JP2016054041A - 高周波電源装置 - Google Patents

高周波電源装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2016054041A
JP2016054041A JP2014178880A JP2014178880A JP2016054041A JP 2016054041 A JP2016054041 A JP 2016054041A JP 2014178880 A JP2014178880 A JP 2014178880A JP 2014178880 A JP2014178880 A JP 2014178880A JP 2016054041 A JP2016054041 A JP 2016054041A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency
plasma
voltage
power supply
power
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2014178880A
Other languages
English (en)
Inventor
俊也 土生
Toshiya Habu
俊也 土生
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP2014178880A priority Critical patent/JP2016054041A/ja
Priority to US14/825,325 priority patent/US9648719B2/en
Priority to CN201510559287.6A priority patent/CN105392269A/zh
Publication of JP2016054041A publication Critical patent/JP2016054041A/ja
Priority to US15/475,402 priority patent/US20170205287A1/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/10Arrangements of light sources specially adapted for spectrometry or colorimetry
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/443Emission spectrometry
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/321Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • H01J37/32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
    • H01J37/32183Matching circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/0006Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature
    • H05H1/0012Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry
    • H05H1/0037Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature using electromagnetic or particle radiation, e.g. interferometry by spectrometry
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/26Plasma torches
    • H05H1/32Plasma torches using an arc
    • H05H1/34Details, e.g. electrodes, nozzles
    • H05H1/36Circuit arrangements
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02Details
    • G01J3/027Control of working procedures of a spectrometer; Failure detection; Bandwidth calculation
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • H05H1/4645Radiofrequency discharges
    • H05H1/4652Radiofrequency discharges using inductive coupling means, e.g. coils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H2242/00Auxiliary systems
    • H05H2242/20Power circuits

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Plasma Technology (AREA)
  • Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
  • Inverter Devices (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

【課題】安価な構成でプラズマ投入電力を正確に制御することができる高周波電源装置を提供する。
【解決手段】直列共振回路に対する高周波入力電圧V及び高周波入力電流Iを電圧検出部101及び電流検出部102によりそれぞれ検出し、検出された高周波入力電圧V及び高周波入力電流Iに基づいてプラズマ投入電力検出部111でプラズマ投入電力を検出する。このように、プラズマ投入電力を直接検出することにより、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態などにかかわらず、プラズマ投入電力を正確に制御することができる。また、半導体素子を含むスイッチング回路を用いることにより、真空管などを用いる構成と比較して、安価な構成とすることができる。
【選択図】 図2

