JP2016194504A - 高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法、及びフィルタの評価システム - Google Patents
高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法、及びフィルタの評価システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016194504A JP2016194504A JP2016005499A JP2016005499A JP2016194504A JP 2016194504 A JP2016194504 A JP 2016194504A JP 2016005499 A JP2016005499 A JP 2016005499A JP 2016005499 A JP2016005499 A JP 2016005499A JP 2016194504 A JP2016194504 A JP 2016194504A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plate
- evaluation
- filter
- exposure
- upstream
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Separation Of Gases By Adsorption (AREA)
Abstract
Description
は確立されていない。GC装置による評価には、多くの手間とコストが必要となる。特許文献1には、表面が絶縁性、又は導電性の基板表面に滴下された液滴の接触角の変化を利用した評価装置が開示されている。しかし、特許文献1には、高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法についての開示や示唆はない。また、特許文献2、3にも、高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法についての開示や示唆はない。
の結果、より正確なフィルタの評価が可能となる。
ることができる。例えば、評価用プレートへの高沸点有機物の付着量が増えると、表面抵抗率が増加する傾向がある。したがって、例えば、上流側暴露プレート自体の表面抵抗率と下流側暴露プレート自体の表面抵抗率との差が大きくなってきた場合には、フィルタの機能が低下していると評価することができる。本発明に係るフィルタの評価方法によれば、水滴を用いる必要もなく、より簡易にフィルタを評価することができる。
評価用プレートは、高沸点有機物を付着しやすいため、接触角を正確に測定することができる。
<VOC処理装置の構成>
図1は、第1実施形態に係るVOC処理装置の概略構成を示す。VOC処理装置100は、例えば、塗工機からの溶剤排気(被処理空気)に含まれるVOCをVOC吸脱着ロータ110で吸着・濃縮した後、冷却凝縮して回収する、循環型のVOC回収設備である。VOC処理装置100は、VOC吸脱着ロータ110、処理通気路120、再生通気路130を備える。処理通気路120は、一端が図示しない塗工機の排出口に接続されている。他端は、処理空気を排出する排出口と接続されている。なお、処理通気路120は、処理空気を排気元である塗工機側に戻すように構成してもよい。処理通気路120の流路途
中には、VOC吸脱着ロータ110が設けられている。処理通気路120は、一端からVOC吸脱着ロータ110までは塗工機から排出されたVOCを含む被処理空気が内部を流れる。また、処理通気路120は、VOC吸脱着ロータ110より下流側では、VOC吸脱着ロータ110で清浄化された、処理空気が流れる。また、処理通気路120は、VOC吸脱着ロータ110の上流側に、被処理空気の流れにおいて上流側から順に、第1冷却器121、活性炭フィルタ140、第2冷却器122が設けられている。第1冷却器121は、活性炭フィルタ140の上流側の被処理空気を冷却する。第2冷却器122は、活性炭フィルタ140よりも下流側、かつ、VOC吸脱着ロータ110に供給前の被処理空気を冷却する。活性炭フィルタ140は、被処理空気に含まれる微量の高沸点有機物を処理する。なお、VOC吸脱着ロータ110への付着が問題となる、高沸点有機物の沸点の範囲は、VOC吸脱着ロータ110の再生温度より数十℃以上高い沸点のものである。平衡吸着量(新たな吸着と脱着が平衡濃度になるときの吸着量で、沸点が高いほど平衡吸着量は高くなる)は、被処理空気の濃度、VOC吸脱着ロータ110を再生した際の空気の濃度、再生温度、再生時間、VOC吸脱着ロータ110における脱離ゾーン113(再生ゾーン)と吸着ゾーン111や冷却ゾーン112との面積比によって変わる。例えば、VOC吸脱着ロータ110の再生温度が140℃の場合、200℃程度までの沸点の有機物であれば、VOC吸脱着ロータ110の吸脱着性能への影響は軽微である。第1実施形態では、VOC吸脱着ロータ110の吸脱着性能への影響が懸念される、沸点200℃以上の高沸点有機物を活性炭フィルタ140で処理する。
36、VOC回収冷却凝縮コイル150と排出部135との間に第2分岐部137、一端が第2分岐部137と接続され、他端が第1分岐部136と接続された分岐路138が設けられている。VOC吸脱着ロータ110の冷却ゾーン112を通過した不活性気体はヒータ133によって加熱され高温となり脱離ゾーン113を通過する。脱離ゾーン113を通過することで高濃度VOCを含む不活性気体は、VOC冷却凝縮コイル150で冷却凝縮され、VOCが回収される。また、本実施形態では、VOC冷却凝縮コイル150によってVOCが回収された不活性気体の一部は、第2分岐部137、分岐路138、第1分岐部136を経て、再生通気路130に戻される。
