JP2016078245A - Hard coat film for transparent electrode - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、透明電極用ハードコートフィルムに関する。 The present invention relates to a hard coat film for transparent electrodes.
タッチパネルは、一般に、液晶ディスプレイ等の表示装置の上にタッチパネルセンサを配置した構成を有する。タッチパネルセンサには、抵抗膜方式、表面弾性波方式、赤外線方式、電磁誘導方式、静電容量方式等があり、静電容量方式にはさらに表面型と投影型がある。投影型静電容量方式は、指が触れた位置を精密に判別できる、多点検出が可能である等の点から、スマートフォン等のタブレット型の携帯端末に多く採用されている。 A touch panel generally has a configuration in which a touch panel sensor is disposed on a display device such as a liquid crystal display. The touch panel sensor includes a resistance film method, a surface acoustic wave method, an infrared method, an electromagnetic induction method, a capacitance method, and the like. The capacitance method further includes a surface type and a projection type. The projected capacitive method is often used in tablet-type mobile terminals such as smartphones because it can accurately determine the position touched by a finger and can detect multiple points.
投影型静電容量方式のタッチパネルセンサは、ダイヤ状、細線状等のパターンで形成された透明電極層を複数、絶縁性の透光性基体を介して重ね合わせた構造を有している。たとえば、透光性基体の片面にスパッタリング法等によって透明導電膜を形成し、該透明導電膜をエッチングして透明電極層を形成した透光性導電性フィルムを複数貼り合わせることでタッチパネルが形成されている。透明電極層の材質としては、透明性と導電性に優れることから、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が用いられることが多い。 The projected capacitive touch panel sensor has a structure in which a plurality of transparent electrode layers formed in a diamond-like pattern or a fine-line-like pattern are overlapped via an insulating translucent substrate. For example, a touch panel is formed by forming a transparent conductive film on one side of a translucent substrate by sputtering or the like, and bonding a plurality of translucent conductive films formed by etching the transparent conductive film to form a transparent electrode layer. ing. As a material for the transparent electrode layer, indium tin oxide (ITO) is often used because of its excellent transparency and conductivity.
透光性基体としては、従来、ガラス板が用いられ、近年は透明樹脂フィルムも用いられている。透明樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（以下「ＰＥＴ」ともいう。）フィルムが多く用いられている。
透明樹脂フィルムは、ガラス板に比べて表面硬度が低い。そのため、透明樹脂フィルムの表面には通常、作業時に表面が傷付くことを防止する目的で、ハードコート層が設けられている。ハードコート層にアンチブロッキング機能を持たせてアンチブロッキングハードコート層とする場合もある。
Conventionally, a glass plate is used as the translucent substrate, and a transparent resin film is also used in recent years. As the transparent resin film, a polyethylene terephthalate (hereinafter also referred to as “PET”) film is often used.
The transparent resin film has a lower surface hardness than the glass plate. Therefore, a hard coat layer is usually provided on the surface of the transparent resin film for the purpose of preventing the surface from being damaged during work. In some cases, the hard coat layer may have an anti-blocking function to form an anti-blocking hard coat layer.
透光性導電性フィルムの透明電極層側の表面には、透明電極層が存在する領域と透明電極層が存在しない領域とがあり、透明電極層のパターン形状が見えてしまう、いわゆる骨見えの問題が生じる。
骨見えの原因の一つは、透明電極層が存在する領域と透明電極層が存在しない領域との間での光学特性（光の反射率、透過率等）の違いである。そこで、それらの領域の間での光学特性の差を小さくするために、透光性基体と透明電極層との間に光学調整層を設けることが提案されている（たとえば特許文献１）。
On the surface of the translucent conductive film on the side of the transparent electrode layer, there are a region where the transparent electrode layer is present and a region where the transparent electrode layer is not present. Problems arise.
One of the causes of bone appearance is a difference in optical characteristics (light reflectance, transmittance, etc.) between a region where the transparent electrode layer is present and a region where the transparent electrode layer is not present. Therefore, in order to reduce the difference in optical characteristics between these regions, it has been proposed to provide an optical adjustment layer between the translucent substrate and the transparent electrode layer (for example, Patent Document 1).
近年、携帯端末等の軽量化や薄型化に伴い、透光性導電性フィルムについても薄型化が求められる。しかし、透光性導電性フィルムの薄型化のために透光性基体の厚みを薄くすると、前記の骨見えの問題がより顕著になる。
本発明者らの検討によれば、透光性基体を薄くすると、前記のような光学特性の差による骨見え（色見え）だけでなく、透明電極層が存在する領域と透明電極層が存在しない領域との境界付近の段差等の立体的要因による骨見え（物理的骨見え）が問題になってくる。特に透光性基体上にハードコート層が積層している場合、骨見えが顕著になりやすい。そのため、優れた表面硬度を保ちつつ骨見えを抑制することは難しい。
In recent years, with the reduction in weight and thickness of portable terminals and the like, the light-transmitting conductive film is also required to be thin. However, if the thickness of the translucent substrate is reduced in order to reduce the thickness of the translucent conductive film, the above-mentioned problem of bone appearance becomes more prominent.
According to the study by the present inventors, when the translucent substrate is thinned, not only the bone appearance (color appearance) due to the difference in optical characteristics as described above but also the region where the transparent electrode layer exists and the transparent electrode layer exist. The appearance of bone (physical bone appearance) due to a three-dimensional factor such as a step near the boundary with the non-performing area becomes a problem. In particular, when a hard coat layer is laminated on a translucent substrate, bone appearance tends to be remarkable. Therefore, it is difficult to suppress bone appearance while maintaining excellent surface hardness.
本発明は、厚みが薄い場合でも、優れた表面硬度を保ちつつ、表面に形成される透明電極層の骨見えを抑制できる透明電極用ハードコートフィルムを提供することを目的とする。 An object of this invention is to provide the hard-coat film for transparent electrodes which can suppress the bone appearance of the transparent electrode layer formed in the surface, maintaining the outstanding surface hardness, even when thickness is thin.
本発明の透明電極用ハードコートフィルムは、透明電極層が片面に形成されるハードコートフィルムであって、
透明電極層が形成される側から、少なくとも、ハードコート層と、易接着層と、透光性基体とがこの順に積層し、
前記ハードコート層が、放射線硬化型樹脂を含有し、前記放射線硬化型樹脂のうちの３４質量％以上がアクリルアクリレート樹脂であるハードコート層形成材料から形成された層であり、
前記ハードコート層の厚みが１．０〜５．０μｍであることを特徴とする。
The hard electrode film for transparent electrodes of the present invention is a hard coat film in which the transparent electrode layer is formed on one side,
From the side where the transparent electrode layer is formed, at least a hard coat layer, an easy adhesion layer, and a translucent substrate are laminated in this order,
The hard coat layer contains a radiation curable resin, and is a layer formed from a hard coat layer forming material in which 34% by mass or more of the radiation curable resin is an acrylic acrylate resin,
The hard coat layer has a thickness of 1.0 to 5.0 μm.
本発明によれば、厚みが薄い場合でも、優れた表面硬度を保ちつつ、表面に形成される透明電極層の骨見えを抑制できる透明電極用ハードコートフィルムを提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, even if thickness is thin, the hard coat film for transparent electrodes which can suppress the bone appearance of the transparent electrode layer formed in the surface can be provided, maintaining the outstanding surface hardness.
＜第一実施形態＞
図１は、本発明の透明電極用ハードコートフィルム（以下、単に「ハードコートフィルム」ともいう。）の第一実施形態を模式的に示す断面図である。
本実施形態のハードコートフィルム１は、透明電極層が片面に形成されるものである。つまり、ハードコートフィルム１は、ハードコートフィルム１と、ハードコートフィルム１の片面に積層した透明電極層とを有する透光性導電性フィルムを製造する用途に用いられる。
<First embodiment>
FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a first embodiment of a hard electrode film for transparent electrodes (hereinafter, also simply referred to as “hard coat film”) of the present invention.
The
ハードコートフィルム１においては、透明電極層が形成される側から、ハードコート層１７と、第一の易接着層１３と、透光性基体１１と、第二の易接着層１５とがこの順に積層している。
ハードコートフィルム１においては、ハードコート層１７が、透明電極層が形成される側の最表層に配置されている。つまり、ハードコート層１７が、透明電極層が形成される面（以下、「透明電極層形成面」ともいう。）１ａを構成している。
In the
In the
（透光性基体）
透光性基体１１としては、透明樹脂フィルムが好ましい。
透明樹脂フィルムを構成する透明樹脂としては、特に制限はなく、たとえばＰＥＴ、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、含ノルボルネン樹脂、アクリル樹脂、ポリエーテルスルホン、セロファン、芳香族ポリアミド等が挙げられる。
透明樹脂フィルムは、延伸フィルムでもよく、無延伸フィルムでもよい。フィルムの引っ張り強度の点では、延伸フィルムが好ましく、２軸延伸フィルムがより好ましい。
透明樹脂フィルムとしては、耐熱性やコストの点で、ＰＥＴフィルムが好ましく、２軸延伸ＰＥＴフィルムが特に好ましい。
透明樹脂フィルムの表面に、易接着処理、コロナ処理、プラズマ処理等の処理が施されていてもよい。
(Translucent substrate)
As the
The transparent resin constituting the transparent resin film is not particularly limited. For example, PET, triacetyl cellulose (TAC), polyethylene naphthalate (PEN), polymethyl methacrylate (PMMA), polycarbonate (PC), polyimide (PI), Examples include polyethylene (PE), polypropylene (PP), polyvinyl alcohol (PVA), polyvinyl chloride (PVC), cycloolefin copolymer (COC), norbornene resin, acrylic resin, polyethersulfone, cellophane, and aromatic polyamide. .
The transparent resin film may be a stretched film or an unstretched film. In terms of the tensile strength of the film, a stretched film is preferable, and a biaxially stretched film is more preferable.
As the transparent resin film, a PET film is preferable in terms of heat resistance and cost, and a biaxially stretched PET film is particularly preferable.
The surface of the transparent resin film may be subjected to treatments such as easy adhesion treatment, corona treatment, and plasma treatment.
透光性基体１１の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７１０５：２０１０年）は、９０％以上が好ましく、９１％以上がより好ましい。
透光性基体１１の屈折率は、１．５９〜１．６５が好ましく、１．６３〜１．６４がより好ましい。
透光性基体１１の厚みは、第一の易接着層１３及びハードコート層１７の厚みを考慮して設定される。
The total light transmittance of the translucent substrate 11 (JIS K7105: 2010) is preferably 90% or more, and more preferably 91% or more.