Description

本発明は、共振回路に含まれる誘導コイルに対し、直流電源からスイッチング回路を介して高周波電力を供給することにより、プラズマを生成するための高周波電源装置に関するものである。
例えば誘導結合プラズマ(ICP:Inductively Coupled Plasma)発光分析装置などの分析装置には、共振回路に含まれる誘導コイルに高周波電力を供給することにより、プラズマトーチにプラズマを生成するような構成が採用されている(例えば、下記特許文献1〜4参照)。誘導コイルに供給される高周波電力によって、高周波電磁界が発生し、プラズマ中の荷電粒子が加速されて誘導電流が流れることにより、プラズマが加熱されることとなる。
このような構成の場合、プラズマの生成に伴い、誘導コイルのインピーダンス(抵抗成分及びリアクタンス成分)が変化する。すなわち、誘導電流が、誘導コイルにより形成される磁場を減少させることに起因して、誘導コイルの実効的なインダクタンスが減少する。また、プラズマの加熱に伴いエネルギーが失われることに起因して、誘導コイルに抵抗成分が生じる。さらに、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態、プラズマ投入電力などによっても、プラズマの状態が変化し、誘導コイルのインピーダンスに変化が生じる。
プラズマに電力を投入する際には、誘導コイルとコンデンサにより形成される共振回路を一定の発振周波数で駆動する。通常の高周波電源の出力インピーダンスは50Ωに設定されているため、高周波電源と共振回路との間にインピーダンス変換回路が配置され、高周波電源側から見たインピーダンスが常に50Ωになるように制御される。この場合、インピーダンス変換回路からの反射電力をなくすために、例えばインピーダンス変換回路内の真空可変コンデンサをモータなどで駆動して、容量を調整する方法が一般的に行われている。
このような構成の場合、プラズマ投入電力は高周波電源の出力電力に等しくなるため、例えば50Ωの電力計を用いて高周波電源の出力電力を予め校正しておくことにより、プラズマ投入電力を正確に制御することが可能である。しかしながら、このような構成では、インピーダンス変換回路を制御して、常に最適な状態を維持するために、複雑な制御機構と高価な部品を使用する必要がある。そのため、最近では、真空可変コンデンサなどの高価な部品を使用せず、負荷インピーダンスの変化に応じて周波数を変化させる方式(いわゆるfree−running方式)が広く用いられるようになってきている。
下記特許文献1〜4には、free−running方式の最もシンプルな回路構成として、自励発振方式に関する技術が開示されている。これらの技術では、高周波電源の出力インピーダンスを50Ωに限定せず、誘導コイルとコンデンサで構成される共振回路を直接駆動する方式が採用されている。このように、負荷インピーダンスの変化に応じて周波数が自動的に変化する自励発振方式を採用することにより、周波数の制御回路やインピーダンス変換回路などを省略することができるため、より単純な高周波電源装置を提供することが可能になる。
特開平10−214698号公報 特表2009−537829号公報 特開平6−20793号公報 国際公開第2012/039035号
上記のような従来の構成では、50Ωの電力計を用いて高周波電源の出力電力を予め校正しておくことができないため、プラズマ投入電力を正確に制御するための構成が必要となる。
上記特許文献3では、増幅素子として真空管を用いた構成が提案されている。この構成において、共振回路は並列共振回路であり、並列共振回路の入力電圧及び入力電流からプラズマ投入電力を算出し、制御することができるようになっている。
真空管は、高耐圧のデバイスであり、誘導コイルとコンデンサの並列共振回路を直接駆動できる。この場合、並列共振回路の入力電圧及び入力電流はともに正弦波となり、入力電圧と入力電流との間の位相差が小さいため、入力電圧と入力電流の乗算値の直流成分としてプラズマ投入電力を検出することが可能である。しかし、真空管を用いた増幅素子は効率が低いだけでなく、真空管には寿命があるとともに、半導体素子を用いたスイッチング回路などと比べて高コストになるという問題がある。
上記特許文献1及び2では、増幅素子として半導体素子を用いた構成が提案されている。上記特許文献1では、1つ又は2つのMOSFETによるソース接地のスイッチング回路が用いられており、スイッチング回路の直流電源ラインにチョークコイルが配置され、高周波に対する直流電源ラインのインピーダンスを大きくしている。このような回路では、負荷のインピーダンスが一定の条件において、高効率の高周波電源を実現できる。しかしながら、プラズマを生成するための高周波電源装置では、前述の様に、誘導コイルのインピーダンスが変化するため、スイッチング回路の負荷変動により、MOSFETのドレイン・ソース間電圧振幅が変化し、素子の最大定格を超えて、破損に至るおそれがある。
上記特許文献2では、4つのMOSFETをブリッジ型に配置し、ハイサイドのMOSFET及びローサイドのMOSFETと直列に、インピーダンス変換用のコイルを配置したスイッチング回路が用いられ、上記特許文献1と同様、スイッチング回路の負荷変動により、MOSFETのドレイン・ソース間電圧振幅が変化し、素子の最大定格を超えて、破損に至るおそれがある。また、誘導コイルとコンデンサは並列共振回路を構成しているが、真空管に比べて耐圧が低い半導体素子を用いるため、並列共振回路は、共振周波数を大きく外れた周波数で駆動され、スイッチング回路との間に、前記のインピーダンス変換用のコイルが配置されている。このため、並列共振回路の入力電圧と入力電流との間の位相差が90°に近い値となり、入力電圧と入力電流の乗算値の直流成分は非常に小さくなり、プラズマ投入電力を検出することが困難となる。このため、本特許文献には、共振回路の高周波電流を検出することにより、プラズマ投入電力を制御するような構成が提案されている。このような構成の場合、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態などが一定であれば、共振回路の高周波電流を一定に制御することにより、誘導コイルに供給する高周波電力を安定化することが可能である。
しかしながら、ICP発光分析装置では、分析試料の溶媒として、水を用いる場合と有機溶媒を用いる場合とがある。溶媒が水の場合と有機溶媒の場合とでは、誘導コイルに供給する高周波電力が同じであっても、誘導コイルのインピーダンスが大きく異なる。そのため、共振回路の高周波電流を一定に制御したとしても、負荷の状況に応じてプラズマ投入電力が大幅に変化し、プラズマ投入電力を正確に制御することができないという問題がある。この場合、溶媒が水の試料と有機溶媒の試料とを切り替えたときに、プラズマの消灯を招くおそれがある。
また、ICP発光分析装置では、マトリックスが未知の試料を分析する要求がある。しかし、マトリックスが異なる場合には、誘導コイルのインピーダンスが異なるため、共振回路の高周波電流を一定に制御したとしても、プラズマ投入電力が変化することとなる。そのため、共振回路の高周波電流を検出するような方式では、上記のような要求を満足することができないという問題がある。
上記特許文献4では、増幅素子として半導体素子を用いたスイッチング回路を備え、当該スイッチング回路の入力電圧と入力電流の乗算値を一定に制御するような構成が提案されている。
しかしながら、プラズマ投入電力は、スイッチング回路の入力電圧と入力電流の乗算値から、スイッチング回路で発生する損失を減算した値である。そのため、スイッチング回路の入力電圧と入力電流の乗算値を一定に制御したとしても、スイッチング回路の効率の変化などに起因して、プラズマ投入電力に変動が生じるという問題がある。
一方で、上述の通り、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態、プラズマ投入電力などによって、プラズマの状態が変化するが、従来の高周波電源装置には、プラズマの状態の変化をモニタするための機構が備えられていなかった。
すなわち、プラズマ投入電力が同じでも、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態などが異なると、プラズマの状態が変化することとなる。しかし、従来の高周波電源装置では、プラズマの状態の変化をモニタすることができないため、設定を誤った場合には、プラズマトーチが溶融してしまうなどの問題がある。
また、ICP発光分析装置で用いられる有機溶媒には、エタノール、メチルイソブチルケトン、メタノール、アセトンなどの多くの種類があり、複数の有機溶媒を種々の比率で混合する場合もある。有機溶媒の種類や混合比率が異なると、プラズマの状態も変化することとなる。しかし、従来の高周波電源装置では、プラズマの状態の変化をモニタすることができないため、設定を誤った場合には、分析結果に誤差が生じるなどの問題がある。