図2は、第1実施形態に係るフィルタの評価システムの概略構成を示す。第1実施形態に係るフィルタの評価システム200は、活性炭フィルタ140を収容する活性炭フィルタのチャンバ10から高沸点有機物を含む被処理空気を取り込み、高沸点有機物の濃度を評価して、活性炭フィルタ140の余寿命を評価する。活性炭フィルタのチャンバ10内には、2つの活性炭フィルタ(上流側活性炭フィルタ141、下流側活性炭フィルタ142)が直列に収容されている。なお、第1実施形態において、主たる評価の対象となる活性炭フィルタ140は、上流側活性炭フィルタ141であり、下流側活性炭フィルタ142は比較のために評価した。第1実施形態に係るフィルタの評価システム200は、暴露ボックス30、リボンヒータ50、評価用プレート40、接触角の測定器具60、余寿命評価装置70を備える。
暴露ボックス30は、断熱付きチューブ20を介して、活性炭フィルタのチャンバ10と接続されており、高沸点有機物を含む被処理空気を取り込んで、評価用プレート40を高沸点有機物を含む被処理空気に暴露させる。被処理空気は、暴露ボックス30の下流側に設けられた暴露ボックスのポンプ80によって吸引され、暴露ボックス30内に取り込まれる。暴露ボックス30は、上流側暴露ボックス31、中段暴露ボックス32、下流側暴露ボックス33の3つで構成されている。上流側暴露ボックス31は、上流側活性炭フィルタ141の上流側近傍において、断熱付きチューブ20を介して、活性炭フィルタのチャンバ10と接続されている。上流側暴露ボックス31は、評価用プレート40を収容し、収容した評価用プレート40を活性炭フィルタ140で処理される前の被処理空気に暴露させる。上流側暴露ボックス31で暴露される評価用プレート40は、他の評価用プレート40と区別するため、上流側暴露プレート41と称する。中段暴露ボックス32は、上流側活性炭フィルタ141と下流側活性炭フィルタ142との間において、断熱付きチューブ20を介して、活性炭フィルタのチャンバ10と接続されている。中段暴露ボックス32は、評価用プレート40を収容し、収容した評価用プレート40を上流側活性炭フィルタ141の通過後、かつ、下流側活性炭フィルタ142の通過前の被処理空気に暴露させる。中段暴露ボックス32で暴露される評価用プレート40は、他の評価用プレート40と区別するため、中段暴露プレート42と称する。下流側暴露ボックス33は、下流側活性炭フィルタ142の下流側近傍において、断熱付きチューブ20を介して、活性炭フィルタのチャンバ10と接続されている。下流側暴露ボックス33は、評価用プレート40を収容し、収容した評価用プレート40を、下流側活性炭フィルタ142の通過後の被処理空気に暴露させる。下流側暴露ボックス33で暴露される評価用プレート40は、他の評価用プレート40と区別するため、下流側暴露プレート43と称する。
評価用プレート40は、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43、未暴露プレート44を含む。評価用プレート40は、UVオゾンで処理されたガラス板からなる。評価用プレート40は、親水性のプレートであればよく、ガラスコーティング板、Siウエハ、SiO2膜皮膜板でもよい。UVオゾンで処理した評価用
プレート40は、高沸点有機ガスの発生しない密閉容器に入れることが好ましい。UVオゾンで処理した評価用プレート40は、清浄な梱包材で包むようにしてもよい。これにより、評価用プレート40が被処理空気に暴露するまでは接触角が変化しないようにすることができる。その結果、評価の精度を向上できる。
断熱付きチューブ20は、活性炭フィルタのチャンバ10と接続され、高沸点有機物を含む被処理空気を暴露ボックス30に供給する。断熱付きチューブ20は、周囲環境の影響によって、高沸点有機物を含む被処理空気の温度が変動しないように、断熱構造を有する。第1実施形態に係る断熱付きチューブ20は、樹脂製であり、ウレタン系の断熱材で周囲が被覆されている。また、断熱付きチューブ20の内面は、テフロン加工されているが、シリコン加工されていてもよい。断熱付きチューブ20の内面は、チューブ内面への高沸点有機物の付着を抑制し、評価の精度低下を防ぐよう、内面の抵抗は少ない方がよい。なお、断熱付きチューブ20は、ヒータを設け、加温できるようにしてもよい。断熱付きチューブ20は、評価の精度低下を抑えるため、上流側暴露ボックス31、中段暴露ボックス32、下流側暴露ボックス33の夫々に接続されるチューブの長さを全て同じとすることが好ましい。また、断熱付きチューブ20は、評価の精度低下を抑えるため、できる限り短くすることが好ましい。
