JP2016102932A - 液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】表示品位に優れた液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置は、液晶層と、第1基板と、第2基板と、を備える。第1基板は、光反射型の第1画素電極と、第1配向膜AL1と、を有する。第2基板は、対向電極と、第2配向膜AL2と、を有する。第1配向処理方向R1は、第2配向処理方向R2から第2回転方向ROT2に110°乃至130°の範囲内に捩れる。液晶層は、第2配向膜AL2から第1配向膜AL1に向かって第2回転方向ROT2に捩じる力を液晶分子LMに付与する光学活性物質を含有する液晶材料で形成されている。【選択図】図5

Description

本発明の実施形態は、液晶表示装置に関する。
一般に、液晶表示装置として、光反射型の液晶表示装置が知られている。液晶表示装置は、液晶分子の配向方向によって、TN(Twist Nematic)モード、IPS(In Plane Switching)モード、VA(Vertical Alignment)モード等に分類される。近年、TNモード液晶表示装置として、RTNモードと称される液晶表示装置が提案されている。RTNモードでは、液晶に飽和電圧を印加することにより、液晶の配向を、スプレイツイスト状態と称される第1状態からユニフォームツイスト状態と称される第2状態に転移させ、液晶を駆動することができる。
特許第5093779号公報 特許第5190818号公報 特開2014−021182号公報 特開2009−180879号公報
本発明の実施形態は、表示品位に優れた液晶表示装置を提供する。
一実施形態に係る液晶表示装置は、
液晶層と、
光反射型の第1画素電極と、前記液晶層に接し第1配向処理が施された第1配向膜と、を有する第1基板と、
前記第1画素電極と対向した対向電極と、前記液晶層に接し第2配向処理が施された第2配向膜と、を有する第2基板と、を備え、
前記第1配向処理が施された方向は、前記第2配向処理が施された方向から第2回転方向に110°乃至130°の範囲内に捩れ、
前記液晶層は、前記第2配向膜から前記第1配向膜に向かって前記第2回転方向に捩じる力を液晶分子に付与する光学活性物質を含有する液晶材料で形成されている。
図1は、一実施形態に係る液晶表示装置の概略を示す斜視図である。 図2は、図1に示した液晶表示パネルの単位画素の概略を示す図である。 図3は、上記液晶表示パネルの一部の概略を示す拡大断面図である。 図4は、上記液晶表示パネルの複数の単位画素及び複数の画素電極の概略を示す図であり、各画素電極に与えられる画像信号の極性を示す図である。 図5は、上記液晶表示パネルの第1配向膜、第2配向膜及び液晶分子を示す図であり、(a)液晶分子が捩れる回転方向が転移した状態における液晶分子の配向の様子を概念的に示す斜視図、(b)液晶分子が捩れる回転方向が転移する前の状態における液晶分子の配向の様子を概念的に示す斜視図、(c)液晶分子が捩れる回転方向が転移した状態における液晶分子の配向の様子を概念的に示す平面図、及び(d)液晶分子が捩れる回転方向が転移する前の状態における液晶分子の配向の様子を概念的に示す平面図、である。
以下、一実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
図1は、本実施形態に係る液晶表示装置の概略を示す斜視図である。更に、第1方向X、第2方向Y、及び第3方向Zを図示している。第2方向Yは、第1方向Xと直交する方向である。また、第3方向Zは、第1方向X及び第2方向Yと直交する方向である。
