JP2016173492A - Production method of optical film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光学フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an optical film.
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、電子ペーパー、タブレットＰＣ等の画像表示装置の画像表示面には、画像表示面の傷付き、および帯電による塵の付着を防ぐために帯電防止性ハードコートフィルムが設けられていることがある。このような帯電防止性ハードコートフィルムとしては、例えば、透明基材フィルム上に、第四級アンモニウム塩を含む樹脂組成物を塗布して帯電防止性ハードコート層を形成し、さらに帯電防止性ハードコート層上に低屈折率層を形成したものが提案されている（特許文献１）。 On the image display surface of image display devices such as liquid crystal display (LCD), cathode ray tube display (CRT), plasma display (PDP), electroluminescence display (ELD), field emission display (FED), electronic paper, tablet PC, etc. In some cases, an antistatic hard coat film is provided to prevent scratches on the image display surface and adhesion of dust due to charging. As such an antistatic hard coat film, for example, a resin composition containing a quaternary ammonium salt is applied on a transparent substrate film to form an antistatic hard coat layer, and further, an antistatic hard coat film is formed. The thing which formed the low-refractive-index layer on the coating layer is proposed (patent document 1).
また、液晶ディスプレイにおいては、液晶セルに対して通常偏光板が設けられている。偏光板は、通常、ヨウ素を吸着し配向処理したポリビニルアルコールフィルムからなる偏光子に対して、その両面を保護フィルムで積層した構成となっている。 In a liquid crystal display, a polarizing plate is usually provided for a liquid crystal cell. The polarizing plate usually has a configuration in which both sides of a polarizer made of a polyvinyl alcohol film that has been adsorbed with iodine and subjected to orientation treatment are laminated with a protective film.
ところで、画像表示装置においては薄型化が性能における重要な一要素であり、画像表示装置に組み込まれる光学フィルムにおいても、薄型化への対応が望まれている。このため、偏光板に加えて帯電防止性ハードコートフィルムをさらに設ける代わりに、帯電防止性ハードコートフィルムを偏光板の保護フィルムとして使用すれば、その分薄くできる。ここで、偏光子に積層する保護フィルムは、偏光子との密着性の観点から密着性向上処理としてアルカリ水溶液による鹸化処理が必要とされている。 By the way, in an image display apparatus, thinning is an important element in performance, and an optical film incorporated in the image display apparatus is also required to cope with thinning. For this reason, if it uses an antistatic hard coat film as a protective film of a polarizing plate instead of providing an antistatic hard coat film in addition to the polarizing plate, the thickness can be reduced accordingly. Here, the protective film laminated | stacked on a polarizer requires the saponification process by aqueous alkali solution as an adhesive improvement process from a viewpoint of adhesiveness with a polarizer.
帯電防止性ハードコートフィルムとしては、現在、鹸化処理の前後で、１×１０１１Ω／□以下の表面抵抗値を有することが望まれている。しかしながら、帯電防止性ハードコートフィルムに鹸化処理を施すと、帯電防止性ハードコート層の表面に存在する帯電防止剤が脱落してしまい、この結果、鹸化処理後においては１×１０１１Ω／□以下の表面抵抗値を得ることができない場合がある。 The antistatic hard coat film is currently desired to have a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less before and after the saponification treatment. However, when the antistatic hard coat film is subjected to a saponification treatment, the antistatic agent present on the surface of the antistatic hard coat layer falls off, and as a result, 1 × 10 11 Ω / □ after the saponification treatment. The following surface resistance values may not be obtained.
また、更なる薄型化のために、現在、帯電防止性ハードコートフィルムにおける帯電防止性ハードコート層を薄くすることも検討されている。しかしながら、帯電防止性ハードコート層を薄くすると、所望の硬度が得られないおそれがある。そこで、帯電防止性ハードコート層の硬度を高めるために、硬度を高めることが可能なモノマーを帯電防止性ハードコート層用組成物に含ませることが検討されている。 In addition, for further thinning, it is also currently considered to reduce the thickness of the antistatic hard coat layer in the antistatic hard coat film. However, if the antistatic hard coat layer is thinned, the desired hardness may not be obtained. Therefore, in order to increase the hardness of the antistatic hard coat layer, it has been studied to include a monomer capable of increasing the hardness in the composition for antistatic hard coat layer.
しかしながら、硬度を高めることが可能なモノマーを使用すると、帯電防止性ハードコート層の硬度が高くなる、すなわち帯電防止性ハードコート層の硬度が硬くなるので、帯電防止性ハードコート層と、帯電防止性ハードコート層に接触する低屈折率層等の上層との密着性が低下してしまう。さらに、上記したように、帯電防止性ハードコートフィルムに鹸化処理を施すと、帯電防止性ハードコート層の表面に存在する帯電防止剤が脱落してしまうので、鹸化処理後においては耐擦傷性がさらに低下してしまうおそれがある。 However, if a monomer capable of increasing the hardness is used, the hardness of the antistatic hard coat layer is increased, that is, the hardness of the antistatic hard coat layer is increased. Adhesiveness with an upper layer such as a low refractive index layer that comes into contact with the conductive hard coat layer is lowered. Furthermore, as described above, when the antistatic hard coat film is subjected to saponification treatment, the antistatic agent present on the surface of the antistatic hard coat layer falls off. There is a possibility that it may further decrease.
本発明は、上記課題を解決するためになされたものである。すなわち、薄く、硬度に優れ、かつ鹸化処理を施した場合であっても、優れた帯電防止性および耐擦傷性を維持できる光学フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems. That is, an object of the present invention is to provide a method for producing an optical film that is thin, excellent in hardness, and capable of maintaining excellent antistatic properties and scratch resistance even when subjected to a saponification treatment.
本発明の一の態様によれば、光透過性基材と、前記光透過性基材上に設けられた帯電防止性ハードコート層と、前記帯電防止性ハードコート層上に設けられ、前記帯電防止性ハードコート層に隣接し、かつ屈折率が前記帯電防止性ハードコート層よりも低い低屈折率層とを備える光学フィルムの製造方法であって、光透過性基材上に、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が１,０００以上３０,０００以下の帯電防止剤と、４個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が１,０００以上５０,０００以下の光重合性ウレタンオリゴマーと、アルキレンオキシド基を有さず、かつ４個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が３００以上９００以下のアクリレートモノマーと、２個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が２００以上９００以下のメタクリレートモノマーと、浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜を形成する工程と、前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜に光を照射することにより前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜を半硬化させる工程と、半硬化した前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜上に、半硬化した前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜と接するように、低屈折率材料および光重合性化合物、またはフッ素含有光重合性化合物を含む低屈折率層用組成物の塗膜を形成する工程と、半硬化した前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜および前記低屈折率層用組成物の塗膜に光を照射することにより前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜および前記低屈折率層用組成物の塗膜を完全硬化させて、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層および低屈折率層を形成する工程とを備えることを特徴とする、光学フィルムの製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, the light-transmitting base material, the antistatic hard coat layer provided on the light-transmitting base material, the antistatic hard coat layer provided on the anti-static hard coat layer, and the charging A method for producing an optical film, comprising a low refractive index layer adjacent to a preventive hard coat layer and having a refractive index lower than that of the antistatic hard coat layer, wherein a quaternary layer is formed on a light-transmitting substrate. Antistatic agent having an ammonium base and a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000, and a photopolymerizable urethane having a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 having four or more photopolymerizable functional groups An oligomer, an acrylate monomer having no alkylene oxide group and having 4 or more acryloyl groups and having a weight average molecular weight of 300 to 900 and a weight average having 2 or more methacryloyl groups A step of forming a coating film of an antistatic hard coat layer composition comprising a methacrylate monomer having a molecular weight of 200 to 900 and a penetrating solvent; A step of semi-curing the coating film of the composition for antistatic hard coat layer by irradiating with, and the semi-cured antistatic coating on the coating film of the composition for antistatic hard coat layer semi-cured Forming a coating film of a low refractive index layer composition containing a low refractive index material and a photopolymerizable compound, or a fluorine-containing photopolymerizable compound so as to come into contact with the coating film of a composition for a conductive hard coat layer; The coating film of the composition for antistatic hard coat layer and the coating film of the composition for antistatic hard coat layer by irradiating light to the semi-cured coating film of the composition for antistatic hard coat layer and the coating film of the composition for low refractive index layer and the above Low refraction A method of producing an optical film, comprising: completely curing a coating film of the layer composition to form an antistatic hard coat layer having a thickness of 4 μm to 10 μm and a low refractive index layer Is provided.
本発明の他の態様によれば、光透過性基材と、前記光透過性基材上に設けられた帯電防止性ハードコート層とを備える光学フィルムの製造方法であって、光透過性基材上に、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が１,０００以上３０,０００以下の帯電防止剤と、アルキレンオキシド基を有さず、かつ４個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が３００以上９００以下のアクリレートモノマーと、２個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が２００以上９００以下のメタクリレートモノマーと、浸透性溶剤とを含む帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜を形成する工程と、前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜に光を照射することにより前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜を半硬化させる工程と、半硬化した前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜上に、半硬化した前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜と接するように、帯電防止剤を含まず、かつ４個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が１,０００以上５０,０００以下の光重合性ウレタンオリゴマーを含む帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜を形成する工程と、半硬化した前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜および前記帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜に光を照射することにより前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜および前記帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜を完全硬化させて、膜厚が２．５μｍを超え９．８μｍ以下の帯電防止剤含有ハードコート層および膜厚が０．２μｍ以上１．５μｍ未満の帯電防止剤非含有ハードコート層を有する膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層を形成する工程と、を備えることを特徴とする、光学フィルムの製造方法が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a method for producing an optical film comprising a light transmissive substrate and an antistatic hard coat layer provided on the light transmissive substrate, wherein the light transmissive group is provided. An antistatic agent having a quaternary ammonium base and a weight average molecular weight of 1,000 to 30,000 on the material, an alkylene oxide group and a weight average molecular weight of 4 or more acryloyl groups An antistatic agent-containing hard coat layer composition coating comprising an acrylate monomer of 300 to 900, a methacrylate monomer having a weight average molecular weight of 200 to 900 having two or more methacryloyl groups, and a penetrating solvent. A coating film of the antistatic agent-containing hard coat layer composition by irradiating light onto the coating film of the antistatic agent-containing hard coat layer composition A semi-curing step, and a semi-cured antistatic agent-containing hard coat layer composition coating film on the semi-cured antistatic agent-containing hard coat layer composition coating film Coating of antistatic agent-free hardcoat layer composition containing no photopolymerizable urethane oligomer having no weight and a weight average molecular weight of 1,000 to 50,000 having four or more photopolymerizable functional groups The step of forming a film, and the antistatic treatment is performed by irradiating light to the semi-cured coating film of the antistatic agent-containing hardcoat layer composition and the antistatic agent-free hardcoat layer composition. The coating film of the agent-containing hard coat layer composition and the coating film of the anti-static agent-free hard coat layer composition are completely cured to contain an antistatic agent having a film thickness of more than 2.5 μm and not more than 9.8 μm Hard coat layer And a step of forming an antistatic hard coat layer having a film thickness of 4 μm or more and 10 μm or less having an antistatic agent-free hard coat layer having a film thickness of 0.2 μm or more and less than 1.5 μm. An optical film manufacturing method is provided.
本発明の一の態様の光学フィルムの製造方法によれば、帯電防止性ハードコート層用組成物が、上記アクリレートモノマーおよび上記光重合性ウレタンオリゴマーを含んでいるので、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層を形成した場合において、帯電防止性ハードコート層の硬度を向上させることができる。これにより、薄くかつ硬度に優れた光学フィルムを提供できる。また、帯電防止性ハードコート層用組成物が、上記帯電防止剤の他に、上記光重合性ウレタンオリゴマー、上記アクリレートモノマー、および上記メタクリレートを含んでいるので、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層を形成した場合において、帯電防止剤を、帯電防止性ハードコート層の表面に存在させずに、帯電防止性ハードコート層の上部の位置に存在させることができる。したがって、鹸化処理を施した場合であっても、表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以下という優れた帯電防止性を維持できる。さらに、帯電防止性ハードコート層用組成物が、上記メタクリレートモノマーを含んでいるので、帯電防止性ハードコート層用組成物を半硬化させると、上記メタクリレートは反応性に劣るので、架橋せずにそのまま残る。そして、半硬化した帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜上に低屈折率層用組成物の塗膜を形成した後に、半硬化した帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜および低屈折率層用組成物の塗膜を完全硬化させると、半硬化した帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜に残存しているメタクリレートは、低屈折率層用組成物中の光重合性化合物またはフッ素含有光重合性化合物と架橋する。これにより、帯電防止性ハードコート層用組成物が上記アクリレートモノマーを含んでいる場合であっても、帯電防止性ハードコート層と低屈折率層との密着性を向上させることができる。また、上記したように帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在しないので、鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤が脱落しにくい。これにより、鹸化処理を施した場合であっても、優れた耐擦傷性を維持できる。 According to the method for producing an optical film of one aspect of the present invention, since the antistatic hard coat layer composition contains the acrylate monomer and the photopolymerizable urethane oligomer, the film thickness is 4 μm or more and 10 μm or less. When the antistatic hard coat layer is formed, the hardness of the antistatic hard coat layer can be improved. Thereby, a thin and excellent optical film can be provided. Moreover, since the composition for antistatic hard coat layers contains the photopolymerizable urethane oligomer, the acrylate monomer, and the methacrylate in addition to the antistatic agent, the film thickness is 4 μm or more and 10 μm or less. When the antistatic hard coat layer is formed, the antistatic agent can be present at the position above the antistatic hard coat layer without being present on the surface of the antistatic hard coat layer. Therefore, even when the saponification treatment is performed, the excellent antistatic property that the surface resistance value is 1 × 10 11 Ω / □ or less can be maintained. Furthermore, since the antistatic hard coat layer composition contains the above-mentioned methacrylate monomer, when the antistatic hard coat layer composition is semi-cured, the methacrylate is inferior in reactivity, so that it does not crosslink. It remains as it is. And after forming the coating film of the composition for low refractive index layers on the coating film of the composition for semi-curing antistatic hard coat layer, the coating film of the composition for anti-hardening hard coat layer which is semi-cured and When the coating film of the composition for low refractive index layer is completely cured, the methacrylate remaining in the coating film of the antistatic hard coat layer composition that has been semi-cured is photopolymerized in the composition for low refractive index layer. It crosslinks with a photochemical compound or a fluorine-containing photopolymerizable compound. Thereby, even if it is a case where the composition for antistatic hard-coat layers contains the said acrylate monomer, the adhesiveness of an antistatic hard-coat layer and a low refractive index layer can be improved. Further, as described above, since the antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer, the antistatic agent is not easily dropped even when subjected to saponification treatment. Thereby, even if it is a case where a saponification process is performed, the outstanding abrasion resistance can be maintained.
本発明の他の態様の光学フィルムの製造方法によれば、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物が上記アクリレートモノマーを含み、かつ帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物が上記光重合性ウレタンオリゴマーを含んでいるので、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層において、帯電防止性ハードコート層の硬度を向上させることができる。これにより、薄くかつ硬度に優れた光学フィルムを提供できる。また、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物が、上記帯電防止剤の他に、上記アクリレートモノマー、および上記メタクリレートを含んでおり、かつ帯電防止剤含有ハードコート層上に帯電防止剤非含有ハードコート層を形成しているので、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層において、帯電防止剤を、帯電防止性ハードコート層の表面に存在させない一方で、帯電防止性ハードコート層の上部の位置に存在させることができる。したがって、鹸化処理を施した場合であっても、表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以下という優れた帯電防止性を維持できる。さらに、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物が、上記メタクリレートモノマーを含んでいるので、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物を半硬化させると、上記メタクリレートは反応性に劣るので、架橋せずにそのまま残る。そして、半硬化した帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜上に帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜を形成した後に、半硬化した帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜および帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜を完全硬化させると、半硬化した帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜に残存しているメタクリレートは、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物中の光重合性ウレタンオリゴマーと架橋する。これにより、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物が上記アクリレートモノマーを含んでいる場合であっても、帯電防止剤含有ハードコート層と帯電防止剤非含有ハードコート層との密着性を向上させることができる。また、上記したように帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在しないので、鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤が脱落しにくい。これにより、鹸化処理を施した場合であっても、優れた耐擦傷性を維持できる。 According to the method for producing an optical film of another aspect of the present invention, the antistatic agent-containing hard coat layer composition contains the acrylate monomer, and the antistatic agent-free hard coat layer composition has the photopolymerizable property. Since the urethane oligomer is contained, in the antistatic hard coat layer having a film thickness of 4 μm or more and 10 μm or less, the hardness of the antistatic hard coat layer can be improved. Thereby, a thin and excellent optical film can be provided. In addition, the antistatic agent-containing hard coat layer composition contains the acrylate monomer and the methacrylate in addition to the antistatic agent, and the antistatic agent-free hard coating layer on the antistatic agent-containing hard coat layer. Since the coating layer is formed, in the antistatic hard coat layer having a thickness of 4 μm or more and 10 μm or less, the antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer, while the antistatic hard coat layer Can be present in the upper position of. Therefore, even when the saponification treatment is performed, the excellent antistatic property that the surface resistance value is 1 × 10 11 Ω / □ or less can be maintained. Furthermore, since the antistatic agent-containing hard coat layer composition contains the above-mentioned methacrylate monomer, when the antistatic agent-containing hard coat layer composition is semi-cured, the methacrylate is inferior in reactivity, so that it is crosslinked. It remains as it is. And after forming the coating film of the anti-static agent-free hard coat layer composition on the coating film of the semi-cured anti-static agent-containing hard coat layer composition, the semi-cured anti-static agent-containing hard coat layer When the coating film of the composition and the coating film of the anti-static agent-free hard coat layer composition are completely cured, the methacrylate remaining in the semi-cured anti-static agent-containing hard coat layer composition film is, It crosslinks with the photopolymerizable urethane oligomer in the composition for an antistatic agent-free hard coat layer. This improves the adhesion between the antistatic agent-containing hard coat layer and the antistatic agent-free hard coat layer even when the antistatic agent-containing hard coat layer composition contains the acrylate monomer. be able to. Further, as described above, since the antistatic agent is not present on the surface of the antistatic hard coat layer, the antistatic agent is not easily dropped even when subjected to saponification treatment. Thereby, even if it is a case where a saponification process is performed, the outstanding abrasion resistance can be maintained.
［第１の実施形態］
以下、本発明の第１の実施形態に係る光学フィルムの製造方法および光学フィルムについて、図面を参照しながら説明する。図１および図２は本実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図であり、図３は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図４は本実施形態に係る光学フィルムの上部領域付近の拡大図である。本明細書において、「フィルム」、「シート」、「板」等の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば、「フィルム」はシートや板とも呼ばれ得るような部材も含む概念である。本明細書において、微粒子の「平均粒径」は、微粒子が凝集粒子（二次粒子）の状態である場合には、凝集粒子の長径および短径の平均から個々の微粒子の粒子径を算出し、これを平均することにより算出できる。具体的には、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）による光学フィルムの表面像または断面像、あるいは走査透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）による光学フィルムの表面像または断面像から任意の２個の凝集粒子を抽出し（表面像の場合、無作為に２個選択できるが、断面の場合、微粒子のどこで切られているか不明であるため、可能な限り大きい粒子を２個選択する）、個々の凝集粒子の長径および短径を測定して、個々の凝集粒子の凝集径を算出し、同じサンプルの別画像の撮像において同様の作業を９回行って、合計２０個分の微粒子の粒子径の数平均から得られる値を微粒子の平均粒径とした。なお、「長径」は、凝集粒子の画面上において最も長い径とし、「短径」は、長径を構成する線分の中点に直交する線分を引き、この線分が凝集粒子と交わる２点間の距離を言うものとする。また、本明細書において、微粒子が凝集粒子の状態でない、すなわち一次粒子の状態である場合には、微粒子の一次粒子の平均粒径は、以下の（１）〜（３）の作業により算出できる。なお、後述する低屈折率層に含まれる空隙を有する微粒子の平均粒径も同様の手法によって算出できる。（１）微粒子そのもの、または微粒子の分散液を光透過性基材上に塗布し、乾燥させたものをＴＥＭまたはＳＴＥＭの表面像を撮像する。（２）表面像から任意の１０個の微粒子を抽出し、個々の微粒子の長径および短径を測定し、長径および短径の平均から個々の微粒子の粒子径を算出する。（３）同じサンプルの別画像の撮像において同様の作業を５回行って、合計５０個分の微粒子の数平均から得られる値を平均粒径とした。
[First Embodiment]
Hereinafter, an optical film manufacturing method and an optical film according to a first embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 and FIG. 2 are diagrams schematically showing a manufacturing process of the optical film according to the present embodiment, FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the optical film according to the present embodiment, and FIG. It is an enlarged view of the upper region vicinity of the optical film which concerns. In the present specification, terms such as “film”, “sheet”, “plate” and the like are not distinguished from each other only based on the difference in names. Therefore, for example, “film” is a concept including a member that can also be called a sheet or a plate. In this specification, the “average particle diameter” of the fine particles is calculated by calculating the particle diameter of each fine particle from the average of the long and short diameters of the aggregated particles when the fine particles are in the state of aggregated particles (secondary particles). This can be calculated by averaging. Specifically, any two aggregated particles from the surface image or cross-sectional image of the optical film by an atomic force microscope (AFM), or from the surface image or cross-sectional image of the optical film by a scanning transmission electron microscope (TEM, STEM) (In the case of a surface image, two particles can be selected at random, but in the case of a cross section, it is unclear where the fine particles are cut, so two particles that are as large as possible are selected.) The major axis and the minor axis of the sample are measured to calculate the agglomerated diameter of each agglomerated particle, and the same operation is performed 9 times in the imaging of another image of the same sample. Was obtained as the average particle size of the fine particles. The “major axis” is the longest diameter on the aggregated particle screen, and the “minor axis” is a line segment perpendicular to the midpoint of the segment constituting the major axis, and this segment intersects the aggregated particle 2 Let's say the distance between points. In the present specification, when the fine particles are not in the state of aggregated particles, that is, in the state of primary particles, the average particle diameter of the primary particles of the fine particles can be calculated by the following operations (1) to (3). . In addition, the average particle diameter of the fine particles having voids contained in the low refractive index layer to be described later can be calculated by the same method. (1) A surface image of TEM or STEM is taken by applying fine particles themselves or a dispersion of fine particles on a light-transmitting substrate and drying them. (2)
＜＜＜光学フィルムの製造方法＞＞＞
まず、光透過性基材上１１に、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜１２を形成する（図１（Ａ））。
<<< Optical Film Manufacturing Method >>>
First, the
＜＜光透過性基材＞＞
光透過性基材１１としては、光透過性を有すれば特に限定されないが、例えば、セルロースアシレート基材、シクロオレフィンポリマー基材、ポリカーボネート基材、アクリレート系ポリマー基材、ポリエステル基材が挙げられる。
<< light transmissive substrate >>
The light-transmitting
セルロースアシレート基材としては、例えば、セルローストリアセテート基材、セルロースジアセテート基材が挙げられる。シクロオレフィンポリマー基材としては、例えばノルボルネン系モノマーおよび単環シクロオレフィンモノマー等の重合体からなる基材が挙げられる。 As a cellulose acylate base material, a cellulose triacetate base material and a cellulose diacetate base material are mentioned, for example. As a cycloolefin polymer base material, the base material which consists of polymers, such as a norbornene-type monomer and a monocyclic cycloolefin monomer, is mentioned, for example.
