JP2016051477A - Touch panel and display device with touch panel - Google Patents

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Hirokazu Odagiri
広和 小田桐
佳昭 今村
Yoshiaki Imamura
佳昭 今村
貴 岩村
Takashi Iwamura
貴 岩村
井上　純一
Junichi Inoue
純一 井上
井上　誠
Makoto Inoue
誠 井上
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel that can provide stable operability.SOLUTION: A touch panel includes a substrate 1, an electrode layer 5 including a metal nanowire, and an intermediate layer 20 arranged between the substrate 1 and electrode layer 5. At least one of the substrate 1, electrode layer 5, and intermediate layer 20 includes an ultraviolet absorption material.SELECTED DRAWING: Figure 1B

Description

本発明は、静電容量の変化に基づいて操作位置を検出するタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置に関する。   The present invention relates to a touch panel that detects an operation position based on a change in capacitance and a display device with a touch panel.

近年、指で容易かつ感覚的に操作できるタッチバネルが広く普及しており、そのタッチパネルは、携帯電話機などの多様な表示装置に適用されている。これに伴い、タッチパネルの小型化、薄型化、軽量化、省電力化および低コスト化などに関する多様な開発がなされている。   In recent years, touch panels that can be easily and sensibly operated with fingers are widely used, and the touch panels are applied to various display devices such as mobile phones. Along with this, various developments related to downsizing, thinning, lightening, power saving and cost reduction of touch panels have been made.

タッチパネルにおいて操作位置（指の位置）を検出する方式としては、電気抵抗の変化を検出する抵抗膜式、超音波などを利用する表面弾性波方式、静電容量の変化を検出する静電容量方式などが知られている。中でも、複数の操作位置を検出できる点などにおいて、静電容量方式が注目されている。   As a method of detecting the operation position (finger position) on the touch panel, a resistance film type that detects a change in electrical resistance, a surface acoustic wave method that uses ultrasonic waves, and a capacitance method that detects a change in capacitance Etc. are known. In particular, the electrostatic capacity method is attracting attention because it can detect a plurality of operation positions.

静電容量方式を用いたタッチパネルは、基体の一面に設けられると共に静電容量を発生させる電極層と、その静電容量の変化を検出する外部回路などを備えている。   A touch panel using a capacitance method includes an electrode layer that is provided on one surface of a substrate and generates capacitance, and an external circuit that detects a change in the capacitance.

ここで、静電容量方式を用いたタッチパネルの構成に関しては、既にさまざまな提案がなされている。   Here, various proposals have already been made regarding the configuration of a touch panel using a capacitance method.

具体的には、堆積（成膜）処理などを用いて、基体の一面に電極層が形成されている（例えば、特許文献１参照。）。これにより、電極層などが基体と一体化されるため、いわゆる一体型のタッチパネルが形成される。   Specifically, an electrode layer is formed on one surface of the substrate by using a deposition (film formation) process or the like (see, for example, Patent Document 1). Thereby, since an electrode layer etc. are integrated with a base | substrate, what is called an integrated touch panel is formed.

基体として、ガラス板に代えて、プラスチック基板が用いられている（例えば、特許文献２参照。）。   As the substrate, a plastic substrate is used instead of a glass plate (see, for example, Patent Document 2).

特許第５１９９９１３号明細書Japanese Patent No. 5199913 特開２０１４−０８５７５３号公報JP 2014-085753 A

タッチパネルが外部光に晒されると、その外部光（特に紫外線）の影響を受けて電極層の電気抵抗が増加するため、操作性が不安定になり得る。   When the touch panel is exposed to external light, the electrical resistance of the electrode layer increases due to the influence of the external light (particularly ultraviolet light), and thus the operability may become unstable.

本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、安定した操作性を得ることが可能なタッチパネルおよびタッチパネル付き表示装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of such problems, and an object thereof is to provide a touch panel and a display device with a touch panel capable of obtaining stable operability.

本発明のタッチパネルは、基体と、金属ナノワイヤを含む電極層と、基体と電極層との間に配置された中間層とを備え、基体、電極層および中間層のうちの少なくとも１つが紫外線吸収材料を含むものである。   The touch panel of the present invention includes a base, an electrode layer including metal nanowires, and an intermediate layer disposed between the base and the electrode layer, and at least one of the base, the electrode layer, and the intermediate layer is an ultraviolet absorbing material. Is included.

本発明のタッチパネル付き表示装置は、タッチパネルと、そのタッチパネルが取り付けられた表示パネルとを備え、そのタッチパネルが上記した本発明のタッチパネルと同様の構成を有するものである。   The display device with a touch panel of the present invention includes a touch panel and a display panel to which the touch panel is attached, and the touch panel has the same configuration as the touch panel of the present invention described above.

本発明のタッチパネルまたはタッチパネル付き表示装置によれば、電極層が金属ナノワイヤを含んでいると共に、基体、電極層および中間層のうちの少なくとも１つが紫外線吸収材料を含んでいるので、安定した操作性を得ることができる。   According to the touch panel or the display device with a touch panel of the present invention, since the electrode layer includes the metal nanowire and at least one of the base, the electrode layer, and the intermediate layer includes the ultraviolet absorbing material, stable operability is achieved. Can be obtained.

本発明の第１実施形態のタッチパネルの構成を表す平面図である。It is a top view showing the structure of the touchscreen of 1st Embodiment of this invention. 図１Ａに示したタッチパネルの１Ｂ−１Ｂ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the 1B-1B line | wire of the touch panel shown to FIG. 1A. 図１Ａおよび図１Ｂのそれぞれに示した電極層の平面図である。It is a top view of the electrode layer shown in each of Drawing 1A and Drawing 1B. 本発明の第２実施形態のタッチパネルの構成を表す平面図である。It is a top view showing the structure of the touchscreen of 2nd Embodiment of this invention. 図２Ａに示したタッチパネルの２Ｂ−２Ｂ線に沿った断面図である。It is sectional drawing along the 2B-2B line | wire of the touch panel shown to FIG. 2A. 図２Ａおよび図２Ｂのそれぞれに示した電極層の平面図である。It is a top view of the electrode layer shown in each of Drawing 2A and Drawing 2B. 図２Ａおよび図２Ｂのそれぞれに示した対向電極層の平面図である。It is a top view of the counter electrode layer shown in each of Drawing 2A and Drawing 2B. 本発明の第３実施形態のタッチパネルの構成を表す平面図である。It is a top view showing the structure of the touchscreen of 3rd Embodiment of this invention. 図３Ａに示したタッチパネルの３Ｂ−３Ｂ線に沿った断面図である。It is sectional drawing which followed the 3B-3B line | wire of the touch panel shown to FIG. 3A. 図３Ａおよび図３Ｂのそれぞれに示した電極層の平面図である。It is a top view of the electrode layer shown in each of Drawing 3A and Drawing 3B. 本発明のタッチパネルが適用されたタッチパネル付き表示装置の構成を模式的に表す断面図である。It is sectional drawing which represents typically the structure of the display apparatus with a touch panel to which the touch panel of this invention was applied. 実施例における電気抵抗の経過時間依存性を表す図である。It is a figure showing the elapsed time dependence of the electrical resistance in an Example. 比較例における電気抵抗の経過時間依存性を表す図である。It is a figure showing the elapsed time dependence of the electrical resistance in a comparative example.

以下、本発明の一実施形態に関して、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、説明する順序は、下記の通りである。

１．タッチパネル
１−１．第１実施形態
１−２．第２実施形態
１−３．第３実施形態
２．タッチパネル付き表示装置
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. The order of explanation is as follows.

1. Touch panel 1-1. First embodiment 1-2. Second Embodiment 1-3. Third Embodiment2. Display device with touch panel

＜１．タッチパネル＞
まず、本発明の一実施形態のタッチパネルに関して説明する。 <1. Touch panel>
First, a touch panel according to an embodiment of the present invention will be described.

＜１−１．第１実施形態＞
図１Ａは、本実施形態のタッチパネルの平面構成を表しており、図１Ｂは、図１Ａに示したタッチパネルの１Ｂ−１Ｂ線に沿った断面構成を表している。図１Ｃは、図１Ａおよび図１Ｂのそれぞれに示した電極層５の平面構成を表している。 <1-1. First Embodiment>
FIG. 1A shows a planar configuration of the touch panel of the present embodiment, and FIG. 1B shows a cross-sectional configuration along the line 1B-1B of the touch panel shown in FIG. 1A. FIG. 1C shows a planar configuration of the electrode layer 5 shown in each of FIGS. 1A and 1B.

ここで説明するタッチパネルは、いわゆる静電容量方式のタッチパネルであり、静電容量の変化に基づいて操作位置（指の位置）を検出する。   The touch panel described here is a so-called capacitive touch panel, and detects an operation position (finger position) based on a change in capacitance.

なお、図１Ｂにおいて、タッチパネルは、上側から操作される。すなわち、タッチパネルを操作するユーザの指は、図１Ｂ中の上側からタッチパネルに触れることになる。以下では、図１Ｂ中の上側（指で触れる側）を「操作側」、下側（指で触れる側の反対側）を「非操作側」とそれぞれ呼称する。   In FIG. 1B, the touch panel is operated from above. That is, a user's finger operating the touch panel touches the touch panel from the upper side in FIG. 1B. In the following, the upper side (side touched with a finger) in FIG. 1B is referred to as “operation side”, and the lower side (opposite side to touch with a finger) is referred to as “non-operation side”.

［タッチパネルの構成の概要］
このタッチパネルは、例えば、図１Ａ〜図１Ｃに示したように、基体１と、電極層５と、その基体１と電極層５との間に配置された中間層２０とを備えている。すなわち、基体１の一面に、中間層２０と、電極層５とがこの順に積層されている。この電極層５は、金属ナノワイヤを含んでいる。 [Overview of touch panel configuration]
For example, as shown in FIGS. 1A to 1C, the touch panel includes a base body 1, an electrode layer 5, and an intermediate layer 20 disposed between the base body 1 and the electrode layer 5. That is, the intermediate layer 20 and the electrode layer 5 are laminated in this order on one surface of the substrate 1. The electrode layer 5 includes metal nanowires.

基体１は、電極層５などの支持体であり、光透過性を有している。   The substrate 1 is a support such as the electrode layer 5 and has light transmittance.

この基体１の種類は、特に限定されない。具体的には、基体１は、剛性を有する基板でもよいし、柔軟性（可撓性）を有するフィルムでもよいし、それらのうちのいずれか１種類または２種類以上の積層体でもよい。   The type of the substrate 1 is not particularly limited. Specifically, the substrate 1 may be a rigid substrate, a film having flexibility (flexibility), or any one of them or a laminate of two or more.

中でも、基体１は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）およびシクロオレフィン系樹脂（ＣＯＰ，ＣＯＣ）などの高分子化合物のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいることが好ましい。これらの高分子化合物の比重はガラスの比重よりも小さいため、タッチパネルの軽量化が図られるからである。高分子化合物を含む基体１は、例えば、プラスチック基板（いわゆる透明パネル基板）である。   Among them, the substrate 1 is composed of one or more of polymer compounds such as polyethylene terephthalate (PET), polycarbonate (PC), polymethyl methacrylate (PMMA), and cycloolefin resin (COP, COC). It is preferable to include. This is because the specific gravity of these polymer compounds is smaller than the specific gravity of glass, so that the weight of the touch panel can be reduced. The substrate 1 containing a polymer compound is, for example, a plastic substrate (so-called transparent panel substrate).

基体１の厚さは、特に限定されないが、例えば、約０．３ｍｍ以上約１ｍｍ未満である。   Although the thickness of the base | substrate 1 is not specifically limited, For example, it is about 0.3 mm or more and less than about 1 mm.

中間層２０とは、基体１と電極層５との間に挿入される可能性がある１または２以上の層の総称であり、その１または２以上の層は、光透過性を有している。これに伴い、中間層２０は、単層でもよいし、多層でもよい。この中間層２０に含まれる層の種類、数および厚さなどの構成条件は、任意である。これらの構成条件は、例えば、タッチパネルに要求される機能および仕様などに応じて決定される。   The intermediate layer 20 is a general term for one or more layers that may be inserted between the substrate 1 and the electrode layer 5, and the one or more layers have optical transparency. Yes. Accordingly, the intermediate layer 20 may be a single layer or a multilayer. Configuration conditions such as the type, number, and thickness of the layers included in the intermediate layer 20 are arbitrary. These configuration conditions are determined according to, for example, functions and specifications required for the touch panel.

ここでは、中間層２０は、例えば、アンカー層３および平坦化層４を含んでいる。平坦化層４は、基体１と電極層５との間に配置されており、アンカー層３は、基体１と平坦化層４との間に配置されている。すなわち、基体１の一面に、アンカー層３と、平坦化層４とがこの順に積層されている。   Here, the intermediate layer 20 includes, for example, the anchor layer 3 and the planarization layer 4. The planarizing layer 4 is disposed between the substrate 1 and the electrode layer 5, and the anchor layer 3 is disposed between the substrate 1 and the planarizing layer 4. That is, the anchor layer 3 and the flattening layer 4 are laminated in this order on one surface of the substrate 1.

アンカー層３は、基体１に対する平坦化層４の接着性を向上させるために、その基体１と平坦化層４との間に介在している。なお、アンカー層３は、必要に応じて、基体１と平坦化層４との間に介在しているだけでなく、後述する加飾層２と平坦化層４との間にまで介在していてもよい。すなわち、アンカー層３は、基体１および加飾層２のそれぞれを被覆していてもよい。この場合には、アンカー層３により、基体１に対する加飾層２の密着性が向上する。   The anchor layer 3 is interposed between the substrate 1 and the planarization layer 4 in order to improve the adhesion of the planarization layer 4 to the substrate 1. The anchor layer 3 is interposed not only between the base 1 and the flattening layer 4 but also between the decorating layer 2 and the flattening layer 4 described later as required. May be. That is, the anchor layer 3 may cover each of the base 1 and the decorative layer 2. In this case, the anchor layer 3 improves the adhesion of the decorative layer 2 to the base body 1.

このアンカー層３は、基体１に対する平坦化層４の接着性を向上させる材料（アンカー材料）のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでおり、そのアンカー材料は、例えば、アクリル系樹脂などの高分子化合物である。   The anchor layer 3 includes any one or more of materials (anchor materials) that improve the adhesion of the planarizing layer 4 to the substrate 1. The anchor material is, for example, an acrylic resin. And other high molecular compounds.

アンカー層３の厚さは、特に限定されないが、例えば、約３μｍ〜約１０μｍである。   Although the thickness of the anchor layer 3 is not specifically limited, For example, it is about 3 micrometers-about 10 micrometers.

なお、基体１に対する平坦化層４の接着性が本来的に十分である場合には、アンカー層３はなくてもよい。この場合には、基体１の一面に、平坦化層４がアンカー層３を介さずに設けられる。   In addition, when the adhesiveness of the planarization layer 4 to the base body 1 is inherently sufficient, the anchor layer 3 may be omitted. In this case, the planarization layer 4 is provided on one surface of the substrate 1 without the anchor layer 3 interposed therebetween.

平坦化層４は、段差を解消することで、電極層５が形成される下地の表面を平坦化している。この段差の発生原因は、例えば、基体１の一面に部分的に設けられた後述する加飾層２の存在などである。   The flattening layer 4 flattens the surface of the base on which the electrode layer 5 is formed by eliminating the step. The cause of this level difference is, for example, the presence of a decorative layer 2 described later partially provided on one surface of the substrate 1.

この平坦化層４は、例えば、紫外線硬化型のアクリル系樹脂などの高分子化合物のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。   The flattening layer 4 includes any one type or two or more types of polymer compounds such as ultraviolet curable acrylic resins.

電極層５は、例えば、図１Ｃに示したように、静電容量を発生させる電極部５Ａと、その静電容量の変化を検出する配線部５Ｂとを含んでいる。電極部５Ａは、例えば、タッチパネルの内部を光が透過可能な領域（透過領域２Ｘ）に配置されており、光透過性を有している。配線部５Ｂは、例えば、タッチパネルの内部を光が透過不能な領域（非透過領域２Ｙ）に配置されている。この電極部５Ａは、いわゆる透明電極層である。   For example, as shown in FIG. 1C, the electrode layer 5 includes an electrode portion 5A that generates a capacitance and a wiring portion 5B that detects a change in the capacitance. For example, the electrode portion 5A is disposed in a region (transmission region 2X) where light can pass through the inside of the touch panel, and has light transmittance. For example, the wiring part 5B is arranged in a region where the light cannot pass through the inside of the touch panel (non-transmissive region 2Y). This electrode portion 5A is a so-called transparent electrode layer.