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、安価な構成でプラズマ投入電力を正確に制御することができる高周波電源装置を提供することを目的とする。また、本発明は、負荷変動に対して信頼性が高い高周波電源装置を提供することを目的とする。さらに、本発明は、プラズマの状態の変化を容易にモニタすることができる高周波電源装置を提供することを目的とする。
本発明に係る高周波電源装置は、直流電源と、直列共振回路と、スイッチング回路と、電圧検出部と、電流検出部と、プラズマ投入電力検出部とを備える。前記直列共振回路は、プラズマ生成用の誘導コイル及びコンデンサを含む。前記スイッチング回路は、ハーフブリッジ型又はフルブリッジ型であり、前記直流電源から供給される直流電力をスイッチングして前記直列共振回路に与える半導体素子を含む。前記電圧検出部は、前記直列共振回路の高周波入力電圧を検出する。前記電流検出部は、前記直列共振回路の高周波入力電流を検出する。前記プラズマ投入電力検出部は、前記高周波入力電圧及び前記高周波入力電流に基づいてプラズマ投入電力を検出する。
このような構成によれば、直列共振回路に対する高周波入力電圧及び高周波入力電流に基づいてプラズマ投入電力を検出することができる。このように、プラズマ投入電力を直接検出することにより、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態などにかかわらず、プラズマ投入電力を正確に制御することができる。また、半導体素子を含むスイッチング回路を用いることにより、真空管などを用いる構成と比較して、安価な構成とすることができる。したがって、安価な構成でプラズマ投入電力を正確に制御することができる。
特に、直列共振回路に含まれるコンデンサの作用により、当該直列共振回路に対する高周波入力電圧及び高周波入力電流の位相差が小さくなるため、入力電圧と入力電流の乗算値の直流成分としてプラズマ投入電力をより精度よく検出することが可能となる。
さらに、ハーフブリッジ型又はフルブリッジ型のスイッチング回路を用いることにより、負荷インピーダンスが大きく変化しても、半導体素子間の電圧の変化を小さくできる。したがって、プラズマの点灯や消灯、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態、プラズマ投入電力などに応じて負荷インピーダンスが変化した場合であっても、スイッチング回路が破損するのを防止することができ、負荷変動に対して信頼性が高い高周波電源装置を提供することができる。
前記高周波電源装置は、前記プラズマ投入電力検出部により検出されるプラズマ投入電力が一定となるように、前記直流電源を制御する電圧制御部をさらに備えていてもよい。
このような構成によれば、プラズマ投入電力が一定となるように直流電源を制御することにより、プラズマ投入電力を正確に制御することができる。すなわち、スイッチング回路の入力電圧と入力電流の乗算値を一定に制御するような構成と比較して、スイッチング回路の効率が変化した場合などであっても、プラズマ投入電力を正確に制御することができる。
前記高周波電源装置は、前記高周波入力電圧又は前記高周波入力電流の振幅を検出する振幅検出部、あるいは、前記高周波入力電圧又は前記高周波入力電流の周波数を検出する周波数検出部をさらに備えていてもよい。
このような構成によれば、直列共振回路に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の振幅、あるいは、直列共振回路に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の周波数を検出することにより、その振幅又は周波数に基づいてプラズマの状態の変化などをモニタすることができる。これにより、プラズマの点灯や消灯、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態、プラズマの異常状態、特にICP質量分析装置においてはサンプリングコーンとプラズマトーチの位置関係、などを判別することが可能となる。したがって、判別結果が意図しない結果であった場合には、直流電源を遮断するなどの措置を講ずることにより、高周波電源装置を保護することができる。
前記高周波電源装置は、前記振幅検出部により検出された振幅、又は、前記周波数検出部により検出された周波数に基づいて、前記誘導コイルのインピーダンスを示す値を検出するインピーダンス検出部をさらに備えていてもよい。
このような構成によれば、検出された直列共振回路に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の振幅、あるいは、直列共振回路に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の周波数に基づいて、誘導コイルのインピーダンスを示す値を検出し、当該値に基づいて、プラズマの状態の変化を容易にモニタすることができる。
前記インピーダンス検出部は、周波数の測定値から前記誘導コイルのインピーダンスを示す値を直接検出するような構成に限らず、プラズマ点灯前に検出された周波数を基準とする周波数変化量から前記誘導コイルのインピーダンスを示す値を検出するような構成であってもよい。自励発振方式では、誘導コイルのばらつきにより、発振周波数にばらつきが生じる。このため、プラズマ点灯前に周波数を検出しておき、これを基準値として、そこからの周波数変化量を用いることによって、より正確に判定することができる。
前記高周波電源装置は、前記インピーダンス検出部の検出値を予め設定された閾値と比較するインピーダンス判定部をさらに備えていてもよい。
このような構成によれば、検出された誘導コイルのインピーダンスを示す値を所定の閾値と比較することにより、異常を検知することができるため、作業者が誤った操作や設定を行った場合などであっても、不具合の発生を回避することができる。
本発明によれば、プラズマ投入電力を直接検出することにより、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態などにかかわらず、プラズマ投入電力を正確に制御することができるとともに、半導体素子を含むスイッチング回路を用いることにより、真空管などを用いる構成と比較して、安価な構成とすることができる。また、本発明によれば、ハーフブリッジ型又はフルブリッジ型のスイッチング回路を用いることにより、負荷インピーダンスが大きく変化しても、半導体素子間の電圧の変化を小さくできるため、負荷変動に対して信頼性が高い高周波電源装置を提供することができる。さらに、本発明によれば、直列共振回路に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の振幅、あるいは、直列共振回路に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の周波数に基づいて、プラズマの状態の変化を容易にモニタすることができる。
本発明の一実施形態に係る高周波電源装置の構成例を示した回路図である。 プラズマ投入電力を検出するための構成例を示したブロック図である。 高周波電源装置の変形例を示した回路図である。
図1は、本発明の一実施形態に係る高周波電源装置の構成例を示した回路図である。この高周波電源装置は、例えば誘導結合プラズマ(ICP)発光分析装置などの分析装置に適用可能であり、直流電源1、バイパスコンデンサ2、スイッチング回路3、インピーダンス変換回路4及び直列共振回路5などを備えた高周波電源装置である。
直流電源1は、スイッチング回路3の直流電圧を設定し、直列共振回路5に供給される高周波電力を決定する。バイパスコンデンサ2は、直流電源1とスイッチング回路3の間に配置され、低インピーダンスの高周波電流経路を確保する。
直列共振回路5には、誘導コイル51と、当該誘導コイル51に対して直列に接続されたコンデンサ52とが含まれる。この直列共振回路5に含まれる誘導コイル51はプラズマ生成用であり、当該誘導コイル51に対し、直流電源1からスイッチング回路3を介して高周波電力を供給することにより、プラズマトーチ(図示せず)にプラズマを生成することができる。
インピーダンス変換回路4には、4つのコイル41、42、44、45と、コンデンサ43とが含まれる。スイッチング回路3とインピーダンス変換回路4との間には、インピーダンス変換回路4のコイル41、42及びコンデンサ43を含むループが形成されている。また、インピーダンス変換回路4と直列共振回路5との間には、インピーダンス変換回路4のコイル44、45、53及びコンデンサ43、並びに、直列共振回路5の誘導コイル51及びコンデンサ52を含むループが形成されている。