リボンヒータ50は、暴露ボックス30に収容された評価用プレート40(上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43)の温度が、VOC吸脱着ロータ110の再生温度と同じ、例えば140℃になるよう暴露ボックス30を加温する。第1実施形態では、金属製の暴露ボックス30内に評価用プレート40が直置きされ、表面がアルミ箔で覆われたリボンヒータ50が暴露ボックス30を覆うように巻きついている。なお、評価用プレート40がVOC吸脱着ロータ110の再生温度と同じ温度になるように評価用プレート40を加温できればよい。リボンヒータ50に代えて、平板状の加熱装置(例えば、ホットプレート)に暴露ボックスを載置するようにしてもよい。例えば、暴露中は加温せず、暴露終了後に10〜60分ホットプレートなどの上に直接評価用プレート40を載置し、同様の温度まで昇温処理してもよい。この場合、接触角の測定は、ホットプレートの温度がほぼ室温に戻ってから実施することが好ましい。また、断熱付きチューブ20にヒータを設け、断熱付きチューブ20のヒータによって、被処理空気を加温して、評価用プレート40を昇温させるようにしてもよい。リボンヒータ50での加熱温度は、VOC吸脱着ロータ110の再生温度に基づいて適宜変更できる。例えば、リボンヒータ50での加熱温度は、140℃〜180℃とすることができる。なお、リボンヒータ50を省略し、フィルタの評価システム200は、より簡易な構成としてもよい。
接触角の測定器具60は、接触角の測定に用いる。接触角の測定器具60は、透明の板状部材61からなり、板状部材61には接触角を測定するための接触角測定線62が1度刻みで複数設けられている。接触角の測定器具60は、携帯可能な既存の測定器具(例えば、接触角計)を用いてもよい。
接触角が12〜15度となった場合、被処理空気には高沸点有機物が少量含まれていると評価することができる。図3(b)は、高沸点有機物が多く含まれている場合の一例であ
り、接触角は約16度である。例えば、評価用プレート40の初期値の接触角が10度の場合において、十分な通気量の元(例えば2l/min以上)、評価用プレート40を数時間〜1日暴露したときの接触角が16度以上となった場合、被処理空気には高沸点有機
物が多く含まれていると評価することができる。図示では、省略するが、例えば、評価用プレート40の初期値の接触角が10度の場合において、十分な通気量の元(例えば2l/min以上)、評価用プレート40を数時間〜1日暴露したときの接触角が12度を下
回る場合、被処理空気には高沸点有機物が殆ど含まれていないと評価することができる。なお、接触角は、暴露時間に大きく依存し、通気量にも依存する。したがって、高沸点有機物がどの程度含まれているか評価するに際しては、暴露時間、通気量を考慮することが好ましい。
余寿命評価装置70は、紙面71に記載された余寿命評価図72からなり、余寿命評価図72は、縦軸に上流側の接触角、横軸に上流側の接触角と下流側の接触角との差とした表73が設けられ、この表73に基準の接触角を表す基準線74が複数記載されている。上流側暴露プレート41の接触角と下流側暴露プレート43(又は中段暴露プレート)の接触角との差をプロットし、この差を示すプロットが基準線74の下部領域に存在する場合、余寿命あり(継続使用可能)と評価される。一方、差を示すプロットが基準線74の上部領域に存在する場合、余寿命なし(継続使用不可)と評価される。なお、第1実施形態では、基準線74が5〜10度であるが、例えば、基準線74は、5〜15度としてもよい。また、基準線74の位置は、活性炭フィルタ140の寿命とする除去率によって調整することができる。例えば、第1実施形態では、除去率を約70%程度として、基準線74を設定した。例えば、寿命となる除去率を70%よりも高くする場合には、基準線74は少し下に移動することができる。逆に、例えば、寿命となる除去率を70%よりも低くする場合には、基準線74は少し上に移動することができる。
図5は、第1実施形態に係るフィルタの評価フローを示す。ステップS01では、暴露工程として、評価用プレート40が高沸点有機物を含む被処理空気に暴露される。UVオゾン処理された評価用プレート40が、暴露ボックス30(上流側暴露ボックス31、中段暴露ボックス32、下流側暴露ボックス33)に収容される。UVオゾン処理では、評価用プレート40を設置したチャンバ内でオゾンを発生する波長の紫外線が照射される。紫外線の光子エネルギーによる直接的な分解(解離)とオゾンによる酸化分解により、有機物が低分子化及び完全分解される。その結果、評価用プレート40の表面を清浄化することができる。なお、UVオゾン処理する際の処理温度を高くすることで、オゾン自身の分解速度を高めるようにしてもよい。その結果、オゾン分解物による洗浄効果を向上でき、また、低分子化された有機物の基板からの脱離速度を向上できる。
には、暴露中は、評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43の温度がVOC吸脱着ロータ110の再生温度と同じ温度(例えば、140℃)になるようリボンヒータ50で加温される。暴露時間は、0.5〜5時間(h)である。なお、暴露時間は、フィルタの上流側の高沸点有機物の濃度レベルによって変えることができる。例えば、低い濃度の時は、暴露時間を長めに設定する。少なくとも上流側暴露プレート41の接触角が5度以上上昇するまでは暴露するとよい。例えば、当初1時間の暴露で、上流側暴露プレート41の接触角が4度程度の上昇であった場合は、再度この上流側暴露プレート41を1時間程暴露するとよい。その結果、上流側暴露プレート41の接触角は8度程度上昇する。なお、リボンヒータ50による加温を省略し、フィルタの評価方法は、より簡易な処理としてもよい。
次に実験例について説明する。実験例では、図1に示すVOC処理装置100を用いた。被処理空気は、酢酸エチルを主成分とする。活性炭フィルタ140は、沸点が200℃以上の高沸点有機物を除去(処理)するものを用いた。図2に示すように、活性炭フィルタ140は、上流側活性炭フィルタ141、下流側活性炭フィルタ142からなり、直列に設けられている。活性炭フィルタ140を交換する際は、上流側活性炭フィルタ141が撤去され、下流側活性炭フィルタ142を上流側活性炭フィルタ141として用い、新
