JP2016066689A - Container cleaning device and container cleaning method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、半導体ウェハなどの基板を収容する収容容器の清掃装置及び清掃方法に関する。 The present invention relates to a cleaning device and a cleaning method for a storage container that stores a substrate such as a semiconductor wafer.
従来、半導体デバイスの製造プロセスでは、例えば半導体ウェハ(以下、「ウェハ」という)に対してレジスト塗布処理、露光処理、現像処理などの一連のフォトリソグラフィー処理を行う各種処理装置を備えた基板処理システムや、エッチング処理を行うエッチング処理システムが用いられている。これらの処理システムは、清浄度を高く維持されたクリーンルーム内に設置されており、各種処理システム間でのウェハの搬送は、いわゆるFOUP(Front−Opening Unified Pod)と呼ばれる収容容器に収容した状態で行われる。 2. Description of the Related Art Conventionally, in a semiconductor device manufacturing process, for example, a substrate processing system including various processing apparatuses for performing a series of photolithography processes such as resist coating processing, exposure processing, and development processing on a semiconductor wafer (hereinafter referred to as “wafer”) In addition, an etching system that performs an etching process is used. These processing systems are installed in a clean room maintained at a high level of cleanliness, and wafers are transferred between various processing systems in a state of being accommodated in a so-called FOUP (Front-Opening Unified Pod) container. Done.
この収容容器の内部を高い清浄度に維持するために、その内部には清浄度の高い窒素ガス等が封入されている。これにより、当該収容容器内へのパーティクル等の汚染物質の侵入を防止している。しかしながら、処理システム内でウェハにパーティクル等が付着すると、ウェハと共に当該パーティクルがそのまま収容容器に持ち込まれてしまう。このようなパーティクルの持ち込みは、窒素ガス等の封入のみでは防ぐことができないため、結果として、収容容器内に徐々に付着、堆積してしまう。そうすると、収容容器内に堆積したパーティクルにより他ウェハが汚染され、それにより製品の歩留まりが低下してしまう恐れがある。 In order to maintain the inside of the container at a high cleanliness, nitrogen gas or the like having a high cleanliness is enclosed in the inside. This prevents entry of contaminants such as particles into the container. However, when particles or the like adhere to the wafer in the processing system, the particles are brought into the storage container together with the wafer. Since such particles cannot be prevented only by sealing with nitrogen gas or the like, as a result, the particles gradually adhere and accumulate in the container. Then, other wafers may be contaminated by particles accumulated in the storage container, which may reduce the product yield.
そこで従来は、一定期間使用してパーティクルが堆積した収容容器の内部を、例えば特許文献1に開示されるような洗浄方法により洗浄している。特許文献1の方法によれば、例えば基板処理システムとは別に設けられた洗浄装置に収容容器を搬送し、当該洗浄装置内で氷粒と水と空気の混合物が当該収容容器の内部に吹き付けられる。これにより、収容容器内のパーティクルが除去され、当該収容容器の内部が清浄に保たれる。
Therefore, conventionally, the inside of the storage container in which particles are accumulated after being used for a certain period of time is cleaned by, for example, a cleaning method disclosed in
ところで近年、半導体デバイスの微細化、高集積化に伴い、ウェハに対するパーティクル汚染の要求レベルが厳しくなってきている。そのため、定期的に収容容器の洗浄を行っていても、収容容器内にわずかに付着しているパーティクルが要因とみられる欠陥の発生が確認されている。 In recent years, with the miniaturization and high integration of semiconductor devices, the required level of particle contamination on wafers has become stricter. For this reason, even if the container is periodically cleaned, it has been confirmed that a defect caused by particles slightly adhering to the container is caused.
しかしながら、現状は、上述のように内部に清浄度の高い窒素ガス等を封入しても収容容器内へのパーティクル付着を防ぐことができていない。したがって、収容容器内を常に清浄に保つ手法の開発が望まれている。 However, at present, even if nitrogen gas or the like having a high cleanliness is enclosed inside as described above, it is not possible to prevent particles from adhering to the storage container. Therefore, it is desired to develop a technique for keeping the inside of the container always clean.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、基板の収容容器内を清浄に保つことを目的としている。 This invention is made | formed in view of this point, and it aims at keeping the inside of the storage container of a board | substrate clean.
上記目的を達成するため、本発明は、基板を処理する処理部と、複数枚の基板を収容する収容容器を載置する容器載置部と、前記容器載置部に載置された収容容器と前記処理部との間で基板の搬送を行う基板搬送部と、を備えた基板処理システムで用いられる、前記収容容器の清浄を行う容器清掃装置であって、乾燥ガスを供給するガス孔を備え、前記収容容器内に進入可能に構成されたパージノズルと、前記パージノズルを、前記収容容器内に出し入れするノズル移動機構と、を有し、前記パージノズル及び前記ノズル移動機構は、前記容器載置部に設けられていることを特徴としている。 In order to achieve the above object, the present invention provides a processing unit for processing a substrate, a container mounting unit for mounting a storage container for storing a plurality of substrates, and a storage container mounted on the container mounting unit. And a substrate transport unit that transports the substrate between the processing unit and a container cleaning device for cleaning the storage container, the gas hole supplying a dry gas A purge nozzle configured to be able to enter the storage container, and a nozzle moving mechanism for moving the purge nozzle into and out of the storage container, wherein the purge nozzle and the nozzle movement mechanism include the container mounting portion. It is characterized by being provided.
