JP2016137467A - Gas manufacturing equipment and gas manufacturing processing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve recovery efficiency of product gas with respect to raw material gas.SOLUTION: A first adsorption part (4, adsorption tanks 4A, 4B) and a second adsorption part (6, adsorption tanks 6A, 6B) each of which connect at least two adsorption tanks packed with adsorbent in series and allows raw material gas to flow therethrough and performs adsorption processing are provided. The second adsorption part performs adsorption processing in a timing different from adsorption processing of the first adsorption part. The first communication part (a pressure equalizing channel 20), when transferring the first adsorption part from an adsorption process to a pressure equalizing process, communicates the output side of the adsorption tank (the adsorption tank 4A) connected to the upstream side of the first adsorption part with the input side of the adsorption tank (the adsorption tank 6A) connected to the upstream side of the second adsorption part and causes product gas to flow. The second communication part (a pressure equalizing channel 22), when transferring the second adsorption part from the adsorption process to the pressure equalizing process, communicates the output side of the adsorption tank (the adsorption tank 6A) connected to the upstream side of the second adsorption part with the input side of the adsorption tank (the adsorption tank 4A) and causes product gas to flow.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、吸着処理によって特定の成分を分離させ、目的とする成分のガスを取り出すガス処理技術に関する。
The present invention relates to a gas processing technique in which a specific component is separated by adsorption processing and a gas having a target component is extracted.

原料ガスから特定成分のガスを分離する技術として、特定の圧力状態で吸着剤に原料ガスを流して、分離したいガスを吸着させるPSA(Pressure Swing Adsorption:圧力変動吸着)方式を利用したものが知られている。PSA方式のガス分離処理では、圧縮空気を吸着剤に通して分離させる吸着工程、吸着剤によって分離したガス成分を放出して次の吸着工程に備える再生工程を繰り返し行う。またガス分離処理では、たとえば対となる複数の吸着槽を備え、この吸着槽間で交互に吸着工程、再生工程を行うことで、ガス製造効率を高めている。このように複数の吸着槽を用いる場合、吸着工程と再生工程との間に、吸着槽同士を連通させて槽内の均圧化を図る均圧工程を行うことが知られている。   A technology that uses a PSA (Pressure Swing Adsorption) method that adsorbs the gas to be separated by flowing the raw material gas through the adsorbent at a specific pressure is known as a technology for separating the gas of a specific component from the raw material gas. It has been. In the PSA type gas separation process, an adsorption process for separating compressed air through an adsorbent and a regeneration process for releasing the gas component separated by the adsorbent and preparing for the next adsorption process are repeated. In the gas separation process, for example, a plurality of paired adsorption tanks are provided, and the gas production efficiency is increased by alternately performing an adsorption process and a regeneration process between the adsorption tanks. When a plurality of adsorption tanks are used in this way, it is known to perform a pressure equalization process in which the adsorption tanks communicate with each other to equalize the pressure in the tank between the adsorption process and the regeneration process.

均圧工程では、高純度のガスを取り出すための吸着処理を終えて内部が高圧状態の吸着槽から、再生処理が完了した低圧状態の吸着槽に対してガスを流すことで、高純度のガスを製造するための工夫がされてきた。   In the pressure equalization process, high-purity gas is obtained by flowing gas from the high-pressure adsorption tank to the low-pressure adsorption tank after completion of the adsorption process for extracting high-purity gas. Have been devised to produce.

このような均圧処理を実現するため、たとえば一方の吸着タンクの略中央部分に対して連結管路が接続され、一方の吸着タンク内にある吸着経路の途中部分から圧力の高い製品ガスを取出し、この製品ガスを他方の吸着タンクに取り込ませるものがある(たとえば、特許文献1)。また、1対の吸着槽において、再生工程を終えた吸着槽の出口側と吸着工程を終えた吸着槽の出口側を接続して均圧させた後、再生工程を終えた吸着槽の入側に切り換えて直列均圧を行うものが記載されている(たとえば、特許文献2)。   In order to realize such pressure equalization processing, for example, a connecting pipe line is connected to a substantially central portion of one of the adsorption tanks, and a high-pressure product gas is taken out from an intermediate portion of the adsorption path in one of the adsorption tanks. In some cases, the product gas is taken into the other adsorption tank (for example, Patent Document 1). Also, in the pair of adsorption tanks, the outlet side of the adsorption tank that has finished the regeneration process and the outlet side of the adsorption tank that has finished the adsorption process are connected to equalize and then the inlet side of the adsorption tank that has finished the regeneration process (See, for example, Patent Document 2).

特開平10−192636号公報JP-A-10-192636 特開平5−192527号公報JP-A-5-192527

ところで、ガス製造装置では、原料ガスに対し製品ガスの回収効率を上げるために、均圧処理を迅速化するほか、吸着処理が終了した吸着槽に残留するガスから効率的に目的とする製品ガスを回収することが重要である。すなわち残留したガス内には、回収目的のガス成分が含まれており、この残留ガス内のガス成分を回収することがガス製造装置によるガスの供給量に関わってくる。吸着工程が完了した吸着槽に残留するガスから効率良く製品ガスを回収するためには、再生工程が完了した吸着槽に対する均圧工程が重要となる。   By the way, in the gas production device, in order to increase the recovery efficiency of the product gas with respect to the raw material gas, in addition to speeding up the pressure equalization process, the target product gas can be efficiently used from the gas remaining in the adsorption tank after the adsorption process. It is important to recover. That is, the residual gas contains a gas component for recovery purposes, and the recovery of the gas component in the residual gas is related to the amount of gas supplied by the gas manufacturing apparatus. In order to efficiently recover the product gas from the gas remaining in the adsorption tank after the adsorption process is completed, a pressure equalization process for the adsorption tank after the regeneration process is important.

さらに吸着工程では、原料空気を流入させる吸着槽の入側に対し、吸着剤を通過することで特定の成分のガスから分離されることで製品ガスの純度が高くなり、この純度が吸着槽の出側にいくに従って製品ガスの純度が高くなる。すなわち吸着槽内部には純度の異なる製品ガスが存在する。従来の均圧工程では、たとえば吸着槽の出側同士と入側同士を連通させることで、残留ガスを再生工程が終了した吸着槽側に流し込むものがある。しかし、入側同士を連通させた場合、純度の低いガスから相手側の吸着槽に流入させることになる。このとき製品ガスとして回収したい高レベルまたは中レベルまでの純度の製品ガスが、たとえば吸着槽内部で原料ガスに近い状態の低レベルの製品ガスに拡散してしまい、ガスの回収率を低下させるおそれがある。さらに、残留ガス内の高純度の製品ガスを吸着槽の入側に入れると、次の吸着工程において、再び吸着処理を行わせることになり、時間的な無駄が生じることになる。   Furthermore, in the adsorption process, the purity of the product gas is increased by separation from the gas of a specific component by passing the adsorbent against the inlet side of the adsorption tank into which the raw material air flows, and this purity is increased in the adsorption tank. The purity of the product gas increases as it goes to the outlet side. That is, product gases having different purities exist inside the adsorption tank. In a conventional pressure equalization process, for example, there is a process in which residual gas is allowed to flow into the adsorption tank side where the regeneration process is completed by communicating the outlet sides and the inlet sides of the adsorption tank. However, when the inlet sides are communicated with each other, a gas with low purity is caused to flow into the opposite adsorption tank. At this time, the product gas having a high level or medium level purity that is desired to be recovered as a product gas may diffuse into a low level product gas in a state close to the raw material gas, for example, inside the adsorption tank, thereby reducing the gas recovery rate. There is. Furthermore, if a high-purity product gas in the residual gas is introduced into the inlet side of the adsorption tank, the adsorption process is performed again in the next adsorption step, resulting in a waste of time.

また、吸着槽内部では、吸着工程が完了した場合でも内部のガスの流れが安定せず、偏流状態となっている場合がある。これにより吸着槽の途中部分では、圧力状態や残留ガス内に含まれる製品ガス成分の純度が一定にならない場合がある。従って吸着槽の中間部分から残留ガスを回収して他の吸着槽に流入させても、想定した状態での均圧処理や純度の高い製品ガスを優先的に回収することはできず、製品ガスの製造処理の安定化が図れない。   Further, inside the adsorption tank, even when the adsorption process is completed, the internal gas flow may not be stable and may be in a drift state. Thereby, in the middle part of the adsorption tank, the purity of the product gas component contained in the pressure state or the residual gas may not be constant. Therefore, even if residual gas is recovered from the middle part of the adsorption tank and flowed into other adsorption tanks, pressure equalization treatment in the assumed state and product gas with high purity cannot be preferentially recovered, and product gas The manufacturing process cannot be stabilized.

斯かる課題について特許文献1、2には開示も示唆も無く、特許文献1、2に開示された構成では解決することができない。   Such a problem is neither disclosed nor suggested in Patent Documents 1 and 2, and cannot be solved by the configuration disclosed in Patent Documents 1 and 2.

そこで、本発明の目的は、原料ガスに対する製品ガスの回収効率の向上を図ることにある。
Accordingly, an object of the present invention is to improve the recovery efficiency of the product gas with respect to the raw material gas.

上記目的を達成するため、本発明の一側面は、第1の吸着部と、第2の吸着部と、第1の連通部と、第2の連通部とを備える。第1の吸着部は、吸着剤が充填された少なくとも二つの吸着槽を直列に連結し、これらの吸着槽に原料ガスを流して吸着処理を行う。第2の吸着部は、吸着剤が充填された少なくとも二つの吸着槽を直列に連結し、これらの吸着槽に原料ガスを流し、前記第1の吸着部の吸着処理と異なるタイミングで吸着処理を行う。第1の連通部は、前記第1の吸着部の上流側に連結された前記吸着槽の出側を前記第2の吸着部の上流側に連結された前記吸着槽の入側に連通させる。第2の連通部は、前記第2の吸着部の上流側に連結された前記吸着槽の出側を前記第1の吸着部の上流側に連結された前記吸着槽の入側に連通させる。そして、前記第1の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第1の連通部を開通させて、前記第1の吸着部の上流側の前記吸着槽から前記第2の吸着部の上流側の前記吸着槽に前記第1の吸着部内のガスを流し、前記第2の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第2の連通部を開通させて、前記第2の吸着部の上流側の前記吸着槽から前記第1の吸着部の上流側の前記吸着槽に前記第2の吸着部内のガスを流す。   In order to achieve the above object, one aspect of the present invention includes a first suction portion, a second suction portion, a first communication portion, and a second communication portion. The first adsorption unit connects at least two adsorption tanks filled with an adsorbent in series, and performs an adsorption process by flowing a raw material gas into these adsorption tanks. The second adsorption unit connects at least two adsorption tanks filled with an adsorbent in series, flows a raw material gas into these adsorption tanks, and performs an adsorption process at a timing different from the adsorption process of the first adsorption unit. Do. The first communication part communicates the outlet side of the adsorption tank connected to the upstream side of the first adsorption part to the inlet side of the adsorption tank connected to the upstream side of the second adsorption part. The second communication unit allows the outlet side of the adsorption tank connected to the upstream side of the second adsorption unit to communicate with the inlet side of the adsorption tank connected to the upstream side of the first adsorption unit. Then, when the first adsorbing portion is shifted from the adsorbing step to the pressure equalizing step, the first communicating portion is opened, and the second adsorbing tank is opened from the adsorbing tank upstream of the first adsorbing portion. When the gas in the first adsorbing section is caused to flow in the adsorbing tank upstream of the adsorbing section and the second adsorbing section is shifted from the adsorption process to the pressure equalizing process, the second communication section is opened. The gas in the second adsorption unit is caused to flow from the adsorption vessel upstream of the second adsorption unit to the adsorption vessel upstream of the first adsorption unit.

上記ガス製造装置において、好ましくは、第1の開閉弁と、第2の開閉弁と、制御部とを備える。第1の開閉弁は、前記第1の連通部に設置され、開閉により前記第1の連通部内の前記ガスの流れを開放し、または遮断する。第2の開閉弁は、前記第2の連通部に設置され、開閉により前記第2の連通部内の前記ガスの流れを開放し、または遮断する。制御部は、前記第1の吸着部と前記第2の吸着部とに対し、ガスの吸着工程または前記吸着剤の再生工程を異なるタイミングで実行させ、その吸着工程と再生工程との移行時に、前記第1の開閉弁と前記第2の開閉弁とを開閉させて前記均圧処理を実行さる。   The gas production apparatus preferably includes a first on-off valve, a second on-off valve, and a control unit. The first on-off valve is installed in the first communication portion, and opens or shuts off the gas flow in the first communication portion by opening and closing. The second on-off valve is installed in the second communication part, and opens or shuts off the gas flow in the second communication part by opening and closing. The control unit causes the first adsorption unit and the second adsorption unit to execute a gas adsorption process or the adsorbent regeneration process at different timings, and at the time of transition between the adsorption process and the regeneration process, The pressure equalization process is executed by opening and closing the first on-off valve and the second on-off valve.

上記ガス製造装置において、好ましくは、前記第1の吸着部の下流側に連結された前記吸着槽の出側と前記第2の吸着部の下流側に連結された前記吸着槽の出側とを連通する第3の連通部を備え、前記第1の吸着部または前記第2の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第3の連通部を開通させ、前記第3の連通部を通じて前記ガスを流入させる。   In the gas manufacturing apparatus, preferably, an outlet side of the adsorption tank connected to a downstream side of the first adsorption part and an outlet side of the adsorption tank connected to a downstream side of the second adsorption part. A third communicating portion that communicates, and when the first adsorbing portion or the second adsorbing portion is shifted from the adsorption step to the pressure equalizing step, the third communicating portion is opened, and the third adsorbing portion is opened. The gas is allowed to flow through the communication part.

上記ガス製造装置において、好ましくは、さらに、前記吸着工程、前記再生工程および前記均圧工程の処理時間を計時するタイマを備え、前記制御部は、前記タイマによる計時結果に基づき、設定された処理時間に応じて、前記吸着処理または再生処理を実行させ、前記再生工程から前記均圧工程に移行する際、前記処理時間の経過前に、前記再生処理中の前記吸着槽の排気を停止させる。   Preferably, the gas manufacturing apparatus further includes a timer for measuring processing times of the adsorption step, the regeneration step, and the pressure equalization step, and the control unit sets a processing that is set based on a time measurement result by the timer. Depending on the time, the adsorption process or the regeneration process is executed, and when shifting from the regeneration process to the pressure equalization process, the exhaust of the adsorption tank during the regeneration process is stopped before the processing time elapses.

上記ガス製造装置において、好ましくは、複数の前記吸着槽を所定の間隔で配置させて支持する支持筐体を備え、該支持筐体は、前記吸着槽の一端を載置させ、少なくとも上流側の前記吸着槽が配置される位置に、前記吸着槽内に前記原料ガスを導くガス導入部を収納した載置部を備える。   Preferably, the gas manufacturing apparatus includes a support housing that supports a plurality of the adsorption tanks arranged at predetermined intervals, and the support housing places one end of the adsorption tank at least on the upstream side. A mounting unit that houses a gas introduction unit that guides the source gas into the adsorption tank is provided at a position where the adsorption tank is disposed.

上記目的を達成するため、本発明の一側面は、少なくとも二つの吸着槽を直列に連結した第1の吸着部と、少なくとも二つの吸着槽を直列に連結した第2の吸着部にそれぞれ原料ガスを流し、異なるタイミングで吸着処理を行い、前記第1の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第1の吸着部の上流側の前記吸着槽の出側から前記第2の吸着部の上流側の前記吸着槽の入側に連通した第1の連通部を開通させて、前記第1の吸着部内のガスを流入させ、前記第2の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第2の吸着部の上流側の前記吸着槽の出側から前記第1の吸着部の上流側の前記吸着槽の入側に連通した第2の連通部を開通させて、前記第2の吸着部内のガスを流入させる工程を含む。   In order to achieve the above object, one aspect of the present invention provides a first adsorbing portion in which at least two adsorbing tanks are connected in series and a second adsorbing portion in which at least two adsorbing tanks are connected in series, respectively. When the adsorption process is performed at different timings and the first adsorption part is shifted from the adsorption process to the pressure equalizing process, the second from the outlet side of the adsorption tank upstream of the first adsorption part. The first communicating part communicating with the inlet side of the adsorption tank upstream of the adsorbing part is opened, the gas in the first adsorbing part is allowed to flow, and the second adsorbing part is equalized from the adsorption step. When shifting to the process, the second communication part communicating from the outlet side of the adsorption tank upstream of the second adsorption part to the inlet side of the adsorption tank upstream of the first adsorption part is opened. And causing the gas in the second adsorption part to flow in.