たな活性炭フィルタが下流側活性炭フィルタ142として用いられる。評価用プレート40には、入手が容易で、かつ安価で取り扱いやすい市販のスライドガラスを用いた。前処理として、スライドガラスかなる複数の評価用プレート40を10分間UVオゾン洗浄処理した。評価用プレート40のうち、洗浄処理後1枚の評価用プレート40を。未暴露プレート44として、水の接触角を測定し、接触角が7度であることを確認した。評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を、上流側暴露ボックス31、中段暴露ボックス32、下流側暴露ボックス33の夫々に収容し、暴露ボックスのポンプ80で被処理空気を夫々吸引し、評価用プレート40を被処理空気で暴露させた。本実験例では、VOC処理装置の再生温度が140℃であったため、リボンヒータ50により、評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を140℃に加温した。
暴露ボックス30(上流側暴露ボックス31、中段暴露ボックス32、下流側暴露ボックス33)により、評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を高沸点有機物を含む被処理空気に暴露させることができる。また、リボンヒータ50により、暴露ボックス30に収容された評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43
の温度が、VOC吸脱着ロータ110の再生温度と同じ、例えば140℃になるよう加温することができる。その結果、高沸点有機物よりも沸点が低い低沸点の有機物、すなわちVOC吸脱着ロータ110で処理する低沸点の有機物を除去することができる。換言すると、評価対象を高沸点有機物に絞り込むことができる。その結果、より正確なフィルタの評価が可能となる。また、断熱付きチューブ20を用いることで、高沸点有機物を含む被処理空気の温度変動を抑制することができる。その結果、より正確なフィルタの評価が可能となる。また、例えば、断熱機能を有しないチューブによる場合と比較して、暴露時間を短縮できる。
第2実施形態では、液滴径を測定して、フィルタを評価する場合について説明する。なお、第1実施形態と同様の構成については、同一の符号を付し、説明は割愛する。VOC処理装置100は、第1実施形態と同じである(図1参照)。よって、説明は、割愛する。
液滴径の測定器具220は、携帯可能な既存の測定器具であり液滴径の測定に用いる。液滴径の測定器具220は、方眼紙からなり、第2実施形態では、一例として、間隔が1mmに設定されている。評価用プレート自体に目盛りを付したものであってもよい。拡大鏡230は、汎用のものを用いることができる。拡大鏡230に代えて、ルーペを用いてもよい。
図9は、第2実施形態に係るフィルタの評価フローを示す。ステップS01では、暴露工程として、評価用プレート40が高沸点有機物を含む被処理空気に暴露される。UVオゾン処理された評価用プレート40が、暴露ボックス30(上流側暴露ボックス31、中段暴露ボックス32、下流側暴露ボックス33)に収容される。暴露時間は、被処理空気に含まれる高沸点有機物の濃度に依存する。高濃度の場合、暴露時間は、例えば0.5hとすることができる。また、低濃度の場合、暴露時間は、例えば、5〜10hとすることができる。暴露時間を5〜10h(低濃度)とした場合でも、上流側暴露プレート41の液滴径と下流側暴露プレート43の液滴径との差が出ない場合は、高沸点有機物の濃度が通常値よりも低いことが想定されるため、再度測定を行った方がよい。また、ステップS01では、温度調整工程として、評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、
中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43が温度調整される。暴露工程、及び温度調整工程は、第1実施形態と同様に行うことができる。したがって、詳細な説明は、割愛する。
気中への脱着量は低減していた等の原因を予測することができる。したがって、予測に基づいて原因が確認され、改めて、活性炭フィルタ140の余寿命が評価される。
Y2のXに対する縮小率B=(X−Y2)/X・・・式2
第2実施形態に係る実験例でも、図1に示すVOC処理装置100を用いた。被処理空気は、酢酸エチルを主成分とする。活性炭フィルタ140は、沸点が200℃以上の高沸点有機物を除去(処理)するものを用いた。図2に示すように、活性炭フィルタ140は、上流側活性炭フィルタ141、下流側活性炭フィルタ142からなり、直列に設けられている。活性炭フィルタ140を交換する際は、上流側活性炭フィルタ141が撤去され、下流側活性炭フィルタ142を上流側活性炭フィルタ141として用い、新たな活性炭フィルタが下流側活性炭フィルタ142として用いられる。評価用プレート40には、入
手が容易で、かつ安価で取り扱いやすい市販のスライドガラスを用いた。前処理として、スライドガラスかなる複数の評価用プレート40を10分間UVオゾン洗浄処理した。評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を、上流側暴露ボックス31、中段暴露ボックス32、下流側暴露ボックス33の夫々に収容し、暴露ボックスのポンプ80で被処理空気を夫々吸引し、評価用プレート40を被処理空気で暴露させた。本実験例では、VOC処理装置の再生温度が140℃であったため、リボンヒータ50により、評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を140℃に加温した。
