JP2016074216A - Printed matter - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、表面に多数の溝部を備える印刷物に関する。 The present invention relates to a printed matter having a large number of grooves on the surface.
広告、雑誌、ポスター等の種々の印刷物においては、近年、ますます高精細で鮮明な印刷画像の表示が求められており、印刷技術分野においては、印刷媒体への画像データの出力方法や、印刷媒体に用いられる材料およびインキの材料等の選択方法等のあらゆる印刷技術を用いることが検討されている。 In recent years, various printed materials such as advertisements, magazines, and posters have been required to display print images with higher definition and clarity. In the field of printing technology, image data output methods to print media and printing The use of any printing technique such as a method for selecting a material used for a medium and an ink material has been studied.
しかしながら、上述した種々の印刷技術を用いて印刷媒体上に高精細かつ鮮明な印刷画像が印刷されたとしても、印刷物の表面において光の一部が反射されることで、観察者からは実際の印刷画像の色彩に比べて白っぽく観察されてしまい、文字や模様の判読を妨げるといった問題があった。
また、印刷物の表面に照射される光の強度や照射方向、さらには観察者が印刷物を観察する方向によっては、印刷物の表面からの反射光により印刷画像の視認性が低下したり、目視が困難となる可能性があるといった問題があった。
However, even if a high-definition and clear print image is printed on a print medium using the above-described various printing techniques, a part of the light is reflected on the surface of the printed matter, so that the observer actually There was a problem that the color was observed as whitish compared to the color of the printed image, preventing the reading of characters and patterns.
In addition, depending on the intensity and direction of light irradiated on the surface of the printed matter, and also the direction in which the observer observes the printed matter, the reflected light from the surface of the printed matter may reduce the visibility of the printed image or make visual observation difficult. There was a problem that it might become.
このような問題に対して、表面での光の反射を低減させて印刷画像の視認性を向上させる目的で、印刷物の表面に加工が施された印刷物が提案されている。例えば、特許文献１および２では、表面にモスアイと呼ばれる多数の微細凹凸が形成された印刷物が開示されている。このような印刷物は、表面に微細凹凸が形状および配置に規則性を有して形成されていることで、モスアイ構造の原理により入射光に対する屈折率の急激な変化がなくなり、物質界面での不連続な屈折率変化に起因する光の反射を抑制することができる。これにより、印刷物表面での光の反射が低減され、印刷画像の視認性を向上させることが可能である。 In order to reduce the reflection of light on the surface and improve the visibility of the printed image, a printed material in which the surface of the printed material is processed has been proposed. For example, Patent Documents 1 and 2 disclose printed matter in which a number of fine irregularities called moth eyes are formed on the surface. In such a printed matter, fine irregularities are formed on the surface with regularity in shape and arrangement, so that a rapid change in the refractive index with respect to incident light is eliminated due to the principle of the moth-eye structure, and there is no problem at the material interface. It is possible to suppress light reflection caused by continuous refractive index change. Thereby, reflection of light on the surface of the printed material is reduced, and the visibility of the printed image can be improved.
しかし、印刷物の表面に微細凹凸を有することで、反射率低減効果を得ることが可能であるものの、個々の凸部（突起部)および凹部（溝部）の形状および配置に規則性があるため、反射率の低減に波長選択性を示し、波長領域によっては微細凹凸による十分な反射率低減効果が得られず、また、印刷物の印刷画像の鮮明さや視認性が十分ではない場合がある。 However, by having fine irregularities on the surface of the printed matter, it is possible to obtain a reflectance reduction effect, but because there is regularity in the shape and arrangement of the individual convex portions (protrusions) and concave portions (grooves), Wavelength selectivity is shown in the reduction of the reflectance, and a sufficient reflectance reduction effect due to fine unevenness cannot be obtained depending on the wavelength region, and the sharpness and visibility of the printed image of the printed matter may not be sufficient.
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、印刷画像の色彩を鮮明に表示することができ、印刷画像の視認性を向上させることが可能な印刷物を提供することを主目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and has as its main object to provide a printed matter that can clearly display the color of a printed image and can improve the visibility of the printed image. To do.
上記課題を解決するために、本発明は、透明基材と、上記透明基材の一方の面上に形成された印刷層とを有する印刷物であって、上記印刷物は、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面側の最表面に多数の溝部が形成されており、上記溝部は、上記溝部の側面により囲まれた領域である溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの面積の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であり、上記溝部の上記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内であり、一の上記溝部と、上記一の溝部の上記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に上記溝口部の上記重心を有する他の上記溝部との重心間距離の平均が５００ｎｍ以下であり、上記重心間距離の分散が８０００以上であることを特徴とする印刷物を提供する。 In order to solve the above problems, the present invention is a printed material having a transparent base material and a printed layer formed on one surface of the transparent base material, wherein the printed material is the above-mentioned transparent base material. A large number of grooves are formed on the outermost surface facing the surface on which the printed layer is formed, and the groove has an octagonal shape in plan view of the groove opening, which is a region surrounded by the side surfaces of the groove. The average area when approximated is in the range of 94000 nm 2 or more and 131000 nm 2 or less, and the dispersion of the maximum inner angle is in the range of 600 or more and 1020 or less when the planar view shape of the groove part of the groove part is approximated to an octagon. And the one groove part and the other groove part having the center of gravity of the groove part at a position closest to the center of gravity when the planar view shape of the groove part of the one groove part is approximated to an octagon. The average distance between the centers of gravity is 500 nm A lower, to provide a printed material, wherein the dispersion of the distance between center of gravity is more than 8000.
本発明によれば、形状および配置位置に所定のばらつきを有する多数の溝部が、印刷物の透明基材の印刷層が形成された面と対向する面側の最表面に形成されていることから、溝部において光を多数回反射させることができ、また、干渉によって特定の波長光の強度が強まるのを抑制することができる。さらに、上記溝部においては、光の多数回反射による光の吸収に加えて、ミー散乱による印刷物内への光の吸収も起こるため、反射率を低下させることができる。さらにまた、多数の上記溝部が形成された層は、ミー散乱が生じることで高ヘイズ値を示すことができ、それにより、溝部が形成された表面や印刷物内の積層界面における全反射を低減し、印刷物の色調に係る光以外の光の吸収率をさらに高めることができる。
これにより、本発明の印刷物は、所定のばらつきを有する溝部により広波長域の光に対して優れた反射率低減効果を発揮することができ、印刷画像の視認性を向上させることが可能となる。また、印刷物に入射する光、中でも印刷物の色調に係る光以外の光の反射が低減され、印刷物内への光の吸収率が高くなることから、印刷層における印刷画像の発色性が向上し、色彩を鮮明に表示することが可能となる。
According to the present invention, a large number of grooves having a predetermined variation in shape and arrangement position are formed on the outermost surface on the side facing the surface on which the printed layer of the transparent substrate of the printed material is formed. Light can be reflected many times in the groove, and the intensity of light of a specific wavelength can be suppressed from increasing due to interference. Further, in the groove portion, in addition to light absorption due to multiple reflections of light, light absorption into the printed matter also occurs due to Mie scattering, so that the reflectance can be lowered. Furthermore, a layer in which a large number of the groove portions are formed can exhibit a high haze value due to the occurrence of Mie scattering, thereby reducing total reflection at the surface where the groove portions are formed or at the laminated interface in the printed material. Further, it is possible to further increase the absorption rate of light other than the light related to the color tone of the printed matter.
Thereby, the printed matter of the present invention can exhibit an excellent reflectance reduction effect with respect to light in a wide wavelength region by the groove portion having a predetermined variation, and can improve the visibility of a printed image. . In addition, reflection of light incident on the printed matter, especially light other than light related to the color tone of the printed matter is reduced, and light absorption into the printed matter is increased, thereby improving the color developability of the printed image in the printed layer, It becomes possible to display colors clearly.
上記発明においては、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面には、透明低反射層が形成され、上記透明低反射層の上記透明基材と対向する面に、多数の上記溝部が形成されていることが好ましい。透明基材の表面に直接、溝部を形成することが困難な場合に、所望の溝部が賦形された透明低反射層を印刷物の最表層として設けることで、所定のばらつきを有する溝部による上述の効果を奏することができるからである。 In the above invention, a transparent low reflective layer is formed on the surface of the transparent base material that faces the printed layer, and a large number of the transparent low reflective layer faces the transparent base material. It is preferable that the groove portion is formed. When it is difficult to form a groove directly on the surface of the transparent substrate, the above-described groove portion having a predetermined variation is provided by providing a transparent low-reflective layer formed with a desired groove as the outermost layer of the printed matter. It is because an effect can be produced.
上記発明の場合、上記透明低反射層が、透明支持層と、上記透明支持層の一方の面側に形成され、透明樹脂を含む低反射樹脂層とを有し、上記低反射樹脂層の上記透明支持層と接する面と対向する面上に多数の上記溝部が形成されていることが好ましい。透明低反射層の溝部を、透明基材を介して印刷層の位置に合わせて配置することができ、印刷画像の視認性を向上させることが可能となり、また、製造時のハンドリング性が向上するからである。さらに、透明基材が曲面である、透明基材の密着性が悪い等の理由から、透明基材の表面上に直接、溝部を有する透明低反射層を形成することが困難な場合に、所望の印刷物とすることができるからである。 In the case of the above invention, the transparent low reflection layer has a transparent support layer and a low reflection resin layer formed on one surface side of the transparent support layer and containing a transparent resin. It is preferable that a large number of the grooves are formed on the surface facing the surface in contact with the transparent support layer. The groove portion of the transparent low reflection layer can be arranged in accordance with the position of the print layer through the transparent base material, so that the visibility of the printed image can be improved, and the handling property at the time of manufacture is improved. Because. Furthermore, it is desirable when it is difficult to form a transparent low-reflection layer having a groove directly on the surface of the transparent substrate because the transparent substrate is a curved surface or the adhesiveness of the transparent substrate is poor. It is because it can be set as a printed material.
また、上記発明の場合、上記透明低反射層が、透明樹脂により形成された単層であり、上記透明基材上に直に形成されていることが好ましい。透明低反射層が透明樹脂により形成された単層であり、透明低反射層内に積層界面が形成されないため、透明低反射層内において積層界面での光の反射を防止することができるからである。 Moreover, in the case of the said invention, it is preferable that the said transparent low reflection layer is a single layer formed with transparent resin, and is formed directly on the said transparent base material. Because the transparent low-reflection layer is a single layer formed of a transparent resin, and no lamination interface is formed in the transparent low-reflection layer, it is possible to prevent light reflection at the lamination interface in the transparent low-reflection layer. is there.
上記発明においては、多数の上記溝部が、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面に直接形成されていることが好ましい。本発明の印刷物を構成する層の数を少なくすることができ、積層界面での光の反射を防止することができるからである。 In the said invention, it is preferable that many said groove parts are directly formed in the surface facing the surface in which the said printing layer of the said transparent base material was formed. This is because the number of layers constituting the printed matter of the present invention can be reduced, and reflection of light at the lamination interface can be prevented.
上記発明においては、少なくとも上記印刷層の上記透明基材と接する面と対向する面上に、機能層を有することが好ましい。少なくとも印刷層表面に機能層を設けることで、機能層の種類に応じた機能を付加することや、機能層による光制御により印刷画像の色再現性や視認性を向上させることができるからである。また、印刷層表面に機能層を設けることにより、印刷層を保護することができるからである。 In the said invention, it is preferable to have a functional layer on the surface facing the said transparent base material of the said printing layer at least. This is because by providing a functional layer on at least the surface of the printing layer, it is possible to add a function according to the type of the functional layer and to improve the color reproducibility and visibility of the printed image by light control by the functional layer. . Moreover, it is because a printing layer can be protected by providing a functional layer in the printing layer surface.
上記発明の場合、上記機能層が遮光層であることが好ましい。印刷物の印刷層側表面から光が透過することにより、溝部を介して表示される印刷画像においてヘイズが目立つことによる視認性の低下、および鮮明な色表示が阻害されることによる色再現性の低下を防止することができるからである。 In the case of the said invention, it is preferable that the said functional layer is a light shielding layer. When light is transmitted from the printed layer side surface of the printed matter, the visibility is lowered due to the conspicuous haze in the printed image displayed through the groove portion, and the color reproducibility is lowered due to the inhibition of clear color display. It is because it can prevent.
本発明の印刷物は、最表面に形成された多数の溝部が形状および配置位置に所定のばらつきを有することで、広波長域の光に対して反射率低減効果が発揮されることから、印刷画像の視認性を向上させることができ、また、印刷画像の色彩を鮮明に表示することが可能であるといった作用効果を奏する。 Since the printed matter of the present invention has a predetermined variation in the shape and arrangement position of a large number of grooves formed on the outermost surface, the effect of reducing reflectance with respect to light in a wide wavelength region is exhibited. Can be improved, and the printed image can be clearly displayed in color.
以下、本発明の印刷物について詳細に説明する。
本発明の印刷物は、透明基材と、上記透明基材の一方の面上に形成された印刷層とを有する印刷物であって、上記印刷物は、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面側の最表面に多数の溝部が形成されており、上記溝部は、上記溝部の側面により囲まれた領域である溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの面積の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であり、上記溝部の上記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内であり、一の上記溝部と、上記一の溝部の上記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に上記溝口部の上記重心を有する他の上記溝部との重心間距離（以下、最近接重心間位置と称する場合がある。）の平均が５００ｎｍ以下であり、上記重心間距離の分散が８０００以上であることを特徴とするものである。
Hereinafter, the printed matter of the present invention will be described in detail.
The printed matter of the present invention is a printed matter having a transparent substrate and a printed layer formed on one surface of the transparent substrate, and the printed matter has the printed layer of the transparent substrate formed thereon. A large number of grooves are formed on the outermost surface on the side facing the surface, and the groove has a surface area when the shape in plan view of the groove opening that is a region surrounded by the side surface of the groove is approximated to an octagon. the average is in the range of 94000Nm 2 more 131000Nm 2 or less is in the maximum range variance of 600 1020 the following internal angle when the plan view shape of the groove opening portion of the groove close to the octagonal one of the The distance between the center of gravity of the groove part and the other groove part having the center of gravity of the groove part at a position closest to the center of gravity when the planar view shape of the groove part of the one groove part is approximated to an octagon (hereinafter, When referring to the position between nearest centroids There. Average) is not less 500nm or less, in which the dispersion of the distance between the centroids is equal to or is more than 8000.
本発明によれば、形状および配置位置に所定のばらつきを有する多数の溝部が、印刷物の最表面に形成されていることから、上記溝部により広波長域の光に対して優れた反射率低減効果を発揮することができる。なお、多数の溝部の形状および配置位置のばらつきのことを、単に「ばらつき」と称する場合がある。
すなわち、多数の溝部が上記所定のばらつきを有することで、溝部に入射した光を多数回反射させて、溝部が形成された層内に吸収させることができ、また、干渉によって特定の波長光の強度が強まるのを抑制することができる。
さらに、多数の溝部が上記所定のばらつきを有することで、上記溝部、中でも印刷物の最表面内に位置し、溝部側面により囲まれた領域である溝口部においては、多数回反射により溝部が形成された層内へ光が吸収されるのに加えて、溝部の形状により光をミー散乱させることで、溝部が形成された層内への光の吸収量をさらに増加させることができ、反射率をより低減させることが可能となる。
これは、ミー散乱が「前方散乱が強い」、「波長依存性が小さい」といった特長を有することによるものである。つまり、ミー散乱は前方散乱が強いため、溝部に入射した光は溝部が形成された層内で散乱されることとなり、散乱光を溝部が形成された層内へ吸収させることができるからである。また、ミー散乱は波長依存性が小さいため、可視光領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの全域の光を散乱させることができ、散乱光を溝部が形成された層内へ吸収させることが可能となるからである。
According to the present invention, since a large number of grooves having predetermined variations in shape and arrangement position are formed on the outermost surface of the printed material, the groove reduces the reflectivity excellent with respect to light in a wide wavelength range. Can be demonstrated. Note that variations in the shape and arrangement position of a large number of grooves are sometimes simply referred to as “variations”.
That is, since a large number of groove portions have the predetermined variation, light incident on the groove portions can be reflected many times and absorbed in the layer in which the groove portions are formed. An increase in strength can be suppressed.
Further, since the plurality of groove portions have the predetermined variation, the groove portions are formed by the multiple reflection in the groove portions, particularly in the groove opening portion that is located in the outermost surface of the printed material and is surrounded by the groove side surfaces. In addition to the light being absorbed into the layer, the light is scattered by the shape of the groove to further increase the amount of light absorbed into the layer in which the groove is formed, thereby increasing the reflectance. This can be further reduced.
This is because Mie scattering has characteristics such as “strong forward scattering” and “small wavelength dependence”. That is, since Mie scattering has strong forward scattering, the light incident on the groove is scattered in the layer in which the groove is formed, and the scattered light can be absorbed in the layer in which the groove is formed. . In addition, Mie scattering has a small wavelength dependency, so that light in the entire visible light region of 380 nm to 780 nm can be scattered, and the scattered light can be absorbed into the layer in which the groove is formed. .
このように、多数の溝部が所定のばらつきを有することにより、広波長域の光に対して優れた反射率低減効果を発揮することが可能となることから、上記多数の溝部が最表面に形成された印刷物は、反射光の低減により印刷画像の視認性を向上することができる。 As described above, since a large number of groove portions have a predetermined variation, it is possible to exhibit an excellent reflectance reduction effect for light in a wide wavelength region, and thus the above-mentioned many groove portions are formed on the outermost surface. The printed matter can improve the visibility of the printed image by reducing the reflected light.
また、印刷物は、通常、減色混合により印刷画像を表示するものであり、印刷物に入射した光のうち、一部の光が印刷物内に吸収され、印刷物に吸収されずに反射した光の色調が印刷画像の色調となる。印刷物表面での光の反射率が低くなるとは、すなわち印刷物への光の吸収率が高くなること、中でも印刷物の色調に係る光以外の光の吸収率が高くなることを意味する。
本発明によれば、多数の溝部のばらつきにより奏される反射率低減効果により、広波長域の光が印刷物内へ吸収されることとなる。加えて、多数の上記溝部が形成された層は、ミー散乱が生じることで高ヘイズ値を示すことができる。それにより、上記溝部が形成された表面や印刷物内の積層界面における全反射を低減し、印刷物の色調に係る光以外の光の吸収率をさらに高めることができる。
このように、印刷物に入射する光、中でも印刷物の色調に係る光以外の光の反射が低減され、印刷物内への吸収率が高くなるため、本発明の印刷物は、印刷層における印刷画像の発色性が向上し、色彩を鮮明に表示することが可能となる。
In addition, the printed material usually displays a printed image by subtractive color mixing. Of the light incident on the printed material, a part of the light is absorbed in the printed material, and the color tone of the light reflected without being absorbed by the printed material is The color tone of the printed image. That the reflectance of light on the surface of the printed material is low means that the light absorption rate to the printed material is high, and in particular, the light absorptance other than light related to the color tone of the printed material is high.
According to the present invention, light in a wide wavelength region is absorbed into the printed matter due to the effect of reducing the reflectance exhibited by the variation in the number of grooves. In addition, the layer in which a large number of the groove portions are formed can exhibit a high haze value due to Mie scattering. Thereby, total reflection at the surface on which the groove is formed and the laminated interface in the printed material can be reduced, and the absorption rate of light other than light related to the color tone of the printed material can be further increased.
In this way, reflection of light incident on the printed matter, particularly light other than light related to the color tone of the printed matter is reduced, and the absorption rate into the printed matter is increased. And the color can be clearly displayed.
また、本発明の印刷物は、表面に溝部を有することで、構造的な耐久性が高いという特長も有する。表面に凸型となる突起部を有する場合、外部衝撃により突起部が破損、変形してしまうと、反射率低減効果が低下することが予想される。これに対し、本発明によれば、印刷物の最表面において凹型となる溝部が形成されることから、溝部の破損や変形等が発生しにくく、長期にわたり高い反射率低減効果を発揮することができる。このため、本発明の印刷物は、長期間にわたり高い視認性を有し、また、色彩を鮮明に表示することが可能となる。 Moreover, the printed matter of the present invention has a feature that the structural durability is high by having the groove on the surface. In the case of having a convex protrusion on the surface, if the protrusion is damaged or deformed by an external impact, the reflectance reduction effect is expected to decrease. On the other hand, according to the present invention, since the concave groove portion is formed on the outermost surface of the printed matter, the groove portion is hardly damaged or deformed, and a high reflectance reduction effect can be exhibited over a long period of time. . For this reason, the printed matter of the present invention has high visibility over a long period of time and can display colors clearly.
以下、本発明の印刷物について、本発明の印刷物が有する溝部、および本発明の印刷物の実施形態に分けて説明する。 Hereinafter, the printed matter of the present invention will be described by dividing it into the groove portions of the printed matter of the present invention and the embodiments of the printed matter of the present invention.
Ｉ．溝部
本発明における溝部は、印刷物の上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面側の最表面に形成され、その形状および配置位置に所定のばらつきを有するものである。
I. Groove part The groove part in this invention is formed in the outermost surface of the surface side facing the surface in which the said printing layer of the said transparent base material of the printed matter was formed, and has a predetermined dispersion | variation in the shape and arrangement position.
本発明における溝部について、図を参照して説明する。図１は本発明の印刷物における溝部を説明する説明図である。図２（ａ）は本発明における溝部を説明するための概略斜視図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）の概略平面図である。
図１に例示するように、本発明の印刷物１０の最表面に備わる多数の溝部１は、形状および配置位置に所定のばらつきを有する。
ここで、多数の溝部が有する所定のばらつきとは、３つのパラメータを定量化することで規定される。
第１のパラメータは、溝部の側面により囲まれた領域である溝口部（以下、単に溝口部と称する場合がある。）の大きさによるものである。図２（ａ）に示すように、溝部１および１’は、側面により囲まれた領域である溝口部ｄおよびｄ’を、印刷物１０の最表面内に有している。本発明において多数の溝部が所定のばらつきを有するとは、図２（ｂ）に示すように、溝部１および１’のそれぞれの上記溝口部ｄおよびｄ’の平面視形状を八角形に近似したときの溝口部ｄおよびｄ’の平面視形状の面積ＳおよびＳ’の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であることをいう。
第２のパラメータは、溝口部の形状によるものである。本発明において多数の溝部が所定のばらつきを有するとは、図２（ｂ）に示すように、溝口部ｄおよびｄ’の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内であることをいう。
第３のパラメータは、隣接する溝部の位置関係によるものである。本発明において多数の溝部が所定のばらつきを有するとは、図２（ｂ）で示すように、一の溝部１と、一の溝部１の溝口部ｄの平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏに最も近接した位置に、溝口部ｄ’の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏ’を有する他の溝部１’との重心間距離Ｌの平均が５００ｎｍ以下であり、重心間距離Ｌの分散が８０００以上であることをいう。
すなわち、多数の溝部が「所定のばらつきを有する」とは、第１〜第３の３つのパラメータが上述の所定の範囲内（以下、所定値と称する場合がある。）を示すことを意味する。
The groove part in this invention is demonstrated with reference to figures. FIG. 1 is an explanatory view for explaining a groove portion in a printed matter of the present invention. FIG. 2A is a schematic perspective view for explaining a groove portion in the present invention, and FIG. 2B is a schematic plan view of FIG.
As illustrated in FIG. 1, the numerous groove portions 1 provided on the outermost surface of the printed material 10 of the present invention have predetermined variations in shape and arrangement positions.
Here, the predetermined variation which many groove parts have is prescribed | regulated by quantifying three parameters.
The first parameter depends on the size of the groove opening portion (hereinafter sometimes simply referred to as the groove opening portion) that is an area surrounded by the side surface of the groove portion. As shown in FIG. 2A, the groove portions 1 and 1 ′ have groove opening portions d and d ′, which are regions surrounded by side surfaces, in the outermost surface of the printed matter 10. In the present invention, the fact that a large number of grooves have a predetermined variation means that, as shown in FIG. 2 (b), the planar view shapes of the groove openings d and d ′ of the grooves 1 and 1 ′ are approximated to octagons. The average of the areas S and S ′ in the plan view shape of the groove openings d and d ′ is in the range of 94000 nm 2 or more and 131000 nm 2 or less.