The refractive index of the
The thickness of the
（第一の易接着層）
「易接着層」は、透光性基体とハードコート層との間の密着性を高める層である。
第一の易接着層１３を構成する成分としては、特に限定されないが、たとえば、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、アクリル樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、接着性の点から、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂から選ばれる少なくとも１種が好ましい。ポリエステル樹脂とアクリル樹脂、ポリエステル樹脂とウレタン樹脂、アクリル樹脂とウレタン樹脂を組み合わせて用いてもよい。
透光性基体１１がＰＥＴフィルムである場合、第一の易接着層１３を構成する成分としては、ポリエステル樹脂が特に好ましい。ポリエステル樹脂の屈折率は、ＰＥＴフィルムの屈折率（１．６５程度）に近い値であり、ポリエステル樹脂を用いることで、第一の易接着層１３とＰＥＴフィルムとの屈折率差を小さくすることができ、干渉ムラを抑制することができる。
第一の易接着層１３の厚みは、干渉ムラの抑制効果を引き出すため、好ましくは２０ｎｍ以上２００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。
(First easy adhesion layer)
The “easily adhesive layer” is a layer that enhances the adhesion between the translucent substrate and the hard coat layer.
Although it does not specifically limit as a component which comprises the 1st easily
When the
The thickness of the first easy-
（第二の易接着層）
第二の易接着層１５としては、第一の易接着層１３と同様のものが挙げられる。好ましい態様も同様である。
第二の易接着層１５は、第一の易接着層１３と同じでもよく、異なってもよい。例えば構成する成分や厚みが異なってもよい。
(Second easy adhesion layer)
Examples of the second
The second
（ハードコート層）
「ハードコート層」は、ハードコート性を有する層を意味する。「ハードコート性を有する」とは、鉛筆硬度試験（ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４）でＦ以上の硬度を示すことを意味する。
本発明において、ハードコート層１７の硬度、つまり透明電極層形成面１ａの硬度は、フィルム搬送時の容易性等の点から、Ｆ以上が好ましく、Ｈ以上が特に好ましい。
(Hard coat layer)
“Hard coat layer” means a layer having hard coat properties. “Has a hard coat property” means that a pencil hardness test (JIS K5600-5-4) indicates a hardness of F or higher.
In the present invention, the hardness of the
ハードコート層１７は、アンチブロッキング性を有するハードコート層（アンチブロッキングハードコート層）であってもよい。「アンチブロッキング性を有する」とは、フィルム巻取り時に接する相手側の層の平滑性が高くても、ブロッキングすることなく容易に巻き取ることができる機能をもつことを意味する。
ハードコート層１７は、ハードコート性及びアンチブロッキング性以外の他の機能をさらに有してもよい。
The
The
ハードコート層１７は、放射線硬化型樹脂を含有し、前記放射線硬化型樹脂のうちの少なくとも３４質量％がアクリルアクリレート樹脂であるハードコート層形成材料（以下、「ハードコート層形成材料Ａ」ともいう。）から形成された層である。
放射線硬化型樹脂における放射線としては、紫外線、電子線等が挙げられる。
The
Examples of radiation in the radiation curable resin include ultraviolet rays and electron beams.
アクリルアクリレート樹脂は、（メタ）アクリロイル基を含む側基を有するアクリル樹脂である。（メタ）アクリロイル基は、アクリロイル基又はメタクリロイル基を示す。
アクリルアクリレート樹脂中の（メタ）アクリロイル基の含有量は、二重結合当量（（メタ）アクリロイル基１モルあたりのアクリルアクリレート樹脂の質量）として、１００〜２００ｇ／モルが好ましく、１４０〜１６０ｇ／モルがより好ましい。
アクリルアクリレート樹脂としては、例えば、カルボキシ基と反応する官能基（エポキシ基、水酸基等）を含む側基を有するアクリル系ポリマーに、（メタ）アクリロイル基及びカルボキシ基を有する化合物（（メタ）アクリル酸等）を反応させて（メタ）アクリロイル基を導入したものが挙げられる。
The acrylic acrylate resin is an acrylic resin having a side group containing a (meth) acryloyl group. The (meth) acryloyl group represents an acryloyl group or a methacryloyl group.
The content of the (meth) acryloyl group in the acrylic acrylate resin is preferably 100 to 200 g / mol, and preferably 140 to 160 g / mol as a double bond equivalent (mass of acrylic acrylate resin per mol of (meth) acryloyl group). Is more preferable.
As the acrylic acrylate resin, for example, a compound ((meth) acrylic acid) having a (meth) acryloyl group and a carboxy group on an acrylic polymer having a side group containing a functional group (epoxy group, hydroxyl group, etc.) that reacts with a carboxy group. Etc.) and a (meth) acryloyl group introduced.
アクリル系ポリマーとしては、アルキル（メタ）アクリレートに基づく構成単位と、下記の官能基含有モノマーに基づく構成単位とを有するものが好ましい。
官能基含有モノマー：水酸基含有モノマー及びエポキシ基含有モノマーからなる群から選択される少なくとも一種。
アクリル系ポリマーは、必要に応じて、アルキル（メタ）アクリレート及び官能基含有モノマー以外の他のモノマーに基づく構成単位をさらに含有してもよい。
「（メタ）アクリレート」は、アクリレート又はメタクリレートを示す。「（メタ）アクリル酸」は、アクリル酸又はメタクリル酸を示す。
As an acrylic polymer, what has a structural unit based on the alkyl (meth) acrylate and a structural unit based on the following functional group containing monomer is preferable.
Functional group-containing monomer: At least one selected from the group consisting of a hydroxyl group-containing monomer and an epoxy group-containing monomer.
The acrylic polymer may further contain a constituent unit based on another monomer other than the alkyl (meth) acrylate and the functional group-containing monomer, if necessary.
“(Meth) acrylate” refers to acrylate or methacrylate. “(Meth) acrylic acid” refers to acrylic acid or methacrylic acid.
アルキル（メタ）アクリレートとしては、特に制限されないが、アルキル基の炭素数が４〜１２のアルキル（メタ）アクリレートが好ましく、例えばｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートは１種を単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。 Although it does not restrict | limit especially as an alkyl (meth) acrylate, The alkyl (meth) acrylate whose carbon number of an alkyl group is 4-12 is preferable, for example, n-butyl (meth) acrylate, iso-butyl (meth) acrylate, sec- Butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) Examples include acrylate, nonyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, and dodecyl (meth) acrylate. Alkyl (meth) acrylate can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
水酸基含有モノマーとしては、例えばアクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸４−ヒドロキシブチル、メタクリル酸４−ヒドロキシブチル、アクリル酸２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル、メタクリル酸２−ヒドロキシ−３−クロロプロピル、アクリル酸２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル、メタクリル酸２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル等が挙げられる。
エポキシ基含有モノマーとしては、例えばアクリル酸グリシジルエーテル、メタクリル酸グリシジルエーテル、アクリル酸−２−エチルグリシジルエーテル、メタクリル酸−２−グリシジルエーテル等が挙げられる。
官能基含有モノマーは１種を単独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。
Examples of the hydroxyl group-containing monomer include 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, 3-hydroxypropyl acrylate, 3-hydroxypropyl methacrylate, and acrylic. 4-hydroxybutyl acid, 4-hydroxybutyl methacrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl acrylate, 2-hydroxy-3-chloropropyl methacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, 2-methacrylic acid 2- And hydroxy-3-phenoxypropyl.
Examples of the epoxy group-containing monomer include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, acrylate-2-ethyl glycidyl ether, and methacrylic acid-2-glycidyl ether.
A functional group containing monomer can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.
アクリルアクリレート樹脂の重量平均分子量は、１０００〜５００００が好ましく、５０００〜３００００がより好ましく、１００００〜２００００がさらに好ましい。
アクリルアクリレート樹脂の重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により、標準ポリスチレン換算で測定される値である。
1000-50000 is preferable, as for the weight average molecular weight of acrylic acrylate resin, 5000-30000 are more preferable, and 10000-20000 are further more preferable.
The weight average molecular weight of the acrylic acrylate resin is a value measured in terms of standard polystyrene by gel permeation chromatography (GPC).
ハードコート層形成材料Ａは、放射線硬化型樹脂として、アクリルアクリレート樹脂以外の他の放射線硬化型樹脂をさらに含有してもよい。
他の放射線硬化型樹脂としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のラジカル重合性官能基や、エポキシ基、ビニルエーテル基、オキセタン基等のカチオン重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを単独で、又は適宜混合して用いることができる。
モノマーとしては、たとえば、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、メトキシポリエチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等が挙げられる。
オリゴマー、プレポリマーとしては、たとえば、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、アルキットアクリレート、メラミンアクリレート、シリコーンアクリレート等のアクリレート化合物、不飽和ポリエステル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルや各種脂環式エポキシ等のエポキシ系化合物、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、１，４−ビス｛［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル｝ベンゼン、ジ［１−エチル（３−オキセタニル）］メチルエーテル等のオキセタン化合物などが挙げられる。
The hard coat layer forming material A may further contain a radiation curable resin other than the acrylic acrylate resin as the radiation curable resin.
As other radiation curable resins, monomers having radical polymerizable functional groups such as acryloyl group, methacryloyl group, acryloyloxy group, methacryloyloxy group, and cationic polymerizable functional groups such as epoxy group, vinyl ether group, oxetane group, Oligomers and prepolymers can be used alone or in appropriate mixture.
Examples of the monomer include methyl acrylate, methyl methacrylate, methoxy polyethylene methacrylate, cyclohexyl methacrylate, phenoxyethyl methacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, and the like.
Examples of oligomers and prepolymers include polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, alkit acrylate, melamine acrylate, silicone acrylate and other acrylate compounds, unsaturated polyester, tetramethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diester. Epoxy compounds such as glycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, bisphenol A diglycidyl ether and various alicyclic epoxies, 3-ethyl-3-hydroxymethyloxetane, 1,4-bis {[(3-ethyl-3 -Oxetanyl) methoxy] methyl} benzene, di [1-ethyl (3-oxetanyl)] methyl ether, and other oxetane compounds It is.
ハードコート層形成材料Ａ中のアクリルアクリレート樹脂の含有量は、放射線硬化型樹脂（１００質量％）に対して３４質量％以上であり、４０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がさらに好ましい。
アクリルアクリレート樹脂の含有量が前記の下限値以上であれば、透明電極層形成面１ａに形成される透明電極層の骨見えを抑制できる。また、ハードコートフィルム１が高温（例えば１５０℃）に曝されたときの反りを抑制できる。
The content of the acrylic acrylate resin in the hard coat layer forming material A is 34% by mass or more, preferably 40% by mass or more, and more preferably 50% by mass or more with respect to the radiation curable resin (100% by mass).
If content of acrylic acrylate resin is more than the said lower limit, the bone appearance of the transparent electrode layer formed in the transparent electrode
ハードコート層形成材料Ａにおいて、放射線硬化型樹脂中のアクリルアクリレート樹脂の含有量の上限は、骨見え抑制の点では特に限定されず、１００質量％であってもよいが、硬化後塗膜の硬度の点では、他の放射線硬化型樹脂として、ラジカル重合性官能基を有するモノマーをさらに含むことが好ましい。
放射線硬化型樹脂がアクリルアクリレート樹脂とラジカル重合性官能基を有するモノマーとを含む場合、放射線硬化型樹脂（１００質量％）に対し、アクリルアクリレート樹脂が３４〜５０質量％で、ラジカル重合性官能基を有するモノマーが５０〜６６質量％であることが好ましく、アクリルアクリレート樹脂が４０〜５０質量％で、ラジカル重合性官能基を有するモノマーが５０〜６０質量％であることがより好ましい。
In the hard coat layer forming material A, the upper limit of the content of the acrylic acrylate resin in the radiation curable resin is not particularly limited in terms of suppression of bone appearance, and may be 100% by mass. In terms of hardness, it is preferable to further include a monomer having a radical polymerizable functional group as another radiation curable resin.