第2実施形態に係るフィルタの評価システム210によれば、液滴径の測定器具220により、評価用プレート40、すなわち、未暴露プレート44、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43の接触角を容易に測定することができる。その結果、高沸点有機物の濃度を評価することができる。
寿命を評価することができる。第2実施形態に係るフィルタの評価システム210によってフィルタを評価することで、容易に活性炭フィルタ140の余寿命を評価することができる。その結果、活性炭フィルタ140を本来の寿命まで使い切ることができ、省資源・省コストを実現できる。
第3実施形態に係るフィルタの評価システムでは、表面抵抗率を測定して、フィルタを評価する。ここで、図15は、第3実施形態に係る表面抵抗率の測定装置の一例を示す。第3実施形態に係る表面抵抗率の測定装置250は、評価用プレート40のガラス基板に、表面抵抗率測定用の金属電極251が蒸着されている。金属電極251は、評価用プレート40(ガラス基板)の表面に形成された円形の第1金属電極252と、第1金属電極252の周囲に形成された環状の第2金属電極253と、評価用プレート40(ガラス基板)の裏面に形成された第3金属電極254とを含む。第1金属電極252と第2金属電極253との間には、電源255及び電流計256が直列に接続され、第3金属電極254は、接地されており、電流を流すことで、表面抵抗率(Ω/□)が測定できるようになっている。表面抵抗率は、例えば、携帯可能な既存の表面抵抗率の測定装置によって測定するようにしてもよい。なお、評価用プレート40は、第1実施形態と同じく、UVオゾンで処理されたガラス板からなる。評価用プレート40は、表面抵抗率が高いプレートであればよく、ガラスコーティング板でもよい。また、Siウエハ、SiO2膜皮膜板などの表面抵抗率の低いプレートを用いる場合は表面に絶縁膜が形成されている必要がある。
Y2のXに対する抵抗値割合B=Y2/X・・・式4
より、評価用プレート40、すなわち、未暴露プレート44、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43の表面抵抗率を容易に測定することができる。その結果、高沸点有機物の濃度を評価することができる。
第1実施形態では、暴露ボックス30に評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を収容したが、評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を活性炭フィルタのチャンバ10内に直接設置し、評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を、高沸点有機物を含む被処理空気で暴露してもよい。これにより、暴露ボックス30、断熱付きチューブ20、暴露ボックスのポンプ80が不要となり、設備の簡素化を実現できる。評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を活性炭フィルタのチャンバ10内に直接設置する場合、活性炭フィルタのチャンバ10に、点検口を設けるとよい。これにより、点検口を介して評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43の出し入れを容易に行うことができる。また、この場合、暴露中の加温が困難なため、暴露後に、例えばホットプレートなので評価用プレート40のうち、上流側暴露プレート41、中段暴露プレート42、下流側暴露プレート43を加温処理するとよい。
30・・・暴露ボックス
31・・・上流側暴露ボックス
32・・・中段暴露ボックス
33・・・下流側暴露ボックス
40・・・評価用プレート
41・・・上流側暴露プレート
42・・・中段暴露プレート
43・・・下流側暴露プレート
44・・・未暴露プレート
50・・・リボンヒータ
60・・・接触角の測定器具
70・・・余寿命評価装置
100・・・VOC処理装置
110・・・VOC吸脱着ロータ
111・・・吸着ゾーン
112・・・冷却ゾーン
113・・・脱離ゾーン
120・・・処理通気路
130・・・再生通気路
140・・・活性炭フィルタ
200、210・・・フィルタの評価システム
Claims (14)
- 被処理空気に含まれるVOCを処理するVOC処理装置に設けられ、被処理空気に含まれる高沸点有機物を処理するフィルタを評価するフィルタの評価方法であって、
高沸点有機物の濃度を評価する評価用プレートを前記フィルタの上流側の被処理空気と前記フィルタの下流側の被処理空気の夫々に暴露する暴露工程と、
前記上流側の被処理空気に暴露した上流側暴露プレート、前記下流側の被処理空気に暴露した下流側暴露プレート、暴露前の未暴露プレートの夫々に水滴を滴下し、水滴の接触角を測定し、各評価用プレートの接触角の比較結果に基づいて前記フィルタを評価する評価工程と、を含む、
高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。 - 前記評価用プレートのうち、前記上流側暴露プレート、及び前記下流側暴露プレートを前記VOCを処理する温度に調整する温度調整工程を更に備え、
