JP2016150578A - Light transmitting conductive film, method for production thereof and use thereof - Google Patents

Light transmitting conductive film, method for production thereof and use thereof Download PDF

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林 秀樹
Hideki Hayashi
秀樹 林
崇志 福田
Takashi Fukuda
崇志 福田
淳之介 村上
Junnosuke Murakami
淳之介 村上
勝紀 武藤
Katsunori Muto
勝紀 武藤
匡徳 寺田
Masanori Terada
匡徳 寺田
守雄 滝沢
Morio Takizawa
守雄 滝沢
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Sekisui Chemical Co Ltd
Sekisui Nano Coat Technology Co Ltd
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Sekisui Chemical Co Ltd
Sekisui Nano Coat Technology Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a light transmitting conductive film improved in a balance of three properties : (1) a degree of inhibition in the phenomenon of bone appearance for a patterned light transmitting conductive film; (2) a haze value; and (3) electric resistance.SOLUTION: There is provided a light transmitting conductive film which comprises a light transmitting support layer (A), light transmitting conductive layers (B) and a protrusion layer (C), wherein the light transmitting conductive layers (B) are disposed on at least one surface of the light transmitting support layer (A) directly or through one or more other layers, the protrusion layer (C) is disposed on at least one surface of the light transmitting support layer (A) directly or through one or more other layers so as to face at least one of the light transmitting conductive layers (B) across the light transmitting support layer (A), a surface opposite to the light transmitting support layer (A) of the protrusion layer (C) has a plurality of protrusions having a convex surface and an angle θ formed between the convex surface and the surface of the protrusion layer (C) is 5 to 40°.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、光透過性導電性フィルム、その製造方法及びその用途に関する。   The present invention relates to a light-transmitting conductive film, a manufacturing method thereof, and an application thereof.

タッチパネルに搭載される光透過性導電性フィルムとして、プラスチック等からなる光透過性支持層の少なくとも一方の面に、直接又は他の層を介して、酸化インジウムスズ(ITO)等を含有する光透過性導電層を配置した光透過性導電性フィルムが数多く用いられている。   As a light-transmitting conductive film mounted on a touch panel, light transmission containing indium tin oxide (ITO) or the like directly or via another layer on at least one surface of a light-transmitting support layer made of plastic or the like Many light-transmitting conductive films having a conductive conductive layer are used.

上記のフィルムは、光透過性導電層(あるいはさらにその上に層が存在する場合はその層も含めて)をエッチング処理によってパターン化した上で使用されることが多い。このようなフィルムは、光透過性導電層側のフィルム表面の上部から見たときに、光透過性導電層(あるいはその上層)が表面に存在する領域(パターン領域)と、同層が存在せずその下層が露出している領域(エッチング領域)が観察される。パターン形状は例えば短冊状である。このようなフィルムにおいては、パターン形状が視認されてしまう、いわゆる骨見え現象が生じることが知られている。   In many cases, the above-described film is used after a light-transmitting conductive layer (or further including the layer if any) is patterned by an etching process. When such a film is viewed from the top of the film surface on the side of the light-transmitting conductive layer, the same layer does not exist in the region (pattern region) where the light-transmitting conductive layer (or its upper layer) exists on the surface. A region where the lower layer is exposed (etching region) is observed. The pattern shape is, for example, a strip shape. In such a film, it is known that a so-called bone appearance phenomenon occurs in which the pattern shape is visually recognized.

このような骨見え現象は、複数の要因により引き起こされる事象ではあるが、一因としてエッチング加工により引き起こされる局所的変形が寄与していると考えられている。   Although such a bone appearance phenomenon is an event caused by a plurality of factors, it is considered that a local deformation caused by etching processing contributes as one factor.

この骨見え現象を抑制する目的で、局所的変形自体を抑制する目的で、フィルムの基材となる光透過性支持層として十分に厚いもの(例えば188μm程度)を用いることや、別のフィルムをさらに貼り合わせること等が提案されている。しかしながら、近年はフィルムの薄型軽量化(例えば50μm程度)が求められており、そのような手段は採用できない状況にある。   For the purpose of suppressing this bone appearance phenomenon, for the purpose of suppressing local deformation itself, a sufficiently thick layer (for example, about 188 μm) may be used as a light-transmitting support layer as a film substrate, or another film may be used. Further, it has been proposed to bond them together. However, in recent years, there is a demand for thin and light films (for example, about 50 μm), and such means cannot be employed.

そこで、骨見え現象を抑制する目的で、エッチング領域の表面に微細な凹凸を形成することにより、比較的高いヘーズ値を付与して、エッチング領域の見え方をぼかす方法が提案されている(特許文献1)。   Therefore, for the purpose of suppressing the bone appearance phenomenon, a method has been proposed in which fine irregularities are formed on the surface of the etching region to give a relatively high haze value and blur the appearance of the etching region (patent). Reference 1).

特開2012−133771号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-133771

本発明者は、光透過性導電層をパターン化した光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を改善する目的で、従来技術にしたがってエッチング領域の表面に微細な凹凸を形成した場合には、骨見え現象は抑制される傾向はみられるものの、これはあくまでフィルム全体を曇らせることによりもたらされる効果であり、骨見え現象のみならず、タッチパネルに搭載して使用する際には表示画像そのものまでもが見えにくくなってしまうという問題があることを見出した。言い換えれば、従来の方法ではヘーズ値が高くなりすぎてタッチパネルに搭載して使用する際には画面の輝度が低下してしまうという問題があることを本発明者は見出した。さらに、本発明者は、従来技術にしたがって同様にエッチング領域の表面に凹凸を形成した場合には、光透過性導電層の電気抵抗値が上昇してしまうという別の問題があることも見出した。   In the light-transmitting conductive film in which the light-transmitting conductive layer is patterned, the present inventor has formed fine irregularities on the surface of the etched region according to the conventional technique for the purpose of improving the bone appearance phenomenon. Although there is a tendency to suppress the bone appearance phenomenon, this is an effect brought about by clouding the entire film, and not only the bone appearance phenomenon but also the display image itself when used on a touch panel. I found that there is a problem that it becomes difficult to see. In other words, the present inventor has found that the conventional method has a problem that the haze value becomes too high and the brightness of the screen is lowered when mounted on a touch panel. Furthermore, the present inventor has also found that there is another problem that the electrical resistance value of the light-transmitting conductive layer is increased when irregularities are formed on the surface of the etching region in the same manner according to the prior art. .

したがって、本発明は、(1)光透過性導電層がパターン化された際の骨見え現象の抑制度合い、(2)ヘーズ値及び(3)電気抵抗値という三点のバランスが改善された、光透過性導電性フィルムを提供することを課題とする。   Therefore, the present invention has improved the balance of three points of (1) the degree of suppression of the bone appearance phenomenon when the light-transmitting conductive layer is patterned, (2) haze value, and (3) electrical resistance value. An object is to provide a light-transmitting conductive film.

本発明者らは、鋭意検討を重ね、光透過性支持層の一方の面に、パターン化される光透過性導電層を設け、光透過性支持層の他方の面に、比較的曲率の大きい凸曲面を有する複数の突起を有する突起層を設けることによって、上記課題を解決できることを見出した。より詳細には以下の通りである。上記の通りとすることにより、突起を複数有する面(突起面)が、少なくとも光透過性支持層を挟んだ距離だけ光透過性導電層から離間して設置されることになる。パターン化された光透過性導電層の側から見ると、その側から入射して突起面まで到達した光の散乱が起こり、その反射光のためパターンの境界がぼかされたように見える。このぼかしの効果のことを、本明細書において「幻惑効果」と呼ぶ。本発明においては、幻惑効果の原因となる反射光を生じる突起面が、幻惑させようとするパターン形状から離間しているため、両者間の距離がより接近しているときに比べ、より高度な幻惑効果が得られることを本発明者らは見出した。また、本発明者らは、比較的曲率の大きい凸曲面を有する複数の突起を用いているため、乱反射を抑制しつつ有効な幻惑効果を得ることができることも見出した。さらに、本発明者らは、このような形状の突起を設けることにより骨見え現象を抑制しようとする際には、単位面積あたりの突起の数が従来の方法に比べてより少ない数であっても目的を達成できることをも見出した。このように、結果的にフィルム表面の乱れがより少ない状態、すなわちヘーズ値と電気抵抗値の悪化が従来よりも抑制された状態、を維持しつつ骨見え現象を効果的に抑制できることになる。   The inventors of the present invention have made extensive studies and provided a light-transmitting conductive layer to be patterned on one surface of the light-transmitting support layer, and a relatively large curvature on the other surface of the light-transmitting support layer. It has been found that the above problem can be solved by providing a projection layer having a plurality of projections having a convex curved surface. More details are as follows. By setting it as above-mentioned, the surface (projection surface) which has two or more protrusions will be spaced apart from the light transmissive conductive layer at least the distance which pinched | interposed the light transmissive support layer. When viewed from the side of the patterned light-transmitting conductive layer, scattering of light incident from that side and reaching the projection surface occurs, and the boundary of the pattern appears to be blurred due to the reflected light. This blurring effect is referred to as “illusion effect” in this specification. In the present invention, since the projection surface that generates the reflected light that causes the dazzling effect is separated from the pattern shape to be dazzled, it is more sophisticated than when the distance between the two is closer. The present inventors have found that a dazzling effect can be obtained. The present inventors have also found that an effective dazzling effect can be obtained while suppressing irregular reflection because a plurality of protrusions having a convex curved surface having a relatively large curvature are used. Further, when the present inventors try to suppress the bone appearance phenomenon by providing the protrusions having such shapes, the number of protrusions per unit area is smaller than that of the conventional method. Also found that the objective can be achieved. Thus, as a result, the bone appearance phenomenon can be effectively suppressed while maintaining the state in which the film surface is less disturbed, that is, the state in which the deterioration of the haze value and the electrical resistance value is suppressed as compared with the conventional case.