ポリカーボネート基材としては、例えば、ビスフェノール類（ビスフェノールＡ等）をベースとする芳香族ポリカーボネート基材、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート等の脂肪族ポリカーボネート基材等が挙げられる。 Examples of the polycarbonate substrate include aromatic polycarbonate substrates based on bisphenols (bisphenol A and the like), aliphatic polycarbonate substrates such as diethylene glycol bisallyl carbonate, and the like.
アクリレート系ポリマー基材としては、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸メチル基材、ポリ（メタ）アクリル酸エチル基材、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体基材等が挙げられる。 Examples of the acrylate polymer base material include a poly (meth) methyl acrylate base material, a poly (meth) ethyl acrylate base material, and a (meth) methyl acrylate- (meth) butyl acrylate copolymer base material. Can be mentioned.
ポリエステル基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートの少なくとも１種を構成成分とする基材等が挙げられる。 Examples of the polyester base material include base materials containing at least one of polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene naphthalate as constituent components.
これらの中でも、光透過性に優れていることからセルロースアシレート基材が好ましく、さらにセルロースアシレート基材の中でもトリアセチルセルロース基材（ＴＡＣ基材）が好ましい。トリアセチルセルロース基材は、可視光域３８０〜７８０ｎｍにおいて、平均光透過率を５０％以上とすることが可能な光透過性基材である。トリアセチルセルロース基材の平均光透過率は７０％以上、更に８５％以上であることが好ましい。 Among these, a cellulose acylate base material is preferable because of its excellent light transmittance, and a triacetylcellulose base material (TAC base material) is preferable among the cellulose acylate base materials. A triacetyl cellulose base material is a light-transmitting base material capable of setting an average light transmittance to 50% or more in a visible light region of 380 to 780 nm. The average light transmittance of the triacetyl cellulose base material is preferably 70% or more, and more preferably 85% or more.
なお、トリアセチルセルロース基材としては、純粋なトリアセチルセルロース以外に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートの如くセルロースとエステルを形成する脂肪酸として酢酸以外の成分も併用した物であってもよい。また、これらトリアセチルセルロースには、必要に応じて、ジアセチルセルロース等の他のセルロース低級脂肪酸エステル、或いは可塑剤、紫外線吸收剤、易滑剤等の各種添加剤が添加されていてもよい。 In addition, as a triacetyl cellulose base material, in addition to pure triacetyl cellulose, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate and the like may be used in combination with components other than acetic acid as a fatty acid forming an ester with cellulose. Good. Further, these triacetylcelluloses may be added with other additives such as other cellulose lower fatty acid esters such as diacetylcellulose, or plasticizers, ultraviolet absorbers, and lubricants as necessary.
光透過性基材１１の厚みは、特に限定されないが、通常、２０μｍ以上１０００μｍ以下程度であり、耐久性やハンドリング性等を考慮すると、２５μｍ以上８０μｍ以下がより好ましい。
The thickness of the light-transmitting
光透過性基材１１は、必要に応じて、例えば、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、火炎処理、プライマー層形成などの密着強化の為の表面処理が施されたものであってもよい。
The light-transmitting
＜＜帯電防止性ハードコート層用組成物＞＞
帯電防止性ハードコート層用組成物は、例えば、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が１,０００以上３０,０００以下の帯電防止剤１３、４個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が１,０００以上５０,０００以下の光重合性ウレタンオリゴマー、アルキレンオキシド基を有さず、４個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が３００以上９００以下のアクリレートモノマー、２個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が２００以上９００以下のメタクリレートモノマー、浸透性溶剤、および重合開始剤を含んでいる。なお、帯電防止性ハードコート層用組成物は、上記帯電防止剤、上記光重合性ウレタンオリゴマー、上記アクリレートモノマー、上記メタクリレートモノマー、上記浸透性溶剤を含んでいればよく、上記重合開始剤を含んでいなくともよい。
<< Antistatic hard coat layer composition >>
The composition for an antistatic hard coat layer is, for example, an
帯電防止性ハードコート層用組成物においては、帯電防止剤１３を確実に後述する上部領域Ｒに存在させる観点、干渉縞の発生を確実に抑制する観点、および所望の硬度を確実に得る観点から、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、帯電防止剤１３が０．０１質量％以上６質量％以下、上記光重合性ウレタンオリゴマーが１５質量％以上６０質量％以下、上記アクリレートモノマーが５質量％以上５０質量％以下、上記メタクリレートモノマーが５質量％以上４５質量％以下の割合で含まれていることが好ましい。
In the composition for an antistatic hard coat layer, from the viewpoint of reliably allowing the
また、帯電防止剤１３の含有量が、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、６質量％を超えると、帯電防止性は向上するが、鹸化処理後に帯電防止性能が悪化し耐鹸化性としては劣る。より優れた帯電防止性を得る観点から、帯電防止剤１３の含有量の下限は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、０．１質量％以上であることが好ましく、０．３質量％以上であることがより好ましい。また、より優れた耐擦傷性を得る観点から、帯電防止剤１３の含有量の上限は、５質量％以下であることが好ましく、３質量％以下であることがより好ましい。
In addition, when the content of the
上記光重合性ウレタンオリゴマーの含有量が、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、１５質量％以上であると、優れた硬度を得ることができる。また、上記光重合性ウレタンオリゴマーの含有量が、６０質量％以下であると、アクリレートモノマーの割合を増やすことができるので、所望の厚さの混在領域を形成することができ、干渉縞の発生をより抑制することができる。 An excellent hardness can be obtained when the content of the photopolymerizable urethane oligomer is 15% by mass or more based on the total mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer. Moreover, since the ratio of an acrylate monomer can be increased as the content of the photopolymerizable urethane oligomer is 60% by mass or less, a mixed region having a desired thickness can be formed, and interference fringes are generated. Can be further suppressed.
上記アクリレートモノマーの含有量が、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、５質量％以上５０質量％以下であると、光学フィルムのカールを抑制しつつ、硬度に優れた帯電防止性ハードコート層を得ることができる。 When the content of the acrylate monomer is 5% by mass or more and 50% by mass or less with respect to the total mass of the total solid content of the composition for an antistatic hard coat layer, the hardness of the optical film is suppressed while suppressing curling. It is possible to obtain an antistatic hard coat layer having excellent resistance.
メタクリレートモノマーの含有量が、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、５質量％未満であると、低屈折率層との密着性を向上させることができないおそれがあり、また、４５質量％を超えて添加すると、帯電防止性ハードコート層の硬度が低下するおそれがある。 If the content of the methacrylate monomer is less than 5% by mass relative to the total mass of the total solid content of the antistatic hard coat layer composition, the adhesion with the low refractive index layer may not be improved. In addition, if it exceeds 45% by mass, the hardness of the antistatic hard coat layer may be lowered.
＜帯電防止剤＞
上記したように帯電防止剤１３は、重量平均分子量が１,０００以上３０,０００以下のものである。帯電防止剤の重量平均分子量が１,０００以上であると、帯電防止性ハードコート層の表面に帯電防止剤がブリードアウトしにくく、また重量平均分子量が３０,０００以下であると、帯電防止性ハードコート層用組成物の粘度が高くなりすぎることもなく、塗工適性の低下を抑制できる。
<Antistatic agent>
As described above, the
帯電防止剤１３の重量平均分子量の下限は１,５００以上であることが好ましく、２,０００以上であることがより好ましい。帯電防止剤１３の重量平均分子量の上限は２５,０００以下であることが好ましく、２０,０００以下であることがより好ましい。
The lower limit of the weight average molecular weight of the
本明細書における「重量平均分子量」は、ＴＨＦ等の溶媒に溶解して、従来公知のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法によるポリスチレン換算により得られる値である。 The “weight average molecular weight” in the present specification is a value obtained by dissolving in a solvent such as THF and converting to polystyrene by a conventionally known gel permeation chromatography (GPC) method.
帯電防止剤１３としては、例えば、第四級アンモニウム塩基を有するモノマーと、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーとの共重合体を用いることができる。
As the
上記共重合体としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基含有モノマーを四級化した後、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーと重合することにより、又はＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基含有モノマーと第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーとを共重合した後、得られた共重合体が有するＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基を四級化することにより得ることができる。 As the copolymer, for example, after quaternizing an N, N-dialkylamino group-containing monomer, it is polymerized with a monomer having no quaternary ammonium base, or contains an N, N-dialkylamino group The copolymer can be obtained by copolymerizing a monomer and a monomer having no quaternary ammonium base, and then quaternizing the N, N-dialkylamino group of the obtained copolymer.
Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基含有モノマーとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノブチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノブチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられ、なかでも、優れた耐鹸化性が得られる点で、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートは好ましい化合物の一種である。 Examples of the N, N-dialkylamino group-containing monomer include N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminopropyl (meth) acrylate, N , N-diethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminobutyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminobutyl (meth) acrylate, N, N-dihydroxyethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N- Examples thereof include dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide and the like. Among them, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate is a kind of preferred compound in that excellent saponification resistance is obtained. It is.
上記共重合体を構成する、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸、或いは、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート、或いは、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、或いは、ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、等の環状構造を有するアルキル（メタ）アクリレート、或いは、エトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル（メタ）アクリレート、或いは、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレート、或いは、メチル（メタ）アクリルアミド、エチル（メタ）アクリルアミド、プロピル（メタ）アクリルアミド、ブチル（メタ）アクリルアミド、２−エチルヘキシル（メタ）アクリルアミド、ステアリル（メタ）アクリルアミド、ラウリル（メタ）アクリルアミド、トリデシル（メタ）アクリルアミド、ドデシル（メタ）アクリルアミド等のアルキル（メタ）アクリルアミド、或いは、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシブチル（メタ）アクリルアミド等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリルアミド、或いは、ベンジル（メタ）アクリルアミド、シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド、イソボルニル（メタ）アクリルアミド、ジシクロペンテニル（メタ）アクリルアミド、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリルアミド、グリシジル（メタ）アクリルアミド、等の環状構造を有するアルキル（メタ）アクリルアミド、或いは、エトキシエチル（メタ）アクリルアミド、ブトキシエチル（メタ）アクリルアミド等のアルコキシアルキル（メタ）アクリルアミド、或いは、エチルカルビトール（メタ）アクリルアミド、シアノエチル（メタ）アクリルアミド等の各種（メタ）アクリルアミド、或いは、スチレン、メチルスチレン等が挙げられる。特に、得られる共重合体の有機溶媒に対する溶解性の高さ、及び疎水性の強さの面からドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレートが好適に使用される。 Examples of the monomer constituting the copolymer that does not have a quaternary ammonium base include (meth) acrylic acid, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, and butyl. Alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, or 2-hydroxyethyl Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, or benzyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate Alkyl (meth) acrylate having a cyclic structure such as isobornyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, dicyclopentenyloxyethyl (meth) acrylate, glycidyl (meth) acrylate, or ethoxyethyl (meth) acrylate , Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as butoxyethyl (meth) acrylate, or various (meth) acrylates such as ethyl carbitol (meth) acrylate and cyanoethyl (meth) acrylate, or methyl (meth) acrylamide, ethyl (meth) ) Acrylamide, propyl (meth) acrylamide, butyl (meth) acrylamide, 2-ethylhexyl (meth) acrylamide, stearyl (meth) acrylamide, lauryl (meth) a Alkyl (meth) acrylamides such as rilamide, tridecyl (meth) acrylamide, dodecyl (meth) acrylamide, or hydroxyethyl (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, hydroxypropyl (meth) acrylamide, 2-hydroxypropyl Hydroxyalkyl (meth) acrylamides such as (meth) acrylamide and hydroxybutyl (meth) acrylamide, or benzyl (meth) acrylamide, cyclohexyl (meth) acrylamide, isobornyl (meth) acrylamide, dicyclopentenyl (meth) acrylamide, dicyclo Alkyl (meth) acrylic having a cyclic structure such as pentenyloxyethyl (meth) acrylamide and glycidyl (meth) acrylamide Or alkoxyalkyl (meth) acrylamides such as ethoxyethyl (meth) acrylamide and butoxyethyl (meth) acrylamide, or various (meth) acrylamides such as ethyl carbitol (meth) acrylamide and cyanoethyl (meth) acrylamide, or , Styrene, methylstyrene and the like. In particular, dodecyl (meth) acrylate and tridecyl (meth) acrylate are preferably used in view of the high solubility of the resulting copolymer in an organic solvent and the hydrophobicity.
また、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーとして、オルガノポリシロキサン系モノマー、例えば、（メタ）アクリロイル基を有するポリジメチルシロキサンを用いてもよい。 Further, as a monomer having no quaternary ammonium base, an organopolysiloxane monomer, for example, polydimethylsiloxane having a (meth) acryloyl group may be used.
耐鹸化性などの点で好ましい共重合体を例示すれば、第四級アンモニウム塩基を有するモノマーがＮ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレートであり、第四級アンモニウム塩基を有さないモノマーがドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレートの群から１種又は２種以上であり、これらを共重合させた共重合体である。 As an example of a preferred copolymer in terms of saponification resistance, the monomer having a quaternary ammonium base is N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, and the monomer having no quaternary ammonium base is One or two or more types from the group of dodecyl (meth) acrylate and tridecyl (meth) acrylate, and a copolymer obtained by copolymerizing these.
第四級アンモニウム塩基は、カチオン化剤で変性して四級化処理して得ることができる。第四級アンモニウム塩基はＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基をカチオン化剤で変性し、第四級化処理をして得られたものであることが好ましい。カチオン化剤としては、例えばメチルハライド、エチルハライド、ノルマルプロピルハライド、イソプロピルハライド、ノルマルブチルハライド、イソプロピルハライド、ノルマルヘキシルハライド、２−エチルヘキシルハライド、オクチルハライド、ラウリルハライド、ステアリルハライドなどのアルキルハライド、或いは、モノクロロ酢酸ナトリウム、モノクロロ酢酸カリウムなどのモノクロロ酢酸塩、或いは、モノクロロ酢酸メチル、モノクロロ酢酸エチルなどのモノクロロ酢酸エステル、或いは、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドなどである。カチオン化剤は、これらから１種単独使用してもよく、また、２種以上を併用してもよい。 The quaternary ammonium base can be obtained by modification with a cationizing agent and quaternization treatment. The quaternary ammonium base is preferably obtained by modifying the N, N-dialkylamino group with a cationizing agent and subjecting it to a quaternization treatment. Examples of the cationizing agent include alkyl halides such as methyl halide, ethyl halide, normal propyl halide, isopropyl halide, normal butyl halide, isopropyl halide, normal hexyl halide, 2-ethylhexyl halide, octyl halide, lauryl halide, stearyl halide, or the like. Monochloroacetate such as sodium monochloroacetate and potassium monochloroacetate, monochloroacetate such as methyl monochloroacetate and ethyl monochloroacetate, or 3-chloro-2-hydroxypropyltrimethylammonium chloride. One of these cationizing agents may be used alone, or two or more may be used in combination.
これらの中でも反応性の高さや帯電防止性等の点で、第四級アンモニウム塩基がＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基をアルキルハライド、モノクロロ酢酸塩、モノクロロ酢酸エステル、及び３−クロロ−２−ヒドロキシプロピルトリメチルアンモニウムクロライドから選ばれるカチオン化剤で変性して得られたものが好ましく、より好ましくはアルキルクロライド、更に好ましくは炭素数１〜２のアルキルクロライド、特に好ましくはメチルクロライドで変性して得られたものである。 Among these, the quaternary ammonium base is an N, N-dialkylamino group alkyl halide, monochloroacetate, monochloroacetate, and 3-chloro-2-hydroxypropyl in terms of high reactivity and antistatic properties. Those obtained by modification with a cationizing agent selected from trimethylammonium chloride are preferred, more preferably alkyl chlorides, still more preferably alkyl chlorides having 1 to 2 carbon atoms, particularly preferably methyl chloride. Is.
また、帯電防止剤１３は、光重合性官能基を有していてもよい。本明細書における、「光重合性官能基」とは、光照射により架橋し得る官能基である。また、本明細書においては、光重合性官能基の数を、「官能数」として表すこともある。光重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性二重結合を有する基が挙げられる。「（メタ）アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」および「メタクリロイル基」の両方を含む概念である。光重合性官能基を有する帯電防止剤を使用することにより、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化の際に、帯電防止剤とアクリレートモノマー等とを架橋させることができる。この結果、帯電防止性ハードコート層の表面上への経時的な帯電防止剤のブリードアウトを効果的に防ぐことができる。なお、帯電防止剤が光重合性官能基を有する場合、帯電防止剤はモノマー等と架橋するので、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在していても、帯電防止剤が脱落しにくいので、耐擦傷性が低下しないとも考えることもできるが、実際には、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在している場合には、耐擦傷性試験を行うと、帯電防止剤が脱落してしまい、耐擦傷性が低下してしまう。
The
帯電防止剤１３の市販品としては、例えば、大成ファインケミカル社製の１ＳＸ３０００やコルコート社製のコルコートＮＲ１２１Ｘが挙げられる。
Examples of commercially available
第四級アンモニウム塩基が塩素を含んでいる場合には、帯電防止性ハードコート層１２における塩素濃度を測定することにより帯電防止性ハードコート層１２中の第四級アンモニウム塩の含有量を特定することができる。具体的には、帯電防止性の観点から、帯電防止性ハードコート層１２における塩素濃度は１００ｐｐｍ以上７００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１５０ｐｐｍ以上５５０ｐｐｍ以下であることがより好ましい。７００ｐｐｍを超えると、鹸化処理前においては、帯電防止性は向上するが、鹸化処理後においては帯電防止性が悪化し、耐鹸化性としては劣る。帯電防止性ハードコート層１２における塩素濃度は、例えば、燃焼−イオンクロマトグラフ法によって測定することができる。
When the quaternary ammonium base contains chlorine, the content of the quaternary ammonium salt in the antistatic
＜光重合性ウレタンオリゴマー＞
光重合性ウレタンオリゴマーは、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化後に帯電防止性ハードコート層中のバインダ樹脂の成分となるものである。上記したように光重合性ウレタンオリゴマーは、４個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が１,０００以上５０,０００以下のオリゴマーである。
<Photopolymerizable urethane oligomer>
The photopolymerizable urethane oligomer is a component of the binder resin in the antistatic hard coat layer after the antistatic hard coat layer composition is cured. As described above, the photopolymerizable urethane oligomer is an oligomer having 4 or more photopolymerizable functional groups and having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 50,000 or less.
光重合性ウレタンオリゴマーは４個以上の光重合性官能基を有するものであるが、光重合性官能基が４個以上であると、優れた硬度を得ることができる。また光重合性官能基が４個以上の場合、光重合性官能基が３個以下の場合と比べると、低屈折率層との密着性を向上させることができるので、耐擦傷性を向上させることができる。光重合性ウレタンオリゴマーは６個以上の光重合性官能基を有することが好ましい。 Although the photopolymerizable urethane oligomer has four or more photopolymerizable functional groups, excellent hardness can be obtained when the number of the photopolymerizable functional groups is four or more. In addition, when the number of photopolymerizable functional groups is 4 or more, the adhesion to the low refractive index layer can be improved as compared with the case of 3 or less photopolymerizable functional groups, so that the scratch resistance is improved. be able to. The photopolymerizable urethane oligomer preferably has 6 or more photopolymerizable functional groups.