前記評価工程では、前記上流側の被処理空気に暴露し、かつ温度調整された上流側暴露プレート、前記下流側の被処理空気に暴露し、かつ温度調整された下流側暴露プレート、暴露前の未暴露プレートの夫々に水滴を滴下し、水滴の接触角を測定し、各評価用プレートの接触角の比較結果に基づいて前記フィルタを評価する、請求項1に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。 - 前記評価工程では、前記上流側暴露プレートの接触角と前記下流側暴露プレートの接触角との差からなる実測の接触角と、前記未暴露プレートの接触角毎に既定された基準の接触角とを比較することで、前記フィルタの余寿命を評価する、請求項1又は2に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。
- 前記未暴露プレートの接触角は、15度以下である、請求項1から3の何れか1項に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。
- 前記温度調整工程では、前記暴露工程中、又は当該暴露工程後において、前記上流側暴露プレートと前記下流側暴露プレートとを100〜160℃に温度調整する、請求項1から4の何れか1項に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。
- 被処理空気に含まれるVOCを処理するVOC処理装置に設けられ、被処理空気に含まれる高沸点有機物を処理するフィルタを評価するフィルタの評価方法であって、
高沸点有機物の濃度を評価する評価用プレートを前記フィルタの上流側の被処理空気と前記フィルタの下流側の被処理空気の夫々に暴露する暴露工程と、
前記上流側の被処理空気に暴露した上流側暴露プレート、前記下流側の被処理空気に暴露した下流側暴露プレート、暴露前の未暴露プレートの夫々に関する高沸点有機物付着量情報に基づいて前記フィルタを評価する評価工程と、を含む、
高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。 - 被処理空気に含まれるVOCを処理するVOC処理装置に設けられ、被処理空気に含まれる高沸点有機物を処理するフィルタを評価するフィルタの評価方法であって、
高沸点有機物の濃度を評価する評価用プレートを前記フィルタの上流側の被処理空気と前記フィルタの下流側の被処理空気の夫々に暴露する暴露工程と、
前記上流側の被処理空気に暴露した上流側暴露プレート、前記下流側の被処理空気に暴露した下流側暴露プレート、暴露前の未暴露プレートの夫々に水滴を滴下し、水滴の状態に関する水滴情報に基づいて前記フィルタを評価する評価工程と、を含む、
高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。 - 前記評価工程では、前記上流側の被処理空気に暴露した上流側暴露プレート、前記下流側の被処理空気に暴露した下流側暴露プレート、暴露前の未暴露プレートの夫々に水滴を滴下し、液滴径を測定し、各評価用プレートの液滴径の比較結果に基づいて前記フィルタを評価する、請求項6又は7に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。
- 前記評価用プレートは少なくとも表面が絶縁性であり、
前記評価工程では、前記上流側の被処理空気に暴露した上流側暴露プレート、前記下流側の被処理空気に暴露した下流側暴露プレート、暴露前の未暴露プレートの夫々の表面抵抗率を一定の相対湿度雰囲気下で測定し、各評価用プレートの表面抵抗率の比較結果に基づいて前記フィルタを評価する、請求項6に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法。 - 被処理空気に含まれるVOCを処理するVOC処理装置に設けられ、被処理空気に含まれる高沸点有機物を処理するフィルタを評価するフィルタの評価システムであって、
前記フィルタの上流側の被処理空気に暴露される上流側暴露プレートと、前記フィルタの下流側の被処理空気に暴露される下流側暴露プレートと、暴露前の未暴露プレートとを含む、評価用プレートと、前記上流側暴露プレートと、前記下流側暴露プレートとを、前記フィルタの上流側の被処理空気と、前記フィルタの下流側の被処理空気との夫々に暴露する暴露部と、を含む暴露装置を備える、高沸点有機物を処理するフィルタの評価システム。 - 前記暴露装置は、前記上流側暴露プレートと、前記下流側暴露プレートとを前記VOCを処理する温度に調整する温度調整部を更に備える、請求項10に記載のフィルタの評価システム。
- 前記評価用プレートの夫々に滴下された水滴の接触角または液滴径、または前記評価用プレートの表面抵抗率を測定する測定器具を更に備える、請求項10又は11に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価システム。
- 前記評価用プレートの接触角の比較結果に基づいて前記フィルタを評価する評価装置であって、前記未暴露プレートの接触角毎に既定された基準が表示され、前記上流側暴露プレートの接触角と前記下流側暴露プレートの接触角との差からなる実測の接触角をプロットすることで、前記フィルタの余寿命を評価可能な評価装置を更に備える、請求項10から12の何れか1項に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価システム。
- 前記評価用プレートは、親水性のプレートであり、ガラス板、ガラスコーティング板、Siウエハ、SiO2膜皮膜板のうち何れか一つからなる、請求項10から13の何れか1項に記載の高沸点有機物を処理するフィルタの評価システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015074125 | 2015-03-31 | ||