本発明は、これらの新たな知見に基づいてさらに種々の検討を重ねることにより完成されたものであり、次に掲げるものである。
項1
(A)光透過性支持層;
(B)光透過性導電層;及び
(C)突起層
を含有し、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記突起層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、かつ前記光透過性支持層(A)を挟んで少なくとも一つの前記光透過性導電層(B)と向き合うように、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記突起層(C)の前記光透過性支持層(A)とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
前記凸曲面が前記突起層(C)の前記面となす角度θが5〜40°であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
項2
前記突起層(C)の前記表面が前記突起を、1mmあたり100個〜10,000個有する、項1に記載の光透過性導電性フィルム。
項3
前記突起層(C)は、アスペクト比が0.8〜1の球状微粒子及びバインダー成分を含有し、かつ
前記突起が、前記微粒子により形成されるものである、
項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
項4
前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が0.1以下である、項3に記載の光透過性導電性フィルム。
項5
ヘーズが0.5〜2%である、項1〜4のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項6
前記光透過性支持層(A)の厚さが50μm以下である、項1〜5のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項7
前記光透過性支持層(A)を挟んで前記突起層(C)と向き合って配置されている前記光透過性導電層(B)の一部がパターン化されている、項1〜6のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項8
項1〜7のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを含有するタッチパネル。
項9
項3〜7のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
(1)前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記突起層(C)を形成する工程を含有する方法。
項10
前記工程(1)において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記突起層(C)を形成する、項9に記載の方法。
The present invention has been completed by further various studies based on these new findings, and is as follows.
Item 1
(A) a light transmissive support layer;
(B) a light transmissive conductive layer; and (C) a protruding layer,
The light transmissive conductive layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the protruding layer (C) Directly or at least on one surface of the light transmissive support layer (A) and so as to face at least one light transmissive conductive layer (B) with the light transmissive support layer (A) interposed therebetween. Arranged through one or more other layers,
The surface of the protrusion layer (C) opposite to the light transmissive support layer (A) has a plurality of protrusions having a convex curved surface, and the convex curved surface is in contact with the surface of the protrusion layer (C). An angle θ formed is 5 to 40 °, a light-transmitting conductive film.
Item 2
Item 2. The light transmissive conductive film according to Item 1, wherein the surface of the protrusion layer (C) has 100 to 10,000 protrusions per 1 mm 2 .
Item 3
The protrusion layer (C) contains spherical fine particles having an aspect ratio of 0.8 to 1 and a binder component, and the protrusions are formed by the fine particles.
Item 3. The light transmissive conductive film according to Item 1 or 2.
Item 4
Item 4. The light transmissive conductive film according to Item 3, wherein a difference in refractive index between the fine particles and the binder component is 0.1 or less.
Item 5
Item 5. The light transmissive conductive film according to any one of Items 1 to 4, wherein the haze is 0.5 to 2%.
Item 6
Item 6. The light transmissive conductive film according to any one of Items 1 to 5, wherein the light transmissive support layer (A) has a thickness of 50 μm or less.
Item 7
Any one of Items 1 to 6, wherein a part of the light transmissive conductive layer (B) disposed to face the protruding layer (C) with the light transmissive support layer (A) interposed therebetween is patterned. The light-transmissive conductive film according to claim 1.
Item 8
The touchscreen containing the light transmissive conductive film as described in any one of claim | item 1 -7.
Item 9
A method for producing the light transmissive conductive film according to any one of Items 3 to 7,
(1) A method comprising a step of forming the protruding layer (C) using a raw material containing the binder component and the fine particles.
Item 10
Item 10. The method according to Item 9, wherein, in the step (1), the protruding layer (C) is formed by applying the raw material on a layer serving as a base.

本発明によれば、光透過性導電層をパターン化した光透過性導電性フィルムにおいて、乱反射を抑制しつつ界面反射を効果的に揺らがせることができる。本発明によれば、このようにしてヘーズ値を適度に抑制しつつ、効果的に骨見え現象を抑制できる。また、本発明によれば、同時に光透過性にも優れた光透過性導電性フィルムを得ることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, in the transparent conductive film which patterned the transparent conductive layer, interface reflection can be effectively shaken, suppressing irregular reflection. According to the present invention, the bone appearance phenomenon can be effectively suppressed while appropriately suppressing the haze value in this way. Moreover, according to this invention, the light transmissive conductive film excellent also in the light transmittance can be obtained simultaneously.

光透過性支持層(A)の、一方の面に光透過性導電層(B)が、他方の面に突起層(C)が、それぞれ配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The light-transmitting conductive film of the present invention, in which the light-transmitting conductive layer (B) is disposed on one surface of the light-transmitting support layer (A) and the protruding layer (C) is disposed on the other surface. FIG. 光透過性支持層(A)の、一方の面に突起層(C)及び光透過性導電層(B)がこの順で、他方の面に突起層(C)が、それぞれ配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The projecting layer (C) and the light transmissive conductive layer (B) are arranged in this order on one surface of the light transmissive support layer (A), and the projecting layer (C) is arranged on the other surface, respectively. It is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention. 光透過性支持層(A)の、一方の面に光透過性導電層(B)が、他方の面に突起層(C)及び光透過性導電層(B)がこの順で、それぞれ配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The light-transmitting support layer (A) has a light-transmitting conductive layer (B) on one surface, and a projecting layer (C) and a light-transmitting conductive layer (B) on the other surface in this order. It is sectional drawing which shows the transparent conductive film of this invention which is. 光透過性支持層(A)の、両方の面に、突起層(C)及び光透過性導電層(B)がこの順で、それぞれ配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The light-transmitting conductive film of the present invention in which the projecting layer (C) and the light-transmitting conductive layer (B) are arranged in this order on both surfaces of the light-transmitting support layer (A). It is sectional drawing shown. 突起層(C)に一部が埋まっている微粒子が突起層(C)の表面から突出している状態を示す上面図、側面図及び一部拡大図である。FIG. 6 is a top view, a side view, and a partially enlarged view showing a state in which fine particles partially embedded in the protrusion layer (C) protrude from the surface of the protrusion layer (C). 扁平な楕円体の微粒子の外観を示す三面図である。It is a three-view figure which shows the external appearance of the fine particle of a flat ellipsoid. 扁平な紡錘形の微粒子の外観を示す三面図である。It is a trihedral view showing the appearance of flat spindle-shaped fine particles. 割平面が球の中心を通らない球欠形状の微粒子の外観を示す三面図である。It is a trihedral view showing the appearance of a spherically-shaped fine particle whose split plane does not pass through the center of the sphere. 異形粒子により形成される突起を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the processus | protrusion formed by irregularly shaped particle | grains. 突起層(C)の下層に設けられている突起により形成される突起を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the protrusion formed of the protrusion provided in the lower layer of the protrusion layer (C). 型の転写により形成される突起を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the processus | protrusion formed by transcription | transfer of a type | mold. 後加工により形成される突起を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the protrusion formed by post-processing. 光透過性支持層(A)、一方の面にアンダーコート層(D)及び光透過性導電層(B)がこの順で、他方の面に突起層(C)が、それぞれ配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。The light-transmitting support layer (A), the undercoat layer (D) and the light-transmitting conductive layer (B) are disposed in this order on one surface, and the protruding layer (C) is disposed on the other surface, respectively. It is sectional drawing which shows the light transmissive conductive film of this invention.

