JP2016110113A - 光学フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などの光学フィルムを含む部材が用いられている。このような光学フィルムとしては、重合性液晶化合物重合性液晶化合物を含む組成物を基材に塗布することにより製造される光学フィルムが知られている。しかし、従来の光学フィルムは、フィルム面内に位相差のムラが生じ、かかる位相差のムラに起因する表示装置の黒表示時における光漏れを抑制するという光学補償特性が十分ではなかった。【解決手段】レベリング剤を含有する配向膜と、光学異方性層とを有する光学フィルム。【選択図】図１

Description

本発明は、光学異方性層を有する光学フィルムに関する。

フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板などの光学フィルムを含む部材が用いられている。このような光学フィルムとしては、重合性液晶化合物を含む組成物を基材に塗布することにより製造される光学フィルムが知られている。例えば、特許文献１には、逆波長分散性を示す光学フィルムについて記載されている。

特表２０１０−５３７９５５号公報

しかしながら、従来の光学フィルムは、フィルム面内に位相差のムラが生じ、かかる位相差のムラに起因する表示装置の黒表示時における光漏れを抑制するという光学補償特性が十分ではなかった。

本発明は以下の発明を含む。
［１］ レベリング剤を含有する配向膜と、光学異方性層とを有する光学フィルム。
［２］ 配向膜の一方の面と、光学異方性層の一方の面とが接している［１］に記載の光学フィルム。
［３］ さらに、基材を有し、
該基材上に、前記レベリング剤を含有する配向膜を有し、該配向膜の上に前記光学異方性層を有する［１］に記載の光学フィルム。
［４］ 配向膜中のレベリング剤の含有量が、配向膜１００質量部に対して、０．００１質量部以上５質量部以下である［１］〜［３］のいずれかに記載の光学フィルム。
［５］ 配向膜の膜厚が、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である［１］〜［４］のいずれかに記載の光学フィルム。
［６］ 配向膜が、光配向膜である［１］〜［５］のいずれかに記載の光学フィルム。
［７］ 配向膜が、シンナモイル基を有する化合物に由来する構造を含む［１］〜［６］のいずれかに記載の光学フィルム。
［８］ 光学異方性層が、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する［１］〜［７］のいずれかに記載の光学フィルム。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
（式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
［９］ 光学異方性層が、式（３）で表される光学特性を有する［１］〜［８］のいずれかに記載の光学フィルム。
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （３）
（式中、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。）
［１０］ 光学異方性層が、１以上の重合性液晶化合物の重合体を含むことを特徴とする［１］〜［９］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１１］ 光学異方性層の厚さが、２０μｍ以下である［１］〜［１０］のいずれかに記載の光学フィルム。
［１２］ ［１］〜［１１］のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光フィルムとを備える円偏光板。
［１３］ ［１］〜［１１］のいずれかに記載の光学フィルムが備える光学異方性層と、偏光フィルムとを備える円偏光板。
［１４］ 光学異方性層と、偏光フィルムとが、活性エネルギー線硬化型接着剤又は水系接着剤で貼り合わされた［１３］に記載の円偏光板。
［１５］ ［１２］〜［１４］のいずれかに記載の円偏光板を備える有機ＥＬ表示装置。
［１６］ ［１２］〜［１４］のいずれかに記載の円偏光板を備えるタッチパネル表示装置。
［１７］ レベリング剤を含有する配向膜と、光学異方性層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
１０ｍＪ／ｃｍ²以上２００ｍＪ／ｃｍ²以下の紫外線を配向膜に照射することによって、配向膜に配向規制力を生じさせる工程を含む光学フィルムの製造方法。

本発明によれば、表示装置の黒表示時における光漏れ抑制に優れる光学フィルムを提供することができる。

本発明の光学フィルムの一例を示す断面模式図である。 本発明の光学フィルムを含む円偏光板の一例を示す断面模式図である。 本発明の光学フィルムを含む有機ＥＬ表示装置の一例を示す断面模式図である。

本発明の光学フィルム（以下、本光学フィルムということがある。）は配向膜と、光学異方性層を有する光学フィルムであり、該配向膜は、レベリング剤を含有することを特徴とする。配向膜がレベリング剤を含有することにより、本光学フィルムを表示装置に組み込んだときに光学補償特性が優れるという効果を奏する。
以下、本光学フィルムを構成する各部材について説明する。

[光学異方性層]
光学異方性層としては、重合性液晶化合物を重合させることにより形成される層、延伸フィルムが挙げられる。光学異方性層の光学特性は重合性液晶化合物の配向状態または延伸フィルムの延伸方法により調節することができる。ここで、光学異方性層の一方の面は、配向膜の一方の面と接していると好ましい。

本明細書においては、重合性液晶化合物を基材に塗布したとき、重合性液晶化合物の光軸が基材平面に対して水平に配向したものを水平配向、重合性液晶化合物の光軸が基材平面に対して垂直に配向したものを垂直配向と定義する。光軸とは、異方性結晶内で複屈折を生じない方向を意味し、重合性液晶化合物の配向により形成される屈折率楕円体において、光軸が一つ存在する場合は光軸に直交する断面が円になる。

重合性液晶化合物としては、棒状の重合性液晶化合物、円盤状の重合性液晶化合物などが挙げられる。
棒状の重合性液晶化合物が基材に対して水平配向または垂直配向した場合、すなわち該重合性液晶化合物の長軸が基材に対して水平配向または垂直配向した場合、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の長軸方向と一致する。
円盤状の重合性液晶化合物が配向した場合、該重合性液晶化合物の光軸は、該重合性液晶化合物の円盤面に対して直交する方向に存在する。
延伸フィルムの遅相軸方向は延伸方法により異なり、一軸、二軸または斜め延伸等、その延伸方法に応じて遅相軸および光軸が決定される。

重合性液晶化合物を重合させることにより形成される層が面内位相差を発現するためには、重合性液晶化合物を適した方向に配向させればよい。重合性液晶化合物が棒状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する。この場合、光軸方向と遅相軸方向とは一致する。重合性液晶化合物が円盤状の場合は、該重合性液晶化合物の光軸を基材平面に対して水平に配向させることで面内位相差が発現する。この場合、光軸と遅相軸とは直交する。重合性液晶化合物の配向状態は、配向膜と重合性液晶化合物との組み合わせにより調整することができる。

光学異方性層の面内位相差値は、光学異方性層の厚みによって調整することができる。面内位相差値は式（１０）によって決定されることから、所望の面内位相差値（Ｒｅ（λ））を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ） （１０）
式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表わす。

複屈折率Δｎ（λ）は、面内位相差値を測定して、光学異方性層の厚みで除することで得られる。具体的な測定方法は実施例に示すが、この際、ガラス基板のように基材自体に面内位相差が無いような基材上に製膜したものを測定することで、実質的な光学異方性層の特性を測定することができる。

本明細書では、重合性液晶化合物の配向又はフィルムの延伸により形成される屈折率楕円体における３軸の屈折率を、それぞれｎx、ｎyおよびｎzとして表す。ｎxは、光学異方性層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面対して平行な軸の主屈折率を表す。ｎyは、光学異方性層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面対して平行であり、且つ、ｎｘと直交する軸の屈折率を表す。ｎｚは、光学異方性層が形成する屈折率楕円体において、フィルム平面に対して垂直な軸の屈折率を表す。

棒状の重合性液晶化合物の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる光学異方性層の屈折率関係は、ｎx＞ｎy≒ｎz（ポジティブＡプレート）となり、ｎxと遅相軸が一致する。

また、円盤状の重合性液晶化合物の光軸が、基材平面に対して水平に配向した場合、得られる光学異方性層の屈折率関係は、ｎx＜ｎy≒ｎz（ネガティブＡプレート）となり、ｎyと遅相軸が一致する。

＜重合性液晶化合物＞
重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ液晶性を有する化合物のことをいう。重合性基とは、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、後述する光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。重合性液晶化合物が有する液晶性はサーモトロピック性液晶でもよいし、リオトロピック液晶でもよく、サーモトロピック液晶を秩序度で分類すると、ネマチック液晶でもよいし、スメクチック液晶でもよい。