本発明によれば、基板処理システムの容器載置部に、収容容器内に乾燥ガスを供給するパージノズルと、当該パージノズルを収容容器内に出し入れする移動機構が設けられているので、例えば基板搬送部により処理部に対して基板を搬送することにより空になった収容容器内にパージノズルを進入させて当該収容容器内をパージすることで、基板処理システム内で収容容器内のパーティクルを除去することができる。そのため、従来のように基板処理システム外部の洗浄装置で収容容器を洗浄することなく、収容容器の内部を常に清浄な状態に保つことができる。 According to the present invention, the container mounting portion of the substrate processing system is provided with the purge nozzle for supplying the dry gas into the storage container and the moving mechanism for taking the purge nozzle into and out of the storage container. By removing the particles in the storage container in the substrate processing system by causing the purge nozzle to enter the storage container emptied by transporting the substrate to the processing unit by purging the storage container it can. Therefore, the inside of the storage container can always be kept clean without washing the storage container with a cleaning device outside the substrate processing system as in the prior art.
前記収容容器内の雰囲気を吸引する吸引孔を備え、前記収容容器内に進入可能に構成された吸引ノズルと、前記吸引ノズルを前記収容容器内に出し入れする他のノズル移動機構が、前記容器載置部にさらに設けられていてもよい。 A suction nozzle provided with a suction hole for sucking the atmosphere in the storage container and configured to be able to enter the storage container, and another nozzle moving mechanism for taking the suction nozzle into and out of the storage container are provided on the container. It may be further provided in the placement unit.
前記パージノズルには、前記収容容器内の雰囲気を吸引する吸引孔がさらに形成されていてもよい。 The purge nozzle may further have a suction hole for sucking the atmosphere in the container.
前記容器載置部には、前記処理部との間で基板の受け渡しを行うときに前記収容容器を載置する搬送載置台と、基板が処理部に搬送されて空になった収容容器を一時的に載置する空容器載置台と、前記搬送載置台と前記空容器載置台との間で前記収容容器を搬送する容器搬送機構と、が設けられていてもよい。 The container mounting unit temporarily includes a transfer table on which the storage container is mounted when the substrate is transferred to and from the processing unit, and a storage container that is empty after the substrate is transferred to the processing unit. In addition, an empty container mounting table to be mounted and a container transport mechanism for transporting the storage container between the transport mounting table and the empty container mounting table may be provided.
前記容器載置部には、前記空容器載置台を覆う隔壁と、当該隔壁内部を排気する排気機構がさらに設けられていてもよい。 The container mounting unit may further include a partition wall that covers the empty container mounting table and an exhaust mechanism that exhausts the inside of the partition wall.
別な観点による本発明は、基板を処理する処理部と、複数枚の基板を収容する収容容器を載置する容器載置部と、前記容器載置部に載置された収容容器と前記処理部との間で基板の搬送を行う基板搬送部と、を備えた基板処理システムにおいて、前記収容容器の清掃を行う容器清掃方法であって、前記基板搬送部を介して基板が処理部に搬送されて空になった前記収容容器の内部に、乾燥ガスを供給するガス孔を備えたパージノズルを進入させ、前記収容容器の内部を乾燥ガスでパージして清掃することを特徴としている。 According to another aspect of the present invention, there is provided a processing unit for processing a substrate, a container mounting unit for mounting a storage container storing a plurality of substrates, a storage container mounted on the container mounting unit, and the processing A substrate processing system comprising: a substrate transfer unit that transfers a substrate to and from a unit; and a container cleaning method for cleaning the storage container, wherein the substrate is transferred to the process unit via the substrate transfer unit. Then, a purge nozzle having a gas hole for supplying a dry gas is introduced into the evacuated storage container, and the interior of the storage container is purged with the dry gas and cleaned.
前記基板搬送部を介して基板が処理部に搬送されて空になった前記収容容器の内部に、周囲の雰囲気を吸引する吸引孔を備えた吸引ノズルを進入させ、前記パージノズルにより前記収容容器の内部を清掃する際に、前記収容容器の内部の雰囲気を前記吸引ノズルにより吸引してもよい。 A suction nozzle having a suction hole for sucking a surrounding atmosphere is introduced into the storage container emptied by transporting the substrate to the processing section via the substrate transport section, and the purge nozzle is used to store the storage container. When cleaning the inside, the atmosphere inside the container may be sucked by the suction nozzle.
前記パージノズルには、周囲の雰囲気を吸引する吸引孔がさらに形成されており、前記パージノズルにより前記収容容器の内部を清掃する際に、前記収容容器の内部の雰囲気を前記吸引孔から吸引してもよい。 The purge nozzle is further formed with a suction hole for sucking an ambient atmosphere, and when the interior of the storage container is cleaned by the purge nozzle, the atmosphere inside the storage container may be sucked from the suction hole. Good.
前記容器載置部には、前記処理部との間で基板の受け渡しを行うときに前記収容容器を載置する搬送載置台と、基板が処理部に搬送されて空になった収容容器を一時的に載置する空容器載置台と、前記搬送載置台と前記空容器載置台との間で前記収容容器を搬送する容器搬送機構と、が設けられ、前記パージノズルによる前記収容容器内部の清掃は、前記空になった収容容器を前記空容器載置台に移動させた後に行われてもよい。 The container mounting unit temporarily includes a transfer table on which the storage container is mounted when the substrate is transferred to and from the processing unit, and a storage container that is empty after the substrate is transferred to the processing unit. An empty container mounting table that is mounted on the container, and a container transport mechanism that transports the storage container between the transport mounting table and the empty container mounting table, and cleaning the inside of the storage container by the purge nozzle This may be performed after the empty storage container is moved to the empty container mounting table.