電極部５Ａは、例えば、複数の電極パターン５ＡＰを含んでいる。この電極パターン５ＡＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。ここでは、各電極パターン５ＡＰの平面形状は、例えば、三角形である。複数の電極パターン５ＡＰは、例えば、三角形の斜辺同士が間隔を隔てて隣り合うと共に頂点が交互に反対側を向くように、所定の方向（図１Ｃ中の縦方向）に配列されている。   The electrode portion 5A includes, for example, a plurality of electrode patterns 5AP. Configuration conditions such as the number of electrode patterns 5AP, a planar shape, and an arrangement method are arbitrary. Here, the planar shape of each electrode pattern 5AP is, for example, a triangle. The plurality of electrode patterns 5AP are arranged in a predetermined direction (vertical direction in FIG. 1C), for example, such that the oblique sides of the triangles are adjacent to each other with a space therebetween and the apexes alternately face the opposite side.

この電極部５Ａは、上記したように、金属ナノワイヤのうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。この金属ナノワイヤは、例えば、銀（Ａｇ）ナノワイヤおよび銅（Ｃｕ）ナノワイヤなどであり、中でも、銀ナノワイヤが好ましい。高い電気伝導性が得られるからである。なお、金属ナノワイヤの平均径および平均長さなどの構成条件は、任意である。   As described above, the electrode portion 5A includes one or more of the metal nanowires. The metal nanowires are, for example, silver (Ag) nanowires and copper (Cu) nanowires, among which silver nanowires are preferable. This is because high electrical conductivity can be obtained. Note that the configuration conditions such as the average diameter and the average length of the metal nanowires are arbitrary.

電極層５Ａの厚さは、特に限定されないが、例えば、約百数十ｎｍ以下である。   The thickness of the electrode layer 5A is not particularly limited, but is, for example, about one hundred and several tens of nm or less.

なお、電極部５Ａは、例えば、金属ナノワイヤと一緒に、高分子化合物（いわゆるバインダ）などの他の材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいてもよい。この高分子化合物の種類は、任意である。電極部５Ａが金属ナノワイヤおよび高分子化合物を含んでいる場合には、その電極部５Ａでは、高分子化合物中に金属ナノワイヤが分散されると共に、その高分子化合物により金属ナノワイヤが保持される。金属ナノワイヤと高分子化合物との混合比は、任意である。   In addition, the electrode part 5A may include any one type or two or more types of other materials such as a polymer compound (so-called binder) together with the metal nanowires, for example. The kind of the polymer compound is arbitrary. When the electrode portion 5A includes a metal nanowire and a polymer compound, the metal nanowire is dispersed in the polymer compound and the metal nanowire is held by the polymer compound in the electrode portion 5A. The mixing ratio of the metal nanowire and the polymer compound is arbitrary.

配線部５Ｂは、例えば、複数の配線パターン５ＢＰを含んでいる。この配線パターン５ＢＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。ここでは、各配線パターン５ＢＰの平面形状は、例えば、Ｌ字型である。複数の配線パターン５ＢＰのうちの一部は、例えば、複数の電極パターン５ＡＰの配列方向と交差する方向（図１Ｃ中の横方向）における一端側に配置されていると共に、その複数の電極パターン５ＡＰのうちの一端部と個別に接続されている。複数のパターン５ＢＰのうちの残りは、同方向における他端側に配置されていると共に、複数の電極パターン５ＡＰのうちの他端部と個別に接続されている。   The wiring part 5B includes, for example, a plurality of wiring patterns 5BP. The configuration conditions such as the number, the planar shape, and the arrangement method of the wiring patterns 5BP are arbitrary. Here, the planar shape of each wiring pattern 5BP is, for example, L-shaped. A part of the plurality of wiring patterns 5BP is, for example, disposed on one end side in a direction intersecting the arrangement direction of the plurality of electrode patterns 5AP (lateral direction in FIG. 1C), and the plurality of electrode patterns 5AP. Are individually connected to one end of each. The rest of the plurality of patterns 5BP is disposed on the other end side in the same direction and is individually connected to the other end of the plurality of electrode patterns 5AP.

この配線部５Ｂは、例えば、銀ペースト、銅ペーストおよびカーボンなどの導電性材料うちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。   The wiring portion 5B includes any one type or two or more types of conductive materials such as silver paste, copper paste, and carbon.

配線部５Ｂの厚さは、特に限定されないが、例えば、約２μｍ〜約１０μｍである。   Although the thickness of the wiring part 5B is not specifically limited, For example, it is about 2 micrometers-about 10 micrometers.

このタッチパネルは、電極層５を保護するために、保護層６を備えていてもよい。この場合には、電極層５は、中間層２０と保護層６との間に配置されることになる。   This touch panel may include a protective layer 6 in order to protect the electrode layer 5. In this case, the electrode layer 5 is disposed between the intermediate layer 20 and the protective layer 6.

この保護層６は、例えば、特殊ポリオール樹脂などの絶縁性材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでおり、光透過性を有している。保護層６の厚さは、特に限定されないが、例えば、約３μｍ〜約１０μｍである。電極層５において、電極部５Ａ間の隙間および配線５Ｂ間の隙間などは、保護層６により埋設されていてもよい。   The protective layer 6 includes, for example, any one or more of insulating materials such as special polyol resins, and has light transmittance. Although the thickness of the protective layer 6 is not specifically limited, For example, it is about 3 micrometers-about 10 micrometers. In the electrode layer 5, a gap between the electrode portions 5 </ b> A, a gap between the wirings 5 </ b> B, and the like may be embedded by the protective layer 6.

なお、タッチパネルは、上記以外の他の構成要素を備えていてもよい。   Note that the touch panel may include components other than those described above.

他の構成要素は、例えば、加飾層２である。この加飾層２は、配線部５Ｂが視認されることを防止するために、その配線部５Ｂを視覚的に遮蔽するマスク層であり、非光透過性を有している。この加飾層２の色は、特に限定されないが、中でも、黒色などの濃色であることが好ましい。加飾層２の遮蔽性が向上するからである。   Another component is the decoration layer 2, for example. The decoration layer 2 is a mask layer that visually shields the wiring part 5B in order to prevent the wiring part 5B from being visually recognized, and has non-light-transmitting properties. Although the color of this decoration layer 2 is not specifically limited, Especially, it is preferable that they are dark colors, such as black. This is because the shielding property of the decorative layer 2 is improved.

この加飾層２は、例えば、図１Ａおよび図１Ｂに示したように、基体１と中間層２０との間に、その基体１の一部に隣接するように配置されている。より具体的には、加飾層２は、例えば、基体１の中央部を被覆せずに、その中央部を囲む周辺部（外縁部）を被覆するように配置されている。これにより、基体１の外縁部、すなわち加飾層２が存在している領域（非透過領域２Ｙ）では、上記したように、光が透過不能である。この非透過領域２Ｙは、いわゆる額縁領域に対応している。これに対して、外縁部により囲まれた領域、すなわち加飾層２が存在していない領域（透過領域２Ｘ）では、上記したように、光が透過可能である。   For example, as illustrated in FIGS. 1A and 1B, the decorative layer 2 is disposed between the base 1 and the intermediate layer 20 so as to be adjacent to a part of the base 1. More specifically, the decoration layer 2 is arrange | positioned so that the peripheral part (outer edge part) surrounding the center part may be coat | covered, without covering the center part of the base | substrate 1, for example. Thereby, in the outer edge part of the base | substrate 1, ie, the area | region (non-transmissive area | region 2Y) in which the decoration layer 2 exists, as above-mentioned, light cannot permeate | transmit. This non-transmissive region 2Y corresponds to a so-called frame region. On the other hand, in the region surrounded by the outer edge, that is, the region where the decorative layer 2 does not exist (transmission region 2X), light can be transmitted as described above.

また、加飾層２は、例えば、熱硬化性のアクリル系樹脂、紫外線硬化性のアクリル系樹脂および顔料などのうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。この加飾層２は、例えば、印刷法などのうちのいずれか１種類または２種類以上により形成されている。なお、加飾層２は、単層でもよいし、多層でもよい。このように単層でも多層でもよいことは、アンカー層３などの他の一連の層に関しても同様である。なお、加飾層２の厚さは、特に限定されないが、例えば、約４μｍ〜約３０μｍである。   The decorative layer 2 includes, for example, one or more of thermosetting acrylic resins, ultraviolet curable acrylic resins, pigments, and the like. This decoration layer 2 is formed by any one type or two or more types among printing methods etc., for example. The decorative layer 2 may be a single layer or a multilayer. As described above, the single layer or the multilayer may be applied to other series of layers such as the anchor layer 3. In addition, although the thickness of the decoration layer 2 is not specifically limited, For example, they are about 4 micrometers-about 30 micrometers.

この加飾層２は、消泡剤のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいることが好ましい。加飾層２中にピンホールなどが発生しにくくなるため、そのピンホールなどに起因して意図せずに中間層２０（例えば、アンカー層３）が加飾層２から剥離することは抑制されるからである。   The decorative layer 2 preferably contains any one type or two or more types of antifoaming agents. Since pinholes or the like are less likely to occur in the decorative layer 2, the intermediate layer 20 (for example, the anchor layer 3) is prevented from being peeled off from the decorative layer 2 due to the pinholes or the like. This is because that.

詳細には、加飾層２は、例えば、その加飾層２の形成材料を含む溶液を用いて、印刷法などにより形成される。この場合には、溶液が消泡剤を含んでいないと、その溶液中において泡が発生しやすくなるため、その泡に起因して加飾層２中にピンホールが発生する可能性がある。加飾層２中にピンホールが発生すると、そのピンホールに起因してアンカー層３が加飾層２から剥離する可能性がある。   In detail, the decoration layer 2 is formed by the printing method etc. using the solution containing the formation material of the decoration layer 2, for example. In this case, if the solution does not contain an antifoaming agent, bubbles are likely to be generated in the solution, and pinholes may be generated in the decorative layer 2 due to the bubbles. When a pinhole is generated in the decorative layer 2, the anchor layer 3 may be separated from the decorative layer 2 due to the pinhole.

これに対して、溶液が消泡剤を含んでいると、その溶液中において泡が発生しにくくなる。この消泡剤は、泡膜の表面張力を部分的に不均衡な状態にする（泡を不安定にする）ことにより、発泡を抑制する機能を果たすからである。これにより、加飾層２中にピンホールが発生しにくくなるため、アンカー層３が加飾層２から剥離しにくくなる。   On the other hand, when the solution contains an antifoaming agent, bubbles are hardly generated in the solution. This is because this antifoaming agent functions to suppress foaming by making the surface tension of the foam film partially unbalanced (making the foam unstable). Thereby, since it becomes difficult to generate a pinhole in the decoration layer 2, the anchor layer 3 becomes difficult to peel from the decoration layer 2.

この消泡剤の種類は、特に限定されない。具体的には、消泡剤は、シリコン系消泡剤でもよいし、非シリコン系消泡剤でもよい。このシリコン系消泡剤は、ポリシロキサン（ケイ素を構成元素として含む有機化合物）を含む消泡剤である。一方、非シリコン系消泡剤は、上記したポリシロキサンを含まない消泡剤である。   The type of the antifoaming agent is not particularly limited. Specifically, the antifoaming agent may be a silicon-based antifoaming agent or a non-silicone-based antifoaming agent. This silicon-based antifoaming agent is an antifoaming agent containing polysiloxane (an organic compound containing silicon as a constituent element). On the other hand, the non-silicon antifoaming agent is an antifoaming agent that does not contain the above-described polysiloxane.

シリコン系消泡剤の種類は、例えば、溶液型、オイルコンパウンド型、オイル型、自己乳化型およびエマルジョン型などである。非シリコン系消泡剤の種類は、例えば、界面活性剤系および高級アルコール系に分類される。界面活性剤系の非シリコン系消泡剤は、例えば、エーテル型、エステル型、エーテル・エステル型およびエステル・エステル型などである。高級アルコール系の非シリコン系消泡剤は、例えば、高級アルコール、高級アルコール誘導体および脂肪酸誘導体などである。   Examples of the silicon antifoaming agent include a solution type, an oil compound type, an oil type, a self-emulsification type, and an emulsion type. The type of non-silicone antifoaming agent is classified into, for example, a surfactant type and a higher alcohol type. Examples of the surfactant-based non-silicon antifoaming agent include an ether type, an ester type, an ether / ester type, and an ester / ester type. Examples of the higher alcohol-based non-silicone antifoaming agent include higher alcohols, higher alcohol derivatives, and fatty acid derivatives.

中でも、消泡剤は、非シリコン系消泡剤であることが好ましい。意図せずにアンカー層３が加飾層２から剥離することは防止されるため、消泡剤を用いた場合においてもタッチパネルの操作性が確保されるからである。   Among these, the antifoaming agent is preferably a non-silicone defoaming agent. This is because the anchor layer 3 is prevented from being unintentionally peeled off from the decorative layer 2, so that the operability of the touch panel is ensured even when an antifoaming agent is used.

詳細には、消泡剤としてシリコン系消泡剤を用いた場合には、そのシリコン系消泡剤がポリシロキサンを含んでいるため、加飾層２の形成後、時間の経過に応じて加飾層２の表面にポリシロキサンがブリードアウトする可能性がある。このブリードアウトとは、シリコン系消泡剤中に含まれていたポリシロキサンが加飾層２の表面に浮き出てくる現象であり、そのポリシロキサンのブリードアウト量は、時間の経過に応じて増大する傾向にある。加飾層２の表面にポリシロキサンが浮き出ると、そのポリシロキサンのブリードアウト量によっては加飾層２に隣接されているアンカー層３の密着力が低下するため、意図せずにアンカー層３が加飾層２から部分的または全体的に剥離する可能性がある。   Specifically, when a silicon-based antifoaming agent is used as the antifoaming agent, the silicon-based antifoaming agent contains polysiloxane. There is a possibility that polysiloxane may bleed out on the surface of the decorative layer 2. This bleed-out is a phenomenon in which the polysiloxane contained in the silicon-based antifoaming agent rises to the surface of the decorative layer 2, and the amount of bleed-out of the polysiloxane increases with the passage of time. Tend to. When the polysiloxane floats on the surface of the decorative layer 2, the adhesion of the anchor layer 3 adjacent to the decorative layer 2 is reduced depending on the amount of bleed out of the polysiloxane. There is a possibility of partial or complete peeling from the decorative layer 2.

アンカー層３が加飾層２から剥離した場合には、タッチパネルが高温環境中において放置または使用されると、基体１などの線膨張係数と電極層５などの線膨張係数との差異などに起因して反り応力が発生するため、そのタッチパネルの内部において層間剥離が発生しやすくなる。よって、タッチパネルの動作不良などが発生しやすくなるため、そのタッチパネルの操作性が低下する。   When the anchor layer 3 is peeled off from the decorative layer 2, if the touch panel is left or used in a high temperature environment, it is caused by a difference between the linear expansion coefficient of the substrate 1 and the like and the linear expansion coefficient of the electrode layer 5 and the like. Since warping stress is generated, delamination is likely to occur inside the touch panel. Therefore, the malfunction of the touch panel is likely to occur, and the operability of the touch panel is reduced.

これに対して、消泡剤として非シリコン系消泡剤を用いた場合には、その非シリコン系消泡剤がポリシロキサンを含んでいないため、加飾層２ではポリシロキサンのブリードアウトが根本的に発生しない。これにより、ポリシロキサンのブリードアウトに起因してアンカー層３が加飾層２から部分的または全体的に剥離することは防止されるため、上記した反り応力に起因する層間剥離は発生しにくくなる。よって、タッチパネルの動作不良などが発生しにくくなるため、消泡剤を用いた場合においてもタッチパネルの操作性を確保することができる。   On the other hand, when a non-silicon type antifoaming agent is used as the antifoaming agent, the non-silicone type antifoaming agent does not contain polysiloxane. Does not occur. This prevents the anchor layer 3 from being partially or wholly peeled from the decorative layer 2 due to the polysiloxane bleed-out, so that the above-described delamination due to the warping stress is less likely to occur. . Therefore, since it becomes difficult to generate | occur | produce malfunction etc. of a touch panel, the operativity of a touch panel is securable even when using an antifoamer.

