JP2016044551A - 内燃機関の制御装置および制御方法 - Google Patents

Abstract

【課題】炭化水素供給弁からの炭化水素の噴射時期を最適な噴射時期に設定する。【解決手段】内燃機関において、排気ガス中に含まれるNOxを浄化するために炭化水素供給弁（15）から機関排気通路内に炭化水素が間欠的に噴射される。予め定められた演算周期でもって機関の運転状態に応じた炭化水素の適切な噴射インターバルが演算され、前回の噴射が行われたときからの経過時間が、演算された最新の最適な噴射インターバルに達したとき又は越えたときに還元剤供給弁（15）からの炭化水素の噴射が実行される。【選択図】図12

Description

本発明は内燃機関の制御装置および制御方法に関する。

機関排気通路内に排気浄化触媒を配置し、排気浄化触媒上流の機関排気通路内に炭化水素供給弁を配置し、排気浄化触媒の排気ガス流通表面上には貴金属触媒が担持されていると共に貴金属触媒周りには塩基性層が形成されており、炭化水素供給弁から予め定められた範囲内の周期でもって炭化水素を噴射することにより還元性中間体を生成すると共に生成された還元性中間体により排気ガス中に含まれるNO_X を還元するようにした内燃機関が公知である（例えば特許文献１を参照）。この内燃機関では、排気ガス中に含まれるNO_X を還元するのに必要な炭化水素が炭化水素供給弁から周期的に噴射されるが、炭化水素の噴射周期の制御については特に考慮が払われていない。

ＷＯ２０１１/１１４５０１ Ａ１

ところで、この内燃機関では、例えば機関から排出されるNO_X 量が増大するとNO_X を還元するのに必要な炭化水素量が増大し、従って排気ガス中に含まれるNO_X を良好に還元するには、機関から排出されたNO_X 量が増大したときには、ただちに炭化水素供給弁からの炭化水素噴射量を、NO_X を還元するのに必要な炭化水素量まで増大させることが必要となる。しかしながら、単に一回当りの炭化水素の噴射量を増大しても排気浄化触媒をすり抜ける炭化水素量が増大するだけで、NO_X を還元するために用いられる炭化水素量は十分に増大せず、従ってNO_X を良好に還元することができない。即ち、機関から排出されたNO_X 量が増大したときに、炭化水素のすり抜けが生じることなく、ただちに炭化水素供給弁からの炭化水素噴射量を、NO_X を還元するのに必要な炭化水素量まで増大させるには、炭化水素の噴射インターバルを適切に制御する、これまでとは異なる新たな噴射制御が必要となる。また、このような炭化水素の噴射インターバルの新たな噴射制御は、排気処理装置の温度を上昇させるときにも必要となる。

更に、このような問題は、炭化水素以外の還元剤を用いて排気ガス中に含まれるNO_X を還元するようにした場合にも生ずる。
本発明は、還元剤として炭化水素を用いた場合はもとより、炭化水素以外の還元剤を用いた場合であっても、還元剤のすり抜けが生じることなく、排気ガス中に含まれるNO_xを良好に浄化することができ、或いは排気処理装置の温度を良好に上昇させることのできる内燃機関の制御装置および制御方法を提供することにある。

即ち、本発明によれば、排気ガス中に含まれるNO_xを浄化するため或いは排気処理装置の温度を上昇させるために、還元剤供給弁から機関排気通路内に還元剤を予め定められた範囲内の周期でもって間欠的に噴射するようにした内燃機関の制御装置において、予め定められた一定の演算周期でもって、演算時における機関の運転状態に応じた還元剤の適切な噴射インターバルを演算しかつ演算された噴射インターバルを新たな噴射インターバルとして更新する演算部と、前回の噴射が行われたときからの経過時間が、前回の噴射が行われた後に演算部により更新された最新の噴射インターバル以上になったときに還元剤供給弁からの還元剤の次の噴射を実行させる噴射実行部を具備した内燃機関の制御装置が提供される。

更に、本発明によれば、排気ガス中に含まれるNO_xを浄化するため或いは排気処理装置の温度を上昇させるために、還元剤供給弁から機関排気通路内に還元剤を予め定められた範囲内の周期でもって間欠的に噴射するようにした内燃機関の制御方法において、予め定められた一定の演算周期でもって、演算時における機関の運転状態に応じた還元剤の適切な噴射インターバルを演算しかつ演算された噴射インターバルを新たな噴射インターバルとして更新し、前回の噴射が行われたときからの経過時間が、前回の噴射が行われた後に演算部により更新された最新の噴射インターバル以上になったときに還元剤供給弁からの還元剤の次の噴射を実行させる内燃機関の制御方法が提供される。