JP2015074125 | 2015-03-31 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016194504A true JP2016194504A (ja) | 2016-11-17 |
JP2016194504A5 JP2016194504A5 (ja) | 2019-02-28 |
JP6767116B2 JP6767116B2 (ja) | 2020-10-14 |
Family
ID=57323597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016005499A Active JP6767116B2 (ja) | 2015-03-31 | 2016-01-14 | 高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法、フィルタの評価システム、及びvoc処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6767116B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110075665A (zh) * | 2019-05-24 | 2019-08-02 | 上海兰宝环保科技有限公司 | 一种沸石浓缩转轮分子筛结合催化氧化废气处理装置及其处理方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08338822A (ja) * | 1995-06-13 | 1996-12-24 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 基板表面の有機物汚染の評価装置および方法 |
US5856198A (en) * | 1994-12-28 | 1999-01-05 | Extraction Systems, Inc. | Performance monitoring of gas-phase air filters |
JP2002336632A (ja) * | 1997-05-08 | 2002-11-26 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | フィルタ及び清浄装置 |
JP2006339583A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Future Vision:Kk | 配線パターン形成方法および表示装置の製造装置 |
US20070105494A1 (en) * | 2005-11-08 | 2007-05-10 | Esco Micro Pte Ltd | Ductless fume hood with improved filter monitoring system and extended filter life |
US20110232481A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Worrilow Kathryn C | Air Filtration Device |
JP2012115721A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Honda Motor Co Ltd | 排ガス処理装置 |
-
2016
- 2016-01-14 JP JP2016005499A patent/JP6767116B2/ja active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5856198A (en) * | 1994-12-28 | 1999-01-05 | Extraction Systems, Inc. | Performance monitoring of gas-phase air filters |
JPH08338822A (ja) * | 1995-06-13 | 1996-12-24 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | 基板表面の有機物汚染の評価装置および方法 |
JP2002336632A (ja) * | 1997-05-08 | 2002-11-26 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | フィルタ及び清浄装置 |
JP2006339583A (ja) * | 2005-06-06 | 2006-12-14 | Future Vision:Kk | 配線パターン形成方法および表示装置の製造装置 |
US20070105494A1 (en) * | 2005-11-08 | 2007-05-10 | Esco Micro Pte Ltd | Ductless fume hood with improved filter monitoring system and extended filter life |
US20110232481A1 (en) * | 2010-03-26 | 2011-09-29 | Worrilow Kathryn C | Air Filtration Device |
JP2012115721A (ja) * | 2010-11-29 | 2012-06-21 | Honda Motor Co Ltd | 排ガス処理装置 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