上記ガス製造処理方法において、好ましくは、前記吸着工程から前記均圧工程に移行させる際に、前記第1の吸着部の下流側の前記吸着槽の出側と前記第2の吸着部の下流側の前記吸着槽の出側とを連通した第3の連通部を開通させ、前記第3の連通部を通じて前記ガスを流動させる工程を含む。   In the gas production processing method, preferably, when moving from the adsorption step to the pressure equalizing step, the outlet side of the adsorption tank on the downstream side of the first adsorption unit and the downstream side of the second adsorption unit A step of opening a third communication portion communicating with the outlet side of the adsorption tank and causing the gas to flow through the third communication portion.

上記ガス製造処理方法において、好ましくは、設定された処理時間に応じて、前記吸着処理または再生処理を行い、前記再生工程から前記均圧工程に移行する際、前記処理時間の経過前に、前記再生処理中の前記吸着槽の排気を停止させる工程を含む。
In the gas production processing method, preferably, the adsorption process or the regeneration process is performed according to a set process time, and when the process proceeds from the regeneration process to the pressure equalization process, before the process time elapses, A step of stopping exhaust of the adsorption tank during the regeneration process.

本発明によれば、次のいずれかの効果が得られる。   According to the present invention, any of the following effects can be obtained.

(1) 直列に連結した複数の吸着槽の内部にそれぞれ純度の異なる製品ガスが貯まり、吸着工程から均圧工程への移行時に、残留した純度の低い製品ガスについて、次に吸着工程を行う吸着部の入側に流して吸着処理行わせることで、製品ガスの回収能力が高められる。   (1) Product gas with different purity is stored inside a plurality of adsorption tanks connected in series, and at the time of transition from the adsorption process to the pressure equalization process, the remaining adsorption of the product gas with low purity is performed in the next adsorption process. The recovery performance of the product gas can be enhanced by flowing it to the inlet side of the section and performing the adsorption treatment.

(2) 吸着工程完了から均圧工程を行う際に、回収条件に達した純度の高い製品ガスを流入先の吸着槽内で拡散させず、製品ガスの回収効率の低下を防止できる。   (2) When performing the pressure equalization process from the completion of the adsorption process, the product gas with high purity that has reached the recovery conditions is not diffused in the adsorbing tank at the inflow destination, and the product gas recovery efficiency can be prevented from decreasing.

(3) 各吸着槽からそれぞれ残留ガスを回収するので、均圧工程によって、吸着工程を終えた吸着部内の圧力が低下して、不要なガス成分が吸着剤から分離するまでにより多くの残留ガスが回収でき、回収効率の向上、均圧処理の迅速化が図れる。   (3) Since the residual gas is recovered from each adsorption tank, the pressure in the adsorption section after the adsorption process is reduced by the pressure equalization process, and more residual gas is separated until unnecessary gas components are separated from the adsorbent. Can be recovered, improving the recovery efficiency and speeding up the pressure equalization process.

(4) 下流側に配置された吸着槽内にある純度の高い製品ガスを、他の吸着部の上流側に配置された吸着槽に流入させず、高い純度の製品ガスの回収量を増やせる。
(4) The high purity product gas in the adsorption tank arranged on the downstream side is not allowed to flow into the adsorption tank arranged on the upstream side of the other adsorption units, and the amount of high purity product gas recovered can be increased.

一実施の形態に係るガス製造装置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the gas manufacturing apparatus which concerns on one embodiment. 均圧工程1におけるガス流路の状態例を示す図である。It is a figure which shows the example of a state of the gas flow path in the pressure equalization process 1. FIG. 吸着タンク内部のガス濃度の状態例を示す図である。It is a figure which shows the example of a state of the gas concentration inside an adsorption tank. ガス製造装置の吸着・再生工程1におけるガス流路の状態例を示す図である。It is a figure which shows the example of the state of the gas flow path in the adsorption | suction and reproduction | regeneration process 1 of a gas manufacturing apparatus. 制御部の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a control part. ガス製造処理のタイミングの一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the timing of a gas manufacturing process. ガス製造処理の一例を示すフローチャートであるIt is a flowchart which shows an example of a gas manufacturing process. ガス製造装置の一例を示す図であるIt is a figure which shows an example of a gas manufacturing apparatus. 吸着タンクの配置実施例を示す図であるIt is a figure which shows the arrangement | positioning Example of an adsorption tank. ガス製造装置の実施例を示す図である。It is a figure which shows the Example of a gas manufacturing apparatus. ガス製造装置の配管構造の一例を示す図であるIt is a figure which shows an example of the piping structure of a gas manufacturing apparatus. ガス製造装置の実施例を示す図である。It is a figure which shows the Example of a gas manufacturing apparatus. ガス製造装置の配管構造の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of the piping structure of a gas manufacturing apparatus. 比較例を示す図である。It is a figure which shows a comparative example.

〔一実施の形態〕   [One embodiment]

図1は、一実施の形態に係るガス製造装置の一例を示している。図1に示す構成は一例であり、本発明が斯かる構成に限定されない。   FIG. 1 shows an example of a gas production apparatus according to an embodiment. The configuration illustrated in FIG. 1 is an example, and the present invention is not limited to such a configuration.

ガス製造装置2Aは本開示のガス製造装置の一例であり、吸着部4、6内に充填した吸着剤を利用し、原料ガスから目的とする成分の製品ガスと他の成分のガスとを分離させる、PSA式のガス分離機能を備える。そしてガス製造装置2Aは、分離した一部のガスを製品ガスとして取出す。ガス製造装置2Aは、吸着工程が完了した時に行う吸着部4、6間の均圧工程において、吸着部4または吸着部6内に残留したガスを回収してガス純度(濃度)の低下を抑える。原料ガスにはたとえば空気が用いられ、酸素や窒素などが製品ガスとして分離される。   The gas production apparatus 2A is an example of the gas production apparatus of the present disclosure, and uses the adsorbent filled in the adsorption units 4 and 6 to separate the product gas of the target component and the gas of other components from the raw material gas. It has a PSA type gas separation function. Then, the gas manufacturing apparatus 2A takes out part of the separated gas as product gas. In the pressure equalization process between the adsorption units 4 and 6 performed when the adsorption process is completed, the gas manufacturing apparatus 2A collects the gas remaining in the adsorption unit 4 or the adsorption unit 6 and suppresses a decrease in gas purity (concentration). . For example, air is used as the raw material gas, and oxygen, nitrogen, and the like are separated as product gases.

ガス製造装置2Aは、たとえば図1に示すように、原料ガス供給部8からガス取り込み流路10に流された原料ガスが、流路12、14を通じて吸着部4、6に供給される。流路12、14には、開閉によりそれぞれ吸着部4、6に対する原料ガスの流入または遮断を切り換える開閉弁V1、V2が設置されている。   In the gas manufacturing apparatus 2 </ b> A, for example, as shown in FIG. 1, the source gas that has flowed from the source gas supply unit 8 to the gas intake channel 10 is supplied to the adsorption units 4 and 6 through the channels 12 and 14. The flow paths 12 and 14 are provided with on-off valves V1 and V2 for switching the flow of the raw material gas to or from the adsorbing portions 4 and 6 by opening and closing, respectively.

吸着部4、6は、供給された原料ガスを所定の圧力状態にさせ、原料空気から特定のガス成分を吸着する。吸着部4は、本開示の第1の吸着部の一例であり、複数の吸着タンク4A、4Bが連結管路16を通じて直列に連結される。また吸着部6は、本開示の第2の吸着部の一例であり、複数の吸着タンク6A、6Bが連結管路18を通じて直列に連結される。吸着タンク4A、6Aは、原料ガスを流す方向に対し、吸着タンク4B、6Bよりも上流側となる。   The adsorbing units 4 and 6 bring the supplied source gas into a predetermined pressure state and adsorb specific gas components from the source air. The adsorption unit 4 is an example of a first adsorption unit of the present disclosure, and a plurality of adsorption tanks 4 </ b> A and 4 </ b> B are connected in series through the connection pipeline 16. The adsorption unit 6 is an example of a second adsorption unit of the present disclosure, and a plurality of adsorption tanks 6A and 6B are connected in series through the connection pipeline 18. The adsorption tanks 4A and 6A are upstream of the adsorption tanks 4B and 6B with respect to the direction in which the raw material gas flows.

吸着タンク4A、4B、6A、6Bには、内部に吸着剤が充填されておりタンク内部に流入される原料ガスに接触させる。吸着剤は、たとえば分子ふるい性能を有するカーボン(Carbon)材料、ゼオライト(Zeolite)などであって、粒状のほか膜状に形成されており、原料ガスを接触または通過させることで特定のガス成分を吸着する。PSA式ガス分離処理では、原料ガスに含まれる成分に対する吸着させたいガス成分、または分離して取り出したいガス成分に応じて、吸着剤の種類や吸着部4、6の圧力状態が設定される。   The adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B are filled with an adsorbent and are brought into contact with the raw material gas flowing into the tank. The adsorbent is, for example, carbon (Carbon) material having molecular sieving performance, zeolite (Zeolite), etc., and is formed into a film shape in addition to particles, and a specific gas component can be obtained by contacting or passing the raw material gas. Adsorb. In the PSA type gas separation process, the type of adsorbent and the pressure state of the adsorbing units 4 and 6 are set according to the gas component to be adsorbed with respect to the components contained in the raw material gas or the gas component to be separated and taken out.

原料ガス供給部8は、吸着部4、6内に圧縮した原料ガスを供給する手段の一例であり、たとえば原料ガスを貯めるタンクや原料空気を圧縮する手段としてコンプレッサ(Compressor)などを備える。その他原料ガス供給部8には、図示しない原料ガスの供給量を調整する手段や、ガス成分を検出するガスセンサや圧力センサなどを備えてもよい。   The source gas supply unit 8 is an example of means for supplying the compressed source gas into the adsorbing units 4 and 6, and includes, for example, a tank for storing the source gas and a compressor as means for compressing source air. In addition, the source gas supply unit 8 may be provided with means for adjusting the supply amount of source gas (not shown), a gas sensor for detecting gas components, a pressure sensor, and the like.

連結管路16は、吸着タンク4Aと4Bの各端部を直列に連通させる連結手段であって、原料ガスの流動方向に沿い、吸着タンク4Aの出側と吸着タンク4Bの入側とを連結する。また連結管路18は、吸着タンク6Aと6Bの各端部を直列に連通させる連結手段であって、原料ガスの流動方向に沿い、吸着タンク6Aの出側と吸着タンク6Bの入側とを連結する。連結管路16、18は、それぞれ吸着タンク4A、4Bまたは吸着タンク6A、4Bの管径よりも狭小に形成されている。連結管路16、18は、吸着部4、6の中間部分において流路を絞ることで、原料ガスの流れを一定方向に整流させることができる。これにより原料ガスは、たとえば単一幅の長い吸着タンク内を流れる場合に対し、流動途中で流路幅が狭まることで、タンクの壁面側と中央側の間の速度勾配が減少するほか、タンク内部でのカルマン渦の発生による偏流、すなわち乱流状態が抑制される。   The connecting pipe 16 is a connecting means for connecting the end portions of the adsorption tanks 4A and 4B in series, and connects the outlet side of the adsorption tank 4A and the inlet side of the adsorption tank 4B along the flow direction of the raw material gas. To do. The connecting pipe 18 is a connecting means for connecting the end portions of the adsorption tanks 6A and 6B in series, and connects the outlet side of the adsorption tank 6A and the inlet side of the adsorption tank 6B along the flow direction of the raw material gas. Link. The connecting pipelines 16 and 18 are formed narrower than the pipe diameters of the adsorption tanks 4A and 4B or the adsorption tanks 6A and 4B, respectively. The connection pipe lines 16 and 18 can rectify the flow of the raw material gas in a certain direction by narrowing the flow path in the middle part of the adsorption parts 4 and 6. As a result, the source gas flows, for example, in a single adsorption tank with a long width. By narrowing the flow path width in the middle of the flow, the velocity gradient between the wall surface side and the center side of the tank is reduced. The drift due to the generation of Karman vortex inside, that is, the turbulent state is suppressed.

吸着部4は、吸着タンク4Aの出側と吸着タンク6Aの入側とを連通させる均圧流路20を備えている。この均圧流路20は、本開示の第1の連通路の一例であり、吸着部4が吸着工程から均圧工程に移行する際に、吸着タンク4A内に残留したガスを吸着タンク6Aに流入させる。また吸着部6は、吸着タンク6Aの出側と吸着タンク4Aの入側とを連通させる均圧流路22を備えている。この均圧流路22は、本開示の第2の連通路の一例であり、吸着部6が吸着工程から均圧工程に移行する際に、吸着タンク6A内に残留したガスを吸着タンク4Aに流入させる。   The adsorbing unit 4 includes a pressure equalizing channel 20 that communicates the outlet side of the adsorption tank 4A and the inlet side of the adsorption tank 6A. This pressure equalization flow path 20 is an example of the first communication path of the present disclosure, and when the adsorbing unit 4 shifts from the adsorption process to the pressure equalization process, the gas remaining in the adsorption tank 4A flows into the adsorption tank 6A. Let Further, the adsorption unit 6 includes a pressure equalizing flow path 22 that communicates the outlet side of the adsorption tank 6A and the inlet side of the adsorption tank 4A. The pressure equalization flow path 22 is an example of the second communication path of the present disclosure, and the gas remaining in the adsorption tank 6A flows into the adsorption tank 4A when the adsorption unit 6 shifts from the adsorption process to the pressure equalization process. Let

均圧流路20は、たとえば吸着タンク4Aの出側として、一端が連結管路16に接続され、他端側が吸着タンク6Aの入側として流路14に接続されている。均圧流路20は、本開示の第1の開閉弁の一例である開閉弁V8を備えている。均圧流路22は、たとえば一端が吸着タンク6Aの出側にある連結管路18に接続され、他端側が吸着タンク4Aの入側にある流路12に接続されている。均圧流路22は、本開示の第2の開閉弁の一例である開閉弁V9を備えている。ガス製造処理では、吸着部4、6の均圧工程を行うにときに開閉弁V8、V9を開閉させて、均圧流路20または均圧流路22を開状態にして残留したガスを流す。   For example, one end of the pressure equalizing flow path 20 is connected to the connection pipe line 16 as an exit side of the adsorption tank 4A, and the other end side is connected to the flow path 14 as an entry side of the adsorption tank 6A. The pressure equalizing flow path 20 includes an on-off valve V8 that is an example of the first on-off valve of the present disclosure. For example, one end of the pressure equalizing flow path 22 is connected to the connecting pipe 18 on the outlet side of the adsorption tank 6A, and the other end side is connected to the flow path 12 on the inlet side of the adsorption tank 4A. The pressure equalizing flow path 22 includes an on-off valve V9 that is an example of the second on-off valve of the present disclosure. In the gas production process, when performing the pressure equalization process of the adsorption parts 4 and 6, the on-off valves V8 and V9 are opened and closed to open the pressure equalization flow path 20 or the pressure equalization flow path 22 and flow the remaining gas.

なお、均圧流路20、22は、吸着タンク4A、6Aに残留するガスのみが流れるものではなく、吸着タンク4B、6Bや連結管路16、18に残留するガスが流れる場合もある。   In addition, not only the gas remaining in the adsorption tanks 4A and 6A flows through the pressure equalizing channels 20 and 22, but the gas remaining in the adsorption tanks 4B and 6B and the connection pipes 16 and 18 may flow.

各吸着部4、6は、原料ガスの供給側に対して下流方向に、製品ガスを流す製品ガス流路24、26が接続され、管路28を通じて製品タンク30に製品ガスを供給する。製品ガス流路24、26には、それぞれ製品ガスの流動を調整する開閉弁V5、V6を備える。またガス製造装置2Aには、吸着タンク4B、6Bの出側同士を連通させる均圧流路32を備える。均圧流路32は、本開示の第3の連通部の一例であり、吸着部4または吸着部6が吸着工程から均圧工程に移行する際に開通させて吸着タンク4B、6B間で残留したガスを流す。均圧流路32は、開閉弁V7を備える。   The adsorbing sections 4 and 6 are connected to product gas flow paths 24 and 26 through which the product gas flows in the downstream direction with respect to the raw material gas supply side, and supply the product gas to the product tank 30 through the pipe line 28. The product gas passages 24 and 26 are provided with on-off valves V5 and V6 for adjusting the flow of the product gas, respectively. Further, the gas production apparatus 2A includes a pressure equalizing flow path 32 that allows the outlet sides of the adsorption tanks 4B and 6B to communicate with each other. The pressure equalization flow path 32 is an example of the third communication portion of the present disclosure, and is opened between the adsorption tanks 4B and 6B when the adsorption portion 4 or the adsorption portion 6 is shifted from the adsorption step to the pressure equalization step. Flow gas. The pressure equalizing flow path 32 includes an on-off valve V7.