光重合性ウレタンオリゴマーは重量平均分子量が１，０００以上５０，０００以下のものであるが、光重合性ウレタンオリゴマーの重量平均分子量が上記範囲内であると、優れた硬度を得ることができるとともに、帯電防止性ハードコート層の表面に位置し易くなり、また光透過性基材に浸透しにくくなるので、混在領域に存在する光重合性ウレタンオリゴマーの割合を低下させることができる。 The photopolymerizable urethane oligomer has a weight average molecular weight of 1,000 or more and 50,000 or less, and when the weight average molecular weight of the photopolymerizable urethane oligomer is within the above range, excellent hardness can be obtained. Since it becomes easy to be located on the surface of the antistatic hard coat layer and does not easily penetrate into the light-transmitting substrate, the proportion of the photopolymerizable urethane oligomer present in the mixed region can be reduced.
光重合性ウレタンオリゴマーとしては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えば、下記式［１］で表されるイソシアヌル酸骨格を有する（メタ）アクリロイル基が１５官能のウレタン（メタ）アクリレートが挙げられる。
光重合性ウレタンオリゴマーは、市販品を用いても良く、市販品としては例えば、日本合成化学工業株式会社製のＵＶ１７００Ｂや新中村化学工業株式会社製のＵ−１５ＨＡ等が挙げられる。 A commercially available product may be used as the photopolymerizable urethane oligomer. Examples of the commercially available product include UV1700B manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., U-15HA manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., and the like.
＜アクリレートモノマー＞
アクリレートモノマーは、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化後に帯電防止性ハードコート層中のバインダ樹脂の成分となるものである。アクリレートモノマーは、上記したように、アルキレンオキシド基を有さず、４個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が３００以上９００以下のモノマーである。なお、アクリレートモノマーがアルキレンオキシド基を有すると、硬度に劣り、また分子量が大きくなるとアクリロイル基の割合が少なくなるので、低屈折率層との密着性に劣ってしまう。
<Acrylate monomer>
The acrylate monomer is a component of the binder resin in the antistatic hard coat layer after the antistatic hard coat layer composition is cured. As described above, the acrylate monomer is a monomer having an alkylene oxide group and having a weight average molecular weight of 300 or more and 900 or less having 4 or more acryloyl groups. In addition, when the acrylate monomer has an alkylene oxide group, the hardness is inferior, and when the molecular weight is increased, the ratio of the acryloyl group is decreased, so that the adhesion with the low refractive index layer is inferior.
アクリレートモノマーは４個以上のアクリロイル基を有するものであるが、アクリロイル基の数が４個以上であると、優れた硬度を得ることができ、また帯電防止性ハードコート層上に低屈折率層等を形成した場合に、低屈折率層等の密着性を向上させることができる。 The acrylate monomer has four or more acryloyl groups, but when the number of acryloyl groups is four or more, excellent hardness can be obtained, and a low refractive index layer is provided on the antistatic hard coat layer. Etc., the adhesion of the low refractive index layer and the like can be improved.
アクリレートモノマーは重量平均分子量が３００以上９００以下のものであるが、アクリレートモノマーの重量平均分子量が３００以上９００以下であると、帯電防止剤を帯電防止性ハードコート層の上部に存在させることができるとともに、帯電防止性ハードコート層の硬度を向上させることができる。 The acrylate monomer has a weight average molecular weight of 300 or more and 900 or less, but when the acrylate monomer has a weight average molecular weight of 300 or more and 900 or less, the antistatic agent can be present on the top of the antistatic hard coat layer. At the same time, the hardness of the antistatic hard coat layer can be improved.
具体的には、このようなアクリレートモノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリペンタエリスリトールオクタアクリレート、テトラペンタエリスリトールデカアクリレート、ジグリセリンテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが挙げられる。 Specifically, such acrylate monomers include dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, tripentaerythritol octaacrylate, tetrapentaerythritol decaacrylate, diglycerin tetraacrylate, ditrimethylolpropane tetraacrylate. .
これらの中でも硬度が高い帯電防止性ハードコート層を得る観点から、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）等が好ましい。 Of these, dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) and the like are preferable from the viewpoint of obtaining an antistatic hard coat layer having high hardness.
＜メタクリレートモノマー＞
メタクリレートモノマーは、帯電防止性ハードコート層用組成物の硬化後に帯電防止性ハードコート層中のバインダ樹脂の成分となるものである。メタクリレートモノマーは、上記したように２個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が２００以上９００以下のモノマーである。
<Methacrylate monomer>
The methacrylate monomer becomes a component of the binder resin in the antistatic hard coat layer after curing of the composition for antistatic hard coat layer. The methacrylate monomer is a monomer having a weight average molecular weight of 200 or more and 900 or less having two or more methacryloyl groups as described above.
メタクリレートモノマーはメタクリロイル基を有するものであるが、メタクリロイル基を有することにより、後述するように帯電防止性ハードコート層１５と低屈折率層１６との密着性を向上させることができる。
Although the methacrylate monomer has a methacryloyl group, the adhesion between the antistatic
メタクリレートモノマーは２個以上のメタクリロイル基を有するものであるが、メタクリレートモノマーにおけるメタクリロイル基の数を２個以上としたのは、メタクリロイル基の数が１個（１官能）であると、硬度に劣り、また乾燥・紫外線照射工程で飛散するおそれあるからである。また、皮膚刺激性が強く、安全性に欠けるおそれがある。 Although the methacrylate monomer has two or more methacryloyl groups, the number of methacryloyl groups in the methacrylate monomer is set to two or more. If the number of methacryloyl groups is one (monofunctional), the hardness is inferior. In addition, there is a risk of scattering in the drying / ultraviolet irradiation process. Moreover, skin irritation is strong and there is a risk of lack of safety.
メタクリレートモノマーは重量平均分子量が２００以上９００以下のものであるが、メタクリレートモノマーの重量平均分子量が上記範囲内であると、帯電防止性ハードコート層の硬度を向上させることができるとともに、帯電防止性ハードコート層用組成物において混合しやすく、また帯電防止性ハードコート層全体の硬化を遅らせることができる。 The methacrylate monomer has a weight average molecular weight of 200 or more and 900 or less. If the weight average molecular weight of the methacrylate monomer is within the above range, the hardness of the antistatic hard coat layer can be improved and the antistatic property can be improved. It is easy to mix in the composition for hard coat layers, and curing of the whole antistatic hard coat layer can be delayed.
具体的には、メタクリレートモノマーとしては、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、トリペンタエリスリトールオクタメタクリレート、テトラペンタエリスリトールデカメタクリレート、ジグリセリンテトラメタクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラメタクリレート等が挙げられる。 Specifically, as the methacrylate monomer, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, tripentaerythritol octamethacrylate, tetrapentaerythritol decamethacrylate, diglycerin tetramethacrylate, Examples include ditrimethylolpropane tetramethacrylate.
これらの中でも、硬度を向上させる観点や帯電防止剤との相性の悪さによって帯電防止剤を上部領域に存在させることができる観点から、トリメチロールプロパントリメタクリレート等が好ましい。 Among these, trimethylolpropane trimethacrylate and the like are preferable from the viewpoint of improving the hardness and allowing the antistatic agent to be present in the upper region due to poor compatibility with the antistatic agent.
＜浸透性溶剤＞
浸透性溶剤は、光透過性基材１１に対して浸透性が高く、光透過性基材１１を溶解または膨潤させる溶剤である。浸透性溶剤を用いることにより、光透過性基材１１に浸透性溶剤のみならず、アクリレートモノマーをも浸透させることができる。
<Penetration solvent>
The permeable solvent is a solvent that has high permeability to the
浸透性溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、ジアセトンアルコール、シクロヘプタノン、ジエチルケトン等のケトン類；蟻酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、乳酸エチル等の沸点が８５℃未満のエステル類；ニトロメタン、アセトニトリル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の含窒素化合物；メチルグリコール、メチルグリコールアセテート等のグリコール類；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、ジオキソラン、ジイソプロピルエーテル等の沸点が１００℃未満のエーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、テトラクロルエタン等のハロゲン化炭化水素；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテート等のグリコールエーテル類；その他、ジメチルスルホキシド、炭酸プロピレンが挙げられる。また、これらの混合物であってもよい。これらの中でも、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル及びメチルエチルケトンからなる群より選択される少なくとも１種であることが好ましい。 Examples of the permeable solvent include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), cyclohexanone, methyl isobutyl ketone, diacetone alcohol, cycloheptanone, and diethyl ketone; methyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate Esters having a boiling point of less than 85 ° C .; nitrogen-containing compounds such as nitromethane, acetonitrile, N-methylpyrrolidone and N, N-dimethylformamide; glycols such as methyl glycol and methyl glycol acetate; Ethers having a boiling point of less than 100 ° C. such as 4-dioxane, dioxolane, diisopropyl ether; halogenated hydrocarbons such as methylene chloride, chloroform, tetrachloroethane; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, buty Cellosolve, glycol ethers such as cellosolve acetate and the like; dimethyl sulfoxide, propylene carbonate. Moreover, these mixtures may be sufficient. Among these, at least one selected from the group consisting of methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, and methyl ethyl ketone is preferable.
浸透性溶剤の添加量は、帯電防止性ハードコート層用組成物の全固形分１００質量部に対して、５０質量部以上５００質量部以下であることが好ましい。浸透性溶剤の添加量が５０質量部以上であると、浸透性溶剤が充分に光透過性基材に浸透し、干渉縞の発生をより抑制でき、また、５００質量部以下であると、浸透性溶剤が、光透過性基材を必要以上に溶解又は膨潤させるおそれがなく、光学フィルムとして所望の硬度を得ることができる。 The amount of the penetrating solvent added is preferably 50 parts by mass or more and 500 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total solid content of the composition for antistatic hard coat layer. When the added amount of the penetrating solvent is 50 parts by mass or more, the penetrating solvent sufficiently permeates the light-transmitting substrate, and the generation of interference fringes can be further suppressed. There is no fear that the light-soluble solvent dissolves or swells the light-transmitting substrate more than necessary, and a desired hardness can be obtained as an optical film.
＜重合開始剤＞
重合開始剤は、光照射により分解されて、ラジカルを発生してアクリレートモノマー等の架橋を開始または進行させる成分である。
<Polymerization initiator>
The polymerization initiator is a component that is decomposed by light irradiation to generate radicals and initiate or advance crosslinking of an acrylate monomer or the like.
重合開始剤は、光照射によりラジカル重合を開始させる物質を放出することが可能であれば特に限定されない。重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ケタール類、アントラキノン類、ジスルフィド化合物類、チウラム化合物類、フルオロアミン化合物類等が挙げられる。より具体的には、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケトン、１−（４−ドテシルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、ベンゾフェノン等を例示できる。これらの中でも、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、及び２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モルフォリノプロパン−１−オンは、少量でも光照射による重合反応を開始または促進することができるので、好ましい。重合開始剤は、以上に示したいずれか一つを単独で、又は、複数を組み合わせて用いることができる。 The polymerization initiator is not particularly limited as long as it can release a substance that initiates radical polymerization by light irradiation. Examples of the polymerization initiator include acetophenones, benzophenones, ketals, anthraquinones, disulfide compounds, thiuram compounds, and fluoroamine compounds. More specifically, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, benzyldimethylketone, 1- (4-dosyl) Tesylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methyl Examples include propan-1-one and benzophenone. Among these, 1-hydroxy-cyclohexyl-phenylketone and 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one initiate polymerization reaction by light irradiation even in a small amount. Since it can promote, it is preferable. Any one of the above-described polymerization initiators may be used alone or in combination of two or more.
重合開始剤の市販品としては、例えば、ＢＡＳＦジャパン社製のイルガキュア（登録商標）１８４（１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン）、イルガキュア（登録商標）９０７（２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン）、イルガキュア（登録商標）１２７（２−ヒドロキシ−１［４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル］−２−メチル−プロパン−１−オン）、ルシリン（登録商標）ＴＰＯ（２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−フォスフィンオキサイド）等が挙げられる。 Commercially available polymerization initiators include, for example, Irgacure (registered trademark) 184 (1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone) and Irgacure (registered trademark) 907 (2-methyl-1- (4-methyl) manufactured by BASF Japan. Methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one), Irgacure® 127 (2-hydroxy-1 [4- [4- (2-hydroxy-2-methyl-propionyl) -benzyl] phenyl]- 2-methyl-propan-1-one), Lucillin (registered trademark) TPO (2,4,6-trimethylbenzoyl-diphenyl-phosphine oxide) and the like.
帯電防止性ハードコート層用組成物に、その他、必要に応じて、浸透抑制溶剤、易滑剤、分散剤等を含ませてもよい。 In addition, the antistatic hard coat layer composition may contain a permeation suppression solvent, a lubricant, a dispersant, and the like, if necessary.
＜浸透抑制溶剤＞
浸透抑制溶剤は、浸透性溶剤の光透過性基材１１への浸透を適度に抑制するための成分である。すなわち、浸透性溶剤を用いると、光透過性基材の種類によっては、浸透性溶剤により光透過性基材が過度に荒らされてしまい、白化してしまうおそれがあるので、浸透性溶剤と併せて、浸透性抑制溶剤を用いることにより、光透過性基材が過度に荒らされることを抑制できる。浸透抑制溶剤としては、沸点が８５℃以上１２５℃以下のエステル類や沸点が１００℃以上１５０℃以下のエーテル類等が挙げられる。
<Penetration inhibiting solvent>
The permeation suppression solvent is a component for appropriately suppressing permeation of the permeable solvent into the light-transmitting
沸点が８５℃以上１２５℃以下のエステル類としては、沸点が８５℃以上１１０℃以下のものが好ましい。またこのようなエステル類の中でも、重量平均分子量が８０以上１１０以下のものが好ましく、９０以上１０５以下のものがより好ましい。エステル類としては、沸点が８０℃以上１２５℃以下のものであれば、特に限定されないが、このようなエステル類としては、例えば、酢酸イソプロピル（沸点：８８．６℃、重量平均分子量：１０２．１３）、炭酸ジメチル（沸点：９０℃、重量平均分子量：９０．０８）、炭酸エチルメチル（沸点：１０７℃、重量平均分子量：１０４．１）、が挙げられる。 As the esters having a boiling point of 85 ° C. or higher and 125 ° C. or lower, those having a boiling point of 85 ° C. or higher and 110 ° C. or lower are preferable. Among these esters, those having a weight average molecular weight of 80 or more and 110 or less are preferable, and those having a weight average molecular weight of 90 or more and 105 or less are more preferable. The ester is not particularly limited as long as it has a boiling point of 80 ° C. or higher and 125 ° C. or lower. Examples of such esters include isopropyl acetate (boiling point: 88.6 ° C., weight average molecular weight: 102. 13), dimethyl carbonate (boiling point: 90 ° C., weight average molecular weight: 90.08), and ethyl methyl carbonate (boiling point: 107 ° C., weight average molecular weight: 104.1).
沸点が１００℃以上１５０℃以下のエーテル類としては、重量平均分子量が１００以上１５０以下のものが好ましく、１２０以上１４０以下のものがより好ましい。このようなエーテル類としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（沸点：１４６℃、重量平均分子量：１３２．１６）等が挙げられる。 As ethers having a boiling point of 100 ° C. or more and 150 ° C. or less, those having a weight average molecular weight of 100 or more and 150 or less are preferable, and those having a boiling point of 120 or more and 140 or less are more preferable. Examples of such ethers include propylene glycol monomethyl ether acetate (boiling point: 146 ° C., weight average molecular weight: 132.16).
＜易滑剤＞
易滑剤（アンチブロッキング剤）は、ロール状態にするなど帯電防止性ハードコート層１２と光透過性基材１１とを重ね合わせた際の貼り付きを防止する成分である。易滑剤としては、従来公知の易滑剤を使用することができ、例えば、平均一次粒径１００ｎｍ以上１０００ｎｍ以下の特開２００４−２８４１２６号公報に記載のシリカ等の無機化合物の微粒子及び高密度ポリエチレンや、ポリスチレン、ポリスチレンアクリル等の有機化合物の微粒子を用いることができる。易滑剤の含有量は、ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、０．１質量％以上５質量％以下であることが好ましい。
<Easily lubricant>
The easy lubricant (anti-blocking agent) is a component that prevents sticking when the antistatic
帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜１２は、帯電防止性ハードコート層用組成物を光透過性基材１１上に塗布することにより形成することができる。ハードコート層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の公知の塗布方法が挙げられる。
The
光透過性基材１１上に上記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜１２を形成すると、光透過性基材１１の上部に一部の浸透性溶剤ならびに一部のアクリレートモノマーが浸透し、図１（Ａ）に示されるように光透過性基材１１の上部に、硬化後混在領域となる浸透領域１１Ａが形成される。なお、帯電防止剤１３や光重合性ウレタンオリゴマーは重量平均分子量が大きいため、光透過性基材１１中には浸透しない。
When the
次いで、例えば３０℃以上１００℃以下で１５秒以上塗膜１２を乾燥させる。これにより、浸透性溶剤を除去する。塗膜１２を乾燥させた後、例えば、塗膜１２に積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ２以上１００ｍＪ／ｃｍ２以下となるように光を照射して塗膜を半硬化（ハーフキュア）させる（図１（Ｂ））。ここで、本明細書における「塗膜」を硬化させる際に塗膜に照射される「光」としては、可視光線、並びに紫外線、Ｘ線、電子線、α線、β線、およびγ線のような電離放射線が挙げられる。また、「半硬化」とは、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜を更に加熱および／または帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜に更に光を照射した場合には、硬化が実質的に進行する状態を意味する。
Next, for example, the
塗膜１２を半硬化させる光として紫外線を用いる場合には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等から発せられる紫外線等が利用できる。紫外線の波長としては、１９０ｎｍ以上３８０ｎｍ以下の波長域を使用することができる。これらの中でも高圧水銀灯が好ましく、上記波長域の範囲によって、混在領域の厚みを所望の厚みに調整することができる。
When ultraviolet rays are used as the light for semi-curing the
塗膜１２を半硬化させると、主に、上記光重合性ウレタンオリゴマーおよび上記アクリレートモノマーは架橋するが、上記メタクリレートモノマーは反応性に劣るので、架橋せずに塗膜１２中にメタクリレートモノマーとして残存する。
When the
次いで、半硬化した塗膜１２上に、低屈折率層用組成物の塗膜１４を形成する（図２（Ａ））。低屈折率層用組成物の塗膜１４は、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜１２と同様の方法によって形成することができる。
Subsequently, the
＜＜低屈折率層用組成物＞＞
低屈折率層用組成物は、低屈折率材料および光重合性化合物を含む組成物、またはフッ素含有光重合性化合物を含む組成物である。低屈折率材料としては、空隙を有する微粒子や金属フッ化物が挙げられる。光重合性化合物は、フッ素非含有光重合性化合物およびフッ素含有光重合性化合物のいずれであってもよい。したがって、低屈折率層用組成物が、低屈折率材料および光重合性化合物を含む組成物である場合、低屈折率材料とフッ素非含有光重合性化合物の組み合わせのみならず、低屈折率材料とフッ素含有光重合性化合物の組み合わせも含まれる。本明細書においては、「光重合性化合物」とは、光重合性モノマー、光重合性オリゴマー、光重合性プレポリマーのうち少なくともいずれかを意味するものである。
<< Low Refractive Index Layer Composition >>
The composition for a low refractive index layer is a composition containing a low refractive index material and a photopolymerizable compound, or a composition containing a fluorine-containing photopolymerizable compound. Examples of the low refractive index material include fine particles having voids and metal fluorides. The photopolymerizable compound may be either a fluorine-free photopolymerizable compound or a fluorine-containing photopolymerizable compound. Therefore, when the composition for the low refractive index layer is a composition containing a low refractive index material and a photopolymerizable compound, not only the combination of the low refractive index material and the fluorine-free photopolymerizable compound, but also the low refractive index material. And combinations of fluorine-containing photopolymerizable compounds are also included. In the present specification, the “photopolymerizable compound” means at least one of a photopolymerizable monomer, a photopolymerizable oligomer, and a photopolymerizable prepolymer.
具体的には、低屈折率層用組成物としては、例えば、（１）空隙を有する微粒子および金属フッ化物の少なくともいずれかとフッ素非含有光重合性化合物とを含む組成物、（２）フッ素含有光重合性化合物を含む組成物、または（３）空隙を有する微粒子および金属フッ化物の少なくともいずれかとフッ素含有光重合性化合物とを含む組成物が挙げられる。 Specifically, as the composition for a low refractive index layer, for example, (1) a composition containing at least one of fine particles having voids and a metal fluoride and a fluorine-free photopolymerizable compound, (2) fluorine-containing Examples thereof include a composition containing a photopolymerizable compound, or (3) a composition containing at least one of fine particles having voids and a metal fluoride and a fluorine-containing photopolymerizable compound.