棒状の重合性液晶化合物としては、下記式（Ａ）で表される化合物（以下、重合性液晶（Ａ）ということがある。）、下記式（Ｘ）で表される基を含む化合物（以下、重合性液晶（Ｂ）ということがある）が挙げられる。

＜重合性液晶（Ａ）＞

［式（Ａ）中、
Ｘ^１は、酸素原子、硫黄原子または−ＮＲ^１−を表わす。Ｒ^１は、水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｙ^１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基または置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ^３およびＱ^４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ^２Ｒ^３または−ＳＲ^２を表わすか、または、Ｑ^３とＱ^４とが互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに芳香環または芳香族複素環を形成する。Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｄ^１およびＤ^２は、それぞれ独立に、単結合、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＲ^６Ｒ^７−、−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＲ^４Ｒ^５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ^６Ｒ^７−、−ＣＲ^４Ｒ^５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ^６Ｒ^７−またはＮＲ^４−ＣＲ^５Ｒ^６−またはＣＯ−ＮＲ^４−を表わす。ここで−ＣＯ−Ｏ−のように紙面上で左右非対称な基の場合、−ＣＯ−Ｏ−中の炭素原子とG^１とが結合してもよいし、−ＣＯ−Ｏ−中の酸素原子とG^１とが結合してもよい。すなわち−ＣＯ−Ｏ−は、−Ｇ^１−ＣＯ−Ｏ−または−Ｇ^１−Ｏ−ＣＯ−のどちらの結合形式でもよいことを表す。本明細書におけるその他の基に関しても同様である。
Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｇ^１およびＧ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子または−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ^１およびＬ^２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ^１およびＬ^２のうちの少なくとも一つは、重合性基を有する。］

重合性液晶（Ａ）におけるＬ^１は式（Ａ１）で表される基であると好ましく、また、Ｌ^２は式（Ａ２）で表される基であると好ましい。
Ｐ^１−Ｆ^１−（Ｂ^１−Ａ^１）_ｋ−Ｅ^１− （Ａ１）
Ｐ^２−Ｆ^２−（Ｂ^２−Ａ^２）_ｌ−Ｅ^２− （Ａ２）
［式（Ａ１）および式（Ａ２）中、
Ｂ^１、Ｂ^２、Ｅ^１およびＥ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^４Ｒ^５−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ¹−、−Ｏ−ＣＨ_２−、−Ｓ−ＣＨ_２−または単結合を表わす。
Ａ^１およびＡ^２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基または炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子または−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
ｋおよびｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表わす。
Ｆ^１およびＦ^２は、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表わす。
Ｐ^１は、重合性基を表わす。
Ｐ^２は、水素原子または重合性基を表わす。
Ｒ^４およびＲ^５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表わす。］

好ましい重合性液晶（Ａ）としては、特表２０１１−２０７７６５号公報に記載の化合物が挙げられる。

＜重合性液晶（Ｂ）＞
Ｐ^１１−Ｂ^１１−Ｅ^１１−Ｂ^１２−Ａ^１１−Ｂ^１３− （Ｘ）
［式（Ｘ）中、Ｐ^１１は、重合性基を表わす。
Ａ^１１は、２価の脂環式炭化水素基または２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基および２価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６アルコキシ基、シアノ基またはニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１〜６のアルキル基および該炭素数１〜６アルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ^１１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ^１６−、−ＮＲ^１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−または単結合を表わす。Ｒ^１６は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｂ^１２およびＢ^１３は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＯ−ＮＲ^１６−、−ＯＣＨ_２−、−ＯＣＦ_２−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−Ｏ−、または単結合を表わす。
Ｅ^１１は、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］

Ａ^１１の２価の芳香族炭化水素基および２価の脂環式炭化水素基の炭素数は、３〜１８の範囲であることが好ましく、５〜１２の範囲であることがより好ましく、５または６であることが特に好ましい。Ａ^１１は、シクロヘキサン−１，４−ジイル基、１，４−フェニレン基等が中でも好ましい。

Ｅ^１１は、直鎖状の炭素数１〜１２のアルカンジイル基が好ましい。Ｅ^１１としては、メチレン基、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、へキサン−１，６−ジイル基、へプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基、ノナン−１，９−ジイル基、デカン−１，１０−ジイル基、ウンデカン−１，１１−ジイル基およびドデカン−１，１２−ジイル基等の炭素数１〜１２の直鎖状アルカンジイル基；
−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−および−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＨ_２−ＣＨ_２−等が挙げられる。
Ｂ^１１としては、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。
Ｂ^１２およびＢ^１３としては、それぞれ独立に、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、−Ｏ−または−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。

Ｐ^１１は、重合反応性、特に光重合反応性が高いという点で、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基が好ましい。取り扱いが容易な上、液晶化合物の製造自体も容易であるという点で、Ｐ^１１は、下記の式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１５）で表わされる基、およびｐ−スチルベン基のいずれかであることがより好ましい。

［式（Ｐ−１１）〜（Ｐ−１５）中、
Ｒ^１７〜Ｒ^２１はそれぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基または水素原子を表わす。］

式（Ｐ−１１）〜式（Ｐ−１５）で表わされる基としては、下記式（Ｐ−１６）〜式（Ｐ−２０）で表わされる基が挙げられる。

Ｐ^１１は、式（Ｐ−１４）〜式（Ｐ−２０）で表わされる基、またはｐ−スチルベン基であることが好ましく、ビニル基、エポキシ基またはオキセタニル基がより好ましい。中でもＰ^１１−Ｂ^１１−で表わされる基が、アクリロイルオキシ基またはメタアクリロイルオキシ基であることが好ましい。

式（Ｘ）で表される基を有する重合性液晶（Ｂ）としては、式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）、式（Ｖ）または式（ＶＩ）で表わされる化合物が挙げられる。
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-A¹⁴-B¹⁶-E¹²-B¹⁷-P¹² （Ｉ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-A¹⁴-F¹¹ （ＩＩ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-B¹⁵-E¹²-B¹⁷-P¹² （ＩＩＩ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-A¹³-F¹¹ （ＩＶ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-B¹⁴-E¹²-B¹⁷-P¹² （Ｖ）
P¹¹-B¹¹-E¹¹-B¹²-A¹¹-B¹³-A¹²-F¹¹ （ＶＩ）
（式中、
Ａ^１２〜Ａ^１４はそれぞれ独立に、前記Ａ^１１と同義であり、Ｂ^１４〜Ｂ^１６はそれぞれ独立に、前記Ｂ^１２と同義であり、Ｂ^１７は、前記Ｂ^１１と同義であり、Ｅ^１２は、前記Ｅ^１１と同義である。
Ｆ^１１は、水素原子、炭素数１〜１３のアルキル基、炭素数１〜１３のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基（−ＳＯ_３Ｈ）、カルボキシ基、炭素数１〜１０のアルコキシカルボニル基またはハロゲン原子を表わし、該アルキル基およびアルコキシ基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−に置き換っていてもよい。
Ｐ^１２は、Ｐ^１１と同じ意味を表す。）

重合性液晶（Ｂ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６ ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報および特開２０１１−２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。

重合性液晶（Ｂ）の具体例としては、下記式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−４）、式（ＩＩ−１）〜式（ＩＩ−４）、式（ＩＩＩ−１）〜式（ＩＩＩ−２６）、式（ＩＶ−１）〜式（ＩＶ−２６）、式（Ｖ−１）〜式（Ｖ−２）および式（ＶＩ−１）〜式（ＶＩ−６）で表わされる化合物が挙げられる。なお、下記式中、ｋ1およびｋ2は、それぞれ独立して、２〜１２の整数を表わす。これらの重合性液晶（Ｂ）は、その合成の容易さ、および入手の容易さの点で好ましい。

円盤状の重合性液晶化合物としては、式（Ｗ）で表される化合物（以下、重合性液晶（Ｃ）ということがある）が挙げられる。

［式（Ｗ）中、Ｒ^４０は、下記式（Ｗ−１）〜（Ｗ−５）を表わす。

Ｘ^４０およびＺ^４０は、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−または−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。

重合性液晶（Ｃ）の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「６．５．１ 液晶材料 ｂ．重合性ネマチック液晶材料 図６．２１」に記載された化合物、特開平７−２５８１７０号公報、特開平７−３０６３７号公報、特開平７−３０９８０７号公報、特開平８−２３１４７０号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。