<均圧工程について>   <About pressure equalization process>

図2は、均圧工程1におけるガス流路の状態例を示し、図3は、吸着タンク内部のガス濃度の状態例を示している。図2および図3に示す構成や状態例は一例である。   FIG. 2 shows a state example of the gas flow path in the pressure equalizing step 1, and FIG. 3 shows a state example of the gas concentration inside the adsorption tank. The configurations and state examples shown in FIGS. 2 and 3 are examples.

ガス製造装置2Aでは、吸着工程および再生工程が完了したときに吸着部4、6内の内部圧力を調整する均圧工程を行う。均圧工程1では、たとえば吸着部4側で吸着処理が行われ、かつ吸着部6側で吸着剤の再生工程が行われた時に、内部が高圧状態で残留ガスが残る吸着部4から、次に吸着処理を行う吸着部6側に対して残留ガスを流し込む。これによりガス製造装置2Aは、吸着部6の内部を一定の圧力状態で吸着工程を開始でき、ガス製造処理の迅速化を図る。また、吸着部4内の残留ガスについて、ガスの回収効率の向上を図る。   In the gas manufacturing apparatus 2A, when the adsorption process and the regeneration process are completed, a pressure equalizing process for adjusting the internal pressure in the adsorption units 4 and 6 is performed. In the pressure equalizing step 1, for example, when the adsorption process is performed on the adsorption unit 4 side and the adsorbent regeneration process is performed on the adsorption unit 6 side, the adsorption unit 4 from which the residual gas remains in a high pressure state is The residual gas is poured into the adsorption unit 6 side that performs the adsorption process. As a result, the gas production apparatus 2A can start the adsorption process in a constant pressure state inside the adsorption unit 6, thereby speeding up the gas production process. In addition, the gas recovery efficiency of the residual gas in the adsorption unit 4 is improved.

ガス製造装置2Aでは、たとえば図2に示すように、均圧工程1において、均圧流路20にある開閉弁V8を開状態にさせる。また下流側の吸着タンク4Bは、均圧流路32にある開閉弁V7を開状態にすることで均圧準備が完了する。   In the gas manufacturing apparatus 2A, for example, as shown in FIG. 2, in the pressure equalizing step 1, the on-off valve V8 in the pressure equalizing flow path 20 is opened. Further, the adsorption tank 4B on the downstream side completes preparation for pressure equalization by opening the on-off valve V7 in the pressure equalization flow path 32.

このガス製造装置2Aは、直列に連結された吸着タンク4Aと4Bまたは吸着タンク6Aと6B内に、ガスの流れ方向に沿って、純度レベルが異なる製品ガスを溜めるように形成されている。吸着部4には、たとえば図3に示すように、下流側に高純度の製品ガスHG、中流側に中純度の製品ガスMG、また上流側に低純度の製品ガスLGがある。ガスの吸着処理では、原料ガスが吸着剤を通過した距離または時間などが製品ガスの純度に大きく影響するため、吸着部4の下流側にいくに従って製品ガスの純度が高くなる。吸着タンク4Aには低純度の製品ガスを溜め、吸着タンク4Bには高純度の製品ガスを溜める。吸着処理された製品ガスの純度は、高純度ではたとえば約99.99〔%〕であり、中純度ではたとえば約99〔%〕であり、低純度ではたとえば約79〜99〔%〕を想定している。吸着タンク4A、4B内に溜まる製品ガスの純度は、たとえば吸着剤の能力やタンク長さL1、L2またはタンク内で吸着剤によって形成される流路の長さなどにより異なる。   This gas manufacturing apparatus 2A is formed so as to store product gases having different purity levels in the adsorption tanks 4A and 4B or adsorption tanks 6A and 6B connected in series along the gas flow direction. For example, as shown in FIG. 3, the adsorption unit 4 includes a high-purity product gas HG on the downstream side, a medium-purity product gas MG on the midstream side, and a low-purity product gas LG on the upstream side. In the gas adsorption process, the distance or time at which the raw material gas passes through the adsorbent greatly affects the purity of the product gas. Therefore, the purity of the product gas increases toward the downstream side of the adsorption unit 4. A low purity product gas is stored in the adsorption tank 4A, and a high purity product gas is stored in the adsorption tank 4B. The purity of the product gas subjected to the adsorption treatment is assumed to be about 99.99 [%] for high purity, for example about 99 [%] for medium purity, and for example about 79 to 99 [%] for low purity. ing. The purity of the product gas accumulated in the adsorption tanks 4A and 4B varies depending on, for example, the capacity of the adsorbent, the tank lengths L1 and L2, or the length of the flow path formed by the adsorbent in the tank.

吸着タンク4A、4Bには、たとえば流動方向の長さや幅、もしくは吸着剤を含む収容容積が設定される。吸着タンク4A、4Bは、たとえばタンクの幅Dと長さLを利用したL/Dの値を基準に採用すればよい。このL/D値が大きい程、タンク内に充填された吸着剤に対する原料ガスからの吸着効率が良くなり、製品ガスの純度が高くなる。L/D値が大きい程、タンク内でのガスの流路が狭小となり、管路内を流れるガスの速度勾配の影響が抑えられ、吸着剤の一部がガスに接触しない状態となるのを防止できる。しかしL/D値が大きすぎる場合には、吸着タンク4A、4Bが長くなり、ガス製造装置2Aが大型化するほか、流路抵抗の影響が大きくなる可能性もある。従って、吸着タンク4A、4Bは、たとえばL/D=2〜10となる範囲が望ましい。また吸着タンク4A、4Bは、L/D=3〜8がさらによく、L/D=4〜6となるものがより好ましい。   In the adsorption tanks 4A and 4B, for example, the length and width in the flow direction, or the accommodation volume containing the adsorbent is set. The adsorption tanks 4A and 4B may be adopted based on the L / D value using the tank width D and length L, for example. The greater the L / D value, the better the efficiency of adsorption from the raw material gas to the adsorbent filled in the tank, and the higher the purity of the product gas. The larger the L / D value, the narrower the gas flow path in the tank, the less the influence of the velocity gradient of the gas flowing in the pipeline, and the less the adsorbent comes into contact with the gas. Can be prevented. However, if the L / D value is too large, the adsorption tanks 4A and 4B become longer, the gas manufacturing apparatus 2A becomes larger, and the influence of the flow path resistance may increase. Therefore, the adsorption tanks 4A and 4B are preferably in a range where L / D = 2 to 10, for example. Moreover, as for adsorption tank 4A, 4B, L / D = 3-8 is still better, and what becomes L / D = 4-6 is more preferable.

吸着タンク4A、4Bは、同じ容積、長さ、幅のものを用いる場合に限られず、タンク毎に異なるものを用いてもよい。吸着タンク4A、4Bは、たとえば原料ガスの取り込み容量や流速などの値に基づいて、タンクの容積、長さ、幅を設定してもよい。   The adsorption tanks 4A and 4B are not limited to those having the same volume, length and width, and different tanks may be used. For the adsorption tanks 4A and 4B, the volume, length, and width of the tank may be set based on values such as the raw material gas intake capacity and flow velocity, for example.

ガス製造装置2Aの均圧工程1では、均圧流路20が開放されることで、吸着タンク4Aに残留する中純度の製品ガスから順に、低純度の残留ガスを吸着タンク6Aの入側に流入させていく。このように高い純度の残留ガスから取出し、吸着部6のガスの流動方向に沿って流すことで、流入先の吸着タンク6A内でも製品ガスの純度の階層状態を維持させる。そして吸着タンク6A内の上流側に溜まる低純度の製品ガスは、吸着工程2において、吸着タンク6A、6B内で吸着工程を経ることで、純度が高められる。   In the pressure equalization step 1 of the gas production apparatus 2A, the pressure equalization flow path 20 is opened, so that low-purity residual gas flows into the inlet side of the adsorption tank 6A in order from the medium-purity product gas remaining in the adsorption tank 4A. I will let you. By taking out from the high purity residual gas and flowing along the gas flow direction of the adsorption unit 6 in this way, the hierarchical state of the purity of the product gas is maintained even in the adsorption tank 6A at the inflow destination. The purity of the low-purity product gas collected on the upstream side in the adsorption tank 6A is increased in the adsorption process 2 through the adsorption process in the adsorption tanks 6A and 6B.

均圧流路32は、純度の高い製品ガスが多く含まれている吸着タンク4B内の残留ガスを吸着タンク4A内の残留ガスと混合させないように、吸着タンク6Bの出側に流入させる。   The pressure equalizing flow path 32 allows the residual gas in the adsorption tank 4B containing a large amount of high-purity product gas to flow into the outlet side of the adsorption tank 6B so as not to be mixed with the residual gas in the adsorption tank 4A.

均圧工程1では、複数の吸着タンクを利用し、これらの吸着タンク毎に溜まる製品ガスの純度に応じて残留ガスを回収し、吸着工程を終えた吸着部4内の残留ガスから純度の高い製品ガスを回収する。   In the pressure equalization process 1, a plurality of adsorption tanks are used, and the residual gas is recovered according to the purity of the product gas accumulated in each of these adsorption tanks, and the purity is high from the residual gas in the adsorption unit 4 after the adsorption process. Collect product gas.

なお、吸着部6側の吸着タンク6A、6Bは、吸着部4側と同様の条件のものを用いればよい。吸着部4内に残留したガスの純度のレベルは一例であり、たとえばガスのレベルを高純度ガスHGと低純度ガスLGの2つ基準を想定してもよく、または4つ以上の基準を想定してもよい。   The adsorption tanks 6A and 6B on the adsorption unit 6 side may be those having the same conditions as the adsorption unit 4 side. The level of purity of the gas remaining in the adsorption unit 4 is an example. For example, the gas level may assume two standards of high-purity gas HG and low-purity gas LG, or four or more standards are assumed. May be.

また、均圧工程2は、たとえば吸着部6側の吸着工程2が完了した後に行う。この均圧工程2では、開閉弁V9を開状態にし、均圧流路22を導通させる。これにより、吸着タンク6A内に溜まった中純度以下の製品ガスを含む残留ガスを吸着タンク4Aの入側に流入させて、均圧状態にする。さらに吸着タンク6Bは、開閉弁V7が開状態になることで、均圧流路32を通じて、高純度の製品ガスを含む残留ガスを吸着タンク4Bの出側に流して均圧状態にする。   Further, the pressure equalizing step 2 is performed after the adsorption step 2 on the adsorption unit 6 side is completed, for example. In this pressure equalization step 2, the on-off valve V9 is opened and the pressure equalization flow path 22 is conducted. As a result, the residual gas containing the product gas of medium purity or less accumulated in the adsorption tank 6A is caused to flow into the inlet side of the adsorption tank 4A, and the pressure is equalized. Further, when the on-off valve V7 is opened, the adsorption tank 6B causes the residual gas containing the high-purity product gas to flow to the outlet side of the adsorption tank 4B through the pressure equalization flow path 32, thereby bringing the pressure equalization state.

<吸着・再生工程について>   <Adsorption / regeneration process>

図4は、ガス製造装置の吸着・再生工程1におけるガス流路の状態例を示している。   FIG. 4 shows a state example of the gas flow path in the adsorption / regeneration process 1 of the gas production apparatus.

ガス製造処理では、たとえば吸着・再生工程1として、吸着部4側に原料ガスを流入させ、吸着処理により製品ガスを発生させるとともに、吸着部6側で吸着剤の再生処理を行う。再生処理は、吸着剤に吸着したガス成分を分離させ、排気ガスとして吸着部6から排出して、吸着剤を再生させる。また、ガス製造処理では、吸着・再生工程2として、吸着部6側に原料ガスを流して製品ガスを発生させるとともに、吸着部4側で再生処理を行う。   In the gas production process, for example, as an adsorption / regeneration process 1, a raw material gas is introduced into the adsorption unit 4 side to generate a product gas by the adsorption process, and an adsorbent regeneration process is performed on the adsorption unit 6 side. In the regeneration process, the gas component adsorbed on the adsorbent is separated and discharged from the adsorbing unit 6 as exhaust gas to regenerate the adsorbent. In the gas production process, as the adsorption / regeneration process 2, a raw material gas is flowed to the adsorption unit 6 side to generate a product gas, and the regeneration process is performed on the adsorption unit 4 side.

吸着・再生工程1では、たとえば図4に示すように、開閉弁V1、V5を開状態にし、吸着部4側に原料ガスを流すガス流路を形成するとともに、開閉弁V4を開状態にして吸着部6から流路14を通じて排気管路40側にガス流路を形成する。また、吸着・再生工程2では、たとえば開閉弁V2、V6を開状態にし、吸着部6側に原料ガスを流すガス流路を形成するとともに、開閉弁V3を開状態にして吸着部4から流路12を通じて排気管路38側にガス流路を形成する。   In the adsorption / regeneration process 1, for example, as shown in FIG. 4, the on-off valves V1 and V5 are opened, a gas flow path for flowing the raw material gas is formed on the adsorption unit 4 side, and the on-off valve V4 is opened. A gas flow path is formed on the exhaust pipe 40 side from the adsorption unit 6 through the flow path 14. Further, in the adsorption / regeneration process 2, for example, the on-off valves V2 and V6 are opened to form a gas flow path for flowing the raw material gas on the adsorption unit 6 side, and the on-off valve V3 is opened to flow from the adsorption unit 4 A gas flow path is formed on the exhaust pipe 38 side through the path 12.

排気管路38、40は、吸着部4、6内のガスを外部に排気する手段の一例であり、開閉弁V3、V4によってそれぞれの排気流路の開閉が切り換えられる。この排気管路38、40は、たとえば吸着部4、6よりも上流側に形成されており、流路12、14に連結させるほか、吸着タンク4A、6Aの一部に直接連結させてもよい。その他、排気管路38、40は、吸着部4、6よりも下流側に接続してもよい。   The exhaust pipes 38 and 40 are an example of means for exhausting the gas in the adsorption parts 4 and 6 to the outside, and the opening and closing of the respective exhaust passages are switched by the on-off valves V3 and V4. The exhaust pipes 38 and 40 are formed, for example, on the upstream side of the adsorption portions 4 and 6 and may be directly connected to a part of the adsorption tanks 4A and 6A in addition to being connected to the flow channels 12 and 14. . In addition, the exhaust pipe lines 38 and 40 may be connected to the downstream side of the adsorption parts 4 and 6.

吸着部4、6には、それぞれの出側同士を連通させる管路34を備えている。この管路34は、本開示の第4の連通部の一例であり、一部にオリフィス36を備え、吸着タンク4B、6B間で製品ガスを流動させている。   The suction portions 4 and 6 are each provided with a pipe line 34 that allows the outlet sides to communicate with each other. This pipe line 34 is an example of the fourth communication portion of the present disclosure, and is partially provided with an orifice 36 to flow product gas between the adsorption tanks 4B and 6B.

吸着部6では、再生工程1の実行時に、開閉弁V4を開いてタンク内の圧力を大気圧に開放するとともに、吸着部4側から管路34を通じて高純度の製品ガスを流すことで、原料ガスから分離した特定のガス成分が吸着剤から離されて吸着部外に排出される。PSA方式のガス製造処理では、吸着タンク4A、4B、6A、6B内の圧力を所定値に上げることで、吸着させたい特定のガス成分に対する吸着剤の吸着能力を高めている。逆に再生処理では、吸着部6内を減圧して吸着能力を低下させることで、特定のガス成分を離脱させていく。その後、吸着部6内の圧力が大気圧になると、吸着剤は特定のガス成分が豊富な状態となり、同時に吸着剤の周りも、特定のガス成分が豊富な状態となる。そのため、吸着剤は、それ以上特定のガス成分を脱着しなくなる。そこで、ガス製造装置2Aでは、オリフィス36を通じて吸着部6内に製品ガスを適量流入させると、吸着剤の周りに製品ガスが送り込まれて酸素ガスが追い出される。吸着剤は、特定のガス成分が吸着している細孔内とその周囲の特定のガス成分濃度に差ができ、この特定のガス成分の拡散力で、製品ガスとの置換が進んで脱着させることができる。これにより再生処理が完了する。   In the adsorption unit 6, when the regeneration process 1 is executed, the on-off valve V 4 is opened to release the pressure in the tank to atmospheric pressure, and a high-purity product gas is allowed to flow from the adsorption unit 4 side through the pipe line 34. The specific gas component separated from the gas is separated from the adsorbent and discharged out of the adsorption unit. In the PSA type gas manufacturing process, the adsorption capacity of the adsorbent for a specific gas component to be adsorbed is increased by raising the pressure in the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B to a predetermined value. On the other hand, in the regeneration process, the specific gas component is desorbed by depressurizing the inside of the adsorption unit 6 to reduce the adsorption capacity. Thereafter, when the pressure in the adsorbing portion 6 becomes atmospheric pressure, the adsorbent becomes rich in specific gas components, and at the same time, the adsorbent is also rich in specific gas components. Therefore, the adsorbent no longer desorbs specific gas components. Therefore, in the gas manufacturing apparatus 2A, when an appropriate amount of product gas flows into the adsorption unit 6 through the orifice 36, the product gas is sent around the adsorbent and the oxygen gas is expelled. Adsorbents can differ in the concentration of specific gas components in and around the pores where specific gas components are adsorbed, and with the diffusion power of these specific gas components, replacement with product gas proceeds and desorbs. be able to. Thereby, the reproduction process is completed.