（１）空隙を有する微粒子および金属フッ化物の少なくともいずれかとフッ素非含有光重合性化合物とを含む組成物
＜空隙を有する微粒子＞
空隙を有する微粒子は、屈折率を低下させるための成分である。空隙を有する微粒子は、微細な空隙を外部や内部に有しており、この空隙に例えば屈折率１．０の空気などの気体が充填されているために屈折率を低下させることができる。このような空隙を有する微粒子としては、無機系または有機系の多孔質微粒子、中空微粒子等が挙げられる。具体的には、多孔質シリカ微粒子、中空シリカ微粒子、アクリル樹脂等を用いて形成された多孔質ポリマー微粒子や中空ポリマー微粒子が挙げられる。
(1) Composition containing at least one of fine particles having voids and metal fluoride and a fluorine-free photopolymerizable compound <fine particles having voids>
The fine particles having voids are a component for reducing the refractive index. The fine particles having voids have fine voids on the outside and inside, and the voids are filled with a gas such as air having a refractive index of 1.0, so that the refractive index can be lowered. Examples of the fine particles having such voids include inorganic or organic porous fine particles, hollow fine particles, and the like. Specific examples include porous polymer fine particles and hollow polymer fine particles formed using porous silica fine particles, hollow silica fine particles, acrylic resins, and the like.
「多孔質シリカ微粒子」は多孔質構造を有するシリカ微粒子であり、「中空シリカ微粒子」は内部に気体が充填された構造のシリカ微粒子である。多孔質シリカ微粒子および中空シリカ微粒子は、気体の占有率に反比例して屈折率が低くなるので、一般的なシリカ微粒子の屈折率よりも屈折率が低い。具体的には、一般的なシリカ微粒子の屈折率が１．４５程度であるのに対し、多孔質シリカ微粒子や中空シリカ微粒子の屈折率は１．２０〜１．４４程度である。このため、多孔質シリカ微粒子や中空シリカ微粒子は、低屈折率化の観点から好ましい。 “Porous silica fine particles” are silica fine particles having a porous structure, and “hollow silica fine particles” are silica fine particles having a structure filled with gas. The porous silica fine particles and the hollow silica fine particles have a refractive index that is inversely proportional to the gas occupancy, and therefore have a refractive index lower than that of general silica fine particles. Specifically, the refractive index of general silica fine particles is about 1.45, whereas the refractive index of porous silica fine particles and hollow silica fine particles is about 1.20 to 1.44. For this reason, porous silica fine particles and hollow silica fine particles are preferable from the viewpoint of lowering the refractive index.
中空シリカ微粒子としては特に限定されないが、例えば特開２００１−２３３６１１号公報で開示されている技術を用いて形成された中空シリカ微粒子が好ましい。中空シリカ微粒子は、製造が容易でそれ自身の硬度が高いため、バインダ樹脂と混合して低屈折率層を形成した場合、低屈折率層の強度を向上させることができる。 Although it does not specifically limit as a hollow silica microparticle, For example, the hollow silica microparticle formed using the technique currently disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2001-233611 is preferable. Since the hollow silica fine particles are easy to produce and have high hardness, when the low refractive index layer is formed by mixing with the binder resin, the strength of the low refractive index layer can be improved.
また、微粒子としては、その形態、構造、凝集状態、膜内部での分散状態により、内部および／または表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な微粒子も好ましい。 Further, as the fine particles, fine particles capable of forming a nanoporous structure inside and / or at least part of the surface depending on the form, structure, aggregation state, and dispersion state inside the film are also preferable.
このような微粒子としては、上記したシリカの微粒子や、比表面積を大きくすることを目的として製造され、充填用カラムおよび表面の多孔質部に各種化学物質を吸収させる除放材、触媒固定用に使用される多孔質微粒子、または断熱材や低誘電材に用いられることを目的とする中空微粒子の分散体や凝集体等が挙げられる。具体的には、例えば、日本シリカ工業株式会社製のNipsil、Nipgelや日産化学工業株式会社製のコロイダルシリカUPシリーズ等が挙げられる。 Such fine particles are produced for the purpose of increasing the above-mentioned silica fine particles and the specific surface area, and are used for the release column for absorbing various chemical substances in the packing column and the porous portion on the surface, and for fixing the catalyst. Examples thereof include porous fine particles used, and dispersions and aggregates of hollow fine particles intended to be used for heat insulating materials and low dielectric materials. Specific examples include Nipsil, Nipgel manufactured by Nippon Silica Industry Co., Ltd., colloidal silica UP series manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., and the like.
空隙を有する微粒子の一次粒子の平均粒径は、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以上１００ｎｍ以下がより好ましく、１０ｎｍ以上８０ｎｍ以下がさらに好ましい。空隙を有する微粒子の平均粒径が上記範囲内であれば、低屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な微粒子の分散状態が得られる。また、本発明においては、平均粒径が上記範囲内にあれば、微粒子が鎖状に連なっていてもよい。 The average particle diameter of primary particles of fine particles having voids is preferably 5 nm or more and 200 nm or less, more preferably 5 nm or more and 100 nm or less, and further preferably 10 nm or more and 80 nm or less. If the average particle size of the fine particles having voids is within the above range, the transparency of the low refractive index layer is not impaired, and a good dispersed state of fine particles can be obtained. Moreover, in this invention, if an average particle diameter exists in the said range, microparticles | fine-particles may continue in a chain form.
空隙を有する微粒子は、表面処理されたものであることが好ましい。表面処理としては、シランカップリング剤を用いた表面処理が挙げられる。シランカップリング剤を用いた表面処理の中でも、（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤を用いた表面処理が好ましい。微粒子に表面処理を施すことにより、フッ素非含有光重合性化合物との親和性が向上し、微粒子の分散を均一化することができる。これにより、空隙を有する微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、大粒径化による低屈折率層の透明化の低下や、低屈折率層用組成物の塗布性、低屈折率層用組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。 The fine particles having voids are preferably surface-treated. Examples of the surface treatment include surface treatment using a silane coupling agent. Among the surface treatments using a silane coupling agent, the surface treatment using a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group is preferable. By subjecting the fine particles to surface treatment, the affinity with the fluorine-free photopolymerizable compound is improved, and the fine particles can be uniformly dispersed. This makes it difficult for the fine particles having voids to agglomerate, so that the reduction in the transparency of the low refractive index layer due to the increase in the particle size, the applicability of the composition for the low refractive index layer, the composition for the low refractive index layer It is possible to suppress a decrease in coating film strength.
シランカップリング剤が（メタ）アクリロイル基を有する場合、このシランカップリング剤は光重合性を有するため、フッ素非含有光重合性化合物と容易に架橋する。これにより、空隙を有する微粒子がバインダ樹脂中に固定される。その結果、バインダ樹脂が本来有する柔軟性を残したまま、防汚剤含有層に優れた表面硬度を付与することが可能となる。したがって、低屈折率層の柔軟性をいかして低屈折率層が変性するので、外部衝撃に対する吸収力や、復元力に優れている。これにより、傷の発生をさらに抑制することができのるので、より耐擦傷性に優れた光学フィルムを提供することができる。 When the silane coupling agent has a (meth) acryloyl group, since this silane coupling agent has photopolymerizability, it easily crosslinks with a fluorine-free photopolymerizable compound. Thereby, the fine particles having voids are fixed in the binder resin. As a result, it is possible to impart excellent surface hardness to the antifouling agent-containing layer while leaving the inherent flexibility of the binder resin. Therefore, since the low refractive index layer is modified by utilizing the flexibility of the low refractive index layer, it has excellent absorbency against external impacts and restoring force. Thereby, since generation | occurrence | production of a damage | wound can be suppressed further, the optical film excellent in abrasion resistance can be provided.
シランカップリング剤としては、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、２−（メタ）アクリロキシプロピルエトキシシラン等が挙げられる。シランカップリング剤としては、紫外線硬化型のシランカップリング剤が好ましい。 As silane coupling agents, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3- (meth) acryloxy Examples include propylmethyldiethoxysilane, 2- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, and 2- (meth) acryloxypropylethoxysilane. As the silane coupling agent, an ultraviolet curable silane coupling agent is preferable.
空隙を有する微粒と空隙を有さない微粒子（中実微粒子）と組み合わせて用いることも好ましい。空隙を有する微粒子で屈折率の低下を図り、空隙を有さない微粒子で表面硬度の向上を図ることができるからである。この場合、空隙を有する微粒子と空隙を有さない微粒子との配合比（質量比）は、１〜１５：１が好ましく、１〜１１：１がより好ましく、１〜９：１がさらに好ましく、１〜８：１が特に好ましい。 It is also preferable to use in combination with fine particles having voids and fine particles having no voids (solid fine particles). This is because the refractive index can be lowered with fine particles having voids, and the surface hardness can be improved with fine particles having no voids. In this case, the blending ratio (mass ratio) of the fine particles having voids and the fine particles not having voids is preferably 1 to 15: 1, more preferably 1 to 11: 1, and even more preferably 1 to 9: 1. 1-8: 1 is particularly preferred.
空隙を有する微粒子の含有量は、フッ素非含有光重合性化合物１００質量部に対して０．８質量部以上２．５質量部以下が好ましく、０．９質量部以上２．４質量部がより好ましく、１．０以上２．３以下がさらに好ましい。空隙を有する微粒子の含有量がフッ素非含有光重合性化合物１００質量部に対して０．８質量部以上であれば反射率の上昇を抑制でき、また光重合性化合物１００質量部に対して２．５質量部以下であれば耐擦傷性の低下を抑制できる。 The content of the fine particles having voids is preferably 0.8 parts by mass or more and 2.5 parts by mass or less, more preferably 0.9 parts by mass or more and 2.4 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the fluorine-free photopolymerizable compound. Preferably, it is 1.0 or more and 2.3 or less. If the content of the fine particles having voids is 0.8 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the fluorine-free photopolymerizable compound, an increase in reflectance can be suppressed, and 2 parts per 100 parts by mass of the photopolymerizable compound. If the amount is 5 parts by mass or less, a decrease in scratch resistance can be suppressed.
＜金属フッ化物＞
金属フッ化物は、屈折率を低下させるための成分である。金属フッ化物としては、例えば、フッ化マグネシウムやフッ化ナトリウムが挙げられる。
<Metal fluoride>
Metal fluoride is a component for reducing the refractive index. Examples of the metal fluoride include magnesium fluoride and sodium fluoride.
＜フッ素非含有光重合性化合物＞
フッ素非含有光重合性化合物は、低屈折率層用組成物の硬化後に低屈折率層中のバインダ樹脂の成分となるものである。フッ素非含有光重合性化合物は、フッ素原子を含有せず、かつ光重合性官能基を有するものである。フッ素非含有光重合性化合物としては、特に限定されないが、表面硬度、低屈折率層と帯電防止性ハードコート層との密着性の点で、光重合性官能基が２個以上の光重合性化合物が好ましく、より好ましくは光重合性官能基が３個以上９個以下の重合性化合物が好ましい。
<Fluorine-free photopolymerizable compound>
The fluorine-free photopolymerizable compound is a component of the binder resin in the low refractive index layer after the composition for the low refractive index layer is cured. The fluorine-free photopolymerizable compound does not contain a fluorine atom and has a photopolymerizable functional group. Although it does not specifically limit as a fluorine-free photopolymerizable compound, From the point of surface hardness, the adhesiveness of a low refractive index layer and an antistatic hard-coat layer, it is photopolymerizable with two or more photopolymerizable functional groups. A compound is preferable, and a polymerizable compound having 3 to 9 photopolymerizable functional groups is more preferable.
これらの中でも、フッ素非含有光重合性化合物としてヒドロキシル基を分子中に有さないものを用いた場合には、耐鹸化性をより向上させることができるので、ヒドロキシル基を分子中に有さないフッ素非含有光重合性化合物が好ましい。 Among these, when a non-fluorine-containing photopolymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule is used, saponification resistance can be further improved, so that no hydroxyl group is contained in the molecule. A fluorine-free photopolymerizable compound is preferred.
ヒドロキシル基を分子中に有さないフッ素非含有光重合性モノマーとしては、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の２官能（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等の３官能（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の４官能（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の６官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Fluorine-free photopolymerizable monomers having no hydroxyl group in the molecule include hexanediol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di Bifunctional (meth) acrylates such as (meth) acrylate and neopentyl glycol di (meth) acrylate, trifunctional (meth) acrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate and isocyanuric acid modified tri (meth) acrylate, pentaerythritol Examples include tetrafunctional (meth) acrylates such as tetra (meth) acrylate and hexafunctional (meth) acrylates such as dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.
ヒドロキシル基を分子中に有さないフッ素非含有光重合性オリゴマーやプレポリマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル−ウレタン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アクリレート、イソシアヌレート（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Fluorine-free photopolymerizable oligomers and prepolymers that do not have a hydroxyl group in the molecule include polyester (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester-urethane (meth) acrylate, polyether (meth) acrylate, polyol (Meth) acrylate, melamine (meth) acrylate, isocyanurate (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and the like.
フッ素非含有光重合性化合物としては、ヒドロキシル基を分子中に有さないフッ素非含有光重合性化合物のみからなることが、耐鹸化性の点で最も好ましい。ただ、耐鹸化性を損なわない範囲内であれば、耐擦傷性、塗工適性などの物性調整等のために、ヒドロキシル基を分子中に有するフッ素非含有光重合性化合物を使用することができる。この場合、耐擦傷性の点で、ヒドロキシル基を分子中に有するフッ素非含有光重合性化合物としては、光重合性官能基が２個以上のフッ素非含有光重合性化合物（多官能フッ素非含有光重合性化合物）が好ましい。 The fluorine-free photopolymerizable compound is most preferably composed of only a fluorine-free photopolymerizable compound having no hydroxyl group in the molecule from the viewpoint of saponification resistance. However, as long as the saponification resistance is not impaired, a fluorine-free photopolymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule can be used for adjusting physical properties such as scratch resistance and coating suitability. . In this case, in terms of scratch resistance, the fluorine-free photopolymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule is a fluorine-free photopolymerizable compound having two or more photopolymerizable functional groups (polyfunctional fluorine-free content). Photopolymerizable compounds) are preferred.
分子中に１個のヒドロキシル基を有する多官能フッ素非含有光重合性モノマーとしては、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート（ＴＭＰＤＡ）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（ＰＥＴＡ）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート（ＤＰＰＡ）等が挙げられる。また、分子中に２個のヒドロキシル基を有する多官能フッ素非含有光重合性モノマーとしては、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート（ＤＰＴＡ）が挙げられる。 Polyfunctional fluorine-free photopolymerizable monomers having one hydroxyl group in the molecule include trimethylolpropane di (meth) acrylate (TMPDA), pentaerythritol tri (meth) acrylate (PETA), dipentaerythritol penta ( And (meth) acrylate (DPPA). Examples of the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable monomer having two hydroxyl groups in the molecule include dipentaerythritol tetra (meth) acrylate (DPTA).
このように、ヒドロキシル基を分子中に有する多官能フッ素非含有光重合性化合物の場合、ヒドロキシル基が分子中に占める割合が大きいものは、耐鹸化性の点で好ましくない。そのため、なるべく、低屈折率層用組成物の全量中における、ヒドロキシル基の割合が少ない方が、より確実に耐鹸化性をよくできる点で好ましい。 Thus, in the case of a polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, a compound having a large proportion of the hydroxyl group in the molecule is not preferable in terms of saponification resistance. Therefore, it is preferable that the proportion of the hydroxyl group in the total amount of the composition for the low refractive index layer is as small as possible from the viewpoint that the saponification resistance can be improved more reliably.
そこで、本実施形態では、ヒドロキシル基を分子中に有する多官能フッ素非含有光重合性化合物の場合、ヒドロキシル基（ＯＨ基）が分子中に占める割合の指標として、１分子中に含まれるヒドロキシル基の数を分子量で除して１００倍した値を「ヒドロキシル基含有率」として定義する。 Therefore, in the present embodiment, in the case of a polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound having a hydroxyl group in the molecule, the hydroxyl group contained in one molecule as an index of the proportion of the hydroxyl group (OH group) in the molecule. A value obtained by dividing the number of γ by the molecular weight and multiplying by 100 is defined as “hydroxyl group content”.
ここで、ヒドロキシル基含有率の具体例を示せば、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート（ＰＥＴＡ）は、ＯＨ基数１で分子量２９８で０．３３、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）は、ＯＨ基数１で分子量約５５０で０．１８である。 Here, if a specific example of the hydroxyl group content is shown, the pentaerythritol tri (meth) acrylate (PETA) has an OH group number of 1 and a molecular weight of 298 of 0.33, and dipentaerythritol pentaacrylate (DPPA) has an OH group number of 1 and a molecular weight of about 550 is 0.18.
ヒドロキシル基含有率は、０．２以下が好ましい。多官能フッ素非含有光重合性化合物として、その１分子中に含有するヒドロキシル基の数が、ヒドロキシル基含有率で０．２以下の化合物を用いることによって、好ましい耐鹸化性が得られる。ヒドロキシル基含有率は１分子に対する指標であるが、低屈折率層用組成物が、複数の多官能フッ素非含有光重合性化合物の混合物である場合、これら複数の多官能フッ素非含有光重合性化合物の全体として、ヒドロキシル基含有率を０．２以下とするのが好ましい。また、多官能フッ素非含有光重合性化合物の分子量が単一ではなく分布を有する場合は、上記計算式中の分子量に重量平均分子量を使う。 The hydroxyl group content is preferably 0.2 or less. As the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound, preferred saponification resistance is obtained by using a compound in which the number of hydroxyl groups contained in one molecule is 0.2 or less in terms of hydroxyl group content. Although the hydroxyl group content is an index for one molecule, when the composition for a low refractive index layer is a mixture of a plurality of polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compounds, the plurality of polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compounds. As a whole compound, the hydroxyl group content is preferably 0.2 or less. When the molecular weight of the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound is not single but has a distribution, the weight average molecular weight is used as the molecular weight in the above formula.
低屈折率層用組成物に含まれる多官能フッ素非含有光重合性化合物の分子量は、耐擦傷性の点から３００〜１,０００とするのが良い。分子量が小さすぎても、大きすぎても耐擦傷性が低下する。 The molecular weight of the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound contained in the composition for a low refractive index layer is preferably 300 to 1,000 from the viewpoint of scratch resistance. If the molecular weight is too small or too large, the scratch resistance decreases.
また、低屈折率層用組成物には、物性調整等のために、多官能フッ素非含有光重合性化合物の他に、ヒドロキシル基を分子中に有さない１個の光重合性官能基を有するフッ素非含有光重合性化合物（単官能フッ素非含有光重合性化合物）を併用しても良い。ヒドロキシル基を分子中に有さない単官能重合性モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、メチルヘキシル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。 In addition to the polyfunctional fluorine-free photopolymerizable compound, the composition for low refractive index layer has one photopolymerizable functional group that does not have a hydroxyl group in the molecule in order to adjust physical properties. The fluorine-free photopolymerizable compound (monofunctional fluorine-free photopolymerizable compound) may be used in combination. Examples of the monofunctional polymerizable monomer having no hydroxyl group in the molecule include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, methylhexyl (meth) acrylate, and ethylhexyl (meth) acrylate.
（２）フッ素含有光重合性化合物を含む組成物
＜フッ素含有光重合性化合物＞
フッ素含有光重合性化合物は、屈折率を低下させるための成分である。フッ素含有光重合性化合物は、フッ素原子を含有し、かつ光重合性官能基を有するものである。フッ素含有光重合性化合物としては、例えば、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）が挙げられる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとしては、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物や、分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有するフッ素含有多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等もある。
(2) Composition containing fluorine-containing photopolymerizable compound <Fluorine-containing photopolymerizable compound>
The fluorine-containing photopolymerizable compound is a component for reducing the refractive index. The fluorine-containing photopolymerizable compound contains a fluorine atom and has a photopolymerizable functional group. Examples of the fluorine-containing photopolymerizable compound include fluoroolefins (for example, fluoroethylene, vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene, hexafluoropropylene, perfluorobutadiene, perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole, etc. ). As those having a (meth) acryloyloxy group, 2,2,2-trifluoroethyl (meth) acrylate, 2,2,3,3,3-pentafluoropropyl (meth) acrylate, 2- (perfluorobutyl) ) Ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorohexyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorooctyl) ethyl (meth) acrylate, 2- (perfluorodecyl) ethyl (meth) acrylate, α-trifluoro (Meth) acrylate compounds having a fluorine atom in the molecule, such as methyl methacrylate and α-trifluoroethyl methacrylate, a fluoroalkyl group having 1 to 14 carbon atoms having at least 3 fluorine atoms in the molecule, A fluorocycloalkyl group or a fluoroalkylene group and at least two ( There are also fluorine-containing polyfunctional (meth) acrylic acid ester compounds having a (meth) acryloyloxy group.