前記容器載置部には、前記空容器載置台を覆う隔壁と、当該隔壁内部を排気する排気機構がさらに設けられ、前記パージノズルによる前記収容容器内部の清掃は、前記隔壁内を排気した状態で行われてもよい。 The container mounting portion is further provided with a partition wall that covers the empty container mounting table and an exhaust mechanism that exhausts the interior of the partition wall, and cleaning the interior of the storage container by the purge nozzle is performed in a state where the interior of the partition wall is exhausted. It may be done.
別な観点による本発明によれば、前記容器清掃方法を容器清掃装置によって実行させるように、当該容器清掃装置を制御する制御部のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a program that operates on a computer of a control unit that controls the container cleaning device so that the container cleaning method is executed by the container cleaning device.
また、別の観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。 According to another aspect of the present invention, there is provided a readable computer storage medium storing the program.
本発明によれば、基板の収容容器内を清浄に保つことができる。 According to the present invention, the inside of the container of the substrate can be kept clean.
以下、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態にかかる容器清掃装置を備えた基板処理システム1の構成の概略を模式的に示す平面図である。図2及び図3は、各々基板処理システム1の内部構成の概略を模式的に示す、正面図と背面図である。なお、本実施の形態における基板処理システム1は、例えばウェハWにフォトリソグラフィー処理を行う塗布現像処理システムである。
Embodiments of the present invention will be described below. FIG. 1 is a plan view schematically showing an outline of a configuration of a
基板処理システム1は、図1に示すように複数枚のウェハWを収容する収容容器としてのカセットCを外部との間で搬入出するカセットステーション2と、枚葉式にウェハWに対して所定の処理を施す複数の各種処理装置を備えた処理部としての処理ステーション3と、処理ステーション3に隣接する露光装置4との間でウェハWの受け渡しを行うインターフェイスステーション5とを一体に接続した構成を有している。なお、本実施の形態におけるカセットCは、図4に示すようにウェハWを収容する本体部C1と、本体部C1の上面から突出した軸C2と、軸C2に支持された係止部C3と、本体部C1の側面に設けられた蓋C4を有している。本体部C1の内部には図示しない棚が上下方向に複数設けられ、当該棚にウェハWを載置することで、複数のウェハWを収容できる。係止部C3は略方形板形状を有し、その1辺の長さは軸C2の径よりも長くなっている。
As shown in FIG. 1, the
カセットステーション2は、例えば容器載置部としてのカセット載置部10と基板搬送部としてのウェハ搬送部11に分けられている。例えばカセット載置部10は、基板処理システム1のY方向負方向(図1の左方向)側の端部に設けられている。カセット載置部10には、カセット載置台12が設けられている。カセット載置台12上には、複数、例えば4つの載置板13が水平方向のX方向に一列に並べて設けられている。載置板13は、例えばY方向にスライド自在あり、載置したカセットCのウェハ取り出し口をウェハ搬送部11側のウェハ搬送口11bに接続できる。
The
図1及び図2に示すようにカセットステーション2のウェハ搬送部11は、雰囲気制御を行うためのケーシング11aにより覆われている。ケーシング11aのカセット載置部10側の壁面には、各載置板13に対応する位置にウェハ搬送口11bが形成されている。各ウェハ搬送口11bには、載置板13上のカセットCの扉を開閉するドアオープナー11cが設けられている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
カセット載置部10のカセット載置台12の上方には、図5に示すように、複数段、例えば2段の空容器載置台としての空カセット載置台14、15が上下に設けられている。各空カセット載置台14、15上には載置板16が複数、例えば4つずつ設けられている。各載置板16は、カセット載置台12の4つの載置板13に対応するようにX方向に並べて設けられている。なお、上段の空カセット載置台15に設けられた4つの載置板16は、基板処理システム1の外部との間でカセットCを搬入出するための、搬入出スペースとして機能する。
As shown in FIG. 5, empty cassette mounting tables 14 and 15 as empty container mounting tables of a plurality of stages, for example, two stages, are provided above and below the cassette mounting table 12 of the
空カセット載置台15の上方には、図5に示すように、レールRが配設されており、当該レールRには、基板処理システム1と外部の他の処理装置との間でカセットCを搬送する、外部カセット搬送装置Aが設けられている。外部カセット搬送装置Aは、空カセット載置台15の上方をX方向に沿って移動できる。外部カセット搬送装置Aは、例えば上下方向に伸縮自在なカセット把持部A1を有しており、空カセット載置台15との間でカセットCの受け渡しを行うことができる。
As shown in FIG. 5, a rail R is disposed above the empty cassette mounting table 15, and a cassette C is placed between the
カセット載置部10には、カセット載置台12のY方向負方向(図1の左方向)側に、未処理のウェハWを収容したカセットC及び処理ステーション3にウェハWが搬送されて空になったカセットCをカセット載置台12と、空カセット載置台14、15との間で搬送する、容器搬送機構としてのカセット搬送機構20が設けられている。カセット搬送機構20は、例えば図6及び図7に示すように、カセットCを支持するアーム21を有している。アーム21は、カセットCの軸C2に干渉することなく、係止部C3の下面と当接してカセットCを支持できるように構成されている。