再生工程2では、たとえば開閉弁V3を開くとともに、吸着部4が吸着部6から製品ガスを取り込み、特定ガスの排出を行う。   In the regeneration process 2, for example, the on-off valve V3 is opened, and the adsorption unit 4 takes in the product gas from the adsorption unit 6 and discharges the specific gas.

ガス製造装置2Aの制御は、制御部42(図1)が行う。この制御部42は、たとえばガス製造処理として、吸着・再生工程および均圧工程に関する制御やそれらの工程切換え制御、開閉弁V1〜V9の開閉制御、原料ガス供給部8に対するガス供給制御、その他、各工程の実行時間の管理やガス成分の監視制御などを行う。   The control of the gas production apparatus 2A is performed by the control unit 42 (FIG. 1). For example, as a gas production process, the control unit 42 controls the adsorption / regeneration process and the pressure equalization process, controls the process switching thereof, controls the opening / closing of the on-off valves V1 to V9, controls the gas supply to the raw material gas supply unit 8, and others. Management of execution time of each process and monitoring control of gas components are performed.

<制御部の構成について>   <Regarding the configuration of the control unit>

図5は制御部の一例を示す図である。   FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the control unit.

制御部42は、たとえばガス製造装置2Aの筐体内部に収納される制御基板やシーケンサなどのPLC(Programmable Logic Controller)であって、コンピュータで形成される。また制御部42は、筐体外部に配置されたPC(Personal Computer)などを利用してもよい。制御部42は、たとえばプロセッサ(Processor)50、メモリ52、タイマ54、I/O(Input/Output)56等が含まれる。   The controller 42 is, for example, a PLC (Programmable Logic Controller) such as a control board or a sequencer housed in the housing of the gas production apparatus 2A, and is formed by a computer. The control unit 42 may use a PC (Personal Computer) arranged outside the housing. The control unit 42 includes, for example, a processor 50, a memory 52, a timer 54, an I / O (Input / Output) 56, and the like.

プロセッサ50は、ガス製造装置2Aの基本動作を制御するOS(Operating System)や吸着・再生工程や均圧工程における原料ガス供給部8や開閉弁V1〜V9等の動作を制御するプログラムの演算手段の一例である。メモリ52は、記憶手段の一例であり、OSや各種プログラムを格納するROM(Read Only Memory)などの記憶領域や、プロセッサ50によるプログラムの演算処理を実行させるためのRAM(Random Access Memory)などの処理領域が含まれる。タイマ54は、吸着・再生工程、均圧工程などの処理時間を計時する手段の一例であり、ハードウェアとしてのタイマのほか、プログラムの実行により計時するソフトウェアタイマであってもよい。I/O56は、制御部42の外部インターフェースの一例であり、信号ケーブル用のコネクタや無線通信を利用する場合の送受信コネクタを備えてもよく、制御対象である開閉弁V1〜V9やその他の装置と接続される。   The processor 50 is an OS (Operating System) that controls the basic operation of the gas production apparatus 2A, and calculation means for a program that controls the operations of the raw material gas supply unit 8 and the on-off valves V1 to V9 in the adsorption / regeneration process and the pressure equalization process. It is an example. The memory 52 is an example of a storage unit, such as a storage area such as a ROM (Read Only Memory) that stores an OS and various programs, and a RAM (Random Access Memory) that causes the processor 50 to execute program calculation processing. A processing area is included. The timer 54 is an example of means for measuring the processing time of the adsorption / regeneration process, the pressure equalization process, and the like, and may be a software timer that counts by executing a program in addition to a timer as hardware. The I / O 56 is an example of an external interface of the control unit 42, and may include a signal cable connector or a transmission / reception connector when using wireless communication, and the on-off valves V1 to V9 to be controlled and other devices. Connected.

<ガス製造処理の流れについて>   <Flow of gas production processing>

図6は、ガス製造処理のタイミングの一例を示す図である。図6に示すタイミングや監視データは一例である。   FIG. 6 is a diagram illustrating an example of the timing of the gas production process. The timing and monitoring data shown in FIG. 6 are examples.

原料ガスの吸着工程1、2は、図6に示すように、異なるタイミングで行われる。ガス製造処理では、吸着部4側の吸着工程1と吸着部6側の再生工程1とが同じ期間で行われ、別タイミングで、吸着部4側の再生工程2と吸着部6側の吸着工程2が同じ期間で行われる。また吸着・再生工程1と吸着・再生工程2との間には、それぞれ均圧工程1、2を実行する。各開閉弁V1〜V9は、吸着工程を実行する吸着部4、6側に原料ガスを流入し、製造された製品ガスを製品タンク30側に流す回路を形成するとともに、再生工程を実行する吸着部4、6側を他の吸着部4、6から遮断し、排気通路を形成する。均圧工程では、吸着工程の実行に応じて、均圧流路20、22のいずれかを形成する。   The source gas adsorption steps 1 and 2 are performed at different timings as shown in FIG. In the gas production process, the adsorption process 1 on the adsorption unit 4 side and the regeneration process 1 on the adsorption unit 6 side are performed in the same period, and the regeneration process 2 on the adsorption unit 4 side and the adsorption process on the adsorption unit 6 side at different timings. 2 are performed in the same period. Further, pressure equalization steps 1 and 2 are executed between the adsorption / regeneration step 1 and the adsorption / regeneration step 2, respectively. Each of the on-off valves V1 to V9 forms a circuit that flows the raw material gas into the adsorption units 4 and 6 that perform the adsorption process and flows the manufactured product gas to the product tank 30 and also performs the regeneration process. The parts 4 and 6 are cut off from the other adsorbing parts 4 and 6 to form an exhaust passage. In the pressure equalization process, one of the pressure equalization channels 20 and 22 is formed according to the execution of the adsorption process.

ここで、制御部42は、排気流路を開閉する開閉弁V3、V4に対し、再生工程の完了よりも所定時間T3だけ前に閉止させている。吸着・再生工程1の開始をガス製造処理のスタート(0)とすれば、均圧工程1が完了して時間T2が経過すると、吸着工程の実施時間T1よりも時間T3だけ前の時刻TAになると制御部42が開閉弁V4をOFFさせえる。また開始時刻TBになると、吸着部6側の吸着工程2が開始され、所定時間T1が経過して時刻TDになるまで行われる。この時刻TDよりも所定時間T3前の時刻TCになると、開閉弁V3を閉止する。このように開閉弁V3、V4の開閉スピードに応じて閉止させることで、均圧されたガスが排気弁から漏れることを防ぎ、回収ガスを確実に再生側のタンクに移すことができる。なお、開閉弁V3、V4の開閉タイミングは、その開閉スピードに合せて設定すればよく、時間T3は、たとえば0〜5〔S〕に設定すればよい。   Here, the control unit 42 closes the on-off valves V3 and V4 that open and close the exhaust flow path by a predetermined time T3 before the completion of the regeneration process. If the start of the adsorption / regeneration process 1 is the start (0) of the gas production process, when the pressure equalization process 1 is completed and the time T2 has elapsed, the time T3 before the adsorption process execution time T1 is reached at a time TA. Then, the control unit 42 can turn off the on-off valve V4. Further, at the start time TB, the suction process 2 on the suction unit 6 side is started, and is performed until a predetermined time T1 elapses and time TD is reached. At time TC that is a predetermined time T3 before time TD, the on-off valve V3 is closed. Thus, by closing according to the opening and closing speed of the on-off valves V3 and V4, the equalized gas can be prevented from leaking from the exhaust valve, and the recovered gas can be reliably transferred to the regeneration-side tank. The opening / closing timing of the on-off valves V3, V4 may be set in accordance with the opening / closing speed, and the time T3 may be set to 0 to 5 [S], for example.

吸着・再生工程1を行った吸着部4では、内部の圧力が初期値P1から時間経過に応じて徐々に増加し、吸着工程完了時に所定値P2になる。吸着部4は、供給される原料ガスを継続的に吸着し、タンク内部に分離した不要なガスが溜まっていくことで、圧力値が上昇していく。初期値P1は、たとえば吸着部によって原料ガスから製品ガス以外のガス成分の吸着に適した圧力値が設定される。再生工程1では、吸着部6内を大気圧に開放するので、内部圧力が略0となる。また製品タンク30内は、製品ガスが溜まっていくことで圧力値が上昇していく。   In the adsorption unit 4 that has performed the adsorption / regeneration process 1, the internal pressure gradually increases with time from the initial value P1, and reaches the predetermined value P2 when the adsorption process is completed. The adsorbing unit 4 continuously adsorbs the supplied raw material gas, and the pressure value rises as unnecessary gas separated inside the tank accumulates. As the initial value P1, for example, a pressure value suitable for adsorption of gas components other than the product gas from the raw material gas by the adsorption unit is set. In the regeneration process 1, since the inside of the adsorption part 6 is opened to atmospheric pressure, the internal pressure becomes substantially zero. In the product tank 30, the pressure value rises as product gas accumulates.

均圧工程1では、吸着部4側から吸着部6側に製品ガスを供給することで、吸着部4の圧力は、たとえば初期値P1となる。このとき吸着部6側では、均圧工程1によって、圧力値0から初期圧力値P1に回復させる。   In the pressure equalizing step 1, the product gas is supplied from the adsorption unit 4 side to the adsorption unit 6 side, so that the pressure of the adsorption unit 4 becomes, for example, an initial value P1. At this time, the pressure is restored from the pressure value 0 to the initial pressure value P1 by the pressure equalizing step 1 on the adsorption unit 6 side.

なお、吸着・再生工程、均圧工程の実行時間は、一定の値に限られず、変動させてもよい。この場合、制御部42は、たとえば予め実験により吸着時間と圧力との関連条件に基づいて工程時間を設定してもよい。   Note that the execution time of the adsorption / regeneration step and the pressure equalization step is not limited to a constant value, and may be varied. In this case, the control unit 42 may set the process time based on the relation condition between the adsorption time and the pressure, for example, by an experiment in advance.

<ガス製造処理について>   <About gas production processing>

図7はガス製造処理の一例を示すフローチャートである。図7に示す処理手順、処理内容は一例であり、処理手順や処理内容に限定されるものではない。   FIG. 7 is a flowchart showing an example of the gas production process. The processing procedure and processing content shown in FIG. 7 are examples, and are not limited to the processing procedure and processing content.

<吸着・再生工程1>   <Adsorption / regeneration process 1>

このガス製造処理は、本開示のガス製造処理方法や製造処理プログラムの一例であり、工程処理と開閉弁の開閉制御が含まれる。ガス製造処理では、吸着・再生工程1の開始処理が行われる(S1)。この開始処理では、たとえば要求に応じてガスの製造流量などに基づいて原料ガス供給部8に対して原料ガスの供給量の設定などの指示が行われる。また、制御部42は、タイマ54による計時情報を利用して吸着・再生工程の実行時間の管理処理を行う。   This gas manufacturing process is an example of the gas manufacturing processing method and manufacturing processing program of the present disclosure, and includes process processing and opening / closing control of the on-off valve. In the gas production process, the start process of the adsorption / regeneration process 1 is performed (S1). In this start process, for example, an instruction to set the supply amount of the source gas is given to the source gas supply unit 8 based on the gas production flow rate or the like as required. In addition, the control unit 42 performs management processing of the execution time of the adsorption / regeneration process by using the timing information by the timer 54.

制御部42は、開閉弁V1、V4、V5を開状態にするとともに、他の開閉弁V2、V3、V6〜V9を閉状態にする(S2)。開閉弁V1を開状態にさせて原料空気を吸着タンク4A、4Bに導入させる。これにより吸着タンク4A、4B内の圧力が上昇し、吸着剤によって特定のガス成分が優先的に吸着されていき、製品ガスの濃度(純度)が高まる。製品ガスは、開状態の開閉弁V5を通じて製品タンク30に溜められ、高濃度ガスとして供給される。吸着部6では、排気流路の開放により内部圧力が低下していき、吸着剤に付着したガス成分が分離する。吸着部4側から吸着部6に製品ガスの一部がオリフィス36を通過して流入すると、残留したガス成分が排気流路側に流され、吸着剤が再生する。   The controller 42 opens the on-off valves V1, V4, and V5 and closes the other on-off valves V2, V3, and V6 to V9 (S2). The on-off valve V1 is opened and the raw material air is introduced into the adsorption tanks 4A and 4B. As a result, the pressure in the adsorption tanks 4A and 4B rises, the specific gas component is preferentially adsorbed by the adsorbent, and the concentration (purity) of the product gas increases. The product gas is stored in the product tank 30 through the open / close valve V5 and is supplied as a high concentration gas. In the adsorbing unit 6, the internal pressure is reduced by opening the exhaust passage, and the gas component adhering to the adsorbent is separated. When a part of the product gas flows into the adsorbing unit 6 from the adsorbing unit 4 side through the orifice 36, the remaining gas component is flowed to the exhaust flow path side, and the adsorbent is regenerated.

制御部42は、タイマ54から計時情報を受け、所定時間T1としてたとえば、20〜180〔秒〕が経過したか否かを判断する(S3)。吸着・再生工程1は、所定時間T1が経過するまで(S2のNO)継続する。この所定時間T1の値は一例であり、より好ましくは、30〜60〔秒〕の範囲である。   The control unit 42 receives the timing information from the timer 54 and determines whether, for example, 20 to 180 [seconds] has elapsed as the predetermined time T1 (S3). The adsorption / regeneration process 1 is continued until a predetermined time T1 has elapsed (NO in S2). The value of the predetermined time T1 is an example, and more preferably in the range of 30 to 60 [seconds].

その他、制御部42では、所定時間T1の計時とともに、この所定時間T1が経過する前の所定時間T3が経過したか否かを監視してもよい。これにより、再生工程の実行時間が所定時間T3未満になった時に開閉弁V4を先に閉止させる。   In addition, the control unit 42 may monitor whether or not the predetermined time T3 before the predetermined time T1 has elapsed with the counting of the predetermined time T1. Thereby, when the execution time of the regeneration process becomes less than the predetermined time T3, the on-off valve V4 is closed first.

<均圧工程1>   <Pressure equalization process 1>

吸着・再生工程1が完了すると(S3のYES)、ガス製造装置2Aでは、均圧工程1を開始させる(S4)。この処理では、たとえば原料ガス供給部8の停止や、製品タンク30内の残量ガス監視等を行う。制御部42は、タイマ54による計時情報を利用して均圧工程の実行時間の管理処理を行う。   When the adsorption / regeneration process 1 is completed (YES in S3), the gas production apparatus 2A starts the pressure equalization process 1 (S4). In this processing, for example, the source gas supply unit 8 is stopped, the remaining gas in the product tank 30 is monitored, and the like. The control unit 42 performs management processing of the execution time of the pressure equalization process using the time measurement information by the timer 54.

制御部42は、開閉弁V7、V8を開状態にし、他の開閉弁を閉状態にして(S5)、加圧状態の吸着タンク4A、4B内の残留した製品ガスを吸着タンク6A、6B側に流して均圧する。   The controller 42 opens the on-off valves V7 and V8, closes the other on-off valves (S5), and supplies the product gas remaining in the pressurized adsorption tanks 4A and 4B to the adsorption tanks 6A and 6B side. Flow through to equalize pressure.

制御部42は、タイマ54から計時情報を受け、所定時間T2としてたとえば、1〜10〔秒〕が経過したか否かを判断する(S6)。均圧工程1は、所定時間T2が経過するまで(S6のNO)継続する。この所定時間T1の値は一例である。均圧工程1では、吸着タンク4A、4Bおよび吸着タンク6A、6B内のそれぞれの圧力が、たとえば均圧工程開始時の初期圧力の1/5〜1/2の範囲に減圧または昇圧させる。   The control unit 42 receives the timing information from the timer 54, and determines whether, for example, 1 to 10 [seconds] has elapsed as the predetermined time T2 (S6). The pressure equalizing step 1 continues until the predetermined time T2 elapses (NO in S6). The value of the predetermined time T1 is an example. In the pressure equalization step 1, the respective pressures in the adsorption tanks 4A and 4B and the adsorption tanks 6A and 6B are reduced or increased to a range of, for example, 1/5 to 1/2 of the initial pressure at the start of the pressure equalization step.

均圧工程では、吸着タンク4A、4B、6A、6B内の圧力値について、たとえば予め実験などにより設定した条件に基づいて所定時間T2を設定すればよく、その他、圧力センサなどを用いて圧力状態を監視してもよい。   In the pressure equalization process, the pressure value in the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B may be set to a predetermined time T2 based on conditions set in advance through experiments or the like, and the pressure state using a pressure sensor or the like. May be monitored.