＜重合性液晶組成物＞
重合性液晶化合物を重合させることにより形成される層（光学異方性層）は、通常、１以上の重合性液晶化合物を含有する組成物（以下、重合性液晶組成物ということがある。）を、配向膜の上に塗布し、得られた塗膜中の重合性液晶化合物を重合させて、重合体とすることにより形成することができる。この場合、配向膜の一方の面と、光学異方性層の一方の面とは接している。

重合性液晶組成物は、通常溶剤を含む。溶剤としては、上記重合性液晶化合物を溶解し得る溶剤であって、且つ、上記重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤が好ましい。
溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル、フェノール等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン、Ｎ−メチル−２−ピロリジノン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の非塩素化脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の非塩素化芳香族炭化水素溶剤；アセトニトリル等のニトリル溶剤；プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤；などが挙げられる。溶剤は、単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。

重合性液晶組成物における溶剤の含有量は、通常、固形分１００質量部に対して、１０質量部〜１００００質量部が好ましく、より好ましくは５０質量部〜５０００質量部である。なお固形分とは、重合性液晶組成物における溶剤以外の成分の合計を意味する。

重合性液晶組成物は、１種以上の重合開始剤を含有することが好ましい。重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物である。低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。光の作用により活性ラジカルまたは酸を発生できる光重合開始剤が好ましく、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤がより好ましい。

重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩等が挙げられる。

ベンゾイン化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。

ベンゾフェノン化合物としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。

アルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。

アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。

トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。

重合開始剤には、市販のものを使用してもよい。市販の重合開始剤としては、”イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７”、”イルガキュア（登録商標）１８４”、”イルガキュア（登録商標）６５１”、”イルガキュア（登録商標）８１９”、”イルガキュア（登録商標）２５０”、”イルガキュア（登録商標）３６９”（チバ・ジャパン（株））；”セイクオール（登録商標）ＢＺ”、”セイクオール（登録商標）Ｚ”、”セイクオール（登録商標）ＢＥＥ”（精工化学（株））；”カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００”（日本化薬（株））；”カヤキュアー（登録商標）ＵＶＩ−６９９２”（ダウ社製）；”アデカオプトマーＳＰ−１５２”、”アデカオプトマーＳＰ−１７０”（（株）ＡＤＥＫＡ）；”ＴＡＺ−Ａ”、”ＴＡＺ−ＰＰ”（日本シイベルヘグナー社）；”ＴＡＺ−１０４”（三和ケミカル社）等が挙げられる。

重合性液晶組成物が重合開始剤を含有する場合、その含有量は、該組成物に含有される重合性液晶化合物の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。重合性開始剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができるので好ましい。

重合性液晶組成物が光重合開始剤を含有する場合、該組成物は光増感剤をさらに含有していてもよい。光増感剤としては、キサントン、チオキサントンなどのキサントン化合物（２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなど）；アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン(ジブトキシアントラセンなど)などのアントラセン化合物；フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。

重合性液晶組成物が光重合開始剤および光増感剤を含有する場合、該組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。光増感剤の使用量は、光重合開始剤および重合性液晶化合物の種類およびその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。

重合性液晶組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素−炭素不飽和結合と活性水素反応性基とを有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、水酸基（−ＯＨ）、アミノ基（−ＮＨ_２）等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が分子内に有する、炭素−炭素不飽和結合及び活性水素反応性基の個数は、通常、それぞれ１〜２０個であり、好ましくはそれぞれ１〜１０個である。

反応性添加剤において、活性水素反応性基は分子内に少なくとも２つ存在することが好ましい。この場合、複数存在する活性水素反応性基は同一であってもよいし、異なるものであってもよい。

反応性添加剤が分子内に有する炭素−炭素不飽和結合とは、炭素−炭素二重結合又は炭素−炭素三重結合のことをいい、炭素−炭素二重結合であることが好ましい。中でも、反応性添加剤としては、ビニル基及び／又は（メタ）アクリル基として炭素−炭素不飽和結合を分子内に含むことが好ましい。さらに、活性水素反応性基が、エポキシ基、グリシジル基及びイソシアネート基からなる群から選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。とりわけ炭素−炭素二重結合としてアクリル基と、活性水素反応性基としてイソシアネート基とを有する反応性添加剤が特に好ましい。

反応性添加剤としては、メタクリロキシグリシジルエーテルやアクリロキシグリシジルエーテルなどの、（メタ）アクリル基とエポキシ基とを有する化合物；オキセタンアクリレートやオキセタンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とオキセタン基とを有する化合物；ラクトンアクリレートやラクトンメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とラクトン基とを有する化合物；ビニルオキサゾリンやイソプロペニルオキサゾリンなどの、ビニル基とオキサゾリン基とを有する化合物；イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレート及び２０イソシアナトエチルメタクリレートなどの、（メタ）アクリル基とイソシアネート基とを有する化合物、およびこれらモノマーのオリゴマー等が挙げられる。また、メタクリル酸無水物、アクリル酸無水物、無水マレイン酸、ビニル無水マレイン酸などの、ビニル基やビニレン基と酸無水物とを有する化合物などが挙げられる。中でも、メタクリロキシグリシジルエーテル、アクリロキシグリシジルエーテル、イソシアナトメチルアクリレート、イソシアナトメチルメタクリレート、ビニルオキサゾリン、２−イソシアナトエチルアクリレート、２−イソシアナトエチルメタクリレート、またはこれらモノマーのオリゴマーが好ましく、イソシアナトメチルアクリレート、２−イソシアナトエチルアクリレートまたは、これらモノマーのオリゴマーが特に好ましい。

反応性添加剤は、下記式（Ｙ）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｙ）中、
ｎは１〜１０までの整数を表わし、Ｒ^１’は、炭素数２〜２０の２価の脂肪族又は脂環式炭化水素基、或いは炭素数５〜２０の２価の芳香族炭化水素基を表わす。各繰り返し単位にある２つのＲ^２’は、一方が−ＮＨ−であり、他方が＞Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３’で示される基である。Ｒ^３’は、水酸基又は炭素−炭素不飽和結合を有する基を表す。
ｎが２以上である場合は、複数個存在する＞Ｎ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^３’基のうち、少なくとも１つのＲ^３’は炭素−炭素不飽和結合を有する基である。］

前記式（Ｙ）で表される反応性添加剤の中でも、下記式（ＹＹ）で表される化合物（以下、化合物（ＹＹ）という場合がある。）が特に好ましい。なお、ｎは前記式（Ｙ）における定義と同じ意味である。

化合物（ＹＹ）には、市販品をそのまま又は必要に応じて精製して使用することができる。市販品としては、Ｌａｒｏｍｅｒ（登録商標）ＬＲ−９０００（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。

重合性液晶組成物が反応性添加剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１質量部以上３０質量部以下であり、好ましくは０．１質量部以上５質量部以下である。

重合性液晶組成物は、１種以上のレベリング剤を含有することが好ましい。レベリング剤は、重合性液晶組成物の流動性を調整し、重合性液晶組成物を塗布することにより得られる塗布膜をより平坦にする機能を有し、具体的には、界面活性剤が挙げられる。レベリング剤としては、下記の配向膜が含有するレベリング剤と同様のものを挙げることができる。

重合性液晶組成物がレベリング剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．０５質量部以上５質量部以下がより好ましく、０．０５質量部以上３質量部以下がさらに好ましい。平滑かつムラのない光学異方性層を形成できる点、および光学異方性層における重合性液晶化合物を容易に配向させることができる点で、レベリング剤の含有量が０．００１質量部以上５質量部以下であることが好ましい。

重合性液晶化合物の重合反応をより安定的に進行させるために、重合性液晶組成物は適量の重合禁止剤を含有してもよく、これにより、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いを制御しやすくなる。

重合禁止剤としては、ハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコールなど）、ピロガロール、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカルなどのラジカル捕捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類、β−ナフトール類等が挙げられる。

重合性液晶組成物が重合禁止剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物の種類およびその量、並びに光増感剤の使用量などに応じて適宜調節できる。重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。重合禁止剤の含有量が、この範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。

