTに搬送される。こうして、一連のウェハWU、WLの接合処理が終了する。
The upper wafer W U and the lower wafer W L overlapped wafer bonded W T is transferred to the
以上の実施の形態によれば、上チャック140において複数の吸引部172、173で上ウェハWUを真空引きするので、従来のように上ウェハWUを全面で真空引きする場合に比べて、真空引きする領域を小さくすることができる。したがって、上チャック140に対する上ウェハWUの剥離性を向上させることができ、重合ウェハWTの鉛直方向の歪みを抑制することができる。また、複数の吸引部172、173で上ウェハWUを真空引きするので、上チャック140に保持された上ウェハWUが水平方向にずれることがない。したがって、ウェハWU、WL同士を適切に接合することができる。
According to the above embodiment, since the upper wafer W U is evacuated by the plurality of
また、本実施の形態の接合システム1は、接合装置41に加えて、ウェハWU、WLの表面WU1、WL1を改質する表面改質装置30と、表面WU1、WL1を親水化すると共に当該表面WU1、WL1を洗浄する表面親水化装置40も備えているので、一のシステム内でウェハWU、WLの接合を効率よく行うことができる。したがって、ウェハ接合処理のスループットをより向上させることができる。
In addition to the
以上の実施の形態において、上チャック140において隣り合うピン171の間隔は、下チャック141において隣り合うピン201の間隔よりも大きくてもよい。上チャック140において複数のピン171が設けられている領域では、上ウェハWUを真空引きしないため、ピン171の数が多すぎるとその分、上ウェハWUが歪む。このため、上チャック140のピン171の数は少ない方が好ましい。これに対して、下チャック141では、複数のピン201が設けられた吸引領域204で下ウェハWLを真空引きするため、下ウェハWLを平坦にするためにはピン201の数が多い方が好ましい。したがって、上述したように上チャック140のピン171の間隔を下チャック141のピン201の間隔より大きくすることにより、重合ウェハWTの鉛直方向の歪みをさらに抑制することができる。
In the above embodiment, the interval between the
以上の実施の形態では、上チャック140の本体部170と上チャック保持部150の支持部材180は固定して設けられていたが、本体部170は支持部材180に対して移動可能に設けられていてもよい。
In the above embodiment, the
支持部材180の上面には、図16及び図17に示すように本体部170の鉛直方向の移動及び固定を制御する複数、例えば3つの移動制御機構210が設けられている。3つの移動制御機構210は、本体部170において同心円状に配置されている。なお、移動制御機構210の数や配置は、本実施の形態に限定されず、任意に設定することができる。
On the upper surface of the
移動制御機構210は、図18に示すようにブロック211、ガイド212、押し引きネジ213、及びシャフト214を有している。ブロック211は、支持部材180の上面において、その底部211aが埋め込まれて固定されている。ブロック211の内部は中空部211bを形成し、中空部211bの天井面211cは水平方向から傾斜している。
As shown in FIG. 18, the
ガイド212は、ブロック211の中空部211bに設けられ、天井面211cと同じ勾配で傾斜した上面を備えたくさび形状(三角形状)を有している。ガイド212の両側面には、当該ガイド212を水平方向に押し引きする一対の押し引きネジ213、213が設けられている。押し引きネジ213は、ブロック211の側面を挿通している。
The
また、ガイド212の底面には、鉛直方向に延伸するシャフト214が設けられている。シャフト214は、支持部材180を挿通し、その先端部214aが上チャック140の本体部170の上面に固定されている。
A
以上の構成を有する移動制御機構210では、押し引きネジ213でガイド212を天井面211cに沿って移動させることにより、シャフト214を介して本体部170が鉛直方向に移動する。そして、複数の移動制御機構210によって本体部170を面内で鉛直方向に移動させることで、当該本体部170の位置を調節することができる。すなわち、本体部170の傾斜を抑制して、その平行度を保つことができる。
In the
また、移動制御機構210では、ガイド212が天井面211cに面接触し、ブロック211も支持部材180の上面に面接触して固定されている。さらに、移動制御機構210による本体部170の位置調節によって、本体部170の上面と支持部材180の下面に僅かな隙間が形成される場合があるものの、その大部分において本体部170と支持部材180は面接触している。したがって、本体部170の位置調節を行った後は、支持部材180に対して本体部170を固定することができ、本体部170の平行度を保つことができる。
In the
