JP2016045307A - 表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】本発明は、画素電極間の保持容量配線での反射光を抑制した表示装置を提供することを、目的の一つとする。
【解決手段】本発明の一実施形態による表示装置は、絶縁膜を介して画素電極と対向する保持容量電極を含む複数の画素と、複数の画素の間に配置され、反射光を抑制する機能を持つ部材とを有する。複数の画素の間に配置されるバンク層と、画素電極及びバンク層上に配置されるOLED発光層と、OLED発光層上に配置される陰極と、陰極上に配置される封止膜と、封止膜上に配置される充填材とをさらに有してもよい。また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、光吸収体であってもよい。また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、光散乱体であってもよい。また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、反射低減層であってもよい。
【選択図】図5
【解決手段】本発明の一実施形態による表示装置は、絶縁膜を介して画素電極と対向する保持容量電極を含む複数の画素と、複数の画素の間に配置され、反射光を抑制する機能を持つ部材とを有する。複数の画素の間に配置されるバンク層と、画素電極及びバンク層上に配置されるOLED発光層と、OLED発光層上に配置される陰極と、陰極上に配置される封止膜と、封止膜上に配置される充填材とをさらに有してもよい。また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、光吸収体であってもよい。また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、光散乱体であってもよい。また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、反射低減層であってもよい。
【選択図】図5
Description
本発明は、表示装置に関し、特に隣接画素への光漏れや不要混色を防ぐ技術に関する。
近年、モバイル用途の発光表示装置において、高精細化や低消費電力化に対する要求が強くなってきている。モバイル用途の表示装置としては、液晶表示装置(Liquid Crystal Display Device:LCD)や、有機EL表示装置等の自発光素子(OLED:Organic Light−Emitting Diode)を利用した表示装置や、電子ペーパー等が採用されている。
その中でも、ディスプレイパネルの薄型化や高輝度化や高速化を目的として、有機EL表示装置の開発が進められている。有機EL表示装置は、OLEDから構成された画素を備えた表示装置であり、機械的な動作がないために反応速度が速く、各画素自体が発光するために高輝度表示が可能になるとともに、バックライト光源や偏光板が不要となるために薄型化が可能になるので、次世代の表示装置として期待されている。
OLED素子の陽極として作用する画素電極の下側の層に、絶縁膜を介して金属からなる保持(補助)容量電極を配置して保持容量を構成し、隣接画素の保持容量電極を保持容量配線で接続した表示装置として、例えば特許文献1がある。図14は、従来技術に係る表示装置の断面図であり、上述の保持容量電極を配置した表示装置の構造を示したものである。ここで、OLED素子からの斜め方向へ出射される光92の一部は、屈折率の異なる層の界面で反射した後に、画素電極間の保持容量配線で再び反射し、隣接画素へ進行する。隣接画素へ進行する光95は、隣接画素で本来表示すべき光に重畳するため、光漏れや不要混色となり、表示特性に影響を及ぼす。
本発明は、画素電極間の保持容量配線での反射光を抑制した表示装置を提供することを、目的の一つとする。
本発明の一実施形態による表示装置は、絶縁膜を介して画素電極と対向する保持容量電極を含む複数の画素と、複数の画素の間に配置され、反射光を抑制する機能を持つ部材とを有する。
また、複数の画素の間に配置されるバンク層と、画素電極及びバンク層上に配置されるOLED発光層と、OLED発光層上に配置される陰極と、陰極上に配置される封止膜と、封止膜上に配置される充填材とをさらに有することを特徴としてもよい。
また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、光吸収体であることを特徴としてもよい。
また、光吸収体は、黒色顔料を含有する感光性樹脂からなることを特徴としてもよい。
また、光吸収体は、保持容量電極上に配置されることを特徴としてもよい。
また、光吸収体は、絶縁膜上に配置されることを特徴としてもよい。