<吸着・再生工程2>   <Adsorption / regeneration process 2>

均圧工程1が完了すると(S6のYES)、吸着部6側で原料ガスの吸着工程を行い、吸着部4側で分離したガスを排気する再生行程を行う吸着・再生工程2の開始処理が行われる(S7)。制御部42は、吸着・再生処理1と同様に、原料ガスの供給指示や、処理時間の監視を開始する。制御部42は、開閉弁V2、V3、V6を開状態にするとともに、他の開閉弁を閉状態にして(S8)、吸着部6側に原料ガスの流入路および製品タンク30側への供給流路を形成し、吸着部4側に排気流路を形成する。   When the pressure equalizing step 1 is completed (YES in S6), the starting process of the adsorption / regeneration step 2 is performed in which the raw material gas is adsorbed on the adsorption unit 6 side and the regeneration process is performed to exhaust the separated gas on the adsorption unit 4 side. Performed (S7). Similar to the adsorption / regeneration process 1, the control unit 42 starts the supply instruction of the source gas and the monitoring of the processing time. The control unit 42 opens the on-off valves V2, V3, V6 and closes the other on-off valves (S8), and supplies the raw material gas inflow path to the adsorption unit 6 side and the supply to the product tank 30 side. A flow path is formed, and an exhaust flow path is formed on the adsorption unit 4 side.

制御部42は、タイマ54から計時情報を受け、所定時間T1としてたとえば、20〜180〔秒〕が経過したか否かを判断する(S9)。吸着・再生工程2は、所定時間T1が経過するまで(S9のNO)継続する。   The control unit 42 receives the timing information from the timer 54, and determines whether, for example, 20 to 180 [seconds] has elapsed as the predetermined time T1 (S9). The adsorption / regeneration process 2 continues until a predetermined time T1 has elapsed (NO in S9).

<均圧工程2>   <Pressure equalization process 2>

吸着・再生工程2が完了すると(S9のYES)、ガス製造装置2Aでは、均圧工程2を開始させる(S10)。均圧工程2の開始処理については、均圧工程1の場合と同様であり、説明を割愛する。   When the adsorption / regeneration process 2 is completed (YES in S9), the gas production apparatus 2A starts the pressure equalization process 2 (S10). The start process of the pressure equalizing step 2 is the same as that in the case of the pressure equalizing step 1 and will not be described.

制御部42は、開閉弁V7、V9を開状態にし、他の開閉弁を閉状態にして(S11)、加圧状態の吸着タンク6A、6B内の残留した製品ガスを吸着タンク4A、4B側に流して均圧する。制御部42は、タイマ54から計時情報を受け、所定時間T2が経過したか否かを判断する(S12)。均圧工程2は、所定時間T2が経過するまで(S12のNO)継続する。   The controller 42 opens the on-off valves V7 and V9, closes the other on-off valves (S11), and supplies the product gas remaining in the pressurized adsorption tanks 6A and 6B to the adsorption tanks 4A and 4B side. Flow through to equalize pressure. The control unit 42 receives timing information from the timer 54 and determines whether or not a predetermined time T2 has elapsed (S12). The pressure equalizing step 2 continues until the predetermined time T2 has elapsed (NO in S12).

ガス製造処理では、斯かる吸着・再生工程1、均圧工程1、吸着・再生工程2、均圧工程2を1セットとして、2つの吸着部4、6で交互に製品ガスの製造が行える。均圧工程2が完了した後も製品ガスの製造を継続する場合、再び吸着・再生工程1から行えばよい。   In the gas production process, the adsorption / regeneration process 1, the pressure equalization process 1, the adsorption / regeneration process 2, and the pressure equalization process 2 are set as one set, and the product gas can be produced alternately by the two adsorption sections 4 and 6. When the production of the product gas is continued even after the pressure equalizing step 2 is completed, the adsorption / regeneration step 1 may be performed again.

<ガス製造装置の変形例について>   <Modification of gas production equipment>

図8はガス製造装置の一例を示す図である。   FIG. 8 is a diagram illustrating an example of a gas production apparatus.

このガス製造装置2Bは、たとえば吸着部4、6を含む複数のガス製造ユニット2−1、2−2、・・・2−N(Nは自然数)を並列に連結している。各ガス製造ユニット2−1、2−2、・・・2−Nは、それぞれ吸着部4、6間で交互に吸着・再生工程、均圧工程を含むガス製造機能を備えており、1ユニットずつ動作させることができる。このガス製造装置2Bは、たとえば図示しない制御部42からの指示に基づいて、ユニット毎の稼動数を増減させることができる。すなわち、製品ガスの要求量が多い場合には、稼動するユニット数を増やして製品ガスの供給能力を増やし、要求量が少ない場合には、稼動するユニット数を減らし、または予め限定したユニットのみを稼動させることができる。   In this gas production apparatus 2B, for example, a plurality of gas production units 2-1, 2-2,..., 2-N (N is a natural number) including the adsorbing units 4 and 6 are connected in parallel. Each gas production unit 2-1, 2-2,..., 2-N has a gas production function including an adsorption / regeneration process and a pressure equalization process alternately between the adsorption units 4 and 6. It can be operated one by one. The gas manufacturing apparatus 2B can increase or decrease the number of operations for each unit based on, for example, an instruction from the control unit 42 (not shown). That is, when the required amount of product gas is large, the number of units to be operated is increased to increase the supply capacity of the product gas, and when the required amount is small, the number of units to be operated is reduced or only pre-limited units are used. It can be operated.

また、このようなガス製造ユニット2−1、2−2、・・・2−Nを組み合わせ、一部のユニットが故障した場合でも、停止中のユニットを稼動させることで、要求された流量の製品ガスを供給することが可能となる。   In addition, by combining these gas production units 2-1, 2-2, ... 2-N, even if some of the units break down, operating the units that have been stopped to achieve the required flow rate. Product gas can be supplied.

<一実施の形態の効果>   <Effect of one embodiment>

次に、この実施の形態に示す構成により実現できる効果について列挙する。   Next, effects that can be realized by the configuration shown in this embodiment will be listed.

(1) 各吸着部4、6に対し、吸着タンク4A、4Bまたは吸着タンク6A、6B内に、ガスの流動方向に沿って段階的に純度が異なる製品ガスを溜めることができる。そして、これらの吸着部4、6を連通させてタンク内に残留した製品ガスを回収することで、原料ガスに対する製品ガスの回収効率を高めることができる。   (1) For each of the adsorbing units 4 and 6, product gases having different purities can be stored in the adsorbing tanks 4A and 4B or the adsorbing tanks 6A and 6B in stages along the gas flow direction. And the collection efficiency of the product gas with respect to raw material gas can be improved by making these adsorption | suction parts 4 and 6 connect, and collecting the product gas which remained in the tank.

(2) 上流側の吸着タンク4A、6A同士を連通させ、かつ下流側の吸着タンク4B、6B同士を連通させることで、均圧工程において、残留した高純度の製品ガスと、低純度のガスとが混合するのを防止でき、製品ガスの回収効率を低下させない。   (2) By connecting the adsorption tanks 4A and 6A on the upstream side and the adsorption tanks 4B and 6B on the downstream side in communication with each other, the remaining high-purity product gas and low-purity gas in the pressure equalization process Can be prevented from mixing, and the recovery efficiency of product gas is not reduced.

(3) 下流側に配置された吸着タンク4B、または吸着タンク6B内にある純度の高い製品ガスを、他の吸着部の上流側に配置された吸着タンクに流入させず、高い純度の製品ガスの回収量を増やせる。   (3) The high purity product gas does not flow into the adsorption tank 4B arranged on the downstream side or the high purity product gas in the adsorption tank 6B into the adsorption tank arranged on the upstream side of other adsorption units. Can be recovered.

(4) 上流側の吸着タンク4A、6Aについて、それぞれの出側と入側が交互に連通され、均圧工程では、吸着タンク4A(6A)の出側から吸着タンク6A(4A)の入側に向けて残留ガスを流入させるので、流入先のタンク内で純度の高い製品ガスが拡散し、純度が低下するのを防止できる。すなわち、均圧流路20、22では、吸着タンク4A、6A内の残留ガスについて、純度の高いほうから順に流すことで、均圧工程前後で、吸着タンク4A、6A内での製品ガスの純度の状態が維持でき、製品ガスの回収効率が高められる。   (4) With respect to the upstream suction tanks 4A and 6A, the outlet side and the inlet side thereof are alternately communicated, and in the pressure equalization process, the suction tank 4A (6A) is moved from the outlet side to the suction tank 6A (4A) inlet side. Since the residual gas is caused to flow inward, it is possible to prevent the product gas having high purity from diffusing in the inflow destination tank and lowering the purity. That is, in the pressure equalization channels 20 and 22, the residual gas in the adsorption tanks 4A and 6A is flowed in order from the higher purity, so that the purity of the product gas in the adsorption tanks 4A and 6A is increased before and after the pressure equalization process. The state can be maintained, and the recovery efficiency of product gas can be improved.

(5) 上流側の残留ガスは、均圧工程において、純度に応じて、吸着タンク4A、6Aの流入先が決まり、次の吸着工程において、再度製品ガスの吸着工程が行われるので、製品ガスの純度が上がり、回収率を上げることができる。   (5) In the upstream residual gas, the inflow destination of the adsorption tanks 4A and 6A is determined in accordance with the purity in the pressure equalization process, and the product gas adsorption process is performed again in the next adsorption process. The purity of can be increased and the recovery rate can be increased.

(6) 吸着タンク4A、4B、6A、6B間を狭小な連結管路16、18によって絞ることで、タンク壁面と中央部分との速度勾配による影響を抑えられ、吸着部4、6内のガスの流れが安定化し、吸着効率を上げることができる。また、均圧工程では、この狭小な連結管路16、18を通じて吸着タンク4Aまたは吸着タンク6A内の残留ガスを他の吸着部側に流すことで、純度の異なる製品ガスが混合するのを抑えられ、製品ガスの回収効率が高められる。   (6) By narrowing the space between the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, and 6B by the narrow connection pipes 16 and 18, the influence of the velocity gradient between the tank wall surface and the central part can be suppressed, and the gas in the adsorption parts 4 and 6 can be suppressed. The flow of water can be stabilized and the adsorption efficiency can be increased. Further, in the pressure equalization process, the residual gas in the adsorption tank 4A or the adsorption tank 6A is caused to flow to the other adsorption unit side through the narrow connection pipes 16 and 18, thereby suppressing mixing of product gases having different purity. The product gas recovery efficiency is improved.

(7) 各吸着タンクのL/Dを大きい値に設定して細長い管路にすることで、内部でガスが渦を巻きにくくする。これにより吸着剤内を層流状態またはそれに近い流れで通すことができ、吸着機能の向上を図れる。また吸着タンク4A、4B、6A、6Bを絞ることで、圧縮された原料ガスが吸着タンク内に充填された吸着剤の層密度が薄い部分や、圧力が小さい部分に集中して流れることで、部分的に吸着効率が悪くなる、所謂ショートパスの発生を防止できる。   (7) The L / D of each adsorption tank is set to a large value to make it an elongated pipe, thereby making it difficult for the gas to vortex inside. Thereby, the inside of the adsorbent can be passed in a laminar flow state or a flow close thereto, and the adsorption function can be improved. Further, by narrowing the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B, the compressed raw material gas is concentrated in a portion where the layer density of the adsorbent filled in the adsorption tank is thin or a portion where the pressure is low, It is possible to prevent the occurrence of a so-called short path that partially deteriorates the adsorption efficiency.

(8) 各吸着タンク4A、4B、6A、6Bからそれぞれ残留ガスを回収するので、均圧工程によって吸着工程を終えた吸着部内の圧力が低下し、不要なガス成分が吸着剤から分離するまでにより多くの残留ガスが回収でき、回収効率の向上、均圧処理の迅速化が図れる。   (8) Since the residual gas is recovered from each of the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, and 6B, the pressure in the adsorption section after the adsorption process is reduced by the pressure equalization process until unnecessary gas components are separated from the adsorbent. As a result, more residual gas can be recovered, improving the recovery efficiency and speeding up the pressure equalization process.

(9) ガス製造装置2Aは、従来、吸着部毎に設置した単一の吸着タンクを用いた場合に対し、複数の小型の吸着タンク4A、4B、6A、6Bを用いて同じ容積とすることで、加工性や可搬性の向上、配置の自由度の向上、部品交換の容易化などのメンテナンス性の向上が図れる。   (9) Conventionally, the gas production apparatus 2A has the same volume using a plurality of small adsorption tanks 4A, 4B, 6A, and 6B, compared to the conventional case where a single adsorption tank installed for each adsorption unit is used. As a result, it is possible to improve maintainability such as improvement in workability and portability, improvement in the degree of freedom of arrangement, and easy replacement of parts.

(10) 従来の大型タンクと同等のガス製造能力に対し、小型のタンクに関する規格や安全基準、認可などが適用できるなどの有利な点がある。   (10) The gas production capacity is equivalent to that of conventional large tanks, and there is an advantage that standards, safety standards, approvals, etc. for small tanks can be applied.

(11) 小型の吸着タンク4A、4B、6A、6Bを用いることで、吸着剤の使用量を減らすことができる。   (11) By using small adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B, the amount of adsorbent used can be reduced.

(12) 小型の吸着タンク4A、4B、6A、6Bを連結して配置することで、ガス製造装置の低背化、省スペース化が図れ、従来のガス製造装置と同じ設置スペースであれば、より多くのタンクを配置でき、ガスの製造量が高められる。   (12) By connecting small adsorption tanks 4A, 4B, 6A, and 6B, the gas production device can be reduced in height and space, and if it is the same installation space as a conventional gas production device, More tanks can be placed, and the amount of gas production is increased.

(13) 吸着タンクを小型化するとともに、原料ガスから製品ガスの回収効率が上げられるので、供給する原料ガスの流量を抑えられるなど、省電力化が図れる。   (13) While reducing the size of the adsorption tank and increasing the recovery efficiency of the product gas from the source gas, it is possible to save power by reducing the flow rate of the supplied source gas.

〔実施例〕   〔Example〕

図9は、吸着タンクの配置実施例を示す図である。図9に示す構成は一例である。   FIG. 9 is a diagram showing an arrangement example of the adsorption tank. The configuration shown in FIG. 9 is an example.

吸着タンク4A、4B、6A、6Bは、たとえば中空な円筒部材で形成されており、同等な高さで並列に配置される。吸着タンク4A、4Bはたとえば開口した両端面側にそれぞれ蓋部材70、72を密着させており、内部に充填した吸着剤および流入したガスが漏れ出るのを阻止している。吸着タンク4A、4B、6A、6Bは、たとえば蓋部材72側の端面を支持筐体60A、60Bの載置面62に載置され、図示しない固定手段によって固定支持される。この蓋部材70、72には、それぞれ、コネクタ部74、76が設置されており、原料ガスを流す管路やタンク同士を連通させる管路などが接続される。蓋部材70、72は、たとえば支持筐体60A、60Bや図示しない他の筐体に対して固定手段で固定されるほか、蓋部材70、72同士を図示しない固定手段で一体化させる。   The adsorption tanks 4A, 4B, 6A, and 6B are formed of, for example, hollow cylindrical members, and are arranged in parallel at the same height. For example, the adsorbing tanks 4A and 4B have lid members 70 and 72 in close contact with the open end faces, respectively, to prevent the adsorbent filled therein and the inflowing gas from leaking out. The adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B are mounted on the mounting surface 62 of the support housings 60A, 60B, for example, with the end surface on the lid member 72 side, and are fixedly supported by a fixing means (not shown). The lid members 70 and 72 are provided with connector portions 74 and 76, respectively, and are connected to a pipe line through which the source gas flows and a pipe line through which the tanks communicate with each other. The lid members 70 and 72 are fixed to the support housings 60A and 60B and other housings (not shown) by fixing means, for example, and the lid members 70 and 72 are integrated by fixing means (not shown).