The second parameter depends on the shape of the groove opening. In the present invention, the fact that a large number of grooves have a predetermined variation means that, as shown in FIG. 2 (b), the dispersion of the maximum inner angle when the plan view shape of the groove openings d and d ′ is approximated to an octagon is 600 or more. It means within the range of 1020 or less.
The third parameter is due to the positional relationship between adjacent grooves. In the present invention, the fact that a large number of groove portions have a predetermined variation means that, as shown in FIG. 2B, the planar view shape of one groove portion 1 and the groove opening portion d of one groove portion 1 is approximated to an octagon. The distance L between the centers of gravity with the other groove 1 'having the center of gravity O' when the plan view shape of the groove opening d 'is approximated to an octagon at the position closest to the center of gravity O of The variance of the distance L between the centers of gravity is 8000 or more.
That is, the fact that a large number of grooves have “predetermined variation” means that the first to third parameters are within the predetermined range (hereinafter may be referred to as a predetermined value). .
本発明においては、多数の上記溝部が所定のばらつきを有することで、溝部が発揮する反射率低減機能により、本発明の印刷物の効果を奏することができる。
溝部のばらつきは、「溝口部の大きさ」、「溝口部の形状」、および「隣接する溝部の位置関係」の３つのパラメータを定量化することで規定され、各パラメータが上述の所定値を示すことで、多数の上記溝部は、所定のばらつきを有することができる。
以下、各パラメータの定量化方法、および上記定量化方法により規定される各パラメータの値について説明する。
In the present invention, the effect of the printed matter of the present invention can be achieved by the reflectance reduction function exhibited by the groove portions because a large number of the groove portions have a predetermined variation.
The variation of the groove portion is defined by quantifying three parameters of “the size of the groove portion”, “the shape of the groove portion”, and “the positional relationship between the adjacent groove portions”, and each parameter has the predetermined value described above. As shown, a large number of the grooves can have a predetermined variation.
Hereinafter, the quantification method of each parameter and the value of each parameter defined by the quantification method will be described.
Ａ．パラメータの定量化方法
本発明における溝部の形状および配置位置のばらつきは、印刷物の印刷層側の最表面に備わる多数の溝部のうち、所望の点数を抽出して算出され、定量化される。
溝部の抽出は、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：SEM）や原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：AFM）等を用い、倍率１００００倍、視野範囲を縦４μｍ×横４μｍとして印刷物の溝部を有する面側から平面視観察を行い、上記視野範囲における溝部の面内配列を画像で検出し、その中から所望の点数を抽出する方法を用いる。
A. Parameter Quantification Method Variations in the shape and arrangement position of the groove portions in the present invention are calculated by extracting a desired number of points from a large number of groove portions provided on the outermost surface on the printed layer side of the printed matter, and are quantified.
The groove part is extracted using a scanning electron microscope (SEM), an atomic force microscope (AFM), etc., and has a groove part of the printed matter with a magnification of 10000 times and a visual field range of 4 μm × 4 μm in width. A method is used in which planar observation is performed from the surface side, an in-plane arrangement of the grooves in the visual field range is detected with an image, and a desired number of points is extracted therefrom.
本発明における各パラメータは、１つの視野範囲あたりの溝部の最低抽出点数を３０点として算出する。溝部の抽出点数は多いほど好ましく、抽出点数は３０点以上、中でも５０点以上であることが好ましい。また、溝部の抽出を行うための上記視野範囲の検出数は、印刷物の溝部を備える面の単位面積（２５００ｍｍ２）当たり３箇所以上、中でも５箇所以上、特に１０箇所以上であることが好ましい。
抽出点数および視野範囲の検出数を上記範囲で規定することで、３つのパラメータをより高い精度で定量化することができ、溝部の形状および配置位置のばらつきを正確に規定することができるからである。
Each parameter in the present invention is calculated by setting the minimum number of extraction points of the groove per visual field range as 30 points. The larger the number of extraction points of the groove portion, the better. The number of extraction points is preferably 30 points or more, and more preferably 50 points or more. The number of detected visual field ranges for extracting the groove is preferably 3 or more, more preferably 5 or more, and particularly preferably 10 or more per unit area (2500 mm 2 ) of the surface of the printed material having the groove.
By defining the number of extraction points and the number of detections in the visual field range within the above range, the three parameters can be quantified with higher accuracy, and the variation in the shape and arrangement position of the groove can be accurately defined. is there.
各パラメータは、以下の手順により定量化される。
（１）まず、走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope：SEM）や原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope：AFM）を用いて溝部の面内配列を検出する。検出された面内配列から、所望の点数の溝部を抽出し、各溝部について、溝部側面により囲まれた領域である溝口部の平面視形状を検出する。上記溝口部の平面視形状は、ＳＥＭ像では白黒のコントラストから、ＡＦＭ像では色の明暗のコントラストから検出することができる。
上記平面視形状の具体的な検出方法は特に限定されないが、例えば、画像内のコントラストの１次微分で勾配を計算することでエッジの強さを計算し、上記勾配の方向から上記エッジの局所的な変化を予測して、その方向の勾配が局所的に極大となる箇所を探す方法を用いることができる。
Each parameter is quantified by the following procedure.
(1) First, the in-plane arrangement of the groove is detected using a scanning electron microscope (SEM) or an atomic force microscope (AFM). A desired number of groove portions are extracted from the detected in-plane arrangement, and the planar shape of the groove opening portion, which is a region surrounded by the groove portion side surfaces, is detected for each groove portion. The shape of the groove opening in plan view can be detected from the black and white contrast in the SEM image and from the contrast of light and dark colors in the AFM image.
The specific method for detecting the planar shape is not particularly limited. For example, the edge strength is calculated by calculating the gradient by the first derivative of the contrast in the image, and the edge locality is calculated from the gradient direction. It is possible to use a method of predicting a local change and searching for a location where the gradient in the direction is locally maximum.
（２）続いて、ＳＥＭ画像やＡＦＭ画像から、各溝部について溝口部の平面視形状を八角形に近似する。この際、部分的に途切れている線は補完する。補完方法としては、例えばある閾値を設けて閉空間を作る方法を用いることができる。
溝口部の平面視形状の近似は、画像から形状を近似する際に用いられる従来公知の方法を適用することができ、特に限定されないが、例えば、テンプレートマッチング、一般化ハフ変換、Douglas-Peucker法等の各方法を用いることができる。
テンプレートマッチングは、予め形状を表現したテンプレートを準備し、画像認識の対象となる画像データに対してテンプレートを移動させながら相関係数等の類似度の指標を調べることによって画像データに含まれる形状を認識する技術である。テンプレートマッチングによる画像近似手法については、例えば、「中田崇行、包躍、藤原直史:“三次元環境におけるLog-Polar変換を用いた図形認識”,電気情報通信学会論文誌（D-II）, Vol.88, No.6, pp.985-993(2005.6)」、「斎藤文彦:“部分ランダム探索と適応型探索による半導体チップ画像テンプレートマッチング”, 精密工学会誌, Vol.61, No.11, pp.1604-1608(1995.11)」に開示される。
(2) Subsequently, from the SEM image and the AFM image, the planar view shape of the groove opening portion is approximated to an octagon for each groove portion. At this time, a partially broken line is complemented. As a complementing method, for example, a method of creating a closed space by setting a certain threshold value can be used.
For the approximation of the shape of the groove opening in plan view, a conventionally known method used when approximating the shape from the image can be applied, and is not particularly limited. For example, template matching, generalized Hough transform, Douglas-Peucker method These methods can be used.
In template matching, a template representing a shape is prepared in advance, and the shape included in the image data is determined by examining a similarity index such as a correlation coefficient while moving the template with respect to the image data to be recognized. It is a technology to recognize. For example, “Takayuki Nakata, Bakkaku, Naofumi Fujiwara:“ Figure Recognition Using Log-Polar Transform in 3D Environments ”, IEICE Transactions (D-II), Vol. .88, No.6, pp.985-993 (2005.6) ”,“ Fumihiko Saito: “Semiconductor chip image template matching by partial random search and adaptive search”, Journal of Japan Society for Precision Engineering, Vol.61, No.11, pp .1604-1608 (1995.11) ".
また、一般化ハフ変換は、無限に存在する直線の中から画像データ内の特徴点を最も多く通る直線を決定するハフ変換を一般化して曲線に応用したものであり、この一般化ハフ変換によっても、事前に用意した参照用のテーブルを利用して画像データの形状認識を行うことができる。一般化ハフ変換による画像近似手法については、例えば、「Ballad.D.H: “GENERALIZING THE HOUGH TRANSFORM TO DETECT ARBITRARY SHAPES”, Pattern Recognition, Vol.13, No.2, pp.111-122(1981)」や、「木村彰男，渡辺孝志：“アフィン変換に不変な任意図形検出法として拡張された一般化ハフ変換”, 電気情報通信学会誌(D-II), Vol. J84-D-II, No. 5, pp.789-798(2001.5)」に開示される。 The generalized Hough transform is a generalized Hough transform that is applied to a curve by generalizing the Hough transform that determines the straight line that passes through the most feature points in the image data from infinitely existing straight lines. In addition, the shape of the image data can be recognized using a reference table prepared in advance. For example, “Ballad.DH:“ GENERALIZING THE HOUGH TRANSFORM TO DETECT ARBITRARY SHAPES ”, Pattern Recognition, Vol.13, No.2, pp.111-122 (1981)” , “Akio Kimura, Takashi Watanabe:“ Generalized Hough transform extended as an arbitrary figure detection method invariant to affine transformation ”, IEICE Journal (D-II), Vol. J84-D-II, No. 5 , pp.789-798 (2001.5) ”.
Douglas-Peucker法は、折れ線近似によって形状認識を行う手法である。Douglas-Peucker法による画像近似手法については、例えば、「Wu. S.T, M.R.G:“A non-self-intersection Douglas-Peucker Algorithm”, Proceeding of Sixteenth Brazilian Symposium on Computer Graphics and Image Processing, IEEE, pp.60-66(2003)」に開示される。 The Douglas-Peucker method is a method for shape recognition by polygonal line approximation. For example, “Wu. ST, MRG:“ A non-self-intersection Douglas-Peucker Algorithm ”, Proceeding of Sixteenth Brazilian Symposium on Computer Graphics and Image Processing, IEEE, pp. 60. -66 (2003) ".
（３）次に、各溝部について、八角形に近似された溝口部の平面視形状の面積（以下、溝口部の面積と称する場合がある。）を算出し、溝口部の大きさを規定する。溝口部の面積は、画像のスケールのピクセルサイズと八角形に含まれるピクセル数との対比から算出する。算出された上記面積を統計処理して平均値および分散を求める。統計処理には既存の表計算ソフトを使用することができる。
溝口部の面積の平均値および分散を求める際には、外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が３以上をいう。
(3) Next, for each groove portion, the area of the shape of the groove opening portion approximated to an octagon (hereinafter sometimes referred to as the area of the groove opening portion) is calculated, and the size of the groove opening portion is defined. . The area of the groove opening is calculated from the comparison between the pixel size of the image scale and the number of pixels included in the octagon. The calculated area is statistically processed to obtain an average value and variance. Existing spreadsheet software can be used for statistical processing.
It is desirable to exclude outliers when determining the average value and variance of the groove opening area. The outlier means that the absolute value of the standardized score calculated by the following calculation formula is 3 or more.
（４）次に、各溝部について、八角形に近似された溝口部の平面視形状の最大内角（以下、溝口部の最大内角と称する場合がある。）を抽出して、統計処理によって分散を求める。統計処理には既存の表計算ソフトを使用することができる。また、上記最大内角の分散を求める際には、外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が３以上をいう。
標準化得点＝(個々の溝口部の最大内角−溝口部の最大内角の平均値)/標準偏差
(4) Next, for each groove portion, the maximum inner angle of the shape of the groove opening approximated to an octagon (hereinafter, sometimes referred to as the maximum inner angle of the groove opening portion) is extracted, and dispersion is performed by statistical processing. Ask. Existing spreadsheet software can be used for statistical processing. Further, it is desirable to exclude outliers when determining the variance of the maximum inner angle. The outlier means that the absolute value of the standardized score calculated by the following calculation formula is 3 or more.
Standardized score = (maximum inner angle of each groove opening-average value of maximum inner angles of groove openings) / standard deviation
（５）次に、各溝部について、八角形に近似された上記溝口部の平面視形状の重心（以下、溝口部の重心と称する場合がある。）を算出し、溝部の位置を規定する。溝口部の重心は、以下の方法により規定される。まず、先に述べたように溝口部の平面視形状を八角形に近似し、八角形の１つの頂点から対角線を結び６つの三角形に分割して、各々の三角形の重心を求める。次に、６つの三角形の各重心を結び六角形とし、同様の方法で六角形の１つの頂点から対角線を結び４つの三角形に分割して、各々の三角形の重心を求める。次に４つの三角形の各重心を結び四角形とする。続いて、四角形を１つの対角線で２つの三角形に分割し、２つの三角形の各重心を求め、２つの重心を直線で結び、同様に、四角形を別の対角線で２つの三角形に分割して２つの三角形の各重心を求め、２つの重心を直線で結ぶ。２本の直線の交点が八角形の重心、すなわち溝口部の重心となる。 (5) Next, for each groove, the center of gravity of the shape of the groove opening approximated to an octagon in the plan view (hereinafter sometimes referred to as the center of gravity of the groove opening) is calculated, and the position of the groove is defined. The center of gravity of the groove opening is defined by the following method. First, as described above, the plan view shape of the groove opening portion is approximated to an octagon, and a diagonal line is connected from one vertex of the octagon to be divided into six triangles, and the center of gravity of each triangle is obtained. Next, the centroids of the six triangles are connected to form a hexagon, and a diagonal is connected from one vertex of the hexagon and divided into four triangles by the same method to determine the centroid of each triangle. Next, the centroids of the four triangles are connected to form a square. Subsequently, the quadrangle is divided into two triangles by one diagonal line, the respective centroids of the two triangles are obtained, the two centroids are connected by a straight line, and similarly, the quadrangle is divided into two triangles by another diagonal line. Find the centroids of two triangles and connect the two centroids with a straight line. The intersection of the two straight lines is the octagonal center of gravity, that is, the center of gravity of the groove opening.
（６）続いて、各溝部の溝口部の重心の位置を座標化する。座標の原点および軸は、任意の方向にとることができる。例えば、ＳＥＭ画像またはＡＦＭ画像中の左下を原点として、上記原点からシート面の長さ方向と平行する右方向をｘ軸、ｘ軸に直交する上方向（シート面の幅方向）をｙ軸とする。このように画像を座標平面とすることで、溝部の溝口部の重心の位置を座標化することができる。
各溝部の溝口部の重心の位置の座標から、特定の一の溝部と隣接する複数の溝部との溝部間の距離、すなわち重心間距離を算出する。重心間距離は以下の計算式によって算出することができる。算出される重心間距離のうち、最小の距離を「最近接重心間距離」と規定する。
重心間距離＝｛（ｘ１−ｘ２）２＋（ｙ１−ｙ２）２｝１／２｝
なお、式中のｘ１およびｙ１は、特定の一の溝部の溝口部の重心位置を示すｘ座標およびｙ座標である。また、ｘ２およびｙ２は、上記特定の一の溝部に隣接する溝部の溝口部の重心位置を示すｘ座標およびｙ座標である。
上記重心間距離は、ＳＥＭ画像またはＡＦＭ画像のスケールのピクセルサイズとピクセル数との対比から算出することができる。
(6) Subsequently, the position of the center of gravity of the groove opening of each groove is coordinated. The origin and axis of the coordinates can be in any direction. For example, with the lower left in the SEM image or AFM image as the origin, the right direction parallel to the length direction of the sheet surface from the origin is the x axis, and the upper direction perpendicular to the x axis (the width direction of the sheet surface) is the y axis To do. In this way, by setting the image as a coordinate plane, the position of the center of gravity of the groove opening of the groove can be coordinated.
From the coordinates of the position of the center of gravity of the groove opening of each groove, the distance between the grooves between a specific groove and a plurality of adjacent grooves, that is, the distance between the centers of gravity is calculated. The distance between the centers of gravity can be calculated by the following calculation formula. Among the calculated distances between centroids, the minimum distance is defined as the “distance between nearest centroids”.
Distance between centroids = {(x 1 −x 2 ) 2 + (y 1 −y 2 ) 2 } 1/2 }
Incidentally, x 1 and y 1 in the formula, x and y coordinates indicate the position of the center of gravity of Mizoguchi portion of the groove of one particular. Further, x 2 and y 2 are the x and y coordinates indicate the position of the center of gravity of Mizoguchi portion of the groove adjacent to the groove of the one particular.
The distance between the centroids can be calculated from the contrast between the pixel size of the SEM image or the AFM image and the number of pixels.
（７）上記の方法で各溝部の最近接重心間距離を抽出し、既存の表計算ソフトで統計処理することにより、最近接重心間距離の平均値および分散を計算する。なお、最近接重心間距離の平均値および分散を求める際には外れ値を除外することが望ましい。外れ値とは、以下の計算式によって算出される標準化得点の絶対値が３以上をいう。
標準化得点＝(個々の溝部の最近接重心間距離−最近接重心間距離の平均値)/標準偏差
(7) The distance between the nearest centroids of each groove is extracted by the above method, and the average value and the variance of the nearest centroid distances are calculated by statistical processing using existing spreadsheet software. It should be noted that outliers are preferably excluded when obtaining the average value and variance of the distances between the nearest centroids. The outlier means that the absolute value of the standardized score calculated by the following calculation formula is 3 or more.
Standardized score = (distance between nearest centroids of individual grooves-average value of distance between nearest centroids) / standard deviation
各パラメータの定量化において算出される分散の値は、一般に平均値から算出される値、すなわち測定値と測定値の平均値との差の二乗平均の和を抽出点数で割ることで算出される値である。 The variance value calculated in the quantification of each parameter is generally calculated by dividing the value calculated from the average value, that is, the sum of the root mean square of the difference between the measured value and the average value of the measured value, by the number of extraction points. Value.
Ｂ．パラメータ
次に、本発明における溝部の形状および配置位置のばらつきを規定する各パラメータについて説明する。
B. Parameters Next, parameters that define variations in the shape and arrangement position of the grooves in the present invention will be described.
１．溝口部の大きさ
溝口部の大きさは、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの面積、すなわち溝口部の面積により規定される。溝口部の面積とは、図２（ｂ）、図３（ａ）においてＳ、Ｓ’で示す部分である。図３は、本発明の印刷物における溝部を有する表面の平面ＳＥＭ画像であり、図３について説明しない符号については、図１および図２と同様とする。
1. Size of Groove Portion The size of the groove port portion is defined by the area when the plan view shape of the groove port portion is approximated to an octagon, that is, the area of the groove port portion. The area of the groove portion is a portion indicated by S or S ′ in FIGS. 2B and 3A. FIG. 3 is a planar SEM image of a surface having a groove in the printed matter of the present invention, and reference numerals not described for FIG. 3 are the same as those in FIGS. 1 and 2.
上記溝口部の面積の平均は、９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であればよく、中でも９９０００ｎｍ２以上１２１０００ｎｍ２以下の範囲内であることが好ましい。
球形粒子では幾何光学散乱が支配する直径は数μｍ以上であるが、溝口部での散乱は異なる挙動を示し、本発明においては、溝口部が上記範囲内に面積を有することで、ミー散乱が支配的になると推測されるからである。溝口部の面積の平均が上記範囲よりも大きいと、ミー散乱よりも幾何光学散乱が支配的になるため、前方散乱が起こりにくくなり、溝部が形成された層内への光の吸収が小さくなり、所望の反射率低減効果が得られない場合がある。一方、溝口部の面積の平均が上記範囲よりも小さいと、レイリー散乱が支配的になるため、前方散乱が起こりにくくなり、溝部が形成された層内への光の吸収が小さくなる場合がある。
The average area of the groove opening portion may be within the range of 94000Nm 2 more 131000Nm 2 or less, is preferably Among them 99000Nm 2 more 121000Nm 2 within the following ranges.
In spherical particles, the geometrical optical scattering dominates the diameter of several μm or more, but the scattering at the groove opening behaves differently, and in the present invention, the groove opening has an area within the above range, so that Mie scattering is reduced. This is because it is supposed to become dominant. If the average groove area is larger than the above range, geometric optical scattering is dominant over Mie scattering, so forward scattering is less likely to occur and light absorption into the layer in which the groove is formed is reduced. In some cases, the desired reflectance reduction effect cannot be obtained. On the other hand, when the average area of the groove openings is smaller than the above range, Rayleigh scattering becomes dominant, so that forward scattering is less likely to occur and light absorption into the layer in which the grooves are formed may be reduced. .
溝口部の面積の平均が上記範囲内にあるとき、上記溝口部の面積の分散は、４．０８Ｅ＋９以上１．０６Ｅ＋１０以下の範囲内であることが好ましい。干渉により特定の波長の光の強度が強まるのを抑制できるからである。溝口部の面積の分散の単位は（ｎｍ２）２となる。 When the average area of the groove openings is within the above range, the dispersion of the area of the groove openings is preferably within a range of 4.08E + 9 or more and 1.06E + 10 or less. It is because it can suppress that the intensity | strength of the light of a specific wavelength becomes strong by interference. The unit of dispersion of the groove opening area is (nm 2 ) 2 .
２．溝口部の形状
溝口部の形状は、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の大きさにより規定される。溝口部の最大内角とは、例えば図３（ｂ）中のθmaxで示す部分をいう。
2. Shape of Groove Portion The shape of the groove port portion is defined by the size of the maximum inner angle when the plan view shape of the groove port portion is approximated to an octagon. The maximum inner angle of the groove opening portion refers to, for example, a portion indicated by θ max in FIG.
溝口部の平面視形状は、最大内角が大きいほど形状のばらつきが大きくなり、一方、最大内角が小さいほど正八角形に近い形状となることから、形状のばらつきが小さくなる。したがって、抽出された各溝部について算出された最大内角の分散が大きいほど、溝部ごとの溝口部の平面視形状の形状についてもばらつきが大きくなる。
本発明においては、溝口部の最大内角の分散が、６００以上１０２０以下の範囲内であればよく、中でも６４０以上９８０以下の範囲内、特に６４０以上８１０以下の範囲内であることが好ましい。溝口部の最大内角の分散が上記範囲よりも大きいと、製造上、溝部の設計が困難となる場合があり、一方、上記範囲よりも小さいと干渉によって特定の波長の光の強度が強まる場合があるからである。溝口部の最大内角の分散の単位は度（°）となる。
The shape of the groove opening in plan view increases as the maximum inner angle increases, and the shape variation becomes closer to a regular octagon as the maximum inner angle decreases. Therefore, the larger the variance of the maximum inner angle calculated for each extracted groove portion, the greater the variation in the shape of the groove opening portion in plan view for each groove portion.
In the present invention, the dispersion of the maximum inner angle of the groove opening portion may be in the range of 600 or more and 1020 or less, particularly preferably in the range of 640 or more and 980 or less, particularly preferably in the range of 640 or more and 810 or less. If the dispersion of the maximum inner angle of the groove opening portion is larger than the above range, the design of the groove portion may be difficult in manufacturing, whereas if it is smaller than the above range, the intensity of light of a specific wavelength may be increased by interference. Because there is. The unit of dispersion of the maximum inner angle of the groove opening is degrees (°).
このとき、溝口部の最大内角の平均は、２００°以上２３０°以下の範囲内であることが好ましい。溝口部の最大内角の平均が上記範囲よりも大きいと、製造上、溝部の設計が困難となる場合があり、一方、上記範囲よりも小さいと干渉によって特定の波長の光の強度が強まる場合があるからである。 At this time, it is preferable that the average of the maximum inner angles of the groove openings is in a range of 200 ° to 230 °. If the average maximum inner angle of the groove opening is larger than the above range, it may be difficult to design the groove for manufacturing.On the other hand, if it is smaller than the above range, the intensity of light of a specific wavelength may increase due to interference. Because there is.
３．隣接する溝部の位置関係
溝部の位置とは、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心（溝口部の重心）の位置をいい、図１〜図３においてＯやＯ’で示す部分である。
隣接する溝部の位置関係は、一の溝部と、上記一の溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に上記溝口部の上記重心を有する他の溝部との重心間距離、すなわち最近接重心間距離の平均により規定される。
3. Positional relationship between adjacent grooves The position of the groove means the position of the center of gravity (the center of gravity of the groove opening) when the shape of the groove opening is approximated to an octagon, and is indicated by O or O ′ in FIGS. Part.
The positional relationship between adjacent groove portions is as follows: one groove portion and another groove portion having the center of gravity of the groove mouth portion at a position closest to the center of gravity when the plan view shape of the one groove mouth portion is approximated to an octagon. It is defined by the distance between the centroids, that is, the average of the distances between the nearest centroids.
最近接重心間距離は、先に説明した方法で算出され定量化されるが、上記定量化について、さらに図を示して説明する。最近接重心間距離は、図３（ｃ）で示すように、溝部１Ａに隣接する溝部のうち、溝部１Ａの溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏと最も近い位置に、溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心Ｏを有する溝部１Ｂを抽出し、その重心間距離Ｌ１を最近接重心間距離として算出する。次に、溝部Ｂに隣接する溝部のうち、溝部１Ｂの溝口部の重心Ｏと最も近い位置に溝口部の重心Ｏを有する溝部１Ｃを抽出し、その重心間距離Ｌ２を最近接重心間距離として算出する。
最近接重心間距離の平均は、上記操作を繰り返し行い、溝部の抽出点数分の最近接重心間距離の総和を算出し、抽出点数で割ることで算出される。
The distance between the nearest centroids is calculated and quantified by the method described above. The above quantification will be further described with reference to the drawings. As shown in FIG. 3 (c), the distance between the nearest centroids is closest to the centroid O when the planar view shape of the groove opening portion of the groove portion 1A is approximated to an octagon among the groove portions adjacent to the groove portion 1A. Then, the groove 1B having the center of gravity O when the shape of the groove opening in plan view is approximated to an octagon is extracted, and the distance L1 between the centers of gravity is calculated as the distance between the nearest centers of gravity. Next, out of the groove parts adjacent to the groove part B, the groove part 1C having the center of gravity O of the groove part at the position closest to the center of gravity O of the groove part of the groove part 1B is extracted, and the distance L2 between the centroids is set as the distance between the nearest centroids. calculate.
The average of the distances between the nearest centroids is calculated by repeating the above operation, calculating the sum of the distances between the nearest centroids for the number of extracted points of the groove, and dividing by the number of extracted points.
上記最近接重心間距離の平均は、５００ｎｍ以下であればよく、中でも４２０ｎｍ以下の範囲内、特に４１０ｎｍ以下の範囲内であることが好ましい。最近接重心間距離の平均が上記範囲よりも大きいと、隣接する溝部が密接しておらず、溝部が形成されない平坦な非溝部領域が多く存在することとなり、上記非溝部領域において生じる光の反射により、反射率低減効果が低下する場合がある。
最近接重心間距離の平均の下限は特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば３３０ｎｍ以上であることが好ましい。
The average of the distances between the nearest centroids may be 500 nm or less, and in particular, it is preferably in the range of 420 nm or less, particularly in the range of 410 nm or less. When the average distance between the nearest centroids is larger than the above range, adjacent grooves are not in close contact, and there are many flat non-groove areas where no grooves are formed, and light reflection that occurs in the non-groove areas As a result, the reflectance reduction effect may be reduced.
The lower limit of the average distance between the nearest centroids is not particularly limited, and can be set within a range that can be designed in production, and is preferably 330 nm or more, for example.
最近接重心間距離の平均が上記範囲内にあるときの、上記最近接重心間距離の分散は、８０００以上であればよく、中でも１１０００以上、特に１２０００以上であることが好ましい。最近接重心間距離の分散が上記範囲よりも小さいと、多数の溝部が均等なピッチ幅で配置されることとなり、干渉により特定の波長の光の強度が強まり、所望の反射率低減効果が発揮されにくい場合があるからである。
上記分散の上限は特に限定されず、製造上設計可能な範囲で設定することができ、例えば２００００以下であることが好ましい。最近接重心間距離の分散の単位はｎｍ２となる。
When the average distance between the nearest centroids is within the above range, the dispersion of the distance between the nearest centroids may be 8000 or more, more preferably 11000 or more, and particularly preferably 12,000 or more. If the dispersion of the distance between the nearest centroids is smaller than the above range, a large number of grooves are arranged with an equal pitch width, and the intensity of light of a specific wavelength increases due to interference, and the desired reflectance reduction effect is exhibited. This is because it may be difficult to do.
The upper limit of the dispersion is not particularly limited, and can be set in a range that can be designed in production. For example, it is preferably 20000 or less. The unit of dispersion of the distance between the nearest centroids is nm 2 .
Ｃ．その他
上記溝部の深さは、上述の３つのパラメータが所定値となることが可能な大きさであれば特に限定されないが、例えば、１００ｎｍ〜１０μｍの範囲内が好ましく、中でも３００ｎｍ〜１μｍの範囲内が好ましい。溝部の深さが上記範囲よりも小さい場合、溝口部の曲率が大きくなるため、ミー散乱よりも幾何光学散乱が支配的になり、前方散乱が起こりにくくなるため、溝部が形成された層内への光の吸収が小さくなる可能性がある。一方、溝部の深さが上記範囲よりも大きい場合、所望の溝部の形状に製造することが困難となる可能性がある。
溝部の深さは、溝部が形成された層の表面から溝底の先端までの長さの平均をいい、図１においてｈ１で示す部分である。
C. Others The depth of the groove is not particularly limited as long as the above three parameters can be a predetermined value. For example, the depth is preferably in the range of 100 nm to 10 μm, and more preferably in the range of 300 nm to 1 μm. Is preferred. When the depth of the groove is smaller than the above range, the curvature of the groove opening becomes large, so geometric optical scattering becomes dominant over Mie scattering, and forward scattering is less likely to occur, and therefore into the layer in which the groove is formed. There is a possibility that the absorption of light becomes small. On the other hand, when the depth of the groove is larger than the above range, it may be difficult to manufacture the groove having a desired shape.
The depth of the groove, refers to the average length of from the surface of the groove is formed a layer to the tip of the groove bottom, a portion indicated by h 1 in FIG. 1.
溝部の深さは、例えば原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）等を用いて、各溝部の深さの極大点および極小点を検出し、検出した極大点から、特定の基準位置（例えば溝口部を面内含む印刷層の最表面位置を「深さ＝０」とする。）からの各極大点位置の相対的な深さの差を取得してヒストグラム化し、ヒストグラムによる度数分布から算出し、平均化される値である。極大点および極小点の検出は、例えば、平面視形状とそれに対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって求める方法等、種々の手法を適用することができる。 The depth of the groove is determined by detecting a maximum point and a minimum point of the depth of each groove using, for example, an atomic force microscope (AFM) and the like, and a specific reference position (for example, the groove opening portion is faced to the surface). The outermost surface position of the printing layer included is set to “depth = 0”. The difference between the relative depths of each local maximum point position is acquired and histogrammed, calculated from the frequency distribution by the histogram, and averaged Is the value to be For the detection of the maximum point and the minimum point, for example, various methods such as a method of sequentially comparing a planar view shape and an enlarged photograph of a corresponding cross-sectional shape, a method of obtaining by image processing of the magnified photograph in plan view, and the like are applied. be able to.
また、溝部の深さが上記範囲内にあるとき、溝口部の平面視形状の最大径に対する深さのアスペクト比としては、所望の反射率低減効果を発揮することが可能な比であればよく、例えば、０．３〜３０の範囲内が好ましく、中でも０.８〜３の範囲内が好ましい。アスペクト比が上記範囲よりも小さいと、溝部内において光の反射が起こりにくくなり反射率低減効果が十分に発揮されない場合がある。一方、アスペクト比が上記範囲よりも大きいと、賦形が困難となり溝部が所望の形状とならない場合がある。
溝口部の平面視形状の最大径は、上記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときに最も広幅の箇所、すなわち上記溝口部の重心を通る最大幅をいう。
In addition, when the depth of the groove portion is within the above range, the aspect ratio of the depth to the maximum diameter of the shape of the groove opening in plan view may be a ratio that can exhibit a desired reflectance reduction effect. For example, a range of 0.3 to 30 is preferable, and a range of 0.8 to 3 is particularly preferable. When the aspect ratio is smaller than the above range, the reflection of light hardly occurs in the groove portion, and the reflectance reduction effect may not be sufficiently exhibited. On the other hand, if the aspect ratio is larger than the above range, shaping may become difficult and the groove may not have a desired shape.
The maximum diameter of the groove port portion in plan view refers to the widest portion that passes through the center of gravity of the groove port portion when the plan view shape of the groove port is approximated to an octagon.
溝部は、凹型の錐状構造を成しており、上記溝部の形状を精度良く賦形することが可能であるため、生産性が向上するという製造上の利点を有する。
一般に、モスアイ構造のような微細凹凸の凹部（溝部）が規則的に配置された印刷物においては、反射率低減効果を向上させるために、溝底の形状を先端が分岐した多溝形状とし、表面積を大きくする方法が用いられる。しかし、このような形状は、精度良く賦形できない場合がある。一方、本発明においては、溝部に所定のばらつきをもたせることで反射率低減効果を奏することから、溝部を多溝形状とする必要がなく、個々の溝部を精度良く賦形することが可能となるのである。
溝部の溝底の先端は、尖っていてもよく、曲率を有していてもよい。中でもミー散乱による溝部が形成された層内への光の吸収が大きくなることから、先端が尖っていることが好ましい。
The groove portion has a concave conical structure, and the shape of the groove portion can be shaped with high accuracy, and thus has a manufacturing advantage that productivity is improved.
In general, in a printed matter in which concaves (grooves) with fine irregularities such as a moth-eye structure are regularly arranged, in order to improve the reflectance reduction effect, the bottom of the groove has a multi-groove shape with a branched tip. A method of increasing the value is used. However, such a shape may not be shaped with high accuracy. On the other hand, in the present invention, since the groove portion has a predetermined variation, the reflectance is reduced. Therefore, it is not necessary to make the groove portion into a multi-groove shape, and each groove portion can be accurately shaped. It is.
The tip of the groove bottom of the groove portion may be sharp or may have a curvature. In particular, it is preferable that the tip is sharp because absorption of light into the layer in which the groove is formed by Mie scattering is increased.
溝口部の平面視形状は、八角形に近似が可能な形状であれば特に限定されず、例えば円、楕円等の丸形状の他、五角形、六角形、八角形、十二角形等の多角形形状等を挙げることができる。
また、溝部の側面形状は、直線状であってもよく、曲線状であってもよい。さらに、溝部の側面形状が多段状であってもよい。中でも溝部の側面が多段状であることが好ましい。溝部において多数回反射およびミー散乱がより起こりやすくなるからである。
The shape in plan view of the groove portion is not particularly limited as long as it can be approximated to an octagon, for example, a round shape such as a circle or an ellipse, or a polygon such as a pentagon, hexagon, octagon, or dodecagon. Examples include shape.
Further, the side surface shape of the groove portion may be linear or curved. Furthermore, the side surface shape of the groove portion may be multistage. In particular, the side surface of the groove is preferably multi-staged. This is because multiple reflections and Mie scattering are more likely to occur in the groove.
ＩＩ．実施形態
次に、本発明の印刷物の実施態様について説明する。
本発明の印刷物は、透明基材と、透明基材の一方の面上に形成された印刷層とを有し、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面側の最表面に、上述の「Ｉ．溝部」の項で説明した所定のばらつきを有する多数の溝部が形成されたものであり、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面に、透明低反射層が形成され、上記透明低反射層の上記透明基材と対向する面に、多数の上記溝部が形成されている第１態様と、多数の上記溝部が、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面に直接形成されている第２態様と、を挙げることができる。
以下、各態様について説明する。
II. Embodiment Next, an embodiment of the printed matter of the present invention will be described.
The printed matter of the present invention has a transparent base material and a printed layer formed on one surface of the transparent base material, and is the outermost surface of the transparent base material facing the surface on which the printed layer is formed. On the surface, a large number of groove portions having the predetermined variation described in the above-mentioned section “I. Groove portion” are formed, and on the surface facing the surface on which the printed layer of the transparent substrate is formed, A first embodiment in which a transparent low-reflection layer is formed, and a plurality of the groove portions are formed on a surface of the transparent low-reflection layer facing the transparent substrate, and a plurality of the groove portions are formed on the transparent substrate. The 2nd aspect currently formed directly in the surface facing the surface in which the printing layer was formed can be mentioned.
Hereinafter, each aspect will be described.
Ａ．第１態様
本発明の印刷物の第１態様（以下、この項において、本態様とする場合がある。）について説明する。本態様の印刷物は、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面には、透明低反射層が形成され、上記透明低反射層の上記透明基材と対向する面に、多数の上記溝部が形成されている。
本態様においては、上記透明低反射層が印刷物の最表層に位置する。
A. First Aspect A first aspect of the printed matter of the present invention (hereinafter, this aspect may be referred to as this aspect) will be described. In the printed material of this aspect, a transparent low-reflection layer is formed on the surface of the transparent substrate that faces the surface on which the printed layer is formed, and the surface of the transparent low-reflection layer that faces the transparent substrate. A large number of the groove portions are formed.
In this aspect, the said transparent low reflection layer is located in the outermost layer of printed matter.
本態様の印刷物について図面を参照しながら説明する。図４は本態様の印刷物の一例を示す概略断面図である。図４に示すように、本態様の印刷物１０は、透明基材２、透明基材２の一方の面上に形成され、印刷画像を構成する印刷層３、および透明基材２の印刷層３が形成された面と対向する面に形成された透明低反射層４を有するものである。透明低反射層４の透明基材２と対向する面には、形状および配置位置に所定のばらつきを有する多数の溝部１が形成されている。
図４に例示する本態様の印刷物においては、透明低反射層４は、透明支持層１１と、透明樹脂を含む低反射樹脂層１２とが積層された層構成を有し、最表層である低反射樹脂層１２の表面上に、多数の溝部１が所定のばらつきを有して形成されている。透明低反射層４は、接着層１３を介して透明基材２上に形成されている。
多数の溝部が有する所定のばらつきは、３つのパラメータを定量化することで規定される。多数の溝部が所定のばらつきを有するための３つのパラメータおよびその所定値については、上述の「Ｉ．溝部」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
The printed matter of this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 4 is a schematic cross-sectional view showing an example of the printed matter of this aspect. As shown in FIG. 4, the printed material 10 of this embodiment is formed on the transparent base material 2, one surface of the transparent base material 2, and forms the print image 3, and the print layer 3 of the transparent base material 2. It has the transparent low reflection layer 4 formed in the surface opposite to the surface in which was formed. On the surface of the transparent low reflective layer 4 facing the transparent substrate 2, a large number of grooves 1 having predetermined variations in shape and arrangement position are formed.
In the printed matter of this embodiment illustrated in FIG. 4, the transparent low reflective layer 4 has a layer configuration in which a transparent support layer 11 and a low reflective resin layer 12 containing a transparent resin are laminated, and is a low surface layer. A large number of grooves 1 are formed on the surface of the reflective resin layer 12 with a predetermined variation. The transparent low reflection layer 4 is formed on the transparent base material 2 via the adhesive layer 13.
Predetermined variations of a large number of grooves are defined by quantifying three parameters. The three parameters and their predetermined values for the large number of groove portions to have a predetermined variation are the same as the contents described in the above section “I. Groove portion”, and thus the description thereof is omitted here.
本態様によれば、透明基材の表面に直接、溝部を形成することが困難な場合に、所望の溝部が賦形された透明低反射層を印刷物の最表層として設けることで、所定のばらつきを有する溝部による本発明の効果を奏することができる。
以下、本態様の印刷物の各構成について説明する。
According to this aspect, when it is difficult to form a groove directly on the surface of the transparent substrate, a predetermined variation is provided by providing the transparent low-reflection layer with the desired groove formed as the outermost layer of the printed matter. The effect of the present invention due to the groove having
Hereafter, each structure of the printed matter of this aspect is demonstrated.
１．透明低反射層
本態様における透明低反射層は、透明基材と対向する面（以下、透明低反射層の表面と称する場合がある。）に、多数の上記溝部が所定のばらつきを有して形成されている。
透明低反射層の表面に形成された溝部の詳細については、上述の「Ｉ．溝部」で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
1. Transparent Low Reflective Layer The transparent low reflective layer in this embodiment has a large number of groove portions on the surface facing the transparent substrate (hereinafter sometimes referred to as the surface of the transparent low reflective layer) having a predetermined variation. Is formed.
The details of the groove formed on the surface of the transparent low reflection layer are the same as those described in the above-mentioned “I. Groove”, and thus the description thereof is omitted here.
上記透明低反射層は、可視光の全波長域に対して低い反射率を示すことが好ましい。具体的には、上記透明低反射層の可視光領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける最大反射率が２．０％以下であることが好ましく、中でも１．５％以下であることが好ましい。
透明低反射層の最大反射率を上述の上限値以下とすることで、可視光の全波長域に対して低い反射率を示すことができ、溝部による反射率低減効果が十分に発揮されるため、印刷画像の視認性を向上させることが可能となる。また、溝部による反射率低減効果により、印刷物への光の吸収率が高くなることから、印刷画像の発色性が向上し、色彩を鮮明に表示することが可能となる。
It is preferable that the transparent low reflection layer exhibits a low reflectance with respect to the entire wavelength range of visible light. Specifically, the maximum reflectance in the visible light region 380 nm to 780 nm of the transparent low reflection layer is preferably 2.0% or less, and more preferably 1.5% or less.
By setting the maximum reflectance of the transparent low-reflection layer to the above-described upper limit or less, a low reflectance can be exhibited with respect to the entire visible wavelength range, and the effect of reducing the reflectance by the groove is sufficiently exhibited. The visibility of the printed image can be improved. In addition, the light absorption rate of the printed matter is increased due to the effect of reducing the reflectance by the groove, so that the color developability of the printed image is improved and the color can be clearly displayed.
最大反射率は、計測装置としてScanning Spectrophotometer UV-3100PC(島津製作所製)を用い、溝部が形成された面(以下、溝部形成面と称する場合がある。)への８°入射光（波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）に対する全反射を測定した値とすることができる。具体的には、可視光領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長の光を８°にて入射させた際の全方向の積算反射率を求め、その中で最も高い反射率とすることができる。透明低反射層の最大反射率は、例えば、後述する印刷層を黒色印刷層とすることで測定が可能である。本明細書内における最大反射率は、上記の方法により測定された値とする。 The maximum reflectance is measured by using Scanning Spectrophotometer UV-3100PC (manufactured by Shimadzu Corporation) as a measuring device, and 8 ° incident light (wavelength region: 380 nm) on the surface on which the groove is formed (hereinafter sometimes referred to as groove forming surface). It can be a value obtained by measuring total reflection with respect to ˜780 nm. Specifically, the integrated reflectance in all directions when light having a wavelength in the visible light region of 380 nm to 780 nm is incident at 8 ° can be obtained, and the highest reflectance among them can be obtained. The maximum reflectance of the transparent low reflection layer can be measured, for example, by using a print layer described later as a black print layer. The maximum reflectance in the present specification is a value measured by the above method.
透明低反射層は、ヘイズ値が高いことが好ましい。ヘイズ値が高い程、溝部の形状および配置位置のばらつきが大きくなることから、透明低反射層全体として優れた反射率低減効果を奏することができ、印刷物における印刷画像の発色性や視認性を向上させることができるからである。
また、透明低反射層のヘイズ値が高い程、ミー散乱による光の散乱が増大し、溝部形成面や印刷物内の積層界面における全反射を低減することができる。これにより、印刷物に入射する光、中でも、印刷物の色調に係る光以外の光の反射が低減されて、印刷物内への吸収率が高くなるため、印刷層における印刷画像の発色性がさらに向上し、色彩をより鮮明に表示することが可能となるからである。
透明低反射層が高ヘイズ値を示すことにより奏される上述の効果について、更に説明すると、高ヘイズ値を示す上記透明低反射層に対し、全反射する角度で入射した白色光は、種々の角度に散乱して層内に吸収されるが、このとき、入射角が小さくなった一部の光が印刷層に入射することで、所定の波長光については反射が起こり、印刷物の所定の色調の発色を高めることができる。
The transparent low reflective layer preferably has a high haze value. The higher the haze value, the greater the variation in the groove shape and the position of the groove, so it is possible to achieve an excellent reflectance reduction effect as a whole transparent low-reflection layer, improving the color development and visibility of printed images on printed matter It is because it can be made.
Further, the higher the haze value of the transparent low reflection layer, the more light scattering due to Mie scattering, and the total reflection at the groove forming surface and the laminated interface in the printed matter can be reduced. As a result, reflection of light incident on the printed matter, particularly light other than light related to the color tone of the printed matter, is reduced, and the absorption rate into the printed matter is increased, so that the color developability of the printed image in the printed layer is further improved. This is because colors can be displayed more clearly.
The above-described effect produced by the transparent low reflection layer exhibiting a high haze value will be further described. White light incident at an angle of total reflection on the transparent low reflection layer exhibiting a high haze value is various. The light is scattered in the angle and absorbed in the layer. At this time, a part of the light having a small incident angle is incident on the print layer, so that the light having a predetermined wavelength is reflected and a predetermined color tone of the printed matter is generated. Color development can be enhanced.
上記透明低反射層のヘイズ値は、７０％以上であることが好ましく、中でも８０％以上であることが好ましい。また、ヘイズ値の上限としては９５％以下であることが好ましい。ヘイズ値が上記範囲よりも小さいと、溝部が形状および配置位置に所定のばらつきを有しておらず、光の多数回反射およびミー散乱による透明低反射層への光の吸収が起こりにくくなり、反射率低減効果が発揮されない場合があるからである。一方、ヘイズ値が上限よりも大きいと、所望の溝部の形状に製造することが困難となる場合があるからである。
ヘイズ値は、透明低反射層の溝部が形成された領域での値であり、ヘイズメーター（東洋精機製作所製 商品名：ヘイズガード）を用いてＪＩＳ Ｋ７３６１に準拠した方法により測定することができる。本明細書内におけるヘイズ値は、上記の方法により測定された値とする。
The haze value of the transparent low reflection layer is preferably 70% or more, and more preferably 80% or more. The upper limit of the haze value is preferably 95% or less. When the haze value is smaller than the above range, the groove does not have a predetermined variation in shape and arrangement position, and light absorption to the transparent low reflection layer due to multiple reflections of light and Mie scattering hardly occurs, This is because the reflectance reduction effect may not be exhibited. On the other hand, if the haze value is larger than the upper limit, it may be difficult to produce a desired groove shape.
The haze value is a value in a region where the groove portion of the transparent low reflective layer is formed, and can be measured by a method based on JIS K7361 using a haze meter (trade name: Haze Guard manufactured by Toyo Seiki Seisakusho). The haze value in the present specification is a value measured by the above method.
本態様における透明低反射層は、表面に多数の溝部が所定のばらつきを有して形成され、所望の最大反射率およびヘイズ値を示すことが可能であればよく、以下の２つの仕様に大別することができる。
すなわち、本態様における透明低反射層は、図４に例示したように、透明低反射層４が、透明支持層１１と、透明支持層１１の一方の面側に形成され、透明樹脂を含む低反射樹脂層１２とを有し、低反射樹脂層１２の透明支持層１１と接する面と対向する面上に多数の溝部１が形成された仕様（以下、透明低反射層の第１仕様とする。）と、図５に例示するように、透明低反射層４が透明樹脂により形成された単層であり、透明基材２上に直に形成された仕様（以下、透明低反射層の第２仕様とする。）と、に大別することができる。
以下、透明低反射層の各仕様について説明する。
The transparent low reflection layer in this aspect is not limited as long as it has a large number of grooves formed on the surface with predetermined variations and can exhibit a desired maximum reflectance and haze value. Can be separated.
That is, as illustrated in FIG. 4, the transparent low reflective layer in this aspect is a low support layer in which the transparent low reflective layer 4 is formed on one surface side of the transparent support layer 11 and the transparent support layer 11. A specification having a reflective resin layer 12 and a plurality of grooves 1 formed on a surface of the low reflective resin layer 12 facing the surface that contacts the transparent support layer 11 (hereinafter referred to as a first specification of the transparent low reflective layer). 5) and a specification in which the transparent low-reflection layer 4 is a single layer formed of a transparent resin and is formed directly on the transparent substrate 2 (hereinafter referred to as the first transparent low-reflection layer). 2 specifications)).
Hereinafter, each specification of the transparent low reflection layer will be described.
（１）透明低反射層の第１仕様
上記透明低反射層の第１仕様（以下、この項において、本仕様とする場合がある。）は、透明支持層と、上記透明支持層の一方の面側に形成され、透明樹脂を含む低反射樹脂層とを有し、上記低反射樹脂層の上記透明支持層と接する面と対向する面上に多数の上記溝部が形成されている。
(1) First specification of transparent low reflection layer The first specification of the transparent low reflection layer (hereinafter, this specification may be referred to as this specification) is one of the transparent support layer and the transparent support layer. A low reflection resin layer containing a transparent resin is formed on the surface side, and a large number of the groove portions are formed on the surface of the low reflection resin layer facing the surface in contact with the transparent support layer.
本仕様の透明低反射層は、透明支持層上に低反射樹脂層を形成し、上記低反射樹脂層の透明支持層と接する面と対向する面上に多数の溝部を賦形した後、透明基材の印刷層が形成された面と対向する面上に貼付して印刷物とすることができる。このため、透明低反射層の溝部を、透明基材を介して印刷層の位置に合わせて配置することができ、印刷画像の視認性を向上させることが可能となり、また、製造時のハンドリング性が向上するという製造上の利点を有する。さらに、透明基材が曲面である、透明基材の密着性が悪い等の理由から、透明基材の表面上に直接、透明低反射層を形成することが困難な場合であっても、所望の印刷物とすることができるという利点を有する。 The transparent low-reflection layer of this specification is formed by forming a low-reflection resin layer on the transparent support layer and shaping a number of grooves on the surface of the low-reflection resin layer facing the surface that contacts the transparent support layer. It can be affixed on the surface opposite to the surface on which the printed layer of the substrate is formed to obtain a printed matter. For this reason, the groove part of the transparent low reflection layer can be arranged in accordance with the position of the print layer through the transparent base material, it is possible to improve the visibility of the printed image, and handling at the time of manufacture Has the manufacturing advantage of improved. Furthermore, even if it is difficult to form a transparent low-reflection layer directly on the surface of the transparent substrate due to reasons such as the curved surface of the transparent substrate and poor adhesion of the transparent substrate, it is desirable. It has the advantage that it can be set as a printed matter.
（ａ）低反射樹脂層
低反射樹脂層は、透明樹脂を含む。多数の溝部が所望の反射率低減効果を発揮するためには、上述の「Ｉ．溝部」で説明した３つのパラメータの定量化により規定される所定のばらつきを有する必要があるところ、透明樹脂を含む低反射樹脂層の表面に溝部を賦形することで、溝部ごとの形状の精度を高くなり、所定のばらつきを示すことが可能となる。
(A) Low reflection resin layer A low reflection resin layer contains transparent resin. In order for a large number of grooves to exhibit the desired reflectance reduction effect, it is necessary to have a predetermined variation defined by the quantification of the three parameters described in “I. Groove” above. By shaping the groove on the surface of the low-reflection resin layer to be included, the accuracy of the shape of each groove can be increased, and a predetermined variation can be shown.
上記低反射樹脂層を構成する透明樹脂は、上述の所定のばらつきを有する多数の溝部を賦形することが可能なものであれば特に限定されず、例えばアクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料、および各種硬化形態の賦形用樹脂を使用することができる。
なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線（ＵＶ−Ａ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。
The transparent resin constituting the low-reflective resin layer is not particularly limited as long as it can shape a large number of grooves having the above-mentioned predetermined variations. For example, acrylate-based, epoxy-based, polyester-based, etc. Various materials such as ionizing radiation curable resins, thermosetting resins such as acrylates, urethanes, epoxies, polysiloxanes, thermoplastic resins such as acrylates, polyesters, polycarbonates, polyethylenes, polypropylenes, and the like; and Various curing resins for shaping can be used.
The ionizing radiation means electromagnetic waves or charged particles having energy that can be cured by polymerizing molecules. For example, all ultraviolet rays (UV-A, UV-B, UV-C), visible rays, gamma rays , X-rays, electron beams and the like.
上記低反射樹脂層は、必要に応じて任意の材料を含んでいてもよい。任意の材料としては、例えば屈折率調整剤、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有することもできる。屈折率調整剤としては、例えば特開２０１３−１４２８２１号公報等に開示される低屈折率材が挙げられる。 The low reflection resin layer may contain any material as necessary. Examples of optional materials include refractive index adjusters, polymerization initiators, mold release agents, photosensitizers, antioxidants, polymerization inhibitors, crosslinking agents, infrared absorbers, antistatic agents, viscosity modifiers, and adhesion. An improver etc. can also be contained. Examples of the refractive index adjusting agent include a low refractive index material disclosed in JP2013-142821A.
上記低反射樹脂層の厚みは特に限定されず、使用する材料、要求される強度等を考慮して適宜設定することができ、例えば３μｍ〜２００μｍの範囲内が好ましく、中でも５μｍ〜１００μｍの範囲内が好ましい。低反射樹脂層の厚みは、低反射樹脂層と透明基材との界面から低反射樹脂層の溝部が形成された表面までの長さの平均をいう。 The thickness of the low reflection resin layer is not particularly limited and can be appropriately set in consideration of the material to be used, required strength, and the like. For example, the thickness is preferably in the range of 3 μm to 200 μm, and more preferably in the range of 5 μm to 100 μm. Is preferred. The thickness of the low reflection resin layer refers to the average length from the interface between the low reflection resin layer and the transparent substrate to the surface on which the grooves of the low reflection resin layer are formed.
上記低反射樹脂層は、印刷層における印刷画像の視認を可能とするために、可視光に対する透過性を備える。具体的には、低反射樹脂層の可視光の全波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに対する光透過率が８０％以上、中でも８５％以上、特に９０％以上であることが好ましい。本明細書内において光透過率は、株式会社日立ハイテクノロジーズ製分光光度計 Ｕ−４１００により測定された値である。 The low-reflection resin layer has transparency to visible light in order to make it possible to visually recognize a printed image in the printed layer. Specifically, the light transmittance of the low-reflection resin layer with respect to the entire visible wavelength range of 380 nm to 780 nm is preferably 80% or more, more preferably 85% or more, and particularly preferably 90% or more. In this specification, the light transmittance is a value measured by a spectrophotometer U-4100 manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation.
上記低反射樹脂層の屈折率は、後述する透明支持層との屈折率差が所望の範囲内となる大きさであることが好ましく、選択する透明樹脂の種類にもよるが、１．２０〜２．４０の範囲内が好ましく、中でも１．４０〜１．７０の範囲内が好ましい。本明細書における屈折率は、株式会社島津製作所製 精密分光計ＧＭＲ−１ＤＡ型により測定された値とする。 The refractive index of the low-reflection resin layer is preferably such that the difference in refractive index from the transparent support layer described later is within a desired range, and depends on the type of transparent resin to be selected. The range of 2.40 is preferable, and the range of 1.40 to 1.70 is particularly preferable. The refractive index in the present specification is a value measured by a precision spectrometer GMR-1DA type manufactured by Shimadzu Corporation.
（ｂ）透明支持層
透明支持層は、一方の面上に上述の低反射樹脂層を有し、上記一方の面と対向する面が、透明基材と接触または近接する。
(B) Transparent support layer The transparent support layer has the above-described low-reflection resin layer on one surface, and the surface facing the one surface is in contact with or close to the transparent substrate.
上記透明支持層に用いられる材料は、所望の光透過性を示し、所望の屈折率を有する透明支持層を得ることができるものであれば、特に限定されるものではなく、例えば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の樹脂を用いることができる。
具体的には、トリアセチルセルロース等のセルロース系樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホン、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー、ポリアミド、ポリイミド、ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエーテルエーテルケトン等を挙げることができる。
また、透明支持層の材料として、ガラス、セラミックス等の無機材料を用いてもよい。
The material used for the transparent support layer is not particularly limited as long as it exhibits a desired light transmittance and can obtain a transparent support layer having a desired refractive index. For example, a thermoplastic resin Resins such as thermosetting resins and ionizing radiation curable resins can be used.
Specifically, cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins such as polycarbonate, polyethylene terephthalate, and polyethylene naphthalate, polyolefin resins such as polyethylene and polymethylpentene, acrylic resins, polyurethane resins, and polyethersal Hong, polysulfone, polyether, polyetherketone, acrylonitrile, methacrylonitrile, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, polyamide, polyimide, polystyrene, acrylonitrile-styrene copolymer, polyvinyl acetate, ethylene-vinyl acetate copolymer , Vinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyether ether ketone and the like.
Moreover, you may use inorganic materials, such as glass and ceramics, as a material of a transparent support layer.
上記透明支持層は、必要に応じて、充填剤、艶消し剤、発泡剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、ラジカル捕捉剤、軟質成分（例えばゴム）等の各種の添加剤が含まれていてもよい。 The transparent support layer may be filled with a filler, matting agent, foaming agent, flame retardant, lubricant, antistatic agent, antioxidant, ultraviolet absorber, light stabilizer, radical scavenger, soft component (if necessary). For example, various additives such as rubber) may be contained.
上記透明支持層は、板状、シート状、フィルム状等の各種態様のものを用いることができる。 The said transparent support layer can use the thing of various aspects, such as plate shape, a sheet form, and a film form.
上記透明支持層の厚みは、低反射樹脂層を支持することができ、所望の光透過性を示すことが可能な厚みであれば特に限定されないが、例えば０．０２５ｍｍ〜２０ｍｍの範囲内が好ましい。 The thickness of the transparent support layer is not particularly limited as long as it can support the low-reflection resin layer and can exhibit a desired light transmittance. For example, the thickness is preferably in the range of 0.025 mm to 20 mm. .
上記透明支持層は、印刷層における印刷画像の視認を可能とするために、可視光に対する透過性を備える。具体的には、透明支持層の可視光の全波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに対する光透過率が８０％以上、中でも８５％以上、特に９０％以上であることが好ましい。 The transparent support layer has transparency to visible light in order to make it possible to visually recognize a printed image in the print layer. Specifically, it is preferable that the light transmittance of the transparent support layer with respect to the entire visible light wavelength region of 380 nm to 780 nm is 80% or more, particularly 85% or more, particularly 90% or more.
上記透明支持層の屈折率は、低反射樹脂層の屈折率と同程度であることが好ましい。透明支持層と低反射樹脂層との屈折率差が大きいと、積層界面において、屈折率の不連続界面が形成されることになり、上記不連続界面において光が反射されることで、溝部による反射率低減効果が損なわれて、印刷画像の視認性が低下するからである。
低反射樹脂層と透明支持層との屈折率差（絶対値）は、０〜０．５の範囲内、中でも０〜０．２の範囲内、特に０〜０．１の範囲内であることが好ましい。また、透明支持層の屈折率は、低反射樹脂層の屈折率との関係において決定されるが、１．２０〜２．４０の範囲内であることが好ましく、中でも１．４０〜１．７０の範囲内が好ましい。
The refractive index of the transparent support layer is preferably about the same as the refractive index of the low reflection resin layer. If the difference in refractive index between the transparent support layer and the low-reflection resin layer is large, a discontinuous interface of refractive index is formed at the laminated interface, and light is reflected at the discontinuous interface, resulting in a groove. This is because the reflectance reduction effect is impaired and the visibility of the printed image is reduced.
The refractive index difference (absolute value) between the low-reflection resin layer and the transparent support layer is in the range of 0 to 0.5, particularly in the range of 0 to 0.2, particularly in the range of 0 to 0.1. Is preferred. Moreover, although the refractive index of a transparent support layer is determined in relation to the refractive index of a low reflection resin layer, it is preferable to exist in the range of 1.20 to 2.40, and especially 1.40 to 1.70. Within the range of is preferable.
（ｃ）その他
本仕様の透明低反射層は、透明支持層上に低反射樹脂層を積層形成してもよく、透明支持層および低反射樹脂層の樹脂を共押し出しして形成してもよい。
(C) Others The transparent low reflection layer of this specification may be formed by laminating a low reflection resin layer on the transparent support layer, or by co-extrusion of the resin of the transparent support layer and the low reflection resin layer. .
また、本仕様の透明低反射層は、透明基材の印刷層が形成された面と対向する面上に接着層を介して形成されてもよく、透明基材上に熱ラミネート等により直に形成されてもよい。
上記接着層に用いられる接着剤としては、粘着剤（感圧接着剤）、２液硬化型接着剤、紫外線硬化型接着剤、熱硬化型接着剤、熱熔融型接着剤等の公知の接着剤が挙げられる。また、これら接着剤の材料としては、例えばアクリル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ゴム等の公知の樹脂が挙げられる。
In addition, the transparent low reflection layer of this specification may be formed through an adhesive layer on the surface of the transparent base material that faces the printed layer, and directly on the transparent base material by heat lamination or the like. It may be formed.
Examples of the adhesive used in the adhesive layer include known adhesives such as pressure-sensitive adhesives (pressure-sensitive adhesives), two-component curable adhesives, ultraviolet curable adhesives, thermosetting adhesives, and hot melt adhesives. Is mentioned. Examples of the material for these adhesives include known resins such as acrylic resins, urethane resins, polyester resins, epoxy resins, and rubbers.
上記接着層の厚みは、透明低反射層と印刷層とを所望の強度で貼合することができ、透明基材を介して対向位置にある印刷層における印刷画像の視認性等を阻害しない厚みであれば特に限定されず、例えば１μｍ〜１０００μｍの範囲内とすることが好ましい。 The thickness of the adhesive layer is such that the transparent low reflective layer and the print layer can be bonded with a desired strength, and the visibility of the printed image in the print layer at the opposite position via the transparent substrate is not hindered. If it is, it will not specifically limit, For example, it is preferable to set it in the range of 1 micrometer-1000 micrometers.
上記接着層は、印刷層における印刷画像の視認を可能とするために、可視光に対する透過性を備える。具体的には、透明基材の可視光の全波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに対する光透過率が８０％以上、中でも８５％以上、特に９０％以上であることが好ましい。 The adhesive layer has transparency to visible light in order to make it possible to visually recognize a printed image in the printed layer. Specifically, it is preferable that the light transmittance of the transparent substrate with respect to the entire visible light wavelength range of 380 nm to 780 nm is 80% or more, particularly 85% or more, particularly 90% or more.
また、上記接着層は、その屈折率が透明基材の屈折率および印刷層の屈折率と同程度であることが好ましい。すなわち、接着層の屈折率と、透明支持層の屈折率および透明基材の屈折率との屈折率差が小さいことが好ましい。その理由については、上述の「（ｂ）透明支持層」の項で説明した透明基材と低反射樹脂層との屈折率差を小さくする理由と同様である。
上記接着層と上記透明支持層との屈折率差（絶対値）、および上記接着層と透上記明基材との屈折率差（絶対値）は、それぞれ０〜０．５の範囲内、中でも０〜０．２の範囲内、特に０〜０．１の範囲内であることが好ましい。また、接着層の屈折率の値は、透明基材および印刷層の屈折率との関係において決定されるが、１．２０〜２．４０の範囲内、中でも１．４０〜１．７０の範囲内が好ましい。
Moreover, it is preferable that the said adhesive layer has the refractive index comparable as the refractive index of a transparent base material, and the refractive index of a printing layer. That is, it is preferable that the refractive index difference between the refractive index of the adhesive layer, the refractive index of the transparent support layer, and the refractive index of the transparent substrate is small. The reason for this is the same as the reason for reducing the difference in refractive index between the transparent substrate and the low-reflection resin layer described in the section “(b) Transparent support layer”.
The refractive index difference (absolute value) between the adhesive layer and the transparent support layer and the refractive index difference (absolute value) between the adhesive layer and the transparent base material are each in the range of 0 to 0.5, especially 0. It is preferable to be within the range of -0.2, particularly within the range of 0-0.1. The value of the refractive index of the adhesive layer is determined in relation to the refractive index of the transparent substrate and the printed layer, but is in the range of 1.20 to 2.40, particularly 1.40 to 1.70. The inside is preferable.
（２）透明低反射層の第２仕様
透明低反射層の第２仕様（以下、この項において、本仕様とする場合がある。）は、透明樹脂により形成された単層である。また、本仕様の透明低反射層は、透明基材の印刷層が形成された面と対向する面上に直に形成されており、表面に多数の溝部が所定のばらつきを有して形成されている。
(2) Second Specification of Transparent Low Reflective Layer The second specification of the transparent low reflective layer (hereinafter sometimes referred to as this specification) is a single layer formed of a transparent resin. In addition, the transparent low-reflection layer of this specification is formed directly on the surface opposite to the surface on which the printed layer of the transparent substrate is formed, and a large number of grooves are formed on the surface with a predetermined variation. ing.
本仕様の透明低反射層は、上述の第１仕様の透明低反射層とは異なり、単層であることから、透明低反射層内に積層界面が形成されない。したがって、透明低反射層内において積層界面での光の反射を防止することができる。 Since the transparent low-reflection layer of this specification is a single layer, unlike the transparent low-reflection layer of the first specification described above, a laminated interface is not formed in the transparent low-reflection layer. Therefore, it is possible to prevent light reflection at the laminated interface in the transparent low reflection layer.
本仕様の透明低反射層を構成する透明樹脂は、上述の「（１）透明低反射層の第１仕様 （ａ）低反射樹脂層」の項で説明した透明樹脂と同様とすることができる。
また、本仕様の透明低反射層は、必要に応じて、上述の「（１）透明低反射層の第１仕様 （ａ）低反射樹脂層」の項で説明した任意の材料を含んでいてもよい。
The transparent resin constituting the transparent low-reflection layer of this specification can be the same as the transparent resin described in the section “(1) First specification of transparent low-reflection layer (a) Low-reflection resin layer” above. .
Moreover, the transparent low reflection layer of this specification contains the arbitrary materials demonstrated in the above-mentioned "(1) 1st specification of a transparent low reflection layer (a) low reflection resin layer" as needed. Also good.
本仕様の透明低反射層の厚みは、上述の「（１）透明低反射層の第１仕様 （ａ）低反射樹脂層」の厚みと同等とすることができる。
また、本仕様の透明低反射層の光透過率および屈折率は、上述の「（１）透明低反射層の第１仕様 （ａ）低反射樹脂層」の項で説明した低反射樹脂層の光透過率および屈折率と同様とすることができる。
The thickness of the transparent low reflection layer of this specification can be made equal to the thickness of the above-mentioned “(1) First specification of transparent low reflection layer (a) low reflection resin layer”.
The light transmittance and refractive index of the transparent low-reflection layer of this specification are the same as those of the low-reflection resin layer described in the section of “(1) First specification of transparent low-reflection layer (a) Low-reflection resin layer” above. It can be the same as the light transmittance and the refractive index.
本仕様の透明低反射層の形成方法としては、例えば、透明基材の印刷層が形成された面と対向する面上に、透明低反射層を構成する透明樹脂を直接塗布し、賦形することで、表面に多数の溝部を形成する方法等が挙げられる。 As a method for forming the transparent low-reflection layer of this specification, for example, a transparent resin constituting the transparent low-reflection layer is directly applied and shaped on the surface of the transparent substrate facing the surface on which the printed layer is formed. Thus, a method of forming a large number of grooves on the surface can be mentioned.
２．印刷層
本態様における印刷層は、透明基材の透明低反射層が形成される面と対向する面上に形成される。
上記印刷層は、減法混色により単色、多色ないしフルカラーで表示される印刷画像が印刷された層であり、透明基材の表面にインキ等を用いて直に印刷形成される。
2. Print layer The print layer in this embodiment is formed on the surface of the transparent substrate that faces the surface on which the transparent low-reflection layer is formed.
The printing layer is a layer on which a printed image displayed in a single color, multiple colors or full color is printed by subtractive color mixing, and is printed directly on the surface of the transparent substrate using ink or the like.
上記印刷層の材料は、減色混合により色表示が可能な所望の印刷画像を印刷できる材料であれば特に限定されず、例えば、バインダ樹脂および着色剤を含む樹脂インキ等が挙げられる。 The material of the print layer is not particularly limited as long as it can print a desired print image that can be displayed in color by subtractive color mixing. Examples thereof include resin ink containing a binder resin and a colorant.
上記樹脂インキに含まれるバインダ樹脂は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂などの、一般に樹脂インキに使用される公知のバインダ樹脂の中から、要求される物性、印刷適性などに応じて適宜選択することができる。例えば、セルロース系樹脂、アクリル樹脂のほか、ウレタン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂等の単体またはこれらを含む混合物が挙げられる。これらの樹脂は、１種単独で用いても良く、２種以上を混合して用いてもよい。 The binder resin contained in the resin ink is a required physical property, printability, etc., among known binder resins generally used for resin inks, such as thermoplastic resins, thermosetting resins, and ionizing radiation curable resins. It can be selected as appropriate according to the conditions. For example, in addition to a cellulose-based resin and an acrylic resin, a simple substance such as urethane resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, polyester resin, alkyd resin, or a mixture containing these may be used. These resins may be used alone or in combination of two or more.
上記樹脂インキに含まれる着色剤は、一般に印刷物に使用される材料を用いることができ、例えば、無機顔料、有機顔料、染料、アルミニウム、真鍮などの鱗片状箔片からなる金属顔料、二酸化チタン被覆雲母、塩基性炭酸鉛等の鱗片状箔片からなる真珠光沢（パール）顔料等が挙げられる。
また、着色剤の種類に応じて、印刷層の遮光性を調整することが可能である。遮光性の高い印刷層とする場合に用いられる着色剤の具体例としては、後述する「４．任意の部材」の項で説明する遮光層に用いられる着色剤を挙げることができる。
As the colorant contained in the resin ink, materials generally used for printed materials can be used. For example, inorganic pigments, organic pigments, dyes, metal pigments made of scaly foil pieces such as aluminum and brass, and titanium dioxide coatings. Examples thereof include nacreous (pearl) pigments made of scale-like foil pieces such as mica and basic lead carbonate.
Moreover, it is possible to adjust the light-shielding property of a printing layer according to the kind of coloring agent. Specific examples of the colorant used in the case of a printed layer having a high light-shielding property include the colorant used in the light-shielding layer described in the section “4. Optional member” described later.
上記樹脂インキは、紫外線吸収剤、架橋剤、安定剤、可塑剤、硬化剤等の任意の材料を含んでいてもよい。 The resin ink may contain any material such as an ultraviolet absorber, a crosslinking agent, a stabilizer, a plasticizer, and a curing agent.
上記印刷層の厚みは、印刷層の印刷法により適宜選択されるものであるが、具体的には、０．０１μｍ〜２０００μｍの範囲内、中でも０．３μｍ〜８００μｍの範囲内、特に０．８μｍ〜４００μｍの範囲内であることが好ましい。印刷層の厚みが上記範囲よりも厚いと、印刷物が厚膜化するため、印刷物の加工性が低下する場合があり、一方、上記範囲よりも薄いと、印刷層を透明基材上に均質に形成することが困難となり、擦れやムラを生じやすくなる場合があるからである。 The thickness of the printing layer is appropriately selected according to the printing method of the printing layer, and specifically, it is in the range of 0.01 μm to 2000 μm, in particular in the range of 0.3 μm to 800 μm, particularly 0.8 μm. It is preferable to be within a range of ˜400 μm. If the thickness of the printed layer is thicker than the above range, the printed material becomes thicker and the workability of the printed material may be reduced. On the other hand, if the printed layer is thinner than the above range, the printed layer is uniformly formed on the transparent substrate. This is because it is difficult to form, and rubbing and unevenness are likely to occur.
上記印刷層における印刷画像としては、例えば、絵柄、写真、文字、数字、模様、稿図、標章等が挙げられる。 Examples of the print image in the print layer include a pattern, a photograph, characters, numbers, a pattern, a draft, a mark, and the like.
上記印刷層は光透過性を有していてもよく、遮光性を有していてもよいが、印刷物への光の吸収率を高める観点から、遮光性を有することが好ましい。印刷層が光透過性を有すると、溝部により散乱された光の一部が印刷層から出射されるため、印刷物内への光の吸収率が減少し、溝部による本発明の効果が低減する場合がある。また、印刷物の印刷層側表面から光が入射する場合に、光が印刷層を透過してしまい、視認される印刷画像にヘイズが生じる場合があるからである。
上記印刷層が遮光性を有するとは、具体的には、上記印刷層の可視光の全波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに対する光透過率が３％以下（光学濃度ＯＤにて１．５以上）であることをいう。
The printed layer may have light transmittance or may have light shielding properties, but preferably has light shielding properties from the viewpoint of increasing the light absorption rate to the printed matter. When the print layer has light transparency, a part of the light scattered by the groove is emitted from the print layer, so that the light absorption rate into the printed matter is reduced and the effect of the present invention by the groove is reduced. There is. In addition, when light is incident from the print layer side surface of the printed matter, the light may pass through the print layer and haze may occur in the visually recognized print image.
Specifically, the print layer has a light-shielding property is that the light transmittance of the print layer with respect to the entire wavelength region 380 nm to 780 nm of visible light is 3% or less (optical density OD is 1.5 or more). That means.
上記印刷層の遮光性が上記範囲に満たない場合であっても、後述するように、印刷層の透明基材に接する面と対向する面上に遮光層を設けることで、印刷層の遮光性を補うことができる。これにより、印刷画像を鮮明に表示することができ、また、ヘイズの発生を抑制することができる。 Even when the light shielding property of the printing layer is less than the above range, as described later, the light shielding property of the printing layer is provided by providing the light shielding layer on the surface of the printing layer that faces the transparent substrate. Can be supplemented. Thereby, a print image can be displayed clearly and generation | occurrence | production of a haze can be suppressed.
上記印刷層は、透明基材の一方の表面の全域に形成されていてもよく、一部の領域に形成されていてもよい。
上記印刷層は、一般的な印刷法を用いて形成することが可能であり、印刷層の形成に使用される材料の種類等に応じて適宜選択することができる。具体的には、グラビア印刷、シルクスクリーン印刷、オフセット印刷、グラビアオフセット印刷、インクジェットプリントなどの公知の印刷法を挙げることができる。
The printed layer may be formed over the entire area of one surface of the transparent substrate, or may be formed in a partial region.
The printing layer can be formed using a general printing method, and can be appropriately selected according to the type of material used for forming the printing layer. Specific examples include known printing methods such as gravure printing, silk screen printing, offset printing, gravure offset printing, and ink jet printing.
３．透明基材
本態様における透明基材としては、所望の光透過性を有し、自己支持性を有するものであれば特に限定されるものではなく、反射防止物品に用いられる公知の透明基材を用いることができる。このような透明基材に用いられる材料としては、例えば、透明樹脂や透明無機材料が挙げられる。
透明樹脂としては、例えば熱可塑性樹脂が挙げられる。具体的にはトリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂；ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂；アクリル系樹脂；ポリウレタン系樹脂；ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、アクロニトリル、メタクリロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等を挙げることができる。
一方、透明無機材料としては、例えばソーダ硝子、カリ硝子、鉛ガラス等の硝子、ＰＬＺＴ等のセラミックス、石英、蛍石等が挙げられる。
3. Transparent substrate In the present embodiment, the transparent substrate is not particularly limited as long as it has desired light transmittance and has self-supporting properties, and a known transparent substrate used for an antireflection article is used. Can be used. Examples of the material used for such a transparent substrate include a transparent resin and a transparent inorganic material.
An example of the transparent resin is a thermoplastic resin. Specifically, acetyl cellulose resins such as triacetyl cellulose; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; olefin resins such as polypropylene, polyethylene and polymethylpentene; acrylic resins; polyurethane resins; Examples include phon, polycarbonate, polysulfone, polyether, polyetherketone, acrylonitrile, methacrylonitrile, cycloolefin polymer, and cycloolefin copolymer.
On the other hand, examples of the transparent inorganic material include glass such as soda glass, potassium glass, and lead glass, ceramics such as PLZT, quartz, and fluorite.
上記透明基材は、フレキシブル性を有していてもよく、リジットなものであってもよい。よって、形態としては、フィルム状、シート状、板状等が挙げられる。 The transparent substrate may have flexibility or may be rigid. Therefore, the form includes a film form, a sheet form, a plate form, and the like.
上記透明基材は、印刷層の印刷画像を鮮明に表示するために、可視光に対する透過性を備える。具体的には、透明基材の可視光の全波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに対する光透過率が８０％以上、中でも８５％以上、特に９０％以上であることが好ましい。 The transparent substrate has transparency to visible light in order to clearly display the printed image of the printing layer. Specifically, it is preferable that the light transmittance of the transparent substrate with respect to the entire visible light wavelength range of 380 nm to 780 nm is 80% or more, particularly 85% or more, particularly 90% or more.
上記透明基材の屈折率は、隣接する他の層との屈折率と同程度であることが好ましい。隣接する他の層と透明基材との屈折率差が大きいと、界面に屈折率の不連続界面が形成されることになり、上記不連続界面において光が反射されることで、溝部による反射率低減効果が損なわれて印刷画像の視認性が低下するからである。隣接する層と透明基材との屈折率差（絶対値）は、０〜０．５の範囲内、中でも０〜０．２の範囲内、特に０〜０．１の範囲内であることが好ましい。
ここでいう「透明基材と隣接する層」とは、透明基材に直に接する層である。透明基材上に直に透明低反射層が形成されている場合、透明低反射層が第１仕様であれば透明支持層をいい、第２仕様であれば透明低反射層自体をいう。また、透明基材と透明低反射層とが接着層を介して積層されている場合、「透明基材と隣接する層」とは、接着層のことを指す。
上記透明基材の屈折率は、上記透明基材と隣接する層の屈折率との関係において決定されるが、１．２０〜２．４０の範囲内であることが好ましく、中でも１．４０〜１．７０の範囲内が好ましい。
It is preferable that the refractive index of the said transparent base material is comparable as the refractive index with other adjacent layers. If the difference in refractive index between another adjacent layer and the transparent substrate is large, a discontinuous interface with a refractive index is formed at the interface, and light is reflected at the discontinuous interface, thereby reflecting by the groove. This is because the rate reduction effect is impaired and the visibility of the printed image is lowered. The refractive index difference (absolute value) between the adjacent layer and the transparent substrate is in the range of 0 to 0.5, in particular in the range of 0 to 0.2, in particular in the range of 0 to 0.1. preferable.
Here, the “layer adjacent to the transparent substrate” is a layer that is in direct contact with the transparent substrate. When the transparent low reflection layer is formed directly on the transparent substrate, the transparent low reflection layer is the first specification if the transparent low reflection layer is the first specification, and the transparent low reflection layer itself if the second specification is the second specification. Moreover, when the transparent base material and the transparent low reflection layer are laminated | stacked through the contact bonding layer, "the layer adjacent to a transparent base material" refers to the contact bonding layer.
Although the refractive index of the said transparent base material is determined in relation to the refractive index of the layer adjacent to the said transparent base material, it is preferable to exist in the range of 1.20-2.40, and especially 1.40-40. Within the range of 1.70 is preferred.
透明基材の厚みは、表面に印刷層を形成することができ、印刷物として所望の機械強度を有することが可能な大きさであればよく、形態に応じて適宜設計することができるが、例えば１０μｍ以上５０μｍ、中でも１０μｍ以上２５μｍの範囲内が好ましい。透明基材の厚みが上記範囲よりも小さいと、表面に直接、各種印刷法により印刷層を形成することが困難となる場合がある。一方、上記範囲よりも大きいと、印刷物の最表面に有する溝部の溝開口から印刷層までの距離が大きくなり、視認される印刷画像に距離感が生じることにより視認性が低下する場合がある。 The thickness of the transparent substrate may be a size that can form a printed layer on the surface and can have a desired mechanical strength as a printed matter, and can be appropriately designed according to the form. It is preferably in the range of 10 μm to 50 μm, especially 10 μm to 25 μm. If the thickness of the transparent substrate is smaller than the above range, it may be difficult to form a printing layer directly on the surface by various printing methods. On the other hand, if the range is larger than the above range, the distance from the groove opening of the groove portion on the outermost surface of the printed material to the printed layer is increased, and the visibility may be lowered due to a sense of distance in the visually recognized printed image.
透明基材の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有してもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。中でも層内に界面を有さない点から、透明基材は単層であることが好ましい。 The configuration of the transparent substrate is not limited to a configuration composed of a single layer, and may have a configuration in which a plurality of layers are laminated. When it has the structure by which the several layer was laminated | stacked, the layer of the same composition may be laminated | stacked, and the several layer which has a different composition may be laminated | stacked. Among these, the transparent substrate is preferably a single layer from the viewpoint that it does not have an interface in the layer.
透明基材の材料によっては、透明基材の表面に直に印刷画像を印刷して印刷層を形成する際に、透明基材が樹脂インキ等をはじいてしまい、印刷層の形成が困難となる場合がある。そのため、透明基材は、印刷層との密着性を向上させるために表面処理が施されていてもよい。上記表面処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、オゾン処理、紫外線処理、放射線処理、粗面化処理、化学薬品処理、プラズマ処理、およびグラフト化処理等の、公知の表面改質技術を適用することができる。
表面処理は、透明基材の表面のうち、少なくとも印刷層が形成される面に施されることが好ましく、さらに、透明低反射層が形成される面にも施されることが好ましい。透明基材と透明低反射層との密着性を向上させることが可能となるからである。
Depending on the material of the transparent base material, when the printed image is printed directly on the surface of the transparent base material to form a print layer, the transparent base material repels resin ink and the like, making it difficult to form the print layer. There is a case. Therefore, the transparent substrate may be subjected to a surface treatment in order to improve adhesion with the printed layer. As the surface treatment, known surface modification techniques such as corona discharge treatment, flame treatment, ozone treatment, ultraviolet treatment, radiation treatment, roughening treatment, chemical treatment, plasma treatment, and grafting treatment are applied. be able to.
The surface treatment is preferably performed on at least the surface on which the printed layer is formed, and more preferably on the surface on which the transparent low reflective layer is formed. It is because it becomes possible to improve the adhesiveness of a transparent base material and a transparent low reflection layer.
４．任意の部材
以下、本態様の印刷物に想定される任意の部材について説明する。
4). Arbitrary members Hereinafter, arbitrary members assumed for the printed matter of this aspect will be described.
（１）機能層
本態様の印刷物は、図６で例示するように、少なくとも印刷層３の透明基材２と接する面と対向する面（印刷層表面とする場合がある。）上に、機能層１４を有していてもよい。なお、図６は、機能層１４として遮光層を用いた例を示す。
少なくとも印刷層表面に機能層を設けることで、機能層の種類に応じた機能を付加することや、機能層による光制御により印刷画像の色再現性や視認性を向上させることができるからである。また、印刷層表面に機能層を設けることにより、印刷層を保護することができるからである。
(1) Functional layer As illustrated in FIG. 6, the printed matter of this embodiment has a function on at least a surface (which may be a surface of the printed layer) facing the surface of the printed layer 3 that is in contact with the transparent substrate 2. The layer 14 may be included. FIG. 6 shows an example in which a light shielding layer is used as the functional layer 14.
This is because by providing a functional layer on at least the surface of the printing layer, it is possible to add a function according to the type of the functional layer and to improve the color reproducibility and visibility of the printed image by light control by the functional layer. . Moreover, it is because a printing layer can be protected by providing a functional layer in the printing layer surface.
印刷層表面に設ける機能層は、要求される機能等に応じて適宜選択することができ、例えば遮光層、導電層、帯電防止層、保護層、印刷用粘着層や印刷用接着層等が挙げられる。 The functional layer provided on the surface of the printing layer can be appropriately selected according to the required function, such as a light shielding layer, a conductive layer, an antistatic layer, a protective layer, a printing adhesive layer, a printing adhesive layer, and the like. It is done.
（ａ）遮光層
本態様の印刷物は、機能層として遮光層を有することが好ましい。少なくとも印刷層表面に遮光層を設けることで、印刷物の印刷層側表面から光が透過することにより、溝部を介して表示される印刷画像においてヘイズが目立つことによる視認性の低下、および鮮明な色表示が阻害されることによる色再現性の低下を防止することができるからである。
(A) Light-shielding layer The printed material of this embodiment preferably has a light-shielding layer as a functional layer. By providing a light-shielding layer at least on the surface of the print layer, light is transmitted from the print layer side surface of the printed matter, resulting in a decrease in visibility due to conspicuous haze in the printed image displayed through the groove, and a clear color This is because it is possible to prevent a decrease in color reproducibility due to the inhibition of display.
上記遮光層は、印刷物の印刷層側表面から入射する光を遮ることが可能なものであればよく、例えば、遮光性樹脂層、金属膜等の、一般に表示装置等の遮光層として用いられるものを用いることができる。 The light-shielding layer is not particularly limited as long as it can block light incident from the printed layer side surface of the printed material. For example, a light-shielding resin layer, a metal film, or the like that is generally used as a light-shielding layer for a display device or the like. Can be used.
（ｉ）遮光性樹脂層
遮光性樹脂層は、通常、着色剤およびバインダ樹脂を含む。
また、遮光性樹脂層の色としては、紫外線および可視光線を十分遮光する効果を奏する色を呈するものであれば特に限定されず、例えば、黒色、銀色ないし白色、青色、紫色、紺色等の暗色等が挙げられる。
(I) Light-shielding resin layer The light-shielding resin layer usually contains a colorant and a binder resin.
Further, the color of the light-shielding resin layer is not particularly limited as long as it exhibits a color that has an effect of sufficiently shielding ultraviolet rays and visible light. For example, dark colors such as black, silver or white, blue, purple, and amber Etc.
上記遮光性樹脂層に含まれる着色剤は、一般的な遮光層に用いられる有機系または無機系の染料、顔料等が挙げられ、遮光性樹脂層の色に応じて適宜選択することができる。
例えば、黒色であれば、鉄黒、黒鉛、または、カ−ボンブラック等が挙げられる。
また、白色ないし銀色であれば、チタン白（酸化チタン）粉末やアルミニウム粉末、塩基性炭酸鉛、塩基性硫酸鉛、塩基性けい酸鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、リトポン、三酸化アンチモン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム等が挙げられる。
暗色であれば、有彩色の着色剤、例えば、アゾ系染料・顔料、アントラキノン系染料・顔料、フタロシアニン系染料・顔料、キナクリドン系染料・顔料、ジオキサジン系染料・顔料、その他等の有機系染料・顔料、黄鉛、クロムバ−ミリオン、紺青、弁柄、その他等の無機系顔料等が挙げられる。
Examples of the colorant contained in the light-shielding resin layer include organic or inorganic dyes and pigments used in general light-shielding layers, and can be appropriately selected according to the color of the light-shielding resin layer.
For example, if it is black, iron black, graphite, carbon black, etc. are mentioned.
If white or silver, titanium white (titanium oxide) powder or aluminum powder, basic lead carbonate, basic lead sulfate, basic lead silicate, zinc white, zinc sulfide, lithopone, antimony trioxide, calcium carbonate Zinc oxide, barium sulfate and the like.
For dark colors, chromatic colorants such as azo dyes and pigments, anthraquinone dyes and pigments, phthalocyanine dyes and pigments, quinacridone dyes and pigments, dioxazine dyes and pigments, and other organic dyes Examples thereof include inorganic pigments such as pigments, yellow lead, chromium vermilion, bitumen, petals, and the like.
また、上記遮光性樹脂層に含まれるバインダ樹脂としては、一般に遮光層を形成する際に用いられるバインダ樹脂と同様の樹脂を使用することができ、遮光性樹脂層の形成方法に応じて適宜選択が可能である。
例えば、上記遮光性樹脂層を印刷法やインクジェット法を用いて形成する場合、上記バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
一方、上記遮光性樹脂層をフォトリソグラフィー法を用いて形成する場合、上記バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂等が挙げられる。
In addition, as the binder resin contained in the light-shielding resin layer, a resin similar to the binder resin generally used when forming the light-shielding layer can be used, and is appropriately selected according to the method of forming the light-shielding resin layer. Is possible.
For example, when the light-shielding resin layer is formed using a printing method or an inkjet method, examples of the binder resin include polymethyl methacrylate resin, polyacrylate resin, polycarbonate resin, polyvinyl alcohol resin, polyvinyl pyrrolidone resin, and hydroxyethyl cellulose. Examples thereof include resins, carboxymethyl cellulose resins, polyvinyl chloride resins, melamine resins, phenol resins, alkyd resins, epoxy resins, polyurethane resins, polyester resins, maleic acid resins, polyamide resins and the like.
On the other hand, when the light-shielding resin layer is formed using a photolithography method, the binder resin includes, for example, reactive vinyl groups such as acrylate-based, methacrylate-based, polyvinyl cinnamate, or cyclized rubber. And a photosensitive resin.
上記遮光性樹脂層は、必要に応じて光重合開始剤、増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等の任意の添加剤を含んでいてもよい。 The light-shielding resin layer contains optional additives such as a photopolymerization initiator, a sensitizer, a coatability improver, a development improver, a crosslinking agent, a polymerization inhibitor, a plasticizer, and a flame retardant as necessary. May be.
（ｉｉ）金属膜
金属膜としては、例えばクロムの単層や、酸化クロム（ＣｒＯｘ）およびクロムの多層膜、酸化クロム（ＣｒＯｘ）、窒化クロム（ＣｒＮｙ）およびクロムの多層膜、クロムおよび酸化窒化クロム（ＣｒＮｙＯｘ）の多層膜等を用いることができる。ここで、ｘ、ｙは任意の数である。金属膜に用いられる金属としては、例えば、特開２０１４−１４２６１０号公報に開示される金属膜の材料を挙げることができる。
(Ii) Metal film Examples of the metal film include a single layer of chromium, a multilayer film of chromium oxide (CrO x ) and chromium, a multilayer film of chromium oxide (CrO x ), chromium nitride (CrN y ) and chromium, chromium and A multilayer film of chromium oxynitride (CrN y O x ) or the like can be used. Here, x and y are arbitrary numbers. As a metal used for a metal film, the material of the metal film disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2014-142610 can be mentioned, for example.
（ｉｉｉ）その他
遮光層は、単層であってもよく、複数の層を積層させて成る多層体であってもよい。多層体とすることで、遮光性を更に向上させることができるからである。
(Iii) Others The light shielding layer may be a single layer or a multilayer body formed by laminating a plurality of layers. This is because the light shielding property can be further improved by using a multilayer body.
遮光層は、可視光の全波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍに対する光透過率が３％以下（光学濃度ＯＤにて１．５以上）であることが好ましい。 The light shielding layer preferably has a light transmittance of 3% or less (optical density OD of 1.5 or more) with respect to the entire wavelength region of 380 nm to 780 nm of visible light.
遮光層の厚みは、所望の遮光性を得ることができる厚みであれば特に限定されるものではなく、遮光層の種類等に応じて適宜調整される。 The thickness of the light shielding layer is not particularly limited as long as a desired light shielding property can be obtained, and is appropriately adjusted according to the type of the light shielding layer.
遮光層は、少なくとも印刷層の透明基材と接する面と対向する面上に有していればよい。
上記印刷層が上記透明基材と接する面と対向する面上の全域に形成されている場合、図６（ａ）で示すように、印刷層３の透明基材２と接する面と対向する面全域に遮光層１４を有することができる。
また、上記印刷層が上記透明基材と接する面と対向する面上の一部の領域に形成されている場合は、図６（ｂ）で示すように印刷層３の透明基材２と接する面と対向する面上にのみ遮光層１４を有していてもよい。この場合、印刷物の印刷層が形成されていない領域では、透明低反射層が溝部により奏されるヘイズ機能により高ヘイズ値を示すため、白色を呈することから、印刷物の印刷層以外の領域の色（下地色）を白色とすることができる。さらに、図６（ｃ）で示すように、印刷層３表面を含む印刷物１０の印刷層３側の表面全域に遮光性１４を有する、すなわち、遮光層１４が、印刷層３を覆うようにして、透明基材２の印刷層３が形成された側の面上の全域に形成されていてもよい。この場合、上記印刷物の印刷層が形成されていない領域を、遮光層の色とすることができる。
What is necessary is just to have a light shielding layer on the surface facing the surface which contact | connects the transparent base material of a printed layer at least.
When the printing layer is formed in the entire region on the surface facing the surface in contact with the transparent substrate, the surface facing the surface in contact with the transparent substrate 2 of the printing layer 3 as shown in FIG. The light shielding layer 14 can be provided in the whole area.
Moreover, when the said printing layer is formed in the one part area | region on the surface facing the surface which contacts the said transparent base material, as shown in FIG.6 (b), it contacts the transparent base material 2 of the printing layer 3. As shown in FIG. You may have the light shielding layer 14 only on the surface facing a surface. In this case, in the area where the printed layer of the printed material is not formed, the transparent low reflective layer exhibits a high haze value due to the haze function exhibited by the groove portion, and thus exhibits a white color. Therefore, the color of the region other than the printed layer of the printed material The (background color) can be white. Further, as shown in FIG. 6C, the entire surface on the printed layer 3 side of the printed matter 10 including the surface of the printed layer 3 has a light shielding property 14, that is, the light shielding layer 14 covers the printed layer 3. The transparent substrate 2 may be formed over the entire surface on the side where the printing layer 3 is formed. In this case, the area | region where the printed layer of the said printed matter is not formed can be made into the color of a light shielding layer.
また、上記印刷層が光透過性を有する場合、印刷層の色と遮光層の色とが重なることで、印刷層の印刷画像を多彩に表示することができ、さらには、印刷層の色と遮光層の色との重複により、印刷画像をグラデーションに表示することができ、印刷画像の意匠性をさらに向上させることができる。 In addition, when the print layer is light transmissive, the color of the print layer and the color of the light shielding layer overlap so that the print image of the print layer can be displayed in various ways. By overlapping with the color of the light shielding layer, the printed image can be displayed in gradation, and the design of the printed image can be further improved.
上記遮光層の形成方法は、遮光層の種類等に応じて適宜選択される。上記遮光層が遮光性樹脂層であれば、上記遮光層の形成方法としては、印刷法、インクジェット法、フォトリソグラフィー法等が挙げられる。一方、上記遮光層が金属膜であれば、上記遮光層の形成方法としては、スパッタリング法、蒸着法等が挙げられる。 The formation method of the said light shielding layer is suitably selected according to the kind etc. of light shielding layer. If the light shielding layer is a light shielding resin layer, examples of the method for forming the light shielding layer include a printing method, an ink jet method, a photolithography method, and the like. On the other hand, when the light shielding layer is a metal film, examples of the method for forming the light shielding layer include a sputtering method and a vapor deposition method.
（ｂ）導電層
本態様の印刷物は、機能層として導電層を有していてもよい。導電層による帯電防止性能により、印刷物が静電気を帯びるのを防ぐことができ、印刷物に発生した静電気による貼付時の不要な密着等のトラブルを防ぐことができるからである。
(B) Conductive layer The printed matter of this embodiment may have a conductive layer as a functional layer. This is because the antistatic performance of the conductive layer can prevent the printed material from being charged with static electricity, and can prevent troubles such as unnecessary adhesion at the time of application due to static electricity generated on the printed material.