また、光吸収体は、バンク層上に配置されることを特徴としてもよい。
また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、光散乱体であることを特徴としてもよい。
また、光散乱体は、保持容量電極上に配置されることを特徴としてもよい。
また、光散乱体は、絶縁膜の屈折率と異なる屈折率の微粒子を含有する感光性樹脂であることを特徴としてもよい。
また、光散乱体は、保持容量電極の絶縁膜側の表面に凹凸を形成したものであることを特徴としてもよい。
また、反射光を抑制する機能を持つ部材は、反射低減層であることを特徴としてもよい。
また、反射低減層は誘電体積層膜からなり、誘電体積層膜の屈折率は絶縁膜の屈折率と異なることを特徴としてもよい。
以下に、本発明の各実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
<実施形態1>
図1乃至9を用いて、実施形態1に係る表示装置の構成を説明する。実施形態1では、反射光を抑制する機能を有する部材として、光吸収体31が用いられる。
図1乃至9を用いて、実施形態1に係る表示装置の構成を説明する。実施形態1では、反射光を抑制する機能を有する部材として、光吸収体31が用いられる。
[表示装置の概要]
まず、図1及び2を用いて、実施形態に係る表示装置の概要を説明する。図1は、本発明の実施形態1における表示装置の斜視図を示す図である。また、図2は、本発明の実施形態1における表示装置の平面図を示す図である。
まず、図1及び2を用いて、実施形態に係る表示装置の概要を説明する。図1は、本発明の実施形態1における表示装置の斜視図を示す図である。また、図2は、本発明の実施形態1における表示装置の平面図を示す図である。
実施形態1における表示装置は、図1及び2に示すように、複数の画素のそれぞれに発光素子が設けられ、画素電極40がマトリクス状に配置された表示領域210を有する基板200、基板200に対向する対向基板300、対向基板300が露出された領域に設けられたドライバIC400及びFPC(Flexible Printed Circuits)500を有する。基板200は、表示領域210と、表示領域210の周辺に位置する周辺領域220とに分けられる。対向基板300には、表示領域210に画素電極40がマトリクス状に配列され、複数の画素電極40のそれぞれに実施例で説明する画素回路が配置される。FPC500には、駆動回路を制御するコントローラ回路に接続される端子部600が備えられている。
図2を参照すると、表示領域210には、横方向に走査信号線61が、縦方向には映像信号線62及び駆動電源線63が、マトリクス状をなすよう配置される。画素電極40は、走査信号線61、映像信号線62及び駆動電源線63によって囲まれた領域に対応している。図2では、説明のため画素電極40と、走査信号線61、映像信号線62及び駆動電源線63で囲まれる領域とを重ねずに図示したが、画素電極40とこれらの線は平面上で重なって配置されてもよい。
[画素の回路図]
次に、図3を用いて、実施形態の画素回路を説明する。
次に、図3を用いて、実施形態の画素回路を説明する。
図3に示すように、実施形態1の画素回路12は、制御TFT71、駆動TFT72及び蓄積容量73によって構成される。例えば制御TFT71及び駆動TFT72にn型半導体を用いた場合、制御TFT71のゲートは走査信号線61に接続され、ソースは映像信号線62に接続され、ドレインは蓄積容量73の一端及び駆動TFT72のゲートに接続される。駆動TFT72のドレインは駆動電源線63に接続され、ソースは画素電極40に接続される。画素電極40は蓄積容量73の他端、OLED素子74の陽極及び保持容量36の一端に接続される。保持容量36の他端は保持容量電極30である。隣接する画素に対応する保持容量電極30は、保持容量配線35によってそれぞれ接続される。なお、図3では図示しないが、上下方向の保持容量電極30も、保持容量配線35によってそれぞれ接続される。
制御TFT71のゲートに所定の電圧が印加されると、制御TFT71は映像信号線62に応じた電位を蓄積容量73に与える。駆動TFT72のゲートは蓄積容量73によって電位が保持されており、蓄積容量73の電荷に対応した電流を駆動電源線63からOLED素子74の陽極に供給する。OLED素子74の陰極は、接地電極又は負電位の陰極18に接続される。
[画素の構成]
次に、図4及び5を用いて、実施形態1における光吸収体31の構成を説明する。
次に、図4及び5を用いて、実施形態1における光吸収体31の構成を説明する。