この支持筐体60A、60Bは、本開示の支持筐体の一例であって、吸着タンク4A、4B、6A、6Bを設定した高さに配置させて固定支持する。支持筐体60Aは、たとえば吸着部4である吸着タンク4A、4Bを支持し、支持筐体60Bはたとえば吸着部6である吸着タンク6A、6Bを支持させることで、吸着部4、6毎に吸着タンク4A、4B、6A、6Bをユニット化することができる。この支持筐体60A、60Bは、たとえば金属材料で形成されており、側面部分に立壁部64が形成されることで、床面に対して載置面62を所定の高さすることができる。また載置面62の背面側には、たとえば管路や弁、その他の部品を配置させ、収納するための収納空間66が形成される。また載置面62には、蓋部材72のコネクタ部76やこのコネクタ部76に接続された管路を収納空間66側に配置させる貫通孔が形成されている。この貫通孔は、本開示のガス導入部の一例である。   The support housings 60A and 60B are an example of the support housing of the present disclosure, and the suction tanks 4A, 4B, 6A, and 6B are arranged and fixedly supported at a set height. The support housing 60A supports, for example, the suction tanks 4A, 4B that are the suction units 4, and the support housing 60B supports, for example, the suction tanks 6A, 6B that are the suction units 6, for each of the suction units 4, 6. The adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B can be unitized. The support housings 60A and 60B are made of, for example, a metal material, and the mounting surface 62 can be raised to a predetermined height with respect to the floor surface by forming the standing wall portion 64 on the side surface portion. On the back side of the mounting surface 62, a storage space 66 for storing and storing pipes, valves, and other components is formed. The mounting surface 62 is formed with a through hole through which the connector portion 76 of the lid member 72 and a pipe line connected to the connector portion 76 are arranged on the storage space 66 side. This through-hole is an example of the gas introduction part of the present disclosure.

その他支持筐体60A、60Bには、たとえば載置面62にガスの流路を設置するための配管コネクタ78、80を備えるほか、立壁部64の一面側に複数の配管コネクタ90、92、94、96が設置される。   In addition, the supporting housings 60A and 60B include, for example, piping connectors 78 and 80 for installing gas flow paths on the mounting surface 62, and a plurality of piping connectors 90, 92, and 94 on one surface side of the standing wall portion 64. 96 are installed.

なお、支持筐体60A、60Bは、たとえば連結可能にしてもよく、または一体に形成してもよい。   The support housings 60A and 60B may be connectable, for example, or may be integrally formed.

次に、支持筐体60A、60Bを利用したガス製造装置の配管構成例について説明する。   Next, a piping configuration example of a gas manufacturing apparatus using the support housings 60A and 60B will be described.

<U字設置の場合の配管の一例>   <Example of piping for U-shaped installation>

図10は、ガス製造装置の実施例を示す図である。   FIG. 10 is a diagram showing an embodiment of a gas production apparatus.

ガス製造装置2Cは、並列に配置した複数の吸着タンク4A、4B間、および吸着タンク6A、6B間を直列に連結させるために、それぞれの上面部同士を連結させた、所謂「U字設置」を採用している。このガス製造装置2Cでは、たとえば図10に示すように、ガス取り込み流路100から原料ガスを取り込み、開閉弁V1、V2が設置された流路102、104を通じて、吸着タンク4A、6Aの入側である底面部分に原料ガスが供給される。吸着タンク4A、4Bの出側である上面部分に連結管路106、108が接続されており、吸着タンク4B、6Bの入側である上面部分に原料ガスが導かれる。   The gas production apparatus 2C is a so-called “U-shaped installation” in which the upper surfaces of the adsorption tanks 4A and 4B arranged in parallel and the adsorption tanks 6A and 6B are connected in series. Is adopted. In this gas manufacturing apparatus 2C, for example, as shown in FIG. 10, the raw material gas is taken in from the gas take-in flow path 100, and the adsorbing tanks 4A, 6A enter the flow paths 102, 104 provided with the on-off valves V1, V2. The raw material gas is supplied to the bottom portion. Connecting pipes 106 and 108 are connected to the upper surface portion on the exit side of the adsorption tanks 4A and 4B, and the raw material gas is guided to the upper surface portion on the entry side of the adsorption tanks 4B and 6B.

この連結管路106、108は、均圧流路110、112が分岐しており、それぞれ吸着タンク6A、4Aの入側に接続する流路104、102に合流する。これにより均圧工程において吸着タンク4A、6Aの出側から他の吸着タンク6A、4Aの入側に連通させて、残留ガスを流すことができる。   The connecting conduits 106 and 108 have branched pressure equalizing channels 110 and 112, and merge into the channels 104 and 102 connected to the inlet sides of the adsorption tanks 6A and 4A, respectively. As a result, in the pressure equalization process, the residual gas can be caused to flow from the outlet side of the adsorption tanks 4A, 6A to the inlet side of the other adsorption tanks 6A, 4A.

吸着部4、6で製造された製品ガスは、吸着タンク4B、6Bの出側である底面部分から、それぞれ開閉弁V5、V6が設置された製品ガス流路114、116を通じて管路118に流され、製品タンク30内に導かれる。   The product gas produced in the adsorbing units 4 and 6 flows from the bottom part on the outlet side of the adsorbing tanks 4B and 6B to the pipe line 118 through the product gas channels 114 and 116 in which the on-off valves V5 and V6 are installed, respectively. And guided into the product tank 30.

製品ガス流路114、116は、一部が分岐されており、開閉弁V7を備えた均圧流路120によって連結される。これにより、均圧工程において、下流側の吸着タンク4B、6Bの出側同士が連結されて、純度の高い残留ガスを流すことができる。   The product gas channels 114 and 116 are partially branched and are connected by a pressure equalizing channel 120 provided with an on-off valve V7. Thereby, in the pressure equalization process, the outlet sides of the adsorption tanks 4B and 6B on the downstream side are connected to each other, and a high purity residual gas can flow.

また、流路102、104には、たとえばそれぞれ開閉弁V1、V2の後に分岐され、排気管路122、124が接続されている。再生工程では、吸着タンク4A、6Aの入側から排出された排気ガスが流路102、104の一部を逆流し、排気管路122、124を通じて装置外部に排出される。   Further, the flow paths 102 and 104 are branched after, for example, the on-off valves V1 and V2, respectively, and exhaust pipe lines 122 and 124 are connected thereto. In the regeneration process, the exhaust gas discharged from the inlet side of the adsorption tanks 4A and 6A flows backward through a part of the flow paths 102 and 104 and is discharged to the outside of the apparatus through the exhaust pipe lines 122 and 124.

図11は、ガス製造装置の配管構造の一例を示している。   FIG. 11 shows an example of the piping structure of the gas production apparatus.

図11に示すガス製造装置2Dは、たとえば「U字設置」を採用したガス流路について、開閉弁V1〜V9の配置や連結状態の実施例を示している。このガス製造装置2Dでは、一部の開閉弁が支持筐体60A、60Bを介して設置されるほか、収納空間66を通じて流路が配管される。ここでは、原料ガスの流れ方向に沿って、配管状態を説明する。   The gas manufacturing apparatus 2D shown in FIG. 11 shows an example of the arrangement and connection state of the on-off valves V1 to V9 for a gas flow path employing, for example, “U-shaped installation”. In the gas manufacturing apparatus 2D, some on-off valves are installed via the support housings 60A and 60B, and a flow path is piped through the storage space 66. Here, a piping state is demonstrated along the flow direction of source gas.

このガス製造装置2Dでは、たとえば装置の左右側に設置されたガス取り込み流路130、140を通じて原料ガスを取り込み、開閉弁V1、V2および分岐管路132、142に接続された流路134、144を通過させ、配管コネクタ90、94を通って吸着タンク4A、6Aの底面部分に原料ガスが供給される。吸着タンク4A、6A内を上昇して、その出側に達した原料ガスは、蓋部材70のコネクタ部74側に流される。このコネクタ部74には、図示しない連結管路が接続される。   In this gas production apparatus 2D, for example, the raw material gas is taken in through gas intake passages 130 and 140 installed on the left and right sides of the apparatus, and the flow paths 134 and 144 connected to the on-off valves V1 and V2 and the branch pipes 132 and 142, respectively. The raw material gas is supplied to the bottom portions of the adsorption tanks 4A and 6A through the pipe connectors 90 and 94. The source gas that has risen in the adsorption tanks 4 </ b> A and 6 </ b> A and has reached the outlet side thereof is caused to flow toward the connector portion 74 of the lid member 70. A connecting pipe (not shown) is connected to the connector portion 74.

連結管路は、図示しない吸着タンク4B、6Bに原料ガスを流す管路であり、その一部に均圧流路150、152が連結される。均圧流路150、152は、設置された開閉弁V8、V9の開閉に応じて、吸着タンク4A、6Aを通過した原料ガスをガス取り込み流路140、130側に流す流路である。すなわち、この均圧流路150、152は、均圧工程において、吸着タンク4A、6A同士の出側と入側とを互いに連結している。ガス取り込み流路140、130に流された原料ガスは、分岐管路132、142を通じて吸着タンク4A、6Aに流入する。   The connecting pipe is a pipe through which the raw material gas flows through the adsorption tanks 4B and 6B (not shown), and the pressure equalizing channels 150 and 152 are connected to a part of the connecting pipe. The pressure equalization flow paths 150 and 152 are flow paths that flow the raw material gas that has passed through the adsorption tanks 4A and 6A to the gas intake flow paths 140 and 130 according to the opening and closing of the installed on-off valves V8 and V9. That is, the pressure equalization channels 150 and 152 connect the outlet side and the inlet side of the adsorption tanks 4A and 6A to each other in the pressure equalization step. The raw material gas that has flowed into the gas intake channels 140 and 130 flows into the adsorption tanks 4A and 6A through the branch pipes 132 and 142.

ガス取り込み流路130、140に連結された分岐管路132、142は、それぞれ排気管路136、146が接続されている。排気管路136、146は、たとえば再生工程において、吸着タンク4A、6Aの入側から排出されたガスが配管コネクタ90、94を通じて流路134、144に逆流したガスが流れ込み、配管コネクタ78、80を通じて装置外部に排出させる。   The branch pipes 132 and 142 connected to the gas intake passages 130 and 140 are connected to exhaust pipes 136 and 146, respectively. In the exhaust pipes 136 and 146, for example, in the regeneration process, the gas discharged from the inlet side of the adsorption tanks 4A and 6A flows back into the flow paths 134 and 144 through the pipe connectors 90 and 94, and the pipe connectors 78 and 80 Through the device.

また、ガス製造装置2Dには、たとえば吸着部4、6の前面中央側に、開閉弁V5、V6、V7が連結された管路が形成されており、その下部側の一部に配管コネクタ92、96に対して製品ガス流路160、162が接続される。配管コネクタ92、96は、収納空間内を通じて図示しない吸着タンク4B、6Bの出側に接続された流路に接続されており、製品ガスが流される。製品ガスは、製品ガス流路160、162から開閉弁V5、V6を通過し、管路168から図示しない製品タンクに流される。   Further, in the gas manufacturing apparatus 2D, for example, pipes connected to the on-off valves V5, V6, and V7 are formed on the front center side of the adsorption parts 4 and 6, and a pipe connector 92 is formed on a part of the lower side thereof. , 96 are connected to product gas flow paths 160, 162. The pipe connectors 92 and 96 are connected to the flow path connected to the outlet side of the adsorption tanks 4B and 6B (not shown) through the storage space, and the product gas flows. The product gas passes through the on-off valves V5 and V6 from the product gas flow paths 160 and 162, and flows from the pipe line 168 to a product tank (not shown).

その他、製品ガス流路160、162と開閉弁V5、V6の間には、開閉弁V7に接続される均圧流路164A、164Bが分岐されるほか、オリフィス166を備えた管路が形成される。均圧流路164A、164Bは、均圧工程において、吸着タンク4B、6B同士を連通させる。   In addition, pressure equalization channels 164A and 164B connected to the on-off valve V7 are branched between the product gas channels 160 and 162 and the on-off valves V5 and V6, and a pipe line having an orifice 166 is formed. . The pressure equalization channels 164A and 164B communicate the adsorption tanks 4B and 6B with each other in the pressure equalization process.

開閉弁V5、V6、V7を備えた管路は、たとえば吸着タンク4A、4B、6A、6Bに対して下部側の高さに配置されるものに限られず、その上部側の高さに合せて配置してもよい。これらの管路は、たとえば図示しないガス製造装置2Dの外部筐体によって固定支持すればよい。   The pipe line provided with the on-off valves V5, V6, V7 is not limited to the one arranged at the lower side with respect to the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B, for example, but according to the height of the upper side. You may arrange. These pipelines may be fixedly supported by, for example, an external housing of a gas manufacturing apparatus 2D (not shown).

<S字設置の場合の配管の一例>   <Example of piping for S-shaped installation>

図12は、ガス製造装置の実施例を示す図である。   FIG. 12 is a diagram showing an embodiment of a gas production apparatus.

ガス製造装置2Eは、たとえば並列に配置された吸着タンク4A、4B間、および吸着タンク6A、6B間を直列に連結させるために、上面側の端面と底面側の端面とを連結させる、所謂「S字設置」が採用されている。   The gas manufacturing apparatus 2E connects, for example, an end surface on the upper surface side and an end surface on the bottom surface side in order to connect the adsorption tanks 4A and 4B arranged in parallel and the adsorption tanks 6A and 6B in series. "S-shaped installation" is adopted.

このガス製造装置2Eは、たとえば図12に示すように、ガス取り込み流路200から原料ガスを取り込み、開閉弁V1、V2が設置された流路202、204を通じて、吸着タンク4A、6Aの入側である底面部分に原料ガスが供給される。吸着タンク4A、4Bの出側である上面部分には、連結管路206、208が接続されている。吸着タンク4A、6Aを通過した原料ガスは、連結管路206、208を通じて吸着タンク4B、6Bの底面側に導かれる。すなわち、「S字設置」のガス製造装置2Eでは、各吸着タンク4A、4B、6A、6Bの底面部分を入側、上面部分を出側とし、全てのタンク内でガスを上昇方向に流すように流路を接続している。   For example, as shown in FIG. 12, the gas manufacturing apparatus 2E takes in a raw material gas from a gas take-in flow path 200 and enters the adsorption tanks 4A and 6A through flow paths 202 and 204 in which on-off valves V1 and V2 are installed. The raw material gas is supplied to the bottom portion. Connection pipe lines 206 and 208 are connected to the upper surface portion on the exit side of the adsorption tanks 4A and 4B. The raw material gas that has passed through the adsorption tanks 4A and 6A is guided to the bottom surface side of the adsorption tanks 4B and 6B through the connecting pipelines 206 and 208. That is, in the gas manufacturing apparatus 2E of “S-shaped installation”, the bottom surface portion of each adsorption tank 4A, 4B, 6A, 6B is set as the inlet side, and the upper surface portion is set as the outlet side so that the gas flows in the upward direction in all the tanks Is connected to the flow path.

連結管路206、208は、流路上で均圧流路210、212が分岐しており、それぞれ吸着タンク6A、4Aの入側への流路204、202に合流する。これにより均圧工程において吸着タンク4A、6Aの出側から他の吸着タンク6A、4Aの入側を連通させて、残留ガスを流すことができる。   In the connecting pipes 206 and 208, pressure equalizing channels 210 and 212 are branched on the channel, and merge into the channels 204 and 202 to the inlet side of the adsorption tanks 6A and 4A, respectively. Thereby, in the pressure equalization process, the inlet side of the other adsorption tanks 6A, 4A can be communicated from the outlet side of the adsorption tanks 4A, 6A to flow the residual gas.

吸着部4、6で製造された製品ガスは、吸着タンク4B、6Bの上面部分から、それぞれ開閉弁V5、V6が設置された製品ガス流路214、216を通じて管路218に流され、製品タンク30内に導かれる。   The product gas produced in the adsorption parts 4 and 6 is caused to flow from the upper surface portion of the adsorption tanks 4B and 6B to the pipe line 218 through the product gas flow paths 214 and 216 in which the on-off valves V5 and V6 are installed, respectively. 30.

製品ガス流路214、216は、一部が分岐されており、開閉弁V7を備えた均圧流路220によって連結される。これにより、均圧工程において、下流側の吸着タンク4B、6Bの出側同士が連結されて、純度の高い残留ガスを流すことができる。   The product gas channels 214 and 216 are partially branched and are connected by a pressure equalizing channel 220 provided with an on-off valve V7. Thereby, in the pressure equalization process, the outlet sides of the adsorption tanks 4B and 6B on the downstream side are connected to each other, and a high purity residual gas can flow.

また、流路202、204には、たとえばそれぞれ開閉弁V1、V2の後の分岐点201、203に、排気管路222、224が接続されている。再生工程では、吸着タンク4A、6Aの入側から排出された排気ガスが流路202、204の一部を逆流し、排気管路222、224を通じて装置外部に排出される。   Further, the exhaust pipes 222 and 224 are connected to the flow paths 202 and 204, for example, at branch points 201 and 203 after the on-off valves V1 and V2, respectively. In the regeneration process, the exhaust gas discharged from the inlet side of the adsorption tanks 4A and 6A flows backward through a part of the flow paths 202 and 204, and is discharged outside the apparatus through the exhaust pipe lines 222 and 224.

図13は、ガス製造装置の配管構造の一例を示している。   FIG. 13 shows an example of the piping structure of the gas manufacturing apparatus.