In the
アーム21は、水平方向(図中のX方向)に延びるアーム支持部22に支持されている。アーム支持部22は、上下方向(図中のZ方向)に延びるアーム駆動部23に支持されている。アーム駆動部23には、例えば図示しないモータなどが内蔵され、アーム支持部22及びアーム21を水平方向(図中のX方向及びY方向)に移動させると共に、上下方向(図中のZ方向)に移動させることができる。これにより、カセット搬送機構20は、カセット載置台12と空カセット載置台14、15との間でカセットCを自在に搬送することができる。
The
またカセット載置部10には、例えば空カセット載置台14を覆うように隔壁30が設けられている。隔壁30の空カセット搬送側の面にはシャッタ31が設けられている。空カセット載置台14とカセットCの受け渡しを行う際にはシャッタ31が開放され、当該シャッタを閉じることで、隔壁30内を外部の雰囲気から隔離することができる。
Moreover, the
隔壁30内におけるカセットCの処理ステーション3側であって、空カセット載置台14上のカセットよりも下方の位置には、例えば図8に示すように、隔壁30内の雰囲気を排気する排気室32が形成されている。排気室32は、例えば図6に示すように、空カセット載置台14のカセット搬送機構20と反対側の端部近傍に形成された貫通口33を介して隔壁30内の空間と連通している。
As shown in FIG. 8, for example, as shown in FIG. 8, an
例えば排気室32の底部には排気管34が接続されている。排気管34には排気機構35及び排気弁36が設けられており、隔壁30内の排気を制御することができる。
For example, an
カセットCの蓋C4に対向する位置には、当該蓋C4を開閉するドアオープナー40が設けられている。載置板16は、例えばY方向にスライド自在であり、ドアオープナー40は、蓋C4をドアオープナー40に当接(ドック)させることにより、蓋C4を保持できるように構成されている。ドアオープナー40は図示しない駆動機構により開閉自在に構成されている。そのため、ドアオープナー40と蓋C4を当接させた状態でドアオープナー40を開閉操作することにより、蓋C4を開閉することができる。また、載置板16の例えばドアオープナー40側と反対側の端部近傍には、載置板16上に載置されたカセットCの内部に、清浄な乾燥ガスとして例えば窒素を封入するための開口16aが形成されている。開口16aには、図示しない乾燥ガスの供給源が接続されている。
At a position facing the lid C4 of the cassette C, a
ドアオープナー40と隔壁30の間であって、カセットCの蓋C4の正面には、カセットC内に清浄な乾燥ガスを供給して、カセットCの内部を清掃するためのパージノズル50が設けられている。パージノズル50には、例えば図8に示すように、ノズルアーム51を介して昇降機構52が接続されている。昇降機構52は、例えば隔壁30に沿って上下方向及び水平方向に移動することができる。例えば排気室32におけるカセット搬送機構20側の側面には、ドアオープナー40により蓋C4を開けた際に、蓋C4に対して清掃用の清浄な乾燥ガスとして例えば窒素ガスを供給するガス吐出口53が設けられている。
A
パージノズル50は、例えば略矩形状を有しており、例えば長手方向が上下方向を向いた状態でノズルアーム51により支持されている。また、ノズルアーム51は、例えば水平方向に伸縮自在で且つパージノズル50を鉛直方向から水平方向に向けて回転動作させることができる。これにより、パージノズル50は上下左右前後方向及び回転動作を行うことができる。このパージノズル50の構成の詳細については後述する。なお、本実施の形態においては、ノズルアーム51と昇降機構52によりノズル移動機構が構成されている。ノズル移動機構の構成については本実施の形態の内容に限定されるものではなく、後述するようにパージノズル50をカセットC内に出し入れでき、且つカセットC内で移動させることができればその構成は任意に設定が可能であり、例えばドアオープナー40を支持する図示しない支持体に昇降機構52及びノズルアーム51を取り付けてあってもよい。また、本発明の容器清掃装置は、このノズル移動機構とパージノズル50により構成されている。
The
図1に示すようにウェハ搬送部11には、X方向に延びる搬送路60上を移動自在なウェハ搬送装置61が設けられている。ウェハ搬送装置61は、上下方向及び鉛直軸周り(θ方向)にも移動自在であり、各載置板13上のカセットCと、後述する処理ステーション3の第3のブロックG3の受け渡し装置との間でウェハWを搬送できる。
As shown in FIG. 1, the
処理ステーション3には、各種装置を備えた複数例えば4つのブロックG1、G2、G3、G4が設けられている。例えば処理ステーション3の正面側(図1のX方向負方向側)には、第1のブロックG1が設けられ、処理ステーション3の背面側(図1のX方向正方向側)には、第2のブロックG2が設けられている。また、処理ステーション3のカセットステーション2側(図1のY方向負方向側)には、第3のブロックG3が設けられ、処理ステーション3のインターフェイスステーション5側(図1のY方向正方向側)には、第4のブロックG4が設けられている。
The
例えば第1のブロックG1には、図3に示すように複数の液処理ユニット、例えばウェハWを現像処理する現像処理ユニット80、ウェハWのレジスト膜の下層に反射防止膜(以下「下部反射防止膜」という)を形成する下部反射防止膜形成ユニット81、ウェハWにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布ユニット82、ウェハWのレジスト膜の上層に反射防止膜(以下「上部反射防止膜」という)を形成する上部反射防止膜形成ユニット83が下から順に4段に重ねられている。
For example, in the first block G1, as shown in FIG. 3, a plurality of liquid processing units, for example, a
例えば第2のブロックG2には、図2に示すようにウェハWの熱処理を行う熱処理ユニット90や、ウェハWを疎水化処理するアドヒージョンユニット91、ウェハWの外周部を露光する周辺露光ユニット92が上下方向と水平方向に並べて設けられている。熱処理ユニット90は、ウェハWを載置して加熱する熱板と、ウェハWを載置して冷却する冷却板を有し、加熱処理と冷却処理の両方を行うことができる。なお、熱処理ユニット90、アドヒージョンユニット91及び周辺露光ユニット92の数や配置は、任意に選択できる。
For example, in the second block G2, as shown in FIG. 2, a
例えば第3のブロックG3には、複数の受け渡しユニット100、101、102、103、104、105、106が下から順に設けられている。また、第4のブロックG4には、複数の受け渡しユニット110、111、112が下から順に設けられている。