なお、上記した消泡剤は、中間層２０のうちの１または２以上の層に含有されていてもよい。具体的には、アンカー層３および平坦化層４のうちの一方または双方は、消泡剤を含んでいてもよい。中でも、アンカー層３は、消泡剤を含んでいることが好ましい。平坦化層４がアンカー層３から剥離しにくくなるからである。この消泡剤に関する詳細は、上記した通りである。   The antifoaming agent described above may be contained in one or more layers of the intermediate layer 20. Specifically, one or both of the anchor layer 3 and the planarizing layer 4 may contain an antifoaming agent. Especially, it is preferable that the anchor layer 3 contains the antifoamer. This is because the planarization layer 4 is difficult to peel off from the anchor layer 3. The detail regarding this antifoamer is as above-mentioned.

また、他の構成要素は、例えば、電極層５に接続される外部回路などである。具体的には、電極層５は、例えば、フレキシブルプリント基板（ＦＰＣ）などを介して外部回路に接続されている。   Another component is, for example, an external circuit connected to the electrode layer 5. Specifically, the electrode layer 5 is connected to an external circuit through, for example, a flexible printed circuit board (FPC).

［タッチパネルの詳細な構成］
ここで、上記したタッチパネルの一連の構成要素のうち、光透過性を有する一連の層のうちの１つまたは２つ以上は、紫外線吸収材料を含んでいる。 [Detailed configuration of touch panel]
Here, among the series of components of the touch panel described above, one or more of the series of light-transmitting layers include an ultraviolet absorbing material.

すなわち、基体１、電極層５および中間層２０のうちの１つまたは２つ以上は、紫外線吸収材料を含んでいる。より具体的には、例えば、基体１、アンカー層３、平坦化層４および電極層５のうちの１つまたは２つ以上は、紫外線吸収材料を含んでいる。   That is, one or more of the substrate 1, the electrode layer 5, and the intermediate layer 20 contain an ultraviolet absorbing material. More specifically, for example, one or more of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, and the electrode layer 5 include an ultraviolet absorbing material.

上記した基体１などが紫外線吸収材料を含んでいる理由は、以下の通りである。   The reason why the above-described substrate 1 and the like include an ultraviolet absorbing material is as follows.

タッチパネルが外部光に晒されると、その外部光が光透過性の基体１などを経由してタッチパネルの内部に侵入するため、電極層５に含まれている金属ナノワイヤまで、外部光（特に紫外線）が到達し得る。この紫外線の波長は、特に限定されないが、例えば、約１０ｎｍ〜約４００ｎｍであり、より具体的には約３００ｎｍ〜約４００ｎｍである。この場合には、紫外線が金属ナノワイヤに到達すると、その金属ナノワイヤが活性化（腐食など）するため、電極層５の電気抵抗が増加する。この電極層５の電気抵抗が増加する原因は、主に、腐食などに起因して金属ナノワイヤの径が減少するため、その金属ナノワイヤ自体の電気抵抗が増加するためであると考えられる。よって、操作位置の検出精度などに関する誤差の発生確率が高くなるため、タッチパネルの操作性が経時的に低下しやすくなる。   When the touch panel is exposed to external light, the external light enters the inside of the touch panel via the light-transmitting substrate 1 and the like, so external light (especially ultraviolet light) can reach even the metal nanowires included in the electrode layer 5. Can reach. The wavelength of the ultraviolet light is not particularly limited, but is, for example, about 10 nm to about 400 nm, and more specifically about 300 nm to about 400 nm. In this case, when the ultraviolet rays reach the metal nanowire, the metal nanowire is activated (corrosion or the like), so that the electrical resistance of the electrode layer 5 increases. The reason why the electrical resistance of the electrode layer 5 is increased is mainly because the electrical resistance of the metal nanowire itself is increased because the diameter of the metal nanowire is decreased due to corrosion or the like. Therefore, since the probability of occurrence of an error related to the detection accuracy of the operation position is increased, the operability of the touch panel is likely to deteriorate with time.

これに対して、外部光の通り道である光透過性の基体１などに紫外線吸収材料が含まれていると、その基体１などを透過する過程において、外部光のうちの紫外線が紫外線吸収材料により吸収されるため、その紫外線が金属ナノワイヤに到達しにくくなる。この場合には、金属ナノワイヤが活性化しにくいため、電極層５の電気抵抗も増加しにくくなる。よって、操作位置の検出精度などに関する誤差の発生確率が低く抑えられるため、タッチパネルの操作性が経時的に低下しにくくなる。これにより、外部光に依存せずに、タッチパネルの操作性が安定に維持される。   On the other hand, when an ultraviolet absorbing material is contained in the light-transmitting substrate 1 that is a path for external light, ultraviolet rays in the external light are transmitted by the ultraviolet absorbing material in the process of passing through the substrate 1 and the like. Since it is absorbed, the ultraviolet rays hardly reach the metal nanowire. In this case, since the metal nanowire is difficult to activate, the electrical resistance of the electrode layer 5 is also difficult to increase. Therefore, since the probability of occurrence of an error related to the operation position detection accuracy and the like is kept low, the operability of the touch panel is unlikely to deteriorate over time. Thereby, the operability of the touch panel is stably maintained without depending on external light.

紫外線吸収材料の種類は、紫外線を吸収する性質を有する材料（吸収剤）のうちのいずれか１種類または２種類以上であれば、特に限定されない。   The type of the ultraviolet absorbing material is not particularly limited as long as it is any one or more of materials (absorbents) having a property of absorbing ultraviolet rays.

具体的には、紫外線吸収材料は、例えば、トリアジン系の吸収剤である。このトリアジン系の吸収剤は、例えば、ヒドロキシフェニルトリアジンおよびその誘導体などのうちのいずれか１種類または２種類以上である。すなわち、ここで説明した紫外線吸収材料は、いわゆるヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤である。上記した「誘導体」とは、ヒドロキシフェニルトリアジンに１または２以上の置換基が導入された化合物であり、その置換基の種類は、特に限定されない。ヒドロキシフェニルトリアジン型の骨格を有している化合物は、置換基の種類に依存せずに、紫外線を吸収する性質を有するからである。   Specifically, the ultraviolet absorbing material is, for example, a triazine-based absorbent. The triazine-based absorbent is, for example, one or more of hydroxyphenyltriazine and derivatives thereof. That is, the ultraviolet absorbing material described here is a so-called hydroxyphenyltriazine-based ultraviolet absorber. The above-mentioned “derivative” is a compound in which one or more substituents are introduced into hydroxyphenyltriazine, and the type of the substituent is not particularly limited. This is because a compound having a hydroxyphenyltriazine-type skeleton absorbs ultraviolet rays without depending on the type of substituent.

この他、紫外線吸収材料は、例えば、ベンゾトリアゾール系の吸収剤（ベンゾトリアゾールおよびその誘導体）、ベンゾフェノン系の吸収剤（ベンゾフェノンおよびその誘導体）、シアノアクリレート系の吸収剤（シアノアクリレートおよびその誘導体）、オキザニリド系の吸収剤（オキザニリドおよびその誘導体）、サリシレート系の吸収剤（サリシレートおよびその誘導体）およびホルムアミジン系（ホルムアミジンおよびその誘導体）の吸収剤などでもよい。   In addition, ultraviolet absorbing materials include, for example, benzotriazole-based absorbers (benzotriazole and derivatives thereof), benzophenone-based absorbers (benzophenone and derivatives thereof), cyanoacrylate-based absorbers (cyanoacrylate and derivatives thereof), Oxanilide-based absorbents (oxanilide and derivatives thereof), salicylate-based absorbents (salicylate and derivatives thereof) and formamidine-based absorbers (formamidine and derivatives thereof) may be used.

基体１に紫外線吸収材料を含有させる場合には、例えば、基体１の形成材料と一緒に紫外線吸収材料などを混合したのち、その混合物を成型すればよい。アンカー層３などに紫外線吸収材料を含有させる場合には、例えば、アンカー層３の形成材料と一緒に紫外線吸収材料および有機溶剤などを混合したのち、その混合物を塗布すればよい。   When the substrate 1 contains an ultraviolet absorbing material, for example, the ultraviolet absorbing material or the like is mixed with the material for forming the substrate 1 and then the mixture is molded. When the anchor layer 3 or the like contains an ultraviolet absorbing material, for example, the ultraviolet absorbing material and an organic solvent are mixed together with the anchor layer 3 forming material, and then the mixture is applied.

紫外線吸収材料を含有させる場所、すなわちタッチパネルの一連の構成要素のうち、いずれの構成要素に紫外線吸収材料を含有させるかは、その構成要素が光透過性であれば、特に限定されない。   The location where the ultraviolet absorbing material is contained, that is, which component of the series of components of the touch panel is contained is not particularly limited as long as the component is light transmissive.

中でも、紫外線吸収材料は、基体１、アンカー層３、平坦化層４および電極層５のうちのいずれか１つに含有されているよりも、２つ以上に含有されていることが好ましい。紫外線の吸収量が増大するからである。   Among these, it is preferable that the ultraviolet absorbing material is contained in two or more than in any one of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, and the electrode layer 5. This is because the amount of absorption of ultraviolet rays increases.

タッチパネルの外観を考慮すれば、紫外線吸収材料は、基体１に含有されているよりも、アンカー層３、平坦化層４および電極層５のうちのいずれか１つまたは２つ以上に含有されていることが好ましい。基体１に紫外線吸収材料が含有されていると、その紫外線吸収材料の種類によっては基体１が意図せずに着色し得るからである。   Considering the appearance of the touch panel, the ultraviolet absorbing material is contained in any one or more of the anchor layer 3, the planarizing layer 4, and the electrode layer 5 rather than being contained in the substrate 1. Preferably it is. This is because if the substrate 1 contains an ultraviolet absorbing material, the substrate 1 may be unintentionally colored depending on the type of the ultraviolet absorbing material.

紫外線が電極層５に到達する可能性を考慮すれば、紫外線吸収材料は、電極層５に含有されているよりも、基体１、アンカー層３および平坦化層４のうちのいずれか１つまたは２つ以上に含有されていることが好ましい。電気抵抗の増加の要因である金属ナノワイヤは電極層５に含有されているため、その電極層５以外の基体１などに紫外線吸収材料を含有させることで、紫外線が電極層５に到達する前に、その紫外線が紫外線吸収材料により吸収されるからである。   In consideration of the possibility that the ultraviolet rays reach the electrode layer 5, the ultraviolet absorbing material is one of the substrate 1, the anchor layer 3, and the planarizing layer 4 or more than contained in the electrode layer 5. It is preferable to be contained in two or more. Since the metal nanowire that is a cause of the increase in electrical resistance is contained in the electrode layer 5, before the ultraviolet rays reach the electrode layer 5, the substrate 1 other than the electrode layer 5 contains an ultraviolet absorbing material. This is because the ultraviolet rays are absorbed by the ultraviolet absorbing material.

特に、紫外線吸収材料は、以下の理由により、アンカー層３に含有されていることが好ましい。   In particular, the ultraviolet absorbing material is preferably contained in the anchor layer 3 for the following reason.

第１に、アンカー層３は、付加的な構成要素であり、タッチパネルの機能などに直接関わる必須の構成要素でないからである。このアンカー層３に紫外線吸収材料を含有させることで、タッチパネルの本質的な機能などに大きな影響を与えることなく、そのタッチパネルに紫外線吸収機能を付与できる。   First, the anchor layer 3 is an additional component and is not an essential component directly related to the function of the touch panel. By including an ultraviolet absorbing material in the anchor layer 3, it is possible to impart an ultraviolet absorbing function to the touch panel without greatly affecting the essential functions of the touch panel.

第２に、アンカー材料として、紫外線などを利用する硬化性樹脂を用いた場合において、紫外線吸収材料は、アンカー材料の反応（硬化反応）にほとんど影響を及ぼさないからである。   Secondly, when a curable resin using ultraviolet rays or the like is used as the anchor material, the ultraviolet absorbing material hardly affects the reaction (curing reaction) of the anchor material.

基体１などの内部における紫外線吸収材料の分布は、特に限定されない。紫外線吸収材料は、均一に分布していてもよいし、不均一に分布していてもよい。紫外線吸収材料が不均一に分布している場合とは、例えば、紫外線吸収材料の濃度が勾配を有する場合などである。この場合には、紫外線吸収材料の濃度は、連続的に変化していてもよいし、断続的に変化していてもよい。   The distribution of the ultraviolet absorbing material inside the substrate 1 or the like is not particularly limited. The ultraviolet absorbing material may be uniformly distributed or non-uniformly distributed. The case where the ultraviolet absorbing material is unevenly distributed is, for example, a case where the concentration of the ultraviolet absorbing material has a gradient. In this case, the concentration of the ultraviolet absorbing material may change continuously or may change intermittently.

もちろん、上記した基体１などが紫外線吸収材料を含んでいるだけでなく、保護層６が紫外線吸収材料を含んでいてもよい。すなわち、基体１、アンカー層３、平坦化層４、電極層５および保護層６のうちのいずれか１つまたは２つ以上は、紫外線吸収材料を含んでいればよい。後述するように、非操作側からタッチパネルに外部光が侵入する可能性を考慮すると、電極層５よりも非操作側に配置されている保護層６に紫外線吸収材料を含有させる意義はあるからである。   Of course, not only the substrate 1 described above contains an ultraviolet absorbing material, but also the protective layer 6 may contain an ultraviolet absorbing material. That is, any one or two or more of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, the electrode layer 5, and the protective layer 6 may contain an ultraviolet absorbing material. As will be described later, in consideration of the possibility of external light entering the touch panel from the non-operation side, it is meaningful that the protective layer 6 disposed on the non-operation side of the electrode layer 5 contains an ultraviolet absorbing material. is there.

なお、上記したように、基体１に対する平坦化層４の接着性が本来的に十分であるため、アンカー層３が不要である場合には、例えば、基体１と平坦化層４との間に、アンカー層３に代えて、紫外線吸収層３０が設けられていてもよい。   As described above, since the adhesion of the planarizing layer 4 to the substrate 1 is inherently sufficient, when the anchor layer 3 is not necessary, for example, between the substrate 1 and the planarizing layer 4. Instead of the anchor layer 3, an ultraviolet absorbing layer 30 may be provided.

この紫外線吸収層３０は、上記した紫外線吸収材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでおり、光透過性を有している。なお、紫外線吸収層３０は、例えば、紫外線吸収材料と一緒に、高分子化合物（いわゆるバインダ）などの他の材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいてもよい。確認までに説明しておくと、紫外線吸収層３０は、紫外線吸収材料を含んでいる点においてアンカー層３と共通しているが、アンカー材料を含んでいない点においてアンカー層３とは異なっている。   The ultraviolet absorbing layer 30 includes one or more of the ultraviolet absorbing materials described above, and has light transmittance. The ultraviolet absorbing layer 30 may include any one type or two or more types of other materials such as a polymer compound (so-called binder) together with the ultraviolet absorbing material, for example. As will be described before confirmation, the ultraviolet absorbing layer 30 is common to the anchor layer 3 in that it includes an ultraviolet absorbing material, but is different from the anchor layer 3 in that it does not include an anchor material. .

もちろん、紫外線吸収層３０は、基体１と平坦化層４との間に限らず、他の場所に設けられてもよい。他の場所とは、例えば、平坦化層４と電極層５との間などである。この場合には、紫外線吸収層３０は、上記した中間層２０に含まれる層のうちの１つである。なお、紫外線吸収層３０の数は、１つに限らず、２つ以上でもよい。もちろん、２つ以上の紫外線吸収層３０は、互いに異なる場所に設けられていてもよい。   Of course, the ultraviolet absorbing layer 30 is not limited to be provided between the substrate 1 and the planarizing layer 4 and may be provided at another location. The other place is, for example, between the planarization layer 4 and the electrode layer 5. In this case, the ultraviolet absorbing layer 30 is one of the layers included in the intermediate layer 20 described above. The number of ultraviolet absorbing layers 30 is not limited to one, and may be two or more. Of course, the two or more ultraviolet absorption layers 30 may be provided at different locations.