図4は、実施形態1における光吸収体31の平面図であり、画素電極40が縦に3個、横に4個並んで配置された部分を拡大したものである。画素電極40は矩形状に形成されており、右上部分に保持容量電極30の開口部42が形成され、開口部42が形成される領域を除いた部分に発光部41がL字型に形成されている。隣接する画素電極40の間と、開口部42が配置される領域には、バンク層16(図示せず)が配置される。発光部41は、バンク層16(図示せず)が配置されていない領域であり、OLED発光層17(図示せず)が実際に発光する。
光吸収体31は、上下左右に隣接する画素電極40の間に配置される。光吸収体31は、隣接する画素電極40の間隔に相当する幅を有するよう配置されることが望ましい。より好ましくは、図4に示すように、画素電極40の間隔よりも広く配置されることが望ましい。
図5は、実施形態1における表示装置の画素回路において、図4のA−A’線における断面図を示したものである。
下基板11上に画素回路12が配置され、下基板11及び画素回路12上に層間絶縁膜13が配置される。ここで、下基板11はガラス、樹脂等で形成され、層間絶縁膜13は、下側に窒化シリコン、酸化シリコン等の無機材料で形成された層が複数積層されてもよく、走査信号線61、映像信号線62及び駆動電源線63(いずれも図示せず)が適宜配置される。また、層間絶縁膜13の上側には、アクリル、ポリイミド等の有機材料で形成される、平坦化のための層が形成されてもよい。
層間絶縁膜13上に、保持容量電極30及び保持容量配線35が配置される。ここで、保持容量電極30及び保持容量配線35は、同一の部材を層間絶縁膜13上に積層して形成され、後述する画素電極40と対向する部分が保持容量電極30として機能し、画素電極40間などのそれ以外の部分が保持容量配線35として機能する。以下、説明の簡略のため、保持容量電極30及び保持容量配線35をまとめて保持容量電極30として説明する。
保持容量電極30上で、隣接する画素電極40間に相当する部分に、光吸収体31が配置される。光吸収体31には、カーボンブラックやチタンブラック等の黒色顔料を有する顔料を含有する感光性樹脂が用いられてもよい。この材料を用いた場合、一般的なフォトリソグラフィー装置を用いて感光性樹脂を加工できるため、図4に示すような所望のパターン形状の光吸収体を形成できる。また、光吸収体31に到達した光94が光吸収体31を通過して保持容量電極30で反射後、再び光吸収体31を通過する間の経路で十分吸収されるように、光吸収体31の厚さを光吸収体31の吸収係数に応じて設定することが望ましい。
層間絶縁膜13には、画素電極40と画素回路12を電気的に接続するためのコンタクトホール14が配置される。コンタクトホール14が保持容量電極30に接しないように、保持容量電極30に開口部42が形成されている。保持容量電極30、光吸収体31、コンタクトホール14及び層間絶縁膜13上に容量絶縁膜15が形成される。容量絶縁膜15上には、画素電極40が形成される。容量絶縁膜15の層間絶縁膜13の上部には、画素電極40と画素回路12を電気的に接続するためのコンタクトホール14が形成される。保持容量電極30は容量絶縁膜15を介して画素電極40と対向し、保持容量36を構成する。
画素電極40が配置されない領域に、画素を区画するためのバンク層16が形成される。また、コンタクトホール14が配置される領域にも、バンク層16が形成される。バンク層16は、アクリルやポリイミド等の透明な絶縁性の有機材料が用いられる。バンク層16及び画素電極40上に、OLED発光層17、陰極18、封止膜19が順次積層され、封止膜19上には充填材20が形成される。バンク層16上に積層されたOLED発光層17、陰極18、封止膜19は、バンク層16の形状に沿って、丸みを帯びて形成される。充填材20上には、カラーフィルタ21、22、23が配置される。バンク層16の上側には、ブラックマトリクス24が形成される。カラーフィルタ21、22、23及びブラックマトリクス24上に、上基板25が形成される。
画素電極40と陰極18との間に所定の電圧が印加されると、画素電極40と陰極18間のOLED発光層17は発光し、OLED発光層17から出射される光は全方向に及ぶ。OLED発光層17から上方向へ出射される光91は、陰極18、封止膜19、充填材20を透過し、カラーフィルタ22を通過して所望の色の光として発せられる。一方、OLED発光層17から斜め方向へ出射された光92は、封止膜19と充填材20の界面である点Pに到達する。封止膜19と充填材20の屈折率は一般に異なっており、バンク層16付近の封止膜19と充填材20の界面はバンク層16の形状に沿って丸みを帯びているので、OLED発光層17から出射された光の角度と界面の角度によって、光の反射及び屈折が生じる。図6では、光92と同方向に屈折した光93と、点Pで反射してバンク層16に向かう光94が生じていることを示している。