上記（１）〜（３）の組成物には、熱で硬化可能な熱硬化性樹脂、光でも熱でも硬化しない熱可塑性樹脂を含ませてもよい。熱硬化性樹脂としては、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、フェノール系樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられ、熱可塑性樹脂としては、アクリル系樹脂、熱可塑性ウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、スチレン系樹脂、セルロース系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ビニル系樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。セルロース系樹脂としては、ニトロセルロース、アセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、エチルヒドロキシエチルセルロース等が挙げられる。 The compositions of (1) to (3) may contain a thermosetting resin that can be cured by heat, or a thermoplastic resin that is not cured by light or heat. Examples of thermosetting resins include urethane resins, melamine resins, phenolic resins, silicone resins, etc., and thermoplastic resins include acrylic resins, thermoplastic urethane resins, polyamide resins, styrene resins, Cellulosic resins, polycarbonate resins, vinyl resins, silicone resins and the like can be mentioned. Examples of the cellulose-based resin include nitrocellulose, acetylcellulose, cellulose acetate propionate, and ethylhydroxyethylcellulose.
さらに、上記（１）〜（３）の組成物には、重合開始剤、溶剤を含ませてもよい。重合開始剤や溶剤としては上記帯電防止性ハードコート層用組成物の欄で記載した化合物を用いることができる。また、塗工適性、低屈折率材料の分散安定性等の物性調整のために、公知の各種添加剤を添加してもよい。このような添加剤としては、例えば、レベリング剤、分散安定剤、帯電防止剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、屈折率調整剤等が挙げられる。 Furthermore, you may include a polymerization initiator and a solvent in the composition of said (1)-(3). As the polymerization initiator and the solvent, the compounds described in the column of the composition for antistatic hard coat layer can be used. Various known additives may be added to adjust physical properties such as coating suitability and dispersion stability of the low refractive index material. Examples of such additives include a leveling agent, a dispersion stabilizer, an antistatic agent, an ultraviolet absorber, an antioxidant, and a refractive index adjusting agent.
その後、塗膜１２、１４に、例えば、積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２以下となるように光を照射して塗膜１２、１４を完全硬化（フルキュア）する（図２（Ｂ））。本明細書において、「完全硬化」とは、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜および低屈折率層用組成物の塗膜を更に加熱および／またはこれらの塗膜に更に光を照射してもそれ以上硬化が実質的に進行せず、硬化の結果、本発明の課題を克服する程度の硬度を有する状態となっていることを意味する。これにより、図３に示されるにように、混在領域１１Ｂ、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下という極めて薄い膜厚を有する帯電防止性ハードコート層１５および低屈折率層１６が形成され、光学フィルム１０を得ることができる。
Thereafter, the coating
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
上記の製造方法によって作製された光学フィルム１０は、図３に示されるように、光透過性基材１１と、光透過性基材１１上に設けられた帯電防止性ハードコート層１５と、帯電防止性ハードコート層１５上に設けられ、かつ帯電防止性ハードコート層１５と隣接し、かつ前記帯電防止性ハードコート層１５の屈折率よりも低い屈折率を有する低屈折率層１６とを備えている。
<<< Optical film >>>
As shown in FIG. 3, the
また、図３の光学フィルム１０においては、光透過性基材１１における帯電防止性ハードコート層１５の界面付近に、光透過性基材１１と帯電防止性ハードコート層１５のバインダ樹脂１７の成分とが混在した混在領域１１Ｂが形成されている。
Further, in the
＜＜混在領域＞＞
混在領域１１Ｂは、干渉縞の発生を抑制するためのものである。すなわち、光透過性基材と帯電防止性ハードコート層との屈折率差に起因して、光透過性基材と帯電防止性ハードコート層との界面で反射する光と、帯電防止性ハードコート層の表面で反射する光とが干渉して、干渉縞と呼ばれる虹色状のムラ模様が発生するおそれがある。これに対し、図３のように混在領域１１Ｂを形成した場合には、混在領域１１Ｂには、後述する帯電防止性ハードコート層用組成物から光透過性基材１１に浸透したアクリレートモノマーを含む浸透物の硬化物が含まれているので、後述する理由から、干渉縞の発生を抑制することができる。また、混在領域１１Ｂを形成することにより、光透過性基材１１と帯電防止性ハードコート層１５との密着性をより向上させることができる。
<< Mixed area >>
The
混在領域１１Ｂの厚みは、１μｍ以上６μｍ以下であることが好ましい。なお、従来の反射防止フィルムで形成される混在領域の厚みは、７μｍ〜２０μｍ程度である場合が多いので、混在領域１１Ｂの厚みは従来の反射防止フィルムで形成される混在領域に比べて薄いと言える。また、充分な厚さの混在領域を形成した場合には、混在領域は比較的柔らかいため、光学フィルムにおいて所望の硬度が得られないおそれがある。これに対し、本実施形態において混在領域１１Ｂを薄くすることができるので、光学フィルム１０の所望の硬度を向上させることができる。
The thickness of the
＜＜帯電防止性ハードコート層＞＞
帯電防止性ハードコート層１５は、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が１,０００以上５０,０００以下の帯電防止剤１３およびバインダ樹脂１７を含むものであり、かつＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を示すものである。
<< Antistatic Hard Coat Layer >>
The antistatic
帯電防止性ハードコート層１５は、４μｍ以上１０μｍ以下の膜厚を有するものである。帯電防止性ハードコート層１５の膜厚を４μｍ以上とすることにより、所望の硬度を得ることができる。また帯電防止性ハードコート層１５の膜厚を１０μｍ以下とすることにより、光学フィルム１０の薄膜化を図ることができる。帯電防止性ハードコート層１５の膜厚の上限は８μｍ以下であることが好ましい。帯電防止性ハードコート層の膜厚は、帯電防止性ハードコート層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより求めることができる。具体的には、走査型電子顕微鏡の画像を用い、１画像の中で３箇所帯電防止性ハードコート層の膜厚を計測し、これを５画像分行い、計測された膜厚の平均値を算出する。
The antistatic
帯電防止性ハードコート層１５の屈折率は、１．５０以上１．６０以下であってもよい。帯電防止ハードコート層１５の屈折率の下限は、１．５２であってもよく、帯電防止性ハードコート層１５の屈折率の上限は、１．５６以下であってもよい。光透過性基材１１と帯電防止性ハードコート層１５との屈折率差は、干渉縞の発生を抑制する観点から、０．１０以内とすることが好ましく、０．０６以内とすることがより好ましい。
The refractive index of the antistatic
帯電防止性ハードコート層１５の屈折率は、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長領域における屈折率は一定とし、分光光度計により測定した反射スペクトルと、フレネルの式を用いた薄膜の光学モデルから算出したスペクトルとをフィッティングさせることによって求めることができる。また、帯電防止性ハードコート層１５の屈折率は、単独の層を形成した後、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）やエリプソメータによって測定して求めてもよい。また、光学フィルム１０となった後に屈折率を測定する方法としては、帯電防止性ハードコート層１２をカッターなどで削り取り、粉状態のサンプルを作製し、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ｂ法（粉体または粒状の透明材料用）に従ったベッケ法（屈折率が既知のカーギル試薬を用い、前記粉状態のサンプルをスライドガラスなどに置き、そのサンプル上に試薬を滴下し、試薬でサンプルを浸漬する。その様子を顕微鏡観察によって観察し、サンプルと試薬の屈折率が異なることによってサンプル輪郭に生じる輝線（ベッケ線）が目視で観察できなくなる試薬の屈折率を、サンプルの屈折率とする方法）を用いることができる。
The antistatic
帯電防止剤１３は、帯電防止性ハードコート層１５の表面１５Ａに存在していない。「帯電防止性ハードコート層の表面」とは、帯電防止性ハードコート層における光透過性基材側の面（裏面）とは反対側の面を意味する。「帯電防止剤が、帯電防止性ハードコート層の表面に存在していない」ことは、鹸化処理前後の光学フィルムの耐擦傷性の変化を調べることによって確認することができる。すなわち、偏光子との密着性の観点から密着性向上処理としてアルカリ水溶液による鹸化処理を光学フィルムに施すことがあるが、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在していれば、光学フィルムに施すと、帯電防止性ハードコート層の表面に存在する帯電防止剤が脱落してしまうので、鹸化処理前よりも耐擦傷性が低下してしまう。これに対し、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に存在していなければ、光学フィルムに鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤が脱落することがないので、鹸化処理前後において耐擦傷性はほぼ同じ評価となる。したがって、鹸化処理前後の光学フィルムの耐擦傷性が低下していなければ、帯電防止剤が、帯電防止性ハードコート層の表面に存在していないと言える。
The
帯電防止剤１３は、図４に示されるように、帯電防止性ハードコート層１５の表面１５Ａからの深さが０．２μｍ以上２．０μｍ未満の領域Ｒ（以下、この領域を「上部領域」と称する。）に存在している。上部領域に帯電防止剤が存在しているか否かは、以下のようにして評価することができる。まず、評価対象である光学フィルムの帯電防止性ハードコート層に含まれる帯電防止剤と同じ帯電防止剤とメチルエチルケトンとを含む組成物を複数のトリアセチルセルロースフィルムの片面に塗布し、乾燥させて、各トリアセチルセルロースフィルム上に膜厚０．５μｍの帯電防止層を形成する。次いで、各帯電防止層上に、帯電防止剤を含まず、かつジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）と、トルエンと、重合開始剤とを含む組成物を塗布し、紫外線を照射してハードコート層を形成して、複数のサンプルを作製する。ただし、各サンプルのハードコート層は、膜厚がサンプル毎に０．１μｍ刻みで異なるように形成される。このような複数のサンプルを用意した後、評価対象に係る鹸化処理前の光学フィルムの表面抵抗値、および各サンプルのハードコート層の表面抵抗値を測定し、評価対象に係る光学フィルムの表面抵抗値とほぼ同じ表面抵抗値を示すサンプルを探し出す。ここで、評価対象に係る光学フィルムにおいては、探し出されたサンプルとほぼ同じ表面抵抗値を示すので、このサンプルとほぼ同じ位置に帯電防止剤が存在すると考えることができる。したがって、帯電防止性ハードコート層の表面から、帯電防止性ハードコート層の深さ方向に、探し出されたサンプルのハードコート層の膜厚に相当する距離離れた位置に、少なくとも帯電防止剤が存在すると考えることができる。そして、探し出されたサンプルのハードコート層の膜厚が０．２μｍ以上２．０μｍ未満の範囲内にあれば、帯電防止剤は上部領域に存在していると言え、探し出されたサンプルのハードコート層の膜厚が２．０μｍ以上であれば、帯電防止剤は上部領域に存在していないと言える。このように、サンプルを用いた帯電防止性の評価を行うことにより、帯電防止剤が、上部領域に存在しているか評価することができる。
As shown in FIG. 4, the
上部領域の範囲を、帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが０．２μｍ以上２．０μｍ未満としたのは、鹸化処理による帯電防止剤の脱落を抑制し、かつ鹸化処理前後において所望の耐擦傷性を維持しようとすると、帯電防止剤を帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが０．２μｍ以上の位置に存在させることが必要であり、また所望の帯電防止性、例えば、表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以下の帯電防止性を得るようとすると、帯電防止剤を帯電防止性ハードコート層の表面からの深さが２．０μｍ未満の位置に存在させることが必要であるからである。 The reason why the depth from the surface of the antistatic hard coat layer is 0.2 μm or more and less than 2.0 μm is that the antistatic agent is prevented from falling off by the saponification treatment and is desired before and after the saponification treatment. In order to maintain the scratch resistance, it is necessary that the antistatic agent be present at a position where the depth from the surface of the antistatic hard coat layer is 0.2 μm or more, and desired antistatic properties, for example, In order to obtain an antistatic property with a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less, the antistatic agent should be present at a position where the depth from the surface of the antistatic hard coat layer is less than 2.0 μm. This is because it is necessary.
鹸化処理による帯電防止剤の脱落をより抑制し、かつ鹸化処理前後において所望の耐擦傷性をより維持する観点から、帯電防止剤１３は、上部領域Ｒのうち、帯電防止性ハードコート層１５の表面１５Ａからの深さが０．３μｍ以上の領域に存在していることが好ましい。
From the viewpoint of further suppressing the falling off of the antistatic agent due to the saponification treatment and maintaining the desired scratch resistance before and after the saponification treatment, the
９×１０１０Ω／□以下の表面抵抗値を得る観点から、帯電防止剤１３は、上部領域Ｒのうち、帯電防止性ハードコート層１５の表面１５Ａからの深さが１．５μｍ以下の領域に存在していることが好ましい。また、９×１０９Ω／□以下の表面抵抗値を得る観点から、帯電防止剤１３は、上部領域Ｒのうち、帯電防止性ハードコート層１５の表面１５Ａからの深さが１．０μｍ以下の領域に存在していることが好ましい。
From the viewpoint of obtaining a surface resistance value of 9 × 10 10 Ω / □ or less, the
帯電防止剤１３は、上部領域Ｒ内に局在していることが好ましい。「帯電防止剤が上部領域内に局在している」とは、上部領域内に帯電防止剤が集中して存在しており、上部領域外の領域においては帯電防止剤の存在割合が極めて低いことを意味する。したがって、上部領域内に帯電防止剤の濃度の最も高いピークが存在する。帯電防止剤１３が上部領域Ｒ内に局在することにより、確実に所望の帯電防止性を維持することができる。また、帯電防止性ハードコート層１５中に存在する帯電防止剤の総量に対して７５質量％以上の割合の帯電防止剤１３が上部領域Ｒ内に局在していることが好ましい。
The
＜帯電防止剤＞
帯電防止剤１３は、帯電防止性ハードコート層用組成物の欄で説明したので、ここでは説明を省略するものとする。
<Antistatic agent>
Since the
＜バインダ樹脂＞
バインダ樹脂１７は、上記光重合性ウレタンオリゴマー、上記アクリレートモノマー、および上記メタクリレートモノマーの架橋物を含んでいる。帯電防止性ハードコート層１５の状態においては、メタクリレートモノマーは、低屈折率層１６中のバインダ樹脂または低屈折率樹脂と架橋している。
<Binder resin>
The
＜＜低屈折率層＞＞
低屈折率層１６は、外部からの光（例えば蛍光灯、自然光等）が光学フィルム１０の表面にて反射する際に、その反射率を低下させるためのものである。低屈折率層１６は帯電防止性ハードコート層１５よりも低い屈折率を有する。具体的には、例えば、低屈折率は、１．４５以下の屈折率を有することが好ましく、１．４２以下の屈折率を有することがより好ましい。低屈折率層１６の屈折率は、上記帯電防止ハードコート層１５の屈折率と同様の方法によって測定することができる。
<< Low refractive index layer >>
The low
低屈折率層１６の厚みは、限定されないが、通常は３０ｎｍ以上１μｍ以下の範囲内から適宜設定すれば良い。低屈折率層１６の厚みｄ（ｎｍ）は、下記式（１）を満たすものが好ましい。
ｄ＝ｍλ／（４ｎ） …（１）
上記式中、ｎは低屈折率層の屈折率を表し、ｍは正の奇数を表し、好ましくは１であり、λは波長であり、好ましくは４８０ｎｍ以上５８０ｎｍ以下の範囲の値である。
The thickness of the low-
d = mλ / (4n) (1)
In the above formula, n represents the refractive index of the low refractive index layer, m represents a positive odd number, preferably 1, and λ is a wavelength, preferably a value in the range of 480 nm to 580 nm.
低屈折率層１６は、低反射率化の観点から、下記式（２）を満たすものが好ましい。
１２０＜ｎｄ＜１４５ …（２）
The low
120 <nd <145 (2)
低屈折率層１６の膜厚は、低屈折率層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察（倍率は１万倍以上であることが好ましい）することにより求めることができる。具体的には、透過型電子顕微鏡の画像を用い、１画像の中で３箇所低屈折率層の膜厚を計測し、これを５画像分行い、計測された膜厚の平均値を算出する。
The film thickness of the low
低屈折率層は単層で効果が得られるが、より低い最低反射率、あるいはより高い最低反射率を調整する目的で、低屈折率層を２層以上設けることも適宜可能である。２層以上の低屈折率層を設ける場合、各々の低屈折率層の屈折率及び厚みに差異を設けることが好ましい。 The effect can be obtained with a single layer of the low refractive index layer, but it is also possible to appropriately provide two or more low refractive index layers for the purpose of adjusting a lower minimum reflectance or a higher minimum reflectance. When two or more low refractive index layers are provided, it is preferable to provide a difference in the refractive index and thickness of each low refractive index layer.