［タッチパネルの製造方法］
このタッチパネルは、例えば、以下の手順により製造される。 [Method for manufacturing touch panel]
This touch panel is manufactured by the following procedure, for example.

最初に、基体１を準備する。この基体１としては、例えば、可撓性を有するプラスチック基板を用いる。   First, the substrate 1 is prepared. As the substrate 1, for example, a flexible plastic substrate is used.

続いて、基体１の一面（非透過領域２Ｙ）に、加飾層２を形成する。この加飾層２を形成する場合には、例えば、シルクスクリーン印刷法などの印刷法を用いる。   Subsequently, the decoration layer 2 is formed on one surface (non-transmissive region 2Y) of the base 1. When this decoration layer 2 is formed, for example, a printing method such as a silk screen printing method is used.

なお、加飾層２の遮蔽性を高めるために、その加飾層２の厚さを大きくする場合には、加飾層２の形成工程を繰り返して、多層となるように加飾層２を形成してもよい。この場合には、一度の形成工程において形成される加飾層２の厚さが小さくて済むため、その加飾層２の形成時において厚さムラなどが発生しにくくなる。   In addition, in order to raise the shielding property of the decoration layer 2, when increasing the thickness of the decoration layer 2, the formation process of the decoration layer 2 is repeated, and the decoration layer 2 is formed so that it may become a multilayer. It may be formed. In this case, since the thickness of the decoration layer 2 formed in one formation process may be small, thickness unevenness or the like hardly occurs when the decoration layer 2 is formed.

続いて、加飾層２が形成された基体１の上に、アンカー層３を形成する。このアンカー層３を形成する場合には、例えば、シルクスクリーン印刷法などを用いる。これにより、透過領域２Ｘでは、アンカー層３により基体１が被覆されると共に、非透過領域２Ｙでは、アンカー層３により加飾層２が被覆される。   Subsequently, the anchor layer 3 is formed on the base 1 on which the decorative layer 2 is formed. In the case of forming the anchor layer 3, for example, a silk screen printing method is used. Thereby, the base 1 is covered with the anchor layer 3 in the transmissive region 2X, and the decorative layer 2 is covered with the anchor layer 3 in the non-transmissive region 2Y.

続いて、アンカー層３の上に、紫外線硬化樹脂を用いて平坦化層４を形成する。この平坦化層４を形成する場合には、例えば、シルクスクリーン印刷法などを用いる。   Subsequently, the planarizing layer 4 is formed on the anchor layer 3 using an ultraviolet curable resin. In the case of forming the planarizing layer 4, for example, a silk screen printing method is used.

続いて、平坦化層４に加圧処理を施す。この加圧処理では、例えば、ローラなどを用いて、片面が離型処理されたガラスを印刷面（平坦化層４の表面）に貼り合わせることで、その平坦化層４を加圧する。この加圧処理により、平坦化層４の表面が平坦化すると共に、加飾層２と平坦化層４との間などに存在していた気泡が除去される。   Subsequently, the flattening layer 4 is subjected to pressure treatment. In this pressurizing process, for example, using a roller or the like, the flattened layer 4 is pressed by sticking the glass whose one side has been released to the printing surface (the surface of the flattened layer 4). By this pressure treatment, the surface of the flattening layer 4 is flattened, and bubbles existing between the decorative layer 2 and the flattening layer 4 are removed.

続いて、加圧処理後の平坦化層４にクレーブ処理を施す。このクレーブ処理では、例えば、オートクレーブ圧力釜などを用いる。このクレーブ処理により、未だ残存していた気泡が除去される。   Subsequently, the flattened layer 4 after the pressure treatment is subjected to a clave treatment. In this craving process, for example, an autoclave pressure cooker or the like is used. The remaining air bubbles are removed by this clave treatment.

続いて、クレーブ処理後の平坦化層４に紫外線を照射する。これにより、紫外線硬化樹脂が硬化するため、平坦化層４が定着する。   Subsequently, the flattened layer 4 after the clave treatment is irradiated with ultraviolet rays. Thereby, since the ultraviolet curable resin is cured, the planarization layer 4 is fixed.

続いて、平坦化層４の上に、電極層５を形成する。この電極層５を形成する場合には、例えば、有機溶剤などにより金属ナノワイヤおよび高分子化合物などが分散された溶液を準備したのち、その溶液を平坦化層４（透過領域２Ｘ）に塗布してから乾燥させて、電極材料を形成する。また、平坦化層４（非透過領域２Ｙ）に金属ペーストなどを塗布してから乾燥させて、配線材料を形成する。続いて、レーザを用いて電極材料をパターニングして、電極部５Ａを形成すると共に、レーザを用いて配線材料をパターニングして、配線部５Ｂを形成する。これにより、電極部５Ａおよび配線部５Ｂを含む電極層５が形成される。このレーザとしては、例えば、赤外線レーザなどを用いる。   Subsequently, an electrode layer 5 is formed on the planarizing layer 4. In the case of forming the electrode layer 5, for example, after preparing a solution in which metal nanowires and polymer compounds are dispersed with an organic solvent or the like, the solution is applied to the planarization layer 4 (transmission region 2X). The electrode material is formed by drying. Further, a metal paste or the like is applied to the planarizing layer 4 (non-transmissive region 2Y) and then dried to form a wiring material. Subsequently, the electrode material is patterned using a laser to form the electrode portion 5A, and the wiring material is patterned using a laser to form the wiring portion 5B. Thereby, the electrode layer 5 including the electrode portion 5A and the wiring portion 5B is formed. As this laser, for example, an infrared laser is used.

最後に、電極層５の上に、保護層６を形成する。この保護層６を形成する場合には、例えば、シルクスクリーン印刷法などを用いる。   Finally, the protective layer 6 is formed on the electrode layer 5. When forming this protective layer 6, for example, a silk screen printing method or the like is used.

［タッチパネルの動作］
このタッチパネルは、以下のように動作する。 [Touch panel operation]
This touch panel operates as follows.

電極層５（電極部５Ａ）では、隣り合う２つの電極パターン５ＡＰの間に、静電容量が発生している。この状態において、操作側からタッチパネルに指が触れると、その指と電極層５（電極部５Ａ）との間に容量結合が発生するため、その指が触れた位置（操作位置）において、上記した静電容量が変化する。この静電容量の変化は、配線部５Ｂを介して外部回路により検出されるため、その静電容量の変化に基づいて、操作位置が検出される。   In the electrode layer 5 (electrode part 5A), a capacitance is generated between two adjacent electrode patterns 5AP. In this state, when a finger touches the touch panel from the operation side, capacitive coupling occurs between the finger and the electrode layer 5 (electrode part 5A). The capacitance changes. Since this change in capacitance is detected by an external circuit via the wiring portion 5B, the operation position is detected based on the change in capacitance.

［タッチパネルの作用および効果］
本実施形態のタッチパネルによれば、電極層５（電極部５Ａ）が金属ナノワイヤを含んでいると共に、基体１、電極層５および中間層２０（アンカー層３および平坦化層４）のうちのいずれか１つまたは２つ以上が紫外線吸収材料を含んでいる。 [Operation and effects of touch panel]
According to the touch panel of the present embodiment, the electrode layer 5 (electrode portion 5A) includes metal nanowires, and any of the substrate 1, the electrode layer 5, and the intermediate layer 20 (anchor layer 3 and planarization layer 4). One or more of them contain a UV absorbing material.

この場合には、上記したように、外部光（紫外線）が紫外線吸収材料により吸収され、その紫外線が金属ナノワイヤまで到達しにくくなるため、電極層５の電気抵抗も増加しにくくなる。よって、タッチパネルの操作性が経時的に低下しにくくなり、その操作性が安定に維持されるため、安定した操作性を得ることができる。   In this case, as described above, external light (ultraviolet rays) is absorbed by the ultraviolet absorbing material, and the ultraviolet rays do not easily reach the metal nanowire, so that the electrical resistance of the electrode layer 5 is also difficult to increase. Therefore, the operability of the touch panel is unlikely to deteriorate with time, and the operability is stably maintained, so that stable operability can be obtained.

特に、基体１、アンカー層３および平坦化層４のうちのいずれか１つまたは２つ以上が紫外線吸収材料を含んでいれば、より高い効果を得ることができると共に、アンカー層３が紫外線吸収材料を含んでいれば、さらに高い効果を得ることができる。なお、保護層６も紫外線吸収材料を含んでいれば、より高い効果を得ることができる。   In particular, if any one or more of the substrate 1, the anchor layer 3 and the flattening layer 4 contains an ultraviolet absorbing material, a higher effect can be obtained and the anchor layer 3 absorbs ultraviolet rays. If the material is included, a higher effect can be obtained. If the protective layer 6 also contains an ultraviolet absorbing material, a higher effect can be obtained.

また、加飾層２が非シリコン系消泡剤を含んでいれば、ポリシロキサンのブリードアウトに起因してアンカー層３が加飾層２から剥離することは防止されるため、タッチパネル中に発生する反り応力に起因した動作不良は発生しにくくなる。よって、消泡剤を用いた場合においてもタッチパネルの操作性が安定に維持されるため、より高い効果を得ることができる。   In addition, if the decoration layer 2 contains a non-silicon-based antifoaming agent, the anchor layer 3 is prevented from being peeled off from the decoration layer 2 due to the polysiloxane bleed-out. Therefore, the malfunction due to the warping stress is less likely to occur. Therefore, even when an antifoaming agent is used, the operability of the touch panel is stably maintained, so that a higher effect can be obtained.

＜１−２．第２実施形態＞
図２Ａは、本実施形態のタッチパネルの平面構成を表しており、図２Ｂは、図２Ａに示したタッチパネルの２Ｂ−２Ｂ線に沿った断面構成を表している。図２Ｃは、図２Ａおよび図２Ｂのそれぞれに示した電極層６の平面構成を表しており、図２Ｄは、図２Ａおよび図２Ｂのそれぞれに示した対向電極層９の平面構成を表している。 <1-2. Second Embodiment>
FIG. 2A illustrates a planar configuration of the touch panel of the present embodiment, and FIG. 2B illustrates a cross-sectional configuration along line 2B-2B of the touch panel illustrated in FIG. 2A. 2C represents the planar configuration of the electrode layer 6 shown in each of FIGS. 2A and 2B, and FIG. 2D represents the planar configuration of the counter electrode layer 9 shown in each of FIGS. 2A and 2B. .

本実施形態のタッチパネルは、上記した第１実施形態のタッチパネルと同様に、静電容量方式のタッチパネルである。ただし、ここで説明するタッチパネルは、主に、１つの電極（電極層５）だけを備えていた第１実施形態のタッチパネルとは異なり、２つの電極（電極層７および対向電極層１０）を備えている。以下の説明では、既に説明した第１実施形態のタッチパネルの構成要素を随時引用する。   The touch panel of the present embodiment is a capacitive touch panel, similar to the touch panel of the first embodiment described above. However, the touch panel described here mainly includes two electrodes (electrode layer 7 and counter electrode layer 10), unlike the touch panel of the first embodiment that includes only one electrode (electrode layer 5). ing. In the following description, the components of the touch panel of the first embodiment that have already been described are referred to as needed.

［タッチパネルの構成の概要］
このタッチパネルは、例えば、図２Ａ〜図２Ｄに示したように、電極層５に代えて、電極層７、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向保護層１１を備えていることを除き、第１実施形態のタッチパネルと同様の構成を有している。すなわち、電極層７、保護層６、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向保護層１１は、平坦化層４の上にこの順に積層されている。 [Overview of touch panel configuration]
For example, as shown in FIGS. 2A to 2D, the touch panel includes an electrode layer 7, an adhesive layer 8, a counter substrate 9, a counter electrode layer 10, and a counter protective layer 11 instead of the electrode layer 5. Except for the configuration of the touch panel of the first embodiment. That is, the electrode layer 7, the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, the counter electrode layer 10, and the counter protective layer 11 are laminated on the planarizing layer 4 in this order.

電極層７は、例えば、図２Ｃに示したように、静電容量を発生させる電極部７Ａと、その静電容量の変化を検出する配線部７Ｂとを含んでいる。電極部７Ａは、例えば、透過領域２Ｘに配置されており、光透過性を有している。配線部７Ｂは、例えば、非透過領域２Ｙに配置されている。この電極部７Ａは、いわゆる透明電極層である。   For example, as illustrated in FIG. 2C, the electrode layer 7 includes an electrode portion 7A that generates a capacitance and a wiring portion 7B that detects a change in the capacitance. The electrode portion 7A is disposed, for example, in the transmissive region 2X and has optical transparency. For example, the wiring part 7B is disposed in the non-transmissive region 2Y. This electrode portion 7A is a so-called transparent electrode layer.

電極部７Ａおよび配線部７Ｂのそれぞれの構成は、例えば、以下で説明する点を除き、電極部５Ａおよび配線部５Ｂのそれぞれの構成と同様である。すなわち、電極層７（電極部７Ａ）は、金属ナノワイヤのうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。   The configurations of the electrode unit 7A and the wiring unit 7B are the same as the configurations of the electrode unit 5A and the wiring unit 5B, except for the points described below, for example. That is, the electrode layer 7 (electrode part 7A) includes any one type or two or more types of metal nanowires.

電極部７Ａは、例えば、複数の電極パターン７ＡＰを含んでいる。この電極パターン７ＡＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。ここでは、各電極パターン７ＡＰの平面形状は、例えば、短冊形（長方形）である。複数の電極パターン７ＡＰは、例えば、長辺同士が間隔を隔てて隣り合うように、所定の方向（図２Ｃ中の横方向）に配列されている。   The electrode portion 7A includes, for example, a plurality of electrode patterns 7AP. The configuration conditions such as the number, the planar shape, and the arrangement method of the electrode patterns 7AP are arbitrary. Here, the planar shape of each electrode pattern 7AP is, for example, a strip (rectangular). The plurality of electrode patterns 7AP are arranged in a predetermined direction (lateral direction in FIG. 2C), for example, such that the long sides are adjacent to each other with a gap therebetween.

配線部７Ｂは、例えば、複数の配線パターン７ＢＰを含んでいる。この配線パターン７ＢＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。ここでは、各配線パターン７ＢＰの平面形状は、例えば、クランク形である。複数の配線パターン７ＢＰのうちの一部は、例えば、複数の電極パターン７ＡＰの配列方向と交差する方向（図２Ｃ中の縦方向）における一端側に配置されていると共に、その複数の電極パターン７ＡＰのうちの一端部と個別に接続されている。複数のパターン７ＢＰのうちの残りは、同方向における他端側に配置されていると共に、複数の電極パターン７ＡＰのうちの他端部と個別に接続されている。   For example, the wiring portion 7B includes a plurality of wiring patterns 7BP. The configuration conditions such as the number, the planar shape, and the arrangement method of the wiring patterns 7BP are arbitrary. Here, the planar shape of each wiring pattern 7BP is, for example, a crank shape. A part of the plurality of wiring patterns 7BP is, for example, arranged on one end side in a direction (vertical direction in FIG. 2C) intersecting the arrangement direction of the plurality of electrode patterns 7AP, and the plurality of electrode patterns 7AP. Are individually connected to one end of each. The remainder of the plurality of patterns 7BP is disposed on the other end side in the same direction and is individually connected to the other end of the plurality of electrode patterns 7AP.

接着層８は、保護層８と対向基体９とを貼り合わせるために、その保護層８と対向基体９との間に配置されている。この接着層８は、接着材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでおり、光透過性を有している。この接着材料の種類は、特に限定されないが、例えば、酸フリーのアクリル系樹脂などである。なお、粘着層８の厚さは、任意である。   The adhesive layer 8 is disposed between the protective layer 8 and the counter substrate 9 in order to bond the protective layer 8 and the counter substrate 9 together. The adhesive layer 8 includes any one or two or more types of adhesive materials and has light transmittance. Although the kind of this adhesive material is not specifically limited, For example, it is an acid free acrylic resin etc. In addition, the thickness of the adhesion layer 8 is arbitrary.