中島啓之ほか: "QCMによるケミカルエアフィルタの寿命判定手法の検討", エアロゾル研究, vol. 20, no. 3, JPN6020005898, 2005, JP, pages 220 - 224, ISSN: 0004272431 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110075665A (zh) * | 2019-05-24 | 2019-08-02 | 上海兰宝环保科技有限公司 | 一种沸石浓缩转轮分子筛结合催化氧化废气处理装置及其处理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6767116B2 (ja) | 2020-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5049214B2 (ja) | 汚染物を測定、管理するためのシステムおよび方法 | |
US7092077B2 (en) | System and method for monitoring contamination | |
US7430893B2 (en) | Systems and methods for detecting contaminants | |
US20060266353A1 (en) | Exhaled air filter, exhaled air collecting apparatus, exhaled air analyzing system and exhaled air analyzing method | |
US20040023419A1 (en) | System and method for monitoring contamination | |
EP1670566A1 (en) | Reactive gas filter | |
JP3519212B2 (ja) | 清浄な資材用保管庫 | |
JP2016194504A (ja) | 高沸点有機物を処理するフィルタの評価方法、及びフィルタの評価システム | |
US20050120775A1 (en) | Systems and methods for detecting contaminants | |
JP2017181244A (ja) | シロキサン類化合物ガス除去用ケミカルフィルタの寿命予測方法 | |
JP4044851B2 (ja) | 揮発有機物の測定方法および測定用サンプリング器具 | |
JP3814207B2 (ja) | 清浄な資材用保管庫 | |
JP2004200402A (ja) | 空気清浄装置とその保守方法および半導体製造装置 | |
TW200416930A (en) | System and method for monitoring contamination | |
JP2002139431A (ja) | 気体中の微量有機物の分析装置 | |
JP2002286600A (ja) | 大気の清浄度評価用捕集剤 | |
JP2002102638A (ja) | ケミカルフィルタ | |
JPH09298148A (ja) | 露光方法及び露光装置 | |
Umlauf | Measuring Gas/Particle Fractions of Trace Organic Compounds on Ambient Air. Evaluation of Electrostatic Precipitation, Impaction And Conventional Filtration for Separating Particles | |
JP2003262625A (ja) | 空気中有機物モニター装置およびモニター方法 | |
JP2004084971A (ja) | フィルタとこれを用いたクリーンルーム | |
JPS5883287A (ja) | 放射能サンプリング方法 | |
JP2009240959A (ja) | イオン交換樹脂の90%除去寿命までの吸着容量の推定方法。 | |
JP2011174847A (ja) | 基板表面付着成分分析用捕集材および基板表面付着成分分析方法 | |
JPH08117539A (ja) | 清浄気体の調製方法及び装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190115 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200218 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200420 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200602 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200730 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200818 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200917 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6767116 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |