JP2016143420A - タッチ装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】タッチ装置100は、タッチセンシング構造110、カバーレンズ120、第1遮蔽層140、第2遮蔽層142、指紋識別構造130を備える。カバーレンズは対向する第1主表面121と第2主表面122を有する。第1主表面はタッチ面である。カバーレンズは凹溝123を有し、凹溝が第2主表面に設けられ且つ頂面と頂面に隣接する側面とを有する。第1遮蔽層は凹溝の頂面を被覆する。第2遮蔽層は凹溝の側面を被覆し、第1遮蔽層の色が第2遮蔽層の色と異なる。指紋識別構造は少なくとも部分的に凹溝内の頂面124に設けられる。タッチセンシング構造は第2主表面に配置される。カバーレンズに指紋識別構造を収容する凹溝が設けられても、タッチ装置の使用者が求める視覚的な外観効果を保持することができる。
【選択図】図4
Description
従来技術において、一般的には、タッチ装置は、使用者がタッチする操作表面を提供し下方の機能ユニットを保護するためのカバーレンズ(Cover Lens)を備え、指紋識別構造がカバーレンズの下に設けられ、さらにカバーレンズの下表面の凹溝に設けられてもよい。
第1遮蔽層と凹溝の頂面との間に第1光学修復層を設け、第2遮蔽層と凹溝の側面との間に第2光学修復層を設けることによって、表面処理プロセスのため凹溝に生じる工具傷、微小な割れを修復し、曇りを軽減し、工具傷を修飾することができ、それにより凹溝の表面を透明且つ平坦にし、光学性能を回復させ、外観を改善する。
110:タッチセンシング構造
111:基板層
112:タッチセンシング層
113:上層タッチセンシング層
114:下層タッチセンシング層
115:上層基板層
116:上層基板層
120:カバーレンズ
121:第1主表面
121T:タッチ表示領域
121F:枠領域
121R:指紋識別領域
121E:指紋マーク領域
122:第2主表面
123:凹溝
124:頂面
125、126:側面
130:指紋識別構造
140:第1遮蔽層
142:第2遮蔽層
150:第1固定層
170:第2固定層
160:バッファ層
190:表示モジュール
180:第1光学修復層
182:第2光学修復層
D:最小距離
T:最大厚み
θ:夾角
Claims (22)
- 対向する第1主表面と第2主表面を有し、前記第1主表面がタッチ面であるカバーレンズと、
前記第2主表面に設けられ、頂面と前記頂面に隣接する側面とを有する凹溝と、
前記凹溝の頂面を被覆する第1遮蔽層と、
前記凹溝の側面を被覆し、前記第1遮蔽層の色と異なる第2遮蔽層と、
少なくとも部分的に前記凹溝内の頂面に設けられる指紋識別構造と、
前記第2主表面に設けられるタッチセンシング構造と、
を備えることを特徴とするタッチ装置。 - 前記第1遮蔽層の第1主表面における正投影により指紋識別領域が形成され、前記第2遮蔽層の第1主表面における正投影により指紋マーク領域が形成され、前記指紋マーク領域が前記指紋識別領域を取り囲むことを特徴とする請求項1に記載のタッチ装置。
- 前記第1遮蔽層が前記第2主表面の周辺領域を被覆して枠領域を形成し、前記指紋識別領域と前記指紋マーク領域がいずれも前記枠領域内に位置することを特徴とする請求項2に記載のタッチ装置。
- 前記第2遮蔽層がパッド印刷又はインクジェット印刷の方式で前記凹溝の側面に形成されることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記第1遮蔽層と前記第2遮蔽層の色がそれぞれ黒、白、赤、金色又は青のうちいずれか異なる色であることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記凹溝の頂面と側面との間の夾角が90度より大きい、又は95度〜175度、又は110度〜165度であることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記指紋識別構造における前記凹溝の頂面に近接する表面が当該指紋識別構造の頂面であり、前記指紋識別構造の頂面と前記カバーレンズの第1主表面との間の最小距離が50μm〜450μm又は80μm〜400μmであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記指紋識別構造と前記第1遮蔽層との間に設けられる第1固定層をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記指紋識別構造と前記第2遮蔽層との間に設けられる第2固定層をさらに備えることを特徴とする請求項8に記載のタッチ装置。
- 前記第2固定層が前記第1固定層とともに前記凹溝を満たすことを特徴とする請求項9に記載のタッチ装置。
- 前記第2固定層が前記指紋識別構造を被覆することを特徴とする請求項9又は10に記載のタッチ装置。
- 前記指紋識別構造が前記第1遮蔽層に直接接触することを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記指紋識別構造と前記第2遮蔽層との間に設けられる第2固定層をさらに備えることを特徴とする請求項12に記載のタッチ装置。
- 前記指紋識別構造がセンシング電極構造であり、前記センシング電極構造が前記凹溝及び前記第2主表面の一部に設けられることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記指紋識別構造が集積回路チップであることを特徴とする請求項1乃至13のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記タッチセンシング構造が前記カバーレンズに製造されたタッチセンシング電極構造である、又は基板層と前記基板層の一側に設けられるタッチセンシング層とを備えることを特徴とする請求項1乃至15のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記カバーレンズが前記第1主表面と前記第2主表面を接続する側面をさらに有し、
前記第1主表面と前記第2主表面を接続する側面に設けられるバッファ層をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至16のいずれか1項に記載のタッチ装置。 - 前記凹溝の頂面と前記第1遮蔽層との間に設けられる第1光学修復層をさらに備えることを特徴とする請求項1乃至17のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記凹溝の側面と前記第2遮蔽層との間に設けられる第2光学修復層をさらに備えることを特徴とする請求項18に記載のタッチ装置。
- 前記第1光学修復層の厚みが1μm〜100μmであることを特徴とする請求項18又は19に記載のタッチ装置。
- 前記第1光学修復層の材料が透明有機接着剤、透明又は半透明インクから選ばれることを特徴とする請求項18乃至20のいずれか1項に記載のタッチ装置。
- 前記第2光学修復層の厚みと材料が前記第1光学修復層と同じであることを特徴とする請求項19に記載のタッチ装置。
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