低屈折率層１６は、低屈折率材料およびバインダ樹脂、またはフッ素含有樹脂を含んでいる。バインダ樹脂は、上記低折率層用組成物中の光重合性化合物の架橋物であり、フッ素含有樹脂は、上記低屈折率層組成物中のフッ素含有光重合性化合物の架橋物である。低屈折率材料、光重合性化合物、フッ素含有光重合性化合物は、低屈折率層用組成物の欄で説明したので、ここでは説明を省略するものとする。
The low
＜＜光学フィルムの物性＞＞
鹸化処理前の光学フィルム１０の表面抵抗値は、１×１０１１Ω／□以下であり、より優れた帯電防止性を得る観点から１×１０１０Ω／□以下であることがより好ましい。また、鹸化処理前の光学フィルムの表面抵抗値に対する鹸化処理後の光学フィルムの表面抵抗値の割合（鹸化処理後の表面抵抗値／鹸化処理前の表面抵抗値）は、５００以下であることが好ましい。鹸化処理は、光学フィルムを、１．５〜４．５規定に調整された４０℃〜７０℃のＮａＯＨまたはＫＯＨ水溶液に１５秒〜５分浸漬することにより行われる。表面抵抗値の測定に使用できる機器としては、株式会社三菱化学アナリテック製のハイレスタＵＰ−ＨＴ４５０等が挙げられる。
<< Physical properties of optical film >>
The surface resistance value of the
鹸化処理前の光学フィルム１０の全光線透過率は、優れた光透過性を得る観点から９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましい。また、鹸化処理後であっても、光学フィルム１０の全光線透過率は、９０％以上であることが好ましく、９２％以上であることがより好ましい。全光線透過率はＪＩＳ Ｋ７３６１に従って測定する。全光線透過率の測定に使用できる機器としては、村上色彩技術研究所製のＨＭ−１５０等が挙げられる。
The total light transmittance of the
鹸化処理前の光学フィルム１０のヘイズ値は、優れた透明性を得る観点から、１．０％以下であることが好ましく、０．７％以下であることがより好ましい。また、鹸化処理後であっても、光学フィルム１０のヘイズ値は、１．０％以下であることが好ましく、０．７％以下であることがより好ましい。ヘイズ値はＪＩＳ Ｋ７１３６に従って測定する。全光線透過率およびヘイズ値の測定に使用できる機器としては、村上色彩技術研究所製のＨＭ−１５０等が挙げられる。
From the viewpoint of obtaining excellent transparency, the haze value of the
鹸化処理前の光学フィルム１０の耐スチールウール摩耗性は、低屈折率層の表面をスチールウール♯００００（製品名：ボンスター、日本スチールウール株式会社製）を用い、荷重を加えながら、速度１００ｍｍ／秒で１０往復擦った場合に傷がないことが好ましい。この場合、３００ｇ／ｃｍ２の荷重で傷がないことが好ましく、さらには５００ｇ／ｃｍ２以上の荷重で傷がないことがより好ましい。また、鹸化処理後であっても、光学フィルムは、鹸化処理前と同様の耐スチールウール摩耗性を有していることが好ましい。
Steel wool # 0000 (product name: Bonstar, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.) was used for the surface of the low refractive index layer, and the abrasion resistance of the
本実施の形態においては、帯電防止性ハードコート層用組成物が、上記アクリレートモノマーおよび光重合性ウレタンオリゴマーを含んでいるので、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層１５を形成した場合において、帯電防止性ハードコート層１５の硬度を向上させることができる。これにより、薄くかつ硬度に優れた光学フィルムを提供できる。
In the present embodiment, since the antistatic hard coat layer composition contains the acrylate monomer and the photopolymerizable urethane oligomer, the antistatic
本実施形態においては、帯電防止性ハードコート層用組成物が、帯電防止剤１３と、上記光重合性ウレタンオリゴマーと、上記アクリレートモノマーと、上記メタクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを含んでいるので、鹸化処理を施した場合であっても、優れた帯電防止性を維持できる光学フィルム１０を提供できる。これは、帯電防止剤１３を帯電防止性ハードコート層１２の表面１２Ａからの深さが０．２μｍ以上２．０μｍ未満の上部領域Ｒに存在させることができるので、帯電防止剤１３を帯電防止性ハードコート層１２の表面１２Ａに存在させずに、光学フィルム１０の表面抵抗値を１×１０１１Ω／□以下とすることができるからであると考えられる。すなわち、光透過性基材１１上に帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜１６を形成すると、アクリレートモノマーは浸透性溶剤の作用によって光透過性基材１１側に移動する。メタクリレートモノマーはアクリレートモノマーと同じ疎水性であるのでメタクリレートモノマーはアクリレートモノマーに対し比較的近い位置に存在するが、帯電防止剤は親水性であるので、帯電防止剤１３はアクリレートモノマーやメタクリレートモノマーから離れた位置、すなわち塗膜１６の上部に存在するようになる。一方、帯電防止剤、光重合性ウレタンオリゴマー、アクリレートモノマーおよびメタクリレートを含む組成物と、光重合性ウレタンオリゴマーを含まず、帯電防止剤、アクリレートモノマーおよびメタクリレートを含む組成物をそれぞれ用いて帯電防止性ハードコート層を形成するという実験を行ったところ、光重合性ウレタンオリゴマーを含む組成物を用いて形成された帯電防止性ハードコート層は、光重合性ウレタンオリゴマーを含まない組成物を用いて形成された帯電防止性ハードコート層に比べて、鹸化処理後の表面抵抗値および耐擦傷性が優れていた。この理由は定かではないが、光重合性ウレタンオリゴマーと帯電防止剤との分子構造上の差によって、光重合性ウレタンオリゴマーが帯電防止剤よりも帯電防止性ハードコート層の表面側に位置しやすいからであると推測される。そして、この実験結果から、帯電防止剤は帯電防止性ハードコート層の表面には存在しないと推測できる。したがって、上記光重合性ウレタンオリゴマーと、上記アクリレートモノマーと、上記メタクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを少なくとも含む帯電防止性ハードコート層用組成物を用いることによって、帯電防止剤１３を上部領域Ｒに存在させることができるので、帯電防止剤１３を帯電防止性ハードコート層１２の表面１２Ａに存在させずに、光学フィルム１０の表面抵抗値を１×１０１１Ω／□以下とすることができる。これにより、表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以下の光学フィルム１０に鹸化処理を施した場合であっても、表面抵抗値の上昇を抑制でき、優れた帯電防止性を維持できる。
In the present embodiment, the antistatic hard coat layer composition contains the
帯電防止性ハードコート層用組成物が、２個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が２００以上９００以下のメタクリレートモノマーを含んでおり、また帯電防止剤１３は帯電防止性ハードコート層１２の表面１２Ａには存在していないので、鹸化処理を施した場合であっても、優れた耐擦傷性を維持できる光学フィルム１０を提供できる。すなわち、帯電防止性ハードコート層用組成物に、上記アクリレートモノマーの他に、上記メタクリレートを含ませた場合には、上記メタクリレートモノマーは反応性に劣るので、帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜１２を半硬化させた場合には架橋せず、そのまま残る。そして、低屈折率層用組成物の塗膜１４を形成した後に、塗膜１２、１４を完全硬化させると、半硬化させた塗膜１２に残存しているメタクリレートモノマーは、塗膜１４に含まれる光重合性化合物やフッ素含有光重合性化合物と架橋する。なお、メタクリレートモノマーは疎水性であるのでアクリレートモノマーに対し比較的近い位置に存在する傾向があるが、塗膜１２の表面にも存在していると考えられ、この塗膜１２の表面に存在しているメタクリレートモノマーが塗膜１４に含まれる光重合性化合物やフッ素含有光重合性化合物と架橋すると考えられる。これにより、帯電防止性ハードコート層用組成物がアクリレートモノマーを含んでいる場合であっても、帯電防止性ハードコート層１５と低屈折率層１６との密着性を向上させることができる。また、上述したように帯電防止剤１３は帯電防止性ハードコート層１２の表面１２Ａには存在していないので、光学フィルム１０に鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤１３が脱落しにくい。これにより、鹸化処理を施した場合であっても、優れた耐擦傷性を維持できる光学フィルム１０を提供できる。
The composition for an antistatic hard coat layer contains a methacrylate monomer having two or more methacryloyl groups and a weight average molecular weight of 200 or more and 900 or less, and the
本実施形態においては、帯電防止性ハードコート層用組成物が、帯電防止剤１３と、上記光重合性ウレタンオリゴマーと、上記アクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを含んでいるので、干渉縞の発生を抑制できる。すなわち、上記アクリレートモノマーが上記浸透性溶剤の作用により光透過性基材１１に浸透することによって、光透過性基材１１における帯電防止性ハードコート層の界面付近に混在領域１１Ｂが形成される。この混在領域１１Ｂによって帯電防止性ハードコート層１２から光透過性基材１１にかけて分子量勾配が形成されるので、干渉縞の発生を抑制することができる。
In the present embodiment, the antistatic hard coat layer composition contains the
＜＜＜偏光板＞＞＞
光学フィルム１０は、例えば、偏光板に組み込んで使用することができる。図５は本実施形態に係る光学フィルムを組み込んだ偏光板の概略構成図である。図５に示されるように偏光板２０は、光学フィルム１０と、偏光子２１と、保護フィルム２２を備えている。光学フィルム１０には、偏光子２１との密着性を良好にするための鹸化処理が施されている。
<<< Polarizing plate >>>
The
偏光子２１は、光透過性基材１１における帯電防止性ハードコート層１５が形成されている面とは反対側の面に形成されている。保護フィルム２２は、偏光子２１の光学フィルム１０が設けられている面とは反対側の面に設けられている。保護フィルム２２は位相差フィルムであってもよい。
The
偏光子２１としては、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等が挙げられる。
Examples of the
＜＜＜偏光板の製造方法＞＞＞
このような偏光板２０は、例えば、以下のような方法によって得ることができる。まず、光学フィルム１０にアルカリ水溶液により鹸化処理を施す。具体的には、鹸化処理は、光学フィルム１０を、１．５〜４．５規定に調整された４０℃〜７０℃のＮａＯＨまたはＫＯＨ水溶液に１５秒〜５分浸漬することにより行われる。
<<< Method for Producing Polarizing Plate >>>
Such a
その後、鹸化処理が施された光学フィルム１０の光透過性基材１１における帯電防止性ハードコート層１５が形成されている面とは反対側の面に偏光子２１を形成する。また、偏光子２１の光学フィルム１０が設けられている面とは反対側の面に鹸化処理が施された保護フィルム２２を設ける。これにより、偏光板２０を得ることができる。
Thereafter, a
本実施形態によれば、光学フィルム１０に鹸化処理を施しているので、鹸化処理後であっても、帯電防止性ハードコート層における帯電防止性および耐擦傷性を維持できる。これにより、帯電防止性および耐擦傷性に優れた偏光板を提供することができる。
According to this embodiment, since the
＜＜＜液晶パネル＞＞＞
光学フィルム１０や偏光板２０は、液晶パネルに組み込んで使用することができる。図６は本実施形態に係る光学フィルムを組み込んだ液晶パネルの概略構成図である。
<<< LCD panel >>>
The
図６に示される液晶パネル３０は、光源側（バックライトユニット側）から観察者側に向けて、トリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣフィルム）等の保護フィルム３１、偏光子３２、位相差フィルム３３、接着剤層３４、液晶セル３５、接着剤層３６、位相差フィルム３７、偏光子２１、光学フィルム１０の順に積層された構造を有している。液晶セル３５は、２枚のガラス基材間に、液晶層、配向膜、電極層、カラーフィルタ等を配置したものである。
The
位相差フィルム３３、３７としては、トリアセチルセルロースフィルムやシクロオレフィンポリマーフィルムが挙げられる。位相差フィルム３７は、保護フィルム２２と同一であってもよい。接着剤層３４、３６を構成する接着剤としては、感圧接着剤（ＰＳＡ）が挙げられる。
Examples of the
＜＜＜画像表示装置＞＞＞
光学フィルム１０、偏光板２０、液晶パネル３０は、画像表示装置に組み込んで使用することができる。画像表示装置としては、例えば液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、陰極線管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）、フィールドエミッションディスプレイ（ＦＥＤ）、タッチパネル、タブレットＰＣ、電子ペーパー等が挙げられる。図７は本実施形態に係る光学フィルムを組み込んだ画像表示装置の一例である液晶ディスプレイの概略構成図である。
<<< Image display device >>>
The
図７に示される画像表示装置４０は、液晶ディスプレイである。画像表示装置４０は、バックライトユニット４１と、バックライトユニット４１よりも観察者側に配置された、光学フィルム１０を備える液晶パネル３０とから構成されている。バックライトユニット４１としては、公知のバックライトユニットが使用できる。
The
［第２の実施形態］
以下、本発明の第２の実施形態に係る光学フィルムについて、図面を参照しながら説明する。図８および図９は本実施形態に係る光学フィルムの製造工程を模式的に示した図であり、図１０は本実施形態に係る光学フィルムの概略構成図であり、図１１は本実施形態に係る光学フィルムの上部領域付近の拡大図である。
[Second Embodiment]
Hereinafter, an optical film according to a second embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 8 and FIG. 9 are diagrams schematically showing a manufacturing process of the optical film according to this embodiment, FIG. 10 is a schematic configuration diagram of the optical film according to this embodiment, and FIG. It is an enlarged view of the upper region vicinity of the optical film which concerns.
＜＜＜光学フィルムの製造方法＞＞＞
まず、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物と、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物とを用意する。帯電防止剤含有ハードコート層用組成物は、帯電防止剤、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、浸透性溶剤、および重合開始剤を含んでいる。帯電防止剤、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、浸透性溶剤、重合開始剤は、それぞれ、第１の実施形態で説明した帯電防止剤、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、浸透性溶剤、重合開始剤と同様であるので説明を省略するものとする。帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物は、光重合性ウレタンオリゴマー、溶剤および重合開始剤を含んでいる。光重合性ウレタンオリゴマーは第１の実施形態で説明した光重合性ウレタンオリゴマーと同様であるので説明を省略するものとする。帯電防止剤含有ハードコート層用組成物は、帯電防止剤、アクリレートモノマー、メタクリレートモノマー、および上記浸透性溶剤を含んでいればよく、重合開始剤を含んでいなくともよい。また、必要に応じて、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物に、浸透抑制溶剤、易滑剤、分散剤等を含ませてもよい。
<<< Optical Film Manufacturing Method >>>
First, an antistatic agent-containing hard coat layer composition and an antistatic agent-free hard coat layer composition are prepared. The composition for an antistatic agent-containing hard coat layer contains an antistatic agent, an acrylate monomer, a methacrylate monomer, a penetrating solvent, and a polymerization initiator. The antistatic agent, acrylate monomer, methacrylate monomer, penetrating solvent, and polymerization initiator are the same as the antistatic agent, acrylate monomer, methacrylate monomer, penetrating solvent, and polymerization initiator described in the first embodiment, respectively. Therefore, the description will be omitted. The antistatic agent-free hard coat layer composition includes a photopolymerizable urethane oligomer, a solvent, and a polymerization initiator. Since the photopolymerizable urethane oligomer is the same as the photopolymerizable urethane oligomer described in the first embodiment, the description thereof will be omitted. The antistatic agent-containing hard coat layer composition only needs to contain an antistatic agent, an acrylate monomer, a methacrylate monomer, and the permeable solvent, and does not need to contain a polymerization initiator. Further, if necessary, the antistatic agent-containing hard coat layer composition may contain a permeation suppression solvent, a lubricant, a dispersant and the like.
帯電防止剤含有ハードコート層用組成物においては、帯電防止剤を確実に上部領域に存在させる観点、干渉縞の発生を確実に抑制する観点、および所望の硬度を確実に得る観点から、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、帯電防止剤が０．０１質量％以上６質量％以下、アクリレートモノマーが５質量％以上５０質量％以下、メタクリレートモノマーが５質量％以上４５質量％以下の割合で含まれていることが好ましい。 In the antistatic agent-containing hard coat layer composition, from the viewpoint of ensuring that the antistatic agent is present in the upper region, from the viewpoint of reliably suppressing the generation of interference fringes, and from the viewpoint of reliably obtaining the desired hardness, antistatic The antistatic agent is 0.01% by mass or more and 6% by mass or less, the acrylate monomer is 5% by mass or more and 50% by mass or less, and the methacrylate monomer is 5% by mass with respect to the total mass of the total solid content of the agent-containing hard coat layer composition. It is preferably contained in a proportion of not less than mass% and not more than 45 mass%.
帯電防止剤非含有ハードコート層には鹸化処理を施した場合であっても耐擦傷性を維持することが求められていることから、耐擦傷性を維持する観点から、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の全固形分の合計質量に対して、光重合性ウレタンオリゴマーが６０質量％以上１００質量％以下の割合で含まれていることが好ましい。 Since the anti-static agent-free hard coat layer is required to maintain scratch resistance even when subjected to saponification treatment, from the viewpoint of maintaining scratch resistance, an anti-static agent-free hard coat layer is required. It is preferable that the photopolymerizable urethane oligomer is contained in a proportion of 60% by mass or more and 100% by mass or less with respect to the total mass of the total solid content of the coating layer composition.
帯電防止剤含有ハードコート層用組成物および帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物を用意した後、光透過性基材５１上に、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物を塗布して、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜５２を形成する（図８（Ａ））。光透過性基材５１上に上記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜５２を形成すると、光透過性基材１１の上部に一部の浸透性溶剤ならびに一部のアクリレートモノマーが浸透し、図８（Ａ）に示されるように光透過性基材５１の上部に、硬化後混在領域となる浸透領域５１Ａが形成される。なお、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物に含まれる帯電防止剤５３は重量平均分子量が大きいため、光透過性基材５１中には浸透しない。帯電防止剤含有ハードコート層用組成物は、硬化時において膜厚が３．８μｍ以上９．８μｍ以下となる量で塗布される。帯電防止剤５３は帯電防止剤１３と同様のものである。
After preparing an antistatic agent-containing hard coat layer composition and an antistatic agent-free hard coat layer composition, the antistatic agent-containing hard coat layer composition was applied onto the light-transmitting
次いで、例えば３０℃以上１００℃以下で１５秒以上塗膜５２を乾燥させる。これにより、浸透性溶剤を除去する。塗膜５２を乾燥させた後、例えば、塗膜５２に積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ２以上１００ｍＪ／ｃｍ２以下となるように光を照射して塗膜５２を半硬化（ハーフキュア）させる（図８（Ｂ））。
Next, for example, the
塗膜５２を半硬化させると、主に、上記アクリレートモノマーは架橋するが、上記メタクリレートモノマーは反応性に劣るので、架橋せずに塗膜５２中にメタクリレートモノマーとして残存する。
When the
次いで、半硬化させた塗膜５２上に、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物を塗布し、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜５４を形成する（図９（Ａ））。帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物は、硬化時において膜厚が０．２μｍ以上１．５μｍ未満となる量で塗布される。
Next, the antistatic agent-free hard coat layer composition is applied onto the
その後、塗膜５２、５４に、例えば、積算光量が１００ｍＪ／ｃｍ２以上５００ｍＪ／ｃｍ２以下となるように光を照射して塗膜５２、５４を完全硬化（フルキュア）させる（図９（Ｂ））。これにより、図１０に示されるように、膜厚が２．５μｍを超え９．８μｍ以下の帯電防止剤含有ハードコート層５６と、帯電防止剤含有ハードコート層５６上に形成された膜厚が０．２μｍ以上１．５μｍ未満の帯電防止剤非含有ハードコート層５７とを有する、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下という極めて薄い膜厚を有する帯電防止性ハードコート層５５が形成され、光学フィルム５０を得ることができる。
Thereafter, the coating
＜＜＜光学フィルム＞＞＞
上記の製造方法によって作製された光学フィルム５０は、図１０に示されるように、光透過性基材５１と、光透過性基材５１上に設けられた帯電防止性ハードコート層５５とを備えている。
<<< Optical film >>>
As shown in FIG. 10, the
また、図１０の光学フィルム５０においては、光透過性基材５１における帯電防止剤含有ハードコート層５６の界面付近に、光透過性基材５１と帯電防止剤含有ハードコート層５６のバインダ樹脂５８の成分とが混在した混在領域５１Ｂが形成されている。混在領域５１Ｂの厚みは、１μｍ以上６μｍ以下であることが好ましい。
Further, in the
＜＜帯電防止性ハードコート層＞＞
帯電防止性ハードコート層５５は、帯電防止剤含有ハードコート層５６と、帯電防止剤含有ハードコート層５６上に形成された帯電防止剤非含有ハードコート層５７とから構成されている。帯電防止性ハードコート層５５は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）で規定される鉛筆硬度試験（４．９Ｎ荷重）で「Ｈ」以上の硬度を示すものである。
<< Antistatic Hard Coat Layer >>
The antistatic
帯電防止性ハードコート層５５は、４μｍ以上１０μｍ以下の膜厚を有するものである。帯電防止剤含有ハードコート層５６は、２．５μｍを超え９．８μｍ以下の膜厚を有し、帯電防止剤非含有ハードコート層５７は、０．２μｍ以上１．５μｍ未満の膜厚を有するものである。帯電防止性ハードコート層５５において優れた硬度を得る観点から、帯電防止剤含有ハードコート層５６の膜厚は、２．５μｍを超え７．８μｍ以下になっていることが好ましい。帯電防止剤非含有ハードコート層５７の膜厚は、鹸化処理による帯電防止剤の脱落をより抑制し、かつ鹸化処理前後において優れた耐擦傷性をより維持する観点から０．３μｍ以上１．５μｍ未満になっていることが好ましい。帯電防止性ハードコート層５５の膜厚の上限は８μｍ以下であることが好ましい。帯電防止性ハードコート層５５、帯電防止剤含有ハードコート層５６および帯電防止剤非含有ハードコート層５７の膜厚は、それぞれの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察することにより求めることができる。
The antistatic
帯電防止剤含有ハードコート層５６上には帯電防止剤非含有ハードコート層５７が形成されているので、帯電防止剤５３は帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａに存在していない。帯電防止剤５３は、図１１に示されるように、帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａからの深さが０．２μｍ以上２．０μｍ未満の上部領域Ｒに存在している。上部領域に帯電防止剤が存在しているか否かは、第１の実施形態と同様の方法によって確認することができる。帯電防止剤含有ハードコート層５６と帯電防止剤非含有ハードコート層５７との界面ＩＦは上部領域Ｒ内に存在している。
Since the antistatic agent-free
鹸化処理による帯電防止剤の脱落をより抑制し、かつ鹸化処理前後において所望の耐擦傷性をより維持する観点から、帯電防止剤５３は、上部領域Ｒのうち、帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａからの深さが０．３μｍ以上の領域に存在していることが好ましい。
From the viewpoint of further suppressing the falling of the antistatic agent due to the saponification treatment and further maintaining the desired scratch resistance before and after the saponification treatment, the
９×１０１０Ω／□以下の表面抵抗値を得る観点から、帯電防止剤５３は、上部領域Ｒのうち、帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａからの深さが１．５μｍ以下の領域に存在していることが好ましい。また、９×１０９Ω／□以下の表面抵抗値を得る観点から、帯電防止剤５３は、上部領域Ｒのうち、帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａからの深さが１．０μｍ以下の領域に存在していることが好ましい。帯電防止剤５３は、上部領域Ｒ内に局在していることが好ましい。
From the viewpoint of obtaining a surface resistance value of 9 × 10 10 Ω / □ or less, the
本実施の形態においては、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物が上記アクリレートモノマーを含み、かつ帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物が上記光重合性ウレタンオリゴマーを含んでいるので、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層５５を形成した場合において、帯電防止性ハードコート層５５の硬度を向上させることができる。これにより、薄くかつ硬度に優れた光学フィルム５０を提供できる。
In the present embodiment, the antistatic agent-containing hard coat layer composition contains the acrylate monomer, and the antistatic agent-free hard coat layer composition contains the photopolymerizable urethane oligomer. When the antistatic
本実施形態においては、帯電防止剤５３と、上記アクリレートモノマーと、上記メタクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを含む帯電防止剤含有ハードコート層用組成物を用いて帯電防止剤含有ハードコート層５６を形成し、かつ帯電防止剤含有ハードコート層５６上に膜厚が０．２μｍ以上１．５μｍ未満の帯電防止剤非含有ハードコート層５７を形成しているので、鹸化処理を施した場合であっても、優れた帯電防止性を維持できる光学フィルム５０を提供できる。これは、帯電防止剤５３を帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａからの深さが０．２μｍ以上２．０μｍ未満の上部領域Ｒに存在させることができるので、帯電防止剤５３を帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａに存在させずに、光学フィルム５０の表面抵抗値を１×１０１１Ω／□以下とすることができるからであると考えられる。すなわち、光透過性基材５１上に帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜５２を形成すると、アクリレートモノマーは浸透性溶剤の作用によって光透過性基材５１側に移動する。メタクリレートモノマーはアクリレートモノマーと同じ疎水性であるのでメタクリレートモノマーはアクリレートモノマーに対し比較的近い位置に存在するが、帯電防止剤５３は親水性であるので、帯電防止剤５３はアクリレートモノマーやメタクリレートモノマーから離れた位置、すなわち塗膜５２の上部に存在するようになる。一方で、帯電防止剤含有ハードコート層５６上に膜厚が０．２μｍ以上１．５μｍ未満の帯電防止剤非含有ハードコート層５７を形成している。これにより、帯電防止剤５３を上部領域Ｒに存在させることができるので、帯電防止剤５３を帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａに存在させずに、光学フィルム５０の表面抵抗値を１×１０１１Ω／□以下とすることができる。これにより、表面抵抗値が１×１０１１Ω／□以下の光学フィルム５０に鹸化処理を施した場合であっても、表面抵抗値の上昇を抑制でき、優れた帯電防止性を維持できる。
In the present embodiment, an antistatic agent-containing
帯電防止剤含有ハードコート層用組成物が、２個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が２００以上９００以下のメタクリレートモノマーを含んでおり、また帯電防止剤５３は帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａには存在していないので、鹸化処理を施した場合であっても、優れた耐擦傷性を維持できる光学フィルム５０を提供できる。すなわち、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物に、上記アクリレートモノマーの他に、上記メタクリレートを含ませた場合には、上記メタクリレートモノマーは反応性に劣るので、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜５２を半硬化させた場合には架橋せず、そのまま残る。そして、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜５４を形成した後に、塗膜５２、５４を完全硬化させると、半硬化させた塗膜５２に残存しているメタクリレートモノマーは、塗膜５４に含まれる光重合性ウレタンオリゴマー等の光重合性化合物と架橋する。これにより、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物がアクリレートモノマーを含んでいる場合であっても、帯電防止剤含有ハードコート層５６と帯電防止剤非含有ハードコート層５７との密着性を向上させることができる。また、帯電防止剤含有ハードコート層５６上に帯電防止剤非含有ハードコート層５７を形成しているので、帯電防止剤５３は帯電防止性ハードコート層５５の表面５５Ａには存在していない。したがって、光学フィルム５０に鹸化処理を施した場合であっても、帯電防止剤５３が脱落しにくい。これにより、鹸化処理を施した場合であっても、優れた耐擦傷性を維持できる光学フィルム５０を提供できる。
The antistatic agent-containing hard coat layer composition contains a methacrylate monomer having two or more methacryloyl groups and a weight average molecular weight of 200 to 900, and the
本実施形態においては、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物が、帯電防止剤１３と、上記アクリレートモノマーと、上記浸透性溶剤とを含んでいるので、干渉縞の発生を抑制できる。すなわち、上記アクリレートモノマーが上記浸透性溶剤の作用により光透過性基材に浸透することによって、光透過性基材における帯電防止剤ハードコート層の界面付近に混在領域が形成される。この混在領域によって帯電防止剤ハードコート層から光透過性基材にかけて分子量勾配が形成されるので、干渉縞の発生を抑制することができる。
In the present embodiment, since the antistatic agent-containing hard coat layer composition contains the
本発明を詳細に説明するために、以下に実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの記載に限定されない。 In order to describe the present invention in detail, examples will be described below, but the present invention is not limited to these descriptions.