かかる場合、上述した工程S5において、上チャック140で上ウェハWUを吸着保持する際、移動制御機構210によって、本体部170の傾斜が抑制され、当該本体部170の平行度が保たれている。このため、上チャック140に保持された上ウェハWUの鉛直方向の歪みを抑制することができ、上ウェハWUの平行度を保つことができる。
In such a case, in the step S5, it described above, when sucking and holding the upper wafer W U above the
また、工程S12において、押動部材190で上ウェハWUの中心部を押圧すると、上チャック140の外側吸引部173において上ウェハWUが吸着保持されているので、上ウェハWUと上チャック140の間に応力が発生し、上チャック140が下方に引っ張られる。この点、移動制御機構210によって上チャック140の本体部170が鉛直方向に固定されているので、上チャック140が下方に引っ張られず、平行度を保つことができる。
In the step S12, when pressing the central portion of the upper wafer W U by pressing
また、このように上チャック140の平行度を保つことができるので、上チャック140を下チャック141に近づけることができ、上ウェハWUと下ウェハWLの隙間を小さくすることができる。したがって、重合ウェハWTの鉛直方向の歪みをさらに抑制することができる。
Further, it is possible to maintain the parallelism of the
さらに、上チャック140の平行度を保つことができるので、ウェハWU、WL同士の接合処理を安定して複数回行うことができ、量産での接合処理の安定化が可能となる。
Furthermore, it is possible to maintain the parallelism of the
なお、移動制御機構210の構造は、本実施の形態に限定されず、本体部170の鉛直方向の移動及び固定を制御する構造であれば、任意に設定することができる。例えばガイド212に代えて、アクチュエータ等を用いてもよい。
The structure of the
また、以上の実施の形態の接合装置41において、下チャック141はピンチャック構造であれば、任意の構造を取り得る。例えば下チャック141の本体部200の外周部には、外側リブ202に代えて、ピン201より低い高さのリブが設けられていてもよい。かかる場合、下チャック141の外周部では、いわゆる静圧シールによって下ウェハWLの外周部を適切に保持することができる。したがって、下チャック141は下ウェハWLを平坦に保持することができる。
Further, in the joining
また、以上の実施の形態の接合システム1において、接合装置41でウェハWU、WLを接合した後、さらに接合された重合ウェハWTを所定の温度で加熱(アニール処理)してもよい。重合ウェハWTにかかる加熱処理を行うことで、接合界面をより強固に結合させることができる。 Further, in the bonding system 1 of the above embodiment, the wafer W U by bonding device 41, after joining the W L, may be further heated bonded overlapped wafer W T with a predetermined temperature (annealing) . By performing the heat treatment according to the overlapped wafer W T, it is possible to more firmly bond the bonding interface.
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。本発明は、基板がウェハ以外のFPD(フラットパネルディスプレイ)、フォトマスク用のマスクレチクルなどの他の基板である場合にも適用できる。 The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to such examples. It is obvious for those skilled in the art that various modifications or modifications can be conceived within the scope of the idea described in the claims, and these naturally belong to the technical scope of the present invention. It is understood. The present invention is not limited to this example and can take various forms. The present invention can also be applied to a case where the substrate is another substrate such as an FPD (flat panel display) other than a wafer or a mask reticle for a photomask.