上記導電層は、透明であってもよく不透明であってもよいが、遮光性の観点から不透明であることが好ましい。導電層の材料としては、特に限定されず、一般的な導電層と同様とすることができき、例えば、金属単体、合金、導電性酸化物、導電性高分子材料等が挙げられる。また、必要に応じてバインダ樹脂を含んでいてもよい。具体的な導電層の材料については、例えば特開２００４−０１７４５６号公報に記載の各種材料を用いることができる。 The conductive layer may be transparent or opaque, but is preferably opaque from the viewpoint of light shielding properties. The material of the conductive layer is not particularly limited and can be the same as that of a general conductive layer. Examples thereof include a simple metal, an alloy, a conductive oxide, and a conductive polymer material. Moreover, binder resin may be included as needed. As specific conductive layer materials, for example, various materials described in JP-A-2004-017456 can be used.
上記導電層は、印刷層の表面にパターン状に形成されていてもよく、印刷層表面の全面を覆うように形成されていてもよい。また、印刷層が透明基材の一方の表面の一部の領域に形成されている場合、透明基材の印刷層表面を含む表面全域に導電層が形成されていてもよい。 The conductive layer may be formed in a pattern on the surface of the printing layer, or may be formed so as to cover the entire surface of the printing layer. Moreover, when the printing layer is formed in the one part area | region of one surface of a transparent base material, the conductive layer may be formed in the whole surface surface including the printing layer surface of a transparent base material.
導電層表面の表面抵抗値は、帯電防止性能を発揮できる大きさであればよく、導電層の膜厚にもよるが、例えば０．０１Ω／□〜１０００Ω／□の範囲内が好ましい。なお、上記表面抵抗は、４端子測定法により、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ、ＭＣＰ−Ｔ６００（三菱化学製）を用いて測定される値である。 The surface resistance value on the surface of the conductive layer may be a size that can exhibit antistatic performance, and is preferably in the range of 0.01Ω / □ to 1000Ω / □, for example, depending on the film thickness of the conductive layer. In addition, the said surface resistance is a value measured using Loresta-GP and MCP-T600 (made by Mitsubishi Chemical) by a 4-terminal measuring method.
上記導電層は、材料に応じて真空蒸着や各種印刷法等、一般的な導電層の形成方法を用いて形成することができる。 The conductive layer can be formed using a general conductive layer forming method such as vacuum deposition or various printing methods depending on the material.
（ｃ）帯電防止層
本態様の印刷物は、上述の導電層と同様の効果を奏するという理由から、機能層として帯電防止層を有していてもよい。上記帯電防止層は、帯電防止剤を含む層であり、一般に反射防止用途の積層体に用いられるものを適用することができる。具体的には、特開２０１１−２０３７４５号公報等に記載の帯電防止層を用いることができる。なお、帯電防止層は、遮光性の観点から不透明であることが好ましい。
(C) Antistatic layer The printed matter of this embodiment may have an antistatic layer as a functional layer because it has the same effect as the conductive layer described above. The antistatic layer is a layer containing an antistatic agent, and those generally used for laminates for antireflection applications can be applied. Specifically, an antistatic layer described in JP2011-203745A can be used. The antistatic layer is preferably opaque from the viewpoint of light shielding properties.
（ｄ）その他の機能層
その他の機能層としては、被着体に貼り合せるための印刷用粘着層や印刷用接着層、印刷層の耐傷性の観点から保護層等が挙げられる。
(D) Other functional layers Examples of other functional layers include a pressure-sensitive adhesive layer for printing and an adhesive layer for printing, and a protective layer from the viewpoint of scratch resistance of the printed layer.
（２）その他の任意の部材
本態様の印刷物は、透明基材と透明低反射層および／または印刷層との間にプライマー層（密着安定層）を有していてもよい。透明基材と印刷層および／または透明低反射層との密着性を向上させることができるからである。プライマー層の材料としては、例えば、フッ素系コーティング剤、シランカップリング剤等が挙げられる。
(2) Other arbitrary members The printed matter of this embodiment may have a primer layer (adhesion stable layer) between the transparent substrate and the transparent low-reflection layer and / or the printing layer. This is because the adhesion between the transparent substrate and the printed layer and / or the transparent low reflection layer can be improved. Examples of the material for the primer layer include a fluorine-based coating agent and a silane coupling agent.
５．その他
本態様の印刷物において、多数の溝部は、印刷物の少なくとも印刷層と平面視上重なる位置に形成されていればよく、印刷層が形成されていない領域と平面視上重なる位置にも溝部が形成されていてもよい。
例えば、図４および５で示したように、本態様の印刷物１０は、透明基材２の一方の面の全域に印刷層３が形成され、透明基材２の印刷層３が形成された面と対向する面の全域に、表面に溝部１を有する透明低反射層４が形成されていてもよい。
5. Others In the printed material of this aspect, a large number of grooves may be formed at positions that overlap at least the printed layer of the printed material in plan view, and grooves are also formed at positions that overlap with the area where the printed layer is not formed. May be.
For example, as shown in FIGS. 4 and 5, the printed material 10 of this embodiment has the printed layer 3 formed on the entire area of one surface of the transparent substrate 2, and the surface on which the printed layer 3 of the transparent substrate 2 is formed. The transparent low reflection layer 4 having the groove 1 on the surface may be formed on the entire surface facing the surface.
また、印刷層が透明基材の一方の面の一部に形成されている場合、本態様の印刷物は、図７（ａ）で例示するように、透明基材２の印刷層３が形成された面と対向する面の、印刷層３と平面視上重なる位置に、溝部１を有する透明低反射層４が形成されていてもよく、図７（ｂ）で示すように、透明基材２の印刷層３が形成された面と対向する面の全域に、溝部１を有する透明低反射層４が形成されていてもよい。図７（ｂ）で示す印刷物は、高い視認性を有し且つ色彩が鮮明な印刷画像が表示される印刷領域（図７（ｂ）中のＸ領域）と、透明低反射層４のヘイズにより白色を帯びた非印刷領域（図７（ｂ）中のＹ領域）とを有することができる。また、印刷層表面を含む透明基材の表面全域に上述した遮光層が設けられている場合、非印刷領域は遮光層の色を呈することができる。 Moreover, when the printing layer is formed in a part of one surface of the transparent base material, the printed matter 3 of this aspect is formed with the printing layer 3 of the transparent base material 2 as illustrated in FIG. The transparent low reflective layer 4 having the groove 1 may be formed at a position on the surface facing the printed surface that overlaps the printed layer 3 in plan view, and as shown in FIG. The transparent low reflection layer 4 having the groove portion 1 may be formed on the entire surface facing the surface on which the printed layer 3 is formed. The printed matter shown in FIG. 7B is based on a print area (X area in FIG. 7B) on which a printed image having high visibility and a clear color is displayed, and the haze of the transparent low reflective layer 4. And a white non-printing area (Y area in FIG. 7B). Moreover, when the light shielding layer mentioned above is provided in the whole surface of the transparent base material containing the printing layer surface, a non-printing area | region can exhibit the color of a light shielding layer.
本態様の印刷物は、可視光領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける最大反射率が２．０％以下であることが好ましく、中でも１．５％以下であることが好ましい。その理由および測定方法については、上述の「１．透明低反射層」の項で説明した理由と同様であるため、ここでの説明は省略する。
本態様の印刷物において、溝部が印刷物の表面の一部に形成されている場合は、上記最大反射率とは、本態様の印刷物の、溝部が形成された領域での最大反射率とする。
The printed matter of this embodiment preferably has a maximum reflectance of 2.0% or less in the visible light region of 380 nm to 780 nm, and more preferably 1.5% or less. The reason and measurement method are the same as the reason described in the above-mentioned section “1. Transparent low reflection layer”, and thus the description thereof is omitted here.
In the printed matter of this aspect, when the groove is formed on a part of the surface of the printed matter, the maximum reflectance is the maximum reflectance in the region where the groove is formed of the printed matter of this aspect.
６．用途
本態様の印刷物は、例えば、広告、ポスター、雑誌、書籍、カタログ、化粧板、自動車内装材等に用いることができる。特に自動車内装材のダッシュボードは、本態様の印刷物を用いることでフロントガラスへの映りこみを抑制できるため、有効である。
6). Use The printed matter of this aspect can be used for advertisements, posters, magazines, books, catalogs, decorative boards, automobile interior materials, and the like. In particular, the dashboard of an automobile interior material is effective because it can suppress reflection on the windshield by using the printed matter of this aspect.
７．製造方法
本態様の印刷物の製造方法は、透明基材の一方の表面に印刷層を印刷形成し、透明基材の印刷層が形成された面と対向する面に透明低反射層を形成することができ、かつ、透明低反射層の表面に所定のばらつきを有する多数の溝部を形成することが可能な方法であれば、特に限定されず、透明低反射層の仕様に応じて適宜選択することができる。
7). Manufacturing method The manufacturing method of the printed matter of this aspect is to form a printing layer on one surface of a transparent substrate, and to form a transparent low-reflection layer on the surface facing the surface on which the printing layer of the transparent substrate is formed. The method is not particularly limited as long as it can form a large number of grooves having a predetermined variation on the surface of the transparent low-reflection layer, and is appropriately selected according to the specifications of the transparent low-reflection layer. Can do.
（１）製造方法の第１例
本態様の印刷物は、例えば、所定のばらつきを有する多数の凸型錐状構造体を備えた転写原版を用いて、表面に多数の凹型錐状構造体が形成された第１ソフトモールドを形成し、上記第１ソフトモールドを用いて、表面に多数の凸型錐状構造体を備えた第２ソフトモールドを形成する転写版準備工程、上記第２ソフトモールドの上記凸型錐状構造体が形成された表面に透明低反射層用組成物を塗布する塗布工程、塗布層上に透明基材を配置して上記塗布層を硬化した後、上記第２ソフトモールドを剥離して透明低反射層を形成する賦形工程、および、上記透明基材の上記透明低反射層が形成された面と対向する面上に印刷層を印刷形成する印刷工程を経ることにより形成することができる。
上述の各工程を経て形成される本態様の印刷物は、第２仕様の透明低反射層を有し、上記溝部の形状および配置位置のばらつきは、上記転写原版の凸型錐状構造体の反転形状および配置位置のばらつきと対応する。
(1) First Example of Manufacturing Method The printed material of this aspect has a large number of concave pyramid structures formed on the surface using, for example, a transfer original plate having a large number of convex cone structures having a predetermined variation. Forming a first soft mold, and using the first soft mold to form a second soft mold having a plurality of convex cone-shaped structures on its surface; An application step of applying the composition for transparent low reflection layer on the surface on which the convex cone-shaped structure is formed, a transparent base material is disposed on the application layer, the application layer is cured, and then the second soft mold By forming a transparent low-reflective layer by peeling the film, and a printing step of printing and forming a printed layer on the surface of the transparent substrate opposite to the surface on which the transparent low-reflective layer is formed Can be formed.
The printed matter of this aspect formed through the above-described steps has a transparent low reflective layer of the second specification, and the variation in the shape and arrangement position of the groove is the inversion of the convex cone-shaped structure of the transfer master. Corresponds to variations in shape and location.
（ａ）転写版準備工程
本工程は、所定のばらつきを有する多数の凸型錐状構造体を備えた転写原版を用いて、表面に多数の凹型錐状構造体が形成された第１ソフトモールドを形成し、記第１ソフトモールドを用いて、表面に多数の凸型錐状構造体を備えた第２ソフトモールドを形成する工程である。
(A) Transfer Plate Preparation Step This step is a first soft mold in which a plurality of concave cone-shaped structures are formed on the surface using a transfer original plate having a large number of convex cone-shaped structures having a predetermined variation. And forming a second soft mold having a large number of convex conical structures on the surface using the first soft mold.
まず、所定のばらつきを有する多数の凸型錐状構造体を備えた転写原版を準備する。上記凸型錐状構造体は、上述の「Ｉ．溝部」の項で説明した溝部の反転形状に相当し、上記凸型錐状構造体の反転形状は、３つのパラメータの定量化により規定された所定のばらつきを有する。 First, a transfer original plate having a large number of convex conical structures having a predetermined variation is prepared. The convex cone-shaped structure corresponds to the inverted shape of the groove described in the above section “I. Groove”, and the inverted shape of the convex cone-shaped structure is defined by quantification of three parameters. Have a predetermined variation.
上記転写原版の材質は、所定のばらつきを有する凸型錐状構造体の形成が可能なものであれば特に限定されず、例えば、金属、樹脂等が挙げられるが、中でも耐久性の観点から金属が好ましい。 The material of the transfer original plate is not particularly limited as long as it can form a convex cone-shaped structure having a predetermined variation, and examples thereof include metals and resins. Is preferred.
上記転写原版の製造方法は、形状および配置位置に所定のばらつきを有する凸型錐状構造体を表面に有することができる方法であれば特に限定されないが、例えばステンレス板の表面をブラスト加工し、ステンレス板の加工表面に対して、段階的に電流値を小さくしながら電解ニッケルめっき、電解クロムめっき、電解スズめっき等の電解めっき処理を施すことにより形成することができる。
このときブラストの表面粗さを調整することにより、凸型錐状構造体の大きさや配置間隔、頂部の方向性を調整することができる。また、段階的に電流値を小さくする割合を調整することにより、凸型錐状構造体の高さを調整できる。
The method for producing the transfer original plate is not particularly limited as long as it has a convex cone-shaped structure having a predetermined variation in shape and arrangement position on the surface, for example, blasting the surface of a stainless steel plate, It can be formed by subjecting the processed surface of the stainless steel plate to electrolytic plating treatment such as electrolytic nickel plating, electrolytic chromium plating, and electrolytic tin plating while gradually reducing the current value.
At this time, by adjusting the surface roughness of the blast, it is possible to adjust the size, the arrangement interval, and the top directionality of the convex cone-shaped structures. Further, the height of the convex cone-shaped structure can be adjusted by adjusting the ratio of decreasing the current value stepwise.
次に、得られた転写原反の上記凸型錐状構造体が形成された面上に、硬化性樹脂を含む第１ソフトモールド形成用組成物を塗布し、塗布層を硬化して第１ソフトモールドを転写形成する。このとき、上記第１ソフトモールドの一方の表面には、凸型錐状構造体の反転形状である凹型錐状構造体が多数形成される。 Next, a first soft mold-forming composition containing a curable resin is applied on the surface of the obtained transfer material on which the convex cone-shaped structure is formed, and the coating layer is cured to obtain the first A soft mold is transferred and formed. At this time, a large number of concave cone-shaped structures, which are inverted shapes of the convex cone-shaped structures, are formed on one surface of the first soft mold.
第１ソフトモールド形成用組成物に含まれる硬化性樹脂は、転写原版の凸型錐状構造体の形状を精度良く転写することが可能な樹脂であればよく、例えば、光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂等が用いられる。また、必要に応じて、上述の「２．透明低反射層」の項で説明した任意の材料を含んでいてもよい。 The curable resin contained in the first soft mold forming composition may be any resin that can accurately transfer the shape of the convex cone-shaped structure of the transfer original plate. For example, a photocurable resin, an electronic A linear curable resin, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or the like is used. Moreover, the arbitrary material demonstrated in the above-mentioned "2. Transparent low reflection layer" may be included as needed.
第１ソフトモールド形成用組成物の塗布方法は、特に限定されず、一般に樹脂製原版の形成の際に用いられる方法と同様とすることができる。 The application method of the first soft mold forming composition is not particularly limited, and can be generally the same as the method used in forming the resin original plate.
次に、得られた上記第１ソフトモールドの凹型錐状構造体が形成された面上に、硬化性樹脂を含む第２ソフトモールド形成用組成物を塗布し、塗布層を硬化して第２ソフトモールドを転写形成する。このとき、第２ソフトモールドの一方の表面には、第１ソフトモールドの凹型錐状構造体の反転形状である凸型錐状構造体が多数形成される。 Next, a second soft mold forming composition containing a curable resin is applied onto the surface of the obtained first soft mold on which the concave cone-shaped structure is formed, and the applied layer is cured to obtain a second. A soft mold is transferred and formed. At this time, on one surface of the second soft mold, a large number of convex cone-shaped structures that are the inverted shape of the concave cone-shaped structure of the first soft mold are formed.
第２ソフトモールドは、第１ソフトモールドの凹型錐状構造体の形状を精度良く転写することが可能な樹脂であればよく、第１ソフトモールドと同一のソフトモールド形成用組成物を用いて形成してもよく、組成の異なるソフトモールド形成用組成物を用いて形成してもよい。 The second soft mold may be a resin that can accurately transfer the shape of the concave cone-shaped structure of the first soft mold, and is formed using the same soft mold forming composition as the first soft mold. Alternatively, it may be formed by using soft mold forming compositions having different compositions.
後述する塗布工程にて用いる透明低反射層用組成物が、光硬化性または電子線硬化性樹脂を含む場合、第２ソフトモールドは光透過性を有することが好ましい。第２ソフトモールド側から光や電子線等の照射を行い、上記塗布層を硬化することができるからである。 When the composition for transparent low reflection layers used in the coating step described later includes a photocurable or electron beam curable resin, the second soft mold preferably has light transmittance. This is because the coating layer can be cured by irradiating light, electron beam or the like from the second soft mold side.
（ｂ）塗布工程
本工程は、上記第２ソフトモールドの上記凸型錐状構造体が形成された表面に透明低反射層用組成物を塗布する工程である。
透明低反射層用組成物は、上述の「１．透明低反射層 （２）透明低反射層の第２仕様」の項で説明した透明樹脂を含むものである。透明低反射層用組成物の塗布方法は、特に限定されず、従来公知の塗布方法を適用することができる。
(B) Applying step This step is a step of applying the transparent low reflective layer composition to the surface of the second soft mold on which the convex cone-shaped structure is formed.
The composition for a transparent low reflection layer contains the transparent resin described in the above-mentioned section “1. Transparent low reflection layer (2) Second specification of transparent low reflection layer”. The coating method of the composition for transparent low reflection layers is not specifically limited, A conventionally well-known coating method can be applied.
（ｃ）賦形工程
本工程は、塗布層上に透明基材を配置して上記塗布層を硬化した後、上記第２ソフトモールドを剥離して透明低反射層を形成する工程である。
本工程において、透明基材の一方の表面と塗布層とが接するようにして配置した状態で、上記塗布層を硬化することにより、透明基材の一方の面に、所定のばらつきを有する多数の溝部を備える透明低反射層を形成することができる。
(C) Shaping step This step is a step of forming a transparent low-reflection layer by separating the second soft mold after placing the transparent substrate on the coating layer and curing the coating layer.
In this step, by curing the coating layer in a state where the surface of the transparent substrate and the coating layer are in contact with each other, a large number of predetermined variations on one surface of the transparent substrate are obtained. A transparent low reflection layer provided with a groove part can be formed.
塗布層の硬化方法および硬化条件は、透明低反射層用組成物に含有される透明樹脂の種類に応じて適宜選択することができる。透明樹脂が電離放射線硬化性樹脂の場合、紫外線硬化法および電子線硬化法等を挙げることができ、透明樹脂が熱硬化性樹脂の場合、加熱硬化法および常温硬化法等を挙げることができる。また、透明樹脂に熱可塑性樹脂を用いる場合は、冷却ロールなどを接触させる冷却法等も挙げられる。 The curing method and curing conditions of the coating layer can be appropriately selected according to the type of transparent resin contained in the transparent low reflective layer composition. When the transparent resin is an ionizing radiation curable resin, examples thereof include an ultraviolet curing method and an electron beam curing method. When the transparent resin is a thermosetting resin, examples thereof include a heat curing method and a room temperature curing method. Moreover, when using a thermoplastic resin for transparent resin, the cooling method etc. which contact a cooling roll etc. are mentioned.
（ｄ）印刷工程
本工程は、上記透明基材の上記透明低反射層が形成された面と対向する面上に印刷層を印刷形成する工程である。印刷層は、透明基材の一方の面上に樹脂インキを用いて印刷画像を印刷し乾燥して形成される。印刷方法は、使用する樹脂インキの組成等に応じて適宜選択することができる。使用する樹脂インキおよび印刷法については、上述の「２．印刷層」の項で説明したため、ここでの説明は省略する。
(D) Printing process This process is a process of printing and forming a printing layer on the surface of the transparent substrate opposite to the surface on which the transparent low reflection layer is formed. The printed layer is formed by printing a printed image on one surface of the transparent substrate using a resin ink and drying it. The printing method can be appropriately selected according to the composition of the resin ink used. The resin ink to be used and the printing method have been described in the above-mentioned section “2. Printing layer”, and thus the description thereof is omitted here.
印刷工程を行うタイミングは特に限定されず、上述した工程順で印刷工程を行っても良く、先に印刷工程を行い、透明基材の一方の面上に印刷層を印刷形成した後、透明基材の印刷層を有する面上に透明低反射層を形成する賦形工程を行ってもよい。 The timing for performing the printing process is not particularly limited, and the printing process may be performed in the order described above. After the printing process is performed and the printing layer is printed on one surface of the transparent substrate, the transparent substrate is formed. You may perform the shaping process which forms a transparent low reflection layer on the surface which has the printing layer of material.
（２）製造方法の第２例
本態様の印刷物の製造方法の第２例としては、上述の「（１）製造方法の第１例」の項で説明した転写版準備工程と、上記第２ソフトモールドをロールに巻きつけて転写ロールを準備する転写ロール準備工程と、透明基材の一方の表面に透明低反射層用組成物を塗布し、上記転写ロールで塗布層を押圧すると同時に硬化して透明低反射層を成形する賦形工程と、上述の「（１）製造方法の第１例」の項で説明した印刷工程と、を有する方法が挙げられる。
上述の各工程を経て形成される本態様の印刷物は、第２仕様の透明低反射層を有することができる。
(2) Second Example of Manufacturing Method As a second example of the method of manufacturing a printed matter according to this aspect, the transfer plate preparation step described in the above-mentioned section “(1) First Example of Manufacturing Method” and the second method described above. A transfer roll preparation step in which a soft mold is wound around a roll to prepare a transfer roll, a transparent low reflective layer composition is applied to one surface of a transparent substrate, and the coating layer is pressed with the transfer roll and cured simultaneously. And a forming step for forming the transparent low reflection layer and a printing step described in the above-mentioned section “(1) First example of manufacturing method”.
The printed matter of this aspect formed through the above-described steps can have a transparent low reflective layer of the second specification.
賦形工程における硬化方法は、透明低反射層用組成物の組成に応じて適宜選択することができ、例えば、透明低反射層用組成物が紫外線硬化性樹脂を含む場合、押圧と同時に紫外線照射を行うことで、透明低反射層を形成することができる。後述する「（３）製造方法の第３例」においても同様である。 The curing method in the shaping step can be appropriately selected according to the composition of the transparent low reflective layer composition. For example, when the transparent low reflective layer composition contains an ultraviolet curable resin, ultraviolet irradiation is performed simultaneously with pressing. By carrying out, a transparent low reflection layer can be formed. The same applies to “(3) Third example of manufacturing method” described later.
また、印刷工程を行うタイミングは特に限定されず、上述した工程順で印刷工程を行っても良く、先に印刷工程により透明基材の一方の面上に印刷層を印刷形成した後、透明基材の印刷層を有する面上に透明低反射層を形成する賦形工程を行ってもよい。後述する「（３）製造方法の第３例」においても同様である。 The timing for performing the printing process is not particularly limited, and the printing process may be performed in the order described above. After the printing layer is first printed on one surface of the transparent substrate by the printing process, You may perform the shaping process which forms a transparent low reflection layer on the surface which has the printing layer of material. The same applies to “(3) Third example of manufacturing method” described later.
（３）製造方法の第３例
本態様の印刷物の製造方法の第３例としては、円筒形のシリンダーの表面をめっきして、所定のばらつきを有する多数の凸型錐状構造体が表面に形成されたロール原版を準備する転写版準備工程、透明基材の片面に透明低反射層用組成物を塗布し、上記ロール原版で押圧すると同時に上記塗布層を硬化して透明低反射層を成形する賦形工程、および、上述の「（１）製造方法の第１例」の項で説明した印刷工程、を有する方法が挙げられる。
上述の各工程を経て形成される本態様の印刷物は、第２仕様の透明低反射層を有することができる。
(3) Third Example of Manufacturing Method As a third example of the manufacturing method of the printed matter of this aspect, the surface of a cylindrical cylinder is plated, and a large number of convex cone-shaped structures having predetermined variations are formed on the surface. Transfer plate preparation step for preparing the formed roll original plate, coating the composition for transparent low reflection layer on one side of the transparent substrate, pressing the roll original plate and simultaneously curing the coating layer to form a transparent low reflection layer And a printing step described in the above-mentioned section “(1) First example of manufacturing method”.