対向基体９は、対向電極層１０などの支持体である。この対向基体９は、基体１に対向しており、保護層６と対向電極層１０との間に配置されている。この対向基体９の構成は、例えば、基体１の構成と同様である。   The counter substrate 9 is a support such as the counter electrode layer 10. The counter substrate 9 faces the substrate 1 and is disposed between the protective layer 6 and the counter electrode layer 10. The configuration of the counter substrate 9 is the same as that of the substrate 1, for example.

対向電極層１０は、例えば、図２Ｄに示したように、静電容量を発生させる電極部１０Ａと、その静電容量の変化を検出する配線部１０Ｂとを含んでおり、電極層７に対向している。電極部１０Ａは、例えば、透過領域２Ｘに配置されており、光透過性を有している。配線部１０Ｂは、例えば、非透過領域２Ｙに配置されている。この電極部１０Ａは、いわゆる透明電極層である。   For example, as illustrated in FIG. 2D, the counter electrode layer 10 includes an electrode portion 10 </ b> A that generates a capacitance and a wiring portion 10 </ b> B that detects a change in the capacitance, and is opposed to the electrode layer 7. doing. For example, the electrode portion 10A is disposed in the transmissive region 2X and has optical transparency. For example, the wiring part 10B is disposed in the non-transmissive region 2Y. This electrode portion 10A is a so-called transparent electrode layer.

電極部１０Ａおよび配線部１０Ｂのそれぞれの構成は、例えば、以下で説明する点を除き、電極部５Ａおよび配線部５Ｂのそれぞれの構成と同様である。   The configurations of the electrode unit 10A and the wiring unit 10B are the same as the configurations of the electrode unit 5A and the wiring unit 5B, except for the points described below, for example.

電極部１０Ａは、例えば、複数の電極パターン１０ＡＰを含んでいる。この電極パターン１０ＡＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。ここでは、各電極パターン１０ＡＰの平面は、例えば、短冊形（長方形）である。複数の電極パターン１０ＡＰは、例えば、長辺同士が間隔を隔てて隣り合うように、複数の電極パターン７ＡＰの配列方向と交差する方向（図２Ｄ中の縦方向）に配列されている。   The electrode portion 10A includes, for example, a plurality of electrode patterns 10AP. Configuration conditions such as the number, planar shape, and arrangement method of the electrode patterns 10AP are arbitrary. Here, the plane of each electrode pattern 10AP is, for example, a strip (rectangular). For example, the plurality of electrode patterns 10AP are arranged in a direction (vertical direction in FIG. 2D) intersecting the arrangement direction of the plurality of electrode patterns 7AP so that the long sides are adjacent to each other with a gap therebetween.

配線部１０Ｂは、例えば、複数の配線パターン１０ＢＰを含んでいる。この配線パターン１０ＢＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。   For example, the wiring part 10B includes a plurality of wiring patterns 10BP. The configuration conditions such as the number, the planar shape, and the arrangement method of the wiring patterns 10BP are arbitrary.

対向保護層１１は、対向電極層１０を保護している。このように対向電極層１０を保護するために、必要に応じて、対向保護層１１を設けてもよい。この対向保護層１１は、保護層６に対向しており、対向電極層１０は、対向基体９と対向保護層１１との間に配置されている。この対向保護層１１の構成は、例えば、保護層６の構成と同様である。   The counter protective layer 11 protects the counter electrode layer 10. In order to protect the counter electrode layer 10 as described above, the counter protective layer 11 may be provided as necessary. The counter protective layer 11 faces the protective layer 6, and the counter electrode layer 10 is disposed between the counter substrate 9 and the counter protective layer 11. The configuration of the opposing protective layer 11 is the same as the configuration of the protective layer 6, for example.

［タッチパネルの詳細な構成］
本実施形態のタッチパネルでは、第１実施形態のタッチパネルと同様の理由により、基体１、電極層７および中間層２０のうちの１つまたは２つ以上は、紫外線吸収材料を含んでいる。より具体的には、例えば、基体１、アンカー層３、平坦化層４、電極層７、保護層６、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向保護層１１のうちの１つまたは２つ以上は、紫外線吸収材料を含んでいる。 [Detailed configuration of touch panel]
In the touch panel of this embodiment, for the same reason as the touch panel of the first embodiment, one or more of the substrate 1, the electrode layer 7, and the intermediate layer 20 contain an ultraviolet absorbing material. More specifically, for example, one of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, the electrode layer 7, the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, the counter electrode layer 10, and the counter protective layer 11. Or two or more contain UV-absorbing materials.

なお、ここで説明するタッチパネルにおいて、基体１、アンカー層３および平坦化層４は、電極層７よりも操作側に配置されているのに対して、保護層６、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向電極層１１は、電極層７よりも非操作側に配置されている。このため、保護層６、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向保護層１１のうちのいずれか１つまたは２つ以上に紫外線吸収材料を含有させる意義が薄いようにも考えられる。   In the touch panel described here, the substrate 1, the anchor layer 3, and the planarization layer 4 are disposed on the operation side with respect to the electrode layer 7, whereas the protective layer 6, the adhesive layer 8, and the counter substrate 9. The counter electrode layer 10 and the counter electrode layer 11 are arranged on the non-operation side with respect to the electrode layer 7. For this reason, it may be considered that the significance of including an ultraviolet absorbing material in any one or more of the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, the counter electrode layer 10, and the counter protective layer 11 is low. .

しかしながら、後述するタッチパネル付き表示装置の構成（図４参照）から明らかなように、タッチパネル１００Ａが表示パネル１００Ｂに取り付けられる前の段階では、非操作側から外部光がタッチパネル１００Ａの内部に侵入し得る。また、タッチパネル１００Ａが表示パネル１００Ｂに取り付けられた後においても、その表示パネル１００Ｂが自発光型である場合には、その表示パネル１００Ｂから放出された光がタッチパネル１００Ａの内部に侵入し得る。この自発光型の表示パネル１００Ｂとは、例えば、バックライトを備えた液晶表示パネルなどである。これらのことから、保護層６、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向電極層１１のうちのいずれか１つまたは２つ以上に紫外線吸収材料を含有させる意義は、十分にある。   However, as is apparent from the configuration of the display device with a touch panel described later (see FIG. 4), external light can enter the touch panel 100A from the non-operation side before the touch panel 100A is attached to the display panel 100B. . Further, even after the touch panel 100A is attached to the display panel 100B, when the display panel 100B is a self-luminous type, the light emitted from the display panel 100B can enter the touch panel 100A. The self-luminous display panel 100B is, for example, a liquid crystal display panel provided with a backlight. From these facts, it is sufficiently significant that any one or more of the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, the counter electrode layer 10, and the counter electrode layer 11 contain an ultraviolet absorbing material. .

紫外線吸収材料を含有させる場所（タッチパネルの一連の構成要素のうちのいずれの構成要素に紫外線吸収材料を含有させるか）は、特に限定されない。   The place where the ultraviolet absorbing material is contained (which component in the series of components of the touch panel contains the ultraviolet absorbing material) is not particularly limited.

中でも、紫外線吸収材料は、基体１、アンカー層３、平坦化層４、電極層７、保護層６、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向保護層１１のうちのいずれか１つに含有されているよりも、２つ以上に含有されていることが好ましい。紫外線の吸収量が増大するからである。   Among them, the ultraviolet absorbing material is any one of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, the electrode layer 7, the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, the counter electrode layer 10, and the counter protective layer 11. It is preferable to contain two or more than one. This is because the amount of absorption of ultraviolet rays increases.

また、上記したように、紫外線吸収材料は、基体１以外に含有されていることが好ましい。必ずしも基体１に紫外線吸収材料が含有されている必要はないため、その基体１の種類に関する選択の自由度が広がるからである。すなわち、基体１として、紫外線吸収材料が含有されていないプラスチック基板などを選択できるという点において、利点が得られる。   Moreover, as described above, the ultraviolet absorbing material is preferably contained in addition to the base 1. This is because the base 1 does not necessarily contain an ultraviolet absorbing material, and the degree of freedom in selecting the type of the base 1 is expanded. That is, an advantage is obtained in that a plastic substrate that does not contain an ultraviolet absorbing material can be selected as the substrate 1.

また、電極層７（電極部７Ａ）に含有されている金属ナノワイヤの活性化に起因する電気抵抗の増加を抑制するためには、紫外線吸収材料は、電極層７に含有されているよりも、基体１、アンカー層３、平坦化層４、保護層６、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向保護層１１のうちのいずれか１つまたは２つ以上に含有されていることが好ましい。電気抵抗の増加の要因である金属ナノワイヤは電極層７に含有されているため、その電極層７以外の基体１などに紫外線吸収材料を含有させることで、紫外線が電極層７に到達する前に、その紫外線が紫外線吸収材料により吸収されるからである。   Moreover, in order to suppress the increase in the electrical resistance resulting from the activation of the metal nanowires contained in the electrode layer 7 (electrode part 7A), the ultraviolet absorbing material is contained in the electrode layer 7 rather than being contained in the electrode layer 7. It is contained in one or more of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarizing layer 4, the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, the counter electrode layer 10, and the counter protective layer 11. Is preferred. Since the metal nanowire that is a cause of the increase in electrical resistance is contained in the electrode layer 7, before the ultraviolet rays reach the electrode layer 7 by containing an ultraviolet absorbing material in the substrate 1 other than the electrode layer 7. This is because the ultraviolet rays are absorbed by the ultraviolet absorbing material.

なお、電極層７（電極部７Ａ）とは異なり、対向電極層１０（電極部１０Ａ）に含有されている金属ナノワイヤの活性化に起因する電気抵抗の増加を抑制するためには、紫外線吸収材料は、対向電極層１０に含有されているよりも、基体１、アンカー層３、平坦化層４、電極層７、保護層６、接着層８、対向基体９および対向保護層１１のうちのいずれか１つまたは２つ以上に含有されていることが好ましい。上記した電極層７における電気抵抗の増加を抑制する場合と同様の理由による。   Unlike the electrode layer 7 (electrode part 7A), an ultraviolet absorbing material is used to suppress an increase in electrical resistance due to the activation of the metal nanowires contained in the counter electrode layer 10 (electrode part 10A). Is any of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, the electrode layer 7, the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, and the counter protective layer 11, rather than being contained in the counter electrode layer 10. It is preferable that it is contained in one or two or more. The reason is the same as that in the case where the increase in electric resistance in the electrode layer 7 is suppressed.

特に、紫外線吸収材料は、上記した理由により、アンカー層３に含有されていることが好ましい。   In particular, the ultraviolet absorbing material is preferably contained in the anchor layer 3 for the reason described above.

［タッチパネルの製造方法］
このタッチパネルの製造手順は、例えば、以下で説明する手順を除き、第１実施形態のタッチパネルの製造手順と同様である。 [Method for manufacturing touch panel]
The touch panel manufacturing procedure is the same as the touch panel manufacturing procedure of the first embodiment, for example, except for the procedure described below.

基体１の一面に、加飾層２、アンカー層３および平坦化層４をこの順に形成したのち、その平坦化層４の上に、電極部７Ａおよび配線部７Ｂを含む電極層７を形成する。この電極層７の形成手順は、例えば、電極材料および配線材料のそれぞれのパターニング内容が異なることを除き、電極層５の形成手順と同様である。続いて、電極層７の上に、保護層６を形成する。   After the decorative layer 2, the anchor layer 3 and the planarizing layer 4 are formed in this order on one surface of the substrate 1, the electrode layer 7 including the electrode portion 7A and the wiring portion 7B is formed on the planarizing layer 4. . The procedure for forming the electrode layer 7 is the same as the procedure for forming the electrode layer 5 except that, for example, the patterning contents of the electrode material and the wiring material are different. Subsequently, the protective layer 6 is formed on the electrode layer 7.

一方、対向基体９の一面に、電極部１０Ａおよび配線部１０Ｂを含む対向電極層１０を形成する。この対向電極層１０の形成手順は、例えば、電極材料および配線材料のそれぞれのパターニング内容が異なることを除き、電極層５の形成手順と同様である。続いて、対向電極層１０の上に、対向保護層１１を形成する。   On the other hand, the counter electrode layer 10 including the electrode portion 10A and the wiring portion 10B is formed on one surface of the counter substrate 9. The formation procedure of the counter electrode layer 10 is the same as the formation procedure of the electrode layer 5 except that, for example, the patterning contents of the electrode material and the wiring material are different. Subsequently, the counter protective layer 11 is formed on the counter electrode layer 10.

接着層８を用いて、加飾層２、アンカー層３、平坦化層４、電極層７および保護層６が形成された基体１と、対向電極層１０および対向保護層１１が形成された対向基体９とを貼り合わせる。この場合には、有機溶剤などにより接着材料が溶解された溶液を準備したのち、その溶液を塗布してから乾燥させる。なお、接着層８は、保護層６に塗布されてもよいし、対向基体９に塗布されてもよい。この他、例えば、接着層８として光学粘着剤（ＯＣＡ）を用いて基体１と対向基体９とを貼り合わせてもよい。   Using the adhesive layer 8, the base 1 on which the decorative layer 2, the anchor layer 3, the planarization layer 4, the electrode layer 7 and the protective layer 6 are formed, and the counter electrode layer 10 and the counter protective layer 11 are formed on the opposite side. The substrate 9 is bonded. In this case, after preparing a solution in which the adhesive material is dissolved with an organic solvent or the like, the solution is applied and then dried. The adhesive layer 8 may be applied to the protective layer 6 or may be applied to the counter substrate 9. In addition, for example, the substrate 1 and the counter substrate 9 may be bonded together using an optical adhesive (OCA) as the adhesive layer 8.

［タッチパネルの動作］
このタッチパネルは、以下のように動作する。 [Touch panel operation]
This touch panel operates as follows.

電極層７（電極部７Ａ）と対向電極層１０（電極層１０Ａ）との交点において、その電極層７と対向電極層１０との間に静電容量が発生している。この状態において、操作側からタッチパネルに指が触れると、その指と電極層７（電極部７Ａ）との間に容量結合が発生するため、その指が触れた位置（操作位置）において、上記した静電容量が変化する。この静電容量の変化は、配線部７Ｂ，１０Ｂを介して外部回路により検出されるため、その静電容量の変化に基づいて、操作位置が検出される。   Capacitance is generated between the electrode layer 7 and the counter electrode layer 10 at the intersection of the electrode layer 7 (electrode part 7A) and the counter electrode layer 10 (electrode layer 10A). In this state, when a finger touches the touch panel from the operation side, capacitive coupling is generated between the finger and the electrode layer 7 (electrode part 7A). The capacitance changes. Since the change in capacitance is detected by an external circuit via the wiring portions 7B and 10B, the operation position is detected based on the change in capacitance.

［タッチパネルの作用および効果］
本実施形態のタッチパネルによれば、電極層７（電極部７Ａ）が金属ナノワイヤを含んでいると共に、基体１、電極層７および中間層２０（アンカー層３および平坦化層４）のうちのいずれか１つまたは２つ以上が紫外線吸収材料を含んでいる。よって、第１実施形態と同様の理由により、金属ナノワイヤの活性化に起因する電極層７の電気抵抗の増加が抑制されるため、安定した操作性を得ることができる。 [Operation and effects of touch panel]
According to the touch panel of the present embodiment, the electrode layer 7 (electrode part 7A) includes metal nanowires, and any of the substrate 1, the electrode layer 7, and the intermediate layer 20 (anchor layer 3 and planarization layer 4). One or more of them contain a UV absorbing material. Therefore, for the same reason as in the first embodiment, an increase in the electrical resistance of the electrode layer 7 due to the activation of the metal nanowires is suppressed, so that stable operability can be obtained.