1. 光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
(A)光透過性支持層;
(B)光透過性導電層;及び
(C)突起層
を含有し、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記突起層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、かつ前記光透過性支持層(A)を挟んで少なくとも一つの前記光透過性導電層(B)と向き合うように、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記突起層(C)の前記光透過性支持層(A)とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
前記凸曲面が前記突起層(C)の前記面となす角度θが5〜40°以下であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム
である。
1. Light transmissive conductive film The light transmissive conductive film of the present invention comprises:
(A) a light transmissive support layer;
(B) a light transmissive conductive layer; and (C) a protruding layer,
The light transmissive conductive layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the protruding layer (C) Directly or at least on one surface of the light transmissive support layer (A) and so as to face at least one light transmissive conductive layer (B) with the light transmissive support layer (A) interposed therebetween. Arranged through one or more other layers,
The surface of the protrusion layer (C) opposite to the light transmissive support layer (A) has a plurality of protrusions having a convex curved surface, and the convex curved surface is in contact with the surface of the protrusion layer (C). The light-transmitting conductive film is characterized in that an angle θ formed is 5 to 40 ° or less.

本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する(translucent)ことを意味する。「光透過性」には、透明(transparent)が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が80%以上、好ましくは85%以上、より好ましくは87%以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター(日本電色社製、商品名:NDH−2000、またはその同等品)を用いてJIS−K−7105に基づいて測定する。   In the present invention, “light-transmitting” means having a property of transmitting light (translucent). “Light transmissivity” includes transparency. “Light transmissivity” means, for example, the property that the total light transmittance is 80% or more, preferably 85% or more, more preferably 87% or more. In the present invention, the total light transmittance is measured based on JIS-K-7105 using a haze meter (trade name: NDH-2000 manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd. or equivalent).

本明細書において、光透過性支持層(A)の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層(A)を基準にして、光透過性支持層(A)からの距離が大きい一方の層を「上の層」等といい、光透過性支持層(A)からの距離が小さい他方の層を「下の層」等ということがある。   In this specification, when mentioning the relative positional relationship between two layers among a plurality of layers arranged on one surface of the light transmissive support layer (A), the light transmissive support layer (A) is used as a reference. One layer having a large distance from the light transmissive support layer (A) is referred to as “upper layer” and the like, and the other layer having a small distance from the light transmissive support layer (A) is referred to as “lower layer”. And so on.

以下の各層についての説明箇所において特に明記されていない限り、本発明において、各層の厚さは、市販の反射分光膜厚計(大塚電子、FE−3000(製品名)、又はその同等品)を用いて求める。又は、代替的に、市販の透過型電子顕微鏡を用いた観察により求めてもよい。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムをフィルム面に対して垂直方向に薄く切断し、その断面を観察する。   Unless otherwise specified in the following description of each layer, in the present invention, the thickness of each layer is a commercially available reflection spectral film thickness meter (Otsuka Electronics, FE-3000 (product name), or equivalent). Use to find. Alternatively, it may be obtained by observation using a commercially available transmission electron microscope. Specifically, the light-transmitting conductive film is thinly cut in a direction perpendicular to the film surface using a microtome or a focus ion beam, and the cross section is observed.

図1に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の、一方の面に光透過性導電層(B)が、他方の面に突起層(C)が、それぞれ配置されている。   In FIG. 1, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the light-transmissive support layer (A) has a light-transmissive conductive layer (B) disposed on one surface and a projecting layer (C) disposed on the other surface.

図2に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の、一方の面に突起層(C)及び光透過性導電層(B)がこの順で、他方の面に突起層(C)が、それぞれ配置されている。
図3に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の、一方の面に光透過性導電層(B)が、他方の面に突起層(C)及び光透過性導電層(B)がこの順で、それぞれ配置されている。
図4に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の、両方の面に、突起層(C)及び光透過性導電層(B)がこの順で、それぞれ配置されている。
FIG. 2 shows another embodiment of the light transmissive conductive film of the present invention. In this embodiment, the projecting layer (C) and the light-transmitting conductive layer (B) are arranged in this order on one side of the light-transmitting support layer (A), and the projecting layer (C) is arranged on the other side. Has been.
FIG. 3 shows another embodiment of the light transmissive conductive film of the present invention. In this embodiment, the light-transmitting support layer (A) has a light-transmitting conductive layer (B) on one surface, and the projecting layer (C) and the light-transmitting conductive layer (B) on the other surface in this order. , Each is arranged.
FIG. 4 shows another embodiment of the light transmissive conductive film of the present invention. In this embodiment, the projecting layer (C) and the light transmissive conductive layer (B) are respectively disposed in this order on both surfaces of the light transmissive support layer (A).

1.1 光透過性支持層(A)
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含有する層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(A)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
1.1 Light transmissive support layer (A)
In the present invention, the light transmissive support layer refers to a light transmissive conductive film containing a light transmissive conductive layer, which plays a role of supporting the layer containing the light transmissive conductive layer. Although it does not specifically limit as a light transmissive support layer (A), For example, in the light transmissive conductive film for touch panels, what is normally used as a light transmissive support layer can be used.

光透過性支持層(A)の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、及びポリエチレンナフタレート(PEN)等が挙げられる。光透過性支持層(A)の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、特にPETが好ましい。光透過性支持層(A)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   Although the raw material of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, various organic polymers etc. can be mentioned. The organic polymer is not particularly limited. For example, polyester resin, acetate resin, polyether resin, polycarbonate resin, polyacrylic resin, polymethacrylic resin, polystyrene resin, polyolefin resin, polyimide resin, etc. Examples include resins, polyamide resins, polyvinyl chloride resins, polyacetal resins, polyvinylidene chloride resins, and polyphenylene sulfide resins. Although it does not specifically limit as polyester-type resin, For example, a polyethylene terephthalate (PET), a polyethylene naphthalate (PEN), etc. are mentioned. The material of the light transmissive support layer (A) is preferably a polyester resin, and particularly preferably PET. The light transmissive support layer (A) may be composed of any one of these, or may be composed of a plurality of types.

光透過性支持層(A)の厚さは、特に限定されないが、例えば、2〜300μmの範囲が挙げられる。光透過性支持層(A)の厚さは薄くなると、光透過性導電層がパターン化された時の骨見え現象が表れやすく骨見え現象の改善が特に望まれている。したがって、本発明の効果は、光透過性支持層(A)の厚さが50μm以下の場合に現れやすく、25μm以下の場合により現れやすい。   Although the thickness of a light-transmissive support layer (A) is not specifically limited, For example, the range of 2-300 micrometers is mentioned. When the thickness of the light transmissive support layer (A) is reduced, the bone appearance phenomenon is likely to appear when the light transmissive conductive layer is patterned, and improvement of the bone appearance phenomenon is particularly desired. Therefore, the effect of the present invention tends to appear when the thickness of the light-transmissive support layer (A) is 50 μm or less, and more easily when the thickness is 25 μm or less.

1.2 光透過性導電層(B)
光透過性導電層(B)は、光透過性支持層(A)の一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
1.2 Light transmissive conductive layer (B)
The light transmissive conductive layer (B) is disposed on one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers.

本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層(B)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。   In the present invention, the light-transmitting conductive layer means a layer that conducts electricity and transmits visible light. Although it does not specifically limit as a light transmissive conductive layer (B), For example, what is normally used as a light transmissive conductive layer in the light transmissive conductive film for touch panels can be used.

光透過性導電層(B)の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層(B)としては、透明性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層(B)は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。   The material of the light transmissive conductive layer (B) is not particularly limited, and examples thereof include indium oxide, zinc oxide, tin oxide, and titanium oxide. The light transmissive conductive layer (B) is preferably a light transmissive conductive layer containing indium oxide doped with a dopant in terms of achieving both transparency and conductivity. The light transmissive conductive layer (B) may be a light transmissive conductive layer made of indium oxide doped with a dopant. Although it does not specifically limit as a dopant, For example, a tin oxide, a zinc oxide, those mixtures, etc. are mentioned.

光透過性導電層(B)の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム(III)(In)に酸化スズ(IV)(SnO)をドープしたもの(tin−doped indium oxide;ITO)が好ましい。この場合、SnOの添加量としては、特に限定されないが、例えば、1〜15重量%、好ましくは2〜10重量%、より好ましくは3〜8重量%等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層(B)の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。 In the case of using indium oxide doped with tin oxide as the material of the light transmissive conductive layer (B), indium oxide (III) (In 2 O 3 ) doped with tin oxide (IV) (SnO 2 ) (Tin-doped indium oxide; ITO) is preferable. In this case, the addition amount of SnO 2 is not particularly limited, and examples thereof include 1 to 15% by weight, preferably 2 to 10% by weight, and more preferably 3 to 8% by weight. Moreover, you may use as a raw material of a transparent conductive layer (B) what added the other dopant to indium tin oxide in the range which the total amount of a dopant does not exceed the numerical range of the left. Although it does not specifically limit as another dopant in the left, For example, selenium etc. are mentioned.

光透過性導電層(B)は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。   The light transmissive conductive layer (B) may be composed of any one of the various materials described above, or may be composed of a plurality of types.

光透過性導電層(B)は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。   The light transmissive conductive layer (B) is not particularly limited, but may be a crystalline or amorphous body, or a mixture thereof.

光透過性導電層(B)を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれであってもよく、特に限定されない。光透過性導電層(B)を配置する方法の具体例として、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、CVD法及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。
1.3 突起層(C)
突起層(C)は、光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、かつ光透過性支持層(A)を挟んで少なくとも一つの光透過性導電層(B)と向き合うように、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
The method for disposing the light transmissive conductive layer (B) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Specific examples of the method for disposing the light transmissive conductive layer (B) include, for example, a sputtering method, a vacuum deposition method, an ion plating method, a CVD method, and a pulse laser deposition method.
1.3 Protrusion layer (C)
The protruding layer (C) faces at least one light transmissive conductive layer (B) on at least one surface of the light transmissive support layer (A) and sandwiches the light transmissive support layer (A). Directly or via one or more other layers.

突起層(C)は、光透過性支持層(A)とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ前記凸曲面が突起層(C)の前記面となす角度θが5〜40°であるという特性を備える。   The protrusion layer (C) has a plurality of protrusions having a convex curved surface on the surface opposite to the light transmissive support layer (A), and an angle formed by the convex curved surface and the surface of the protrusion layer (C). It has the characteristic that θ is 5 to 40 °.

前記突起は、比較的曲率が大きい(曲面が緩やかな)凸曲面を有しているという特徴を有している。かかる特徴に起因してヘーズ値の上昇を抑制しつつ、光透過性支持層(A)を挟んで向き合う光透過性導電層(B)をパターン化したときの骨見え現象を抑制できるという優れた効果が得られる。例えば、曲率がより小さい(曲面が急峻な)曲面を有する突起、例えば、球面状突起を替わりに備える突起層(C)を用いた場合に比べてヘーズ値の上昇が抑えられているにもかかわらず、上記の骨見え現象は効果的に抑制されている。前記突起は、上記効果の点で、好ましくは、屈曲面を有さないか実質的に有さないという特徴をさらに備える。   The protrusion has a feature that it has a convex curved surface having a relatively large curvature (a gentle curved surface). Due to this feature, it is possible to suppress the bone appearance phenomenon when the light transmissive conductive layer (B) facing each other with the light transmissive support layer (A) interposed therebetween is suppressed while suppressing an increase in haze value. An effect is obtained. For example, although the protrusion having a curved surface with a smaller curvature (the surface is steep), for example, a protrusion layer (C) provided with a spherical protrusion instead, an increase in haze value is suppressed. However, the above-mentioned bone appearance phenomenon is effectively suppressed. In view of the above effects, the protrusion preferably further has a feature that it does not have or substantially does not have a bent surface.

この現象は以下のように説明される。このように突起層(C)を配置することによって、突起を複数有する面(突起面)が、少なくとも光透過性支持層を挟んだ距離だけ、パターン化される光透過性導電層から離間して設置されることになる。パターン化された光透過性導電層の側から見ると、その側から入射して突起面まで到達した光の散乱が起こり、その反射光のためパターンの境界がぼかされたように見える(幻惑効果)。本発明においては、幻惑効果の原因となる反射光を生じる突起面が、幻惑させようとするパターン形状から離間しているため、両者間の距離がより接近しているときに比べ、より高度な幻惑効果が得られる。
比較的曲率が大きい凸曲面が表面に導入されている場合、曲率が比較的小さい凸曲面が導入されている場合に比べ、反射光が散乱しにくく、より反射光を一定の範囲に収めやすくなる。このように反射光が散乱しにくい場合は、ヘーズ値の上昇を抑えることができる。また、比較的曲率が大きい凸曲面が表面に導入されている場合であっても、骨見え現象の原因とみられる界面反射を幻惑効果により効果的に揺らがせることができる。
This phenomenon is explained as follows. By disposing the protrusion layer (C) in this way, the surface having the plurality of protrusions (protrusion surface) is separated from the light-transmitting conductive layer to be patterned by at least a distance sandwiching the light-transmitting support layer. Will be installed. When viewed from the side of the patterned light-transmitting conductive layer, scattering of light that enters from that side and reaches the projection surface occurs, and the reflected light seems to blur the pattern boundary (illusion) effect). In the present invention, since the projection surface that generates the reflected light that causes the dazzling effect is separated from the pattern shape to be dazzled, it is more sophisticated than when the distance between the two is closer. A dazzling effect is obtained.
When a convex curved surface with a relatively large curvature is introduced on the surface, the reflected light is less likely to scatter than when a convex curved surface with a relatively small curvature is introduced, making it easier to keep the reflected light within a certain range. . Thus, when reflected light is hard to scatter, the raise of a haze value can be suppressed. Further, even when a convex curved surface having a relatively large curvature is introduced on the surface, the interface reflection, which is considered to cause the bone appearance phenomenon, can be effectively shaken by the dazzling effect.

本発明の効果の面では、前記凸曲面が突起層(C)の光透過性支持層(A)とは反対側の面となす角度θは好ましくは10〜35°であり、より好ましくは15〜30°である。   In terms of the effect of the present invention, the angle θ between the convex curved surface and the surface of the projection layer (C) opposite to the light transmissive support layer (A) is preferably 10 to 35 °, more preferably 15 ~ 30 °.

本発明において、前記凸曲面が突起層(C)の光透過性支持層(A)とは反対側の面となす角度θの測定は、以下の通り行う。
非接触式三次元表面粗さ計を用いて測定倍率25倍、測定面積283μm×213μmの条件にて3次元の表面形状を測定する。得られた3次元の表面形状から25個の凸曲面を任意に選ぶ。それぞれの凸曲面の3次元の表面形状について任意の方向から見ることとし「粗さ測定の基準面と凸曲面とのなす角度」を算出する。算出された25個の「粗さ測定の基準面と凸曲面とのなす角度」を算術平均して、「凸曲面が突起層の光透過性支持層とは反対側の面となす角度θ」とする。
In the present invention, the angle θ formed by the convex curved surface and the surface of the protruding layer (C) opposite to the light-transmitting support layer (A) is measured as follows.
Using a non-contact type three-dimensional surface roughness meter, a three-dimensional surface shape is measured under the conditions of a measurement magnification of 25 times and a measurement area of 283 μm × 213 μm. 25 convex curved surfaces are arbitrarily selected from the obtained three-dimensional surface shape. The three-dimensional surface shape of each convex curved surface is viewed from an arbitrary direction, and the “angle between the roughness measurement reference surface and the convex curved surface” is calculated. An arithmetic average of the 25 calculated “angles between the reference surface for roughness measurement and the convex surface”, and “an angle θ between the convex surface and the surface opposite to the light-transmitting support layer of the projection layer” And

本発明の効果の面では、突起層(C)の、光透過性支持層(A)とは反対側の面が、前記突起を1mmあたり、100個〜10,000個有していれば好ましく、500〜5,000個有していればより好ましく、1,000〜2,000個有していればさらに好ましい。 In terms of the effect of the present invention, if the surface of the protrusion layer (C) opposite to the light-transmitting support layer (A) has 100 to 10,000 protrusions per 1 mm 2. Preferably, it has 500 to 5,000, more preferably 1,000 to 2,000.

本発明において、単位面積あたりの突起の数の測定は、以下の通り行う。   In the present invention, the number of protrusions per unit area is measured as follows.

(1)突起層の上に形成されている接着層や保護フィルム等の除去(測定の前処理)
突起層の上に形成されている保護フィルムは引き剥がし、接着層は溶剤に溶かして拭き取り、突起層が表面に露出するまで除去する。なお、突起層の表面にオーバーコート層等の数十ナノメートルの厚さの他の層が存在する場合は、当該他の層を除去せずにそのまま当該他の層で覆われた表面の凹凸形状を測定してもよい。
(1) Removal of adhesive layer, protective film, etc. formed on protruding layer (measurement pretreatment)
The protective film formed on the protruding layer is peeled off, the adhesive layer is dissolved in a solvent and wiped off, and removed until the protruding layer is exposed on the surface. If there is another layer with a thickness of several tens of nanometers such as an overcoat layer on the surface of the protruding layer, the unevenness of the surface covered with the other layer as it is without removing the other layer The shape may be measured.

(2)突起の数の測定方法
非接触式三次元表面粗さ計に内蔵された表面解析ソフトを用いて3次元の10点平均粗さ(SRz)を求める。
(2) Method for measuring the number of protrusions A three-dimensional 10-point average roughness (SRz) is determined using surface analysis software built in a non-contact type three-dimensional surface roughness meter.

本発明の効果の面では、前記突起層の面を基準面とする前記突起の最大高さの平均値が、0.1μm〜1μmであれば好ましく、0.2μm〜0.6μmであればさらに好ましい。   In terms of the effect of the present invention, the average value of the maximum heights of the protrusions with respect to the surface of the protrusion layer is preferably 0.1 μm to 1 μm, and more preferably 0.2 μm to 0.6 μm. preferable.

本発明において、突起の最大高さの平均値は、以下の通り算出する。   In the present invention, the average value of the maximum height of the protrusions is calculated as follows.

(1)測定の前処理
単位面積あたりの突起の数の測定方法において説明したのと同様にして、突起層の上に形成されている接着層や保護フィルム等を除去する。あるいは、突起層の表面にオーバーコート層等の数十ナノメートルの厚さの他の層が存在する場合は、当該他の層を除去せずにそのまま当該他の層で覆われた表面の凹凸形状を測定してもよい。
(1) Pretreatment for measurement In the same manner as described in the method for measuring the number of protrusions per unit area, the adhesive layer, protective film and the like formed on the protrusion layer are removed. Alternatively, if there is another layer with a thickness of several tens of nanometers such as an overcoat layer on the surface of the protruding layer, the unevenness of the surface covered with the other layer as it is without removing the other layer The shape may be measured.

(2)突起の最大高さと、その平均値の測定方法
非接触式三次元表面粗さ計を用いて測定倍率25倍、測定面積283μm×213μmの条件にて3次元の表面形状を測定する。非接触式三次元表面粗さ計に内蔵された表面解析ソフトを用いて突起の最大粗さ(SRmax)と、3次元の10点平均粗さ(SRz)を求める。突起の最大粗さ(SRmax)を突起層の面を基準面とする突起の最大高さとし、3次元の10点平均粗さ(SRz)を突起層の面を基準面とする突起の最大高さの平均値とする。
(2) Measuring method of maximum height of protrusion and average value thereof A three-dimensional surface shape is measured under the conditions of a measurement magnification of 25 times and a measurement area of 283 μm × 213 μm using a non-contact type three-dimensional surface roughness meter. The maximum roughness (SRmax) of the protrusion and the three-dimensional 10-point average roughness (SRz) are obtained using surface analysis software incorporated in the non-contact type three-dimensional surface roughness meter. The maximum roughness of the protrusion (SRmax) is the maximum height of the protrusion with the surface of the protrusion layer as the reference surface, and the three-dimensional 10-point average roughness (SRz) is the maximum height of the protrusion with the surface of the protrusion layer as the reference surface. The average value of

本発明の光透過性導電性フィルムは、突起層(C)の作用により、ヘーズ値が、好ましくは0.5〜2%、より好ましくは0.7〜1.5%の範囲内に調整されている。本発明においてヘーズ値は、日本電色社製ヘーズメーター(MDH2000)又はその同等品を用いてJIS K7361−1に準じて測定する。
前記突起は、特に限定されないが、例えば、突起層(C)に一部が埋まっている微粒子の、突起層(C)の表面から突出している部分に相当するものであってもよい(図8)。
微粒子の形状は、一部に前記の凸曲面を有していればよく、特に限定されないが、例えば楕円体のほか、図5〜7に示した形状等であってもよい。微粒子としては、特に限定されないが、アスペクト比が0.8〜1の球状微粒子を用いることができる。アスペクト比(長軸と短軸の比率)は、以下のようにして測定する。
In the light-transmitting conductive film of the present invention, the haze value is preferably adjusted within the range of 0.5 to 2%, more preferably 0.7 to 1.5% by the action of the protruding layer (C). ing. In the present invention, the haze value is measured according to JIS K7361-1 using a Nippon Denshoku haze meter (MDH2000) or an equivalent thereof.
The protrusion is not particularly limited, and may be, for example, a part of a fine particle partially embedded in the protrusion layer (C) that corresponds to a portion protruding from the surface of the protrusion layer (C) (FIG. 8). ).
The shape of the fine particles is not particularly limited as long as it has the convex curved surface in part. For example, in addition to an ellipsoid, the shape shown in FIGS. The fine particles are not particularly limited, but spherical fine particles having an aspect ratio of 0.8 to 1 can be used. The aspect ratio (ratio of major axis to minor axis) is measured as follows.

エポキシ樹脂中に微粒子を固定した試験片を作成し、試験片を走査型電子顕微鏡(SEM)を用いて観察する。観察視野内から任意の25個の粒子を選び、それぞれの粒子について観察された粒子の外径の最大長さと最小長さを測る。なお、観察された粒子数が25個より少ない場合は観察視野を変えるか複数の視野を観察して合計25個の測定値を得る。     A test piece having fine particles fixed in an epoxy resin is prepared, and the test piece is observed using a scanning electron microscope (SEM). Arbitrary 25 particles are selected from the observation field, and the maximum length and the minimum length of the observed outer diameter of each particle are measured. If the number of particles observed is less than 25, the observation field is changed or a plurality of fields are observed to obtain a total of 25 measurement values.

別の態様として、前記突起は、突起層(C)に全体が埋まっている上記微粒子又は異形微粒子の形状を反映して、周辺のバインダー成分が***することにより形成される突起であってもよい(図9)。この場合の異形形状としては、図9に例示した円錐形状のほか、結果的に同様の突起の形成を助けるものであればよく、特に限定されない。例えば、図9に示すような円錐状の微粒子が突起層(C)に埋まっている場合、バインダー成分の回り込みにより、上述したような比較的曲率が大きい(曲面が緩やかな)凸曲面を有する突起が形成される。   As another aspect, the protrusion may be a protrusion formed by a peripheral binder component bulging reflecting the shape of the fine particles or irregular fine particles that are entirely embedded in the protrusion layer (C). (FIG. 9). The deformed shape in this case is not particularly limited as long as it has a conical shape illustrated in FIG. For example, when the conical fine particles as shown in FIG. 9 are embedded in the protrusion layer (C), the protrusion having a convex curved surface having a relatively large curvature (curved surface) as described above due to the wraparound of the binder component. Is formed.

別の態様として、前記突起は、突起層(C)の下層に設けられている突起が突起層(C)の表面に突出したものであってもよい(図10)。また、前記突起は、同様に突起層(C)の下層に設けられている突起であって、突起層(C)に全体が埋まっている突起の形状を反映して、周辺のバインダー成分が***することにより形成される突起であってもよい。   As another aspect, the protrusion may be a protrusion provided on the lower layer of the protrusion layer (C) protruding from the surface of the protrusion layer (C) (FIG. 10). Similarly, the protrusion is a protrusion provided in the lower layer of the protrusion layer (C), and the peripheral binder component is raised reflecting the shape of the protrusion that is entirely embedded in the protrusion layer (C). It may be a projection formed by doing so.

別の態様として、前記突起は、型の転写により突起層(C)の表面に付与されたものであってもよい(図11)。   As another embodiment, the protrusion may be provided on the surface of the protrusion layer (C) by mold transfer (FIG. 11).

別の態様として、前記突起は、突起層(C)を形成した後に、後加工(印刷及びインクジェット等)により突起層(C)の表面に付与されたものであってもよい(図12)。   As another aspect, the protrusion may be formed on the surface of the protrusion layer (C) by post-processing (printing, ink jet, or the like) after forming the protrusion layer (C) (FIG. 12).

前記微粒子としては、特に限定されないが、好ましくは透明有機高分子粒子、透明無機粒子及び有機無機ハイブリッド粒子等を使用できる。   The fine particles are not particularly limited, but preferably, transparent organic polymer particles, transparent inorganic particles, organic-inorganic hybrid particles, and the like can be used.

上記において、好ましくは、突起層(C)は、前記微粒子、及びバインダー成分を含有する。バインダー成分としては、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂;並びにシリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等が挙げられる。突起層(C)は、これらのうちいずれか単独をバインダー成分として含有していてもよいし、複数種をバインダー成分として含有していてもよい。   In the above, preferably, the protruding layer (C) contains the fine particles and a binder component. The binder component is not particularly limited, and examples thereof include acrylic resins, silicone resins, melamine resins, and alkyd resins; and colloidal particles such as silica, zirconia, titania, and alumina. The protrusion layer (C) may contain any one of them as a binder component, or may contain a plurality of types as a binder component.

上記において、前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が0.1以下であれば好ましい。屈折率差がこの範囲内にあれば、光を透過させた際に、フィルム全面に渡り均一な透過光が得られるため好ましい。屈折率差がこの範囲内となるように適宜材料を選択すればよい。   In the above, it is preferable that the refractive index difference between the fine particles and the binder component is 0.1 or less. If the refractive index difference is within this range, it is preferable because uniform transmitted light can be obtained over the entire surface of the film when light is transmitted. What is necessary is just to select a material suitably so that a refractive index difference may exist in this range.

突起層(C)は、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、前記微粒子に加えてその他の成分をさらに含有していてもよい。その他の成分としては、本発明の効果が奏される限り特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂;並びにシリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子、ケイ素系有機無機ハイブリッド高分子等が挙げられる。突起層(C)は、前記微粒子に加えて、これらのうちいずれか単独をさらに含有していてもよいし、複数種をさらに含有していてもよい。   The protruding layer (C) is not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited, but may further contain other components in addition to the fine particles. The other components are not particularly limited as long as the effects of the present invention are exhibited. For example, acrylic resins, silicone resins, melamine resins, and alkyd resins; and colloidal particles such as silica, zirconia, titania, and alumina. And silicon-based organic-inorganic hybrid polymers. In addition to the fine particles, the protruding layer (C) may further contain any one of these, or may further contain a plurality of types.

突起層(C)の厚さは、0.5〜5μmであり、好ましくは1〜4μm、より好ましくは1〜3μmである。突起層(C)の厚さが0.5μmよりも大きいと、粒子が脱落しにくくなるという利点が得られる。また、突起層(C)の厚さが5μmよりも小さいと、突起高さの均一性が高まるという利点が得られる。   The thickness of the protruding layer (C) is 0.5 to 5 μm, preferably 1 to 4 μm, and more preferably 1 to 3 μm. When the thickness of the protruding layer (C) is larger than 0.5 μm, there is an advantage that the particles are difficult to drop off. Further, when the thickness of the protruding layer (C) is smaller than 5 μm, there is an advantage that the uniformity of the protruding height is increased.

本発明において、突起層(C)の厚さは、次のようにして測定する。透過型電子顕微鏡観察により求める。具体的には、ミクロトーム又はフォーカスイオンビームなどを用いて光透過性導電性フィルムを薄く切断して、その断面を観察する。   In the present invention, the thickness of the protruding layer (C) is measured as follows. Obtained by observation with a transmission electron microscope. Specifically, a light-transmitting conductive film is cut into thin pieces using a microtome or a focus ion beam, and the cross section is observed.

突起層(C)は、他のさらなる機能を兼ね備える層とすることもできる。例えば、光学調整層としての機能を同時に突起層(C)に付与してもよい。この場合、突起層(C)が例えば、上方が低屈折領域、下方に高屈折率領域がそれぞれ配置されている、境界が明瞭でなくてもよい多層構造を有するものであってもよい。   The protruding layer (C) can also be a layer having other additional functions. For example, the function as an optical adjustment layer may be simultaneously imparted to the protruding layer (C). In this case, the protruding layer (C) may have, for example, a multilayer structure in which the upper portion has a low refractive region and the lower portion has a high refractive index region, and the boundary may not be clear.

突起層(C)を下地となる層の上に配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに原料を塗布したうえで、熱で硬化する方法、及び紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。   The method of disposing the protruding layer (C) on the underlying layer is not particularly limited. For example, a method in which a raw material is applied to a film and then cured by heat, and active energy such as ultraviolet rays and electron beams is used. Examples include a method of curing with a wire. From the viewpoint of productivity, a method of curing with ultraviolet rays is preferable.

より具体的には、突起層(C)が前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する場合は以下のようにして下地となる層の上に突起層(C)を配置することができる。
(1)前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記突起層(C)を形成する工程を含有する方法により配置することができる。前記工程(1)において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記突起層(C)を形成することがより好ましい。
More specifically, when the protruding layer (C) contains the binder component and the fine particles, the protruding layer (C) can be disposed on the underlying layer as follows.
(1) It can arrange | position by the method containing the process of forming the said protrusion layer (C) using the raw material containing the said binder component and the said microparticles | fine-particles. In the step (1), it is more preferable to form the protruding layer (C) by applying the raw material on a layer serving as a base.

あるいは、前記のような微粒子を使用せず、インプリント等の方法により所望の突起を突起層(C)の表面に設けることもできる。   Alternatively, the desired protrusions can be provided on the surface of the protrusion layer (C) by a method such as imprinting without using the fine particles as described above.

1.4 アンダーコート層(D)
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の光透過性導電層(B)が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してアンダーコート層(D)が配置されていてもよい。アンダーコート層(D)が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記アンダーコート層(D)を介して前記光透過性支持層(A)の前記面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、前記アンダーコート層(D)に隣接して配置されていてもよい。また、光透過性支持層(A)の面のうち、突起層(C)と同じ面に配置されている場合、アンダーコート層(D)は通常、その突起層(C)よりも光透過性導電層(B)に近い側に配置されている。
1.4 Undercoat layer (D)
The light-transmitting conductive film of the present invention has an undercoat layer on the surface of the light-transmitting support layer (A) on which the light-transmitting conductive layer (B) is disposed, either directly or via one or more other layers. (D) may be arranged. When the undercoat layer (D) is disposed, at least one of the light transmissive conductive layers (B) is disposed on the surface of the light transmissive support layer (A) via at least the undercoat layer (D). Is arranged. In this case, at least one of the light transmissive conductive layers (B) may be disposed adjacent to the undercoat layer (D). Moreover, when arrange | positioning in the same surface as the projection layer (C) among the surfaces of the light-transmissive support layer (A), the undercoat layer (D) is usually more light transmissive than the projection layer (C). It arrange | positions at the side close | similar to a conductive layer (B).

図13に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の、一方の面にアンダーコート層(D)及び光透過性導電層(B)がこの順で互いに隣接して、他方の面に突起層(C)が直接、それぞれ配置されている。   In FIG. 13, the one aspect | mode of the transparent electroconductive film of this invention is shown. In this embodiment, the light-transmitting support layer (A) has an undercoat layer (D) and a light-transmitting conductive layer (B) adjacent to each other in this order on one side and a projecting layer (C on the other side). ) Are directly arranged.

アンダーコート層(D)の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層(D)の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、並びにポリシラザン等が挙げられる。アンダーコート層(D)は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含有する光透過性下地層が好ましく、酸化ケイ素からなる光透過性下地層がより好ましい。   Although the material of an undercoat layer (D) is not specifically limited, For example, you may have a dielectric property. The material for the undercoat layer (D) is not particularly limited. For example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride, silicon carbide, silicon alkoxide, alkylsiloxane and its condensate, polysiloxane, silsesquioxane, and Examples include polysilazane. The undercoat layer (D) may be composed of any one of them, or may be composed of a plurality of types. A light-transmitting underlayer containing silicon oxide is preferable, and a light-transmitting underlayer made of silicon oxide is more preferable.

アンダーコート層(D)は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。   One layer of the undercoat layer (D) may be disposed. Alternatively, two or more layers may be arranged adjacent to each other or separated from each other via other layers.