重合性液晶組成物の塗布は、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法や、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法によって行われる。塗布後、通常、得られた塗布膜中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で溶剤を除去することにより、乾燥被膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥、減圧乾燥法などが挙げられる。

重合性液晶化合物の液晶配向は、配向膜及び重合性液晶化合物の性質によって制御される。例えば、配向膜が配向規制力として水平配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向またはハイブリッド配向を形成することができる。垂直配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向または傾斜配向を形成することができる。
配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。

重合性液晶化合物の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させる公知の方法により行うことができる。具体的には、熱重合および光重合が挙げられ、重合の容易さの観点から、光重合が好ましい。光重合により重合性液晶化合物を重合させる場合は、光重合開始剤を含有した重合性液晶組成物を上記方法により塗布し、乾燥して得られる乾燥被膜中の重合性液晶化合物が液晶相を示す状態にした後、該液晶状態を保持したまま、光重合させることが好ましい。

光重合は、乾燥被膜に光を照射することにより実施される。照射する光としては、乾燥被膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合基の種類）およびその量に応じて、適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および、光重合装置として当分野で広範に用いられている装置が使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物と光重合開始剤との種類を選択することが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥被膜を冷却しながら、光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施すれば、基材が比較的耐熱性が低いものであったとしても、適切に光学異方性層を形成できる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた光学異方性層を得ることもできる。

＜延伸フィルム＞
延伸フィルムは通常、基材を延伸することで得られる。基材を延伸する方法としては、基材がロールに巻き取られているロール（巻き取り体）を準備し、かかる巻き取り体から、基材を連続的に巻き出し、巻き出された基材を加熱炉へと搬送する。加熱炉の設定温度は、基材のガラス転移温度（単位：℃）近傍以上［ガラス転移温度＋１００℃］以下が好ましく、ガラス転移温度近傍以上［ガラス転移温度＋５０℃］以下がより好ましい。該加熱炉においては、基材の進行方向へ、又は進行方向と直交する方向へ延伸する際に、搬送方向や張力を調整し任意の角度に傾斜をつけて一軸又は二軸の熱延伸処理を行ってもよい。延伸の倍率は、通常１.１〜６倍であり、好ましくは１.１〜３.５倍である。斜め方向に延伸する方法としては、連続的に配向軸を所望の角度に傾斜させることができる方法であれば、特に限定されず、公知の延伸方法が採用できる。このような延伸方法としては、特開昭５０−８３４８２号公報や特開平２−１１３９２０号公報に記載された方法等を挙げることができる。延伸することでフィルムに位相差性を付与する場合、延伸後の厚みは、延伸前の厚みや延伸倍率によって決定される。

延伸フィルムの面内位相差値及び、厚み方向の位相差値は、重合性液晶化合物を重合させることにより形成される層と同様に、Δｎ（λ）及び膜厚ｄによって調整することができる。

前記、式（１）および式（２）で表される光学特性を有する特定の構造を有する高分子フィルムを延伸した延伸フィルムとしては、ポリカーボネート系樹脂からなる市販の延伸フィルムが挙げられ、具体的には、「ピュアエース（登録商標）ＷＲ」（帝人株式会社製）等が挙げられる。

前記基材は通常透明基材である。透明基材とは、光、特に可視光を透過し得る透明性を有する基材を意味し、透明性とは、波長３８０〜７８０ｎｍにわたる光線に対しての透過率が８０％以上となる特性をいう。透明基材としては、透光性樹脂基材が挙げられる。透光性樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン；ノルボルネン系ポリマーなどの環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートなどのセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィドおよびポリフェニレンオキシドが挙げられる。入手のしやすさや透明性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリメタクリル酸エステル、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂またはポリカーボネートが好ましい。

セルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の一部または全部が、エステル化されたものであり、市場から容易に入手することができる。また、セルロースエステル基材も市場から容易に入手することができる。市販のセルロースエステル基材としては、例えば、“フジタック（登録商標）フィルム”（富士写真フイルム（株））；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”、“ＫＣ４ＵＹ”（コニカミノルタオプト（株））などが挙げられる。

ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステルは、市場から容易に入手できる。以下、ポリメタクリル酸エステル及びポリアクリル酸エステルをまとめて（メタ）アクリル系樹脂ということがある。

（メタ）アクリル系樹脂としては、メタクリル酸アルキルエステル又はアクリル酸アルキルエステルの単独重合体や、メタクリル酸アルキルエステルとアクリル酸アルキルエステルとの共重合体などが挙げられる。メタクリル酸アルキルエステルとしては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピルメタクリレートなどが挙げられ、アクリル酸アルキルエステルとしては、メチルアクリレート、エチルアクリレート、プロピルアクリレートなどが挙げられる。かかる（メタ）アクリル系樹脂には、汎用の（メタ）アクリル系樹脂として市販されているものを使用できる。（メタ）アクリル系樹脂として、耐衝撃（メタ）アクリル樹脂と呼ばれるものを使用してもよい。（メタ）アクリル系樹脂の市販品として、住友化学（株）から販売されている“ＨＴ５５Ｘ”や“テクノロイ Ｓ００１”などが挙げられる。“テクノロイ Ｓ００１”は、フィルムの形で販売されている。

環状オレフィン系樹脂は、市場から容易に入手できる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）［Ｔｉｃｏｎａ社（独）］、“アートン”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］、“アペル”（登録商標）［三井化学（株）］等が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法などの公知の手段により製膜して、基材とすることができる。また、市販されている環状オレフィン系樹脂基材を使用することもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ＳＣＡ４０”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ゼオノアフィルム”（登録商標）［オプテス（株）］、“アートンフィルム”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］等が挙げられる。

環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル基を有する芳香族化合物との共重合体である場合、環状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５０モル％以下、好ましくは１５〜５０モル％の範囲である。鎖状オレフィンとしては、エチレン、プロピレン等が挙げられ、ビニル基を有する芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン、アルキル置換スチレン等が挙げられる。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル基を有する芳香族化合物との三元共重合体である場合、鎖状オレフィンに由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％であり、ビニル基を有する芳香族化合物に由来する構造単位の含有割合は、共重合体の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％である。このような三元共重合体は、その製造において、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。

上記重合性液晶化合物、または延伸フィルムから形成される光学異方性層は、下記式（１）及び式（２）で表される光学特性を有することが好ましい。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。

式（１）および式（２）で表される光学特性を有する光学異方性層は、特定の構造を有する重合性液晶化合物を重合させた場合、特定の構造を有する高分子フィルムを延伸した場合、又は、下記式（４）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層と、下記式（５）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層とを特定の遅相軸関係で組み合わせることにより得られる。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （５）
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≧１．００ （６）
１．００≧Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （７）
式中、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。

光学異方性層が式（１）および式（２）で表される光学特性を有することで、式（１）および式（２）で表される光学特性を有する本光学フィルムを得ることができる。可視光域における各波長の光に対して、一様な偏光変換の特性が得られ、有機ＥＬ表示装置等の表示装置の黒表示時の光漏れをより抑制することができる点で、本光学フィルムが式（１）および式（２）で表される光学特性を有することが好ましい。

前記特定の構造を有する重合性液晶化合物としては、前記重合性液晶（Ａ）が挙げられる。重合性液晶（Ａ）を、基材平面に対して光軸が水平となるように配向させることで、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する光学異方性層が得られ、さらに、前記式（１０）に従って膜厚を調節することで、式（４）で表される光学特性等の所望の面内位相差値を有する光学異方性層を得ることができる。

式（４）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層Ａと、式（５）、（６）及び式（７）で表される光学特性を有する層Ｂとを特定の遅相軸関係で組み合わせる方法としては、周知の方法が挙げられる。
例えば、特開２００１−４８３７号公報、特開２００１−２１７２０号公報及び特開２０００−２０６３３１号公報には、液晶化合物からなる光学異方性層を少なくとも２層有する位相差フィルムが開示されている。また、当該２つの光学異方性層のうち、１つをポリマーフィルムとし、１つを液晶化合物からなる光学異方性層とすることもできる。

上記式（６）及び式（７）で表される光学特性を有する光学異方性層は、周知の方法で得ることができる。すなわち、上記式（１）および式（２）で表される光学特性を有する光学異方性層を得る方法以外の方法で得られる光学異方性層は、概ね式（６）及び式（７）で表される光学特性を有する。