光93は、ブラックマトリクス24に入射して減衰されるので、隣の画素のカラーフィルタ21を通過して外部に出射されることはない。仮に、第1実施形態とは異なり、隣接する画素電極40の間に該当する部分に光吸収体31が形成されていない場合、光94は点Qで反射する。光95’は点Qで反射されたと仮定された光であり、画素電極40及びブラックマトリクス24に入射しない場合、隣の画素であるカラーフィルタ21を通過して外部に出射されてしまう。
上述のように、第1実施形態では、保持容量電極30上で、隣接する画素電極40の間に相当する部分に、光吸収体31が配置される。光吸収体31が配置されていることによって、点Pで反射した光94は光吸収体31に吸収され、隣の画素へ向かう反射光は発生しない。これによって、上下左右に隣接する画素への光漏れや不要混色を防ぎ、表示装置の表示特性を向上させることが可能となる。
なお、本発明ではOLED発光層17が白発光であり、カラーフィルタ21〜23があることが前提となる。これはカラーフィルタがなく、サブ画素ごとに赤、緑、青の色にてOLED発光層が発光する形態の場合は、点Pおよび点Qによる反射を経た出射光は光91と異なる色となることが無く、混色の問題が起きないからである。
(変形例1)
実施例1では、光吸収体31を保持容量電極30上に接して配置したが、本発明はこれに限られない。光吸収体31は、バンク層16付近の封止膜19と充填材20の界面で反射した光が、保持容量電極30に進行するのを防ぐ位置に配置すればよい。
実施例1では、光吸収体31を保持容量電極30上に接して配置したが、本発明はこれに限られない。光吸収体31は、バンク層16付近の封止膜19と充填材20の界面で反射した光が、保持容量電極30に進行するのを防ぐ位置に配置すればよい。
図6は、実施形態1の変形例1における表示装置の画素回路の断面図を示す図である。図5と図6とを比較すると、図6では光吸収体31が容量絶縁膜15上に配置されている点が異なる。図6を参照すると、容量絶縁膜15上に配置された光吸収体31が、点Pで反射した光94を吸収して、保持容量電極30へ進行させないことがわかる。
図6では、光吸収体31は画素電極40が配置されない領域全体に配置されており、容量絶縁膜15は光吸収体31又は画素電極40に覆われている構成をとっているが、本発明はこれに限らない。変形例1のように光吸収体31を容量絶縁膜15上に配置する場合、図5と比較すると光吸収体31が配置される位置が点Pに近いので、点Pで反射した光94が保持容量電極30で反射し隣の画素に向かうことを防ぐためには、隣接する画素電極40の間隔よりも狭く光吸収体31を形成してもよい。
さらに、変形例1とは異なり、例えば容量絶縁膜15を多層構造とし、容量絶縁膜15の内部に光吸収体31を配置しても良い。また、バンク層16の上又はその内部に光吸収体31を配置してもよい。
(変形例2)
図7は、実施形態1の変形例2における表示装置の画素回路の平面図を示す図である。図4と図7とを比較すると、図7では、光吸収体31が隣接する画素電極40の上下左右に配置され、斜め方向には配置されていない点が異なる。斜めに隣り合う画素電極40の距離は、上下又は左右に隣り合う画素電極40の距離よりも長いので、斜めに隣り合う画素間の光漏れや不要混色の影響は、上下又は左右に隣り合う画素間の影響よりも小さい。したがって、画素電極40の斜め方向に光吸収体31を配置しなくても、不要混色等の影響は小さく、その反面、実施例1と比較して光吸収体31の製造コストを下げることが可能になる。
図7は、実施形態1の変形例2における表示装置の画素回路の平面図を示す図である。図4と図7とを比較すると、図7では、光吸収体31が隣接する画素電極40の上下左右に配置され、斜め方向には配置されていない点が異なる。斜めに隣り合う画素電極40の距離は、上下又は左右に隣り合う画素電極40の距離よりも長いので、斜めに隣り合う画素間の光漏れや不要混色の影響は、上下又は左右に隣り合う画素間の影響よりも小さい。したがって、画素電極40の斜め方向に光吸収体31を配置しなくても、不要混色等の影響は小さく、その反面、実施例1と比較して光吸収体31の製造コストを下げることが可能になる。
また、例えば上下方向に同色を発光する画素が配置される表示装置の場合、同色の画素間での不要混色等の影響は比較的小さいので、画素電極40の上下方向には光吸収体31を配置しない構成とすることも可能である。
(変形例3)
図8は、実施形態1の変形例3における表示装置の画素回路の平面図を示す図である。図8と図7とを比較すると、いずれも光吸収体31が隣接する画素電極40の上下左右に配置されているものの、図8では開口部42の付近に光吸収体31が配置されていない点が異なる。
図8は、実施形態1の変形例3における表示装置の画素回路の平面図を示す図である。図8と図7とを比較すると、いずれも光吸収体31が隣接する画素電極40の上下左右に配置されているものの、図8では開口部42の付近に光吸収体31が配置されていない点が異なる。