スイッチング回路3は、半導体素子を含む構成であり、当該半導体素子を介して直流電源1に接続されている。この例では、4つのMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field-Effect Transistor)31、32、33、34を含むブリッジ回路によりスイッチング回路3が構成されている。スイッチング回路3は、ハーフブリッジ型又はフルブリッジ型のブリッジ回路により構成されている。ただし、スイッチング回路3に含まれる半導体素子は、MOSFETに限られるものではない。
MOSFET31のドレイン電極と、MOSFET32のソース電極との間に、直流電源1及びバイパスコンデンサ2が接続されている。また、MOSFET31のソース電極と、MOSFET32のドレイン電極とは、配線35により接続されており、当該配線35の途中部にインピーダンス変換回路4のコイル41が接続されている。
MOSFET33のドレイン電極と、MOSFET34のソース電極との間に、直流電源1及びバイパスコンデンサ2が接続されている。また、MOSFET33のソース電極と、MOSFET34のドレイン電極とは、配線36により接続されており、当該配線36の途中部にインピーダンス変換回路4のコイル42が接続されている。
各MOSFET31、32、33、34のゲート電極とソース電極には、ゲート駆動回路37が接続されている。直列共振回路5を発振させる際には、ゲート駆動回路37を介して各MOSFET31、32、33、34が所定のタイミングでオン状態又はオフ状態に切り替えられることとなる。これにより、直流電源1から供給される直流電力をスイッチングして直列共振回路5に与えることができる。
各ゲート駆動回路37には、互いに並列に接続されたコイル371及びコンデンサ372が備えられている。各ゲート駆動回路37に備えられたコイル371は、トランスの2次コイルを構成しており、各MOSFET31、32、33、34をオン/オフするために、各MOSFET31、32、33、34の制御端子(ゲート電極とソース電極)に接続されている。各トランスの1次コイルは、インピーダンス変換回路4に含まれるコイル53により構成されている。各コイル53は、誘導コイル51及びコンデンサ52に対して直列に接続されている。このように、本実施形態では、1対の1次コイル53及び2次コイル371により構成されるトランスが、各MOSFET31、32、33、34に対応付けて設けられており、各MOSFET31、32、33、34に対してフィードバック電圧を供給することができるようになっている。
本実施形態では、プラズマ投入電力を検出するために、直列共振回路5における電圧Vと電流Iが測定される。電圧Vは、直列共振回路5に対する高周波入力電圧であり、電流Iは、直列共振回路5に対する高周波入力電流である。電圧Vは、直列共振回路5と並列に配置され、その合成容量が充分小さいコンデンサ分圧回路で測定することができる。このとき測定される電圧Vは、正弦波となる。電流Iは、例えば直列共振回路5の一部と誘導結合した回路で測定することができる。
図2は、プラズマ投入電力を検出するための構成例を示したブロック図である。本実施形態では、直列共振回路5の高周波入力電圧(電圧V)を電圧検出部101で検出するとともに、直列共振回路5の高周波入力電流(電流I)を電流検出部102で検出することにより、それらの電圧V及び電流Iに基づいて、プラズマ投入電力を検出することができるようになっている。具体的には、電圧V及び電流Iを乗算器103で乗算することにより得られる出力信号に基づいて、プラズマ投入電力が算出される。乗算器103からの出力信号は、低域フィルタ104を介して制御部110に入力される。
電圧検出部101により検出された電圧Vは、乗算器103だけでなく、検波回路105にも入力される。検波回路105は、例えばダイオード及びコンデンサを含む構成である。この検波回路105により、電圧Vの振幅(最大値)が検出され、制御部110に入力される。電流検出部102により検出された電流Iは、乗算器103だけでなく、検波回路106及び周波数カウンタ107にも入力される。検波回路106は、例えばダイオード及びコンデンサを含む構成である。この検波回路106により、電流Iの振幅(最大値)が検出され、制御部110に入力される。また、周波数カウンタ107では、電流Iに基づいて周波数がカウントされ、制御部110に入力される。
ただし、周波数カウンタ107は、電流Iに基づいて周波数をカウントするような構成に限らず、例えば電圧Vに基づいて周波数をカウントするような構成であってもよい。この場合、電流Iが周波数カウンタ107に入力されるような構成ではなく、電圧Vが周波数カウンタ107に入力されるような構成となっていてもよい。
このように、周波数カウンタ107は、直列共振回路5に対する高周波入力電圧(電圧V)又は高周波入力電流(電流I)の周波数を検出する周波数検出部を構成している。周波数カウンタ107のような周波数検出部を設けることにより、直列共振回路5の周波数を容易に検出することができる。
制御部110は、例えばCPU(Central Processing Unit)又はFPGA(Field Programmable Gate Array)を含む構成であり、プログラムを実行することにより、プラズマ投入電力検出部111、電圧制御部112、インピーダンス検出部113、インピーダンス判定部114、異常処理部120、などの各種機能部として機能する。
プラズマ投入電力検出部111は、電圧V及び電流Iに基づいて、プラズマ投入電力を検出する。具体的には、電圧V及び電流Iから乗算器103及び低域フィルタ104を介して得られる出力値が、プラズマ投入電力に比例することに基づいて、ゲインなどに応じた所定の係数を当該出力値に乗じた値がプラズマ投入電力として検出される。
すなわち、本実施形態では、直列共振回路5に対する高周波入力電圧(電圧V)及び高周波入力電流(電流I)を電圧検出部101及び電流検出部102によりそれぞれ検出し、検出された高周波入力電圧及び高周波入力電流に基づいてプラズマ投入電力を検出することができる。このように、プラズマ投入電力を直接検出することにより、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態などにかかわらず、プラズマ投入電力を正確に制御することができる。また、半導体素子を含むスイッチング回路3を用いることにより、真空管などを用いる構成と比較して、安価な構成とすることができる。したがって、安価な構成でプラズマ投入電力を正確に制御することができる。
特に、直列共振回路5に含まれるコンデンサ52の作用により、当該直列共振回路5に対する高周波入力電圧及び高周波入力電流の位相差が小さくなるため、入力電圧と入力電流の乗算値の直流成分としてプラズマ投入電力をより精度よく検出することが可能となる。
さらに、ハーフブリッジ型又はフルブリッジ型のスイッチング回路3を用いることにより、負荷インピーダンスが大きく変化しても、各MOSFET31、32、33、34のドレイン・ソース間の電圧の変化は小さい。したがって、プラズマの点灯や消灯、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態、プラズマ投入電力などに応じて負荷インピーダンスが変化した場合であっても、スイッチング回路3が破損するのを防止することができ、負荷変動に対して信頼性が高い高周波電源装置を提供することができる。
電圧制御部112は、プラズマ投入電力検出部111により検出されるプラズマ投入電力が一定となるように、直流電源1を制御する。より具体的には、電圧制御部112による電圧制御はプラズマ生成後に行われる。プラズマ生成前は、例えば直流電源1の電圧あるいは、直列共振回路5に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の振幅が一定になるように制御され、プラズマ生成後に、制御モードが電圧制御部112による電圧制御に切り替えられることにより、プラズマ投入電力が一定となるように制御される。この際、直流電源1の電圧、あるいは直列共振回路5に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の振幅は、制御モードの切り替え前後の変化量が小さくなる値に設定しておくことが好ましい。
このように、プラズマ生成後にプラズマ投入電力が一定となるように直流電源1を制御することにより、プラズマ投入電力を正確に制御することができる。すなわち、スイッチング回路3の入力電圧と入力電流の乗算値を一定に制御するような構成と比較して、スイッチング回路3の効率が変化した場合などであっても、プラズマ投入電力を正確に制御することができる。