還元剤のすり抜けが生じることがなく、還元剤の消費量を抑制しつつ、排気ガス中に含まれるNO_X を良好に浄化することができ、或いは排気処理装置の温度を良好に上昇させることができる。

図１は圧縮着火式内燃機関の全体図である。 図２は触媒担体の表面部分を図解的に示す図である。 図３は排気浄化触媒への流入排気ガスの空燃比の変化を示す図である。 図４は排気浄化触媒への流入排気ガスの空燃比の変化を示す図である。 図５Ａおよび５Ｂは排気浄化触媒における酸化還元反応を説明するための図である。 図６は炭化水素の噴射周期、即ち噴射インターバルＩｔとNO_x浄化率との関係を示す図である。 図７は排気浄化触媒への流入排気ガスの空燃比の変化を示す図である。 図８Ａおよび８Ｂは炭化水素供給弁から噴射される炭化水素の噴射密度ＤＸを示す図である。 図９Ａおよび９Ｂは炭化水素供給弁からの一回当りの炭化水素噴射量Ｗを示す図である。 図１０Ａおよび１０Ｂは炭化水素供給弁から噴射される炭化水素の噴射密度ＤＹを示す図である。 図１１は炭化水素の噴射密度ＤＸと噴射インターバルＩｔを説明するための図である。 図１２は炭化水素の噴射インターバルＩｔと、噴射が行われてからの経過時間ｔとの関係を説明するための図である。 図１３は排気浄化制御を行うためのフローチャートである。 図１４は経過時間を算出するためのフローチャートである。

図１に圧縮着火式内燃機関の全体図を示す。
図１を参照すると、１は機関本体、２は各気筒の燃焼室、３は各燃焼室２内に夫々燃料を噴射するための電子制御式燃料噴射弁、４は吸気マニホルド、５は排気マニホルドを夫々示す。吸気マニホルド４は吸気ダクト６を介して排気ターボチャージャ７のコンプレッサ７ａの出口に連結され、コンプレッサ７ａの入口は吸入空気量検出器８を介してエアクリーナ９に連結される。吸気ダクト６内にはアクチュエータにより駆動されるスロットル弁10が配置され、吸気ダクト６周りには吸気ダクト６内を流れる吸入空気を冷却するための冷却装置11が配置される。図１に示される実施例では機関冷却水が冷却装置11内に導かれ、機関冷却水によって吸入空気が冷却される。

一方、排気マニホルド５は排気ターボチャージャ７の排気タービン７ｂの入口に連結され、排気タービン７ｂの出口は排気管12を介して排気浄化触媒13の入口に連結される。本発明による実施例では、この排気浄化触媒１３はNO_x吸蔵触媒からなる。排気浄化触媒13の出口はパティキュレートフィルタ14に連結され、排気浄化触媒13上流の排気管12内には圧縮着火式内燃機関の燃料として用いられる軽油その他の燃料からなる炭化水素を供給するための炭化水素供給弁15が配置される。図１に示される実施例では炭化水素供給弁15から供給される炭化水素として軽油が用いられている。なお、本発明はリーン空燃比のもとで燃焼の行われる火花点火式内燃機関にも適用することができる。この場合、炭化水素供給弁15からは火花点火式内燃機関の燃料として用いられるガソリンその他の燃料からなる炭化水素が供給される。

一方、排気マニホルド５と吸気マニホルド４とは排気ガス再循環（以下、EGRと称す）通路16を介して互いに連結され、EGR通路16内には電子制御式EGR制御弁17が配置される。また、EGR通路16の周りにはEGR通路16内を流れるEGRガスを冷却するための冷却装置18が配置される。図１に示される実施例では機関冷却水が冷却装置18内に導かれ、機関冷却水によってEGRガスが冷却される。各燃料噴射弁３は燃料供給管19を介してコモンレール20に連結され、このコモンレール20は電子制御式の吐出量可変な燃料ポンプ21を介して燃料タンク22に連結される。燃料タンク22内に貯蔵されている燃料は燃料ポンプ21によってコモンレール20内に供給され、コモンレール20内に供給された燃料は各燃料供給管19を介して燃料噴射弁３に供給される。