光学異方性層が延伸フィルムを有する場合、その厚さは、通常３００μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以上１００μｍ以下であり、より好ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下である。光学異方性層が重合性液晶化合物を重合させることにより形成される層の場合、その厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。光学異方性層の厚さは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡または触針式膜厚計による測定により求めることができる。

［基材］
本発明の光学フィルムは、基材を有してもよく、この場合は基材上に配向膜が形成される。基材としては前記したものと同じものが挙げられるが、位相差の小さい基材が好ましい。位相差の小さい基材としては、未延伸の環状オレフィン系樹脂基材、ゼロタック（登録商標）（コニカミノルタオプト（株））、Ｚタック（富士フィルム（株））などの位相差を有しないセルロースエステルフィルムが挙げられる。

配向膜が形成される基材の表面は、配向膜を形成する前に、表面処理が施されてもよい。表面処理の方法としては、真空下又は大気圧下、コロナ又はプラズマで基材の表面を処理する方法、基材表面をレーザー処理する方法、基材表面をオゾン処理する方法、基材表面をケン化処理する方法又は基材表面を火炎処理する方法、基材表面にカップリング剤を塗布するプライマー処理する方法、反応性モノマーや反応性を有するポリマーを基材表面に付着させた後、放射線、プラズマ又は紫外線を照射して反応させるグラフト重合させて処理する方法等が挙げられる。中でも、真空下や大気圧下で、基材表面をコロナ又はプラズマ処理する方法が好ましい。

コロナ又はプラズマで基材の表面処理を行う方法としては、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法、対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法、低圧条件下で、グロー放電プラズマを発生させて、基材の表面処理を行う方法等が挙げられる。

中でも、大気圧近傍の圧力下で、対向した電極間に基材を設置し、コロナ又はプラズマを発生させて基材の表面処理を行う方法、又は対向した電極間にガスを流し、電極間でガスをプラズマ化し、プラズマ化したガスを基材に吹付ける方法が好ましい。かかるコロナ又はプラズマによる表面処理は、通常、市販の表面処理装置により行うことができる。

また、配向膜が形成されていない基材の表面には、ハードコート処理、帯電防止処理等がなされてもよい。また基材は、性能に影響しない範囲で、紫外線吸収剤などの添加剤を含んでいてもよい。

基材の厚みは、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向があるため、通常５μｍ以上３００μｍ以下であり、好ましくは１０μｍ以上２００μｍ以下である。

［配向膜］
本発明における配向膜とは、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものであり、レベリング剤を含有することを特徴とする。本発明者は配向膜がレベリング剤を含有することで、意外なことに光学補償特性が向上することを見出した。

レベリング剤は、配向性材料の流動性を調整し、配向膜形成用組成物を塗布することにより得られる塗布膜をより平坦にする機能を有する。具体的には、界面活性剤が挙げられ、これらは塗布膜の表面張力を下げる効果を有する。レベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤およびフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。

ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、”ＢＹＫ−３５０”、”ＢＹＫ−３５２”、”ＢＹＫ−３５３”、”ＢＹＫ−３５４”、”ＢＹＫ−３５５”、”ＢＹＫ−３５８Ｎ”、”ＢＹＫ−３６１Ｎ”、”ＢＹＫ−３８０”、”ＢＹＫ−３８１”および”ＢＹＫ−３９２”［ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社］等が挙げられる。

フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、”メガファック（登録商標）Ｒ−０８”、同”Ｒ−３０”、同”Ｒ−９０”、同”Ｆ−４１０”、同”Ｆ−４１１”、同”Ｆ−４４３”、同”Ｆ−４４５”、同”Ｆ−４７０”、同”Ｆ−４７１”、同”Ｆ−４７７”、同”Ｆ−４７９”、同”Ｆ−４８２”、同”Ｆ−４８３”［ＤＩＣ（株）］；”サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１”、同”Ｓ−３８２”、同”Ｓ−３８３”、同”Ｓ−３９３”、同”ＳＣ−１０１”、同”ＳＣ−１０５”、”ＫＨ−４０”、”ＳＡ−１００”［ＡＧＣセイミケミカル（株）］；”Ｅ１８３０”、”Ｅ５８４４”［（株）ダイキンファインケミカル研究所］；”エフトップＥＦ３０１”、”エフトップＥＦ３０３”、”エフトップＥＦ３５１”、”エフトップＥＦ３５２”［三菱マテリアル電子化成（株）］等が挙げられる。

配向膜中のレベリング剤の含有量は、配向膜を形成する配向膜形成用組成物中の固形分１００質量部に対して、０．００１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．００５質量部以上１質量部以下がより好ましく、０．０１質量部以上０．５質量部以下がさらに好ましい。また、配向膜中のレベリング剤の含有量は、レベリング剤を含む配向膜全量、すなわち、配向膜１００質量部に対して、０．００１質量部以上５質量部以下が好ましく、０．００５質量部以上１質量部以下がより好ましく、０．０１質量部以上０．５質量部以下がさらに好ましい。光学異方性層における重合性液晶化合物を容易に配向させることができる点、得られる光学異方性層の光学補償特性がより優れるという点で、レベリング剤の含有量が０．００１質量部以上５質量部以下であることが好ましい。

配向膜としては、重合性液晶組成物の塗布などにより溶解しない溶剤耐性を有し、また、溶剤の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。かかる配向膜としては、配向性ポリマーを含む配向膜、光配向膜等が挙げられる。

［配向性ポリマーを含む配向膜］
配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミドおよびその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル類等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。２種以上の配向性ポリマーを組み合わせて用いてもよい。

配向性ポリマーを含む配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した配向膜形成用組成物を基材に塗布し、溶剤を除去して塗布膜を形成する、又は、配向膜形成用組成物を基材に塗布し、溶剤を除去て塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングする（ラビング法）ことで得られる。

前記溶剤としては、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチルなどのエステル溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶剤、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で使用してもよいし、二種以上を組み合わせて使用してもよい。

配向膜形成用組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶液に対して固形分換算で０．１％以上２０％以下が好ましく、０．１％以上１０％以下がより好ましい。

配向膜形成用組成物として、市販の配向性材料をそのまま使用してもよい。市販の配向性材料としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）などが挙げられる。

配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコ−ティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、スリットコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。本光学フィルムを、後述するＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式の連続的製造方法により製造する場合、当該塗布方法には通常、グラビアコーティング法、ダイコーティング法又はフレキソ法などの印刷法が採用される。

配向膜形成用組成物に含まれる溶剤を除去する方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。加温乾燥させる場合の温度としては、通常６０℃以上１６０℃以下であり、好ましくは８０℃以上１４０℃以下である。

配向膜に配向規制力を付与するために、必要に応じてラビングを行うことができる（ラビング法）。ラビング法により配向規制力を付与する方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向膜形成用組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。

［光配向膜］
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む配向膜形成用組成物を基材に塗布し、光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。

光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいい、光照射により生じる分子の配向誘起または異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の、液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応または光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基は、不飽和結合を有する基が好ましく、二重結合を有する基がより好ましい。中でも炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）および炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基、シンナモイル基などが挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、アゾキシベンゼン構造を有する基などが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基、マレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向膜が得られやすいという点で、シンナモイル基またはカルコン基が好ましい。光反応性基を有するモノマーまたはポリマーとしては、モノマーまたはポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるシンナモイル基を有することが特に好ましい。

配向膜形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、上述の配向性ポリマーを含む配向膜を形成する配向膜形成用組成物に含まれる溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマーあるいはモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

配向膜形成用組成物中の光反応性基を有するポリマーまたはモノマーの含有量は、ポリマーまたはモノマーの種類や目的とする光配向膜の厚みによって適宜調節できるが、少なくとも０．２質量％以上とすることが好ましく、０．３質量％以上１０質量％以下がより好ましい。光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、配向膜形成用組成物は、ポリビニルアルコールやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマーを含む配向膜を形成する配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマーを含む配向膜を形成する配向膜形成用組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。