For example, in the third block G3, a plurality of
第1のブロックG1〜第4のブロックG4に囲まれた領域には、ウェハ搬送領域Dが形成されている。ウェハ搬送領域Dには、例えばウェハ搬送装置120が配置されている。ウェハ搬送装置120は、例えばY方向、前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置120は、ウェハ搬送領域D内を移動し、周囲の第1のブロックG1、第2のブロックG2、第3のブロックG3及び第4のブロックG4内の所定のユニットにウェハWを搬送できる。ウェハ搬送装置120は、例えば図2に示すように上下に複数台配置され、例えば各ブロックG1〜G4の同程度の高さの所定のユニットにウェハWを搬送できる。
A wafer transfer region D is formed in a region surrounded by the first block G1 to the fourth block G4. For example, a
ウェハ搬送領域Dには、第3のブロックG3と第4のブロックG4との間で直線的にウェハWを搬送するシャトル搬送装置130が設けられている。シャトル搬送装置130は、例えばY方向に直線的に移動自在である。シャトル搬送装置130は、ウェハWを支持した状態でY方向に移動し、第3のブロックG3の受け渡しユニット102と第4のブロックG4の受け渡しユニット112との間でウェハWを搬送できる。
The wafer transfer area D is provided with a
図1に示すように第3のブロックG3のX方向正方向側には、ウェハ搬送装置140が設けられている。ウェハ搬送装置140は、例えば前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置140は、ウェハWを支持した状態で上下に移動して、第3のブロックG3内の各受け渡しユニットにウェハWを搬送できる。
As shown in FIG. 1, a
インターフェイスステーション5には、ウェハ搬送装置150と受け渡しユニット151が設けられている。ウェハ搬送装置150は、例えば前後方向、θ方向及び上下方向に移動自在な搬送アームを有している。ウェハ搬送装置150は、例えば搬送アームにウェハWを支持して、第4のブロックG4内の各受け渡しユニットと受け渡しユニット151にウェハWを搬送できる。
The
次に、パージノズル50の構成について図9を参照して説明する。なお、図9では、ノズルアーム51を図8の状態から90度回転させて、パージノズル50の長手方向を水平方向に一致させた状態で、2つのパージノズル50をカセットC内に進入させた状態を描図している。
Next, the configuration of the
パージノズル50は、例えば図9に示すように略矩形状を有している。パージノズル50には、図示しないガス供給源から、清浄な乾燥ガスとして例えば窒素ガスを供給するガス供給管200が接続されている。なお、ガス供給管200は、例えば図9に示すように、パージノズル50をカセットC内に進入させた際にカセットCの蓋C4側に対応する面に接続される。換言すれば、図9のように略矩形状のパージノズル50をカセットCの内部に進入させた際に、後進側の端部となる位置に接続される。
The
パージノズル50の本体部50aの内部には、例えば図10に示すように、ガス供給管200に連通するガス流路201が形成されており、パージノズル50の表面には、ガス流路201に連通するガス孔202が複数形成されている。したがって、ガス供給管200を介してガス供給源(図示せず)から乾燥ガスを供給することで、パージノズル50の各ガス孔202から乾燥ガスを噴射することができる。また、ガス供給管200には、乾燥ガスをイオン化するイオナイザ203が設けられている。
For example, as shown in FIG. 10, a
ガス孔202は、パージノズル50における、例えばカセットCの本体部C1の内面に対向する位置に設けられている。例えば図9に示すように、2つのパージノズル50が平行に設けられている場合、図9の左側のパージノズル50では、当該パージノズルの右側の側面及びガス供給管200が接続された面以外の四面にガス孔202が形成される。同様に、図9の右側のパージノズル50では、当該パージノズルの左側の側面及びガス供給管200が接続された面以外の四面にガス孔202が形成される。なお、図9では、パージノズル50の先端部分の1箇所に、長手方向に沿ってそれぞれ4箇所にガス孔202が設けられた状態を描図しているが、ガス孔202の大きさや形状、配置は本実施の形態の内容に限定されるものではなく、任意に設定が可能である。また、図9に示すように、ガス孔202をカセットCの内面に対向する位置にのみ形成しているのは、カセットCの内面に対向していない面から乾燥ガスを噴射してもカセットC内の清掃に寄与しないからであり、カセットCの内面に対向する位置以外にもガス孔202を設けてもよい。
The
以上の基板処理システム1には、図1に示すように制御部300が設けられている。制御部300は、例えばコンピュータであり、プログラム格納部(図示せず)を有している。プログラム格納部には、基板処理システム1におけるウェハWの処理を制御するプログラムが格納されている。また、プログラム格納部には、上述の各種装置や搬送装置などの駆動系の動作を制御して、基板処理システム1における塗布現像処理を実現させるためのプログラムも格納されている。なお、前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体Hに記録されていたものであって、その記憶媒体Hから制御部300にインストールされたものであってもよい。
The
本実施の形態にかかる容器清掃装置を備えた基板処理システム1は以上のように構成されており、次に、以上のように構成された基板処理システム1を用いて行われるウェハ処理について説明する。
The
先ず、1ロット分の未処理のウェハWを収容したカセットCが、外部カセット搬送装置Aにより基板処理システム1のカセット載置部10の上方まで搬送される。次いで、カセット搬送機構20により当該カセットCが載置台12の所定の載置板13に載置される。
First, the cassette C containing the unprocessed wafers W for one lot is transferred by the external cassette transfer device A to above the
載置板13にカセットC1が載置された後、当該載置板13がウェハ搬送部11側に移動し、カセットC1がウェハ搬送口11bにセットされる。そして、ドアオープナー11cによりカセットCの扉が開けられる。その後、ウェハ搬送装置61によりカセットC1内の各ウェハWが順に取り出され、処理ステーション3内に搬送され処理される。
After the cassette C1 is mounted on the mounting
カセットCから1ロット分の全てのウェハWが搬出された後、当該空になったカセットCは、カセット搬送機構20のアーム21により例えば空カセット載置台14に搬送される。この際、例えば図11に示すように、シャッタ31は解放された状態になっている。また、この際、パージノズル50からは乾燥ガスが常時供給され、隔壁30内は陽圧に維持されている。これにより、当該隔壁30内へのパーティクルの侵入が抑制される。