電子制御ユニット30はデジタルコンピュータからなり、双方向性バス31によって互いに接続されたROM（リードオンリメモリ）32、RAM（ランダムアクセスメモリ）33、CPU（マイクロプロセッサ）34、入力ポート35および出力ポート36を具備する。排気浄化触媒13の入口には排気ガスの温度を検出するための温度センサ23が配置されており、パティキュレートフィルタ14にはパティキュレートフィルタ14の前後差圧を検出するための差圧センサ24が取り付けられている。これら温度センサ23、差圧センサ24および吸入空気量検出器８の出力信号は夫々対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。また、アクセルペダル40にはアクセルペダル40の踏込み量に比例した出力電圧を発生する負荷センサ41が接続され、負荷センサ41の出力電圧は対応するAD変換器37を介して入力ポート35に入力される。更に入力ポート35にはクランクシャフトが例えば15°回転する毎に出力パルスを発生するクランク角センサ42が接続される。一方、出力ポート36は対応する駆動回路38を介して燃料噴射弁３、スロットル弁10の駆動用アクチュエータ、炭化水素供給弁15、EGR制御弁17および燃料ポンプ21に接続される。

図２は、図１に示される排気浄化触媒13の基体上に担持された触媒担体の表面部分を図解的に示している。この排気浄化触媒13では図２に示されるように例えばアルミナからなる触媒担体50上には白金Ptからなる貴金属触媒51が担持されており、更にこの触媒担体50上にはカリウムＫ、ナトリウムNa、セシウムCsのようなアルカリ金属、バリウムBa、カルシウムCaのようなアルカリ土類金属、ランタノイドのような希土類および銀Ag、銅Cu、鉄Fe、イリジウムIrのようなNO_xに電子を供与しうる金属から選ばれた少なくとも一つを含む塩基性層52が形成されている。なお、排気浄化触媒13の触媒担体50上には白金Ptに加えてロジウムRh或いはパラジウムPdを担持させることができる。

さて、上述したように、排気浄化触媒13はNOx吸蔵触媒からなり、機関吸気通路、燃焼室２および排気浄化触媒13上流の排気通路内に供給された空気および燃料（炭化水素）の比を排気ガスの空燃比と称すると、この排気浄化触媒13は、排気ガスの空燃比がリーンのときにはNO_xを吸蔵し、排気ガスの空燃比がリッチにされると吸蔵したNO_xを放出する機能している。即ち、排気ガスの空燃比がリーンのときには排気ガス中に含まれるNO_xは白金Pt51上において酸化されて硝酸イオンNO₃ ^-の形で塩基性層52内に拡散し、硝酸塩となる。即ち、このときには排気ガス中のNO_xは硝酸塩の形で塩基性層52内に吸蔵されることになる。一方、排気ガスの空燃比がリッチにされた場合には排気ガス中の酸素濃度が低下するために反応が逆方向（NO₃ ^-→NO₂）に進み、斯くして塩基性層52内に吸収されている硝酸塩は順次硝酸イオンNO₃ ^-となってNO₂の形で塩基性層52から放出される。次いで放出されたNO₂は排気ガス中に含まれる炭化水素HCおよびCOによって還元される。

図３は塩基性層52のNO_x吸蔵能力が飽和する少し前に、燃焼室２内における燃焼ガスの空燃比をリッチにすることによって排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inを一時的にリッチにするようにした場合を示している。この場合、燃焼室２内における燃焼ガスの空燃比をリッチにすることのできない特定の運転状態のときに限って、炭化水素供給弁15から炭化水素を噴射することにより排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inが一時的にリッチにされる。なお、図３に示す例ではこのリッチ制御の時間間隔は１分以上である。この場合には排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inがリーンのときに塩基性層52内に吸蔵されたNO_xは、排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inが一時的にリッチにされたときに塩基性層52から一気に放出されて還元される。しかしながらこのように排気浄化触媒13のNO_xの吸蔵放出を利用してNO_xを浄化するようにした場合には触媒温度TCが250℃から300℃のときには極めて高いNO_x浄化率が得られるが触媒温度TCが350℃以上の高温になるとNO_x浄化率が低下する。

一方、図４に示されるように、炭化水素供給弁15から炭化水素を短い周期でもって噴射することによりNO_xが塩基性層52内に吸蔵される前に排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inをリッチにすると、触媒温度TCが350℃以上の高温になっても高いNO_x浄化率が得られることが判明している。このときには窒素および炭化水素を含む多量の還元性中間体が塩基性層52の表面上に保持又は吸着され続けており、この還元性中間体が高NO_x浄化率を得る上で中心的役割を果していることが判明している。