＜帯電防止性ハードコート層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、帯電防止性ハードコート層用組成物を得た。
（帯電防止性ハードコート層用組成物１）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
<Preparation of composition for antistatic hard coat layer>
Each component was mix | blended so that it might become the composition shown below, and the composition for antistatic hard-coat layers was obtained.
(Antistatic hard coat layer composition 1)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物２）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３１質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：４６質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２１質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 2)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 31 parts by mass-dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 46 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 21 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物３）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：５１質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：６質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：４１質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 3)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 51 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 6 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 41 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物４）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：５９質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：２３質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：１６質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 4)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 59 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 23 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 16 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物５）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：０．１質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４．９質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２８質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 5)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 0.1 part by mass (solid Minute conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34.9 parts by mass Trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 28 parts by mass Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物６）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：０．３質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４．７質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２８質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 6)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 0.3 part by mass (solid Minute conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34.7 parts by mass Trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 28 parts by mass Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass / polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物７）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：３質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３６質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３５質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２６質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 7)
・ Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 3 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 36 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 35 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 26 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物８）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：６質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３３質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３８質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２３質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 8)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 6 parts by mass (solid content conversion) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 33 parts by mass-dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 38 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 23 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物９）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「コルコートＮＲ１２１Ｘ」、コルコート株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 9)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “Colcoat NR121X”, manufactured by Colcoat Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１０）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・ジエチレングリコールジメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、２官能、重量平均分子量２３０）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 10)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass, diethylene glycol dimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., bifunctional, weight average molecular weight 230): 27 parts by mass, methyl ethyl ketone (permeability) Solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１１）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ペンタエリスリトールテトラアクリレート（アクリレートモノマー、製品名「Ｍ−４５０」、東亞合成株式会社製、４官能、重量平均分子量４００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 11)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Pentaerythritol tetraacrylate (acrylate monomer, product) Name “M-450”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., tetrafunctional, weight average molecular weight 400): 34 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 parts by mass, methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass, polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１２）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（アクリレートモノマー、製品名「Ｍ−４０８」、東亞合成株式会社製、４官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 12)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Ditrimethylolpropane tetraacrylate (acrylate monomer, Product name “M-408”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., tetrafunctional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300) : 27 parts by mass-Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass-Polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１３）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「ビームセット５７７」、荒川化学工業株式会社製、重量平均分子量１,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 13)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
・ Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name “Beamset 577”, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd., weight average molecular weight 1,000): 37 parts by mass ・ Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd.) Company, 6 functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, trifunctional, weight average molecular weight 300, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.): 27 parts by mass, methyl ethyl ketone (penetrating solvent) : 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１４）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：５２質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：９質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 14)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 52 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 9 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１５）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：６２質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：３２質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 15)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 62 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 4 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 32 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１６）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：６２質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：２６質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：１０質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 16)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 62 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 26 parts by mass Trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 10 parts by mass methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product name "Irgacure 184", manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１７）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：２７質量部
・ウレタンメタクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「ＮＫオリゴＵ−６Ｈ」、新中村化学工業株式会社製、６官能、重量平均分子量１,０００）：１０質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 17)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 27 parts by mass-Urethane methacrylate (photopolymerizable urethane oligomer, Product name “NK Oligo U-6H”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 1,000): 10 parts by mass / dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 Functionality, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass Trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 parts by mass Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass・ Polymerization initiator (Product name “Irgacure 184”, BASF Bread Co., Ltd.): 4 parts by weight
（帯電防止性ハードコート層用組成物１８（２液構成））
帯電防止剤含有ハードコート層用組成物
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：４７．５質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：５０．５質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：４０質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：１００質量部
・メチルエチルケトン：４０質量部（浸透性溶剤）
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 18 (two-component composition))
Antistatic agent-containing hard coat layer composition / quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value )): 2 parts by mass (solid content converted value)
Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 47.5 parts by mass Trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, Weight average molecular weight 300): 50.5 parts by mass Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 40 parts by mass Polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
Antistatic agent-free composition for hard coat layer / urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name “U-15HA”, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 100 mass Parts / Methyl ethyl ketone: 40 parts by mass (penetrating solvent)
Polymerization initiator (Product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物１９）
・ジメチルアミノエチルアクリレート塩化メチル四級塩（製品名「ＤＭＡＥＡ−Ｑ」、株式会社興人製、重量平均分子量１９４）：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 19)
・ Dimethylaminoethyl acrylate methyl chloride quaternary salt (product name “DMAEA-Q”, manufactured by Kojin Co., Ltd., weight average molecular weight 194): 2 parts by mass (solid content conversion value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物２０）
・ジメチルアミノプロピルアクリルアミド塩化メチル四級塩（製品名「ＤＭＡＰＡＡ−Ｑ」、株式会社興人製、重量平均分子量２０７）：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 20)
・ Dimethylaminopropylacrylamide methyl chloride quaternary salt (product name “DMAPAA-Q”, manufactured by Kojin Co., Ltd., weight average molecular weight 207): 2 parts by mass (in terms of solid content)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 parts by mass / methyl ethyl ketone ( Penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物２１）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（重量平均分子量４０，０００）：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 21)
-Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (weight average molecular weight 40,000): 2 parts by mass (in terms of solid content)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass- Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Japan) Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass / trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 parts by mass / methyl ethyl ketone (penetration) Solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物２２）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・ポリエステル系アクリレートオリゴマー（製品名「Ｍ−９０５０」、東亞合成株式会社製、３官能、重量平均分子量４００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 22)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6-functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass-polyester acrylate oligomer (product name “M-9050”, manufactured by Toagosei Co., Ltd., trifunctional, weight-average molecular weight 400): 27 mass Parts / methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass / polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物２３）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（光重合性ウレタンオリゴマー、製品名「Ｕ−１５ＨＡ」、新中村化学工業株式会社製、１５官能、重量平均分子量４,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・ペンタエリスリトールトリアクリレート（製品名「ＰＥＴ−３０」、株式会社ニッカファインテクノ製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（イルガキュア１８４、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 23)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (photopolymerizable urethane oligomer, product name "U-15HA", manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., 15 functional, weight average molecular weight 4,000): 37 parts by mass-Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500): 34 parts by mass. Pentaerythritol triacrylate (product name “PET-30”, manufactured by Nikka Fine Techno Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 Mass parts · Methyl ethyl ketone (permeable solvent): 100 parts by mass · Polymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by BASF Japan): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物２４）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ポリマーアクリレート（ビームセット３７１、荒川化学工業株式会社製、重量平均分子量４０,０００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 24)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
Polymer acrylate (Beamset 371, Arakawa Chemical Industries, Ltd., weight average molecular weight 40,000): 37 parts by mass Dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functional, weight average molecular weight 500) ): 34 parts by mass-trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., trifunctional, weight average molecular weight 300): 27 parts by mass-methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass-polymerization initiator (product) Name “Irgacure 184” manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
（帯電防止性ハードコート層用組成物２５）
・第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤（帯電防止剤、製品名「１ＳＸ３０００」、大成ファインケミカル株式会社製、重量平均分子量１０，０００〜２０，０００（推測値））：２質量部（固形分換算値）
・ウレタンアクリレート（製品名「ＥＢＥＣＲＹＬ５１２９」、ダイセル・サイテック株式会社製、６官能、重量平均分子量８００）：３７質量部
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アクリレートモノマー、日本化薬株式会社製、６官能、重量平均分子量５００）：３４質量部
・トリメチロールプロパントリメタクリレート（メタクリレートモノマー、共栄社化学株式会社製、３官能、重量平均分子量３００）：２７質量部
・メチルエチルケトン（浸透性溶剤）：１００質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）：４質量部
(Antistatic hard coat layer composition 25)
Quaternary ammonium base-containing antistatic agent (antistatic agent, product name “1SX3000”, manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 10,000 to 20,000 (estimated value)): 2 parts by mass (in terms of solid content) value)
-Urethane acrylate (product name "EBECRYL5129", manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd., 6 functionals, weight average molecular weight 800): 37 parts by mass-dipentaerythritol hexaacrylate (acrylate monomer, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd., 6 functionals, weight) Average molecular weight 500): 34 parts by mass Trimethylolpropane trimethacrylate (methacrylate monomer, trifunctional, weight average molecular weight 300, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.): 27 parts by mass Methyl ethyl ketone (penetrating solvent): 100 parts by mass Start polymerization Agent (Product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan Ltd.): 4 parts by mass
＜低屈折率層用組成物の調製＞
下記に示す組成となるように各成分を配合して、低屈折率層用組成物を得た。
（低屈折率層用組成物）
・トリメチロールプロパントリアクリレート(製品名「ライトアクリレートＴＭＰ−Ａ」、共栄社化学製、３官能)：１００質量部
・中空シリカ微粒子分散液（低屈折率材料、製品名「スルーリア４３２０」、日揮触媒化株式会社製、平均粒径６０ｎｍ、固形分２０質量％）：１００質量部（固形分換算値）
・メチルイソブチルケトン：７０質量部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート：３０質量部
・重合開始剤（製品名「イルガキュア１２７」、ＢＡＳＦジャパン社製）：０．０７部
<Preparation of composition for low refractive index layer>
Each component was mix | blended so that it might become the composition shown below, and the composition for low refractive index layers was obtained.
(Composition for low refractive index layer)
・ Trimethylolpropane triacrylate (product name “Light acrylate TMP-A”, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., trifunctional): 100 parts by mass ・ Hollow silica fine particle dispersion (low refractive index material, product name “Thruria 4320”, JGC catalysis Co., Ltd., average particle size 60 nm,
-Methyl isobutyl ketone: 70 parts by mass-Propylene glycol monomethyl ether acetate: 30 parts by mass-Polymerization initiator (Product name "Irgacure 127", manufactured by BASF Japan Ltd.): 0.07 parts
＜実施例１＞
光透過性基材としての厚さ６０μｍのトリアセチルセルロース基材（富士フィルム社製、ＴＤ６０ＵＬ）を準備し、トリアセチルセルロースフィルムの片面に、帯電防止性ハードコート層用組成物１を塗布し、塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させた。その後、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が３０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を半硬化させた。塗膜を半硬化させた後、半硬化した塗膜上に低屈折率層用組成物を塗布し、半硬化した帯電防止性ハードコート層用組成物１の塗膜上に低屈折率層用組成物の塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させた。最後に、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を完全硬化させて、膜厚が８μｍの帯電防止性ハードコート層および膜厚が０．１μｍの低屈折率層を形成し、実施例１に係る光学フィルムを作製した。
<Example 1>
A 60 μm thick triacetyl cellulose base material (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., TD60UL) as a light transmissive base material was prepared, and the antistatic hard coat layer composition 1 was applied to one side of the triacetyl cellulose film, A coating film was formed. Next, 70 ° C. dry air was passed through the formed coating film at a flow rate of 0.2 m / s for 15 seconds, and then 70 ° C. dry air was passed through for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s. To evaporate the solvent in the coating film. Thereafter, the coating film was semi-cured by irradiating with ultraviolet rays in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) so that the integrated light amount was 30 mJ / cm 2 . After the coating film is semi-cured, the low refractive index layer composition is applied on the semi-cured coating film, and the semi-cured antistatic hard coat layer composition 1 is coated on the low refractive index layer coating film. A coating film of the composition was formed. Then, 70 ° C. dry air was passed through the formed coating film at a flow rate of 0.2 m / s for 15 seconds, and then 70 ° C. dry air was passed through for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s. To evaporate the solvent in the coating film. Finally, ultraviolet rays are irradiated under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) so that the integrated light amount is 150 mJ / cm 2 to completely cure the coating film, and the antistatic hard coat layer having a film thickness of 8 μm and A low refractive index layer having a thickness of 0.1 μm was formed, and an optical film according to Example 1 was produced.
＜実施例２〜１７、比較例３〜９＞
実施例２〜１７、比較例３〜９においては、帯電防止性ハードコート層用組成物として表１に示すものを用いた以外は、実施例１と同様の方法により光学フィルムを作製した。
<Examples 2 to 17 and Comparative Examples 3 to 9>
In Examples 2 to 17 and Comparative Examples 3 to 9, optical films were produced in the same manner as in Example 1 except that the antistatic hard coat layer compositions shown in Table 1 were used.
＜実施例１８＞
光透過性基材としての厚さ６０μｍのトリアセチルセルロース基材（富士フィルム社製、ＴＤ６０ＵＬ）を準備し、トリアセチルセルロースフィルムの片面に、帯電防止性ハードコート層用組成物１８における帯電防止剤含有ハードコート層用組成物を塗布し、帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜を形成した。形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させた。その後、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が３０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射してこれらの塗膜を半硬化させた。塗膜を半硬化させた後、半硬化した帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜上に帯電防止性ハードコート層用組成物１８における帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物を塗布し、帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させた。最後に、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を完全硬化させて、膜厚が７．０μｍの帯電防止剤含有ハードコート層と膜厚が１．０μｍの帯電防止剤非含有ハードコート層とからなる８μｍの帯電防止性ハードコート層を形成した。次いで、帯電防止性ハードコート層上に低屈折率層用組成物を塗布し、低屈折率層用組成物の塗膜を形成した。そして、形成した塗膜に対して、０．２ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を１５秒間流通させた後、さらに１０ｍ／ｓの流速で７０℃の乾燥空気を３０秒間流通させて乾燥させることにより塗膜中の溶剤を蒸発させた。最後に、紫外線を窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて積算光量が１５０ｍＪ／ｃｍ２になるように照射して塗膜を硬化させて、膜厚が０．１μｍの低屈折率層を形成し、実施例１８に係る光学フィルムを作製した。
<Example 18>
An antistatic agent in the composition 18 for an antistatic hard coat layer is prepared on one side of a triacetylcellulose film by preparing a triacetylcellulose base material (manufactured by Fuji Film Co., Ltd., TD60UL) as a light-transmitting base material. The containing hard coat layer composition was applied to form a coating film of the antistatic agent-containing hard coat layer composition. 70 ° C. dry air is circulated for 15 seconds at a flow rate of 0.2 m / s to the formed coating film, and further 70 ° C. dry air is circulated for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s for drying. Thus, the solvent in the coating film was evaporated. Thereafter, ultraviolet rays were irradiated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) so that the integrated light amount was 30 mJ / cm 2 to semi-cure these coating films. Anti-static agent-free hard coat layer composition in anti-static hard coat layer composition 18 on the semi-cured anti-static agent-free hard coat layer composition coating film after semi-curing Was applied to form a coating film of the composition for hard coat layer containing no antistatic agent. Then, 70 ° C. dry air was passed through the formed coating film at a flow rate of 0.2 m / s for 15 seconds, and then 70 ° C. dry air was passed through for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s. To evaporate the solvent in the coating film. Finally, ultraviolet rays are irradiated in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) so that the integrated light quantity is 150 mJ / cm 2 to completely cure the coating film, and the antistatic agent-containing hard film having a film thickness of 7.0 μm An antistatic hard coat layer of 8 μm comprising a coat layer and an antistatic agent-free hard coat layer having a thickness of 1.0 μm was formed. Subsequently, the composition for low refractive index layers was apply | coated on the antistatic hard-coat layer, and the coating film of the composition for low refractive index layers was formed. Then, 70 ° C. dry air was passed through the formed coating film at a flow rate of 0.2 m / s for 15 seconds, and then 70 ° C. dry air was passed through for 30 seconds at a flow rate of 10 m / s. To evaporate the solvent in the coating film. Finally, ultraviolet rays are irradiated under a nitrogen atmosphere (oxygen concentration of 200 ppm or less) so that the integrated light amount is 150 mJ / cm 2 to cure the coating film, thereby forming a low refractive index layer having a thickness of 0.1 μm. And the optical film which concerns on Example 18 was produced.
＜比較例１＞
比較例１においては、帯電防止性ハードコート層の膜厚を３μｍとした以外は、実施例１と同様の方法により光学フィルムを作製した。
<Comparative Example 1>
In Comparative Example 1, an optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the antistatic hard coat layer was 3 μm.
＜比較例２＞
比較例２においては、帯電防止性ハードコート層の膜厚を１２μｍとした以外は、実施例１と同様の方法により光学フィルムを作製した。
<Comparative example 2>
In Comparative Example 2, an optical film was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the antistatic hard coat layer was 12 μm.
＜光学フィルムの評価＞
上記実施例および比較例において作製された光学フィルムについて、それぞれ以下に示す試験を行って、評価した。ここで、以下に示す試験のうち表面抵抗値測定および耐擦傷性試験は、鹸化処理を施す前の光学フィルムと鹸化処理を施した後の光学フィルムについてそれぞれ行った。鹸化処理は、光学フィルムを、２規定に調整された５５℃のＮａＯＨ水溶液に１５秒〜５分浸漬することにより行われた。
<Evaluation of optical film>
The optical films produced in the above examples and comparative examples were evaluated by performing the following tests. Here, among the tests shown below, the surface resistance value measurement and the scratch resistance test were performed on the optical film before the saponification treatment and the optical film after the saponification treatment, respectively. The saponification treatment was performed by immersing the optical film in a 55 ° C. NaOH aqueous solution adjusted to 2 N for 15 seconds to 5 minutes.
（帯電防止剤の位置評価）
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、光学フィルム毎に複数のサンプルを用いて、帯電防止性ハードコート層中の帯電防止剤の位置を評価した。具体的には、実施例１に係る光学フィルムを評価するための複数のサンプルは、以下のようにして作製された。まず、実施例１で用いた帯電防止剤（第四級アンモニウム塩基含有帯電防止剤）と同じ帯電防止剤とメチルエチルケトンとを含む組成物を複数のトリアセチルセルロースフィルムの片面に塗布し、乾燥させて、各トリアセチルセルロースフィルム上に膜厚０．５μｍの帯電防止層を形成した。次いで、各帯電防止層上に、帯電防止剤を含まず、かつジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）と、トルエンと、重合開始剤（製品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製）とを含む組成物を塗布し、紫外線を照射してハードコート層を形成して、複数のサンプルを作製した。ただし、各サンプルのハードコート層は、膜厚がサンプル毎に０．１μｍ刻みで異なるように形成された。複数のサンプルを用意した後、実施例１に係る鹸化処理前の光学フィルムの表面抵抗値、および各サンプルのハードコート層の表面抵抗値を測定し、実施例１に係る光学フィルムの表面抵抗値とほぼ同じ表面抵抗値を示すサンプルを探し出した。ここで、実施例１に係る光学フィルムにおいては、探し出されたサンプルとほぼ同じ表面抵抗値を示すので、このサンプルとほぼ同じ位置に帯電防止剤が存在すると評価できる。したがって、実施例１においては、帯電防止性ハードコート層の表面から、帯電防止性ハードコート層の深さ方向に、探し出されたサンプルのハードコート層の膜厚に相当する距離離れた位置に、帯電防止剤が存在すると評価できる。このように評価方法によって、求めた帯電防止剤の位置を表１に記載した。なお、表１における「帯電防止剤の位置」の欄に記載されている数値は、帯電防止性ハードコート層の表面からの深さを意味し、その位置に帯電防止剤が少なくとも存在することを意味する。実施例２〜１８および比較例１〜９も同様に、上記のような評価方法によって、帯電防止性ハードコート層中の帯電防止剤の位置を求めた。
(Position evaluation of antistatic agent)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the position of the antistatic agent in an antistatic hard-coat layer was evaluated using the some sample for every optical film. Specifically, the several sample for evaluating the optical film which concerns on Example 1 was produced as follows. First, a composition containing the same antistatic agent as the antistatic agent (quaternary ammonium base-containing antistatic agent) used in Example 1 and methyl ethyl ketone was applied to one side of a plurality of triacetyl cellulose films and dried. An antistatic layer having a thickness of 0.5 μm was formed on each triacetyl cellulose film. Next, a composition containing no antistatic agent and containing dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), toluene, and a polymerization initiator (product name “Irgacure 184”, manufactured by BASF Japan) on each antistatic layer. A plurality of samples were prepared by applying an object and irradiating ultraviolet rays to form a hard coat layer. However, the hard coat layer of each sample was formed so that the film thickness was different for each sample in increments of 0.1 μm. After preparing a plurality of samples, the surface resistance value of the optical film before saponification treatment according to Example 1 and the surface resistance value of the hard coat layer of each sample were measured, and the surface resistance value of the optical film according to Example 1 was measured. A sample showing a surface resistance value almost the same as the above was found. Here, since the optical film according to Example 1 shows almost the same surface resistance value as the found sample, it can be evaluated that the antistatic agent is present at substantially the same position as this sample. Therefore, in Example 1, at a position away from the surface of the antistatic hard coat layer in the depth direction of the antistatic hard coat layer, a distance corresponding to the film thickness of the hard coat layer of the found sample. It can be evaluated that an antistatic agent is present. Thus, the position of the antistatic agent determined by the evaluation method is shown in Table 1. The numerical value described in the column “Position of antistatic agent” in Table 1 means the depth from the surface of the antistatic hard coat layer, and that at least the antistatic agent is present at that position. means. Similarly, in Examples 2 to 18 and Comparative Examples 1 to 9, the position of the antistatic agent in the antistatic hard coat layer was determined by the evaluation method as described above.