偏光を照射するには、基板上に塗布された配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式でもよいし、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、平行光であることが好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下のＵＶ（紫外線）が好ましい。該UVの照射量としては、通常１ｍＪ／ｃｍ^２以上５００ｍＪ／ｃｍ^２以下であり、好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ^２以上２００ｍＪ／ｃｍ^２以下であり、より好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ^２以上１００ｍＪ／ｃｍ^２以下である。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レ−ザ−などが挙げられる。波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいという点で、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、またはメタルハライドランプが好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光フィルムを通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光フィルムとしては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラーなどの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光フィルムを使用することができる。

なお、ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

配向膜の厚さは、通常１０ｎｍ以上１００００ｎｍ以下であり、好ましくは１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、より好ましくは１０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である。

［光学フィルムの製造方法］
連続的に本光学フィルムを製造する方法について説明する。連続的に本光学フィルムを製造する好適な方法として、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式による方法が挙げられる。下記に代表的な製造方法を例示する。

（１）基材が巻芯に巻き取られているロールを準備する工程、
（２）該ロールから、該基材を連続的に送り出す工程、
（３）該基材上に配向膜を形成する工程、
（４）該配向膜上に光学異方性層を形成し、光学フィルムを得る工程
（５）連続的に得られた光学フィルムを第２の巻芯に巻き取り、第２ロールを得る工程
を順に行う方法が挙げられる。

図１に、本光学フィルムの一例の模式図を示す。図１（ｂ）は、基材３、配向膜１、及び光学異方性層２が、この順番で積層された本光学フィルム１００である。
この本光学フィルムの光学異方性層２を別の基材３’に転写して、基材３および配向膜１を取り除くことで基材３および配向膜１を有さない本光学フィルム１００を得ることができる。基材を有さない本光学フィルムの模式図を図１（ａ）に示す。さらに、基材３’を取り除き基材を有さない本光学フィルムを得ることもできる。

光学異方性層が層Ａ及び層Ｂから構成される場合、前述の図１（ａ）、（ｂ）の光学異方性層を層Ａ及び層Ｂの２層からなる光学異方性層と読み替えれば良い。この時、層Ａと層Ｂの順序は問わない。また、層Ａと層Ｂの間には配向膜が存在しても良い。

光学異方性層が層Ａ２１及び層Ｂ２２を含む構成の場合、基材３の両面にそれぞれの層を積層してもよい。基材３の両面に光学異方性層を有する本光学フィルムの模式図を図１（ｃ）に示す。図１（ｃ）は、層Ａ２１及び層Ｂ２２を、各配向膜１上に直接形成した場合の本光学フィルム１００の構成を示す。

また各層を順次転写によって基材３に積層してもよい。この場合、レベリング剤を有する配向膜上に重合性液晶化合物を重合させることにより層Ａまたは層Ｂを形成し、残りの一層を延伸フィルムにより形成し、順次基材３に転写してもよいし、レベリング剤を有する配向膜上に重合性液晶化合物を重合させることにより層Ａおよび層Ｂを形成し、順次基材３に転写してもよい。

[円偏光板]
本光学フィルムは偏光フィルムと組み合わせることで、本光学フィルムと偏光フィルムとを備える円偏光板（以下、本円偏光板ということがある。）を得ることができる。本光学フィルムと偏光フィルムとは、通常、接着剤で貼り合わされ、好ましくは活性エネルギー線硬化型接着剤で貼り合わされる。以下の説明では、偏光フィルム、および偏光フィルムの片面または両面に保護フィルムを有する偏光板をまとめて偏光板と呼ぶ。
光学異方性層が一層のみから構成され、かつ遅相軸が一つしか存在しない場合、本光学フィルムの光学異方性層の遅相軸（光軸）に対して、該偏光板の透過軸が実質的に４５°となるように設定するのが好ましい。実質的に４５°とは、通常４５±５°の範囲である。図２に、本円偏光板１１０の一例の模式図を示す。

図２で示す本円偏光板が有する偏光板は、偏光フィルムの片面に保護フィルムを有するものでもよく、偏光フィルムの両面に保護フィルムを有するものであってもよい。また、光学異方性層は、層Ａおよび層Ｂの２層から構成されていてもよい。
図２（ｂ）は、本光学フィルム１００と偏光板７とを積層する本円偏光板１１０であり、本光学フィルム１００は、偏光板７に近い側から基材３２、配向膜１、および光学異方性層２をこの順に有する円偏光板である。
図２（ｃ）は、本光学フィルム１００と偏光板７とを積層する本円偏光板１１０であり、本光学フィルム１００は、偏光板７に近い側から光学異方性層２、配向膜１、および基材３２をこの順に有する円偏光板である。
図２（ｂ）および（ｃ）において、基材３２は、偏光フィルムの片面を保護する保護フィルムとしての機能も果たすことができる。
図２（ａ）は、基材を有さない本光学フィルム１００と偏光板７とを積層する本円偏光板である。図２（ａ）に示す円偏光板１１０は、本光学フィルム１００を偏光板７に転写することで得ることができる。偏光板へ、基材を有さない本光学フィルムを貼合する方法としては、基材を取り除いた本光学フィルムを、接着剤を介して偏光板へ貼合する方法、基材を有する本光学フィルムを、接着剤を介して偏光板へ貼合した後に基材を取り除く方法等が挙げられる。この際、接着剤は、本光学フィルムが有する光学異方性層側に塗布されてもよく、偏光板側に塗布されてもよい。基材と、光学異方性層との間の配向膜は、基材と共に取り除いてもよい。

配向膜と化学結合を形成する官能基を表面に有する基材は、配向膜と化学結合を形成し、取り除き難くなる傾向がある。よって基材を剥離して取り除く場合は、基材表面に配向膜と化学結合を形成する官能基が少ない基材が好ましい。また、基材表面に配向膜と化学結合を形成する官能基を形成する表面処理を施していない基材が好ましい。
基材と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、基材と配向膜との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材を剥離して取り除く場合は、基材と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。したがって、配向膜形成用組成物は、基材と配向膜とを架橋する試薬が含まれないことが好ましく、基材を溶解する溶剤が含まれないことが好ましい。
また、配向膜と化学結合を形成する官能基を有する光学異方性層は、配向膜と光学異方性層との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材と共に配向膜を取り除く場合は、配向膜と化学結合を形成する官能基が少ない光学異方性層が好ましい。したがって重合性液晶組成物は、配向膜と光学異方性層とを架橋する試薬を含まないことが好ましい。

図２（ｄ）〜図２（ｇ）で示す構成は、光学異方性層が層Ａ及び層Ｂからなり、基材を２枚有する本光学フィルムを積層してなるものである。

光学異方性層が層Ａ及び層Ｂからなる場合、偏光板を積層する位置に制限がある。
具体的には、λ／４の位相差を有する層Ａと、λ／２の位相差を有する層Ｂを積層する場合、偏光板の吸収軸に対して、まず層Ｂを、層Ｂの遅相軸が７５°となるように形成し、次に層Ａを、層Ａの遅相軸が１５°となるように形成する。このような位置に積層することで、得られる円偏光板は広帯域λ／４板として機能を発現することが可能となる。ここで、層Ａと層Ｂを形成する軸角度に制限はなく、例えば、特開２００４−１２６５３８号公報に記載のように、層Ａと層Ｂの遅相軸角度を偏光板の吸収軸に対して３０°と−３０°、あるいは４５°と−４５°としても、広帯域λ／４板としての機能を発現させることができることは公知であるから、所望の方法で層を積層することが可能である。

本円偏光板は、さまざまな表示装置に組み込むことができるが、特に、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、およびタッチパネルを備える有機エレクトロルミネッセンス表示装置に有効に組み込むことができる。

［偏光板］
上記の偏光板が有する偏光フィルムは、偏光機能を有するフィルムであればよく、公知の偏光フィルムを使用できる。偏光フィルムとしては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルム（特開２０１２−３３２４９号公報等参照。）を偏光フィルムとして含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムの厚さは好ましくは５〜４０μｍである。吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムの厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５μｍ以上３μｍ以下である。

このようにして得られた偏光フィルムの少なくとも一方の面に、接着剤を介して透明保護フィルムを積層することにより偏光板が得られる。透明保護フィルムとしては、前述した基材と同様の透明フィルムを好ましく使用することができるし、本発明の光学フィルムを用いることもできる。
＜接着剤＞
円偏光板、偏光板等を製造するときに使用する接着剤としては、例えば、粘着剤、水系接着剤、活性エネルギー線硬化型接着剤等公知の接着剤が挙げられる。