The printed matter of this aspect formed through the above-described steps can have a transparent low reflective layer of the second specification.
（４）製造方法の第４例
本態様の印刷物の製造方法の第４例としては、透明低反射層を別途製造し、上記透明低反射層を透明基材とを貼合する方法が挙げられる。この方法により、第１仕様の透明低反射層を有する印刷物を製造することができる。
具体的には、上述の「（１）製造方法の第１例」の項で説明した転写版準備工程と、上記第２ソフトモールドの上記凸型錐状構造体が形成された面上に、低反射樹脂層用組成物を塗布する塗布工程と、塗布層上に透明支持層を配置した状態で上記塗布層を硬化して上記第２ソフトモールドを剥離して、透明支持層の一方の面側に、表面に多数の溝部を有する低反射樹脂層が形成された透明低反射層を形成する賦形工程と、上記透明低反射層を、透明基材の一方の表面に接着層を介して貼合する貼合工程と、上記透明基材の上記透明低反射層が貼合された面と対向する面上に印刷層を印刷形成する印刷工程と、を有する方法が挙げられる。貼合工程および印刷工程は、順不同で行うことができる。
低反射樹脂層用組成物は、上述の「１．透明低反射層 （１）透明低反射層の第１仕様」の項で説明した透明樹脂を含むものである。
(4) Fourth Example of Manufacturing Method As a fourth example of the method for manufacturing a printed matter of this aspect, a method of separately manufacturing a transparent low reflection layer and bonding the transparent low reflection layer to a transparent substrate can be mentioned. . By this method, it is possible to produce a printed matter having the first specification transparent low reflection layer.
Specifically, on the surface on which the convex cone-shaped structure of the second soft mold and the transfer plate preparation process described in the above-mentioned section “(1) First example of manufacturing method” are formed, Applying the composition for low reflection resin layer, and curing the coating layer in a state where the transparent support layer is disposed on the coating layer, peeling the second soft mold, and one surface of the transparent support layer On the side, a shaping step for forming a transparent low-reflection layer in which a low-reflection resin layer having a large number of grooves on the surface is formed, and the transparent low-reflection layer is provided on one surface of a transparent substrate via an adhesive layer The method which has the bonding process to bond, and the printing process which print-forms a printing layer on the surface facing the surface by which the said transparent low reflection layer of the said transparent base material was bonded is mentioned. The bonding process and the printing process can be performed in any order.
The composition for a low reflection resin layer includes the transparent resin described in the above-mentioned section “1. Transparent low reflection layer (1) First specification of transparent low reflection layer”.
Ｂ．第２態様
次に、本発明の印刷物の第２態様（以下、この項において、本態様とする場合がある。）について説明する。本態様の印刷物は、多数の上記溝部が、上記透明基材の上記印刷層が形成された面と対向する面に直接形成されている。
B. Second Aspect Next, a second aspect of the printed material of the present invention (hereinafter, this aspect may be referred to as this aspect) will be described. In the printed matter of this embodiment, a large number of the groove portions are directly formed on the surface of the transparent substrate that faces the surface on which the printed layer is formed.
本態様の印刷物について図を参照して説明する。図８は本態様の印刷物の一例を示す概略断面図である。図８に示すように、本態様の印刷物１０は、透明基材２と透明基材２の一方の面に直接形成された印刷層３とを有し、透明基材２の印刷層３が形成された面と対向する面には、形状および配置位置に所定のばらつきを有する多数の溝部１が直接形成されている。
本態様の印刷物において、多数の溝部が有する所定のばらつきは、３つのパラメータを定量化することで規定される。多数の溝部が所定のばらつきを有するための３つのパラメータおよびその所定値については、上述の「Ｉ．溝部」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
The printed matter of this aspect will be described with reference to the drawings. FIG. 8 is a schematic cross-sectional view showing an example of the printed matter of this aspect. As shown in FIG. 8, the printed material 10 of this embodiment includes a transparent base material 2 and a printed layer 3 directly formed on one surface of the transparent base material 2, and the printed layer 3 of the transparent base material 2 is formed. A large number of groove portions 1 having a predetermined variation in shape and arrangement position are directly formed on the surface facing the formed surface.
In the printed matter of this aspect, the predetermined variation of the multiple grooves is defined by quantifying three parameters. The three parameters and their predetermined values for the large number of groove portions to have a predetermined variation are the same as the contents described in the above section “I. Groove portion”, and thus the description thereof is omitted here.
本態様によれば、印刷物を構成する層の数を少なくすることができ、積層界面での光の反射を防止することができる。また、上記印刷物を薄厚とすることができることから、加工性の高い印刷物とすることができる。 According to this aspect, the number of layers constituting the printed matter can be reduced, and reflection of light at the lamination interface can be prevented. Moreover, since the said printed matter can be made thin, it can be set as the printed matter with high workability.
以下、本態様の印刷物について説明する。なお、本態様における印刷層、任意の部材、印刷物の物性、印刷物の構造による表示態様、および用途等の詳細については、上述の「Ａ．第１態様」の項で説明した詳細の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。 Hereinafter, the printed matter of this aspect will be described. The details of the printed layer, arbitrary members, physical properties of the printed matter, display manner according to the structure of the printed matter, use, and the like in this aspect are the same as the details described in the above section “A. First aspect”. Therefore, the description here is omitted.
１．透明基材
本態様における透明基材は、印刷層が形成された面と対向する面に直接、多数の溝部が所定のばらつきを有して形成されている。
1. Transparent base material The transparent base material in this embodiment has a large number of groove portions with a predetermined variation directly on the surface facing the surface on which the printing layer is formed.
本態様における透明基材は、多数の溝部が所定のばらつきを有して形成されていることから、上述の「Ａ．第１態様 １．透明低反射層」の項で説明した最大反射率およびヘイズ値を示すことができる。 Since the transparent base material in this embodiment has a large number of grooves formed with a predetermined variation, the maximum reflectance described in the above-mentioned section “A. First embodiment 1. Transparent low reflection layer” and A haze value can be indicated.
（１）透明基材の構造
本態様における透明基材は、印刷層が形成された面と対向する面に多数の溝部を有する。なお、透明基材の面に形成された溝部の詳細については、上述した「Ｉ．溝部」の項で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
(1) Structure of transparent base material The transparent base material in this embodiment has a number of grooves on the surface facing the surface on which the printed layer is formed. The details of the groove formed on the surface of the transparent base material are the same as those described in the above-mentioned section “I. Groove”, and thus the description thereof is omitted here.
本態様において、透明基材は、図９で例示するように、多数の溝部１を支持する基底部５を有することが好ましい。図９は、本態様における透明基材を説明する説明図であり、図８のＰ部分の拡大図である。 In this embodiment, the transparent substrate preferably has a base portion 5 that supports a large number of groove portions 1 as illustrated in FIG. 9. FIG. 9 is an explanatory view for explaining the transparent substrate in this embodiment, and is an enlarged view of a portion P in FIG.
上記基底部の厚みとしては、所定のばらつきを有する多数の溝部を支持することができ、透明基材により印刷物としての自己支持性を有することが可能であれば特に限定されないが、０．３μｍ〜１００ｍｍの範囲内、中でも６μｍ〜３０ｍｍの範囲内、特に９μｍ〜１５ｍｍの範囲内であることが好ましい。基底部の厚みが上記範囲に満たないと、透明基材の表面に所定のばらつきを有するように多数の溝部を形成することが困難である場合や、印刷物としての機械的強度に劣る場合があるからである。一方、基底部の厚みが上記範囲を超えると、印刷物全体の厚みが厚くなり、加工性が低下する場合や、透明基材において割れが生じやすくなるためである。 The thickness of the base portion is not particularly limited as long as it can support a large number of groove portions having a predetermined variation and can have a self-supporting property as a printed matter by a transparent substrate, but is not particularly limited. It is preferably within a range of 100 mm, particularly within a range of 6 μm to 30 mm, and particularly within a range of 9 μm to 15 mm. If the thickness of the base portion is less than the above range, it may be difficult to form a large number of grooves so as to have a predetermined variation on the surface of the transparent substrate, or the mechanical strength as a printed matter may be inferior. Because. On the other hand, when the thickness of the base portion exceeds the above range, the thickness of the entire printed matter increases, and the workability is deteriorated or cracks are likely to occur in the transparent substrate.
上記基底部の厚みは、透明基材の印刷層と接する面から溝部の溝底の先端までの長さ（図７中のｈ２で示す部分の長さ）の平均値をいい、例えば、接触式膜厚計（テスター産業株式会社製 フィルム用厚み測定器 Ｈ−１０２）を用いて透明基材の印刷層と接する面から溝部の溝口部を有する面までの高さ（ｈ１＋ｈ２）を計測した後、溝部の深さｈ１を差し引いて算出ことができる。 The thickness of the base portion refers to the average value of the length from the surface in contact with the printed layer of a transparent substrate to the tip of the groove bottom of the groove (the length of the portion indicated by h 2 in Fig. 7), for example, contact The height (h 1 + h 2 ) from the surface in contact with the printed layer of the transparent substrate to the surface having the groove opening portion using a film thickness gauge (Tester Sangyo Co., Ltd. film thickness measuring device H-102) after measurement, it is possible calculated by subtracting the depth h 1 of the groove.
（２）透明基材の材料
本態様における透明基材の材料は、上述の「Ａ．第１態様 ３．透明基材」の項で説明した透明基材の樹脂材料と同様とすることができる。また、上記透明基材は、必要に応じて上述の「Ａ．第１態様 ３．透明基材」の項で説明した任意の添加剤が含まれていてもよい。
(2) Material of transparent substrate The material of the transparent substrate in this embodiment can be the same as the resin material of the transparent substrate described in the above-mentioned section "A. First embodiment 3. Transparent substrate". . Moreover, the said transparent base material may contain the arbitrary additives demonstrated by the term of the above-mentioned "A. 1st aspect 3. Transparent base material" as needed.
２．その他の構成
本態様の印刷物は、透明基材の一方の面に、多数の溝部が所定のばらつきを有するようにして形成されており、上記一方の面と対向する面に印刷層を有するものであれば特に限定されるものではなく、必要に応じて任意の部材を有することができる。任意の部材については、上述の「Ａ．第１態様」の項で説明した任意の部材と同様とすることができる。
2. Other Configurations The printed matter of this embodiment is formed so that a large number of groove portions have a predetermined variation on one surface of the transparent substrate, and has a printed layer on the surface facing the one surface. There is no particular limitation as long as it is present, and an arbitrary member can be provided as necessary. The arbitrary member can be the same as the arbitrary member described in the above-mentioned section “A. First Mode”.
３．その他
本態様の印刷物は、多数の溝部は、印刷物の最表面において少なくとも印刷層と平面視上重なる位置に形成されていればよく、印刷層が形成されていない領域と平面視上重なる位置に溝部が形成されていてもよい。本態様の印刷物の各構造による表示態様については、上述の「Ａ．第１態様」で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
3. Others In the printed material of this aspect, a large number of grooves may be formed on the outermost surface of the printed material at a position that overlaps at least the printed layer in a plan view. May be formed. Since the display mode by each structure of the printed matter of this mode is the same as the content described in the above-mentioned “A. First mode”, the description is omitted here.
４．製造方法
本態様の印刷物の製造方法は、透明基材の一方の面に直接、多数の溝部を所定のばらつきを有するように賦形可能な方法であれば特に限定されない。
4). Manufacturing method The manufacturing method of the printed matter of this aspect will not be specifically limited if it is a method which can shape a large number of groove parts directly on one surface of a transparent base material so that it may have predetermined dispersion | variation.
（１）製造方法の第１例
本態様の印刷物の製造方法の他の例としては、例えば、所定のばらつきを有する多数の凸型錐状構造体を備えた転写原版を用いて、表面に多数の凹型錐状構造体が形成されたソフトモールドを形成し、上記ソフトモールドを用いて、表面に多数の凸型錐状構造体を備えた電鋳モールドを形成する転写版準備工程、上記電鋳モールドを加熱しながら上記凸型錐状構造体が形成された面を透明基材の表面に押圧し、上記透明基材の一方の表面に所定のばらつきを有する多数の溝部を賦形する賦形工程、および、上記透明基材の上記溝部が形成された面と対向する面に印刷層を形成する印刷工程を有する方法が挙げられる。
このようなホットエンボス方法による製造では、賦形工程および印刷工程は順不同で行うことができる。
凸型錐状構造体を備えた転写原版の製造方法、および印刷工程については、上述の「Ａ．第１態様 ７．製造方法」の項で説明した内容と同様とすることができる。
(1) First Example of Manufacturing Method As another example of the manufacturing method of the printed matter of this aspect, for example, a transfer master plate having a large number of convex cone-shaped structures having a predetermined variation is used. Forming a soft mold on which the concave cone-shaped structure is formed, and using the soft mold to form an electroformed mold having a number of convex cone-shaped structures on the surface, the transfer plate preparing step, the electroforming The shaping which presses the surface in which the said convex cone-shaped structure was formed to the surface of a transparent base material while heating a mold, and shapes many groove parts which have a predetermined dispersion | variation in one surface of the said transparent base material Examples of the method include a step and a printing step of forming a printing layer on a surface of the transparent substrate that faces the surface on which the groove is formed.
In manufacturing by such a hot embossing method, the shaping step and the printing step can be performed in any order.
About the manufacturing method of a transcription | transfer original plate provided with the convex cone-shaped structure, and the printing process, it can be made to be the same as the content demonstrated by the above-mentioned item of "A. 1st aspect 7. Manufacturing method."
（２）製造方法の第２例
本態様の印刷物の製造方法の他の例としては、例えば、上述の「（１）製造方法の第１例」の項で説明した転写版準備工程、加熱溶融された透明基材用組成物に上記電鋳モールドを押圧して、一方の表面に所定のばらつきを有する多数の溝部が形成された透明基材を成形する透明基材成形工程、および上述の「（１）製造方法の第１例」の項で説明した印刷工程を有する方法が挙げられる。このようなチルロールエンボス法による製造では、印刷工程は透明基材成形工程後に実施される。
(2) Second Example of Manufacturing Method As another example of the manufacturing method of the printed matter of this aspect, for example, the transfer plate preparation step described in the above section “(1) First example of manufacturing method”, heating and melting The transparent base material molding step of pressing the electroformed mold against the transparent base material composition thus formed to form a transparent base material on which a plurality of grooves having a predetermined variation are formed on one surface, and the above-mentioned “ (1) The method which has the printing process demonstrated in the term of the "first example of a manufacturing method" is mentioned. In the manufacture by such a chill roll embossing method, the printing process is performed after the transparent substrate forming process.
（３）製造方法の第３例
さらに、本態様の印刷物の製造方法の他の例としては、例えば、上述の「（１）製造方法の第１例」の項で説明した転写版準備工程、上記電鋳モールドをスタンパとして金型内部へ装着し、加熱溶融された透明基材用組成物を上記金型内に充填して保圧後、上記金型を剥離して、一方の表面に所定のばらつきを有する多数の溝部が形成された透明基材を成形する透明基材成形工程、および上述の「（１）製造方法の第１例」の項で説明した印刷工程を有する方法が挙げられる。このような射出成型法による製造では、印刷工程は透明基材成形工程後に実施される。
(3) Third Example of Manufacturing Method Furthermore, as another example of the manufacturing method of the printed matter of this aspect, for example, the transfer plate preparation step described in the above-mentioned section “(1) First Example of Manufacturing Method”, The electroformed mold is used as a stamper inside the mold, and the heated and melted composition for transparent substrate is filled in the mold, and after holding the pressure, the mold is peeled off and predetermined on one surface. And a transparent substrate forming step for forming a transparent substrate on which a large number of groove portions having variations are formed, and a method having the printing step described in the above-mentioned section “(1) First example of manufacturing method”. . In manufacturing by such an injection molding method, the printing process is performed after the transparent substrate molding process.
上記転写版準備工程において、電鋳モールドの形成に使用される金属としては、ニッケル等が挙げられる。また、電鋳モールドによる押圧条件や、射出成形の条件等については、所望の形状の透明基材を成形可能な条件であれば特に限定されない。
透明基材用組成物は、上述の「１．透明基材」の項で説明した樹脂材料を含むものである。
In the transfer plate preparation step, examples of the metal used for forming the electroformed mold include nickel. Further, the pressing condition by the electroforming mold, the injection molding condition, and the like are not particularly limited as long as the transparent substrate having a desired shape can be molded.
The composition for a transparent substrate contains the resin material described in the above-mentioned section “1. Transparent substrate”.
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。 The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.
１．単色印刷物の作成
以下の方法により、単色印刷物を得た。
1. Preparation of monochromatic printed matter Monochromatic printed matter was obtained by the following method.
［実施例１−１］
（転写原版の作製）
ステンレス板にブラスト加工し、三次元表面粗さ測定における算術平均面粗さ（以下、Ｓａと略する場合がある。）が０．３５μｍとなるように仕上げた。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ａを版面に有した転写原版Ａを得た。転写原版Ａの凸型錐状構造体Ａの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ａの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 1-1]
(Preparation of transfer master)
The stainless steel plate was blasted and finished so that the arithmetic average surface roughness (hereinafter sometimes abbreviated as Sa) in the three-dimensional surface roughness measurement was 0.35 μm. The surface was subjected to electrolytic chrome plating under the following conditions to obtain a transfer master A having a number of convex cone-shaped structures A on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex conical structure A of the transfer original plate A and the shape and variation of the groove portion A in the obtained printed matter were in agreement.
＜電解クロムめっきの条件＞
以下の組成を含有するめっき浴を用い、陽極としてグラファイト電極を用いて、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎（１ステップ毎。以下、同様とする。）に３．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
＜＜めっき浴の組成＞＞
・塩化クロム：２００ｇ／ｄｍ３（０．７５ｍｏｌ／ｄｍ３）
・塩化アンモニウム：３０ｇ／ｄｍ３（０．５６ｍｏｌ／ｄｍ３）
・シュウ酸：３ｇ／ｄｍ３（０．０２４ｍｏｌ／ｄｍ３）
・炭酸バリウム：５ｇ／ｄｍ３（０．０２５ｍｏｌ／ｄｍ３）
・ホウ酸：３０ｇ／ｄｍ３（０．４９ｍｏｌ／ｄｍ３）
・フッ化バリウム：１０ｇ／ｄｍ３（０．０５７ｍｏｌ／ｄｍ３）
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using a plating bath containing the following composition, using a graphite electrode as the anode, the current density from 80 A / dm 2 to 1 minute (every step; hereinafter the same), 3.0 A / dm 2 each. The black chromium plating film was formed by electrolytic plating on the stainless steel plate after reducing the size to 20 A / dm 2 .
<< Composition of plating bath >>
・ Chromium chloride: 200 g / dm 3 (0.75 mol / dm 3 )
Ammonium chloride: 30 g / dm 3 (0.56 mol / dm 3 )
・ Oxalic acid: 3 g / dm 3 (0.024 mol / dm 3 )
Barium carbonate: 5 g / dm 3 (0.025 mol / dm 3 )
Boric acid: 30 g / dm 3 (0.49 mol / dm 3 )
Barium fluoride: 10 g / dm 3 (0.057 mol / dm 3 )
（第１ソフトモールドの作製）
転写原版Ａの凸型錐状構造体Ａが形成された面上に、下記の組成から成る紫外線硬化型のソフトモールド形成用組成物を塗布し、厚み０．２ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（パンライトフィルム、帝人化成株式会社製)で挟んで、ＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ/ｃｍ２でＵＶ照射をした。転写原版Ａの凸型錐状構造体Ａを転写し、ソフトモールド形成用組成物を硬化させた後、転写原版Ａを剥離して片面に転写原版Ａの凸型錐状構造体Ａの反転形状である凹型錐状構造体Ａが多数賦形された第１ソフトモールドを得た。
(Production of the first soft mold)
On the surface of the transfer master A on which the convex conical structure A is formed, an ultraviolet curable soft mold forming composition having the following composition is applied, and a polycarbonate (PC) film having a thickness of 0.2 mm (pan The film was sandwiched between light films (manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) and irradiated with UV light at a wavelength of 365 nm and an irradiation energy of 170 mJ / cm 2 from the PC film surface side. After transferring the convex conical structure A of the transfer original plate A and curing the soft mold forming composition, the transfer original plate A is peeled off and the inverted shape of the convex conical structure A of the transfer original plate A on one side As a result, a first soft mold was obtained in which a large number of concave conical structures A were formed.
＜ソフトモールド形成用組成物＞
・ウレタンアクリレート … ３５質量％
・１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート … ３５質量％
・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １０質量％
・ビニルピロリドン … １５質量％
・１‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン … ２質量％
・ベンゾフェノン … ２質量％
・ポリエーテル変性シリコーンオイル … １質量％
<Composition for soft mold formation>
・ Urethane acrylate: 35% by mass
・ 1,6-Hexanediol diacrylate 35% by mass
・ Pentaerythritol triacrylate: 10% by mass
・ Vinylpyrrolidone: 15% by mass
・ 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone: 2% by mass
・ Benzophenone: 2% by mass
・ Polyether-modified silicone oil: 1% by mass
（第２ソフトモールドの作製）
第１ソフトモールドの凹型錐状構造体Ａが形成された面上に、第１ソフトモールドと同じソフトモールド形成用組成物を塗布し、厚み０．２ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）フィルム（パンライトフィルム、帝人化成株式会社製)で挟んで、ＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ/ｃｍ２でＵＶ照射をした。ソフトモールド形成用組成物を硬化させた後、第１ソフトモールドを剥離して、表面に凹型錐状構造体Ａの反転形状である凸型錐状構造体Ａ’が多数賦形された第２ソフトモールドを得た。
(Production of second soft mold)
The same soft mold forming composition as that of the first soft mold is applied on the surface of the first soft mold on which the concave conical structure A is formed, and a polycarbonate (PC) film (panlite film, Sandwiched between Teijin Chemicals Co., Ltd.) and irradiated with UV at a wavelength of 365 nm and an irradiation energy of 170 mJ / cm 2 from the PC film surface side. After the composition for forming a soft mold is cured, the first soft mold is peeled off, and a plurality of convex cone-shaped structures A ′, which are inverted shapes of the concave cone-shaped structures A, are formed on the surface. A soft mold was obtained.
（単色印刷物の作製）
厚み０．２ｍｍの透明基材（ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム、製品名：パンライトフィルム、帝人化成株式会社製)の片面上全域に、グラビア印刷により、全面がカラーコードＮｏ．５８２の黒色印刷層である絵柄を印刷画像として、印刷層を形成した。なお、印刷層の色は、ＤＩＣ社製カラーコードを指定した。後述する多色印刷物についても同様とする。
(Production of monochromatic printed matter)
The entire surface of one side of a transparent substrate (polycarbonate (PC) film, product name: Panlite film, manufactured by Teijin Chemicals Ltd.) having a thickness of 0.2 mm is gravure-printed, and the entire surface is color code No. A print layer was formed using the pattern 582 black print layer as a print image. In addition, the color of the printing layer designated a color code manufactured by DIC. The same applies to the multicolor printed matter described later.
得られた第２ソフトモールドの凸型錐状構造体Ａ’が形成された面上に、下記の組成から成る紫外線硬化型の透明低反射層用組成物を塗布し、塗布面上に透明基材の黒色印刷層が形成された面と対向する面を上記塗布面側にして配置した。
ソフトモールドのＰＣフィルム面側から波長３６５ｎｍ、照射エネルギー１７０ｍＪ／ｃｍ２でＵＶ照射をして、透明低反射層用組成物を硬化後、ソフトモールドを剥離することで、最表面に多数の溝部Ａを備える単色印刷物を得た。
An ultraviolet curable transparent low-reflective layer composition having the following composition is applied on the surface of the obtained second soft mold on which the convex cone-shaped structure A ′ is formed, and a transparent substrate is applied on the coated surface. The surface opposite to the surface on which the black print layer of the material was formed was arranged with the application surface side.