アンダーコート層(D)の一層あたりの厚さは、15〜40nm等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層(D)の合計厚さが上記範囲内であればよい。左記の例示列挙においては後出のものが前出のものよりも好ましい。   As for the thickness per layer of an undercoat layer (D), 15-40 nm etc. are mentioned. When two or more layers are disposed adjacent to each other, the total thickness of all the undercoat layers (D) adjacent to each other may be within the above range. In the example list shown on the left, the following are more preferable than the above.

アンダーコート層(D)を配置する方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、及び微粒子分散液若しくはコロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。アンダーコート層(D)を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法又はパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。   The method of disposing the undercoat layer (D) may be either wet or dry, and is not particularly limited. Examples of the wet include a sol-gel method and a method of applying a fine particle dispersion or colloid solution. It is done. Examples of the method for disposing the undercoat layer (D) include a method of laminating on an adjacent layer by a sputtering method, an ion plating method, a vacuum deposition method, or a pulse laser deposition method.

1.5 その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)、光透過性導電層(B)及び突起層(C)に加えて、アンダーコート層(D)及び少なくとも1種のその他の層(E)からなる群より選択される少なくとも1種の層がさらに配置されていてもよい。
1.5 Other Layers In addition to the light transmissive support layer (A), the light transmissive conductive layer (B) and the protruding layer (C), the light transmissive conductive film of the present invention comprises an undercoat layer (D). And at least one layer selected from the group consisting of at least one other layer (E) may be further disposed.

その他の層(E)としては、特に限定されないが、例えば、接着層等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as another layer (E), For example, an adhesive layer etc. are mentioned.

接着層とは、二層の間に当該二層と互いに隣接して配置され、当該二層間を互いに接着するために配置される層である。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。特に限定されないが、例えば、カップリング剤を用いることができる。必要に応じて接着される片方の面又は両方の面に対してより接着性を高める目的でコロナ処理を行ってもよい。   The adhesive layer is a layer that is disposed between two layers so as to be adjacent to each other and to adhere the two layers to each other. Although it does not specifically limit as a contact bonding layer, For example, what is normally used as a contact bonding layer in the transparent conductive film for touchscreens can be used. Although not particularly limited, for example, a coupling agent can be used. Corona treatment may be performed for the purpose of further improving the adhesion to one surface or both surfaces to be bonded as required.

1.6 本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルのために好ましく用いられる。本発明の光透過性導電性フィルムは、特に、静電容量型タッチパネルのためにより好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率(シート抵抗)が160〜1,000Ω/sq程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、2で説明する通りである。
1.6 Use of light-transmitting conductive film of the present invention The light-transmitting conductive film of the present invention is preferably used for touch panels. The light-transmitting conductive film of the present invention is particularly preferably used for a capacitive touch panel. A light-transmitting conductive film used for manufacturing a resistive touch panel generally requires a surface resistivity (sheet resistance) of about 160 to 1,000 Ω / sq. On the other hand, a light-transmitting conductive film used for manufacturing a capacitive touch panel generally has a lower surface resistivity. The light-transmitting conductive film of the present invention has a reduced resistivity, and is thus preferably used for the production of a capacitive touch panel. The details of the capacitive touch panel are as described in 2.

2. 本発明の静電容量型タッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
2. Capacitive touch panel of the electrostatic capacitance type touch panel <br/> invention of the present invention comprises a light transmissive, electrically-conductive film of the present invention, comprise other members according to necessity.

本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層(1)側が操作画面側を、ガラス(5)側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
(1)保護層
(2)本発明の光透過性導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)本発明の光透過性導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記(1)〜(5)、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
Specific examples of the configuration of the capacitive touch panel according to the present invention include the following configurations. The protective layer (1) side is used so that the operation screen side faces, and the glass (5) side faces the side opposite to the operation screen.
(1) Protective layer (2) Light transmissive conductive film of the present invention (Y-axis direction)
(3) Insulating layer (4) Light transmissive conductive film of the present invention (X-axis direction)
(5) Glass Although the capacitive touch panel of the present invention is not particularly limited, for example, it can be produced by combining the above (1) to (5) and other members as required according to a usual method. it can.

3. 本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、それぞれの層について説明した通りそれぞれの層を配置することにより製造することができる。例えば、光透過性支持層(A)の面に、下層側から順次配置させてもよいが、配置の順番は特に限定されない。例えば、最初に光透過性支持層(A)ではない層(例えば、光透過性導電層(B))の一方の面に他の層を配置させてもよい。あるいは、一方で2種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより1種の複合層を得てから、又はそれと同時に、他方で同様に2種以上の層を互いに隣接するように配置させることにより1種の複合層を得て、これらの2種の複合層をさらに互いに隣接するように配置させてもよい。
3. Production method of light transmissive conductive film of the present invention The light transmissive conductive film of the present invention can be produced by disposing each layer as described for each layer. For example, the layers may be sequentially arranged from the lower layer side on the surface of the light transmissive support layer (A), but the arrangement order is not particularly limited. For example, you may arrange | position another layer to one side of the layer (for example, light transmissive conductive layer (B)) which is not a light transmissive support layer (A) first. Alternatively, one composite layer is obtained by arranging two or more layers adjacent to each other on the one hand, or at the same time, two or more layers are similarly disposed adjacent to each other on the other side. Thus, one type of composite layer may be obtained, and these two types of composite layers may be further arranged adjacent to each other.

以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to these examples.

(実施例1)
光透過性支持層として、厚さ25μmのPETを用いた。PET表面上に下記に示した塗工液を均一に塗布し樹脂液を乾燥させることにより突起層を形成させた。得られた突起層の厚さは1.5μmであった。突起層の表面に表れた凸曲面の凹凸形状を三次元表面粗さ計を用いて測定し、凸曲面が突起層となす角度θ、単位面積あたりの突起の数、突起層の光透過性支持層とは反対側の面を基準面とする最大高さの平均値を求めた。得られた結果を表1に示した。なお、塗工液の調製は次の通り行った。
Example 1
As the light transmissive support layer, PET having a thickness of 25 μm was used. A projection layer was formed by uniformly applying the coating liquid shown below on the PET surface and drying the resin liquid. The thickness of the obtained protrusion layer was 1.5 μm. Convex and convex shape of the convex surface appearing on the surface of the projection layer is measured using a three-dimensional surface roughness meter, the angle θ that the convex surface forms with the projection layer, the number of projections per unit area, and the light transmission support of the projection layer The average value of the maximum height with the surface opposite to the layer as the reference surface was determined. The obtained results are shown in Table 1. The coating solution was prepared as follows.

(塗工液の調製)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬社製) 75重量部
エポキシアクリレート(日本化薬社製) 20重量部
マクロモノマーAA−6(東亞合成社製) 11重量部
光重合開始剤イルガキュアー184(チバガイギー社製) 7重量部
楕円体のスチレン系樹脂微粒子 1重量部
(体積平均粒子径3μm、アスペクト比2、長軸の長さ4μm、短軸の長さ2μm)
上記成分をブチルセロソルブ35重量部、メチルエチルケトンを94.5重量部の混合溶媒を用いて希釈し、よく攪拌して固形分40%の塗工液を得た。
(Preparation of coating solution)
Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 75 parts by weight Epoxy acrylate (Nippon Kayaku Co., Ltd.) 20 parts by weight Macromonomer AA-6 (Toagosei Co., Ltd.) 11 parts by weight Photopolymerization initiator Irgacure 184 (Ciba Geigy) 7 parts by weight Ellipsoidal styrene resin fine particles 1 part by weight (volume average particle diameter 3 μm, aspect ratio 2, major axis length 4 μm, minor axis length 2 μm)
The above components were diluted with a mixed solvent of 35 parts by weight of butyl cellosolve and 94.5 parts by weight of methyl ethyl ketone, and stirred well to obtain a coating solution having a solid content of 40%.

突起層が形成された光透過性支持層とは反対の面に光学干渉層として厚さ20nmのSiOからなる層(nC=1.460)を形成し、さらにその上に光透過性導電層として酸化インジウムスズからなる層(nD=1.938)を厚さ25nmとなるように成膜した。次いで、150℃で1時間熱処理した。得られた光透過性透明導電フィルムに対して、下記方法に従って「骨見え現象の評価」、「ヘーズ値」、「電気抵抗値」を評価した。 A layer (n C = 1.460) made of SiO 2 having a thickness of 20 nm is formed as an optical interference layer on the surface opposite to the light transmissive support layer on which the protruding layer is formed, and further a light transmissive conductive layer is formed thereon. As a layer, a layer made of indium tin oxide (n D = 1.938) was formed to a thickness of 25 nm. Subsequently, it heat-processed at 150 degreeC for 1 hour. The obtained transparent transparent conductive film was evaluated for “evaluation of bone appearance phenomenon”, “haze value”, and “electric resistance value” according to the following methods.