図8に示すように、矩形状の画素電極40の頂点付近に開口部42が存在し、発光部41はL字型を形成している。上下に隣接する発光部41の開口部42が存在する付近は、発光部41間の間隔が比較的広いので、封止膜19と充填材20との界面で反射した光が保持容量電極30の形成された層へ到達する可能性は低い。また、開口部42にはコンタクトホール14(図示せず)が存在し、封止膜19と充填材20との界面で反射した光の障害物として機能する。したがって、開口部42の付近には光吸収体31を形成しなくても、保持容量電極30の反射を抑制することが可能となる。このような構成をとることによって、変形例2よりもさらに製造コストを下げることが可能となる。なお、変形例3においても、変形例2の説明で述べたように、同色を発光する画素が隣接する場合には、当該画素電極40の間に光吸収体31を配置しない構成とすることも可能である。
(変形例4)
図9は、実施形態1の変形例4における表示装置の画素回路の平面図を示す図である。変形例4は、光吸収体31に、隣接する画素で表示する光の波長域に吸収帯を有する顔料を含有する感光性樹脂が用いられる。
図9は、実施形態1の変形例4における表示装置の画素回路の平面図を示す図である。変形例4は、光吸収体31に、隣接する画素で表示する光の波長域に吸収帯を有する顔料を含有する感光性樹脂が用いられる。
図9では、左から順に赤色を表示する発光部41r、緑色を表示する発光部41g、青色を表示する発光部41b、そして赤色を表示する発光部41rが順に配置され、上下方向には同一色を表示する発光部41r、41g又は41bが配置される。
赤色を表示する画素の発光部41rから隣接する緑色を表示する画素に向かう光による混色を抑制するには、この光の緑色波長域の成分が光吸収体で吸収されればよい。反対に、緑色を表示する画素の発光部41gから隣接する赤色を表示する画素に向かう光による混色を抑制するには、この光の赤色波長域の成分が光吸収体で吸収されればよい。これらを同時に実現するには、光吸収体の両側の画素で表示する緑色波長域および赤色波長域に吸収帯が存在し、青色波長域の光を透過する光吸収体であってもよい。したがって、発光部41rを有する画素電極40と、発光部41gを有する画素電極40との間には、青色波長域を透過する光吸収体31bを配置する。同様に、発光部41gを有する画素電極40と発光部41bを有する画素電極40との間には、赤色波長域を透過する光吸収体31rを配置し、発光部41bを有する画素電極40と発光部41rを有する画素電極40との間には、緑色波長域を透過する光吸収体31gを配置する。
上下に隣接する同色の画素間においても、上述の吸収帯に関する説明があてはまるが、必ずしも赤、緑、青以外の色を追加する必要はない。例えば、赤色を表示する画素間では、赤色波長域に吸収帯が存在すればよく、シアン波長域の光を透過する吸収体であってもよいが、緑色または青色波長域の光を透過する吸収体でもよい。ここでは、赤色の発光部41rを有する画素電極40間には、青色波長域を透過する光吸収体31bを配置し、緑色の発光部41gを有する画素電極40間には、赤色波長域を透過する光吸収体31rを配置し、青色の発光部41bを有する画素電極40間には、緑色波長域を透過する光吸収体31gを配置した。
<実施形態2>
次に、図10及び11を用いて、実施形態2に係る表示装置の構成を説明する。実施形態2では、反射光を抑制する機能を有する部材として、光散乱体32が用いられる。なお、特に言及しない部分については、実施形態2と実施形態1とは共通するものとする。
次に、図10及び11を用いて、実施形態2に係る表示装置の構成を説明する。実施形態2では、反射光を抑制する機能を有する部材として、光散乱体32が用いられる。なお、特に言及しない部分については、実施形態2と実施形態1とは共通するものとする。
図10は、実施形態2における光散乱体32の平面図である。図4と同様に、光散乱体32は、上下左右に隣接する画素電極40の間に配置される。
図11は、実施形態2における表示装置の画素回路において、図10のA−A’線における断面図を示したものである。
図11を参照すると、保持容量電極30上で、隣接する画素電極40の間に相当する幅をもって、光散乱体32が配置される。光散乱体32には、容量絶縁膜15の屈折率と異なる屈折率を有する微粒子を含有した、感光性樹脂を用いても良い。あるいは、保持容量電極30の上面の一部に凹凸を形成して、光散乱体32としてもよい。
点Pで反射した光94が光散乱体32の点Q2に到達すると、光94は光散乱体32の上側に分散して反射する。反射した光の一部である光96が、隣接する画素のカラーフィルタ21を通過して、混色を生じさせる場合もあるが、光96は光95の散乱した反射光の一部でしかないため、混色の影響を抑制することができる。