After all the wafers W for one lot have been unloaded from the cassette C, the empty cassette C is transported to, for example, the empty cassette mounting table 14 by the
空のカセットCが空カセット載置台14の載置板16に載置されると、図12に示すように、シャッタ31が閉じられ、次に排気管34を介して排気機構35により隔壁30内が排気される。また、載置板16に載置されたカセットCの内部には、開口16aを介して乾燥ガスが供給され、カセットCの内部が陽圧に維持される。これにより、例えば隔壁30内にパーティクルが付着していたとしても、蓋C4を開放した際に当該パーティクルがカセットC内に侵入することを防ぐことができる。この間、パージノズル50からも引き続き乾燥ガスが供給されており、隔壁30内は隔壁30の外部に対して陽圧に維持されているが、カセットC内は隔壁30内に対してさらに陽圧の状態となっている。
When the empty cassette C is placed on the
次に、カセットC内を隔壁30内に対して陽圧に維持した状態で載置板16をドアオープナー40側に移動させ、図13に示すように、ドアオープナー40とカセットCの蓋C4を当接させる。次いで、ドアオープナー40により蓋C4を開放して、蓋C4を載置板16より下方に移動させる。この際、ガス吐出口53から乾燥ガスを吐出し、蓋C4に付着したパーティクルを除去する。
Next, the mounting
次いで、図14に示すようにパージノズル50をカセットC内に進入させ、カセットC内に乾燥ガスを噴出することにより、カセットC内に付着したパーティクルを除去する。この際、パージノズル50を前後及び上下方向に移動させ、カセットC内が万遍なく清掃される。この際、パージノズル50から供給される乾燥ガスはイオナイザ203によりイオン化されているので、カセットC及びパーティクルの帯電を除去し、効率的にパーティクルの除去が行われる。また、この間、隔壁30内は排気管34から常時排気されており、清掃により飛散したパーティクルは当該排気管34から速やかに排気される。
Next, as shown in FIG. 14, the
カセットC内の清掃が終了すると、パージノズル50をカセットCの外部に退避する。次いで、ドアオープナー40により蓋C4を上昇させ、カセットCの蓋C4を閉操作する。この際、ガス吐出口53から継続して乾燥ガスを供給することで、蓋C4の表面のパージを行う。これにより、カセットC内部の清掃により飛散したパーティクルが蓋C4に付着した場合でも、当該パーティクルを除去することができる。
When the cleaning of the cassette C is completed, the
カセットCの蓋を閉じた後は、シャッタ31を開放し、カセット搬送機構20のアーム21により空カセット載置台14からカセット載置台12に搬送される。
After closing the lid of the cassette C, the
一方、処理ステーション3に搬送されたカセットC内のウェハWは、例えば熱処理ユニット90、下部反射防止膜形成ユニット81、熱処理ユニット90、アドヒージョンユニット91、レジスト塗布ユニット82、熱処理ユニット90、上部反射防止膜形成ユニット83、熱処理ユニット90、周辺露光ユニット92等に順次搬送され、各ユニットにおいて所定の処理が施される。その後、ウェハWは、露光装置4に搬送されて露光処理が施され、その後、処理ステーション3に戻される。その後、ウェハWは、熱処理ユニット90、現像処理ユニット80、熱処理ユニット90等に順次搬送され、各ユニットにおいて所定の処理が施される。こうして、ウェハWに対する一連の処理(フォトリソグラフィー処理)が終了する。
On the other hand, the wafer W in the cassette C transferred to the
ウェハWの一連の処理が終了すると、各ウェハが清掃を完了してカセット載置台12に戻された空きカセットC内に順次搬送される。その後、当該カセットCはカセット搬送機構20により例えば空カセット載置台15に搬送される。次いで、当該カセットCは外部カセット搬送装置Aにより基板処理システム1から搬出される。そして、この一連の処理が繰り返し行われる。
When a series of processing of the wafer W is completed, each wafer is sequentially transferred into the empty cassette C which has been cleaned and returned to the cassette mounting table 12. Thereafter, the cassette C is transported to, for example, the empty cassette mounting table 15 by the
以上の実施の形態によれば、処理ステーション3にウェハWを搬送して空になったカセットCを、カセット載置台12の上方に設けられた空カセット載置台14に移動させた後、乾燥ガスを供給するガス孔202を備えたパージノズル50をカセットの内部に進入させて当該カセットCの清掃を行うので、カセットCを常に清浄な状態に維持することができる。したがって、ウェハ処理の歩留まりを向上させることができる。また、内部が空になり、基板処理システム1内で待機する時間を利用してカセットCに内部を清掃することで、基板処理システム1の外部に設けられた洗浄装置でカセットCを洗浄する頻度を低減させ、それにより洗浄に伴うコストや時間を削減することができる。
According to the above embodiment, the cassette C which has been emptied after the wafer W is transferred to the
また、カセット載置台12の上方に設けられた空カセット載置台14でカセットCの清掃を行うので、本実施の形態にかかる容器洗浄装置を設けるにあたり、基板処理システム1のフットプリントが増加することもない。
Further, since the cassette C is cleaned by the empty cassette mounting table 14 provided above the cassette mounting table 12, the footprint of the
さらには、乾燥ガスを供給するガス供給管200にイオナイザ203を設けたので、カセットC及びパーティクルの除電を行うことができ、それにより効率的にパーティクルの除去を行うことができる。
Furthermore, since the
以上の実施の形態では、パージノズル50から乾燥ガスの噴出のみを行ったが、例えば図15に示すように、ガス供給管200に三方弁210及びガス排気管211を設け、例えばパージノズル50から乾燥ガスを噴出した後に三方弁210を切り替えることで、ガス排気管211からカセットC内の雰囲気を排気するようにしてもよい。そうすることで、パージノズル50からの乾燥ガスの噴出により飛散したパーティクルを直ちに除去し、再飛散したパーティクルが再度カセットC内に付着することを防止し、効率的な清掃を行うことができる。かかる場合、ガス供給管200における三方弁210の上流側にイオナイザ203を設けてもよい。