図13に示すガス製造装置2Fは、「S字設置」を採用したガス流路について、開閉弁V1〜V9の配置や連結状態の実施例を示している。このガス製造装置2Fでは、一部の開閉弁が支持筐体60A、60Bを介して設置されるほか、収納空間66を通じて流路が配管される。   The gas manufacturing apparatus 2F shown in FIG. 13 shows an example of the arrangement and connection state of the on-off valves V1 to V9 for the gas flow path adopting “S-shaped installation”. In the gas manufacturing apparatus 2F, some on-off valves are installed via the support housings 60A and 60B, and a flow path is piped through the storage space 66.

ガス製造装置2Fでは、たとえば装置の左右側に設置されたガス取り込み流路230、240を通じて原料ガスを取り込み、開閉弁V1、V2および分岐管路232、242に接続された流路234、244を通過させ、配管コネクタ90、94を通って吸着タンク4A、6Aの底面部分に原料ガスを供給する。吸着タンク4A、6A内を上昇して、その出側に達した原料ガスは、蓋部材70のコネクタ部74側に流される。このコネクタ部74には、連結管路250、252が接続されている。原料ガスは、連結管路250、252によって、支持筐体60A、60Bの収納空間66を介して吸着タンク4B、6Bの底面側に流される。   In the gas manufacturing apparatus 2F, for example, the raw material gas is taken in through the gas taking-in flow paths 230 and 240 installed on the left and right sides of the apparatus, and the flow paths 234 and 244 connected to the on-off valves V1 and V2 and the branch pipes 232 and 242 are provided. The raw material gas is supplied to the bottom portions of the adsorption tanks 4A and 6A through the pipe connectors 90 and 94. The source gas that has risen in the adsorption tanks 4 </ b> A and 6 </ b> A and has reached the outlet side thereof is caused to flow toward the connector portion 74 of the lid member 70. Connected conduits 250 and 252 are connected to the connector portion 74. The source gas is caused to flow to the bottom surface side of the adsorption tanks 4B and 6B through the storage spaces 66 of the support housings 60A and 60B through the connecting pipe lines 250 and 252.

連結管路250、252には、一部に均圧流路260、262が連結されている。均圧流路260、262は、開閉弁V8、V9が設置された流路254、256に接続されており、開閉弁V8、V9の開閉に応じて、吸着タンク4A、6Aを通過した原料ガスをガス取り込み流路240、230側に流す。すなわち、この均圧流路260、262および流路254、256は、均圧工程において、吸着タンク4A、6Aの出側と他の吸着タンク6A、4Aの入側とを連通し、原料ガスを吸着タンク4A、6A内に流入させる。   The pressure equalizing channels 260 and 262 are partially connected to the connecting pipelines 250 and 252. The pressure equalization channels 260 and 262 are connected to channels 254 and 256 in which the on-off valves V8 and V9 are installed. The gas is introduced to the gas intake channels 240 and 230 side. That is, the pressure equalizing channels 260 and 262 and the channels 254 and 256 communicate the outlet side of the adsorption tanks 4A and 6A and the inlet side of the other adsorption tanks 6A and 4A in the pressure equalizing process, and adsorb the raw material gas. It flows into the tanks 4A and 6A.

ガス取り込み流路230、240に連結された分岐管路232、242には、それぞれ排気管路236、246が接続されている。排気管路236、246は、たとえば再生工程において、吸着タンク4A、6Aの入側から排出されたガスが配管コネクタ90、94を通じて流路234、244に逆流させたガスが流れこみ、配管コネクタ78、80を通じて装置外部に排出させる。   Exhaust pipes 236 and 246 are connected to the branch pipes 232 and 242 connected to the gas intake channels 230 and 240, respectively. In the exhaust pipes 236 and 246, for example, in the regeneration process, the gas discharged from the inlet side of the adsorption tanks 4A and 6A flows back into the flow paths 234 and 244 through the pipe connectors 90 and 94, and the pipe connector 78 , 80 to the outside of the apparatus.

また、吸着部4、6の前面中央側には、開閉弁V5、V6、V7が連結された管路が配置されており、上部側に吸着タンク4B、6Bの出側と接続する製品ガス流路270、272が接続される。製品ガス流路270、272から取り込んだ製品ガスは、開閉弁V5、V6を通過し、管路258を通じて製品タンク側に供給される。また製品ガス流路270、272は、一部が分岐されており、開閉弁V7を備えた均圧流路266で合流するほか、オリフィス274を備えた管路が形成される。均圧流路266は、既述のように、均圧工程において、吸着タンク4B、6B間で製品ガスを流すのに用いられる。   Further, pipes connected to the on-off valves V5, V6, V7 are arranged on the front center side of the adsorption parts 4, 6, and the product gas flow connected to the outlet side of the adsorption tanks 4B, 6B on the upper side. Paths 270 and 272 are connected. The product gas taken in from the product gas flow paths 270 and 272 passes through the on-off valves V5 and V6, and is supplied to the product tank side through the pipe line 258. The product gas flow paths 270 and 272 are partially branched, and are joined by a pressure equalization flow path 266 provided with an on-off valve V7, and a pipe line provided with an orifice 274 is formed. As described above, the pressure equalizing flow path 266 is used to flow the product gas between the adsorption tanks 4B and 6B in the pressure equalizing process.

開閉弁V5、V6、V7を備えた管路は、たとえば吸着タンク4A、4B、6A、6Bに対して下部側の高さに配置されるものに限られず、その上部側の高さに合せて配置してもよい。これらの管路は、たとえば図示しないガス製造装置2Dの外部筐体によって固定支持すればよい。   The pipe line provided with the on-off valves V5, V6, V7 is not limited to the one arranged at the lower side with respect to the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B, for example, but according to the height of the upper side. You may arrange. These pipelines may be fixedly supported by, for example, an external housing of a gas manufacturing apparatus 2D (not shown).

なお、ガス製造装置2C〜2Fに形成される流路は、たとえば屈曲させた金属製の管路を利用するほか、樹脂等のフレキシブルな材質の管路を利用してもよい。   In addition, the flow path formed in the gas manufacturing apparatuses 2C to 2F may use, for example, a bent metal pipe or a pipe made of a flexible material such as resin.

<実施例の効果>   <Effect of Example>

この実施例の構成によれば、次のような効果も期待できる。   According to the configuration of this embodiment, the following effects can be expected.

(1) 小型の吸着タンク4A、4B、6A、6Bを並列に配置させ、それぞれ変形可能な管路で連結させることで、ガス製造装置の小型化、省スペース化や低背化が図れる。   (1) By arranging the small adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B in parallel and connecting them with deformable pipes, the gas production apparatus can be reduced in size, space-saving, and reduced in height.

(2) 支持筐体60A、60B、および蓋部材70、72を介して固定支持させることで、吸着タンク4A、4B、6A、6Bを安定支持でき、ガス製造装置の安全性が高められる。   (2) By fixing and supporting the support housings 60A and 60B and the lid members 70 and 72, the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, and 6B can be stably supported, and the safety of the gas production apparatus is improved.

(3) 支持筐体60A、60Bによりユニット化することで、吸着タンク4A、4B、6A、6Bの可搬性や部品交換性、配置の自由度が高められる。   (3) By unitizing with the support housings 60A and 60B, the portability of the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, and 6B, the component exchangeability, and the degree of freedom of arrangement can be increased.

(4) タンクの容積を小さくできるので、吸着工程時の内部圧力も小さくなり、ガス洩れや装置の一部が破損した場合でも、外部への影響を小さくできるので、安全性が高められる。   (4) Since the volume of the tank can be reduced, the internal pressure during the adsorption process is also reduced, and even if a gas leak or a part of the device is damaged, the influence on the outside can be reduced, thus improving safety.

(5) 各吸着タンク4A、4B、6A、6Bに対し、開閉弁V1〜V9またはその一部を装置の下方側や前面側に集約して配置し、ガス製造装置を低重心化させることで、設置状態の安定化を図ることができる。   (5) For each of the adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B, the on-off valves V1 to V9 or a part of them are gathered and arranged on the lower side or front side of the device to lower the center of gravity of the gas production device. The installation state can be stabilized.

(6) 複数の吸着タンク4A、4B、6A、6Bや管路および開閉弁V1〜V9の全部または一部を共通の支持筐体60A、60Bで支持させることで、ガス製造装置の使用環境に関わらず、支持状態の安定化を図ることができる。すなわち、ガス製造装置2C〜2Fは、設置環境を選ばない。   (6) By supporting all or a part of the plurality of adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B, pipes and on-off valves V1 to V9 with a common support housing 60A, 60B, the usage environment of the gas production apparatus can be improved. Regardless, the support state can be stabilized. That is, the gas production apparatuses 2C to 2F do not select the installation environment.

(7) 小型のタンクを複数利用することで、部品毎の分解や組立て処理の容易化が図れる。また部品毎のメンテナンス性の向上、および吸着剤や開閉弁などの交換作業の容易化が図れる。   (7) By using multiple small tanks, the disassembly and assembly process for each part can be facilitated. In addition, the maintenance performance for each part can be improved, and the replacement work such as the adsorbent and the on-off valve can be facilitated.

〔比較例〕 [Comparative Example]

次に、吸着部4、6を複数の吸着タンク4A、4Bまたは吸着タンク6A、6Bを直列に連結した場合について比較例を示す。図14は、吸着タンクの比較例を示している。   Next, a comparative example will be described for the case where the adsorption units 4 and 6 are connected to a plurality of adsorption tanks 4A and 4B or adsorption tanks 6A and 6B in series. FIG. 14 shows a comparative example of the adsorption tank.

この比較例では、吸着部4、6が容積Vとしてたとえば200〔L〕で形成される場合の例を示す。本発明の吸着部4、6は、たとえば図14のAに示すように、幅D1=D2=291〔mm〕、長さL1=L2=1500〔mm〕である。この時の長さと幅の比率L/Dは、5.15となる。   In this comparative example, an example in which the adsorbing portions 4 and 6 are formed with a volume V of, for example, 200 [L] is shown. For example, as shown in FIG. 14A, the suction portions 4 and 6 of the present invention have a width D1 = D2 = 291 [mm] and a length L1 = L2 = 1500 [mm]. The length / width ratio L / D at this time is 5.15.

比較対象1のタンクは、たとえば図14のBに示すように、吸着タンク4A、4Bよりも幅Dが広く設定されている。この比較対象1ではたとえば幅D3=500〔mm〕となり、容積を同じにすることで、長さL3=1000〔mm〕となる。この長さと幅の長さ比は、たとえばL/D=2となる。   For example, as shown in FIG. 14B, the comparison target 1 tank has a width D wider than that of the adsorption tanks 4A and 4B. In this comparison object 1, for example, the width D3 = 500 [mm], and by making the volumes the same, the length L3 = 1000 [mm]. The length to width ratio is, for example, L / D = 2.

比較対象2のタンクは、たとえば図14のCに示すように、単一の管路であって、幅D4=291〔mm〕とし、本発明の吸着タンク4A、4Bと同様に管路幅を設定している。また比較対象2のタンクは、容積および幅Dの値に基づいて、長さL4=3000〔mm〕で形成されており、その長さと幅の比率が、L/D=10.3となる。   For example, as shown in FIG. 14C, the tank of the comparison target 2 is a single pipeline, and has a width D4 = 291 [mm], and the pipeline width is the same as that of the adsorption tanks 4A and 4B of the present invention. It is set. Further, the tank of the comparison object 2 is formed with a length L4 = 3000 [mm] based on the value of the volume and the width D, and the ratio of the length to the width is L / D = 10.3.

管路内に流れるガスは、流速が管の中央側で速く、管壁面に近づくにつれて遅くなる、速度勾配が生じる。この速度勾配は、たとえば流れるガスの粘性やタンクの内壁やまたは内部に充填された吸着剤との間の流動抵抗などが影響する。流れによって生じるガスの速度勾配は、たとえば、ガスの流速などの影響も受けるが、タンク内の流れが進むに従って、勾配が多くなり、吸着タンク内の下流側において、流れの差が生れてしまう。このような流れの差が生まれると、ガスの先端側に、ガスが流れにくくなるデッドスペースXが生じてしまう場合がある。このようなデッドスペースXが大きくなると、吸着剤の一部側に集中してガスが流れることになり、吸着能力が落ち、ガスの純度が低下するおそれがある。   The gas flowing in the pipe line has a velocity gradient in which the flow velocity is fast at the center side of the pipe and slows toward the pipe wall surface. This velocity gradient is influenced by, for example, the viscosity of the flowing gas and the flow resistance between the inner wall of the tank and the adsorbent filled therein. The velocity gradient of the gas generated by the flow is also affected by, for example, the gas flow velocity, but as the flow in the tank proceeds, the gradient increases and a difference in flow occurs on the downstream side in the adsorption tank. When such a difference in flow occurs, a dead space X that makes it difficult for the gas to flow may occur on the front end side of the gas. When such a dead space X becomes large, the gas flows in a concentrated manner on a part of the adsorbent, so that the adsorption capacity is lowered and the purity of the gas may be lowered.

デッドスペースXは、たとえば比較例1が一番大きく、次に比較例2となり、本発明の吸着タンク4A、4B、6A、6Bが最も少なく、吸着剤に対するガスの接触面積が大きいため、ガスの回収率を低下させず、多くの製品ガスの製造が行える。   The dead space X is, for example, the largest in Comparative Example 1, and then in Comparative Example 2. The adsorption tanks 4A, 4B, 6A, 6B of the present invention are the smallest, and the contact area of the gas with the adsorbent is large. Many product gases can be produced without reducing the recovery rate.

このように通常の単一のタンクを利用する場合に対し、本発明の吸着タンク4A、4Bを用いれば、狭小な連結管路16、(18)を介在させることで、各吸着タンク4A、4B毎のデッドスペースXの発生が抑えられ、ガスの回収率を維持できる。これは連結管路16が狭小な部分でガスの流れを部分的に堰き止めることで、速度勾配がリセットされることによる。また複数の吸着タンク4A、4Bを利用することで、設定された吸着部4、6の必要容積に対して流路の長さが分割されるので、タンクの流路でガスの流れが十分に発達せず、速度勾配を抑えることができる。   In contrast to the case of using an ordinary single tank as described above, if the adsorption tanks 4A and 4B of the present invention are used, the adsorption tanks 4A and 4B can be obtained by interposing the narrow connection pipes 16 and (18). Generation of the dead space X for each time is suppressed, and the gas recovery rate can be maintained. This is because the velocity gradient is reset by partially blocking the flow of the gas in the narrow portion of the connecting pipe 16. Further, by using the plurality of adsorption tanks 4A and 4B, the length of the flow path is divided with respect to the set required volume of the adsorption portions 4 and 6, so that the gas flow is sufficiently in the tank flow path. It does not develop and can suppress the velocity gradient.

〔他の実施の形態〕   [Other Embodiments]

以上説明した実施の形態について、変形例を以下に列挙する。   Examples of modifications described above are listed below.

(1) 上記実施の形態では、各吸着部4、6に対してそれぞれ2つずつの吸着タンク4A、4B、6A、6Bを備える場合を示したがこれに限られない。各吸着部4、6には、3つ以上の吸着タンクを直列に連結してもよい。3つ以上の吸着タンクを利用する場合、タンク同士を連通させる均圧流路は、たとえば上流側から対応する吸着タンク同士の入側と出側同士に均圧流路を設置すればよい。そのほか、均圧流路は、再下流側の吸着タンク以外の複数の吸着タンクについて、まとめて出側と入側とを互いに連通させてもよい。   (1) In the above-described embodiment, the case where the two adsorption tanks 4A, 4B, 6A, and 6B are provided for each of the adsorption units 4 and 6 is described, but the present invention is not limited thereto. Three or more adsorption tanks may be connected in series to each adsorption unit 4, 6. When three or more adsorption tanks are used, the pressure equalization flow path for connecting the tanks may be set, for example, on the inlet side and the outlet side of the corresponding adsorption tanks from the upstream side. In addition, the pressure equalizing flow path may collectively connect the outlet side and the inlet side with respect to a plurality of adsorption tanks other than the re-downstream side adsorption tank.

(2) 上記実施の形態では、吸着部4、6は、それぞれ複数の吸着タンク4Aと4B、および吸着タンク6Aと6Bが別部材の連結管路16、18で連結されることを示したがこれに限られない。連結管路16、18は、たとえば吸着タンク4Aと4B、または吸着タンク6A、6Bとが一体に形成され、その間に狭小な連結部(16、18)が形成されてもよい。この場合、連結部(16、18)の内部には、吸着剤を充填させない構造とすればよい。   (2) In the above-described embodiment, the adsorbing units 4 and 6 indicate that the adsorbing tanks 4A and 4B and the adsorbing tanks 6A and 6B are connected by connecting pipes 16 and 18 as separate members, respectively. It is not limited to this. For example, the adsorbing tanks 4A and 4B or the adsorbing tanks 6A and 6B may be integrally formed and the narrow connecting portions (16 and 18) may be formed therebetween. In this case, what is necessary is just to set it as the structure which does not fill an inside of a connection part (16, 18) with adsorption agent.