図1に示すように、液晶表示装置DSPは、外光を選択的に反射することで画像を表示する光反射型の液晶表示装置である。液晶表示装置DSPは、液晶表示パネルPNL、フレキシブル回路基板FPC、及び制御部CMを備えている。液晶表示パネルPNLは、画像(映像)を表示する領域である表示領域DAを中央に備え、表示領域DAの周辺に非表示領域NDAを備えている。フレキシブル回路基板FPCは、液晶表示パネルPNLの非表示領域NDAに接続されている。制御部CMは、フレキシブル回路基板FPCを介して液晶表示パネルPNLと接続されている。制御部CMは、液晶表示パネルPNLに出力する画像信号(例えば、映像信号)を制御している。
液晶表示パネルPNLは、第1基板100、第2基板200、及び集積回路チップICを備えている。なお、本実施形態において、第1基板100をアレイ基板と、第2基板200を対向基板と、それぞれ言い換えることができる。例えば、第1基板100及び第2基板200の短辺は、第1方向Xに延在している。第1基板100及び第2基板200の長辺は、第2方向Yに延在している。第1基板100は、第2基板200と第3方向Zに対向している。第1基板100の長辺は、第2基板200の長辺より長い。このため、第1基板100は、第2基板200と対向していない領域を備えている。集積回路チップICは、この領域に搭載されている。
液晶表示パネルPNLは、表示領域DAで第1方向X及び第2方向Yに並んで配置された複数の画素PXを備えている。各画素PXは、制御部CMから与えられる画像信号(映像信号)に応じて光の反射率を変化させる。これにより、液晶表示パネルPNLは、表示領域DAに画像(映像)を表示する。
図2は、液晶表示パネルPNLの単位画素UPXの概略を示す図である。
図2に示すように、単位画素UPXは、第1画素PX1、第2画素PX2、第3画素PX3、及び第4画素PX4を備えている。第1画素PX1乃至第4画素PX4の形状は、例えば正方形である。第2画素PX2は、第1画素PX1に第1方向Xで隣り合っている。第3画素PX3は、第1画素PX1に第2方向Yで隣り合っている。第4画素PXは、第2方向Yで第2画素PX2に隣り合い、第1方向Xで第3画素PX3に隣り合っている。第1画素PX1は、第1色の画像として例えば赤色(R)の画像を表示する。第2画素PXは、第1色とは異なる第2色の画像として例えば緑色(G)の画像を表示する。第3画素PX3は、第1色及び第2色とは異なる第3色の画像として例えば白色(W)の画像を表示する。第4画素PX4は、第1色、第2色及び第3色とは異なる第4色の画像として例えば青色(B)の画像を表示する。また、視感度の観点から、本実施形態のように、第2画素PXと第3画素PX3とを単位画素UPXの対角線に沿って並べ、第3画素PX3を第1画素PX1や第4画素PX4より第2画素PXから離して配置した方が望ましい。
第1画素PX1は、第1スイッチング素子SW1と、第1スイッチング素子SW1に電気的に接続された第1画素電極PE1と、を備えている。第2画素PX2は、第2スイッチング素子SW2と、第2スイッチング素子SW2に電気的に接続された第2画素電極PE2と、を備えている。第3画素PX3は、第3スイッチング素子SW3と、第3スイッチング素子SW3に電気的に接続された第3画素電極PE3と、を備えている。第4画素PX4は、第4スイッチング素子SW4と、第4スイッチング素子SW4に電気的に接続された第4画素電極PE4と、を備えている。
第1スイッチング素子SW1は、さらに、ゲート線10及び第1信号線21と電気的に接続されている。第2スイッチング素子SW2は、さらに、ゲート線10及び第3信号線23と電気的に接続されている。第3スイッチング素子SW3は、さらに、ゲート線10及び第2信号線22と電気的に接続されている。第4スイッチング素子SW4は、さらに、ゲート線10及び第4信号線24と電気的に接続されている。ゲート線10は、第1方向Xに延在しており、第1及び第2画素PX1及びPX2と、第3及び第4画素PX3及びPX4との間に位置している。第1信号線21乃至第4信号線24は、第2方向Yに延在し、第1方向Xに隣り合っている。第1信号線21は、第1画素PX1及び第3画素PX3を挟んで、第2信号線22に隣り合っている。第3信号線23は、第2信号線22に隣り合っている。第4信号線24は、第2画素PX2及び第4画素PX4を挟んで、第3信号線23に隣り合っている。なお、信号線は、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、一部が屈曲していたり、第2方向Yから傾いていたりしてもよい。