In the above embodiment, only the dry gas is ejected from the
また、例えばガス排気管211に、当該ガス排気管211内を通過するパーティクルモニタを計数するパーティクルモニタ212を設け、パーティクルモニタ212で計数されるパーティクルが所定の値以下になるまでカセットC内の清掃を継続する、或いはパーティクルが所定の値以下なったらカセットC内の清掃を停止するようにしてもよい。かかる場合、より確実にカセットC内を清掃できると共に、無駄な清掃を行わないようにできる。
In addition, for example, the
また、以上の実施の形態では、並行に設けた2つのパージノズル50を用いた場合を例にして説明したが、パージノズル50の形状についても本実施の形態の内容に限定されるものではない。例えば図16に示すように、例えばカセットCの蓋C4に平行に延伸する複数の本体部220を一体化して構成したパージノズル221を用いてもよい。かかる場合も、カセットC内でパージノズル221を前後及び上下に移動させることで、カセットC内を万遍なく清掃することができる。
In the above embodiment, the case where two
また、図17に示すように、本体部220に直交するように他の本体部230を設けたパージノズル231を用いると共に、本体部220にガス供給管200を、他の本体部230にガス排気管211を設けるようにしてもよい。そして、本体部220からの乾燥ガスの供給と共に、他の本体部230からの排気を行うことで、カセットC内で飛散したパーティクルを他の本体部230から直ちに排気することができる。これにより、より効率的なカセットCの清掃を行うことができる。なお、ガス供給管200及びガス排気管211は三方弁210を介して接続してもよいし、ガス供給管200にイオナイザ203を設けてもよい。また、ガス供給管200、ガス排気管211、三方弁210及びイオナイザ203にかかる構成については、以下に述べる他の実施の形態にかかるパージノズルにおいても同様である。
In addition, as shown in FIG. 17, a
また、図18に示すように、カセットCの内側面に対応するように、例えば略U字型の本体部240と、本体部240の中心の空間に設けられた他の本体部241を一体に構成したパージノズル242を用いてもよい。本体部240には、ガス供給管200が、他の本体部241にはガス排気管211がそれぞれ接続される。このパージノズル242によれば、例えばパージノズル242をカセット内で前後及び上下に移動させることで、パージノズル50ではパーティクルを除去しにくいカセットCの中央部近傍のパーティクルを効率よく除去することができる。また、U字状のパージノズルの中央部近傍の空間、換言すれば、例えば図15に示すパージノズル50の間に形成される空間を利用して他の本体部241から排気を行うことができるので、より効率的にカセットC内の清掃を行うことができる。かかる場合、他の本体部241には、例えば図19に示すように、スリット状に排気口243を形成してもよい。
Further, as shown in FIG. 18, for example, a substantially U-shaped
また、図20に示すように、平行な本体部50a、50aと当該本体部50aに直交して設けられた他の本体部250を一体に構成し、本体部50aにガス供給管200を、他の本体部250にガス排気管211をそれぞれ接続したパージノズル251を用いてもよい。
In addition, as shown in FIG. 20, parallel
なお、パージノズルの形状は、矩形状に限定されるものでもなく、例えば図21に示すように、例えば略円筒形状の本体部260の全面にガス孔261を形成したパージノズル262を用いてもよい。かかる場合、パージノズル262から360度全域にわたって乾燥ガスの噴射を行うことができ、パージノズル262を回転及び前後、上下に移動させることで、カセットC内の隅々まで効率的に清掃できる。
The shape of the purge nozzle is not limited to a rectangular shape. For example, as shown in FIG. 21, a
また、図22に示すように、ガス供給管200に接続したパージノズル262とガス排気管211に接続したパージノズル263をそれぞれ設け、例えばパージノズル262とパージノズル263を公転させるように移動させながら乾燥ガスの噴出と雰囲気の排気をそれぞれ行うようにしてもよい。かかる場合、パージノズル262、263を公転させることで、カセットCの内部で気流がかき混ざり、パーティクル除去の効率を上げることができる。また、カセットC内で飛散したパーティクルを速やかにパージノズル263から排気できるので、カセットCの外部へのパーティクルの飛散が少ない、効率的な清掃を行うことができる。
Further, as shown in FIG. 22, a
また、カセットC内を排気する方法についても本実施の形態の内容に限定されるものではなく、例えば載置板16に形成された開口16aから排気を行うようにしてもよい。かかる場合、例えば蓋C4を開放してパージノズルをカセットCの内部に進入させるまでは開口16aから乾燥ガスを供給しておき、パージノズルから乾燥ガスを噴出し、カセットC内が陽圧に維持される状態になった後に、開口16aから排気を行うことが好ましい。
Further, the method of exhausting the inside of the cassette C is not limited to the contents of the present embodiment, and for example, exhaust may be performed from the opening 16 a formed in the mounting
なお、以上の実施の形態では、空カセット載置台14にパージノズル50や隔壁30を設けたが、パージノズルや隔壁30といった、本実施の形態にかかる容器清掃装置は、例えば空カセット載置台15にも設けてもよいし、カセット載置台12に設けてもよい。
In the above embodiment, the
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到しうることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。 As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention is not limited to this example. It is obvious for those skilled in the art that various changes or modifications can be conceived within the scope of the technical idea described in the claims. It is understood that it belongs to.