粘着剤としては、（メタ）アクリル酸エステルを主成分とし、官能基を有する（メタ）アクリルモノマーを少量含有するアクリル系モノマー混合物を、重合開始剤の存在下にラジカル重合することにより得られる。特にガラス転移温度Ｔｇが０℃以下のアクリル系樹脂と、架橋剤とを含有するアクリル系粘着剤が好ましく使用できる。
粘着剤層を本光学フィルム上に形成する方法としては、基材として剥離フィルムを用意し、粘着剤組成物を基材上に塗布して粘着剤層を形成し、得られる粘着剤層を本光学フィルムの表面に移設する方法、本光学フィルム表面に粘着剤組成物を直接塗布して粘着剤層を形成する方法などが採用される。
粘着剤層の厚さは、５μｍ以上５０μm以下であることが好ましく、５μｍ以上３０μm以下であることがより好ましい。粘着剤層の厚さを３０μｍ以下とすることにより、高温高湿下での接着性が向上し、ディスプレイと粘着剤層との間に浮きや剥がれの発生する可能性が低くなる傾向にあり、リワーク性も向上する傾向にある。また、その厚さを５μｍ以上とすることにより、そこに貼合されている偏光板の寸法が変化してもその寸法変化に粘着剤層が追随して変動するので、寸法変化に対する耐久性が向上する。

水系接着剤としては、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を含有し、接着性を向上させるために、さらにイソシアネート系化合物やエポキシ化合物のような架橋剤又は硬化性化合物を配合した組成物が一般的である。
水系接着剤層を本光学フィルム上に形成する方法としては、本光学フィルム表面に水系接着剤組成物を直接塗布して接着剤層を形成する方法などが挙げられる。水系接着剤を偏光板と本光学フィルムの間に注入後、加熱することで水を蒸発させつつ、熱架橋反応を進行させることで両者に十分な接着性を与えることもできる。前記接着剤層の厚さは、通常０.００１μｍ以上５μm以下であり、好ましくは０.０１μm以上２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下である。接着剤層が厚すぎると、偏光板の外観不良となりやすい。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、活性エネルギー線の照射を受けて硬化し、偏光板と本光学フィルムとを、実用に足る強度で接着できるものであればよい。例えば、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物のようなカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物のようなラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を配合した活性エネルギー線硬化型接着剤、及び開始剤を含まない活性エネルギー線硬化型接着剤に電子ビームを照射することで硬化させる電子線硬化型接着剤等が挙げられる。アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤を含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。
活性エネルギー線としては、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線などが挙げられる。
活性エネルギー線硬化型接着剤層を本光学フィルム上に形成する方法としては、本光学フィルム表面に活性エネルギー線硬化型接着剤組成物を直接塗布して接着剤層を形成する方法などが挙げられる。前記接着剤層の厚さは、通常０.００１μｍ以上５μm以下であり、好ましくは０.０１μm以上２μｍ以下、より好ましくは１μｍ以下である。接着剤層が厚すぎると、偏光板の外観不良となりやすい。
本発明における活性エネルギー線の照射により接着剤の重合硬化を行うために用いる光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。エネルギーの安定性や装置の簡便さという観点から、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する紫外光源であることが好ましい。

［表示装置］
本光学フィルム及び本円偏光板は、さまざまな表示装置に使用することができる。
表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子または発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（例えば電場放出表示装置（ＦＥＤ）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（例えばグレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置）、圧電セラミックディスプレイなどが挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置、投写型液晶表示装置などのいずれの形態をも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に本円偏光板は有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に有効に組み込むことができ、本光学フィルムおよび本円偏光板は液晶表示装置及びタッチパネル表示装置に有効に組み込むことができる。

図３は、本円偏光板を備えた有機ＥＬ表示装置２００の一例を示す概略図である。
図３（ａ）は、本円偏光板１１０を構成する偏光板７、光学異方性層２、および有機ＥＬパネル８が、この順に積層された有機ＥＬ表示装置２００である。図３（ｂ）は、図３（ａ）とは積層順が異なる有機ＥＬ表示装置を表し、本円偏光板１１０を構成する光学異方性層２、偏光板７、および有機ＥＬパネル８が、この順に積層された有機ＥＬ表示装置２００である。
偏光板と、本光学フィルムと、有機ＥＬパネルとを積層する方法としては、偏光板と本光学フィルムとを積層した本円偏光板を、有機ＥＬパネルに貼合する方法、及び、有機ＥＬパネルに本光学フィルムを貼合し、さらに該本光学フィルムの表面に偏光板を貼合するする方法等が挙げられる。貼合には、通常、接着剤が使用できる。
例えば、図３（ａ）で示される有機ＥＬ表示装置２００は、図２（ａ）で示される本円偏光板１１０の光学異方性層２の表面に接着剤を塗布し、そこへ有機ＥＬパネル８を貼合することで製造することができる。また、図３（ａ）で示される有機ＥＬ表示装置２００は、図１（ｂ）で示される本光学フィルムの光学異方性層２の表面に接着剤を塗布し、そこへ有機ＥＬパネル８を貼合し、本光学フィルムの基材３および配向膜１を取り除き、基材を取り除くことで現れた光学異方性層２の表面に接着剤を塗布し、そこへ偏光板７を貼合することでも製造することができる。
図３（ｃ）で示される有機ＥＬ表示装置２００は、有機ＥＬパネル８、光学異方性層２、基材３、および偏光板７をこの順に有する有機ＥＬ表示装置である。図３（ｄ）で示される有機ＥＬ表示装置２００は、有機ＥＬパネル８、偏光板７、光学異方性層２、および基材３をこの順に有する有機ＥＬ表示装置である。
図３（ｅ）〜（ｈ）は、光学異方性層として層Ａおよび層Ｂを含む層を使用した場合の有機ＥＬ表示装置を表す。

以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」および「部」は、特記ない限り、質量％および質量部である。
シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）には、日本ゼオン株式会社製のＺＦ−１４を使用した。
コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ−Ｂ１０を使用した。
コロナ処理は、上記コロナ処理装置により、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。
偏光ＵＶ照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光フィルムユニット付ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７を使用した。
レーザー顕微鏡には、オリンパス株式会社製のＬＥＸＴを使用した。
高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａを使用した。
位相差値は、王子計測機器社製のＫＯＢＲＡ−ＷＲにより測定した。
膜厚測定には日本分校株式会社製エリプソメータＭ−２２０を使用した。

実施例１
［配向膜形成用組成物の調製］
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、配向膜形成用組成物（１−１）を得た。下記光配向性材料は、特開２０１３−３３２４８号公報記載の方法で合成した。なお、この光配向性材料が、配向膜形成用組成物中の固形分となる。
光配向性材料（５部）：

溶剤（９５部）：シクロペンタノン

更に、上記の組成で調製した配向膜形成用組成物（１−１）に対して、表１に従って以下の添加剤を加え配向膜形成用組成物（１−２）〜（１−５）を得た。配向膜形成用組成物（１−２）〜（１−４）にはＢＹＫ−３６１Ｎを、配向膜形成用組成物（１−５）にはメガファックＦ−４７７を、それぞれ配合した。

レベリング剤
ＢＹＫ−３６１Ｎ：ポリアクリレート化合物、ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製。
メガファックＦ−４７７：フッ素原子含有化合物、ＤＩＣ社製。

［重合性液晶組成物（Ａ−１）の調製］
下記の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、重合性液晶組成物（Ａ−１）を得た。

重合性液晶Ａ１および重合性液晶Ａ２は、特開２０１０−３１２２３号公報記載の方法で合成した。
重合性液晶Ａ１（１２．３１部）：

重合性液晶Ａ２（０．８６部）：

重合開始剤（０．７３部）：２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン
（イルガキュア３６９、チバ スペシャルティケミカルズ社製）
レベリング剤（０．０１部）：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）
溶剤：シクロペンタノン（５２．２部）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）（３４．８部）