スイッチング素子SWは、ゲート線10へ印加される電圧に従って、信号線から画素電極PEへの画像信号(映像信号)の入力を制御している。単位画素UPXは、各画素PXの色を合成することで、任意の色を表示している。このような単位画素UPXがマトリクス状に並ぶことで、液晶表示装置DSPはカラーの画像(映像)を表示している。
なお、単位画素UPXが備える画素の数は、特に限定されるものではなく、3つ以下であってもよく、5つ以上であってもよい。また、単位画素UPXが備える画素が表示する色も、特に限定されるものではない。単位画素UPXは、赤色、緑色、白色、及び青色以外の色を表示する画素PXを備えていてもよい。また、白色の画素PX3は、わずかに着色した画像を表示するように構成されていてもよい。
図3は、液晶表示パネルPNLの一部の概略を示す拡大断面図である。液晶表示パネルPNLは、第1基板100、第2基板200、液晶層LQ、及び光学素子ODを備えている。なお、第1基板100において第2基板200に対向する側を内面側とし、第2基板200において第1基板100に対向する側を内面側とする。
第1基板100は、第1絶縁基板110、スイッチング素子SW(SW1,SW2,SW3,SW4)、第1絶縁膜120、第2絶縁膜130、第3絶縁膜140、光反射型の画素電極PE(PE1,PE2,PE3,PE4)、及び第1配向膜AL1を備えている。スイッチング素子SWは、半導体層SC、ゲート電極GE、第1電極E1、及び第2電極E2を備えている。
第1絶縁基板110は、例えばガラス基板や樹脂基板などの透明性を有する絶縁材料で形成されている。半導体層SCは、第1絶縁基板110の内面側に形成されている。半導体層SCは、例えば非晶質シリコンや多結晶シリコンなどのシリコン系半導体、インジウムガリウム亜鉛酸化物などの酸化物半導体、化合物半導体、又は有機半導体で形成されている。
第1絶縁膜120は、第1絶縁基板110及び半導体層SCを覆っている。ゲート電極GEは、第1絶縁膜120の内面側に形成され、半導体層SCと対向している。ゲート電極GEは、ゲート線10の一部、又はゲート線10から突出して形成されている。第2絶縁膜130は、第1絶縁膜120及びゲート電極GEを覆っている。第1絶縁膜120及び第2絶縁膜130は、例えばシリコン窒化物やシリコン酸化物などの無機絶縁材料で形成されている。
第1電極E1及び第2電極E2は、第2絶縁膜130の内面側の、半導体層SCと対向する位置に形成されている。第1電極E1及び第2電極E2は、第1絶縁膜120及び第2絶縁膜130を貫通するコンタクトホールを通り、半導体層SCと電気的に接続されている。第1電極E1は、図2に示した信号線と電気的に接続しているか、もしくは一体に形成されている。第1電極E1及び第2電極E2は、例えばアルミニウムやチタンなどの金属材料で形成されている。
第3絶縁膜140は、第2絶縁膜130、第1電極E1、及び第2電極E2を覆っている。第3絶縁膜140は、第2絶縁膜130、第1電極E1、及び第2電極E2の凹凸による影響を緩和し、第1基板100の内面側の表面を平坦化するために、例えばアクリル樹脂などの厚膜化に適した絶縁材料で形成されている。
画素電極PEは、第3絶縁膜140の内面側の、開口部APに対応する領域に形成されている。画素電極PEは、第3絶縁膜140を貫通するコンタクトホールを通り、第2電極E2と電気的に接続されている。第1配向膜AL1は、第3絶縁膜140及び画素電極PEを覆っている。第1配向膜AL1は、液晶層LQに接している。