(変形例)
実施形態2における光散乱体32の平面上の配置に関しては、実施形態1の変形例2及び3と同様である。断面における光散乱体32の配置に関しても、実施形態1の変形例1と同様に、必ずしも保持容量電極30に接して配置されなくともよい。ただし、光散乱体32で反射される光のうち、混色を生じる角度に反射する光を可及的に減少させるという観点からは、光散乱体32は保持容量電極30に接して配置されることが好ましい。
実施形態2における光散乱体32の平面上の配置に関しては、実施形態1の変形例2及び3と同様である。断面における光散乱体32の配置に関しても、実施形態1の変形例1と同様に、必ずしも保持容量電極30に接して配置されなくともよい。ただし、光散乱体32で反射される光のうち、混色を生じる角度に反射する光を可及的に減少させるという観点からは、光散乱体32は保持容量電極30に接して配置されることが好ましい。
<実施形態3>
次に、図12及び13を用いて、実施形態3に係る表示装置の構成を説明する。実施形態3では、反射光を抑制する機能を有する部材として、反射低減層33が用いられる。なお、特に言及しない部分については、実施形態3と実施形態1とは共通するものとする。
次に、図12及び13を用いて、実施形態3に係る表示装置の構成を説明する。実施形態3では、反射光を抑制する機能を有する部材として、反射低減層33が用いられる。なお、特に言及しない部分については、実施形態3と実施形態1とは共通するものとする。
図12は、実施形態3における反射低減層33の平面図である。反射低減層33は、保持容量電極30(図示せず)上に積層されるので、平面上は開口部42を除く領域に配置される。
図13は、実施形態3における表示装置の画素回路において、図12のA−A’線における断面図を示したものである。
図13を参照すると、保持容量電極30上に、反射低減層33が積層される。反射低減層33には、光の反射を低減させる性質を有する材質が用いられ、例えば容量絶縁膜15の屈折率と異なる屈折率を有する誘電体積層膜が用いられる。材料としては、窒化シリコンや酸化シリコン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム等の複数の誘電体薄膜を繰り返し積層した積層膜であり、保持容量電極30及び保持容量配線35をフォトリソグラフィープロセスによってパターン形成する際に一括加工することで、反射低減層33を作製すればよい。この場合、誘電体積層膜に入射した光と保持容量電極30での反射光が光学干渉によって弱め合う条件に各層の膜厚を調整することが望ましい。
点Pで反射した光94が反射低減層33の点Q3に到達すると、点Q3で反射した光97が進行する。光97は、隣接する画素のカラーフィルタ21を通過するが、反射低減層33で反射した光97は光94と比較して光の強さが低減しているので、混色の影響を抑制することができる。
(変形例)
実施形態3における反射低減層33の平面上の配置に関しては、実施形態1並びにその変形例2及び3と同様に、隣接する画素電極40間に配置されてもよい。断面における反射低減層33の配置に関しても、実施形態1の変形例1と同様に、必ずしも保持容量電極30に接して配置されなくともよい。ただし、反射低減層33で反射される光のうち、混色を生じる角度に反射する光を可及的に減少させるという観点からは、反射低減層33は保持容量電極30に接して配置されることが好ましい。
実施形態3における反射低減層33の平面上の配置に関しては、実施形態1並びにその変形例2及び3と同様に、隣接する画素電極40間に配置されてもよい。断面における反射低減層33の配置に関しても、実施形態1の変形例1と同様に、必ずしも保持容量電極30に接して配置されなくともよい。ただし、反射低減層33で反射される光のうち、混色を生じる角度に反射する光を可及的に減少させるという観点からは、反射低減層33は保持容量電極30に接して配置されることが好ましい。
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったものの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
11:下基板
12:画素回路
13:層間絶縁膜
14:コンタクトホール
15:容量絶縁膜
16:バンク層
17:OLED発光層
18:陰極
19:封止膜
20:充填材
21、22、23:カラーフィルタ
24:ブラックマトリクス
25:上基板
30:保持容量電極
31、31r、31g、31b:光吸収体
32:光散乱体
33:反射低減層
35:保持容量配線
36:保持容量
40:画素電極
41、41r、41g、41b:発光部
42:開口部