本実施形態において、検波回路105、106は、直列共振回路5に対する高周波入力電圧(電圧V)又は高周波入力電流(電流I)の振幅を検出するための振幅検出部を構成している。このように、直列共振回路5に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の振幅を検出することにより、その振幅に基づいてプラズマの状態の変化などをモニタすることができる。また、周波数カウンタ107のような周波数検出部を用いて、直列共振回路5に対する高周波入力電圧(電圧V)又は高周波入力電流(電流I)の周波数を検出することにより、その周波数に基づいてプラズマの状態の変化などをモニタすることもできる。
これにより、プラズマの点灯や消灯、プラズマ生成用ガスや分析試料の状態、プラズマの異常状態、特にICP質量分析装置においてはサンプリングコーンとプラズマトーチの位置関係、などを判別することが可能となる。したがって、判別結果が意図しない結果であった場合には、直流電源1を遮断するなどの措置を講ずることにより、高周波電源装置を保護することができる。
インピーダンス検出部113は、検波回路105、106により検出された直列共振回路5に対する高周波入力電圧及び高周波入力電流の振幅に基づいて、誘導コイル51のインピーダンスZを示す値を検出する。ここで、誘導コイル51のインピーダンスZを示す値とは、インピーダンスZの値自体に限らず、インピーダンスZに応じて変化する値も含む概念である。
プラズマ投入電力が一定となるように制御されている状態では、直列共振回路5に対する高周波入力電圧及び高周波入力電流の振幅の変化に応じて、誘導コイル51のインピーダンスZを示す値も変化する。したがって、直列共振回路5に対する高周波入力電圧及び高周波入力電流の振幅(当該振幅の変化量を含む。)に基づいて、誘導コイル51のインピーダンスZを示す値を検出することが可能である。本実施形態にように、直列共振回路5に対する高周波入力電圧及び高周波入力電流の振幅をいずれも検出するような構成であれば、インピーダンスを示す値をより正確に検出することができる。ただし、検波回路105、106のいずれか一方が省略されることにより、直列共振回路5に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の振幅(当該振幅の変化量を含む。)に基づいて、誘導コイル51のインピーダンスZを示す値を検出するような構成であってもよい。
同様に、プラズマ投入電力が一定となるように制御されている状態では、直列共振回路5に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の周波数の変化に応じて、誘導コイル51のインピーダンスZを示す値も変化する。したがって、直列共振回路5に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の周波数(当該周波数の変化量を含む。)に基づいて、誘導コイル51のインピーダンスZを示す値を検出することも可能である。
このように、本実施形態では、検出された直列共振回路5に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の振幅、あるいは、直列共振回路5に対する高周波入力電圧又は高周波入力電流の周波数に基づいて、誘導コイル51のインピーダンスを示す値を検出し、当該値に基づいて、プラズマの状態の変化を容易にモニタすることができる。
ただし、インピーダンス検出部113は、周波数の測定値から誘導コイル51のインピーダンスZを示す値を直接検出するような構成に限らず、プラズマ点灯前に検出された周波数を基準とする周波数変化量から誘導コイル51のインピーダンスZを示す値を検出するような構成であってもよい。自励発振方式では、誘導コイル51のばらつきにより、発振周波数にばらつきが生じる。このため、プラズマ点灯前に周波数を検出しておき、これを基準値として、そこからの周波数変化量を用いることによって、より正確に判定することができる。
インピーダンス判定部114は、インピーダンス検出部113の検出値、すなわち誘導コイル51のインピーダンスZを示す値を予め設定された閾値と比較する。これにより、例えばインピーダンスZを示す値が想定外の値である場合に、異常を検知することができる。インピーダンス判定部114による判定結果は、異常処理部120に入力される。
異常処理部120は、インピーダンス判定部114の判定結果に基づいて異常処理を行う。例えば作業者が誤った操作や設定を行った場合などには、インピーダンス判定部114による判定結果に基づいて異常を報知することにより、不具合の発生を回避することができる。また、例えば高周波電源装置が想定外の動作をした場合などには、直流電源1の出力を遮断してプラズマを消灯させ不具合の拡大を防止することができる。
図3は、高周波電源装置の変形例を示した回路図である。この変形例では、直流電源1、バイパスコンデンサ2及びスイッチング回路3などの構成は上記実施形態と同様であるが、インピーダンス変換回路4及び直列共振回路5の構成が上記実施形態とは異なっている。具体的には、コイル44、45、53が、インピーダンス変換回路4ではなく直列共振回路5に含まれている。
この変形例では、プラズマ投入電力を検出するために、インピーダンス変換回路4のコンデンサ43の両端における電圧V´と、直列共振回路5における電流Iが測定される。電圧V´は、直列共振回路5に対する高周波入力電圧であり、電流Iは、直列共振回路5に対する高周波入力電流である。電圧V´は、例えばコンデンサ43と並列に配置したコンデンサ分圧回路で測定することができる。この場合、コンデンサ分圧回路の合成容量をコンデンサ43の一部とすることができるため、合成容量を充分小さくする必要はない。電流Iは、例えば直列共振回路5の一部と誘導結合した回路で測定することができる。ここで、電流Iは正弦波となるが、インピーダンス変換回路4のコンデンサ43にはスイッチング回路3から高調波電流が流入するため、電圧V´には多くの高調波が含まれ、電圧V´は正弦波とはならない。ただし、電流Iが正弦波であるため、電圧V´と電流Iの乗算結果の直流成分には電圧V´の高調波成分は現れず、プラズマ投入電力に一致する。
以上の実施形態では、図1を用いてスイッチング回路3、インピーダンス変換回路4及び直列共振回路5の構成を具体的に説明したが、このような構成に限らず、スイッチング回路3、インピーダンス変換回路4及び直列共振回路5の少なくとも1つに、他の各種構成を採用することができる。
また、以上の実施形態では、直列共振回路5に対する高周波入力電圧(電圧V)及び高周波入力電流(電流I)をそれぞれ電圧検出部101及び電流検出部102により検出するような構成について説明したが、例えばフィルタにより電圧V及び電流Iの基本波成分を抽出し、それらの基本波成分に基づいてプラズマ投入電力を検出するような構成であってもよい。
この場合、各フィルタにより抽出された電圧V及び電流Iの基本波成分は、それらの基本波成分間の位相差が位相差調整機構で調整された上で、乗算器103に入力されるような構成であってもよい。位相差調整機構は、例えば手動で基本波成分間の位相差を調整することができるものであり、高周波電源装置の出荷時に予め調整しておくことにより、部品のばらつきを補正することができる。これにより、部品のばらつきなどに起因して、電圧V及び電流Iの基本波成分間に位相差が生じるのを防止することができるため、プラズマ投入電力の検出値の精度を向上することができる。
本発明に係る高周波電源装置は、ICP発光分析装置に限らず、プラズマを利用して分析を行う他の分析装置にも適用可能である。また、本発明に係る高周波電源装置は、分析装置に限らず、プラズマを利用する他の各種装置(例えば、プラズマCVD用の高周波発振回路など)にも適用可能である。
1 直流電源
2 バイパスコンデンサ
3 スイッチング回路
4 インピーダンス変換回路
5 直列共振回路
31〜34 MOSFET
35 配線
36 配線
37 ゲート駆動回路
41 コイル
42 コイル
43 コンデンサ
44 コイル
45 コイル
51 誘導コイル
52 コンデンサ
53 コイル(1次コイル)
101 電圧検出部
102 電流検出部
103 乗算器
104 低域フィルタ
105 検波回路
106 検波回路
107 周波数カウンタ
110 制御部
111 プラズマ投入電力検出部
112 電圧制御部
113 インピーダンス検出部
114 インピーダンス判定部
120 異常処理部
371 コイル(2次コイル)
372 コンデンサ