(実施例2〜17及び比較例1〜4)
塗工液に含まれる楕円体の微粒子の形状や配合量、乾燥硬化後厚み、角度θ、粒子個数、粒子寸法、突起高さを変えたこと以外は実施例1と同様にして光透過性導電フィルムを得た。実施例1と同様に評価した結果を表1、表2および表3に示した。「配合量」は、実施例1に記載の組成比における粒子の配合重量部を示す。
なお、楕円体形状の粒子は実施例1と同様の楕円体のスチレン系樹脂微粒子を用い、球形状の粒子は球状のスチレン系樹脂微粒子(体積平均粒子径3μm、アスペクト比1)やこれと同様の楕円体のスチレン系樹脂微粒子を用いた。
なお、微粒子の体積平均粒子径は、コールターカウンター式粒度計を用い、電気抵抗試験方法により測定することができる。
(Examples 2 to 17 and Comparative Examples 1 to 4)
The light-transmitting conductive material is the same as in Example 1, except that the shape and blending amount of the ellipsoidal fine particles contained in the coating liquid, the thickness after drying and curing, the angle θ, the number of particles, the particle size, and the protrusion height are changed. A film was obtained. The results evaluated in the same manner as in Example 1 are shown in Table 1, Table 2, and Table 3. “Blending amount” indicates the weight part of particles in the composition ratio described in Example 1.
The ellipsoidal particles used are the same ellipsoidal styrene resin fine particles as in Example 1, and the spherical particles are the same as the spherical styrene resin fine particles (volume average particle diameter 3 μm, aspect ratio 1). Ellipsoidal styrene resin fine particles were used.
The volume average particle diameter of the fine particles can be measured by an electrical resistance test method using a Coulter counter particle size meter.

(骨見え現象の評価)
作製した透明導電性積層体を8.2cm角に切り出し、透明導電層に5mm幅のポリイミドテープを5mmの間隔ができるように平行に8本貼り付けた。次いで、このポリイミドテープを貼り付けた積層体をITOエッチング液(関東化学社製、商品名「ITO−06N」)に1分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のITOを除去し、リンス及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、5mm間隔で5mm幅のITO膜がパターニングされた積層体を得た。このフィルムを目視観察し、ITOのパターンが「見えない(◎)」、「ほぼ見えない(○)」、及び「少し見える(×)」のいずれかに該当するかを評価した。
(Evaluation of bone appearance phenomenon)
The produced transparent conductive laminate was cut into 8.2 cm square, and 8 pieces of 5 mm-wide polyimide tape were attached to the transparent conductive layer in parallel so as to have a spacing of 5 mm. Next, the laminate with the polyimide tape attached is immersed in an ITO etching solution (trade name “ITO-06N”, manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd.) for 1 minute to remove the ITO where the polyimide tape is not attached, and rinse. And the polyimide tape was peeled after drying, and the laminated body by which the 5-mm-wide ITO film | membrane was patterned by the 5-mm space | interval was obtained. This film was visually observed to evaluate whether the ITO pattern corresponds to one of “not visible (な い)”, “substantially invisible (◯)”, and “slightly visible (×)”.

(全光線透過率及びヘーズ値)
日本電色社製ヘーズメーター(MDH2000)を用いてJIS K7361−1に準じて測定した。
(Total light transmittance and haze value)
It measured according to JISK7361-1 using the Nippon Denshoku company haze meter (MDH2000).

(電気抵抗値)
表面抵抗は、表面抵抗計(MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH社製、商品名:Loresta−EP)を用いて、4端子法により測定した。
評価結果を表1及び表2に示した。表1及び表2における「(配合量)*」は、実施例1における粒子の配合量を1重量部としたときの粒子の配合重量部を示している。
(Electric resistance value)
The surface resistance was measured by a four-terminal method using a surface resistance meter (manufactured by MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH, trade name: Loresta-EP).
The evaluation results are shown in Tables 1 and 2. “(Blending amount) *” in Tables 1 and 2 indicates the part by weight of the particles when the amount of the particles in Example 1 is 1 part by weight.

1 光透過性導電性フィルム
11 光透過性支持層(A)
12 光透過性導電層(B)
121 微粒子
122 バインダー
13 突起層(C)
14 アンダーコート層(D)
15 突起層(C)の下層(光透過性支持層(A)であってもよい)
151 下層の突起
2 型
3 後処理により設けられた突起
1 Light-transmissive conductive film 11 Light-transmissive support layer (A)
12 Light transmissive conductive layer (B)
121 Fine particles 122 Binder 13 Protrusion layer (C)
14 Undercoat layer (D)
15 Lower layer of the projecting layer (C) (may be a light transmissive support layer (A))
151 Lower layer projection 2 Mold 3 Projection provided by post-processing

Claims (10)

(A)光透過性支持層;
(B)光透過性導電層;及び
(C)突起層
を含有し、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、かつ
前記突起層(C)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、かつ前記光透過性支持層(A)を挟んで少なくとも一つの前記光透過性導電層(B)と向き合うように、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記突起層(C)の前記光透過性支持層(A)とは反対側の面が、凸曲面を有する複数の突起を有し、かつ
前記凸曲面が前記突起層(C)の前記面となす角度θが5〜40°であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
(A) a light transmissive support layer;
(B) a light transmissive conductive layer; and (C) a protruding layer,
The light transmissive conductive layer (B) is disposed on at least one surface of the light transmissive support layer (A) directly or via one or more other layers, and the protruding layer (C) Directly or at least on one surface of the light transmissive support layer (A) and so as to face at least one light transmissive conductive layer (B) with the light transmissive support layer (A) interposed therebetween. Arranged through one or more other layers,
The surface of the protrusion layer (C) opposite to the light transmissive support layer (A) has a plurality of protrusions having a convex curved surface, and the convex curved surface is in contact with the surface of the protrusion layer (C). An angle θ formed is 5 to 40 °, a light-transmitting conductive film.
前記突起層(C)の前記表面が前記突起を、1mmあたり100個〜10,000個有する、請求項1に記載の光透過性導電性フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 1, wherein the surface of the protrusion layer (C) has 100 to 10,000 protrusions per 1 mm 2 . 前記突起層(C)が、アスペクト比が0.8〜1の球状微粒子及びバインダー成分を含有し、かつ
前記突起が、前記微粒子により形成されるものである、
請求項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
The protrusion layer (C) contains spherical fine particles having an aspect ratio of 0.8 to 1 and a binder component, and the protrusions are formed by the fine particles.
The light-transmitting conductive film according to claim 1.
前記微粒子及び前記バインダー成分の屈折率差が0.1以下である、請求項3に記載の光透過性導電性フィルム。 The light-transmitting conductive film according to claim 3, wherein a difference in refractive index between the fine particles and the binder component is 0.1 or less. ヘーズが0.5〜2%である、項1〜4のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。 Item 5. The light transmissive conductive film according to any one of Items 1 to 4, wherein the haze is 0.5 to 2%. 前記光透過性支持層(A)の厚さが50μm以下である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。 The light transmissive conductive film according to claim 1, wherein the light transmissive support layer (A) has a thickness of 50 μm or less. 前記光透過性支持層(A)を挟んで前記突起層(C)と向き合って配置されている前記光透過性導電層(B)の一部がパターン化されている、請求項1〜6のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。 The part of the said light transmissive conductive layer (B) arrange | positioned facing the said protrusion layer (C) on both sides of the said light transmissive support layer (A) is patterned. The light-transmitting conductive film according to any one of the above. 請求項1〜7のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを含有するタッチパネル。 A touch panel containing the light transmissive conductive film according to claim 1. 請求項3〜7のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを製造する方法であって、
(1)前記バインダー成分及び前記微粒子を含有する原料を用いて前記突起層(C)を形成する工程を含有する方法。
A method for producing the light transmissive conductive film according to any one of claims 3 to 7,
(1) A method comprising a step of forming the protruding layer (C) using a raw material containing the binder component and the fine particles.
前記工程(1)において、下地となる層の上に前記原料を塗布することにより前記突起層(C)を形成する、請求項9に記載の方法。 The method according to claim 9, wherein, in the step (1), the protruding layer (C) is formed by applying the raw material on a base layer.
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