61:走査信号線
62:映像信号線
63:駆動電源線
71:制御TFT
72:駆動TFT
73:蓄積容量
74:OLED素子
12:画素回路
13:層間絶縁膜
14:コンタクトホール
15:容量絶縁膜
16:バンク層
17:OLED発光層
18:陰極
19:封止膜
20:充填材
21、22、23:カラーフィルタ
24:ブラックマトリクス
25:上基板
30:保持容量電極
31、31r、31g、31b:光吸収体
32:光散乱体
33:反射低減層
35:保持容量配線
36:保持容量
40:画素電極
41、41r、41g、41b:発光部
42:開口部
61:走査信号線
62:映像信号線
63:駆動電源線
71:制御TFT
72:駆動TFT
73:蓄積容量
74:OLED素子
Claims (13)
- 絶縁膜を介して画素電極と対向する保持容量電極を含む複数の画素と、
前記複数の画素の間に配置され、反射光を抑制する機能を持つ部材と
を有する表示装置。 - 前記複数の画素の間に配置されるバンク層と、
前記画素電極及び前記バンク層上に配置されるOLED発光層と、
前記OLED発光層上に配置される陰極と、
前記陰極上に配置される封止膜と、
前記封止膜上に配置される充填材と
をさらに有することを特徴とする請求項1に記載の表示装置。 - 前記反射光を抑制する機能を持つ部材は、光吸収体であることを特徴とする、請求項2に記載の表示装置。
- 前記光吸収体は、黒色顔料を含有する感光性樹脂からなることを特徴とする、請求項3に記載の表示装置。
- 前記光吸収体は、前記保持容量電極上に配置されることを特徴とする、請求項3に記載の表示装置。
- 前記光吸収体は、前記絶縁膜上に配置されることを特徴とする、請求項3に記載の表示装置。
- 前記光吸収体は、前記バンク層上に配置されることを特徴とする、請求項3に記載の表示装置。
- 前記反射光を抑制する機能を持つ部材は、光散乱体であることを特徴とする、請求項2に記載の表示装置。
- 前記光散乱体は、前記保持容量電極上に配置されることを特徴とする、請求項8に記載の表示装置。
- 前記光散乱体は、前記絶縁膜の屈折率と異なる屈折率の微粒子を含有する感光性樹脂であることを特徴とする、請求項9に記載の表示装置。
- 前記光散乱体は、前記保持容量電極の前記絶縁膜側の表面に凹凸を形成したものであることを特徴とする、請求項9に記載の表示装置。
- 前記反射光を抑制する機能を持つ部材は、反射低減層であることを特徴とする、請求項2に記載の表示装置。
- 前記反射低減層は誘電体積層膜からなり、前記誘電体積層膜の屈折率は前記絶縁膜の屈折率と異なることを特徴とする、請求項12に記載の表示装置。
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WO2018120698A1 (zh) * | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 有机电致发光触控显示面板及其制作方法、显示装置 |
CN109166887A (zh) * | 2018-08-24 | 2019-01-08 | Oppo(重庆)智能科技有限公司 | 电子设备、oled显示屏及其制作方法 |
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-
2014
- 2014-08-21 JP JP2014168466A patent/JP2016045307A/ja active Pending
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US10423256B2 (en) | 2016-12-27 | 2019-09-24 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Organic light emitting touch display panel, manufacturing method thereof, and display device |
CN109166887A (zh) * | 2018-08-24 | 2019-01-08 | Oppo(重庆)智能科技有限公司 | 电子设备、oled显示屏及其制作方法 |
CN109166887B (zh) * | 2018-08-24 | 2021-03-05 | Oppo(重庆)智能科技有限公司 | 电子设备、oled显示屏及其制作方法 |
CN112991966A (zh) * | 2020-04-26 | 2021-06-18 | 重庆康佳光电技术研究院有限公司 | 一种显示背板、显示装置和显示背板制作方法 |
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