Claims (5)

  1. 直流電源と、
    プラズマ生成用の誘導コイル及びコンデンサを含む直列共振回路と、
    前記直流電源から供給される直流電力をスイッチングして前記直列共振回路に与える半導体素子を含むハーフブリッジ型又はフルブリッジ型のスイッチング回路と、
    前記直列共振回路の高周波入力電圧を検出する電圧検出部と、
    前記直列共振回路の高周波入力電流を検出する電流検出部と、
    前記高周波入力電圧及び前記高周波入力電流に基づいてプラズマ投入電力を検出するプラズマ投入電力検出部とを備えたことを特徴とする高周波電源装置。
  2. 前記プラズマ投入電力検出部により検出されるプラズマ投入電力が一定となるように、前記直流電源を制御する電圧制御部をさらに備えたことを特徴とする請求項1に記載の高周波電源装置。
  3. 前記高周波入力電圧又は前記高周波入力電流の振幅を検出する振幅検出部、あるいは、前記高周波入力電圧又は前記高周波入力電流の周波数を検出する周波数検出部をさらに備えたことを特徴とする請求項1又は2に記載の高周波電源装置。
  4. 前記振幅検出部により検出された振幅、又は、前記周波数検出部により検出された周波数に基づいて、前記誘導コイルのインピーダンスを示す値を検出するインピーダンス検出部をさらに備えたことを特徴とする請求項3に記載の高周波電源装置。
  5. 前記インピーダンス検出部の検出値を予め設定された閾値と比較するインピーダンス判定部をさらに備えたことを特徴とする請求項4に記載の高周波電源装置。
JP2014178880A 2014-09-03 2014-09-03 高周波電源装置 Pending JP2016054041A (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014178880A JP2016054041A (ja) 2014-09-03 2014-09-03 高周波電源装置
US14/825,325 US9648719B2 (en) 2014-09-03 2015-08-13 High-frequency power supply device
CN201510559287.6A CN105392269A (zh) 2014-09-03 2015-09-02 高频电源装置
US15/475,402 US20170205287A1 (en) 2014-09-03 2017-03-31 High-frequency power supply device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014178880A JP2016054041A (ja) 2014-09-03 2014-09-03 高周波電源装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2016054041A true JP2016054041A (ja) 2016-04-14