(3) 上記実施の形態では、連結管路16、18に対して均圧流路20、22が接続される場合を示したがこれに限られない。均圧工程では、吸着タンク4Aの出側と吸着タンク6Aの入側とを連通させ、または吸着タンク6Aの出側と吸着タンク4Aの入側とを連通させればよく、吸着タンク4A、4B、6A、6Bの端部から直接均圧流路20、22を接続してもよい。   (3) In the above embodiment, the case where the pressure equalizing channels 20 and 22 are connected to the connecting pipelines 16 and 18 is shown, but the present invention is not limited to this. In the pressure equalization process, the outlet side of the adsorption tank 4A and the inlet side of the adsorption tank 6A may be communicated, or the outlet side of the adsorption tank 6A and the inlet side of the adsorption tank 4A may be communicated. , 6A, 6B may be connected directly to the pressure equalizing channels 20, 22.

(4) 上記実施の形態では、並列に配置した複数の吸着タンク4A、4B、6A、6Bについて、隣り合うタンク同士が吸着部4、6になるように連結管路16、18を接続する場合を示したがこれに限られない。連結管路16、18は、たとえば四角形状に対向して配置した4つの吸着タンク4A、4B、6A、6Bに対して、対角線上に連結させてもよい。   (4) In the above embodiment, the connection pipes 16 and 18 are connected so that the adjoining tanks become the adsorbing portions 4 and 6 for the plural adsorbing tanks 4A, 4B, 6A and 6B arranged in parallel. However, the present invention is not limited to this. The connection pipelines 16 and 18 may be connected diagonally to, for example, the four suction tanks 4A, 4B, 6A, and 6B arranged in a quadrilateral shape.

(5) 上記実施の形態では、オリフィス36は、吸着タンク4B、6B間を連結した管路34に狭小領域を形成した場合を示したがこれに限られない。オリフィス36は、たとえば同径の管路に設けた開閉弁を利用してもよい。すなわち、管路34は、この開閉弁の開度を調整して流路を狭めることで、オリフィスを形成すればよい。さらに、このような構成に対し、オリフィスを設けた管路34と開閉弁V7が別に設けられた均圧流路32を備える場合を示したが、これに限られない。均圧・再生工程時には、狭小なオリフィスを形成するように開度を設定し、均圧工程では完全な開状態に設定してもよい。   (5) In the above-described embodiment, the orifice 36 is shown as having a narrow area formed in the pipe line 34 connecting the adsorption tanks 4B and 6B. However, the present invention is not limited to this. For the orifice 36, for example, an on-off valve provided on a pipe having the same diameter may be used. That is, the pipe line 34 may be formed with an orifice by adjusting the opening degree of the on-off valve to narrow the flow path. Furthermore, although the case where the pressure equalizing flow path 32 in which the pipe line 34 provided with the orifice and the on-off valve V7 are separately provided is shown for such a configuration, the present invention is not limited thereto. In the pressure equalization / regeneration process, the opening degree may be set so as to form a narrow orifice, and in the pressure equalization process, a completely open state may be set.

(6) 上記実施の形態では、吸着部4、6の再生工程に際し、吸着剤から不要なガス成分を分離させ、排気させるために、他の吸着部側からオリフィスを通じて、高圧の製品ガスを流す場合を示したがこれに限られない。再生工程における不要ガスの分離や排気には、たとえば排気管路側から真空吸引を行ってもよい。   (6) In the above embodiment, in the regeneration process of the adsorbing units 4 and 6, in order to separate unnecessary gas components from the adsorbent and exhaust, a high-pressure product gas is flowed through the orifice from the other adsorbing unit side. Although the case is shown, it is not limited to this. For separation or exhaust of unnecessary gas in the regeneration process, for example, vacuum suction may be performed from the exhaust pipe side.

(7) 吸着部4、6は、それぞれ異なる数の吸着タンクを備えてもよい。この場合、均圧工程における接続先は、たとえば最下流側のタンク同士は、出側同士を接続し、他のタンクは、出側から入側に接続させればよく、さらに、1のタンクから複数のタンクの入側に連通部を分岐配管させてもよい。   (7) The adsorption units 4 and 6 may include different numbers of adsorption tanks. In this case, the connection destination in the pressure equalization process is such that, for example, the most downstream tanks are connected to the output side, and the other tanks are connected from the output side to the input side. You may make a communicating part branch piping to the entrance side of a some tank.

以上、本発明の好ましい実施の形態等について説明した。しかし、本発明の技術は上記実施の形態の記載に限定されるものではない。特許請求の範囲に記載され、または明細書に開示された技術の要旨に基づき、当業者において様々な変形や変更が可能であることは勿論である。そして斯かる変形や変更が本開示の技術に含まれることは言うまでもない。
The preferred embodiments of the present invention have been described above. However, the technology of the present invention is not limited to the description of the above embodiment. It goes without saying that various modifications and changes can be made by those skilled in the art based on the gist of the technology described in the claims or disclosed in the specification. Needless to say, such modifications and changes are included in the technology of the present disclosure.

本発明は、原料ガスから吸着剤により特定の製品ガスを分離して供給するガス製造装置に関し、複数の吸着タンクを直列に連結するとともに、上流側の吸着タンク同士の出側と入側とを連通させることで、内部に残留した製品ガスの純度を低下させず、かつ残留ガスをより多く回収することで、製品ガスの回収効率を上げる、製品ガスの供給量を増やせるので、有用である。
The present invention relates to a gas manufacturing apparatus that separates and supplies a specific product gas from a raw material gas by an adsorbent, and connects a plurality of adsorption tanks in series, and connects an outlet side and an inlet side between upstream adsorption tanks. By communicating, the purity of the product gas remaining inside is not lowered, and more residual gas is recovered, so that the recovery efficiency of the product gas can be increased and the supply amount of the product gas can be increased, which is useful.

2A〜2F ガス製造装置
2−1、2−2、・・・2−N ガス製造ユニット
4、6 吸着部
4A、4B、6A、6B 吸着タンク
8 原料ガス供給部
10、100、130、140、200、230、240 ガス取り込み流路
12、14、102、104、134、144、202、204、234、244、254、256 流路
16、18、106、108、206、208、250、252 連結管路
20、22、32、110、112、120、150、152、164A、164B、210、212、220、260、262、266 均圧流路
24、26、114、116、160、162、214、216、270、272 製品ガス流路
28、34、118、168、218、258 管路
30 製品タンク
36 オリフィス
38、40、122、124、136、146、222、224、236、246 排気管路
42 制御部
50 プロセッサ
52 メモリ
54 タイマ
56 I/O
60A、60B 支持筐体
62 載置面
64 立壁部
66 収納空間
70、72 蓋部材
74、76 コネクタ部
78、80 配管コネクタ
90、92、94、96 配管コネクタ
132、142、232、242 分岐管路
166 オリフィス
201、203 分岐点

2A to 2F Gas production apparatus 2-1, 2-2, ... 2-N Gas production unit 4, 6 Adsorption unit 4A, 4B, 6A, 6B Adsorption tank 8 Raw material gas supply unit 10, 100, 130, 140, 200, 230, 240 Gas intake flow path 12, 14, 102, 104, 134, 144, 202, 204, 234, 244, 254, 256 Flow path 16, 18, 106, 108, 206, 208, 250, 252 Connection Pipe line 20, 22, 32, 110, 112, 120, 150, 152, 164A, 164B, 210, 212, 220, 260, 262, 266 Pressure equalizing flow path 24, 26, 114, 116, 160, 162, 214, 216, 270, 272 Product gas flow path 28, 34, 118, 168, 218, 258 Pipe line 30 Product tank 36 Orifice 3 , The processor 52 40,122,124,136,146,222,224,236,246 exhaust line 42 control unit 50 memory 54 Timer 56 I / O
60A, 60B Support housing 62 Mounting surface 64 Standing wall portion 66 Storage space 70, 72 Lid member 74, 76 Connector portion 78, 80 Piping connector 90, 92, 94, 96 Piping connector 132, 142, 232, 242 Branch pipe 166 Orifice 201, 203 Branch point

Claims (8)

吸着剤が充填された少なくとも二つの吸着槽を直列に連結し、これらの吸着槽に原料ガスを流して吸着処理を行う第1の吸着部と、
吸着剤が充填された少なくとも二つの吸着槽を直列に連結し、これらの吸着槽に原料ガスを流し、前記第1の吸着部の吸着処理と異なるタイミングで吸着処理を行う第2の吸着部と、
前記第1の吸着部の上流側に連結された前記吸着槽の出側を前記第2の吸着部の上流側に連結された前記吸着槽の入側に連通させる第1の連通部と、
前記第2の吸着部の上流側に連結された前記吸着槽の出側を前記第1の吸着部の上流側に連結された前記吸着槽の入側に連通させる第2の連通部と、
を備え、
前記第1の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第1の連通部を開通させて、前記第1の吸着部の上流側の前記吸着槽から前記第2の吸着部の上流側の前記吸着槽に前記第1の吸着部内のガスを流し、
前記第2の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第2の連通部を開通させて、前記第2の吸着部の上流側の前記吸着槽から前記第1の吸着部の上流側の前記吸着槽に前記第2の吸着部内のガスを流すことを特徴とするガス製造装置。
Connecting at least two adsorption tanks filled with an adsorbent in series, flowing a raw material gas into these adsorption tanks, and performing a adsorption process;
Connecting at least two adsorption tanks filled with an adsorbent in series, flowing a raw material gas into these adsorption tanks, and performing a adsorption process at a timing different from the adsorption process of the first adsorption unit; ,
A first communication part that communicates the outlet side of the adsorption tank connected to the upstream side of the first adsorption part to the inlet side of the adsorption tank connected to the upstream side of the second adsorption part;
A second communication part for communicating the outlet side of the adsorption tank connected to the upstream side of the second adsorption part to the inlet side of the adsorption tank connected to the upstream side of the first adsorption part;
With
When the first adsorbing portion is shifted from the adsorbing step to the pressure equalizing step, the second communicating portion is opened from the adsorbing tank on the upstream side of the first adsorbing portion by opening the first communicating portion. The gas in the first adsorption unit is caused to flow through the adsorption tank on the upstream side of
When the second adsorbing portion is shifted from the adsorbing step to the pressure equalizing step, the first communicating portion is opened from the adsorbing tank on the upstream side of the second adsorbing portion by opening the second communicating portion. A gas production apparatus, wherein the gas in the second adsorption unit is caused to flow in the adsorption tank on the upstream side.
前記第1の連通部に設置され、開閉により前記第1の連通部内の前記ガスの流れを開放し、または遮断する第1の開閉弁と、
前記第2の連通部に設置され、開閉により前記第2の連通部内の前記ガスの流れを開放し、または遮断する第2の開閉弁と、
前記第1の吸着部と前記第2の吸着部とに対し、ガスの吸着工程または前記吸着剤の再生工程を異なるタイミングで実行させ、その吸着工程と再生工程との移行時に、前記第1の開閉弁と前記第2の開閉弁とを開閉させて前記均圧処理を実行さる制御部と、
を備えることを特徴とする、請求項1に記載のガス製造装置。
A first on-off valve that is installed in the first communication part and opens or shuts off the gas flow in the first communication part by opening and closing;
A second on-off valve that is installed in the second communication part and opens or closes the gas flow in the second communication part by opening and closing;
The first adsorption unit and the second adsorption unit are caused to execute a gas adsorption process or a regeneration process of the adsorbent at different timings, and at the time of transition between the adsorption process and the regeneration process, the first adsorption unit and the second adsorption unit A controller that opens and closes the on-off valve and the second on-off valve to execute the pressure equalization process;
The gas production apparatus according to claim 1, comprising:
前記第1の吸着部の下流側に連結された前記吸着槽の出側と前記第2の吸着部の下流側に連結された前記吸着槽の出側とを連通する第3の連通部を備え、
前記第1の吸着部または前記第2の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第3の連通部を開通させ、前記第3の連通部を通じて前記ガスを流入させることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のガス製造装置。
A third communication unit that communicates the outlet side of the adsorption tank connected to the downstream side of the first adsorption unit and the outlet side of the adsorption tank connected to the downstream side of the second adsorption unit; ,
When the first adsorption unit or the second adsorption unit is shifted from the adsorption process to the pressure equalizing process, the third communication unit is opened, and the gas is allowed to flow through the third communication unit. The gas production apparatus according to claim 1, wherein the gas production apparatus is characterized by the following.
さらに、前記吸着工程、前記再生工程および前記均圧工程の処理時間を計時するタイマを備え、
前記制御部は、前記タイマによる計時結果に基づき、設定された処理時間に応じて、前記吸着処理または再生処理を実行させ、
前記再生工程から前記均圧工程に移行する際、前記処理時間の経過前に、前記再生処理中の前記吸着槽の排気を停止させることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載のガス製造装置。
Furthermore, a timer for measuring the processing time of the adsorption step, the regeneration step and the pressure equalization step is provided,
The control unit causes the adsorption process or the regeneration process to be executed according to a set processing time, based on a time measurement result by the timer,
4. When shifting from the regeneration process to the pressure equalization process, exhaust of the adsorption tank during the regeneration process is stopped before the processing time elapses. The gas production apparatus according to item.
複数の前記吸着槽を所定の間隔で配置させて支持する支持筐体を備え、
該支持筐体は、前記吸着槽の一端を載置させ、少なくとも上流側の前記吸着槽が配置される位置に、前記吸着槽内に前記原料ガスを導くガス導入部を収納した載置部を備えることを特徴とする、請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載のガス製造装置。
Comprising a support housing that supports the plurality of adsorption tanks arranged at predetermined intervals;
The support housing is provided with a mounting portion in which one end of the adsorption tank is placed, and a gas introduction part that guides the source gas into the adsorption tank is placed at least at a position where the adsorption tank on the upstream side is disposed. The gas production apparatus according to any one of claims 1 to 4, further comprising:
少なくとも二つの吸着槽を直列に連結した第1の吸着部と、少なくとも二つの吸着槽を直列に連結した第2の吸着部にそれぞれ原料ガスを流し、異なるタイミングで吸着処理を行い、
前記第1の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第1の吸着部の上流側の前記吸着槽の出側から前記第2の吸着部の上流側の前記吸着槽の入側に連通した第1の連通部を開通させて、前記第1の吸着部内のガスを流入させ、
前記第2の吸着部を吸着工程から均圧工程に移行させる際に、前記第2の吸着部の上流側の前記吸着槽の出側から前記第1の吸着部の上流側の前記吸着槽の入側に連通した第2の連通部を開通させて、前記第2の吸着部内のガスを流入させる、
工程を含むことを特徴とするガス製造処理方法。
A raw material gas is allowed to flow through each of the first adsorption unit in which at least two adsorption tanks are connected in series and the second adsorption unit in which at least two adsorption tanks are connected in series, and the adsorption process is performed at different timings.
When the first adsorbing part is shifted from the adsorbing process to the pressure equalizing process, the adsorbing tank on the upstream side of the second adsorbing part from the outlet side of the adsorbing tank on the upstream side of the first adsorbing part. Opening the first communicating part communicating with the inlet side, allowing the gas in the first adsorbing part to flow,
When shifting the second adsorption part from the adsorption process to the pressure equalizing process, the adsorption tank upstream of the first adsorption part from the outlet side of the adsorption tank upstream of the second adsorption part Opening the second communication portion communicating with the inlet side, and allowing the gas in the second adsorption portion to flow in,
A gas production processing method comprising a step.
前記吸着工程から前記均圧工程に移行させる際に、前記第1の吸着部の下流側の前記吸着槽の出側と前記第2の吸着部の下流側の前記吸着槽の出側とを連通した第3の連通部を開通させ、前記第3の連通部を通じて前記ガスを流動させる工程を含むことを特徴とする請求項6に記載のガス製造処理方法。   When shifting from the adsorption process to the pressure equalization process, the outlet side of the adsorption tank downstream of the first adsorption part and the outlet side of the adsorption tank downstream of the second adsorption part are communicated with each other. The gas production processing method according to claim 6, further comprising a step of opening the third communicating portion and causing the gas to flow through the third communicating portion. 設定された処理時間に応じて、前記吸着処理または再生処理を行い、
前記再生工程から前記均圧工程に移行する際、前記処理時間の経過前に、前記再生処理中の前記吸着槽の排気を停止させる、
工程を含むことを特徴とする請求項6または請求項7に記載のガス製造処理方法。

Depending on the set processing time, the adsorption process or the regeneration process is performed,
When shifting from the regeneration step to the pressure equalization step, before the processing time elapses, the exhaust of the adsorption tank during the regeneration process is stopped.
The gas production processing method according to claim 6, further comprising a step.

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