特に、基体１、アンカー層３、平坦化層４、保護層６、接着層８、対向基体９、対向電極層１０および対向保護層１１のうちのいずれか１つまたは２つ以上が紫外線吸収材料を含んでいれば、より高い効果を得ることができる。中でも、アンカー層３が紫外線吸収材料を含んでいれば、さらに高い効果を得ることができる。この他、基体１、アンカー層３、平坦化層４、電極層７、保護層６、接着層８、対向基体９および対向保護層１１のうちのいずれか１つまたは２つ以上が紫外線吸収材料を含んでいれば、金属ナノワイヤの活性化に起因する対向電極層１１の電気抵抗の増加も抑制できる。なお、対向保護層１１も紫外線吸収材料を含んでいれば、より高い効果を得ることができる。これ以外の作用および効果は、上記した第１実施形態と同様である。   In particular, any one or more of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, the counter electrode layer 10, and the counter protective layer 11 are ultraviolet absorbing materials. If it contains, a higher effect can be acquired. Among these, if the anchor layer 3 contains an ultraviolet absorbing material, a higher effect can be obtained. In addition, any one or more of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, the electrode layer 7, the protective layer 6, the adhesive layer 8, the counter substrate 9, and the counter protective layer 11 are UV-absorbing materials. If it contains, the increase in the electrical resistance of the counter electrode layer 11 resulting from activation of metal nanowire can also be suppressed. In addition, if the opposing protective layer 11 also contains an ultraviolet absorbing material, a higher effect can be obtained. Other operations and effects are the same as those in the first embodiment.

＜１−３．第３実施形態＞
図３Ａは、本実施形態のタッチパネルの平面構成を表しており、図３Ｂは、図３Ａに示したタッチパネルの３Ｂ−３Ｂ線に沿った断面構成を表している。図３Ｃは、図３Ａおよび図３Ｂのそれぞれに示した電極層１２の平面構成を表している。 <1-3. Third Embodiment>
FIG. 3A illustrates a planar configuration of the touch panel of the present embodiment, and FIG. 3B illustrates a cross-sectional configuration along the line 3B-3B of the touch panel illustrated in FIG. 3A. FIG. 3C shows a planar configuration of the electrode layer 12 shown in each of FIGS. 3A and 3B.

本実施形態のタッチパネルは、上記した第１実施形態および第２の実施形態のタッチパネルと同様に、静電容量方式のタッチパネルである。ただし、ここで説明するタッチパネルは、２つの電極（電極層７および対向電極層１０）を２層で構成していた第２実施形態のタッチパネルとは異なり、その２つの電極を１層（電極層１２）で構成している。以下の説明では、既に説明した第１実施形態および第２実施形態のタッチパネルの構成要素を随時引用する。   The touch panel of the present embodiment is a capacitive touch panel, similar to the touch panels of the first and second embodiments described above. However, the touch panel described here is different from the touch panel according to the second embodiment in which two electrodes (the electrode layer 7 and the counter electrode layer 10) are configured in two layers, and the two electrodes are formed in one layer (electrode layer). 12). In the following description, the components of the touch panel of the first embodiment and the second embodiment that have already been described are referred to as needed.

［タッチパネルの構成の概要］
このタッチパネルは、例えば、図３Ａ〜図３Ｃに示したように、電極層５に代えて電極層１２を備えていることを除き、第１実施形態のタッチパネルと同様の構成を有している。 [Overview of touch panel configuration]
For example, as shown in FIGS. 3A to 3C, this touch panel has the same configuration as the touch panel of the first embodiment except that the electrode layer 12 is provided instead of the electrode layer 5.

電極層１２は、例えば、図３Ｃに示したように、静電容量を発生させる電極部１２Ａ，１２Ｃと、その静電容量の変化を検出する配線部１２Ｂ，１２Ｄとを含んでいる。電極部１２Ａ，１２Ｃは、例えば、透過領域２Ｘに配置されており、光透過性を有している。配線部１２Ｂ，１２Ｄは、例えば、非透過領域２Ｙに配置されている。この電極部１２Ａ，１２Ｃは、いわゆる透明電極層である。   For example, as illustrated in FIG. 3C, the electrode layer 12 includes electrode portions 12A and 12C that generate capacitance and wiring portions 12B and 12D that detect changes in the capacitance. The electrode portions 12A and 12C are disposed, for example, in the transmissive region 2X and have light transparency. For example, the wiring portions 12B and 12D are disposed in the non-transmissive region 2Y. The electrode portions 12A and 12C are so-called transparent electrode layers.

電極部１２Ａおよび配線部１２Ｂのそれぞれの構成は、例えば、以下で説明する点を除き、電極部７Ａおよび配線部７Ｂのそれぞれの構成と同様である。また、電極部１２Ｃおよび配線部１２Ｄのそれぞれの構成は、例えば、以下で説明する点を除き、電極部１０Ａおよび配線部１０Ｂのそれぞれの構成と同様である。   The configurations of the electrode portion 12A and the wiring portion 12B are the same as the configurations of the electrode portion 7A and the wiring portion 7B, except for the points described below, for example. In addition, the configurations of the electrode unit 12C and the wiring unit 12D are the same as the configurations of the electrode unit 10A and the wiring unit 10B, for example, except as described below.

電極部１２Ａは、例えば、複数の電極パターン１２ＡＰを含んでいる。この電極パターン１２ＡＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。ここでは、各電極パターン１２ＡＰの平面形状は、例えば、短冊形（長方形）である。複数の電極パターン１２ＡＰは、例えば、長辺同士が間隔を隔てて隣り合うように、所定の方向（図３Ｃ中の横方向）に配列されている。   The electrode portion 12A includes, for example, a plurality of electrode patterns 12AP. Configuration conditions such as the number, planar shape, and arrangement method of the electrode patterns 12AP are arbitrary. Here, the planar shape of each electrode pattern 12AP is, for example, a strip (rectangular). The plurality of electrode patterns 12AP are arranged in a predetermined direction (lateral direction in FIG. 3C) such that, for example, the long sides are adjacent to each other with a gap therebetween.

配線部１２Ｂは、例えば、複数の配線パターン１２ＢＰを含んでいる。この配線パターン１２ＢＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。   For example, the wiring part 12B includes a plurality of wiring patterns 12BP. The configuration conditions such as the number, the planar shape, and the arrangement method of the wiring patterns 12BP are arbitrary.

電極部１２Ｃは、例えば、複数の電極パターン１２ＣＰを含んでいる。この電極パターン１２ＣＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。ここでは、各電極パターン１２ＣＰの平面形状は、例えば、上記した各電極パターン１２ＡＰの平面形状と同様である。複数の電極パターン１２ＣＰは、例えば、長辺同士が間隔を隔てて隣り合うように、複数の電極パターン１２ＡＰの配列方向と交差する方向（図３Ｃ中の縦方向）に配列されている。   The electrode portion 12C includes, for example, a plurality of electrode patterns 12CP. Configuration conditions such as the number, planar shape, and arrangement method of the electrode patterns 12CP are arbitrary. Here, the planar shape of each electrode pattern 12CP is the same as the planar shape of each electrode pattern 12AP described above, for example. The plurality of electrode patterns 12CP are arranged, for example, in a direction (vertical direction in FIG. 3C) intersecting the arrangement direction of the plurality of electrode patterns 12AP so that the long sides are adjacent to each other with a gap therebetween.

配線部１２Ｄは、例えば、複数の配線パターン１２ＤＰを含んでいる。この配線パターン１２ＤＰの数、平面形状および配列方法などの構成条件は、任意である。   For example, the wiring part 12D includes a plurality of wiring patterns 12DP. Configuration conditions such as the number, planar shape, and arrangement method of the wiring patterns 12DP are arbitrary.

ただし、複数の電極パターン１２ＡＰと複数の電極パターン１２ＣＰとの間には、絶縁層１２Ｅが介在している。すなわち、絶縁層１２Ｅは、電極パターン１２ＡＰと電極パターン１２ＣＰとが交差する位置ごとに設けられている。この絶縁層１２Ｅにより、電極パターン１２ＡＰと電極パターン１２ＣＰとは電気的に分離されている。ここでは、例えば、電極パターン１２ＡＰの上に、絶縁層１２Ｅを介して電極パターン１２ＣＰが配置されている。これに伴い、下階層に位置する電極パターン１２ＡＰは、平坦な構造を有しているのに対して、上階層に位置する電極パターン１２ＣＰは、いわゆるブリッジ構造を有している。具体的には、電極パターン１２ＣＰは、例えば、平坦な部分（平坦部１２ＣＰ１）と、絶縁層１２Ｅに乗り上げた部分（ブリッジ部１２ＣＰ２）とを含んでおり、その平坦部１２ＣＰ１とブリッジ部１２ＣＰ２とは、交互に接続されている。この電極パターン１２ＣＰでは、例えば、ブリッジ部１２ＣＰ２の一端部が一方の平坦部１２ＣＰ１に対して部分的にオーバーラップしていることが好ましいと共に、そのブリッジ部１２ＣＰ２の他端部が他方の平坦部１２ＣＰ１に対して部分的にオーバーラップしていることが好ましい。平坦部１２ＣＰ１とブリッジ部１２ＣＰ２との電気的な接続が確保されるからである。   However, the insulating layer 12E is interposed between the plurality of electrode patterns 12AP and the plurality of electrode patterns 12CP. That is, the insulating layer 12E is provided at each position where the electrode pattern 12AP and the electrode pattern 12CP intersect. The electrode pattern 12AP and the electrode pattern 12CP are electrically separated by the insulating layer 12E. Here, for example, the electrode pattern 12CP is disposed on the electrode pattern 12AP via the insulating layer 12E. Accordingly, the electrode pattern 12AP located in the lower layer has a flat structure, whereas the electrode pattern 12CP located in the upper layer has a so-called bridge structure. Specifically, the electrode pattern 12CP includes, for example, a flat portion (flat portion 12CP1) and a portion (bridge portion 12CP2) riding on the insulating layer 12E. The flat portion 12CP1 and the bridge portion 12CP2 are Are connected alternately. In this electrode pattern 12CP, for example, it is preferable that one end portion of the bridge portion 12CP2 partially overlaps one flat portion 12CP1, and the other end portion of the bridge portion 12CP2 is the other flat portion 12CP1. It is preferable that it overlaps partially. This is because electrical connection between the flat portion 12CP1 and the bridge portion 12CP2 is ensured.

上記した電極層１２に関する「２つの電極を１層で構成した層」という説明は、ここで説明した電極部１２Ａと電極部１２Ｃとの配置関係を意味している。すなわち、電極部１２Ａと電極部１２Ｃとは、複数の電極パターン１２ＡＰと複数の電極パターン１２ＣＰとが同じ階層（１層）内に配置されていながら、ブリッジ構造を利用して電極パターン１２ＡＰと電極パターン１２ＣＰとの交点において絶縁層１２Ｅにより電気的に分離されている。   The description of “a layer in which two electrodes are formed as one layer” with respect to the electrode layer 12 described above means the positional relationship between the electrode portion 12A and the electrode portion 12C described here. That is, the electrode portion 12A and the electrode portion 12C are configured such that the plurality of electrode patterns 12AP and the plurality of electrode patterns 12CP are arranged in the same layer (one layer), but the electrode pattern 12AP and the electrode pattern are formed using a bridge structure. It is electrically isolated by the insulating layer 12E at the intersection with 12CP.

絶縁層１２Ｅは、例えば、特殊ポリオール樹脂などの絶縁性材料のうちのいずれか１種類または２種類以上を含んでいる。   The insulating layer 12E includes, for example, any one or more of insulating materials such as special polyol resins.

［タッチパネルの詳細な構成］
本実施形態のタッチパネルでは、第１実施形態および第２実施形態のタッチパネルと同様の理由により、基体１、電極層１２および中間層２０のうちの１つまたは２つ以上は、紫外線吸収材料を含んでいる。より具体的には、例えば、基体１、アンカー層３、平坦化層４、電極層１２および保護層６のうちの１つまたは２つ以上は、紫外線吸収材料を含んでいる。 [Detailed configuration of touch panel]
In the touch panel of this embodiment, for the same reason as the touch panels of the first embodiment and the second embodiment, one or more of the substrate 1, the electrode layer 12, and the intermediate layer 20 include an ultraviolet absorbing material. It is out. More specifically, for example, one or more of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarizing layer 4, the electrode layer 12, and the protective layer 6 contain an ultraviolet absorbing material.

紫外線吸収材料を含有させる場所（タッチパネルの一連の構成要素のうちのいずれの構成要素に紫外線吸収材料を含有させるか）は、特に限定されない。   The place where the ultraviolet absorbing material is contained (which component in the series of components of the touch panel contains the ultraviolet absorbing material) is not particularly limited.

中でも、紫外線吸収材料は、基体１、アンカー層３、平坦化層４、電極層１２および保護層６のうちのいずれか１つに含有されているよりも、２つ以上に含有されていることが好ましい。紫外線の吸収量が増大するからである。   Among them, the ultraviolet absorbing material should be contained in two or more than in any one of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarizing layer 4, the electrode layer 12 and the protective layer 6. Is preferred. This is because the amount of absorption of ultraviolet rays increases.

また、上記した理由により、紫外線吸収材料は、基体１以外に含有されていることが好ましい。   For the above reasons, the ultraviolet absorbing material is preferably contained in addition to the base 1.

また、紫外線吸収材料は、電極層１２に含有されているよりも、基体１、アンカー層３、平坦化層４および保護層６のうちのいずれか１つまたは２つ以上に含有されていることが好ましい。電気抵抗の増加の要因である金属ナノワイヤは電極層１２に含有されているため、その電極層１２以外の基体１などに紫外線吸収材料を含有させることで、紫外線が電極層１２に到達する前に、その紫外線が紫外線吸収材料により吸収されるからである。   In addition, the ultraviolet absorbing material is contained in any one or more of the substrate 1, the anchor layer 3, the planarization layer 4, and the protective layer 6 rather than being contained in the electrode layer 12. Is preferred. Since the metal nanowire which is a cause of the increase in electrical resistance is contained in the electrode layer 12, before the ultraviolet rays reach the electrode layer 12 by containing an ultraviolet absorbing material in the substrate 1 other than the electrode layer 12. This is because the ultraviolet rays are absorbed by the ultraviolet absorbing material.

特に、紫外線吸収材料は、上記した理由により、アンカー層３に含有されていることが好ましい。   In particular, the ultraviolet absorbing material is preferably contained in the anchor layer 3 for the reason described above.

［タッチパネルの製造方法］
このタッチパネルの製造手順は、例えば、以下で説明する手順を除き、第１実施形態の入力装置の製造手順と同様である。 [Method for manufacturing touch panel]
The touch panel manufacturing procedure is the same as the manufacturing procedure of the input device according to the first embodiment, for example, except for the procedure described below.

基体１の一面に、加飾層２、アンカー層３および平坦化層４をこの順に形成したのち、その平坦化層４の上に、電極部１２Ａ，１２Ｃおよび配線部１２Ｂ，１２Ｄを含む電極層１２を形成する。この電極層１２の主な形成手順は、例えば、電極材料および配線材料のそれぞれのパターニング内容が異なると共に、電極部１２Ａと電極１２Ｃとの間に絶縁層１２Ｅを新たに形成することを除き、電極層５の形成手順と同様である。続いて、電極層１２の上に、保護層６を形成する。   After the decorative layer 2, the anchor layer 3 and the planarizing layer 4 are formed in this order on one surface of the base 1, the electrode layer including the electrode portions 12A and 12C and the wiring portions 12B and 12D is formed on the planarizing layer 4. 12 is formed. The main formation procedure of the electrode layer 12 is, for example, except that the patterning contents of the electrode material and the wiring material are different, and the insulating layer 12E is newly formed between the electrode portion 12A and the electrode 12C. The procedure for forming the layer 5 is the same. Subsequently, the protective layer 6 is formed on the electrode layer 12.

ここで、電極層１２の具体的な形成手順は、例えば、以下の通りである。   Here, the specific formation procedure of the electrode layer 12 is as follows, for example.

最初に、有機溶剤などにより金属ナノワイヤおよび高分子化合物が分散された溶液を準備したのち、その溶液を平坦化層４（透過領域２Ｘ）に塗布してから乾燥させて、電極材料を形成する。また、平坦化層４（非透過領域２Ｙ）に金属ペーストを塗布してから乾燥させて、配線材料を形成する。   First, after preparing a solution in which metal nanowires and a polymer compound are dispersed with an organic solvent or the like, the solution is applied to the planarization layer 4 (transmission region 2X) and then dried to form an electrode material. Further, a metal paste is applied to the planarizing layer 4 (non-transmissive region 2Y) and then dried to form a wiring material.