When the radiation curable resin includes an acrylic acrylate resin and a monomer having a radical polymerizable functional group, the acrylic acrylate resin is 34 to 50% by mass with respect to the radiation curable resin (100% by mass), and the radical polymerizable functional group. It is preferable that the monomer which has 50 to 66 mass%, acrylic acrylate resin is 40 to 50 mass%, and it is more preferable that the monomer which has a radical polymerizable functional group is 50 to 60 mass%.
放射線硬化型樹脂は、電子線照射による効果を行う場合は、単独で硬化可能であるが、紫外線照射による硬化を行う場合は、光重合開始剤の添加が必要である。
光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のラジカル重合開始剤、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物等のカチオン重合開始剤等を単独で又は適宜組み合わせて使用することができる。
The radiation curable resin can be cured alone when effected by electron beam irradiation, but it needs addition of a photopolymerization initiator when cured by ultraviolet irradiation.
Photopolymerization initiators include radical polymerization initiators such as acetophenone, benzophenone, thioxanthone, benzoin, and benzoin methyl ether, and cationic polymerization starts such as aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, and metallocene compounds. An agent etc. can be used individually or in combination as appropriate.
ハードコート層形成材料Ａは、放射線硬化型樹脂の重合硬化を妨げない範囲で、高分子樹脂をさらに含有してもよい。
該高分子樹脂は、ハードコート層形成材料Ａに使用される液体成分（液状の放射線硬化型樹脂、必要に応じて配合される有機溶剤等）に可溶な熱可塑性樹脂であり、具体的にはアクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。これらの高分子樹脂は、カルボキシル基、リン酸基、スルホン酸基等の酸性官能基を有してもよい。
The hard coat layer forming material A may further contain a polymer resin as long as it does not interfere with the polymerization and curing of the radiation curable resin.
The polymer resin is a thermoplastic resin that is soluble in a liquid component (liquid radiation curable resin, organic solvent blended as necessary) used for the hard coat layer forming material A, specifically Acrylic resin, alkyd resin, polyester resin and the like. These polymer resins may have an acidic functional group such as a carboxyl group, a phosphoric acid group, and a sulfonic acid group.
ハードコート層形成材料Ａは、ハードコート層１７の屈折率の調節のために、無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子の平均粒子径は、１〜１０００ｎｍであることが好ましく、５〜５００ｎｍがより好ましく、１０〜２００ｎｍがさらに好ましい。
無機微粒子としては、たとえば、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子、酸化錫粒子、炭酸カルシウム粒子、硫酸バリウム粒子、タルク、カオリン及び硫酸カルシウム粒子等が挙げられる。これらの中でも、二酸化ケイ素粒子、二酸化チタン粒子、酸化アルミニウム粒子、酸化ジルコニウム粒子が好ましく、市場における希少性や取り扱いの容易さの点で、酸化ジルコニウム粒子が特に好ましい。
無機微粒子は、表面処理されていてもよい。表面処理としては、シランカップリング処理が代表的である。
無機微粒子の含有量は、ハードコート層の全質量の１〜９９質量％であることが好ましく、１０〜９０質量％がより好ましく、２０〜８０質量％がさらに好ましく、３０〜６０質量％が特に好ましい。
The hard coat layer forming material A may contain inorganic fine particles in order to adjust the refractive index of the
The average particle size of the inorganic fine particles is preferably 1-1000 nm, more preferably 5-500 nm, and even more preferably 10-200 nm.
Examples of the inorganic fine particles include silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, aluminum oxide particles, zirconium oxide particles, tin oxide particles, calcium carbonate particles, barium sulfate particles, talc, kaolin and calcium sulfate particles. Among these, silicon dioxide particles, titanium dioxide particles, aluminum oxide particles, and zirconium oxide particles are preferable, and zirconium oxide particles are particularly preferable from the viewpoint of scarcity in the market and ease of handling.
The inorganic fine particles may be surface-treated. A typical surface treatment is a silane coupling treatment.
The content of the inorganic fine particles is preferably 1 to 99% by mass of the total mass of the hard coat layer, more preferably 10 to 90% by mass, further preferably 20 to 80% by mass, particularly 30 to 60% by mass. preferable.
本発明において、無機微粒子の平均粒子径は、５〜１００ｎｍである。 In the present invention, the average particle size of the inorganic fine particles is 5 to 100 nm.
ハードコート層形成材料Ａは、アンチブロッキング性の付与のために、有機微粒子を含有してもよい。
有機微粒子の平均一次粒子径は０．５〜１．５μｍが好ましく、０．８〜１．０μｍがより好ましい。有機微粒子の平均一次粒子径が前記範囲の下限値以上であれば、充分なアンチブロッキング性が得られやすく、上限値以下であれば、ヘイズ等の光学特性が良好である。
有機微粒子の材質としては、屈折率が１．４２〜１．６０の範囲にあるものが、高い光透過性を得ることができるので好ましい。
有機微粒子の材質としては、たとえば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン−アクリル共重合体、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオルエチレン、ジビニルベンゼン樹脂、フェノール樹脂、ウレタン樹脂、酢酸セルロース、ナイロン、セルロース、ベンゾグアナミン樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、耐光性の点で、アクリル樹脂が好ましい。
有機微粒子としては、粒子径分布が狭いほど、優れた光学特性が得られることから好ましい。具体的には、粒子径分布の値が０．８〜１．０であることが好ましく、０．９〜１．０がより好ましい。
有機微粒子の含有量は、ハードコート層（アンチブロッキングハードコート層）の全質量の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．０５〜５質量％がより好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。
The hard coat layer forming material A may contain organic fine particles for imparting antiblocking properties.
The average primary particle diameter of the organic fine particles is preferably 0.5 to 1.5 μm, more preferably 0.8 to 1.0 μm. If the average primary particle diameter of the organic fine particles is not less than the lower limit of the above range, sufficient anti-blocking properties can be easily obtained, and if it is not more than the upper limit, optical properties such as haze are good.
As the material of the organic fine particles, those having a refractive index in the range of 1.42 to 1.60 are preferable because high light transmittance can be obtained.
Examples of the organic fine particle material include acrylic resin, polystyrene resin, styrene-acrylic copolymer, polyethylene resin, epoxy resin, silicone resin, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, divinylbenzene resin, phenol resin, and urethane resin. , Cellulose acetate, nylon, cellulose, benzoguanamine resin, melamine resin and the like. Among these, an acrylic resin is preferable in terms of light resistance.
As the organic fine particles, the narrower the particle size distribution is, the better optical properties can be obtained. Specifically, the particle size distribution value is preferably 0.8 to 1.0, more preferably 0.9 to 1.0.
The content of the organic fine particles is preferably 0.01 to 20% by mass of the total mass of the hard coat layer (anti-blocking hard coat layer), more preferably 0.05 to 5% by mass, and 0.1 to 1%. Mass% is particularly preferred.
粒子径分布とは、次式で定義されるもので、粒子径分布が単分散になるほど１．０に近くなり、完全な単分散では１．０になる。
粒子径分布＝個数平均粒子径÷体積平均粒子径。
上記の式における個数平均粒子径及び体積平均粒子径は、コールターカウンター法により測定されるものである。
The particle size distribution is defined by the following equation, and becomes closer to 1.0 as the particle size distribution becomes monodisperse, and becomes 1.0 when the monodisperse is complete.
Particle size distribution = number average particle size / volume average particle size.
The number average particle diameter and volume average particle diameter in the above formula are measured by a Coulter counter method.
ハードコート層形成材料Ａが有機微粒子を含む場合、ハードコート層形成材料Ａは、有機微粒子を均一に分散させるために、分散剤をさらに含有することが好ましい。
分散剤としては、アルミネート系分散剤、チタネート系分散剤、カルボキシル基又は無水カルボン酸基含有ポリマー、界面活性剤等が挙げられる。これらの中でもチタネート系分散剤が好ましい。
分散剤の含有量は、樹脂成分（放射線硬化型樹脂、および必要に応じて高分子樹脂）１００質量部に対して５質量部以下が好ましく、０．００１〜５質量部がより好ましい。
When the hard coat layer forming material A contains organic fine particles, the hard coat layer forming material A preferably further contains a dispersant in order to uniformly disperse the organic fine particles.
Examples of the dispersant include aluminate-based dispersants, titanate-based dispersants, carboxyl group or carboxylic anhydride group-containing polymers, and surfactants. Of these, titanate dispersants are preferred.
The content of the dispersant is preferably 5 parts by mass or less, more preferably 0.001 to 5 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin component (radiation curable resin and, if necessary, polymer resin).
ハードコート層形成材料Ａは、必要に応じて、性能を損なわない範囲で、顔料、充填剤、防汚剤、レベリング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を含有してもよい。これらの添加剤は一種類を単独で使用してもよく、また二種類以上併用してもよい。 The hard coat layer forming material A contains a pigment, a filler, an antifouling agent, a leveling agent, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a thixotropic agent, etc. as long as the performance is not impaired. May be. These additives may be used alone or in combination of two or more.
ハードコート層形成材料Ａは、必要に応じて、塗布性の向上等のために、有機溶剤を含有してもよい。
有機溶剤としては、放射線硬化型樹脂を溶解するものが好ましい。ハードコート層形成材料Ａが無機微粒子や有機微粒子を含む場合は、放射線硬化型樹脂を溶解し、無機微粒子や有機微粒子を分散するものが好ましい。
有機溶剤の例としては、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、１−メトキシ２−プロパノール等が挙げられる。
The hard coat layer forming material A may contain an organic solvent as required for the purpose of improving applicability.
As the organic solvent, those capable of dissolving the radiation curable resin are preferable. When the hard coat layer forming material A contains inorganic fine particles or organic fine particles, it is preferable to dissolve the radiation curable resin and disperse the inorganic fine particles or organic fine particles.
Examples of the organic solvent include methyl isobutyl ketone, methyl ethyl ketone, 1-methoxy 2-propanol and the like.
ハードコート層１７は、下記試験方法で測定される反りの最大値が１０ｍｍ以下となるものであることが好ましい。該最大値は、５ｍｍ以下がより好ましい。該最大値が０に近いほど、骨見え抑制効果が優れる。
（試験方法）
ハードコート層１７を、厚み５０μｍのＰＥＴフィルムの片面のみに形成し、得られた積層体を、１５０℃で６０分間加熱し、空冷した後、１５ｃｍ×１５ｃｍの正方形状に切り取って試料とし、該試料の４隅の反りの最大値を求める。
It is preferable that the
(Test method)
The
「空冷」は、室温（例えば２３℃）環境下にて、室温になるまで行われる。
前記反りの最大値は、ハードコート層形成材料Ａにおける放射線硬化型樹脂中のアクリルアクリレート樹脂の割合、ハードコート層の膜厚等によって調整できる。例えば、放射線硬化型樹脂中のアクリルアクリレート樹脂の割合が多いほど、前記反りの最大値が小さくなる傾向がある。
“Air cooling” is performed in a room temperature (for example, 23 ° C.) environment until it reaches room temperature.
The maximum value of the warp can be adjusted by the ratio of the acrylic acrylate resin in the radiation curable resin in the hard coat layer forming material A, the film thickness of the hard coat layer, and the like. For example, there is a tendency that the maximum value of the warp decreases as the ratio of the acrylic acrylate resin in the radiation curable resin increases.
ハードコート層１７の厚みは、１．０〜５．０μｍであり、１．０〜３．０μｍが好ましく、１．２〜２．５μｍがより好ましく、１．５〜２．０μｍがさらに好ましい。ハードコート層１７の厚みが前記範囲の下限値以上であれば、ハードコートフィルム１の表面硬度が充分に高く、前記範囲の上限値以下であれば、骨見え抑制効果が優れる。また、ハードコートフィルム１が高温（例えば１５０℃）に曝されたときの反りを抑制できる。
The thickness of the
（ハードコートフィルムの厚み）
ハードコートフィルム１の厚みは、透光性導電性フィルムの軽量化の観点からは薄い方が好ましい。また、ハードコートフィルム１の厚みが厚い場合は、骨見えが問題になりにくい。
したがって、本発明の有用性の点では、ハードコートフィルム１の厚みは、７５μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましい。
ハードコートフィルム１の厚みの下限は、物理的骨見えの抑制効果、生産性、取り扱い性等を考慮すると、２５μｍ以上が好ましく、３８μｍ以上がより好ましい。
(Thickness of hard coat film)
The thickness of the
Therefore, in terms of the usefulness of the present invention, the thickness of the
The lower limit of the thickness of the
（ハードコートフィルムの製造方法）
ハードコートフィルム１の製造方法としては、たとえば、下記（１）の工程を含む製造方法が挙げられる。
（１）両面にそれぞれ第一の易接着層１３及び第二の易接着層１５が形成された透光性基体１１の第一の易接着層１３上にハードコート層形成材料を塗工し、乾燥させ、放射線の照射により硬化させてハードコート層１７を形成する工程。
(Method for producing hard coat film)
As a manufacturing method of the
(1) A hard coat layer forming material is applied on the first easy-
工程（１）において、両面にそれぞれ第一の易接着層１３及び第二の易接着層１５が形成された透光性基体１１は、市販のものを用いることができる。公知の方法により製造したものを用いてもよい。
工程（１）におけるハードコート層形成材料の塗工方法は特に限定されず、湿式コーティング法、印刷法等の公知の方法を用いることができる。湿式コーティング法としては、たとえば、エアドクターコーティング、バーコーティング、ブレードコーティング、ナイフコーティング、リバースコーティング、トランスファロールコーティング、グラビアロールコーティング、キスコーティング、キャストコーティング、スプレーコーティング、スロットオリフィスコーティング、カレンダーコーティング、ダムコーティング、ディップコーティング、ダイコーティング等が挙げられる。印刷法としては、グラビア印刷等の凹版印刷法、スクリーン印刷等の孔版印刷法等の印刷等が挙げられる。
In the step (1), a commercially available light-transmitting
The coating method of the hard coat layer forming material in the step (1) is not particularly limited, and a known method such as a wet coating method or a printing method can be used. Examples of wet coating methods include air doctor coating, bar coating, blade coating, knife coating, reverse coating, transfer roll coating, gravure roll coating, kiss coating, cast coating, spray coating, slot orifice coating, calendar coating, and dam coating. , Dip coating, die coating and the like. Examples of the printing method include intaglio printing methods such as gravure printing and printing such as stencil printing methods such as screen printing.
（用途）
ハードコートフィルム１は、前述の通り、ハードコートフィルム１と、ハードコートフィルム１の片面に積層した透明電極層とを有する透光性導電性フィルムを製造する用途に用いられる。
該透光性導電性フィルムにおいては、ハードコートフィルム１の透明電極層が積層している側とは反対側に、光学用透明粘着（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ；以下「ＯＣＡ」ともいう。）層が積層していてもよい。また、ＯＣＡ層の上にセパレーターフィルムがさらに積層していてもよい。
(Use)
As described above, the
In the translucent conductive film, a transparent optical adhesive (hereinafter also referred to as “OCA”) layer is laminated on the side opposite to the side where the transparent electrode layer of the
透明電極層の材質は、特に限定されず、公知のものであってよい。たとえば、ＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物、銀及び銀合金、銅及び銅合金、金等が挙げられる。
透明電極層は、単層でも多層構造でもよい。
The material of the transparent electrode layer is not particularly limited and may be a known material. Examples thereof include ITO, indium oxide, tin oxide, zinc oxide, tin-antimony composite oxide, zinc-aluminum composite oxide, indium-zinc composite oxide, silver and silver alloy, copper and copper alloy, and gold.
The transparent electrode layer may be a single layer or a multilayer structure.
透光性導電性フィルムは、たとえば、ハードコートフィルム１の透明電極層形成面１ａに透明導電膜を成膜し、該透明導電膜をパターニングして透明電極層を形成する工程を含む製造方法により製造できる。
透明導電膜の成膜方法としては、公知の方法を適宜用いることができる。たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法、イオンプレーティング法、スプレー法等が挙げられる。
スパッタリング法の場合、酸化物ターゲットを用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、等を導入したり、オゾン添加、プラズマ照射、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加してもよい。
透明導電膜の成膜方法としては、表面抵抗値安定性の点で、２．０×１０４Ｐａ程度の高真空度下にてスパッタリング法により透明導電膜を成膜する方法が好ましい。
成膜後、透明導電膜の屈折率を高めるために、１３５〜１７０℃で１〜２時間程度の焼結処理を行うことが好ましい。
透明導電膜のパターニング方法としては、公知の方法を適宜用いることができる。たとえば、透明導電膜上に、公知のフォトリソグラフィー法によりレジストパターンを形成し、該レジストパターンをマスクとして透明導電膜をエッチングする方法が挙げられる。
The translucent conductive film is produced, for example, by a manufacturing method including a step of forming a transparent conductive film on the transparent electrode
As a method for forming the transparent conductive film, a known method can be appropriately used. For example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a chemical vapor deposition (CVD) method, an ion plating method, a spray method, and the like can be given.
In the case of the sputtering method, a normal sputtering method using an oxide target, a reactive sputtering method using a metal target, or the like is used. At this time, oxygen, nitrogen, or the like may be introduced as a reactive gas, or means such as ozone addition, plasma irradiation, or ion assist may be used in combination. In addition, a bias such as direct current, alternating current, and high frequency may be applied to the substrate as long as the object of the present invention is not impaired.
As a method for forming a transparent conductive film, a method of forming a transparent conductive film by sputtering under a high vacuum degree of about 2.0 × 10 4 Pa is preferable in terms of surface resistance stability.
After film formation, in order to increase the refractive index of the transparent conductive film, it is preferable to perform a sintering process at 135 to 170 ° C. for about 1 to 2 hours.
As a method for patterning the transparent conductive film, a known method can be appropriately used. For example, a method of forming a resist pattern on a transparent conductive film by a known photolithography method and etching the transparent conductive film using the resist pattern as a mask can be mentioned.
透明電極層の形成後に、ハードコートフィルム１の透明電極層が形成されていない側の表面に、ＯＣＡ層又は片面にセパレーターフィルムが積層したＯＣＡ層を積層する工程を行ってもよい。
ＯＣＡ層は、透明な粘着層である。ＯＣＡ層の全光線透過率（ＪＩＳ Ｋ７１０５）は、８５％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
ＯＣＡ層としては特に限定されず、公知のＯＣＡ層を採用できる。
You may perform the process of laminating | stacking the OCA layer which laminated | stacked the OCA layer or the separator film on the single side | surface on the surface in which the transparent electrode layer of the
The OCA layer is a transparent adhesive layer. The total light transmittance (JIS K7105) of the OCA layer is preferably 85% or more, and more preferably 90% or more.
It does not specifically limit as an OCA layer, A well-known OCA layer is employable.
セパレーターフィルムとしては、特に限定されず、ＯＣＡ層に積層されるセパレーターとして公知のものを使用できる。たとえば、樹脂フィルムの片面（粘着層側）又は両面に離型層を設けたものが挙げられる。該樹脂フィルムを構成する樹脂としては、たとえばＰＥＴ、アクリル、ポリプロピレン、ポリエチレン等が挙げられる。これらの中でも、ＰＥＴが好ましい。離型層としては、たとえばシリコーン樹脂と液状媒体とを含むコーティング剤を塗布し、硬化させたものが挙げられる。 It does not specifically limit as a separator film, A well-known thing can be used as a separator laminated | stacked on an OCA layer. For example, what provided the release layer in the single side | surface (adhesion layer side) or both surfaces of the resin film is mentioned. Examples of the resin constituting the resin film include PET, acrylic, polypropylene, polyethylene, and the like. Among these, PET is preferable. Examples of the release layer include those obtained by applying and curing a coating agent containing a silicone resin and a liquid medium.
ＯＣＡ層又は片面にセパレーターフィルムが積層したＯＣＡ層を積層する工程は、公知のドライラミネート手法により実施できる。例えば、セパレーターフィルムの片面に粘着剤組成物を塗工し、乾燥し、そこにハードコートフィルム１の透明電極層が形成されていない側の表面を重ね合わせてセパレーターフィルムと圧着することにより該工程を実施できる。ハードコートフィルム１の方に粘着剤組成物を塗布し、セパレーターフィルムを重ね合わせてもよい。
粘着剤組成物の塗工方法は特に限定されず、ハードコート層形成材料の塗工と同様、湿式コーティング法、印刷法等の公知の方法を用いることができる。
The step of laminating the OCA layer or the OCA layer having a separator film laminated on one side can be performed by a known dry laminating technique. For example, the adhesive composition is applied to one side of the separator film, dried, and the surface of the
The coating method of the pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited, and known methods such as a wet coating method and a printing method can be used in the same manner as the coating of the hard coat layer forming material.
（作用効果）
近年、携帯端末等の軽量化や薄型化に伴い、透光性導電性フィルムについても薄型化が求められる。しかし、従来の透明電極層用のハードコートフィルムに透明電極層を形成する場合、透光性導電性フィルムの薄型化のためにハードコートフィルムを薄くすると、透明電極層の骨見えが生じやすくなる。具体的には、骨見え（色見え）や、立体的要因による骨見え（物理的骨見え）が問題になる。色見えは、透明電極層が存在する領域と透明電極層が存在しない領域（例えばハードコート層が露出している領域）との間での光学特性の差により生じる。物理的骨見えは、立体的要因により生じる。例えば、透明導電膜を形成する際の熱によってハードコートフィルムに収縮、うねり等の変形が生じやすい。また、透明導電膜のエッチングの際に、透明導電膜を除去する領域と除去しない領域との境界（エッチング界面）付近でハードコートフィルムの表面に凹凸状のゆがみが発生しやすい。このような変形やゆがみが透明電極層の物理的骨見えの原因となる。
また、従来の透明電極層用のハードコートフィルムにあっては、表面硬度を高めるためにハードコート層の厚みを厚くすると、骨見えが顕著になる傾向がある。
(Function and effect)
In recent years, with the reduction in weight and thickness of portable terminals and the like, the light-transmitting conductive film is also required to be thin. However, when the transparent electrode layer is formed on the conventional hard coat film for the transparent electrode layer, if the hard coat film is thinned to reduce the thickness of the translucent conductive film, the transparent electrode layer is easily visible. . Specifically, bone appearance (color appearance) and bone appearance (physical bone appearance) due to a three-dimensional factor are problems. The color appearance is caused by a difference in optical characteristics between a region where the transparent electrode layer is present and a region where the transparent electrode layer is not present (for example, a region where the hard coat layer is exposed). Physical bone appearance is caused by three-dimensional factors. For example, deformation such as shrinkage and undulation is likely to occur in the hard coat film due to heat when forming the transparent conductive film. In addition, when the transparent conductive film is etched, uneven distortion is likely to occur on the surface of the hard coat film near the boundary (etching interface) between the region where the transparent conductive film is removed and the region where the transparent conductive film is not removed. Such deformation and distortion cause physical bone appearance of the transparent electrode layer.
Further, in the conventional hard coat film for a transparent electrode layer, when the thickness of the hard coat layer is increased in order to increase the surface hardness, the bone appearance tends to be remarkable.
これに対し、ハードコートフィルム１にあっては、ハードコート層１７を、ハードコート層形成材料Ａを用いて特定の厚みで形成しているため、ハードコートフィルム１の厚みが薄い場合でも、優れた表面硬度を保ちつつ、表面（透明電極層形成面１ａ）に形成される透明電極層の骨見えを抑制できる。また、透明導電膜の形成時等において高温（例えば１５０℃）に曝された時に反りが生じにくい。
上記効果は、放射線硬化型樹脂が一定以上の割合でアクリルアクリレート樹脂を含むことで、硬化時や高温下でハードコート層１７が収縮しにくく、物理的骨見えの原因となる凹凸状のゆがみが生じにくいことによると推測される。
したがって、ハードコートフィルム１を用いて得られる透光性導電性フィルムは、厚みが薄くても、優れた表面硬度を有し、かつ透明電極層の骨見えが抑制されている。また、透明導電膜の形成時等において反りが生じにくい。そのため、投影型静電容量方式のタッチパネルセンサ用等として有用である。
On the other hand, in the
The above effect is that the radiation curable resin contains an acrylic acrylate resin at a certain ratio or more, so that the
Therefore, even if the translucent conductive film obtained using the
＜第二実施形態＞
図２は、本発明のハードコートフィルムの第二実施形態を模式的に示す断面図である。
なお、以下に示す実施形態において、第一実施形態に対応する構成要素には同一の符号を付してその詳細な説明を省略する。
本実施形態のハードコートフィルム２は、ハードコートフィルム１と同様に、透明電極層が片面に形成されるものである。
<Second embodiment>
FIG. 2 is a cross-sectional view schematically showing a second embodiment of the hard coat film of the present invention.
In the embodiment described below, the same reference numerals are given to the components corresponding to the first embodiment, and detailed description thereof will be omitted.
As with the
ハードコートフィルム２においては、透明電極層が形成される側から、第一のハードコート層２７と、第一の易接着層１３と、透光性基体１１と、第二の易接着層１５と、第二のハードコート層２９とがこの順に積層している。
ハードコートフィルム２においては、第一のハードコート層２７が、透明電極層が形成される側の最表層に配置されている。つまり、第一のハードコート層２７が、透明電極層形成面２ａを構成している。
In the
In the
（第一のハードコート層）
第一のハードコート層２７は、第一実施形態のハードコート層１７と同様である。好ましい態様も同様である。
(First hard coat layer)
The first
（第二のハードコート層）
第二のハードコート層２９としては、特に限定されず、ハードコート層１７と同様でもよく異なってもよい。ハードコート層１７と異なる例として、例えば、ハードコート層形成材料Ａから形成され、厚みが１．０μｍ未満又は５．０μｍ超のハードコート層、ハードコート層形成材料Ａ以外のハードコート層形成材料（以下、「ハードコート層形成材料Ｂ」ともいう。）から形成された層等が挙げられる。
(Second hard coat layer)
The second
ハードコート層形成材料Ｂは、典型的には、樹脂成分を含有する。
樹脂成分としては、ハードコート層に用いられる樹脂成分として公知のものを特に制限なく使用できる。たとえば放射線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、熱可塑性樹脂等が挙げられる。導電膜焼結工程での耐久性の点で、放射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂が好ましく、導電膜のパターニング時の化学処理での耐久性の点で、放射線硬化型樹脂が特に好ましい。
The hard coat layer forming material B typically contains a resin component.
As the resin component, any known resin component used for the hard coat layer can be used without particular limitation. For example, a radiation curable resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, and the like can be given. From the viewpoint of durability in the conductive film sintering step, a radiation curable resin or a thermosetting resin is preferable, and from the viewpoint of durability in chemical treatment during patterning of the conductive film, a radiation curable resin is particularly preferable.
放射線硬化型樹脂としては、ハードコート層形成材料Ａで挙げたアクリルアクリレート樹脂、他の放射線硬化型樹脂等が挙げられる。これらは一種類を単独で使用してもよく、二種類以上を併用してもよい。
熱硬化型樹脂としては、フェノール樹脂、フラン樹脂、キシレン・ホルムアルデヒド樹脂、ケトン・ホルムアルデヒド樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、アニリン樹脂、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは一種類を単独で使用してもよく、二種類以上を併用してもよい。
Examples of the radiation curable resin include the acrylic acrylate resins mentioned in the hard coat layer forming material A and other radiation curable resins. These may be used alone or in combination of two or more.
Examples of thermosetting resins include phenol resins, furan resins, xylene / formaldehyde resins, ketone / formaldehyde resins, urea resins, melamine resins, aniline resins, alkyd resins, unsaturated polyester resins, and epoxy resins. These may be used alone or in combination of two or more.
放射線硬化型樹脂は、電子線照射による効果を行う場合は、単独で硬化可能であるが、紫外線照射による硬化を行う場合は、光重合開始剤の添加が必要である。光重合開始剤としては、ハードコート層形成材料Ａで挙げたものと同様のものが挙げられる。 The radiation curable resin can be cured alone when effected by electron beam irradiation, but it needs addition of a photopolymerization initiator when cured by ultraviolet irradiation. As a photoinitiator, the thing similar to what was mentioned by the hard-coat layer forming material A is mentioned.
ハードコート層形成材料Ｂが放射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂を含む場合、その重合硬化を妨げない範囲で、高分子樹脂をさらに含有してもよい。該高分子樹脂としては、ハードコート層形成材料Ａで挙げたものと同様のものが挙げられる。 When the hard coat layer forming material B includes a radiation curable resin or a thermosetting resin, the hard coat layer forming material B may further contain a polymer resin as long as the polymerization and curing are not hindered. Examples of the polymer resin are the same as those described for the hard coat layer forming material A.
ハードコート層形成材料Ｂは、樹脂成分に加えて、ハードコート層の屈折率の調節のために、無機微粒子を含有してもよい。無機微粒子としては、ハードコート層形成材料Ａで挙げたものと同様のものが挙げられる。 In addition to the resin component, the hard coat layer forming material B may contain inorganic fine particles for adjusting the refractive index of the hard coat layer. Examples of the inorganic fine particles are the same as those described for the hard coat layer forming material A.
ハードコート層形成材料Ｂは、樹脂成分に加えて、アンチブロッキング性の付与のために、有機微粒子を含有してもよい。有機微粒子としては、ハードコート層形成材料Ａで挙げたものと同様のものが挙げられる。 In addition to the resin component, the hard coat layer forming material B may contain organic fine particles for imparting antiblocking properties. Examples of the organic fine particles include the same as those described for the hard coat layer forming material A.
ハードコート層形成材料Ｂが有機微粒子を含む場合、ハードコート層形成材料Ｂは、有機微粒子を均一に分散させるために、分散剤をさらに含有することが好ましい。分散剤としては、ハードコート層形成材料Ａで挙げたものと同様のものが挙げられる。 When the hard coat layer forming material B includes organic fine particles, the hard coat layer forming material B preferably further contains a dispersant in order to uniformly disperse the organic fine particles. Examples of the dispersant include the same as those mentioned for the hard coat layer forming material A.
ハードコート層形成材料Ｂは、必要に応じて、性能を損なわない範囲で、顔料、充填剤、防汚剤、レベリング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、チクソトロピー化剤等を含有してもよい。これらの添加剤は一種類を単独で使用してもよく、また二種類以上併用してもよい。 The hard coat layer forming material B contains a pigment, a filler, an antifouling agent, a leveling agent, a plasticizer, an ultraviolet absorber, an antioxidant, a thixotropic agent, etc. as long as the performance is not impaired. May be. These additives may be used alone or in combination of two or more.
ハードコート層形成材料Ｂは、必要に応じて、塗布性の向上等のために、有機溶剤を含有してもよい。
有機溶剤としては、樹脂成分（放射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂、および必要に応じて高分子樹脂）を溶解するものが好ましい。ハードコート層形成材料が無機微粒子や有機微粒子を含む場合は、樹脂成分を溶解し、無機微粒子や有機微粒子を分散するものが好ましい。
有機溶剤の例としては、ハードコート層形成材料Ａで挙げたものと同様のものが挙げられる。
The hard coat layer forming material B may contain an organic solvent for the purpose of improving applicability and the like, if necessary.
As an organic solvent, what melt | dissolves a resin component (A radiation curable resin or a thermosetting resin, and a high molecular resin as needed) is preferable. When the hard coat layer forming material contains inorganic fine particles or organic fine particles, it is preferable to dissolve the resin component and disperse the inorganic fine particles or organic fine particles.
Examples of the organic solvent are the same as those mentioned for the hard coat layer forming material A.
第二のハードコート層２９を形成するハードコート層形成材料としては、ハードコートフィルム２が高温に曝されたときの反りを抑制する点から、樹脂成分として放射線硬化型樹脂を含有するもの（ハードコート層形成材料Ａ、又は樹脂成分として放射線硬化型樹脂を含有するハードコート層形成材料Ｂ）が好ましく、ハードコート層形成材料Ａが特に好ましい。
The hard coat layer forming material for forming the second
第二のハードコート層２９の厚みは、０．５〜１０．０μｍが好ましく、０．７〜７．０μｍがより好ましく、１．０〜５．０μｍがさらに好ましい。第二のハードコート層２９の厚みが前記範囲の下限値以上であれば、ハードコートフィルム２の表面（透明電極層形成面２ａとは反対側）硬度が充分に高い。また、該厚みが前記範囲の範囲内であれば、ハードコートフィルム２が高温に曝されたときの反りをより効果的に抑制できる。
The thickness of the second
（ハードコートフィルムの厚み）
ハードコートフィルム２の厚みは、第一実施形態のハードコートフィルム１の厚みと同様に、７５μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましい。また、２５μｍ以上が好ましく、３８μｍ以上がより好ましい。
(Thickness of hard coat film)
As with the thickness of the
（ハードコートフィルムの製造方法）
ハードコートフィルム２の製造方法としては、たとえば、下記（１）〜（２）の工程を含む製造方法が挙げられる。
（１）両面にそれぞれ第一の易接着層１３及び第二の易接着層１５が形成された透光性基体１１の第一の易接着層１３上にハードコート層形成材料を塗工し、乾燥させ、放射線の照射により硬化させて第一のハードコート層２７を形成する工程。
（２）第二の易接着層１５上にハードコート層形成材料を塗工し、乾燥させ、必要に応じて硬化させて第二のハードコート層２９を形成する工程。
(Method for producing hard coat film)
As a manufacturing method of the
(1) A hard coat layer forming material is applied on the first easy-
(2) A step of forming a second
工程（１）は、第一実施形態における工程（１）と同様である。
工程（２）は、工程（１）と同様にして実施できる。
工程（１）の前に工程（２）を行ってもよい。すなわち、先に第二のハードコート層２９を形成を形成し、その後に第一のハードコート層２７を形成してもよい。
Step (1) is the same as step (1) in the first embodiment.
Step (2) can be carried out in the same manner as in step (1).
You may perform a process (2) before a process (1). That is, the second
（用途）
ハードコートフィルム２の用途は、第一実施形態のハードコートフィルム１の用途と同様である。
(Use)
The use of the
（作用効果）
ハードコートフィルム２にあっては、第一実施形態のハードコートフィルム１と同様に、第一のハードコート層２７を、ハードコート層形成材料Ａを用いて特定の厚みで形成しているため、ハードコートフィルム２の厚みが薄い場合でも、優れた表面硬度を保ちつつ、表面（透明電極層形成面２ａ）に形成される透明電極層の骨見えを抑制できる。
また、ハードコートフィルム２にあっては、透光性基体１１の両面にハードコート層が設けられるため、片面にハードコート層が設けられるハードコートフィルム１よりも、高温（例えば１５０℃）に曝されたときの反りを抑制する効果がより優れる。
したがって、ハードコートフィルム２を用いて得られる透光性導電性フィルムは、厚みが薄くても、優れた表面硬度を有し、かつ透明電極層の骨見えが抑制されている。そのため、投影型静電容量方式のタッチパネルセンサ用等として有用である。
(Function and effect)
In the
Further, in the
Therefore, even if the translucent conductive film obtained using the
＜第三実施形態＞
図３は、本発明のハードコートフィルムの第三実施形態を模式的に示す断面図である。
本実施形態のハードコートフィルム３は、ハードコートフィルム１と同様に、透明電極層が片面に形成されるものである。
<Third embodiment>
FIG. 3 is a cross-sectional view schematically showing a third embodiment of the hard coat film of the present invention.
As with the
ハードコートフィルム３においては、透明電極層が形成される側から、光学調整層３１と、ハードコート層１７と、第一の易接着層１３と、透光性基体１１と、第二の易接着層１５とがこの順に積層している。
ハードコートフィルム３においては、光学調整層３１が、透明電極層が形成される側の最表層に配置されている。つまり、光学調整層３１が、透明電極層形成面３ａを構成している。
In the
In the
（光学調整層）
光学調整層３１は、ハードコートフィルム３の透明電極層形成面３ａに透明電極層を形成して得られる透光性導電性フィルムの表面において、透明電極層の存在する領域の光学特性と、透明電極層の存在しない領域の光学特性との差を小さくする機能を持つ層であり、インデックスマッチング層とも称される。
ハードコートフィルム３の透明電極層形成面３ａ上にダイヤ状、細線状等のパターンで透明電極層を形成して得られる透光性導電性フィルムの透明電極層側の表面には、透明電極層の存在する領域と透明電極層の存在しない領域とがあり、これらの領域間での光学特性（光の反射率、透過率等）の差による骨見え（色見え）が生じやすい。透明電極層形成面３ａに光学調整層３１が存在することで、光学特性の差による骨見えが抑制される。
(Optical adjustment layer)
The
A transparent electrode layer is formed on the surface of the transparent electrode layer of the translucent conductive film obtained by forming a transparent electrode layer in a diamond-like or fine-line pattern on the transparent electrode layer-forming
光学調整層３１の構成は特に限定されず、公知の光学調整層の構成を採用できる。たとえば、低屈折率層から構成されるもの、高屈折率層から構成されるもの、低屈折率層と高屈折率層との組み合わせから構成されるもの等が挙げられる。前記の組み合わせにおいて、高屈折率層及び低屈折率層はそれぞれ複数存在してもよい。
低屈折率層と高屈折率層とを組み合わせた構成としては、透光性基体１１側から、高屈折率層と低屈折率層とがこの順に積層した構成が好ましい。
The configuration of the
As a configuration in which the low refractive index layer and the high refractive index layer are combined, a configuration in which the high refractive index layer and the low refractive index layer are stacked in this order from the
低屈折率層とは、屈折率が、透明電極層形成面上に形成される透明電極層の屈折率よりも低い層である。たとえば透明電極層がＩＴＯである場合、低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．５５が好ましく、１．４５〜１．５０がより好ましい。
本発明において「屈折率」は、硬化後塗膜のアッベ屈折率計により測定される値である。
低屈折率層の材質としては、フッ素化合物やシリコーンなどの低屈折率材料を含有または配位したアクリレート樹脂、二酸化珪素微粒子、中空シリカ等が挙げられる。
低屈折率層の形成方法としては、湿式法、乾式法等があり、いずれの方法を用いてもよい。湿式法としては、ロールコート法、スピンコート法、スプレーコート等が挙げられる。乾式法としては、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等が挙げられる。低コスト化に有利なことから、ロールコート法が特に好ましい。
A low refractive index layer is a layer whose refractive index is lower than the refractive index of the transparent electrode layer formed on the transparent electrode layer forming surface. For example, when the transparent electrode layer is ITO, the refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.40 to 1.55, and more preferably 1.45 to 1.50.
In the present invention, the “refractive index” is a value measured by an Abbe refractometer of the coating film after curing.
Examples of the material for the low refractive index layer include acrylate resins, silicon dioxide fine particles, and hollow silica containing or coordinated with a low refractive index material such as a fluorine compound or silicone.
Examples of the method for forming the low refractive index layer include a wet method and a dry method, and any method may be used. Examples of the wet method include roll coating, spin coating, and spray coating. Examples of the dry method include sputtering, ion plating, and plasma CVD. The roll coating method is particularly preferable because it is advantageous for cost reduction.
高屈折率層とは、屈折率が、前記低屈折率層よりも高い層である。たとえば低屈折率層の屈折率が１．５０の場合、高屈折率層の屈折率は、１．６２〜１．６６が好ましく、１．６４〜１．６５がより好ましい。
高屈折率層の材質としては、ジルコニア、チタニアなどの金属酸化物膜や、金属酸化物微粒子を分散させた樹脂等が挙げられる。
高屈折率層の形成方法としては、低屈折率層の場合と同様に、湿式法、乾式法等があり、いずれの方法を用いてもよい。低コスト化に有利なことから、ジルコニア粒子を分散させた樹脂をロールコート法でコーティングする方法が特に好ましい。
The high refractive index layer is a layer having a refractive index higher than that of the low refractive index layer. For example, when the refractive index of the low refractive index layer is 1.50, the refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.62 to 1.66, and more preferably 1.64 to 1.65.
Examples of the material for the high refractive index layer include metal oxide films such as zirconia and titania, and resins in which metal oxide fine particles are dispersed.
As a method for forming the high refractive index layer, there are a wet method, a dry method and the like, as in the case of the low refractive index layer, and either method may be used. A method of coating a resin in which zirconia particles are dispersed by a roll coating method is particularly preferable because it is advantageous for cost reduction.
（ハードコートフィルムの厚み）
ハードコートフィルム３の厚みは、第一実施形態のハードコートフィルム１の厚みと同様に、７５μｍ以下が好ましく、５０μｍ以下がより好ましい。また、２５μｍ以上が好ましく、３８μｍ以上がより好ましい。
(Thickness of hard coat film)
As with the thickness of the
（ハードコートフィルムの製造方法）
ハードコートフィルム３の製造方法としては、たとえば、下記（１）、（３）の工程を含む製造方法が挙げられる。
（１）両面にそれぞれ第一の易接着層１３及び第二の易接着層１５が形成された透光性基体１１の第一の易接着層１３上にハードコート層形成材料を塗工し、乾燥させ、放射線の照射により硬化させてハードコート層１７を形成する工程。
（３）ハードコート層１７上に光学調整層３１を形成する工程。
(Method for producing hard coat film)
As a manufacturing method of the
(1) A hard coat layer forming material is applied on the first easy-
(3) A step of forming the
工程（１）は、第一実施形態における工程（１）と同様である。
工程（３）は、形成する光学調整層３１の構成に応じて、前述の低屈折率層の形成方法、高屈折率層の形成方法を適宜組み合わせて実施できる。
Step (1) is the same as step (1) in the first embodiment.
Step (3) can be carried out by appropriately combining the above-described method for forming the low refractive index layer and the method for forming the high refractive index layer, depending on the configuration of the
（用途）
ハードコートフィルム３の用途は、第一実施形態のハードコートフィルム１の用途と同様である。
(Use)
The use of the
（作用効果）
ハードコートフィルム３にあっては、第一実施形態のハードコートフィルム１と同様に、ハードコート層１７を、ハードコート層形成材料Ａを用いて特定の厚みで形成しているため、ハードコートフィルム３の厚みが薄い場合でも、優れた表面硬度を保ちつつ、表面（透明電極層形成面３ａ）に形成される透明電極層の骨見えを抑制できる。
また、ハードコートフィルム３にあっては、ハードコート層１７上に光学調整層３１が設けられていることにより、ハードコートフィルム３の透明電極層形成面３ａに透明電極層を形成して得られる透光性導電性フィルムの表面において、透明電極層の存在する領域の光学特性と、透明電極層の存在しない領域の光学特性との差による骨見え（色見え）を抑制できる。そのため、骨見えを抑制する効果がより優れる。
したがって、ハードコートフィルム３を用いて得られる透光性導電性フィルムは、厚みが薄くても、優れた表面硬度を有し、かつ透明電極層の骨見えが抑制されている。そのため、投影型静電容量方式のタッチパネルセンサ用等として有用である。
(Function and effect)
In the
Further, the
Therefore, even if the translucent conductive film obtained using the
以上、本発明の透明電極用フィルムについて、第一〜第三実施形態を示して説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。上記実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、及びその他の変更が可能である。 As mentioned above, although the 1st-3rd embodiment was shown and demonstrated about the film for transparent electrodes of this invention, this invention is not limited to the said embodiment. Each configuration in the above embodiment, a combination thereof, and the like are examples, and the addition, omission, replacement, and other modifications of the configuration can be made without departing from the spirit of the present invention.
第一実施形態では、透光性基体１１の両面に易接着層（第一の易接着層１３及び第二の易接着層１５）が積層している例を示したが、ハードコート層１７が設けられない側の易接着層（第二の易接着層１５）は無くてもよい。第三実施形態においても同様である。
第一実施形態におけるハードコート層１７又は第二実施形態における第一のハードコート層２７に、光学調整層としての機能を持たせてもよい。
第三実施形態におけるハードコート層１７を高屈折率層とし、光学調整層３１を低屈折率層とし、ハードコート層１７及び光学調整層３１の両方で光学調整層として機能するようにしてもよい。
In the first embodiment, an example in which the easy-adhesion layers (the first easy-
The
The
本発明のハードコートフィルムは、必要に応じて、透光性基体、易接着層及びハードコート層以外の他の層をさらに有してもよい。
ハードコートフィルムが有してもよい他の層としては、たとえば、偏光層、光拡散層、低反射層、防汚層、帯電防止層、紫外線・近赤外線（ＮＩＲ）吸収層、電磁波シールド層等が挙げられる。
The hard coat film of this invention may further have other layers other than a translucent base | substrate, an easily bonding layer, and a hard-coat layer as needed.
Other layers that the hard coat film may have include, for example, a polarizing layer, a light diffusion layer, a low reflection layer, an antifouling layer, an antistatic layer, an ultraviolet / near infrared (NIR) absorption layer, an electromagnetic wave shielding layer, and the like. Is mentioned.
以下、実施例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は以下の記載によっては限定されない。
各例で用いた評価方法を以下に示す。
Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. However, the present invention is not limited by the following description.
The evaluation method used in each example is shown below.
＜評価方法＞
〔ハードコート性（スチールウールテスト）〕
＃００００のスチールウールを使用し、各例で得られたハードコートフィルムの表面を荷重２５０ｇ（２．４９Ｎ）で１０往復させた後、目視観察を行った。その結果から、以下の基準でハードコート性を評価した。
ここで、ハードコートフィルムの表面とは、実施例８及び比較例７については光学調整層の表面、実施例８及び比較例７についてはいずれか一方の表面、他の実施例及び比較例についてはハードコート層の表面を示し、特に規定のない限り、以降においても同様である。
○：傷が付かなかった。
×：傷が付いた。
<Evaluation method>
[Hard coat properties (steel wool test)]
Using # 0000 steel wool, the surface of the hard coat film obtained in each example was reciprocated 10 times at a load of 250 g (2.49 N), and then visually observed. From the results, hard coat properties were evaluated according to the following criteria.
Here, the surface of the hard coat film is the surface of the optical adjustment layer for Example 8 and Comparative Example 7, one of the surfaces for Example 8 and Comparative Example 7, and the other examples and Comparative Examples. The surface of the hard coat layer is shown, and the same applies to the following unless otherwise specified.
○: No scratch was found.
X: Scratched.
〔１５０℃加熱後の反り〕
コベルコ社製スパッタ機でＤＣスパッタを行って、各例で得られたハードコートフィルムの表面にＩＴＯ膜（Ｉｎ：Ｓｎ＝９０：１０（質量比））を成膜した。その後、加熱オーブンで１５０℃で６０分間加熱（結晶化処理）し、空冷して透明導電膜を得た。成膜時の真空度は１０−４Ｐａとした。透明導電膜の膜厚は２０ｎｍとした。
得られた透明電極膜付きハードコートフィルムを加熱オーブンにて１５０℃で６０分間処理し、空冷した。
空冷後の透明電極層付きハードコートフィルムを１５ｃｍ角に切り取り、試料とした。試料を水平面上に置き、４隅の反り（４隅それぞれから水平面に下した垂線の長さ。単位：ｍｍ）を測定し、４つの測定値のうちの最大値を「１５０℃加熱後の反り」とした。
なお、透明導電膜の膜厚は薄いため、前記の測定値は、透明導電膜を設けない場合の測定値とみなすことができる。
[Warpage after heating at 150 ° C]
DC sputtering was performed with a sputtering machine manufactured by Kobelco, and an ITO film (In: Sn = 90: 10 (mass ratio)) was formed on the surface of the hard coat film obtained in each example. Then, it heated at 150 degreeC for 60 minute (crystallization process) with the heating oven, air-cooled, and obtained the transparent conductive film. The degree of vacuum during film formation was 10 −4 Pa. The film thickness of the transparent conductive film was 20 nm.
The obtained hard coat film with a transparent electrode film was treated in a heating oven at 150 ° C. for 60 minutes and air-cooled.
The air-cooled hard coat film with a transparent electrode layer was cut into a 15 cm square and used as a sample. Place the sample on a horizontal plane, measure the warp at the four corners (the length of the perpendicular line dropped from each of the four corners to the horizontal plane, unit: mm), and set the maximum value of the four measured values to “warp after heating at 150 ° C. "
In addition, since the film thickness of a transparent conductive film is thin, the said measured value can be considered as a measured value when a transparent conductive film is not provided.
〔骨見え〕
粘着テープ（巴川製紙所製ラボテープ、幅２５ｍｍ、長さ３５ｍｍ）に、２ｍｍ角の貫通孔を幅方向に等間隔で５個設けて１列作成した後、同様の貫通孔の列を更に４列等間隔に設けた。すなわち、幅２５ｍｍ、長さ３５ｍｍの粘着テープ内に、２ｍｍ角の貫通孔を２５個設けた。
次に、２５個の貫通孔を設けた粘着テープをエッチング用のマスクとして、前記〔１５０℃加熱後の反り〕の評価にて空冷した後の透明電極層付きハードコートフィルムの透明導電膜の表面に貼り付け、得られた積層体を、５０℃に加温した２２％塩酸に２分間浸漬して透明導電膜をエッチングした。その後、水洗し、乾燥させ、粘着テープを剥離した。これにより、エッチングされた透明導電膜を有する透明電極層付きハードコートフィルムを得た。
次に、上記のエッチングされた透明導電膜を有する透明電極層付きハードコートフィルムを３波長蛍光灯下で観察し、骨見えの状態を下記の基準で評価した。
○：エッチング界面に凹凸状のゆがみが発生しておらず、透明電極層のパターン形状が見えにくかった。
×：エッチング界面に凹凸状のゆがみが発生していたので、透明電極層のパターン形状が見やすかった。
[Bone appearance]
Adhesive tape (Label tape manufactured by Yodogawa Paper Mill, width 25 mm, length 35 mm) was prepared by forming 5 rows of 2 mm square through holes at equal intervals in the width direction, and then 4 rows of similar through holes. It was provided at equal intervals. That is, 25 2 mm square through holes were provided in an adhesive tape having a width of 25 mm and a length of 35 mm.
Next, the surface of the transparent conductive film of the hard coat film with a transparent electrode layer after air-cooling in the evaluation of [warpage after heating at 150 ° C.] using an adhesive tape having 25 through holes as a mask for etching Then, the obtained laminate was immersed in 22% hydrochloric acid heated to 50 ° C. for 2 minutes to etch the transparent conductive film. Thereafter, it was washed with water and dried, and the adhesive tape was peeled off. This obtained the hard-coat film with a transparent electrode layer which has the etched transparent conductive film.
Next, the hard coat film with a transparent electrode layer having the etched transparent conductive film was observed under a three-wavelength fluorescent lamp, and the state of bone appearance was evaluated according to the following criteria.
○: Uneven distortion occurred at the etching interface, and the pattern shape of the transparent electrode layer was difficult to see.
X: Since uneven | corrugated distortion generate | occur | produced in the etching interface, the pattern shape of the transparent electrode layer was easy to see.
＜実施例１＞
表１に記載の原料を表１に示す量（質量部）で混合してハードコート層形成材料を調製した。
両面に易接着層を備えるＰＥＴ製の透光性基体（商品名：ルミラーＵ４０、東レ社製、厚み５０μｍ）の一方の面に、調製したハードコート層形成材料を、乾燥後の厚み（ハードコート層の厚み）が１μｍとなるように塗工し、６０℃で１分間乾燥した後、窒素雰囲気下、高圧水銀灯を用い、３５０ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で紫外線を照射して硬化させ、ハードコート層を形成した。これにより、ハードコート層／易接着層／透光性基体／易接着層がこの順に積層したハードコートフィルムを得た。
<Example 1>
The raw material described in Table 1 was mixed in the amount (part by mass) shown in Table 1 to prepare a hard coat layer forming material.
On one side of a light-transmitting substrate made of PET (trade name: Lumirror U40, manufactured by Toray Industries, Inc., thickness 50 μm) having an easy-adhesion layer on both sides, the thickness (hard coat) after drying the prepared hard coat layer forming material (Layer thickness) is 1 μm, dried at 60 ° C. for 1 minute, and then hardened by irradiating with UV light with a cumulative light quantity of 350 mJ / cm 2 using a high-pressure mercury lamp in a nitrogen atmosphere. A layer was formed. Thereby, a hard coat film in which a hard coat layer / an easy-adhesion layer / a translucent substrate / an easy-adhesion layer were laminated in this order was obtained.
＜実施例２＞
両面に易接着層を備えるＰＥＴ製の透光性基体（商品名：ルミラーＵ４０、東レ社製）の厚みを２５μｍとした以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Example 2>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of a PET translucent substrate (trade name: Lumirror U40, manufactured by Toray Industries, Inc.) having easy-adhesion layers on both sides was changed to 25 μm.
＜実施例３＞
両面に易接着層を備えるＰＥＴ製の透光性基体（商品名：ルミラーＵ４０、東レ社製）の厚みを７５μｍとした以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Example 3>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of a PET translucent substrate (trade name: Lumirror U40, manufactured by Toray Industries, Inc.) having an easy-adhesion layer on both sides was changed to 75 μm.
＜実施例４〜５＞
ハードコート層形成材料の組成を表１に示すとおりにした以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Examples 4 to 5>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the hard coat layer forming material was as shown in Table 1.
＜実施例６＞
両面に易接着層を備えるＰＥＴ製の透光性基体（商品名：ルミラーＵ４０、東レ社製、厚み５０μｍ）の一方の面に、実施例１と同様にしてハードコート層を形成した。
別途、商品名：Ｚ−８２５（アイカ工業社製、（成分）ウレタンアクリレート塗料、固形分濃度５％）の１００質量部と、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）の９００質量部とを混合して光学調整層形成材料を調製した。
上記で形成したハードコート層の上に、調製した光学調整層形成材料を、乾燥後の厚みが０．０２μｍとなるように塗工し、６０℃で１分間乾燥した後、窒素雰囲気下、高圧水銀灯を用い、３５０ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で紫外線を照射して硬化させ光学調整層を形成した。これにより、光学調整層／ハードコート層／易接着層／透光性基体／易接着層がこの順に積層したハードコートフィルムを得た。
<Example 6>
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 on one surface of a light-transmitting substrate made of PET (trade name: Lumirror U40, manufactured by Toray Industries, Inc., 50 μm thick) having easy-adhesion layers on both sides.
Separately, 100 parts by mass of product name: Z-825 (manufactured by Aika Kogyo Co., Ltd., (component) urethane acrylate paint, solid content concentration 5%) and 900 parts by mass of methyl isobutyl ketone (MIBK) are mixed for optical adjustment. A layer forming material was prepared.
On the hard coat layer formed above, the prepared optical adjustment layer forming material was applied so that the thickness after drying was 0.02 μm, dried at 60 ° C. for 1 minute, and then pressurized under a nitrogen atmosphere. Using a mercury lamp, the optical adjustment layer was formed by curing by irradiating ultraviolet rays with an integrated light amount of 350 mJ / cm 2 . As a result, a hard coat film in which the optical adjustment layer / hard coat layer / easy adhesion layer / translucent substrate / easy adhesion layer were laminated in this order was obtained.
＜実施例７＞
ハードコート層形成材料を、乾燥後の厚みが５μｍとなるように塗工した以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Example 7>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat layer forming material was coated so that the thickness after drying was 5 μm.
＜実施例８＞
両面に易接着層を備えるＰＥＴ製の透光性基体（商品名：ルミラーＵ４０、東レ社製、厚み５０μｍ）の一方の面に、実施例１と同様にしてハードコート層を形成した。次いで該透光性基体の他方の面に、実施例１と同様にしてハードコート層を形成した。これにより、ハードコート層／易接着層／透光性基体／易接着層／ハードコート層がこの順に積層したハードコートフィルムを得た。
<Example 8>
A hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 on one surface of a light-transmitting substrate made of PET (trade name: Lumirror U40, manufactured by Toray Industries, Inc., 50 μm thick) having easy-adhesion layers on both sides. Next, a hard coat layer was formed in the same manner as in Example 1 on the other surface of the translucent substrate. As a result, a hard coat film in which a hard coat layer / an easy-adhesion layer / a translucent substrate / an easy-adhesion layer / a hard coat layer were laminated in this order was obtained.
＜比較例１＞
ハードコート層形成材料の組成を表２に示すとおりにした以外は実施例３と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Comparative Example 1>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 3 except that the composition of the hard coat layer forming material was as shown in Table 2.
＜比較例２＞
ハードコート層形成材料の組成を表２に示すとおりにした以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Comparative Example 2>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the hard coat layer forming material was as shown in Table 2.
＜比較例３＞
ハードコート層の厚み（乾燥後の厚み）を表２に示すとおりにした以外は実施例４と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Comparative Example 3>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 4 except that the thickness of the hard coat layer (thickness after drying) was as shown in Table 2.
＜比較例４＞
ハードコート層の厚み（乾燥後の厚み）を表２に示すとおりにした以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Comparative example 4>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the hard coat layer (thickness after drying) was as shown in Table 2.
＜比較例５＞
ハードコート層形成材料の組成を表２に示すとおりにした以外は実施例１と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Comparative Example 5>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 1 except that the composition of the hard coat layer forming material was as shown in Table 2.
＜比較例６＞
ハードコート層形成材料の組成を表２に示すとおりにした以外は実施例６と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Comparative Example 6>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 6 except that the composition of the hard coat layer forming material was as shown in Table 2.
＜比較例７＞
ハードコート層形成材料の組成を表２に示すとおりにした以外は実施例８と同様にしてハードコートフィルムを得た。
<Comparative Example 7>
A hard coat film was obtained in the same manner as in Example 8 except that the composition of the hard coat layer forming material was as shown in Table 2.
各例のハードコートフィルムについて、ハードコート性、１５０℃加熱後の反り、骨見えを評価した。結果を表１〜２に示す。 The hard coat film of each example was evaluated for hard coat properties, warpage after heating at 150 ° C., and bone appearance. The results are shown in Tables 1-2.
表１〜２に示す原料は以下のものである。
・放射線硬化型樹脂１（商品名：アロニックスＭ−４００、東亜合成社製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、固形分濃度１００質量％）。
・放射線硬化型樹脂２（商品名：ユニディックＶ−６８４１、ＤＩＣ社製、アクリルアクリレート樹脂：アクリレートモノマー＝１：１（質量比）の混合物、固形分濃度１００質量％）。
・ジルコニア微粒子分散液（平均粒子径３０ｎｍ、固形分濃度１５質量％）。
・光重合開始剤（商品名：イルガキュア１８４、チバ・ジャパン社製）。
・ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）。
The raw materials shown in Tables 1 and 2 are as follows.
-Radiation curable resin 1 (trade name: Aronix M-400, manufactured by Toa Gosei Co., Ltd., dipentaerythritol hexaacrylate, solid content concentration of 100% by mass).
-Radiation curable resin 2 (trade name: Unidic V-6841, manufactured by DIC, mixture of acrylic acrylate resin: acrylate monomer = 1: 1 (mass ratio), solid content concentration 100 mass%).
-Zirconia fine particle dispersion (average particle size 30 nm,
Photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by Ciba Japan).
MIBK (methyl isobutyl ketone).
上記結果に示すとおり、実施例１〜８のハードコートフィルムは、表面硬度が充分に高く、かつ透明電極層の骨見えの評価結果が良好であった。また、１５０℃加熱後の反りも抑制されていた。
これに対し、ハードコート層形成材料がアクリルアクリレート樹脂を含まない比較例１〜２のハードコートフィルムは、骨見えの評価結果が悪かった。また、１５０℃加熱後の反りが大きかった。
ハードコート層の厚みを１０μｍとした比較例３のハードコートフィルムは、骨見えの評価結果が悪かった。また、同じハードコート層形成材料を用いた実施例４に比べて、１５０℃加熱後の反りが大きかった。
ハードコート層の厚みを０．５μｍとした比較例４のハードコートフィルムは、骨見えの評価結果が良好であったものの、表面硬度が低かった。
ハードコート層形成材料における放射線硬化型樹脂中のアクリルアクリレート樹脂の割合が３１質量％である比較例５のハードコートフィルムは、骨見えの評価結果が悪かった。また、１５０℃加熱後の反りが大きかった。
ハードコート層形成材料がアクリルアクリレート樹脂を含まない比較例６のハードコートフィルムは、光学調整層を設けていても、骨見えの評価結果が悪かった。また、１５０℃加熱後の反りが大きかった。
ハードコート層形成材料がアクリルアクリレート樹脂を含まない比較例７のハードコートフィルムは、両面にハードコート層を設けたことで１５０℃加熱後の反りは抑制されたが、骨見えの評価結果は悪かった。
As shown in the above results, the hard coat films of Examples 1 to 8 had a sufficiently high surface hardness and good evaluation results of bone appearance of the transparent electrode layer. Moreover, the curvature after a 150 degreeC heating was also suppressed.
On the other hand, the hard coat film of Comparative Examples 1 and 2 in which the hard coat layer forming material did not contain an acrylic acrylate resin had a poor bone appearance evaluation result. Moreover, the curvature after 150 degreeC heating was large.
The hard coat film of Comparative Example 3 in which the thickness of the hard coat layer was 10 μm had a poor bone appearance evaluation result. Further, the warpage after heating at 150 ° C. was larger than in Example 4 using the same hard coat layer forming material.
The hard coat film of Comparative Example 4 in which the thickness of the hard coat layer was 0.5 μm had a low surface hardness although the evaluation result of bone appearance was good.
The hard coat film of Comparative Example 5 in which the ratio of the acrylic acrylate resin in the radiation curable resin in the hard coat layer forming material was 31% by mass had a poor evaluation result of bone appearance. Moreover, the curvature after 150 degreeC heating was large.
The hard coat film of Comparative Example 6 in which the hard coat layer forming material did not contain an acrylic acrylate resin had a poor bone appearance evaluation result even when the optical adjustment layer was provided. Moreover, the curvature after 150 degreeC heating was large.
In the hard coat film of Comparative Example 7 in which the hard coat layer forming material does not contain an acrylic acrylate resin, warpage after heating at 150 ° C. was suppressed by providing a hard coat layer on both sides, but the evaluation result of bone appearance was bad. It was.
１〜３ ハードコートフィルム
１ａ〜３ａ 透明電極層形成面
１１ 透光性基体
１３ 第一の易接着層
１５ 第二の易接着層
１７ ハードコート層
２７ 第一のハードコート層
２９ 第二のハードコート層
３１ 光学調整層
1-3
Claims (2)
透明電極層が形成される側から、少なくとも、ハードコート層と、易接着層と、透光性基体とがこの順に積層し、
前記ハードコート層が、放射線硬化型樹脂を含有し、前記放射線硬化型樹脂のうちの３４質量％以上がアクリルアクリレート樹脂であるハードコート層形成材料から形成された層であり、
前記ハードコート層の厚みが１．０〜５．０μｍであることを特徴とする透明電極用ハードコートフィルム。 It is a hard coat film in which a transparent electrode layer is formed on one side,
From the side where the transparent electrode layer is formed, at least a hard coat layer, an easy adhesion layer, and a translucent substrate are laminated in this order,
The hard coat layer contains a radiation curable resin, and is a layer formed from a hard coat layer forming material in which 34% by mass or more of the radiation curable resin is an acrylic acrylate resin,
The hard coat film for transparent electrodes, wherein the hard coat layer has a thickness of 1.0 to 5.0 μm.
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|---|---|---|---|---|
| CN107791632A (en) * | 2017-11-24 | 2018-03-13 | 惠州市摩码菱丽光电材料有限公司 | A kind of antiradar reflectivity of TAC base materials is without rainbow line hardening diaphragm and preparation method thereof |
| WO2022102346A1 (en) * | 2020-11-10 | 2022-05-19 | 日東電工株式会社 | Image display device and manufacturing method therefor |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009116363A1 (en) * | 2008-03-21 | 2009-09-24 | 株式会社 きもと | Film for optical use, laminate, and touch panel |
| JP2013075955A (en) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Hard coat film |
-
2014
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Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009116363A1 (en) * | 2008-03-21 | 2009-09-24 | 株式会社 きもと | Film for optical use, laminate, and touch panel |
| JP2013075955A (en) * | 2011-09-29 | 2013-04-25 | Tomoegawa Paper Co Ltd | Hard coat film |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN107791632A (en) * | 2017-11-24 | 2018-03-13 | 惠州市摩码菱丽光电材料有限公司 | A kind of antiradar reflectivity of TAC base materials is without rainbow line hardening diaphragm and preparation method thereof |
| WO2022102346A1 (en) * | 2020-11-10 | 2022-05-19 | 日東電工株式会社 | Image display device and manufacturing method therefor |
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