上記画素電極PEは、光反射導電層を有している。光反射導電層は、光反射性を有する導電材料で形成されている。光反射性を有する導電材料としては、Al(アルミニウム)等の金属を利用することができる。これにより、光反射導電層は、表示面(光学素子OD)側から入射された光を上記表示面側に反射する。上記画素電極PEは、光反射導電層の他に透明導電層をさらに有していてもよい。透明導電層は、例えば、画素電極PEの最上層に位置している。透明導電層は、透明な導電材料で形成されている。透明な導電材料としては、例えばITO(インジウム・ティン・オキサイド)やIZO(インジウム・ジンク・オキサイド)を利用することができる。
第2基板200は、第2絶縁基板210、遮光層BM、カラーフィルタCF、オーバーコート層220、及び第2配向膜AL2を備えている。
第2絶縁基板210は、例えばガラス基板や樹脂基板などの光透過性を有する絶縁材料で形成されている。遮光層BMは、第2絶縁基板210の内面側に形成されている。遮光層BMは、光を反射若しくは吸収する材料によって形成されている。開口部APは、遮光層BMで区切られ、第2基板200を光が透過する領域である。カラーフィルタCFは、第2絶縁基板210の内面側の、開口部APに対応する領域に形成されている。また、カラーフィルタCFは、遮光層BMに対向する領域にも延在している。カラーフィルタCFは、例えば着色された樹脂材料で形成されている。隣接するカラーフィルタCFは、それぞれ異なる色に着色されている。また、隣接するカラーフィルタCFの境界は、遮光層BMに対向する領域に位置している。
オーバーコート層220は、カラーフィルタCFの上に形成されている。オーバーコート層220は、カラーフィルタCFの凹凸による影響を緩和し、第2基板200の内面側の表面を平坦化している。対向電極CEは、オーバーコート層220の上に形成されている。対向電極CEは、例えばITOなどの透明導電材料によって形成されている。対向電極CEは、上述した第1画素電極PE1、第2画素電極PE2、第3画素電極PE3及び第4画素電極PE4を含む複数の画素電極PEと対向している。対向電極CEは、複数の画素PX(PX1,PX2,PX3,PX4)で共用されるため、共通電極として機能している。第2配向膜AL2は、対向電極CEの上に形成されている。第2配向膜AL2は、液晶層LQに接している。第1配向膜AL1及び第2配向膜AL2は、水平配向膜であり、水平配向性を示す材料で形成されている。第1配向膜AL1には第1配向処理が施され、第2配向膜AL2には第2配向処理が施されている。第1配向処理及び第2配向処理としては、例えばラビングや光配向処理を挙げることができる。本実施形態において、第1配向処理及び第2配向処理はラビングである。
液晶層LQは、第1基板100と第2基板200との間に保持されている。また、液晶層LQは、第1配向膜AL1及び第2配向膜AL2に接している。液晶層LQは、正の誘電率異方性を有し、ネマティック液晶材料を利用している。本実施形態において、液晶層LQの厚みdは、2.5乃至2.9μmの範囲内である。後述するが、液晶層LQは、光学活性物質を含有する液晶材料で形成されている。上記液晶材料の屈折率異方性をΔnとすると、Δndの値はリタデーションと呼ばれる。本実施形態において、0.125≦Δnd≦0.232である。光学素子ODは、第2絶縁基板210の内面側とは反対の外面側に形成されている。光学素子ODは、例えば偏光板を備えている。
図4は、液晶表示パネルPNLの複数の単位画素UPX及び複数の画素電極PEの概略を示す図であり、各画素電極PEに与えられる画像信号の極性を示す図である。
図4に示すように、液晶表示パネルPNLは、制御部CMにより極性反転駆動される。各画素電極PEに与えられる画像信号の極性は、1フレーム期間毎に反転している。