Family

ID=55404243

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014178880A Pending JP2016054041A (ja) 2014-09-03 2014-09-03 高周波電源装置

Country Status (3)

Country Link
US (2) US9648719B2 (ja)
JP (1) JP2016054041A (ja)
CN (1) CN105392269A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019012906A1 (ja) * 2017-07-13 2019-01-17 株式会社島津製作所 プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016054041A (ja) * 2014-09-03 2016-04-14 株式会社島津製作所 高周波電源装置
CN110212762B (zh) * 2018-02-28 2021-05-28 新动力等离子体株式会社 提高脉冲功能的高频功率发生装置
AU2020257212A1 (en) * 2019-04-16 2021-11-11 Atmospheric Plasma Solutions, Inc. Waveform detection of states and faults in plasma inverters
TW202102301A (zh) * 2019-06-05 2021-01-16 國立大學法人金澤大學 微粒子之製造裝置及微粒子之製造方法
DE102020117402A1 (de) * 2020-07-01 2022-01-05 Analytik Jena Gmbh Generator für die Spektrometrie
CN112401105B (zh) * 2020-11-13 2023-07-21 南京苏曼等离子科技有限公司 一种高压电场低温等离子体冷杀菌***电路和装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004080846A (ja) * 2002-08-09 2004-03-11 Kyosan Electric Mfg Co Ltd プラズマ発生用電源装置
JP2010114001A (ja) * 2008-11-07 2010-05-20 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd プラズマ発生用電源装置
JP2012050296A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Daihen Corp 高周波電源装置
JP2012079454A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Mitsubishi Electric Corp プラズマ発生用電源
JP2012102377A (ja) * 2010-11-11 2012-05-31 Fujifilm Corp 成膜装置
JP2013190324A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Daihen Corp 校正パラメータ生成システム