1 接合システム
2 搬入出ステーション
3 処理ステーション
30 表面改質装置
40 表面親水化装置
41 接合装置
61 ウェハ搬送装置
70 制御部
140 上チャック
141 下チャック
150 上チャック保持部
170 本体部
171 ピン
172 内側吸引部
173 外側吸引部
180 支持部材
200 本体部
201 ピン
210 移動制御機構
211 ブロック
212 ガイド
213 押し引きネジ
214 シャフト
WU 上ウェハ
WL 下ウェハ
WT 重合ウェハ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Joining
Claims (6)
下面に第1の基板を真空引きして吸着保持する第1のチャックと、
前記第1のチャックの下方に設けられ、上面に第2の基板を真空引きして吸着保持する第2のチャックと、を有し、
前記第1のチャックは、
本体部と、
前記本体部の下面に設けられ、第1の基板に接触し、当該第1の基板を真空引きして吸着する複数の吸引部と、
前記本体部の下面において前記複数の吸引部以外の部分に設けられ、第1の基板に接触する複数のピンと、を有することを特徴とする、接合装置。 A joining device for joining substrates,
A first chuck that evacuates and holds the first substrate on the lower surface;
A second chuck provided below the first chuck and holding the second substrate by vacuum suction on the upper surface;
The first chuck is
The main body,
A plurality of suction portions provided on the lower surface of the main body portion, contacting the first substrate and evacuating and sucking the first substrate;
A joining apparatus comprising: a plurality of pins provided on a lower surface of the main body portion other than the plurality of suction portions and contacting the first substrate.
第2の基板を真空引きする他の本体部と、
前記他の本体部の上面に設けられ、第2の基板に接触する複数の他のピンと、を有し、
前記第1のチャックにおいて隣り合う前記ピンの間隔は、前記第2のチャックにおいて隣り合う前記他のピンの間隔よりも大きいことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の接合装置。 The second chuck is
Another main body for evacuating the second substrate;
A plurality of other pins that are provided on the upper surface of the other main body and are in contact with the second substrate;
The interval between the adjacent pins in the first chuck is larger than the interval between the other pins adjacent in the second chuck. Joining device.
前記チャック保持部は、
前記本体部の上面に設けられた支持部材と、
前記支持部材に設けられ、中空且つ内部天井面が傾斜したブロックと、
前記ブロックの内部に設けられ、前記天井面と同じ勾配で傾斜した上面を備えたガイドと、
前記ガイドを水平方向に押し引きする押し引きネジと、
前記ガイドと前記本体部に固定して設けられ、且つ前記支持部材を挿通して設けられたシャフトと、を有することを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の接合装置。 A chuck holding part that is provided above the first chuck and holds the first chuck;
The chuck holder is
A support member provided on the upper surface of the main body,
A block provided in the support member and having a hollow and an inner ceiling surface inclined;
A guide provided inside the block and having an upper surface inclined at the same gradient as the ceiling surface;
A push-pull screw for pushing and pulling the guide in a horizontal direction;
5. The joining device according to claim 1, further comprising: a shaft that is fixed to the guide and the main body, and is provided through the support member. .
前記接合装置を備えた処理ステーションと、
第1の基板、第2の基板又は第1の基板と第2の基板が接合された重合基板をそれぞれ複数保有可能で、且つ前記処理ステーションに対して第1の基板、第2の基板又は重合基板を搬入出する搬入出ステーションと、を備え、
前記処理ステーションは、
第1の基板又は第2の基板の接合される表面を改質する表面改質装置と、
前記表面改質装置で改質された第1の基板又は第2の基板の表面を親水化する表面親水化装置と、
前記表面改質装置、前記表面親水化装置及び前記接合装置に対して、第1の基板、第2の基板又は重合基板を搬送するための搬送装置と、を有し、
前記接合装置では、前記表面親水化装置で表面が親水化された第1の基板と第2の基板を接合することを特徴とする、接合システム。 A joining system comprising the joining device according to any one of claims 1 to 5,
A processing station comprising the joining device;
Each of the first substrate, the second substrate, or a plurality of superposed substrates bonded with the first substrate and the second substrate can be held, and the first substrate, the second substrate, or the superposed over the processing station. A loading / unloading station for loading and unloading substrates,
The processing station is
A surface modification device for modifying a surface to which the first substrate or the second substrate is bonded;
A surface hydrophilizing device for hydrophilizing the surface of the first substrate or the second substrate modified by the surface modifying device;
A transport device for transporting the first substrate, the second substrate, or the polymerized substrate to the surface modification device, the surface hydrophilization device, and the bonding device;
In the bonding apparatus, the first substrate and the second substrate whose surfaces have been hydrophilized by the surface hydrophilizing apparatus are bonded to each other.
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