図4には、第1単位画素UPX1、第2単位画素UPX2、第3単位画素UPX3、及び第4単位画素UPX4の隣り合う4個の単位画素を示している。第2単位画素UPX2は、第1単位画素UPX1と第1方向Xで隣り合っている。第3単位画素UPX3は、第1単位画素UPX1と第2方向Yで隣り合っている。第4単位画素UPX4は、第2単位画素UPX2と第2方向Yで隣り合い、第3単位画素UPX3と第1方向Xで隣り合っている。各単位画素UPXは、第1乃至第4画素の4個の画素を有し、第1乃至第4画素電極PE1乃至PE4の4個の画素電極を備えている。画素電極PEは、第1方向X及び第2方向Yに、それぞれ間隔Aを置いて並んでいる。間隔Aは、3乃至5μmの範囲内である。
任意の1フレーム期間において、第1単位画素UPX1の第1及び第2画素電極PE1及びPE2、第2単位画素UPX2の第3及び第4画素電極PE3及びPE4、第3単位画素UPX3の第1及び第2画素電極PE1及びPE2、並びに第4単位画素UPX4の第3及び第4画素電極PE3及びPE4には、正(+)の極性の画像信号が与えられる。上記期間において、第1単位画素UPX1の第3及び第4画素電極PE3及びPE4、第2単位画素UPX2の第1及び第2画素電極PE1及びPE2、第3単位画素UPX3の第3及び第4画素電極PE3及びPE4、並びに第4単位画素UPX4の第1及び第2画素電極PE1及びPE2には、負(−)の極性の画像信号が与えられる。その後、1フレーム期間毎に、各画素電極PEに与えられる画像信号の極性は反転する。
上記のことから分かるように、何れの1フレーム期間においても、隣り合う画素電極PEの極性が互いに異なる場合がある。第2方向Yに注目すると、第2方向Yに隣り合う画素電極PEの極性は、全て互いに異なっている。第1方向Xに注目すると、隣り合う第1単位画素UPX1の画素電極PEの極性と第2単位画素UPX2の画素電極PEの極性が互いに異なっている。また、隣り合う第3単位画素UPX3の画素電極PEの極性と第4単位画素UPX4の画素電極PEの極性が互いに異なっている。例えば、第2単位画素UPX2の第1画素電極PE1の極性と、第1単位画素UPX1の第2画素電極PE2の極性とは互いに異なるが、上記第2画素電極PE2には、上記第1画素電極PE1に与えられる第1画像信号の極性とは逆の極性の第2画像信号が与えられるためである。
ところで、液晶表示装置DSPにエッジリバースと呼ばれる液晶分子の配向不良が生じる恐れがある。ここで、エッジリバースとは、液晶層LQに作用する電界の影響により、第1配向膜AL1の配向規制力が損なわれ、液晶分子の配向が乱れることを言う。液晶層LQに作用する電界としては、隣り合う画素電極PEの極性が互いに異なることで、隣り合う画素電極PEの間に生じる電界等を挙げることができる。エッジリバースが生じた領域において、光漏れ、輝度ムラ、残像と言った表示不良が生じるため、表示画像の品質の低下を招いてしまう。
本実施形態において、第1配向膜AL1には、第1配向処理方向R1に第1配向処理が施されている。図4の平面視において、第1配向処理方向R1は、第1方向Xの逆方向から第2方向Yに向かって左回り(反時計回り)に所定の角度α傾いている。角度αは、第1配向処理方向R1と、第1方向Xの逆方向とが内側に成す角度である。また、角度αは、第1配向処理方向R1と第1方向Xとが成す鋭角であり、11.5°乃至21.5°の範囲内である。本実施形態では、α=21.5°である。
上記のことから、第1配向処理方向R1と、各画素電極PEの極性と、画素電極PE同士の間隔A(3乃至5μm)を考慮すると、第2単位画素UPX2と対向する第1単位画素UPX1の第2及び第4画素電極PE2及びPE4の側縁部、並びに第4単位画素UPX4と対向する第3単位画素UPX3の第2及び第4画素電極PE2及びPE4の側縁部、にエッジリバースが生じ易い。
そこで、次に、エッジリバースの発生自体を低減するための手段及び手法について図5を参照しながら説明する。これにより、表示品位に優れた液晶表示装置DSPを得ることができるものである。
