JP2016060942A - 薄膜形成装置、薄膜形成方法および薄膜付き基材 - Google Patents
薄膜形成装置、薄膜形成方法および薄膜付き基材 Download PDFInfo
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Abstract
Description
2 基材
3 巻出しロール
4 巻取りロール
5 メインロール
6 メインロールチャンバ
7 成膜チャンバ
7a 成膜チャンバ
7b 成膜チャンバ
7c 成膜チャンバ
7d 成膜チャンバ
8 間仕切り部
8a 間仕切り部
8b 間仕切り部
8c 間仕切り部
8d 間仕切り部
8e 間仕切り部
31 芯部
41 芯部
51 外周面
61 真空ポンプ
71 真空ポンプ
72 プラズマ電極
81 外壁部
82 差圧室
83 排気口
84 内壁
85 噴出口
86 当接部材
87 保持部
88 ばね
89 回収部材
100 薄膜形成装置
101 メインロールチャンバ
102 メインロール
102a 外周面
103 基材
104 巻出しロール
105 巻取りロール
106 間仕切り部
107 成膜チャンバ
107a 成膜チャンバ
107b 成膜チャンバ
107c 成膜チャンバ
107d 成膜チャンバ
M1 薄膜
M2 薄膜
M3 薄膜
M4 薄膜
P 異物
Claims (5)
- 基材を所定の搬送方向に搬送させる搬送部と、
前記搬送部により搬送される基材の膜形成面の一部を囲む隔壁部を有し、当該膜形成面との間に閉空間を形成して当該膜形成面に薄膜を形成する成膜チャンバと、
を備え、
前記隔壁部の一部であって前記搬送方向に関して前記成膜チャンバの内外の空間を仕切る部材である間仕切り部のうち、少なくとも前記搬送方向に関して上流側の前記間仕切り部には、基材の前記膜形成面側の表面に付着した異物を除去する異物除去手段が設けられていることを特徴とする、薄膜形成装置。 - 前記異物除去手段は、基材の前記膜形成面側の表面に気体を吹きつけて異物を当該膜形成面から剥がす吹きつけ部と、当該吹きつけ部が吹き付けた気体とともに前記膜形成面側の表面から剥がされた異物を回収する回収部とを有することを特徴とする、請求項1に記載の薄膜形成装置。
- 前記異物除去手段は、基材の前記膜形成面側の表面と当接する当接部材を有し、当該当接部材と異物との間の粘着力は、基材の前記膜形成面側の表面と異物との間の粘着力よりも高いことを特徴とする、請求項1に記載の薄膜形成装置。
- 基材の膜形成面の一部を囲む隔壁部を有し、当該膜形成面との間に閉空間を形成して当該膜形成面に薄膜を形成する成膜チャンバへ基材を搬送し、基材の前記膜形成面側の表面に薄膜を形成させる薄膜形成方法であり、
基材が前記成膜チャンバに搬送される直前において、前記隔壁部の一部であって基材の搬送方向に関して前記成膜チャンバの内外の空間を仕切る部材である間仕切り部のうち、少なくとも前記搬送方向に関して上流側の前記間仕切り部に設けられた異物除去手段によって基材の前記膜形成面側の表面に付着した異物を除去する異物除去工程を有することを特徴とする、薄膜形成方法。 - 基材の膜形成面の一部を囲む隔壁部を有し、当該膜形成面との間に閉空間を形成して当該膜形成面に薄膜を形成する成膜チャンバへ搬送され、当該成膜チャンバによって前記膜形成面側の表面に薄膜が形成された薄膜付き基材であり、
基材が前記成膜チャンバに搬送される直前において、前記隔壁部の一部であって基材の搬送方向に関して前記成膜チャンバの内外の空間を仕切る部材である間仕切り部のうち、少なくとも前記搬送方向に関して上流側の前記間仕切り部に設けられた異物除去手段によって基材の前記膜形成面側の表面に付着した異物が除去されることを特徴とする、薄膜付き基材。
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JP2014189713A JP2016060942A (ja) | 2014-09-18 | 2014-09-18 | 薄膜形成装置、薄膜形成方法および薄膜付き基材 |
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Citations (6)
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-
2014
- 2014-09-18 JP JP2014189713A patent/JP2016060942A/ja active Pending
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