1 基板処理システム
2 カセットステーション
3 処理ステーション
4 露光装置
5 インターフェイスステーション
10 カセット載置部
11 ウェハ搬送部
12 カセット載置台
13、16 載置板
14、15 空カセット載置台
20 カセット搬送機構
30 隔壁
31 シャッタ
40 ドアオープナー
50 パージノズル
200 ガス供給管
201 ガス流路
202 ガス孔
203 イオナイザ
210 三方弁
211 ガス排気管
212 パーティクルモニタ
W ウェハ
DESCRIPTION OF
Claims (12)
乾燥ガスを供給するガス孔を備え、前記収容容器内に進入可能に構成されたパージノズルと、
前記パージノズルを、前記収容容器内に出し入れするノズル移動機構と、を有し、
前記パージノズル及び前記ノズル移動機構は、前記容器載置部に設けられていることを特徴とする、容器清掃装置。 Transfer of a substrate between a processing unit for processing a substrate, a container mounting unit for mounting a storage container that stores a plurality of substrates, and a storage container mounted on the container mounting unit and the processing unit A container cleaning device for cleaning the storage container, which is used in a substrate processing system comprising:
A purge nozzle having a gas hole for supplying a dry gas, and configured to be able to enter the storage container;
A nozzle moving mechanism for taking the purge nozzle into and out of the container,
The container cleaning device, wherein the purge nozzle and the nozzle moving mechanism are provided in the container mounting portion.
前記基板搬送部を介して基板が処理部に搬送されて空になった前記収容容器の内部に、乾燥ガスを供給するガス孔を備えたパージノズルを進入させ、
前記収容容器の内部を乾燥ガスでパージして清掃することを特徴とする、容器清掃方法。 Transfer of a substrate between a processing unit for processing a substrate, a container mounting unit for mounting a storage container that stores a plurality of substrates, and a storage container mounted on the container mounting unit and the processing unit In a substrate processing system provided with a substrate transport unit, a container cleaning method for cleaning the storage container,
A purge nozzle provided with a gas hole for supplying a dry gas enters the inside of the container, which is emptied by the substrate being conveyed to the processing unit via the substrate conveyance unit,
Purging the inside of the container with a dry gas to clean the container.
前記パージノズルにより前記収容容器の内部を清掃する際に、前記収容容器の内部の雰囲気を前記吸引ノズルにより吸引することを特徴とする、請求項6に記載の容器清掃方法。 A suction nozzle having a suction hole for sucking the ambient atmosphere is made to enter the inside of the storage container emptied by the substrate being transported to the processing unit via the substrate transport unit,
The container cleaning method according to claim 6, wherein when the inside of the storage container is cleaned by the purge nozzle, the atmosphere inside the storage container is sucked by the suction nozzle.
前記パージノズルにより前記収容容器の内部を清掃する際に、前記収容容器の内部の雰囲気を前記吸引孔から吸引することを特徴とする、請求項6に記載の容器清掃方法。 The purge nozzle is further formed with a suction hole for sucking the ambient atmosphere,
The container cleaning method according to claim 6, wherein when the inside of the container is cleaned by the purge nozzle, an atmosphere inside the container is sucked from the suction hole.
前記パージノズルによる前記収容容器内部の清掃は、前記空になった収容容器を前記空容器載置台に移動させた後に行われることを特徴とする、請求項6〜8のいずれか一項に記載の容器清掃方法。 The container mounting unit temporarily includes a transfer table on which the storage container is mounted when the substrate is transferred to and from the processing unit, and a storage container that is empty after the substrate is transferred to the processing unit. An empty container mounting table to be mounted on the container, and a container transport mechanism for transporting the storage container between the transport mounting table and the empty container mounting table,
The cleaning of the inside of the storage container by the purge nozzle is performed after the empty storage container is moved to the empty container mounting table, according to any one of claims 6 to 8, Container cleaning method.
前記パージノズルによる前記収容容器内部の清掃は、前記隔壁内を排気した状態で行われることを特徴とする、請求項9に記載の容器清掃方法。 The container mounting portion is further provided with a partition wall that covers the empty container mounting table, and an exhaust mechanism that exhausts the inside of the partition wall,
The container cleaning method according to claim 9, wherein the inside of the container is cleaned by the purge nozzle in a state where the inside of the partition wall is exhausted.
A readable computer storage medium storing the program according to claim 11.
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