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3167221B2 (ja) 1992-05-07 2001-05-21 ザ・パーキン・エルマー・コーポレイション 誘導結合プラズマ発生器
JPH07201496A (ja) * 1993-12-29 1995-08-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマ発生方法及びプラズマ発生装置
US6329757B1 (en) 1996-12-31 2001-12-11 The Perkin-Elmer Corporation High frequency transistor oscillator system
US6650068B2 (en) * 2000-03-13 2003-11-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Induction coil core, illumination unit using the same, and polycrystalline ferrite
JP4597580B2 (ja) * 2004-05-21 2010-12-15 株式会社ダイヘン 高周波電源装置
KR101133752B1 (ko) * 2004-06-04 2012-04-09 삼성전자주식회사 표시 장치용 광원의 구동 장치 및 표시 장치
JP2006191746A (ja) * 2005-01-06 2006-07-20 Sony Corp スイッチング電源回路
JP4739793B2 (ja) * 2005-03-31 2011-08-03 株式会社ダイヘン 高周波電源装置
WO2006107044A1 (ja) * 2005-04-04 2006-10-12 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. プラズマ処理方法及び装置
CN101454863B (zh) * 2006-05-22 2012-01-04 安捷伦科技澳大利亚有限公司 用于光谱测定的发电机
US9287086B2 (en) * 2010-04-26 2016-03-15 Advanced Energy Industries, Inc. System, method and apparatus for controlling ion energy distribution
JP5633778B2 (ja) * 2010-04-01 2014-12-03 ミネベア株式会社 スイッチング電源装置
JP5471752B2 (ja) * 2010-04-09 2014-04-16 サンケン電気株式会社 Led駆動装置
JP5429391B2 (ja) * 2010-09-22 2014-02-26 株式会社島津製作所 高周波電源
JP5729693B2 (ja) * 2011-03-30 2015-06-03 株式会社ダイヘン 高周波電源装置
JP6084417B2 (ja) * 2012-09-28 2017-02-22 株式会社ダイヘン インピーダンス調整装置
JP2015012729A (ja) * 2013-06-28 2015-01-19 株式会社安川電機 マトリクスコンバータ
JP6221833B2 (ja) * 2014-02-28 2017-11-01 株式会社島津製作所 高周波発振回路
JP2016054041A (ja) * 2014-09-03 2016-04-14 株式会社島津製作所 高周波電源装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004080846A (ja) * 2002-08-09 2004-03-11 Kyosan Electric Mfg Co Ltd プラズマ発生用電源装置
JP2010114001A (ja) * 2008-11-07 2010-05-20 Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd プラズマ発生用電源装置
JP2012050296A (ja) * 2010-08-30 2012-03-08 Daihen Corp 高周波電源装置
JP2012079454A (ja) * 2010-09-30 2012-04-19 Mitsubishi Electric Corp プラズマ発生用電源
JP2012102377A (ja) * 2010-11-11 2012-05-31 Fujifilm Corp 成膜装置
JP2013190324A (ja) * 2012-03-14 2013-09-26 Daihen Corp 校正パラメータ生成システム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019012906A1 (ja) * 2017-07-13 2019-01-17 株式会社島津製作所 プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法
JPWO2019012906A1 (ja) * 2017-07-13 2020-04-16 株式会社島津製作所 プラズマ発生装置、これを備えた発光分析装置及び質量分析装置、並びに、装置状態判定方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20160066405A1 (en) 2016-03-03
US20170205287A1 (en) 2017-07-20
US9648719B2 (en) 2017-05-09
CN105392269A (zh) 2016-03-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2016054041A (ja) 高周波電源装置
US20220084791A1 (en) Rf impedance matching network
JP6342066B1 (ja) 送電側機器
TWI501063B (zh) 電源裝置以及使用該電源裝置的測試裝置
JP2006278335A (ja) プラズマプロセスでのアーク識別方法およびプラズマ励起装置
CN107529349B (zh) 沿面放电元件驱动用电源电路
KR101844981B1 (ko) 플라즈마 공정용 llcc 공진컨버터
US9232627B2 (en) Radio-frequency oscillation circuit
JP6353142B2 (ja) 沿面放電素子駆動用電源回路
JP2019062640A (ja) 電源装置
JP6184436B2 (ja) 沿面放電素子駆動用電源回路
JP6159472B2 (ja) 圧電トランスを制御する回路装置および方法
WO2016166976A1 (ja) コンバータ及び受電装置
KR101922015B1 (ko) 고주파 전력 발생장치의 컨버터 제어장치
US6713885B2 (en) Power supply, a semiconductor making apparatus and a semiconductor wafer fabricating method using the same
JP2002176034A (ja) プラズマエッチングにおける異常放電自動防止装置
KR100886739B1 (ko) 전원장치와 이것을 사용한 반도체제조장치 및반도체웨이퍼의 제조방법
JP2003234329A (ja) 電源装置及びこれを用いた半導体製造装置及び半導体ウェハの製造方法
TW201438333A (zh) 用於電漿系統的阻抗匹配方法
JP2006288009A5 (ja)
JP2017189114A (ja) 沿面放電素子駆動用電源回路
JP2001244090A (ja) 蛍光ランプの駆動回路

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170106

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170822

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20180313