（表面抵抗値測定）
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムについて、表面抵抗値測定器(ハイレスタＵＰ−ＨＴ４５０、株式会社三菱化学アナリテック製）を用いて表面抵抗値を測定した。
(Surface resistance measurement)
About each optical film produced by the said Example and comparative example, the surface resistance value was measured using the surface resistance value measuring device (Hiresta UP-HT450, Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. make).
（耐擦傷性評価）
上記実施例および比較例で作製したそれぞれの光学フィルムの表面を、スチールウール♯００００（製品名：ボンスター、日本スチールウール株式会社製）を用い、荷重３００ｇ／ｃｍ２を加えながら、速度１００ｍｍ／秒で１０往復擦った後、トリアセチルセルロース基材における帯電防止性ハードコート層が形成されている面とは反対側の面に黒いテープを貼り、傷の有無を３波長蛍光ランプ下での目視により評価した。耐擦傷性試験の評価基準は以下の通りとした。なお、実施例および比較例に係る光学フィルムにおいて、低屈折率層が存在している場合には光学フィルムの表面は低屈折率層の表面であり、低屈折率層が存在していない場合には光学フィルムの表面は帯電防止性ハードコート層の表面であった。
◎：傷が確認されなかった。
○：傷が若干確認されたが実用上問題のないレベルであった。
△：傷が○より多く確認された。
×：傷が多数確認された。
(Abrasion resistance evaluation)
The surface of each optical film produced in the above examples and comparative examples was steel wool # 0000 (product name: Bonstar, manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd.), with a load of 300 g / cm 2 and a speed of 100 mm / sec. After 10 reciprocations, a black tape is applied to the surface of the triacetylcellulose substrate opposite to the surface on which the antistatic hard coat layer is formed, and the presence or absence of scratches is visually observed under a three-wavelength fluorescent lamp. evaluated. The evaluation criteria for the scratch resistance test were as follows. In the optical films according to Examples and Comparative Examples, when the low refractive index layer is present, the surface of the optical film is the surface of the low refractive index layer, and when the low refractive index layer is not present. The surface of the optical film was the surface of an antistatic hard coat layer.
A: No scratch was confirmed.
○: Some scratches were confirmed, but there was no practical problem.
Δ: More scratches were confirmed than ○.
X: Many scratches were confirmed.
（干渉縞観察評価）
実施例及び比較例で得られた各光学フィルムのトリアセチルセルロースフィルムにおける帯電防止性ハードコート層が形成されている面とは反対側の面に、透明粘着剤を介して、裏面反射を防止するための黒アクリル板を貼り、帯電防止性ハードコート層または低屈折率層側から各光学フィルムに光を照射し、目視で観察した。光源としては、フナテック社製の干渉縞検査ランプ（ナトリウムランプ）を使用した。干渉縞の発生を以下の基準により評価した。
◎：干渉縞は確認されなかった。
○：干渉縞はわずかに確認されたが、問題ないレベルであった。
×：干渉縞が明確に確認された。
(Interference fringe observation evaluation)
Back surface reflection is prevented via a transparent adhesive on the surface opposite to the surface on which the antistatic hard coat layer is formed in the triacetyl cellulose film of each optical film obtained in Examples and Comparative Examples. A black acrylic plate was attached, and each optical film was irradiated with light from the antistatic hard coat layer or the low refractive index layer side, and visually observed. As a light source, an interference fringe inspection lamp (sodium lamp) manufactured by Funatech was used. The occurrence of interference fringes was evaluated according to the following criteria.
(Double-circle): The interference fringe was not confirmed.
○: Interference fringes were slightly confirmed, but were at a level with no problem.
X: Interference fringes were clearly confirmed.
（鉛筆硬度評価）
実施例及び比較例で得られた各光学フィルムの表面に対して、４．９Ｎ荷重にて、鉛筆硬度が２Ｈの鉛筆を用いて、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）に規定される鉛筆硬度試験を３回行い、傷が付くか否かを評価した。なお、光学フィルムが低屈折率層を備えている場合には、低屈折率層の表面に対して鉛筆硬度試験を行い、光学フィルムが低屈折率層を備えていない場合には、帯電防止性ハードコート層の表面に対して鉛筆硬度試験を行った。
○：３回とも全く傷が付かなかった。
×：１回以上傷が付いた。
(Pencil hardness evaluation)
Pencil hardness as defined in JIS K5600-5-4 (1999) using a pencil with a pencil hardness of 2H at a load of 4.9 N on the surface of each optical film obtained in Examples and Comparative Examples. The test was performed three times to evaluate whether or not the scratch was made. When the optical film has a low refractive index layer, a pencil hardness test is performed on the surface of the low refractive index layer. When the optical film does not have a low refractive index layer, antistatic properties are obtained. A pencil hardness test was performed on the surface of the hard coat layer.
○: No scratches were observed at all three times.
X: Scratched more than once.
（カール防止性評価）
実施例及び比較例で得られた各光学フィルムを、１０ｃｍ×１０ｃｍにカットして、サンプル片を作製した。そして、このサンプル片を光透過性基材側が下となるように水平な台（平面）の上に置き、サンプル片の四隅が何ｍｍ浮いているかを測り、平均値（ｍｍ）でカール性を評価した。カール性評価の評価基準は以下の通りとした。
◎：１０ｍｍ以下
○：１０ｍｍ超１５ｍｍ以下
△：１５ｍｍ超２０ｍｍ以下
×：２０ｍｍ超
(Anti-curl evaluation)
Each optical film obtained in Examples and Comparative Examples was cut into 10 cm × 10 cm to prepare sample pieces. Then, place this sample piece on a horizontal base (plane) so that the light-transmitting substrate side is down, measure how many mm the four corners of the sample piece are floating, and measure the curl with the average value (mm). evaluated. The evaluation criteria for curl evaluation were as follows.
◎: 10 mm or less ○: Over 10 mm to 15 mm or less Δ: Over 15 mm to 20 mm or less ×: Over 20 mm
評価結果を表１に示す。
比較例１においては、鹸化処理前に比べて鹸化処理後の表面抵抗値が著しく増大し、また鹸化処理前に比べて鹸化処理後の耐擦傷性も低下していた。これは、帯電防止性ハードコート層の膜厚が３μｍと薄すぎたために帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に近すぎる位置に存在してしまい、鹸化処理によって帯電防止剤が脱落してしまったためであると考えられる。 In Comparative Example 1, the surface resistance value after the saponification treatment was remarkably increased as compared with that before the saponification treatment, and the scratch resistance after the saponification treatment was also lowered as compared with that before the saponification treatment. This is because the antistatic hard coat layer was too thin at 3 μm, so the antistatic agent was present too close to the surface of the antistatic hard coat layer, and the antistatic agent dropped off by saponification. This is thought to be due to the fact that
比較例２においては、鹸化処理前後問わず１×１０１１Ω／□以下の表面抵抗値が得られなかった。これは、帯電防止性ハードコート層の膜厚が１２μｍと厚すぎたために、膜厚が８μｍの帯電防止性ハードコート層と、乾燥時や硬化時に膜内で生じる帯電防止剤の挙動が異なり、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。 In Comparative Example 2, a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less was not obtained before and after the saponification treatment. This is because the film thickness of the antistatic hard coat layer was too thick at 12 μm, and the behavior of the antistatic hard coat layer with a film thickness of 8 μm differs from that of the antistatic agent generated in the film during drying or curing, This is presumably because the antistatic agent was present at a position too far from the surface of the antistatic hard coat layer.
比較例３および４においては、鹸化処理前後問わず１×１０１１Ω／□以下の表面抵抗値が得られなかった。これは、帯電防止剤の分子量が小さすぎたために、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。 In Comparative Examples 3 and 4, a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less was not obtained before and after the saponification treatment. This is presumably because the antistatic agent was too far from the surface of the antistatic hard coat layer because the molecular weight of the antistatic agent was too small.
比較例５においては、鹸化処理前の表面抵抗値は非常に優れているが、鹸化処理前に比べて鹸化処理後の表面抵抗値が著しく増大し、かつ鹸化処理前後問わず耐擦傷性が得られなかった。これは、帯電防止剤の分子量が大きすぎたため、帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面に集中し、鹸化処理によって帯電防止剤が脱落してしまったためであると考えられる。 In Comparative Example 5, the surface resistance value before the saponification treatment is very excellent, but the surface resistance value after the saponification treatment is remarkably increased as compared with that before the saponification treatment, and the scratch resistance is obtained before and after the saponification treatment. I couldn't. This is considered to be because the antistatic agent was concentrated on the surface of the antistatic hard coat layer because the molecular weight of the antistatic agent was too large, and the antistatic agent was dropped off by the saponification treatment.
比較例６および７においては、鹸化処理前後問わず耐擦傷性が劣っていた。これは、メチルメタクリレートモノマーが添加されていなかったため、帯電防止性ハードコート層と低屈折率層との密着性が劣っていたためであると考えられる。 In Comparative Examples 6 and 7, the scratch resistance was inferior before and after the saponification treatment. This is presumably because the adhesion between the antistatic hard coat layer and the low refractive index layer was inferior because no methyl methacrylate monomer was added.
比較例８においては、鹸化処理前後問わず耐擦傷性が劣っていた。これは、光重合性ウレタンオリゴマーを添加していなかったためであると考えられる。 In Comparative Example 8, the scratch resistance was inferior before and after the saponification treatment. This is considered to be because the photopolymerizable urethane oligomer was not added.
比較例９においては、鹸化処理前後問わず１×１０１１Ω／□以下の表面抵抗値が得られず、また鹸化処理前に比べて鹸化処理後の耐擦傷性も低下していた。これは、光重合性ウレタンオリゴマーの分子量が小さすぎたため、および帯電防止剤が帯電防止性ハードコート層の表面から離れすぎた位置に存在してしまったためであると考えられる。 In Comparative Example 9, a surface resistance value of 1 × 10 11 Ω / □ or less was not obtained before and after the saponification treatment, and the scratch resistance after the saponification treatment was also lower than before the saponification treatment. This is presumably because the molecular weight of the photopolymerizable urethane oligomer was too small, and the antistatic agent was present at a position too far from the surface of the antistatic hard coat layer.
これに対し、実施例１〜１８においては、鉛筆硬度に優れ、かつ鹸化処理前後で１×１０１１Ω／□以下の表面抵抗値および耐擦傷性が維持されていた。なお、実施例７、８においては、鹸化処理後の表面抵抗値が鹸化処理前の表面抵抗値に比べて若干上昇しているが、この程度の上昇であれば鹸化処理前後で表面抵抗値が維持されていたとみなすことができる。 On the other hand, in Examples 1-18, it was excellent in pencil hardness, and the surface resistance value and scratch resistance of 1 * 10 < 11 > (omega | ohm) / square or less were maintained before and after the saponification process. In Examples 7 and 8, the surface resistance value after the saponification treatment is slightly higher than the surface resistance value before the saponification treatment. It can be considered that it was maintained.
また、実施例および比較例に係る鹸化処理後の光学フィルムにおいて、荷重を３００ｇ／ｃｍ２から５００ｇ／ｃｍ２に代えて、上記と同様の耐擦傷性試験を行ったところ、実施例１８に係る光学フィルムのみ傷が確認されなかった。 In addition, in the optical films after the saponification treatment according to Examples and Comparative Examples, the same scratch resistance test as described above was performed by changing the load from 300 g / cm 2 to 500 g / cm 2. Only the optical film was not damaged.
さらに、帯電防止性ハードコート層用組成物１から、ウレタンアクリレートを除いた帯電防止性ハードコート層用組成物を用いて実施例１と同様の方法により光学フィルムを形成したところ、この光学フィルムは、実施例１に係る光学フィルムよりも、鉛筆硬度が劣っていた。また、帯電防止性ハードコート層用組成物１に含まれるウレタンアクリレートを重量平均分子量が１００，０００のウレタンアクリレートに代えた帯電防止性ハードコート層用組成物を用いて実施例１と同様の方法により光学フィルムを形成したところ、この光学フィルムは、実施例１に係る光学フィルムよりも、鉛筆硬度が劣っていた。 Furthermore, when an optical film was formed by the same method as in Example 1 using the antistatic hard coat layer composition obtained by removing urethane acrylate from the antistatic hard coat layer composition 1, this optical film was The pencil hardness was inferior to that of the optical film according to Example 1. Moreover, the same method as Example 1 using the composition for antistatic hard-coat layers which replaced the urethane acrylate contained in the composition 1 for anti-static hard-coat layers with the urethane acrylate whose weight average molecular weight is 100,000. When the optical film was formed by this, this optical film was inferior in pencil hardness to the optical film according to Example 1.
１０、５０…光学フィルム
１１、５１…光透過性基材
１１Ａ、５１Ａ…浸透領域
１１Ｂ、５１Ｂ…混在領域
１２、１４、５２、５４…塗膜
１３、５３…帯電防止剤
１５、５５…帯電防止性ハードコート層
１６…低屈折率層
１７…バインダ樹脂
２０…偏光板
２１…偏光子
３０…液晶パネル
４０…画像表示装置
５６…帯電防止剤含有ハードコート層
５７…帯電防止剤非含有ハードコート層
DESCRIPTION OF
Claims (4)
光透過性基材上に、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が１,０００以上３０,０００以下の帯電防止剤と、４個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が１,０００以上５０,０００以下の光重合性ウレタンオリゴマーと、アルキレンオキシド基を有さず、かつ４個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が３００以上９００以下のアクリレートモノマーと、２個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が２００以上９００以下のメタクリレートモノマーと、浸透性溶剤とを含む帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜を形成する工程と、
前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜に光を照射することにより前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜を半硬化させる工程と、
半硬化した前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜上に、半硬化した前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜と接するように、低屈折率材料および光重合性化合物、またはフッ素含有光重合性化合物を含む低屈折率層用組成物の塗膜を形成する工程と、
半硬化した前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜および前記低屈折率層用組成物の塗膜に光を照射することにより前記帯電防止性ハードコート層用組成物の塗膜および前記低屈折率層用組成物の塗膜を完全硬化させて、膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層および低屈折率層を形成する工程と、
を備えることを特徴とする、光学フィルムの製造方法。 A light transmissive substrate, an antistatic hard coat layer provided on the light transmissive substrate, and provided on the antistatic hard coat layer, adjacent to the antistatic hard coat layer, and A method for producing an optical film comprising a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the antistatic hard coat layer,
On the light-transmitting substrate, an antistatic agent having a quaternary ammonium base having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 30,000 or less, and a weight average molecular weight having four or more photopolymerizable functional groups of 1, 000 to 50,000 photopolymerizable urethane oligomer, acrylate monomer having no alkylene oxide group and having 4 or more acryloyl groups and having a weight average molecular weight of 300 to 900, and 2 or more methacryloyl groups Forming a coating film of an antistatic hard coat layer composition comprising a methacrylate monomer having a weight average molecular weight of 200 to 900 and a penetrating solvent;
Semi-curing the coating film of the antistatic hard coat layer composition by irradiating light to the coating film of the antistatic hard coat layer composition;
A low refractive index material and a photopolymerizable compound so as to come into contact with the semi-cured coating film of the antistatic hard coat layer composition on the semicured coating film of the antistatic hard coat layer composition, Or a step of forming a coating film of a composition for a low refractive index layer containing a fluorine-containing photopolymerizable compound;
The coating film of the composition for antistatic hard coat layer and the coating film of the composition for antistatic hard coat layer by irradiating light to the semi-cured coating film of the composition for antistatic hard coat layer and the coating film of the composition for low refractive index layer and the above A step of completely curing the coating film of the composition for a low refractive index layer to form an antistatic hard coat layer having a film thickness of 4 μm or more and 10 μm or less and a low refractive index layer;
A method for producing an optical film, comprising:
光透過性基材上に、第四級アンモニウム塩基を有する重量平均分子量が１,０００以上３０,０００以下の帯電防止剤と、アルキレンオキシド基を有さず、かつ４個以上のアクリロイル基を有する重量平均分子量が３００以上９００以下のアクリレートモノマーと、２個以上のメタクリロイル基を有する重量平均分子量が２００以上９００以下のメタクリレートモノマーと、浸透性溶剤とを含む帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜を形成する工程と、
前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜に光を照射することにより前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜を半硬化させる工程と、
半硬化した前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜上に、半硬化した前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜と接するように、帯電防止剤を含まず、かつ４個以上の光重合性官能基を有する重量平均分子量が１,０００以上５０,０００以下の光重合性ウレタンオリゴマーを含む帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜を形成する工程と、
半硬化した前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜および前記帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜に光を照射することにより前記帯電防止剤含有ハードコート層用組成物の塗膜および前記帯電防止剤非含有ハードコート層用組成物の塗膜を完全硬化させて、膜厚が２．５μｍを超え９．８μｍ以下の帯電防止剤含有ハードコート層および膜厚が０．２μｍ以上１．５μｍ未満の帯電防止剤非含有ハードコート層を有する膜厚が４μｍ以上１０μｍ以下の帯電防止性ハードコート層を形成する工程と、
を備えることを特徴とする、光学フィルムの製造方法。 A method for producing an optical film comprising a light transmissive substrate and an antistatic hard coat layer provided on the light transmissive substrate,
On a light-transmitting substrate, an antistatic agent having a quaternary ammonium base and a weight average molecular weight of 1,000 or more and 30,000 or less, an alkylene oxide group, and four or more acryloyl groups Antistatic agent-containing hard coat layer composition comprising an acrylate monomer having a weight average molecular weight of 300 or more and 900 or less, a methacrylate monomer having a weight average molecular weight of 200 or more and 900 or less having two or more methacryloyl groups, and a penetrating solvent Forming a coating film of
Semi-curing the coating film of the antistatic agent-containing hard coat layer composition by irradiating light to the coating film of the antistatic agent-containing hard coat layer composition; and
The antistatic agent is not included so as to come into contact with the semi-cured coating film of the anti-static agent-containing hard coat layer composition on the semi-cured coating film of the anti-static agent-containing hard coat layer composition, and Forming a coating film of an antistatic agent-free hard coat layer composition comprising a photopolymerizable urethane oligomer having a weight average molecular weight of 1,000 or more and 50,000 or less having four or more photopolymerizable functional groups; ,
The antistatic agent-containing hard coat layer composition is irradiated by irradiating light to the semi-cured coating film of the antistatic agent-containing hard coat layer composition and the antistatic agent-free hard coat layer composition. The coating film of the product and the coating film of the antistatic agent-free hard coat layer composition are completely cured, and the antistatic agent-containing hard coat layer having a film thickness of more than 2.5 μm and not more than 9.8 μm and a film thickness of Forming an antistatic hard coat layer having a film thickness of 4 μm or more and 10 μm or less having an antistatic agent-free hard coat layer of 0.2 μm or more and less than 1.5 μm;
A method for producing an optical film, comprising:
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019028196A (en) * | 2017-07-28 | 2019-02-21 | 株式会社サンリッツ | Polarizing plate and image display device |
| WO2019159909A1 (en) * | 2018-02-13 | 2019-08-22 | 帝人株式会社 | Method for producing substrate having hard coat layer containing functional fine particles |
-
2015
- 2015-03-17 JP JP2015053906A patent/JP2016173492A/en active Pending
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| JPWO2019159909A1 (en) * | 2018-02-13 | 2020-12-17 | 帝人株式会社 | Method for manufacturing a base material with a hard coat layer containing functional fine particles |
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