実施例（１）
［光学異方性層の製造］
シクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ−１４、日本ゼオン株式会社製）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）により出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、配向膜形成用組成物（１−２）をバーコーターにより塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）により、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、表２に示す結果となった。続いて、配向膜上に重合性液晶組成物（Ａ−１）を、バーコーターにより塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）により、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することで光学異方性層を含む光学フィルム１を形成した。得られた光学フィルム１の波長４５０ｎｍならびに波長６５０ｎｍの位相差値を測定したところ、位相差値は１２０〜１５０ｎｍで、各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８５
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０３
すなわち、光学異方性層は下記式（１）、（２）及び（４）で表される光学特性を有した。なお、ＣＯＰの波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、当該面内位相差値の関係には影響しない。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）

また、２枚の偏光板の吸収軸を直交させたクロスニコルの条件下（黒表示に相当する）で、２枚の偏光板の間に得られた光学フィルム１の遅相軸と偏光板の吸収軸の成す角が４５°になるように挟み、バックライトの上に置いて観察した時に、位相差のムラが視認される場合を×、視認出来ない場合を○として、表２に光学フィルム１の位相差ムラの観察結果を示す。

実施例（２）
配向膜形成用組成物として配向膜形成用組成物（１−３）を使用したこと以外は、実施例（１）と同様にして光学異方性層を含む光学フィルム１を得た。配向膜の厚さ、および光学フィルム１のムラを観測した結果を表２に示す。

実施例（３）
配向膜形成用組成物として配向膜形成用組成物（１−４）を使用したこと以外は、実施例（１）と同様にして光学異方性層を含む光学フィルム１を得た。配向膜の厚さ、および光学フィルム１のムラを観測した結果を表２に示す。

実施例（７）
配向膜形成用組成物として配向膜形成用組成物（１−５）を使用したこと以外は、実施例（１）と同様にして光学異方性層を含む光学フィルム１を得た。配向膜の厚さ、および光学フィルム１のムラを観測した結果を表２に示す。

比較例（１）
配向膜形成用組成物として配向膜形成用組成物（１−１）を使用したこと以外は、実施例（１）と同様にして光学異方性層を含む光学フィルム１を得た。配向膜の厚さ、および光学フィルム１のムラを観測した結果を表２に示す。

実施例（４）
［光学異方性層の製造］
ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）（三菱樹脂株式会社製のダイアホイルＴ１４０Ｅ２５）を、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）により出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理した。コロナ処理を施した表面に、配向膜形成用組成物（１−２）をバーコーターにより塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）により、１００ｍＪ／ｃｍ^２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向膜の膜厚をエリプソメータで測定したところ、表３に示す結果となった。続いて、配向膜上に重合性液晶組成物（Ａ−１）を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長：３６５ｎｍ、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより光学異方性層を含む光学フィルム１を形成した。更に、得られた光学フィルム１の光学異方性層上に粘接着剤を貼合した後、コロナ処理装置（ＡＧＦ−Ｂ１０、春日電機株式会社製）により出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回処理したシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ−１４、日本ゼオン株式会社製）を前記粘接着剤に貼合した。その後、基材のＰＥＴフィルムを剥離することにより、ＣＯＰフィルムに光学異方性層を転写した光学フィルム２を得た。この時、転写された層は光学異方性層のみであり、配向膜は基材のＰＥＴフィルム上に存在していた。得られた光学フィルム２の波長４５０ｎｍならびに波長６５０ｎｍの位相差値を測定したところ、位相差値は１２０〜１５０ｎｍで、各波長での面内位相差値の関係は以下のとおりとなった。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＝０．８５
Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＝１．０３
すなわち、光学異方性層は下記式（１）、（２）及び（４）で表される光学特性を有した。なお、ＣＯＰの波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、当該面内位相差値の関係には影響しない。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
１００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （４）

また、２枚の偏光板の吸収軸を直交させたクロスニコルの条件下（黒表示に相当する）で、２枚の偏光板の間に得られた光学フィルム２の遅相軸と偏光板の吸収軸の成す角が４５°になるように挟み、バックライトの上に置いて観察した時に、位相差のムラが視認される場合を×、視認出来ない場合を○として、表３に光学フィルム２の位相差ムラの観察結果を示す。

実施例（５）
配向膜形成用組成物として配向膜形成用組成物（１−３）を使用したこと以外は、実施例（４）と同様にして光学異方性層を含む光学フィルム２を得た。配向膜の厚さ、および光学フィルム２のムラを観測した結果を表２に示す。

実施例（６）
配向膜形成用組成物として配向膜形成用組成物（１−４）を使用したこと以外は、実施例（４）と同様にして光学異方性層を含む光学フィルム２を得た。配向膜の厚さ、および光学フィルム２のムラを観測した結果を表２に示す。

実施例（８）
配向膜形成用組成物として配向膜形成用組成物（１−５）を使用したこと以外は、実施例（４）と同様にして光学異方性層を含む光学フィルム２を得た。配向膜の厚さ、および光学フィルム２のムラを観測した結果を表２に示す。

比較例（２）
配向膜形成用組成物として配向膜形成用組成物（１−１）を使用したこと以外は、実施例（４）と同様にして光学異方性層を含む光学フィルム２を得た。配向膜の厚さ、および光学フィルム２のムラを観測した結果を表２に示す。

本発明の光学フィルムは、黒表示時における面内の位相差ムラがなく、光漏れ抑制に優れるので、表示装置の部材として有用である。

１ 配向膜
２ 光学異方性層
２１ 層Ａ
２２ 層Ｂ
３、３’、３１、３２ 基材
７ 偏光板
８ 有機ＥＬパネル
１００ 本光学フィルム
１１０ 本円偏光板
２００ 有機ＥＬ表示装置

Claims (17)

1. レベリング剤を含有する配向膜と、光学異方性層とを有する光学フィルム。
2. 配向膜の一方の面と、光学異方性層の一方の面とが接している請求項１に記載の光学フィルム。
3. さらに、基材を有し、
   該基材上に、前記レベリング剤を含有する配向膜を有し、該配向膜の上に前記光学異方性層を有する請求項１に記載の光学フィルム。
4. 配向膜中のレベリング剤の含有量が、配向膜１００質量部に対して、０．００１質量部以上５質量部以下である請求項１〜３のいずれかに記載の光学フィルム。
5. 配向膜の膜厚が、１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である請求項１〜４のいずれかに記載の光学フィルム。
6. 配向膜が、光配向膜である請求項１〜５のいずれかに記載の光学フィルム。
7. 配向膜が、シンナモイル基を有する化合物に由来する構造を含む請求項１〜６のいずれかに記載の光学フィルム。
8. 光学異方性層が、式（１）及び式（２）で表される光学特性を有する請求項１〜７のいずれかに記載の光学フィルム。
   Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００ （１）
   １．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０） （２）
   （式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍの光に対する面内位相差値を表す。）
9. 光学異方性層が、式（３）で表される光学特性を有する請求項１〜８のいずれかに記載の光学フィルム。
   １００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜１６０ｎｍ （３）
   （式中、Ｒｅ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表す。）
10. 光学異方性層が、１以上の重合性液晶化合物の重合体を含むことを特徴とする請求項１〜９のいずれかに記載の光学フィルム。
11. 光学異方性層の厚さが、２０μｍ以下である請求項１〜１０のいずれかに記載の光学フィルム。
12. 請求項１〜１１のいずれかに記載の光学フィルムと、偏光フィルムとを備える円偏光板。
13. 請求項１〜１１のいずれかに記載の光学フィルムが備える光学異方性層と、偏光フィルムとを備える円偏光板。
14. 光学異方性層と、偏光フィルムとが、活性エネルギー線硬化型接着剤又は水系接着剤で貼り合わされた請求項１３に記載の円偏光板。
15. 請求項１２〜１４のいずれかに記載の円偏光板を備える有機ＥＬ表示装置。
16. 請求項１２〜１４のいずれかに記載の円偏光板を備えるタッチパネル表示装置。
17. レベリング剤を含有する配向膜と、光学異方性層とを有する光学フィルムの製造方法であって、
    １０ｍＪ／ｃｍ²以上２００ｍＪ／ｃｍ²以下の紫外線を配向膜に照射することによって、配向膜に配向規制力を生じさせる工程を含む光学フィルムの製造方法。

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