図5は、液晶表示パネルPNLの第1配向膜AL1、第2配向膜AL2及び液晶分子LMを示す図である。図中、(a)は、液晶分子LMが捩れる回転方向が転移した状態における液晶分子LMの配向の様子を概念的に示す斜視図である。図中、(b)は、液晶分子LMが捩れる回転方向が転移する前の状態における液晶分子LMの配向の様子を概念的に示す斜視図である。図中、(c)は、液晶分子LMが捩れる回転方向が転移した状態における液晶分子LMの配向の様子を概念的に示す平面図であり、第3方向Zの逆方向から見た図である。図中、(d)は、液晶分子LMが捩れる回転方向が転移する前の状態における液晶分子LMの配向の様子を概念的に示す平面図であり、第3方向Zの逆方向から見た図である。
図5に示すように、第1配向処理方向R1(第1配向膜AL1に施された第1配向処理の方向)は、第2配向処理方向R2(第2配向膜AL2に施された第2配向処理の方向)から第2回転方向ROT2に角度β捩じれている。ここで、角度βは110°乃至130°の範囲内である。液晶分子LMは、第1配向膜AL1の表面近傍において、第1配向処理方向R1からプレチルト角θ1だけ傾いて初期配向する。また、液晶分子LMは、第2配向膜AL2の表面近傍において、第2配向処理方向R2から第1配向膜AL1に向かってプレチルト角θ2だけ傾いて初期配向する。
このため、第1及び第2配向処理方向R1及びR2のみに注目すると、液晶層LQにリバースツイストが発生し、液晶分子LMの配向状態は安定しない。すなわち、液晶層LQに、第1捩れ構造と第2捩れ構造との2種類の液晶分子LMの捩れ構造が共存する状態となる。
ここで、第1捩れ構造は、図5(a)及び(c)に示され、第2配向膜AL2から第1配向膜AL1に向かって第1回転方向ROT1に液晶分子LMが角度γ捩れる。液晶分子LMの配向方向は連続的に変化する。第1回転方向ROT1は、第2回転方向ROT2とは反対の回りである。ここで、γ=180°−βである。本実施形態では、50°≦γ≦70°である。第1捩れ構造において、液晶層LQの中間層のダイレクタは、第1配向膜AL1の平面及び第2配向膜AL2の平面に対して略垂直に配向する。ここで、上記中間層とは、第3方向Zにおける液晶層LQの中央の領域を言う。第1捩れ構造は、ユニフォームツイスト構造と称される場合がある。
一方、第2捩れ構造は、図5(b)及び(d)に示され、第2配向膜AL2から第1配向膜AL1に向かって第2回転方向ROT2に液晶分子LMが角度β捩れる。液晶分子LMの配向方向は連続的に変化する。第2捩れ構造において、液晶層LQの中間層のダイレクタは、第1配向膜AL1の平面及び第2配向膜AL2の平面に対して略平行に配向する。第2捩れ構造は、スプレイツイスト構造と称される場合がある。
そこで、本実施形態において、液晶層LQは、第2配向膜AL2から第1配向膜AL1に向かって第2回転方向ROT2に捩じる力を液晶分子LMに付与する光学活性物質を含有する液晶材料で形成されている。すなわち、光学活性物質は、第1及び第2配向処理方向R1及びR2の組合せで上記第1捩れ構造(ユニフォームツイスト構造)を形成するときに液晶分子LMが捩れる回転方向(第1回転方向ROT1)に対して反対の回りの回転方向(第2回転方向ROT2)の捩れ力を与える。ここで、光学活性物質は、カイラル剤と称される場合がある。
これにより、液晶層LQに電場処理等の処理を施すこと無しに、液晶層LQは第2捩れ構造を採り、液晶分子LMの配向状態は安定する。そして、液晶層LQにおけるリバースツイストの発生を抑制することができる。ここで、液晶層LQが第2捩れ構造を採る場合の、液晶材料のらせんピッチをpとする。d/pは、液晶層LQの厚みdと、らせんピッチpとの比である。本実施形態において、0.125≦d/p≦0.3である。