続いて、レーザを用いて電極材料をパターニングして、電極部１２Ａと、電極部１２Ｃのうちの一部分（平坦部１２ＣＰ１）とを形成する。また、レーザを用いて配線材料をパターニングして、配線部１２Ｂおよび配線部１２Ｄを形成する。   Subsequently, the electrode material is patterned using a laser to form the electrode portion 12A and a part (flat portion 12CP1) of the electrode portion 12C. Further, the wiring material is patterned using a laser to form the wiring part 12B and the wiring part 12D.

続いて、シルクスクリーン印刷法およびインクジェット法などのうちのいずれか１種類または２種類以上を用いて、最終的に電極パターン１２ＡＰと電極パターン１２ＣＰとが交差することになる位置において、電極部１２Ａの一部の上に、絶縁層１２Ｅを形成する。   Subsequently, using any one or more of the silk screen printing method and the inkjet method, the electrode pattern 12AP and the electrode pattern 12CP finally cross each other at the position where the electrode pattern 12AP and the electrode pattern 12CP intersect. An insulating layer 12E is formed on a part.

続いて、スクリーン印刷法およびインクジェット法などを用いて、絶縁層１２Ｅの上に、上記した平坦部１２ＣＰ１に対して部分的にオーバーラップするように、電極部１２Ｃのうちの残り部分（ブリッジ部１２ＣＰ２）を形成する。これにより、ブリッジ部１２ＣＰ２を介して平坦部１２ＣＰ１同士が接続されるため、電極部１２Ｃが形成される。   Subsequently, by using a screen printing method, an inkjet method, or the like, the remaining portion (bridge portion 12CP2) of the electrode portion 12C is formed on the insulating layer 12E so as to partially overlap the above-described flat portion 12CP1. ). As a result, the flat portions 12CP1 are connected to each other through the bridge portion 12CP2, so that the electrode portion 12C is formed.

よって、電極部１２Ａ，１２Ｃおよび配線部１２Ｂ，１２Ｄを含む電極層１２が形成される。   Therefore, the electrode layer 12 including the electrode portions 12A and 12C and the wiring portions 12B and 12D is formed.

［タッチパネルの動作］
このタッチパネルは、以下のように動作する。 [Touch panel operation]
This touch panel operates as follows.

電極部１２Ａと電極部１２Ｃとの交点において、その電極部１２Ａと電極部１２Ｃとの間に静電容量が発生している。この状態において、操作側からタッチパネルに指が触れると、その指と電極部１２Ｃとの間に容量結合が発生するため、その指が触れた位置（操作位置）において、上記した静電容量が変化する。この静電容量の変化は、配線部１２Ｂ，１２Ｄを介して外部回路により検出されるため、その静電容量の変化に基づいて、操作位置が検出される。   At the intersection of the electrode portion 12A and the electrode portion 12C, a capacitance is generated between the electrode portion 12A and the electrode portion 12C. In this state, when a finger touches the touch panel from the operation side, capacitive coupling occurs between the finger and the electrode portion 12C, so that the above-described capacitance changes at the position (operation position) where the finger touches. To do. Since the change in capacitance is detected by an external circuit via the wiring portions 12B and 12D, the operation position is detected based on the change in capacitance.

［タッチパネルの作用および効果］
本実施形態のタッチパネルによれば、電極層１２（電極部１２Ａ，１２Ｃ）が金属ナノワイヤを含んでいると共に、基体１、電極層１２および中間層２０（アンカー層３および平坦化層４）のうちのいずれか１つまたは２つ以上が紫外線吸収材料を含んでいる。よって、第１実施形態および第２実施形態と同様の理由により、金属ナノワイヤの活性化に起因する電極層１２の電気抵抗の増加が抑制されるため、安定した操作性を得ることができる。 [Operation and effects of touch panel]
According to the touch panel of the present embodiment, the electrode layer 12 (electrode portions 12A and 12C) includes the metal nanowires, and among the substrate 1, the electrode layer 12, and the intermediate layer 20 (anchor layer 3 and planarization layer 4). Any one or two or more of these include an ultraviolet absorbing material. Therefore, for the same reason as in the first embodiment and the second embodiment, an increase in the electrical resistance of the electrode layer 12 due to the activation of the metal nanowire is suppressed, so that stable operability can be obtained.

特に、基体１、アンカー層３および平坦化層４のうちのいずれか１つまたは２つ以上が紫外線吸収材料を含んでいれば、より高い効果を得ることができる。中でも、アンカー層３が紫外線吸収材料を含んでいれば、さらに高い効果を得ることができる。なお、保護層６も紫外線吸収材料を含んでいれば、より高い効果を得ることができる。これ以外の作用および効果は、上記した第１実施形態と同様である。   In particular, if any one or two or more of the substrate 1, the anchor layer 3, and the planarization layer 4 contain an ultraviolet absorbing material, a higher effect can be obtained. Among these, if the anchor layer 3 contains an ultraviolet absorbing material, a higher effect can be obtained. If the protective layer 6 also contains an ultraviolet absorbing material, a higher effect can be obtained. Other operations and effects are the same as those in the first embodiment.

＜２．タッチパネル付き表示装置＞
次に、本発明の一実施形態のタッチパネルが適用されたタッチパネル付き表示装置に関して説明する。 <2. Display device with touch panel>
Next, a display device with a touch panel to which the touch panel of one embodiment of the present invention is applied will be described.

図４は、タッチパネル付き表示装置の断面構成を模式的に表している。このタッチパネル付き表示装置は、例えば、図４に示したように、タッチパネル１００Ａと、そのタッチパネル１００Ａが取り付けられた表示パネル１００Ｂとを備えている。   FIG. 4 schematically shows a cross-sectional configuration of a display device with a touch panel. For example, as shown in FIG. 4, the display device with a touch panel includes a touch panel 100A and a display panel 100B to which the touch panel 100A is attached.

タッチパネル１００Ａは、上記した本発明のタッチパネルと同様の構成を有している。すなわち、タッチパネル１００Ａは、第１実施形態のタッチパネルでもよいし、第２実施形態のタッチパネルでもよいし、第３実施形態のタッチパネルでもよい。このタッチパネル１００Ａは、表示パネル１００Ｂの表示面に取り付けられている。   The touch panel 100A has the same configuration as the touch panel of the present invention described above. That is, the touch panel 100A may be the touch panel of the first embodiment, the touch panel of the second embodiment, or the touch panel of the third embodiment. This touch panel 100A is attached to the display surface of the display panel 100B.

表示パネル１００Ｂの種類は、任意の表示原理を用いて画像および映像を表示可能であるパネル（ディスプレイ）であれば、特に限定されない。この表示パネル１００Ｂは、例えば、液晶表示パネル、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）パネルおよび電子ペーパーパネルなどである。   The type of the display panel 100B is not particularly limited as long as it is a panel (display) that can display images and videos using an arbitrary display principle. The display panel 100B is, for example, a liquid crystal display panel, an organic electroluminescence (EL) panel, an electronic paper panel, or the like.

このタッチパネル付き表示装置では、表示パネル１００Ｂに表示される画像および映像を見ながら、タッチパネル１００Ａを用いて表示パネル１００Ｂが操作される。   In this display device with a touch panel, the display panel 100B is operated using the touch panel 100A while viewing images and videos displayed on the display panel 100B.

このタッチパネル付き表示装置によれば、タッチパネル１００Ａが上記した本発明のタッチパネルと同様の構成を有しているので、その本発明のタッチパネルと同様の効果を得ることができる。   According to this display device with a touch panel, since the touch panel 100A has the same configuration as the touch panel of the present invention described above, the same effect as the touch panel of the present invention can be obtained.

本発明の具体的な実施例に関して、詳細に説明する。   Specific embodiments of the present invention will be described in detail.

（実験例１）
以下の手順により、図１Ａ〜図１Ｃに示した第１実施形態のタッチパネルを作製した。 (Experimental example 1)
The touch panel of 1st Embodiment shown to FIG. 1A-FIG. 1C was produced with the following procedures.

最初に、基体１（ＰＥＴ基板）の一面（非透過領域２Ｙ）に、シルクスクリーン印刷法を用いて加飾層２を形成した。この場合には、基体１の厚さを８００μｍとした。また、加飾層２の形成材料として、シリコン系消泡剤を含む黒色顔料インキ（帝国インキ製造株式会社製ＭＲＸ−ＨＦ９１９黒）を用いると共に、その加飾層２の厚さを２０μｍとした。   First, the decoration layer 2 was formed on one surface (non-transmissive region 2Y) of the base 1 (PET substrate) using a silk screen printing method. In this case, the thickness of the substrate 1 was set to 800 μm. Moreover, while using the black pigment ink containing a silicon type | system | group antifoamer as a forming material of the decorating layer 2 (Teikoku Mfg. Co., Ltd. MRX-HF919 black), the thickness of the decorating layer 2 was 20 micrometers.

続いて、アンカー材料（帝国インキ製造株式会社製ＭＩＸ−ＨＦ０００メジウム）と、希釈剤（帝国インキ製造株式会社製Ｃ−００２ ＳＯＬＶＥＮＴ）と、硬化剤（帝国インキ製造株式会社製２１０ ＣＡＴＡＬＹＳＴ固化級）と、紫外線吸収材料であるヒドロキシフェニルトリアジン（ＨＰＴ：チバ・ジャパン株式会社製ＴＩＮＵＶＩＮ４７７）とを混合して、混合液を得た。この場合には、アンカー材料と希釈剤と硬化剤との混合比を重量比で１００：１０：３にすると共に、アンカー材料と希釈剤と硬化剤との合計に対して紫外線吸収材料の含有量を４重量％とした。続いて、混合溶液を基体１および加飾層２のそれぞれに塗布したのち、その混合溶液を加熱乾燥して硬化させた。これにより、紫外線吸収材料を含むアンカー層３が形成された。この場合には、アンカー層３の厚さを５μｍとした。   Subsequently, an anchor material (MIX-HF000 medium manufactured by Teikoku Ink Manufacturing Co., Ltd.), a diluent (C-002 SOLVENT manufactured by Teikoku Ink Manufacturing Co., Ltd.), and a curing agent (210 CATALYST solidification grade manufactured by Teikoku Ink Manufacturing Co., Ltd.) Then, hydroxyphenyltriazine (HPT: TINUVIN477 manufactured by Ciba Japan Co., Ltd.), which is an ultraviolet absorbing material, was mixed to obtain a mixed solution. In this case, the mixing ratio of the anchor material, the diluent, and the curing agent is set to 100: 10: 3 by weight, and the content of the ultraviolet absorbing material with respect to the total of the anchor material, the diluent, and the curing agent. Was 4% by weight. Then, after apply | coating the mixed solution to each of the base | substrate 1 and the decoration layer 2, the mixed solution was heat-dried and hardened. Thereby, the anchor layer 3 including the ultraviolet absorbing material was formed. In this case, the thickness of the anchor layer 3 was 5 μm.

続いて、シルクスクリーン印刷法を用いて、アンカー層３の上に平坦化層４を形成した。この場合には、平坦化層４の形成材料として、無溶剤タイプの紫外線硬化樹脂（サンユレック株式会社製のＲＬ−９２６２）を用いた。この平坦化層４の詳細な形成手順は、以下の通りである。最初に、アンカー層３の表面に、紫外線硬化樹脂を印刷した。続いて、ローラを用いて、片面が離型処理されたガラスを印刷面（紫外線硬化樹脂の表面）に貼り合わせて、その紫外線硬化樹脂を加圧処理した。続いて、オートクレーブ圧力釜を用いて、紫外線硬化樹脂をクレーブ処理（脱泡）した。最後に、紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させたのち、その紫外線硬化樹脂からガラスを剥離した。   Subsequently, the planarizing layer 4 was formed on the anchor layer 3 by using a silk screen printing method. In this case, a solventless type ultraviolet curable resin (RL-9262 manufactured by Sanyu Rec Co., Ltd.) was used as a material for forming the planarizing layer 4. The detailed formation procedure of the planarizing layer 4 is as follows. First, an ultraviolet curable resin was printed on the surface of the anchor layer 3. Subsequently, using a roller, the glass on which one side was released was bonded to the printing surface (the surface of the ultraviolet curable resin), and the ultraviolet curable resin was subjected to pressure treatment. Subsequently, the ultraviolet curable resin was subjected to a craving treatment (defoaming) using an autoclave pressure cooker. Finally, ultraviolet rays were irradiated to cure the ultraviolet curable resin, and then the glass was peeled from the ultraviolet curable resin.

続いて、銀ナノワイヤインク（Cambrios Technologies Corporation 製のCleanOhm）を平坦化層４（透過領域２Ｘ）に塗布してから乾燥させて、電極材料を形成した。また、平坦化層４（非透過領域２Ｙ）に銀ペーストを塗布して、配線材料を形成した。最後に、赤外線レーザを用いて電極材料および配線材料のそれぞれをパターニングして、電極部５Ａおよび配線部５Ｂを含む電極層５を形成した。この場合には、レーザ加工機として、株式会社片岡製作所製のファイバレーザ（１０６０±１０ｎｍ）を用いた。これにより、タッチパネルが完成した。   Subsequently, silver nanowire ink (CleanOhm manufactured by Cambrios Technologies Corporation) was applied to the planarization layer 4 (transmission region 2X) and then dried to form an electrode material. Further, a silver paste was applied to the planarization layer 4 (non-transmission region 2Y) to form a wiring material. Finally, each of the electrode material and the wiring material was patterned using an infrared laser to form the electrode layer 5 including the electrode portion 5A and the wiring portion 5B. In this case, a fiber laser (1060 ± 10 nm) manufactured by Kataoka Manufacturing Co., Ltd. was used as the laser processing machine. Thereby, the touch panel was completed.

（実験例２）
比較のために、アンカー層３に紫外線吸収材料を含有させなかったことを除き、同様の手順によりタッチパネルを作製した。 (Experimental example 2)
For comparison, a touch panel was produced by the same procedure except that the anchor layer 3 did not contain an ultraviolet absorbing material.

実験例１，２のタッチパネルの操作性に影響を及ぼす電気抵抗特性を調べたところ、図５Ａおよび図５Ｂのそれぞれに示した結果が得られた。図５Ａは、実験例１における電気抵抗の経過時間依存性を表しており、図５Ｂは、実験例２における電気抵抗の経過時間依存性を表している。この電気抵抗特性を調べる場合には、タッチパネルの耐候性試験を実施して、電極層５の電気抵抗（表面抵抗）の変化を追跡した。この場合には、耐候性試験機として、東洋精機製作所製のアトラス・ウエザオメータＣｉ４０００を用いた。また、実験条件として、紫外線（波長＝３００ｎｍ〜４００ｎｍ）の照射強度＝８４Ｗ／ｍ2 、槽内温度＝４０℃、ブラックパネル温度＝６３℃とした。なお、図５Ａおよび図５Ｂのそれぞれでは、電気抵抗の値として、初期（経過時間＝０時間）における電気抵抗の値を１として換算（規格化）した値を示している。 When the electrical resistance characteristics affecting the operability of the touch panels of Experimental Examples 1 and 2 were examined, the results shown in FIGS. 5A and 5B were obtained. FIG. 5A represents the elapsed time dependence of the electrical resistance in Experimental Example 1, and FIG. 5B represents the elapsed time dependence of the electrical resistance in Experimental Example 2. When examining this electrical resistance characteristic, a weather resistance test of the touch panel was performed to track changes in the electrical resistance (surface resistance) of the electrode layer 5. In this case, an Atlas weatherometer Ci4000 manufactured by Toyo Seiki Seisakusho was used as a weather resistance tester. Further, as experimental conditions, the irradiation intensity of ultraviolet rays (wavelength = 300 nm to 400 nm) = 84 W / m 2 , the temperature in the tank = 40 ° C., and the black panel temperature = 63 ° C. In each of FIGS. 5A and 5B, the value of electrical resistance is converted (normalized) to 1 as the value of electrical resistance in the initial stage (elapsed time = 0 hours).