After irradiating UV from the PC film side of the soft mold with a wavelength of 365 nm and an irradiation energy of 170 mJ / cm 2 to cure the composition for transparent low reflection layer, the soft mold is peeled off, so that a large number of groove portions A are formed on the outermost surface. A monochromatic print comprising
＜透明低反射層用組成物＞
・ウレタンアクリレート … ３５質量％
・１，６‐ヘキサンジオールジアクリレート … ３５質量％
・ペンタエリスリトールトリアクリレート … １０質量％
・ビニルピロリドン … １５質量％
・１‐ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン … ２質量％
・ベンゾフェノン … ２質量％
・ポリエーテル変性シリコーンオイル … １質量％
<Composition for transparent low reflection layer>
・ Urethane acrylate: 35% by mass
・ 1,6-Hexanediol diacrylate 35% by mass
・ Pentaerythritol triacrylate: 10% by mass
・ Vinylpyrrolidone: 15% by mass
・ 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone: 2% by mass
・ Benzophenone: 2% by mass
・ Polyether-modified silicone oil: 1% by mass
［実施例２−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｂを版面に有した転写原版Ｂを得た。転写原版Ｂの凸型錐状構造体Ｂの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｂの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 2-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.3 μm. Electrolytic chromium plating was applied to the surface under the following conditions to obtain a transfer master plate B having a number of convex cone-shaped structures B on the plate surface. The inversion shape and variation of the convex cone-shaped structure B of the transfer original plate B coincided with the shape and variation of the groove B in the obtained printed matter.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 2.0 A / dm 2 every minute to finally 20 A / dm 2, and electrolytic plating was performed on the stainless steel plate. Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｂを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｂを備える単色印刷物を得た。 A monochromatic print having a large number of grooves B on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer master B was used instead of the transfer master A.
［実施例３−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．２５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｃを版面に有した転写原版Ｃを得た。転写原版Ｃの凸型錐状構造体Ｃの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｃの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 3-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.25 μm. Electrolytic chromium plating was applied to the surface under the following conditions to obtain a transfer master C having a number of convex cone-shaped structures C on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex cone-shaped structure C of the transfer master C coincided with the shape and variation of the groove C in the obtained printed matter.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．５Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 1.5 A / dm 2 every minute to finally 20 A / dm 2, and electrolytic plating was performed on the stainless steel plate. Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｃを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｃを備える単色印刷物を得た。 A monochrome printed material having a large number of groove portions C on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer original plate C was used instead of the transfer original plate A.
［実施例４−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｄを版面に有した転写原版Ｄを得た。転写原版Ｄの凸型錐状構造体Ｄの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｄの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 4-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.3 μm. The surface was subjected to electrolytic chrome plating under the following conditions to obtain a transfer master D having a large number of convex cone-shaped structures D on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex cone-shaped structure D of the transfer original plate D and the shape and variation of the groove D in the printed matter obtained were in agreement.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 1.0 A / dm 2 every minute to finally 20 A / dm 2, and electrolytic plating was performed on the stainless steel plate. Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｄを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｄを備える単色印刷物を得た。 A monochromatic print having a large number of grooves D on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1, except that the transfer master D was used instead of the transfer master A.
［実施例５−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｅを版面に有した転写原版Ｅを得た。転写原版Ｅの凸型錐状構造体Ｅの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｅの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 5-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.3 μm. Electrolytic chromium plating was applied to the surface under the following conditions to obtain a transfer master E having a large number of convex cone-shaped structures E on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex conical structure E of the transfer master E coincided with the shape and variation of the groove E in the obtained printed matter.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 2.0 A / dm 2 every minute to finally 20 A / dm 2, and electrolytic plating was performed on the stainless steel plate. Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｅを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｅを備える単色印刷物を得た。 A monochromatic printed material having a large number of grooves E on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer original plate E was used instead of the transfer original plate A.
［実施例６−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｆを版面に有した転写原版Ｆを得た。転写原版Ｆの凸型錐状構造体Ｆの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｆの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 6-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.3 μm. Electrolytic chromium plating was applied to the surface under the following conditions to obtain a transfer master F having a number of convex cone-shaped structures F on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex cone-shaped structure F of the transfer original plate F and the shape and variation of the groove F in the obtained printed matter were consistent.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に０．５Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 0.5 A / dm 2 every minute to finally 20 A / dm 2, and electrolytic plating was performed on the stainless steel plate. Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｆを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｆを備える単色印刷物を得た。 A monochrome printed material having a large number of groove portions F on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer original plate F was used instead of the transfer original plate A.
［実施例７−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．２５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｇを版面に有した転写原版Ｇを得た。転写原版Ｇの凸型錐状構造体Ｇの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｇの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Example 7-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.25 μm. The surface was subjected to electrolytic chrome plating under the following conditions to obtain a transfer master G having a number of convex cone-shaped structures G on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex conical structure G of the transfer master G coincided with the shape and variation of the groove G in the obtained printed matter.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に５．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 5.0A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 20A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｇを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｇを備える単色印刷物を得た。 A monochromatic print having a large number of grooves G on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer original plate G was used instead of the transfer original plate A.
［比較例１−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｈを版面に有した転写原版Ｈを得た。転写原版Ｈの凸型錐状構造体Ｈの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｈの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Comparative Example 1-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.3 μm. Electrolytic chromium plating was applied to the surface under the following conditions to obtain a transfer master H having a large number of convex pyramid structures H on the plate surface. The inversion shape and variation of the convex cone-shaped structure H of the transfer original plate H and the shape and variation of the groove H in the printed matter obtained were in agreement.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に０．４Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 0.4 A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 20A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｈを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｈを備える単色印刷物を得た。 A monochromatic print having a large number of grooves H on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer master H was used instead of the transfer master A.
［比較例２−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｉを版面に有した転写原版Ｉを得た。転写原版Ｉの凸型錐状構造体Ｉの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｉの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Comparative Example 2-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.3 μm. Electrolytic chromium plating was applied to the surface under the following conditions to obtain a transfer master I having a number of convex cone-like structures I on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex cone-shaped structure I of the transfer original plate I coincided with the shape and variation of the groove portion I in the obtained printed matter.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に６．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was decreased from 80 A / dm 2 by 6.0 A / dm 2 every minute to finally 20 A / dm 2, and electrolytic plating was performed on the stainless steel plate. Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｉを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｉを備える単色印刷物を得た。 A monochromatic printed material having a large number of groove portions I on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer original plate I was used instead of the transfer original plate A.
［比較例３−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．３μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｊを版面に有した転写原版Ｊを得た。転写原版Ｊの凸型錐状構造体Ｊの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｊの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Comparative Example 3-1]
A stainless steel plate was blasted to Sa = 0.3 μm. Electrolytic chromium plating was applied to the surface under the following conditions to obtain a transfer original plate J having a number of convex cone-shaped structures J on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex conical structure J of the transfer original plate J and the shape and variation of the groove J in the printed matter obtained were in agreement.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に２．０Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に１０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and anode as in Example 1, the current density was reduced from 80 A / dm 2 by 2.0 A / dm 2 every minute to finally 10 A / dm 2, and electrolytic plating was performed on the stainless steel plate. Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｊを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｊを備える単色印刷物を得た。 A monochromatic printed material having a large number of grooves J on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer original plate J was used instead of the transfer original plate A.
［比較例４−１］
ステンレス板にブラスト加工しＳａ＝０．５μｍとした。表面に下記の条件で電解クロムめっきを施し、多数の凸型錐状構造体Ｋを版面に有した転写原版Ｋを得た。転写原版Ｋの凸型錐状構造体Ｋの反転形状およびばらつきと、得られる印刷物における溝部Ｋの形状およびばらつきとは、一致するものであった。
[Comparative Example 4-1]
The stainless plate was blasted to Sa = 0.5 μm. Electrolytic chromium plating was performed on the surface under the following conditions to obtain a transfer master K having a number of convex cone-shaped structures K on the plate surface. The inverted shape and variation of the convex cone-shaped structure K of the transfer original plate K coincided with the shape and variation of the groove K in the obtained printed matter.
＜電解クロムめっきの条件＞
実施例１と同じめっき浴および陽極を用い、電流密度を８０Ａ／ｄｍ２から１分毎に１．８Ａ／ｄｍ２ずつ小さくして、最終的に２０Ａ／ｄｍ２とし、ステンレス板上に電解めっきにより黒色クロムめっき膜を形成した。
<Conditions for electrolytic chrome plating>
Using the same plating bath and the anode as in Example 1, was reduced by 1.8A / dm 2 per minute current density from 80A / dm 2, and finally the 20A / dm 2, electrolytic plating on stainless steel plate Thus, a black chrome plating film was formed.
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｋを用いたこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ｋを備える単色印刷物を得た。 A monochrome printed material having a large number of groove portions K on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-1 except that the transfer original plate K was used instead of the transfer original plate A.
２．多色印刷物の作成
以下の方法により多色印刷物を作成した。
2. Creation of multicolored printed material A multicolored printed material was created by the following method.
［実施例１−２］
透明基材の片面上全域にグラビア印刷法を用いて以下のような絵柄を有する印刷層を形成したこと以外は、実施例１−１と同様にして最表面に多数の溝部Ａを備える多色印刷物を得た。印刷層の印刷画像は、背景がカラーコードＮｏ．５８２の黒色印刷層から構成され、白抜き、カラーコードＮｏ．１２５の黄色印刷層、カラーコードＮｏ．５６４の赤色印刷層、カラーコードＮｏ．６４９の緑色印刷層、カラーコードＮｏ．５７８の青色印刷層を用いて大きさ２０ｐｔでアルファベットＡからＺまでが表示されている絵柄とした。
[Example 1-2]
A multicolor having a large number of groove portions A on the outermost surface in the same manner as in Example 1-1 except that a printing layer having the following pattern is formed on the entire surface of one side of the transparent substrate using a gravure printing method. A printed material was obtained. The print image of the print layer has a background color code No. 582 black print layer, white, color code No. 125 yellow print layer, color code no. 564 red printing layer, color code no. 649 green printing layer, color code no. 578 blue print layers were used to create a picture with a size of 20 pt and letters A to Z displayed.
［実施例２−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｂを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｂを備える多色印刷物を得た。
[Example 2-2]
A multicolor printed matter having a large number of groove portions B on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate B was used instead of the transfer original plate A.
［実施例３−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｃを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｃを備える多色印刷物を得た。
[Example 3-2]
A multicolor printed matter having a large number of groove portions C on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate C was used instead of the transfer original plate A.
［実施例４−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｄを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｄを備える多色印刷物を得た。
[Example 4-2]
A multicolor printed matter having a large number of groove portions D on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate D was used instead of the transfer original plate A.
［実施例５−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｅを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｅを備える多色印刷物を得た。
[Example 5-2]
A multicolor printed matter having a large number of grooves E on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate E was used instead of the transfer original plate A.
［実施例６−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｆを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｆを備える多色印刷物を得た。
[Example 6-2]
A multicolor printed matter having a large number of groove portions F on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate F was used instead of the transfer original plate A.
［実施例７−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｇを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｇを備える多色印刷物を得た。
[Example 7-2]
A multicolor printed material having a large number of grooves G on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate G was used instead of the transfer original plate A.
［比較例１−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｈを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｈを備える多色印刷物を得た。
[Comparative Example 1-2]
A multicolor printed matter having a large number of grooves H on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate H was used instead of the transfer original plate A.
［比較例２−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｉを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｉを備える多色印刷物を得た。
[Comparative Example 2-2]
A multicolor printed matter having a large number of groove portions I on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate I was used instead of the transfer original plate A.
［比較例３−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｊを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｊを備える多色印刷物を得た。
[Comparative Example 3-2]
A multicolor printed matter having a large number of grooves J on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate J was used instead of the transfer original plate A.
［比較例４−２］
転写原版Ａにかえて、転写原版Ｋを用いたこと以外は、実施例１−２と同様にして最表面に多数の溝部Ｋを備える多色印刷物を得た。
[Comparative Example 4-2]
A multicolor printed matter having a large number of groove portions K on the outermost surface was obtained in the same manner as in Example 1-2 except that the transfer original plate K was used instead of the transfer original plate A.
３．遮光層付き多色印刷物の作成
以下の方法により遮光層付き多色印刷物を作成した。
3. Preparation of multicolor printed matter with light shielding layer A multicolor printed matter with a light shielding layer was produced by the following method.
［実施例１−３］
実施例１−２で得られた多色印刷物の印刷層側表面に、アルミニウムを蒸着源に用いて、酸素ガスを供給しながらエレクトロンビーム（ＥＢ）加熱方法による真空蒸着法により、下記の蒸着条件で膜厚５０ｎｍ、波長５５０ｎｍでの光透過率が２％の酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
（蒸着条件）
・蒸着源：アルミニウム
・蒸着チャンバー内真空度：２×１０−４ｍｂａｒ
・電子ビーム電力：２５ｋｗ
・蒸着時間：１２０秒
[Example 1-3]
The following deposition conditions were obtained by vacuum deposition using an electron beam (EB) heating method while supplying oxygen gas to the printing layer side surface of the multicolor printed matter obtained in Example 1-2 while supplying oxygen. An aluminum oxide vapor-deposited film (light-shielding layer) having a film thickness of 50 nm and a light transmittance of 2% at a wavelength of 550 nm was formed to obtain a multicolor print with a light-shielding layer.
(Deposition conditions)
・ Vapor deposition source: Aluminum ・ Vacuum degree in vapor deposition chamber: 2 × 10 −4 mbar
・ Electron beam power: 25 kW
・ Deposition time: 120 seconds
［実施例２−３］
実施例２−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Example 2-3]
An aluminum oxide vapor deposition film (light-shielding layer) was formed on the surface of the print layer of the multicolor print obtained in Example 2-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor print with a light-shielding layer.
［実施例３−３］
実施例３−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Example 3-3]
An aluminum oxide vapor-deposited film (light shielding layer) was formed on the surface of the printing layer of the multicolor printed material obtained in Example 3-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor printed material with a light shielding layer.
［実施例４−３］
実施例４−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Example 4-3]
An aluminum oxide vapor-deposited film (light-shielding layer) was formed on the surface of the print layer of the multicolor print obtained in Example 4-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor print with a light-shielding layer.
［実施例５−３］
実施例５−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Example 5-3]
An aluminum oxide vapor deposition film (light shielding layer) was formed on the surface of the printing layer of the multicolor printed material obtained in Example 5-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor printed material with a light shielding layer.
［実施例６−３］
実施例６−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Example 6-3]
An aluminum oxide vapor-deposited film (light-shielding layer) was formed on the surface of the print layer of the multicolor print obtained in Example 6-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor print with a light-shielding layer.
［実施例７−３］
実施例７−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Example 7-3]
An aluminum oxide vapor-deposited film (light shielding layer) was formed on the surface of the printing layer of the multicolor printed material obtained in Example 7-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor printed material with a light shielding layer.
［比較例１−３］
比較例１−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Comparative Example 1-3]
An aluminum oxide vapor deposition film (light shielding layer) was formed on the surface of the printing layer of the multicolor printed material obtained in Comparative Example 1-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor printed material with a light shielding layer.
［比較例２−３］
比較例２−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Comparative Example 2-3]
An aluminum oxide vapor-deposited film (light-shielding layer) was formed on the surface of the print layer of the multicolor print obtained in Comparative Example 2-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor print with a light-shielding layer.
［比較例３−３］
比較例３−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Comparative Example 3-3]
An aluminum oxide vapor deposition film (light shielding layer) was formed on the surface of the printing layer of the multicolor printed material obtained in Comparative Example 3-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor printed material with a light shielding layer.
［比較例４−３］
比較例４−２で得られた多色印刷物の印刷層表面に、実施例１−３と同様の方法で酸化アルミニウム蒸着膜（遮光層）を形成し、遮光層付き多色印刷物を得た。
[Comparative Example 4-3]
An aluminum oxide vapor deposition film (light-shielding layer) was formed on the surface of the print layer of the multicolor print obtained in Comparative Example 4-2 by the same method as in Example 1-3 to obtain a multicolor print with a light-shielding layer.
［評価１］
実施例１〜７、比較例１〜４で得られた単色印刷物および多色印刷物について、以下の条件にてＳＥＭ観察を行った。印刷物表面に形成された多数の溝部の中から表１に示す点数を抽出し、平面視ＳＥＭ像から溝口部の面積、溝口部の最大内角、および隣接する溝部の最近接重心間距離について平均および分散を求めた。平面視ＳＥＭ像を用いた各パラメータの定量化は、上述の「Ｉ．溝部」の項で説明した方法により行った。
（条件）
・ＳＥＭ：電界放出形走査電子顕微鏡 S-4500(株式会社日立ハイテクノロジーズ社製)
・観察方法：Ｔｏｐ−Ｖｉｅｗ（溝口部を有する面側から）
・前処理：Ｐｔ−Ｐｄスパッタ
・観察倍率：×１０ｋ
・視野範囲：縦４μｍ×横４μｍ
[Evaluation 1]
SEM observation was performed on the following conditions about the monochromatic printed matter and the multicolored printed matter obtained in Examples 1-7 and Comparative Examples 1-4. The number of points shown in Table 1 is extracted from a number of grooves formed on the surface of the printed material, and the average and the distance between the nearest center of gravity of the adjacent groove portions are measured from the planar view SEM image. The variance was determined. Quantification of each parameter using the planar SEM image was performed by the method described in the above section “I. Groove”.
(conditions)
・ SEM: Field Emission Scanning Electron Microscope S-4500 (manufactured by Hitachi High-Technologies Corporation)
Observation method: Top-View (from the surface side having the groove opening)
-Pretreatment: Pt-Pd sputtering-Observation magnification: x10k
-Field of view range: 4μm vertical x 4μm horizontal
［評価２］
実施例１−１〜７−１、比較例１−１〜４−１で得られた単色印刷物について、以下の条件にて最大反射率を計測した。
（条件）
・計測装置：Scanning Spectorophotometer UV-3100PC(島津製作所製)
・計測方法：８°入射光（波長領域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）に対する全反射
[Evaluation 2]
The maximum reflectance of the monochromatic prints obtained in Examples 1-1 to 7-1 and Comparative Examples 1-1 to 4-1 was measured under the following conditions.
(conditions)
・ Measurement device: Scanning Spectorophotometer UV-3100PC (manufactured by Shimadzu Corporation)
Measurement method: Total reflection for 8 ° incident light (wavelength range: 380 nm to 780 nm)
［評価３］
実施例１−２〜７−２および比較例１−２〜４−２で得られた多色印刷物、ならびに実施例１−３〜７−３および比較例１−３〜４−３で得られた遮光層付き多色印刷物について、色彩を目視で確認し、印刷画像の視認性を評価した。評価方法は、比較例１−２〜４−２の多色印刷物の色彩の鮮明さを基準（△）とし、各実施例の色彩が基準と対比して鮮明であるか、以下の基準で判定した。
◎ … 基準に比べて色彩が最も鮮明であり、視認性が最も良好。
○ … 基準に比べて色彩が非常に鮮明であり、視認性が非常に良好。
▲ … 基準に比べて色彩が鮮明であり、視認性が良好。
△ … 基準。
[Evaluation 3]
Multicolor printed matter obtained in Examples 1-2 to 7-2 and Comparative Examples 1-2 to 4-2, and obtained in Examples 1-3 to 7-3 and Comparative Examples 1-3 to 4-3 The color of the multicolored printed matter with the light shielding layer was visually confirmed, and the visibility of the printed image was evaluated. The evaluation method is based on the clearness of the colors of the multicolor printed materials of Comparative Examples 1-2 to 4-2 as a reference (Δ), and whether the colors of each Example are clear as compared with the reference is determined according to the following criteria. did.
◎… The color is clearest and the visibility is the best compared to the standard.
○… The color is very clear compared to the standard and the visibility is very good.
▲… The color is clearer than the standard and visibility is good.
△… Standard.
評価１〜３の結果を表１および表２に示す。なお、表１および表２中のμは平均、σ２は分散を示す。 Tables 1 and 2 show the results of evaluations 1 to 3. In Tables 1 and 2, μ represents the average, and σ 2 represents the dispersion.
実施例で示すように、所定のばらつきを有する溝部を印刷物の最表面に形成することで、色彩が鮮明になり視認性を向上させることができた。
また、実施例１−３〜７−３から、印刷層側表面にさらに遮光層を設けることにより、印刷層における印刷画像の色彩がより鮮明になり、視認性がさらに向上した。
As shown in the examples, by forming a groove having a predetermined variation on the outermost surface of the printed matter, the color became clear and the visibility could be improved.
Moreover, from Examples 1-3 to 7-3, by further providing a light shielding layer on the surface of the printing layer, the color of the printed image in the printing layer became clearer and the visibility was further improved.
１ … 溝部
２ … 透明基材
３ … 印刷層
４ … 透明低反射層
１０ … 印刷物
１１ … 透明支持層
１２ … 低反射樹脂層
１４ … 機能層（遮光層）
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Groove part 2 ... Transparent base material 3 ... Printing layer 4 ... Transparent low reflection layer 10 ... Printed material 11 ... Transparent support layer 12 ... Low reflection resin layer 14 ... Functional layer (light shielding layer)
Claims (7)
前記透明基材の一方の面上に形成された印刷層と
を有する印刷物であって、
前記印刷物は、前記透明基材の前記印刷層が形成された面と対向する面側の最表面に多数の溝部が形成されており、
前記溝部は、前記溝部の側面により囲まれた領域である溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの面積の平均が９４０００ｎｍ２以上１３１０００ｎｍ２以下の範囲内であり、
前記溝部の前記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの最大内角の分散が６００以上１０２０以下の範囲内であり、
一の前記溝部と、前記一の溝部の前記溝口部の平面視形状を八角形に近似したときの重心に最も近接した位置に前記溝口部の上記重心を有する他の前記溝部との重心間距離の平均が５００ｎｍ以下であり、前記重心間距離の分散が８０００以上であることを特徴とする印刷物。 A transparent substrate;
A printed matter having a printed layer formed on one surface of the transparent substrate,
The printed matter has a large number of groove portions formed on the outermost surface on the surface facing the surface on which the printed layer of the transparent substrate is formed,
The groove part has an average area in the range of 94000 nm 2 or more and 131000 nm 2 or less when the planar view shape of the groove opening part which is a region surrounded by the side surface of the groove part is approximated to an octagon,
The dispersion of the maximum inner angle when the plan view shape of the groove portion of the groove portion is approximated to an octagon is in the range of 600 or more and 1020 or less,
The center-of-gravity distance between one groove part and the other groove part having the center of gravity of the groove mouth part at a position closest to the center of gravity when the planar view shape of the groove part of the one groove part is approximated to an octagon. The average is 500 nm or less, and the dispersion of the distance between the centers of gravity is 8000 or more.
前記透明低反射層の前記透明基材と対向する面に、多数の前記溝部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の印刷物。 A transparent low reflective layer is formed on the surface of the transparent substrate that faces the surface on which the printed layer is formed,
The printed matter according to claim 1, wherein a large number of the groove portions are formed on a surface of the transparent low reflective layer facing the transparent base material.
前記低反射樹脂層の前記透明支持層と接する面と対向する面上に多数の前記溝部が形成されていることを特徴とする請求項２に記載の印刷物。 The transparent low reflection layer has a transparent support layer and a low reflection resin layer formed on one surface side of the transparent support layer and containing a transparent resin,
The printed matter according to claim 2, wherein a number of the groove portions are formed on a surface of the low-reflection resin layer that faces the surface that contacts the transparent support layer.
前記透明基材上に直に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の印刷物。 The transparent low reflection layer is a single layer formed of a transparent resin,
The printed matter according to claim 2, wherein the printed matter is formed directly on the transparent substrate.
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