上記の液晶表示装置DSPを用いて画像を表示する場合、液晶分子LMの捩れ構造を、上記第2捩れ構造(スプレイツイスト構造)から第1捩れ構造(ユニフォームツイスト構造)に転移(初期転移)した後、信号線を通常駆動し、画素電極PEに所望の電圧レベルの画像信号(映像信号)を与えればよい。なお、本実施形態に係る液晶表示装置DSPの表示モードは、RTN(Reverse Twisted Nematic)モードと称される場合がある。
第2捩れ構造から第1捩れ構造への転移、すなわち、液晶分子LMが捩れる回転方向の転移は、画素電極PEと対向電極CEとによって液晶層LQに転移電圧を印加することにより行われる。すなわち、転移電圧は、画素電極PEと対向電極CEと間に印加される。なお、上記転移電圧を得るために画素電極PEに与える電圧信号は、特に限定されるものではない。例えば、転移電圧のレベルは、中間調表示のために液晶層LQに印加する電圧レベルに相当している。その他、上記電圧信号の例示として、1Hz程度の周波数のサイン波などの低い交流信号を用いることにより、短時間で第2捩れ構造から第1捩れ構造に変換することが可能である。
上記のように構成された一実施形態に係る液晶表示装置DSPによれば、液晶表示装置DSPはRTNモードと称される液晶表示装置であり、液晶層LQに転移電圧が印加されることにより、液晶分子LMの捩れ構造は、第2捩れ構造(スプレイツイスト構造)から第1捩れ構造(ユニフォームツイスト構造)に転移する。本願発明者は、光反射型の液晶表示装置DSPに上記RTNモードを採用することにより、エッジリバースの発生を有効に低減することができることを見出したものである。上記の効果が得られる一要因としては、第1捩れ構造における中間層の液晶分子LMのチルト角は、第2捩れ構造における中間層の液晶分子LMのチルト角より大きいため、例えば、中間層の液晶分子LMの配向方向が電場で反転し難くなるためであると想定される。このため、本実施形態によれば、表示品位に優れた液晶表示装置を得ることができる。
そして、本実施形態ではエッジリバースの発生を低減することができるため、上述した遮光層BMを太く形成する必要は無い。遮光層BMによる外光取り込み量の低下を防止することができる。このため、画像の輝度レベルの低下を抑制することのできる液晶表示装置を得ることができる。なお、エッジリバースの発生を低減することができない場合、遮光層BMを太く形成し、エッジリバースの発生を隠す必要があり得る。
なお、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
例えば、第1回転方向ROT1及び第2回転方向ROT2は、上述した実施形態とは逆の回りであってもよい。例えば、図5(c)及び(d)に示す平面視において、第2配向処理方向R2は、第1配向処理方向R1から右回りに角度β捩れていてもよい。
画素電極PEの形状は、正方形に限定されるものではなく、種々変形可能であり、長方形であってもよい。画素電極PEの形状は、矩形状以外の形状であってもよい。これらの場合であっても、上述した実施形態の効果と同様の効果を得ることができる。
単位画素UPXは、RGBW正方画素(RGBWの4個の正方形の画素が正方配列化された画素)に限らず、種々変形可能であり、例えば、いわゆるRGBW縦ストライプ画素(RGBWの4個の長方形の画素(画素電極)がストライプ状に配列された画素)で構成されていてもよい。
また、単位画素UPXは、いわゆるRGB縦ストライプ画素(一般的な3原色であるRGBの3個の長方形の画素(画素電極)がストライプ状に配列された画素)で構成されていてもよい。単位画素UPXは、さらに、Y(黄色)画素や、W画素及びY画素の両方を備えた4色以上の画素で構成されていてもよい。
液晶表示パネルPNLの極性反転駆動は、上述した実施形態に限定されるものではなく、種々変形可能である、任意の1フレーム期間に、隣り合う画素電極PEの極性を異ならせて駆動する場合、上述した実施形態と同様の効果を得ることができる。
上述した実施形態は、上述した液晶表示装置に限定されるものではなく、各種の液晶表示装置に適用可能である。
DSP…液晶表示装置