アンカー層３が紫外線吸収材料を含んでいる場合（実験例１）には、図５Ａに示したように、時間の経過に応じて電気抵抗が僅かに増加した。この場合において、最終的（経過時間＝２４０時間）な電気抵抗は、初期（経過時間＝０時間）の電気抵抗の２倍までには至らなかった。これに対して、アンカー層３が紫外線吸収材料を含んでいない場合（実験例２）には、図５Ｂに示したように、時間の経過に応じて電気抵抗が大幅に増加した。この場合において、最終的な電気抵抗は、初期の電気抵抗の約１０倍に至った。この結果は、アンカー層３に紫外線吸収材料が含有されていると、そのアンカー層３に紫外線吸収材料が含有されていない場合と比較して、電極層５中の金属ナノワイヤに到達する紫外線の量が著しく減少することを表している。これにより、金属ナノワイヤの活性化（腐食）が抑制されるため、電気抵抗の増加が大幅に抑制された。   When the anchor layer 3 contains an ultraviolet absorbing material (Experimental Example 1), as shown in FIG. 5A, the electrical resistance slightly increased with the passage of time. In this case, the final electrical resistance (elapsed time = 240 hours) did not reach twice the initial electrical resistance (elapsed time = 0 hours). On the other hand, when the anchor layer 3 did not contain the ultraviolet absorbing material (Experimental example 2), as shown in FIG. 5B, the electrical resistance increased significantly with the passage of time. In this case, the final electrical resistance reached about 10 times the initial electrical resistance. This result shows that the amount of ultraviolet rays reaching the metal nanowires in the electrode layer 5 when the anchor layer 3 contains an ultraviolet absorbing material as compared with the case where the anchor layer 3 does not contain an ultraviolet absorbing material. Represents a significant decrease. Thereby, since activation (corrosion) of the metal nanowire is suppressed, an increase in electrical resistance is significantly suppressed.

なお、ここでは具体的に検証していないが、紫外線吸収材料がアンカー層３に代えて基体１などに含有されている場合においても、その紫外線吸収材料がアンカー層３に含有されている場合と同様の結果が得られるはずである。紫外線吸収材料が基体１などに含有されていても、タッチパネルの内部において紫外線の吸収機能が発揮されるため、電極層５中の金属ナノワイヤに到達する紫外線の量が減少するからである。   Although not specifically verified here, even when the ultraviolet absorbing material is contained in the substrate 1 or the like instead of the anchor layer 3, the ultraviolet absorbing material is contained in the anchor layer 3. Similar results should be obtained. This is because even if the ultraviolet absorbing material is contained in the substrate 1 or the like, the ultraviolet absorbing function is exhibited inside the touch panel, so that the amount of ultraviolet rays reaching the metal nanowires in the electrode layer 5 is reduced.

（実験例３）
加飾層２の形成材料を変更したことを除いて実施例１と同様の手順により、タッチパネルを作製した。加飾層２の形成材料としては、エーテル型の非シリコン系消泡剤を含む黒色顔料インキ（株式会社セイコーアドバンス製ＨＦ−ＢＭＲ７１０ブラック）を用いた。 (Experimental example 3)
A touch panel was produced by the same procedure as in Example 1 except that the forming material of the decorative layer 2 was changed. As a material for forming the decoration layer 2, a black pigment ink (HF-BMR710 Black, manufactured by Seiko Advance Co., Ltd.) containing an ether type non-silicone defoaming agent was used.

実験例１，３のタッチパネルの操作性に影響を及ぼすアンカー層３の密着性を調べたところ、表１に示した結果が得られた。   When the adhesion of the anchor layer 3 affecting the operability of the touch panels of Experimental Examples 1 and 3 was examined, the results shown in Table 1 were obtained.

アンカー層３の密着性を調べる場合には、非透過領域２Ｙにおいて、加飾層２の上にアンカー層３および平坦化層４をこの順に形成したのち、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−６（クロスカット試験法）に準拠してクロスカット密着試験（試験数＝１００）を行うことにより、その加飾層２に対するアンカー層３の密着性（密着数／１００）を評価した。   When examining the adhesion of the anchor layer 3, after forming the anchor layer 3 and the flattening layer 4 in this order on the decorative layer 2 in the non-transmissive region 2Y, JIS K5600-5-6 (cross cut test) The cross-cut adhesion test (number of tests = 100) was performed in accordance with the method) to evaluate the adhesion (number of adhesion / 100) of the anchor layer 3 to the decorative layer 2.

なお、参考のために、透過領域２Ｘにおいて、基体１の上にアンカー層３および平坦化層４をこの順に形成したのち、同様のクロスカット密着試験を行うことにより、アンカー層３に対する平坦化層４の密着性（密着数／１００）も調べた。   For reference, after the anchor layer 3 and the flattening layer 4 are formed in this order on the base 1 in the transmissive region 2X, the flattening layer for the anchor layer 3 is obtained by performing the same cross-cut adhesion test. 4 adhesion (number of adhesions / 100) was also examined.

Figure 2016051477
Figure 2016051477

シリコン系消泡剤を用いた場合（実験例１）には、透過領域２Ｘでは平坦化層４がアンカー層３からほとんど剥離しなかったが、非透過領域２Ｙでは若干数のアンカー層３が加飾層２から剥離した。この結果は、アンカー層３の密着性が加飾層２の有無に依存することを表している。これに対して、非シリコン系消泡剤を用いた場合（実験例３）には、透過領域２Ｘでは平坦化層４がアンカー層３から剥離しなかったと共に、非透過領域２Ｙにおいてもアンカー層３が加飾層２から剥離しなかった。この結果は、適正な種類の消泡剤を用いると、加飾層２の有無に依存せずにアンカー層３の密着性が確保されることを表している。   When a silicon-based antifoaming agent was used (Experiment 1), the planarizing layer 4 hardly peeled off from the anchor layer 3 in the transmissive region 2X, but a few anchor layers 3 were added in the non-transmissive region 2Y. It peeled from the decoration layer 2. This result indicates that the adhesion of the anchor layer 3 depends on the presence or absence of the decorative layer 2. On the other hand, when a non-silicon-based antifoaming agent is used (Experimental Example 3), the planarizing layer 4 does not peel from the anchor layer 3 in the transmissive region 2X, and the anchor layer also in the non-transmissive region 2Y. 3 did not peel from the decorative layer 2. This result shows that the adhesion of the anchor layer 3 is ensured without depending on the presence or absence of the decorative layer 2 when an appropriate type of antifoaming agent is used.

これらの結果から、電極層５が金属ナノワイヤを含んでいると共に、アンカー層３などが紫外線吸収材料を含んでいると、その電極層５の電気抵抗の増加が抑制された。これにより、安定した操作性が得られた。   From these results, when the electrode layer 5 contains metal nanowires and the anchor layer 3 or the like contains an ultraviolet absorbing material, an increase in electrical resistance of the electrode layer 5 is suppressed. Thereby, stable operability was obtained.

以上、実施形態および実施例を挙げながら本発明に関して説明したが、その本発明は、実施形態および実施例において説明した態様に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、タッチパネルは、第１実施形態、第２実施形態および第３実施形態のそれぞれにおいて説明した構成に限らず、他の構成を有していてもよい。   While the present invention has been described with reference to the embodiments and examples, the present invention is not limited to the modes described in the embodiments and examples, and various modifications can be made. For example, the touch panel is not limited to the configuration described in each of the first embodiment, the second embodiment, and the third embodiment, and may have other configurations.

１…基体、２…加飾層、３…アンカー層、４…平坦化層、５，７，１２…電極層、６…保護層、８…接着層、９…対向基体、１０…対向電極層、１１…対向保護層、２０…中間層。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base | substrate, 2 ... Decorating layer, 3 ... Anchor layer, 4 ... Planarization layer, 5, 7, 12 ... Electrode layer, 6 ... Protective layer, 8 ... Adhesive layer, 9 ... Opposing base | substrate, 10 ... Counter electrode layer , 11 ... opposing protective layer, 20 ... intermediate layer.

Claims (16)

基体と、
金属ナノワイヤを含む電極層と、
前記基体と前記電極層との間に配置された中間層と
を備え、
前記基体、前記電極層および前記中間層のうちの少なくとも１つは、紫外線吸収材料を含む、
タッチパネル。 A substrate;
An electrode layer comprising metal nanowires;
An intermediate layer disposed between the substrate and the electrode layer,
At least one of the substrate, the electrode layer, and the intermediate layer includes an ultraviolet absorbing material,
Touch panel. 前記中間層は、
前記基体と前記電極層との間に配置された平坦化層と、
前記基体と前記平坦化層との間に配置されたアンカー層と
を含み、
前記平坦化層および前記アンカー層のうちの少なくとも一方は、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項１記載のタッチパネル。 The intermediate layer is
A planarization layer disposed between the substrate and the electrode layer;
An anchor layer disposed between the substrate and the planarization layer,
At least one of the planarization layer and the anchor layer includes the ultraviolet absorbing material,
The touch panel according to claim 1. 前記アンカー層は、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項２記載のタッチパネル。 The anchor layer includes the ultraviolet absorbing material,
The touch panel according to claim 2. さらに、保護層を備え、
前記電極層は、前記中間層と前記保護層との間に配置されており、
前記保護層は、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項１記載のタッチパネル。 In addition, with a protective layer,
The electrode layer is disposed between the intermediate layer and the protective layer;
The protective layer includes the ultraviolet absorbing material,
The touch panel according to claim 1. さらに、
前記電極層に対向すると共に前記金属ナノワイヤを含む対向電極層と、
前記保護層と前記対向電極層との間に配置されると共に前記基体に対向する対向基体と、
前記保護層と前記対向基体との間に配置された接着層と
を備え、
前記対向電極層、前記対向基体および前記接着層のうちの少なくとも１つは、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項４記載のタッチパネル。 further,
A counter electrode layer facing the electrode layer and including the metal nanowire;
A counter substrate disposed between the protective layer and the counter electrode layer and facing the substrate;
An adhesive layer disposed between the protective layer and the counter substrate,
At least one of the counter electrode layer, the counter substrate, and the adhesive layer includes the ultraviolet absorbing material.
The touch panel according to claim 4. さらに、前記保護層に対向する対向保護層を備え、
前記対向電極層は、前記対向基体と前記対向保護層との間に配置されており、
前記対向保護層は、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項５記載のタッチパネル。 Furthermore, an opposing protective layer facing the protective layer is provided,
The counter electrode layer is disposed between the counter substrate and the counter protective layer;
The opposing protective layer includes the ultraviolet absorbing material,
The touch panel according to claim 5. 前記金属ナノワイヤは、銀（Ａｇ）ナノワイヤおよび銅（Ｃｕ）ナノワイヤのうちの少なくとも一方を含み、
前記紫外線吸収材料は、トリアジン系の吸収剤、ベンゾトリアゾール系の吸収剤、ベンゾフェノン系の吸収剤、シアノアクリレート系の吸収剤、オキザニリド系の吸収剤、サリシレート系の吸収剤およびホルムアミジン系の吸収剤のうちの少なくとも１種を含む、
請求項１記載のタッチパネル。 The metal nanowire includes at least one of a silver (Ag) nanowire and a copper (Cu) nanowire,
The ultraviolet absorbing material includes a triazine-based absorbent, a benzotriazole-based absorbent, a benzophenone-based absorbent, a cyanoacrylate-based absorbent, an oxanilide-based absorbent, a salicylate-based absorbent, and a formamidine-based absorbent. Including at least one of
The touch panel according to claim 1. さらに、前記基体と前記中間層との間に配置されると共に前記基体の一部に隣接する加飾層を備え、
前記加飾層は、非シリコン系消泡剤を含む、
請求項１記載のタッチパネル。 And a decorative layer disposed between the base and the intermediate layer and adjacent to a part of the base,
The decorative layer includes a non-silicon antifoaming agent,
The touch panel according to claim 1. タッチパネルと、
前記タッチパネルが取り付けられた表示パネルと
を備え、
前記タッチパネルは、
基体と、
金属ナノワイヤを含む電極層と、
前記基体と前記電極層との間に配置された中間層と
を備え、
前記基体、前記電極層および前記中間層のうちの少なくとも１つは、紫外線吸収材料を含む、
タッチパネル付き表示装置。 A touch panel;
A display panel to which the touch panel is attached,
The touch panel
A substrate;
An electrode layer comprising metal nanowires;
An intermediate layer disposed between the substrate and the electrode layer,
At least one of the substrate, the electrode layer, and the intermediate layer includes an ultraviolet absorbing material,
Display device with touch panel. 前記中間層は、
前記基体と前記電極層との間に配置された平坦化層と、
前記基体と前記平坦化層との間に配置されたアンカー層と
を含み、
前記平坦化層および前記アンカー層のうちの少なくとも一方は、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項９記載のタッチパネル付き表示装置。 The intermediate layer is
A planarization layer disposed between the substrate and the electrode layer;
An anchor layer disposed between the substrate and the planarization layer,
At least one of the planarization layer and the anchor layer includes the ultraviolet absorbing material,
The display device with a touch panel according to claim 9. 前記アンカー層は、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項１０記載のタッチパネル付き表示装置。 The anchor layer includes the ultraviolet absorbing material,
The display device with a touch panel according to claim 10. 前記タッチパネルは、さらに、保護層を備え、
前記電極層は、前記中間層と前記保護層との間に配置されており、
前記保護層は、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項９記載のタッチパネル付き表示装置。 The touch panel further includes a protective layer,
The electrode layer is disposed between the intermediate layer and the protective layer;
The protective layer includes the ultraviolet absorbing material,
The display device with a touch panel according to claim 9. 前記タッチパネルは、さらに、
前記電極層に対向すると共に前記金属ナノワイヤを含む対向電極層と、
前記保護層と前記対向電極層との間に配置されると共に前記基体に対向する対向基体と、
前記保護層と前記対向基体との間に配置された接着層と
を備え、
前記対向電極層、前記対向基体および前記接着層のうちの少なくとも１つは、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項１２記載のタッチパネル付き表示装置。 The touch panel further includes:
A counter electrode layer facing the electrode layer and including the metal nanowire;
A counter substrate disposed between the protective layer and the counter electrode layer and facing the substrate;
An adhesive layer disposed between the protective layer and the counter substrate,
At least one of the counter electrode layer, the counter substrate, and the adhesive layer includes the ultraviolet absorbing material.
The display device with a touch panel according to claim 12. 前記タッチパネルは、さらに、前記保護層に対向する対向保護層を備え、
前記対向電極層は、前記対向基体と前記対向保護層との間に配置されており、
前記対向保護層は、前記紫外線吸収材料を含む、
請求項１３記載のタッチパネル付き表示装置。 The touch panel further includes an opposing protective layer facing the protective layer,
The counter electrode layer is disposed between the counter substrate and the counter protective layer;
The opposing protective layer includes the ultraviolet absorbing material,
The display device with a touch panel according to claim 13. 前記金属ナノワイヤは、銀（Ａｇ）ナノワイヤおよび銅（Ｃｕ）ナノワイヤのうちの少なくとも一方を含み、
前記紫外線吸収材料は、トリアジン系の吸収剤、ベンゾトリアゾール系の吸収剤、ベンゾフェノン系の吸収剤、シアノアクリレート系の吸収剤、オキザニリド系の吸収剤、サリシレート系の吸収剤およびホルムアミジン系の吸収剤のうちの少なくとも１種を含む、
請求項９記載のタッチパネル付き表示装置。 The metal nanowire includes at least one of a silver (Ag) nanowire and a copper (Cu) nanowire,
The ultraviolet absorbing material includes a triazine-based absorbent, a benzotriazole-based absorbent, a benzophenone-based absorbent, a cyanoacrylate-based absorbent, an oxanilide-based absorbent, a salicylate-based absorbent, and a formamidine-based absorbent. Including at least one of
The display device with a touch panel according to claim 9. 前記タッチパネルは、さらに、前記基体と前記中間層との間に配置されると共に前記基体の一部に隣接する加飾層を備え、
前記加飾層は、非シリコン系消泡剤を含む、
請求項９記載のタッチパネル付き表示装置。 The touch panel further includes a decorative layer disposed between the base and the intermediate layer and adjacent to a part of the base,
The decorative layer includes a non-silicon antifoaming agent,
The display device with a touch panel according to claim 9.
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