PNL…液晶表示パネル 100…第1基板 200…第2基板 LQ…液晶層
SW…スイッチング素子 PE…画素電極 CE…対向電極
AL1…第1配向膜 AL2…第2配向膜
R1…第1配向処理方向 R2…第2配向処理方向
LM…液晶分子 ROT1…第1回転方向 ROT2…第2回転方向
α,β,γ…角度 p…らせんピッチ d…厚み Δn…屈折率異方性
A…間隔

Claims (11)

  1. 液晶層と、
    光反射型の第1画素電極と、前記液晶層に接し第1配向処理が施された第1配向膜と、を有する第1基板と、
    前記第1画素電極と対向した対向電極と、前記液晶層に接し第2配向処理が施された第2配向膜と、を有する第2基板と、を備え、
    前記第1配向処理が施された方向は、前記第2配向処理が施された方向から第2回転方向に110°乃至130°の範囲内に捩れ、
    前記液晶層は、前記第2配向膜から前記第1配向膜に向かって前記第2回転方向に捩じる力を液晶分子に付与する光学活性物質を含有する液晶材料で形成されている、液晶表示装置。
  2. 前記液晶分子が捩れる回転方向は、前記第1画素電極と前記対向電極とによって前記液晶層に転移電圧を印加することにより転移し、
    前記液晶分子が捩れる回転方向が転移した状態において、前記液晶分子は、前記第2回転方向とは反対の回りの第1回転方向に前記第2配向膜から前記第1配向膜に向かって捩れる、請求項1に記載の液晶表示装置。
  3. 前記液晶分子が捩れる回転方向が転移する前の状態において、前記液晶層の中間層のダイレクタは、前記第1配向膜の平面及び前記第2配向膜の平面に対して略平行に配向し、
    前記液晶分子が捩れる回転方向が転移した状態において、前記液晶層の中間層のダイレクタは、前記第1配向膜の平面及び前記第2配向膜の平面に対して略垂直に配向する、請求項2に記載の液晶表示装置。
  4. 前記液晶材料のらせんピッチをp、前記液晶層の厚みをdとすると、
    0.125≦d/p≦0.3
    である、請求項1に記載の液晶表示装置。
  5. 前記液晶層の厚みは、2.5乃至2.9μmの範囲内である、請求項1に記載の液晶表示装置。
  6. 前記液晶材料の屈折率異方性をΔn、前記液晶層の厚みをdとすると、
    0.125≦Δnd≦0.232である、請求項1に記載の液晶表示装置。
  7. 前記第1基板は、前記第1画素電極に間隔を置いて位置し前記対向電極と対向し前記第1画素電極に与えられる第1画像信号の極性とは逆の極性の第2画像信号が与えられる光反射型の第2画素電極をさらに有する、請求項1に記載の液晶表示装置。
  8. 前記第1画素電極と前記第2画素電極との間の間隔は3乃至5μmの範囲内である、請求項7に記載の液晶表示装置。
  9. 前記第1基板は、前記第1画素電極を有し第1色の画像を表示する第1画素と、前記第1画素に第1方向に隣合い光反射型の第2画素電極を有し前記第1色とは異なる第2色の画像を表示する第2画素と、前記第1画素に前記第1方向に交差する第2方向に隣合い光反射型の第3画素電極を有し前記第1色及び第2色とは異なる第3色の画像を表示する第3画素と、前記第2画素に前記第2方向に隣合い前記第3画素に前記第1方向に隣合い光反射型の第4画素電極を有し前記第1色、前記第2色及び前記第3色とは異なる第4色の画像を表示する第4画素と、を含んだ単位画素をさらに有し、
    前記対向電極は、前記第2画素電極、前記第3画素電極及び前記第4画素電極とさらに対向している、請求項1に記載の液晶表示装置。
  10. 前記第1配向処理が施された方向と前記第1方向とが成す鋭角は、11.5°乃至21.5°の範囲内である、請求項9に記載の液晶表示装置。
  11. 前記液晶材料は、正の誘電率異方性を有し、ネマティック液晶材料を利用している請求項1に記載の液晶表示装置。
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