次にこのことについて図５Ａおよび５Ｂを参照しつつ簡単に説明する。なお、これら図５Ａおよび５Ｂは排気浄化触媒13の触媒担体50の表面部分を図解的に示しており、これら図５Ａおよび５Ｂには排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）in が予め定められた範囲内の周期でもってリッチにされたときに生ずると推測される反応が示されている。なお、これら図５Ａおよび５Ｂにおいて、図５Ａは排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）in がリーンにされているときを示しており、図５Ｂは炭化水素供給弁15から炭化水素が供給されて排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inがリッチにされたときを示している。

さて、図４からわかるように排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比は一瞬を除いてリーンに維持されているので排気浄化触媒13に流入する排気ガスは通常酸素過剰の状態にある。このとき排気ガス中に含まれるNOの一部は排気浄化触媒13上に付着し、排気ガス中に含まれるNOの一部は図５Ａに示されるように白金51上において酸化されてNO₂となり、次いでこのNO₂は更に酸化されてNO₃となる。また、NO₂の一部はNO₂ ^-となる。従って白金Pt51上にはNO₂ ^- とNO₃とが生成されることになる。排気浄化触媒13上に付着しているNOおよび白金Pt51上において生成されたNO₂ ^-とNO₃は活性が強く、従って以下これらNO、NO₂ ^-およびNO₃を活性NO_x ^*と称する。

次いで、炭化水素供給弁15から炭化水素が噴射されて排気浄化触媒13への流入排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）in がリッチにされると、大部分の炭化水素は酸素と反応して燃焼せしめられ、一部の炭化水素は白金51上において部分酸化されて図５Ｂに示されるようにラジカル状の炭化水素となる。ところで活性NO_x ^*が生成された後、酸素過剰の状態が一定時間以上継続すると活性NO_x ^*は酸化され、硝酸イオンNO₃ ^-の形で塩基性層53内に吸収される。しかしながらこの一定時間が経過する前に炭化水素供給弁15から炭化水素が噴射されると、図５Ｂに示されるように活性NO_x ^*は白金51上においてラジカル状の炭化水素HCと反応し、それにより還元性中間体が生成される。この還元性中間体は塩基性層52の表面上に付着又は吸着される。なお、このとき塩基性層52の表面上に保持又は吸着される還元性中間体の大部分はイソシアネート化合物R-NCOおよびアミン化合物R-NH₂であると考えられる。

次いで、再び排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比がリーンになると、図５Ａに示されるように、排気ガス中に含まれるNO_X は塩基性層52の表面上に保持又は吸着されている還元性中間体R-NCOやR-NH₂と反応し、図５Ａに示されるようにＮ₂，CO₂，H₂Oに変換せしめられる。このように排気ガス中に含まれるNO_X は、炭化水素供給弁15から炭化水素が噴射されたときに生成されて塩基性層52の表面上に保持又は吸着されている還元性中間体によって浄化されることになる。従ってNO_xを良好に浄化するには、NO_xを浄化するのに充分な量の還元性中間体を生成しかつ生成された還元性中間体を塩基性層5２上に保持又は吸着しておく必要がある。

さて、上述したように、炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射周期、即ち噴射インターバルＩｔが長くなると炭化水素が噴射された後、次に炭化水素が噴射される間において、酸素過剰である期間が長くなる。この場合、図１に示される実施例では、炭化水素の噴射周期、即ち噴射インターバルＩｔが５秒程度よりも長くなると活性NO_x ^*が硝酸塩の形で塩基性層52内に吸収され始め、従って図６に示されるように炭化水素の噴射周期、即ち噴射インターバルＩｔが５秒程度よりも長くなるとNO_x浄化率が低下することになる。一方、本発明による実施例では、炭化水素の噴射周期、即ち噴射インターバルＩｔがほぼ０．３秒以下になると噴射された炭化水素が排気浄化触媒13の表面上に堆積し始め、従って図６に示されるように炭化水素の噴射周期、即ち噴射インターバルＩｔがほぼ０．３秒以下になるとNO_x浄化率が低下する。そこで本発明による実施例では、炭化水素の噴射周期、即ち噴射インターバルＩｔが０．３秒から５秒の間とされている。

ところで前述したように排気浄化触媒13のNO_xの吸蔵放出を利用してNO_xを浄化するようにした場合には触媒温度TCが350℃以上の高温になるとNO_x浄化率が低下する。このように触媒温度TCが350℃以上になるとNO_x浄化率が低下するのは、触媒温度TCが350℃以上になるとNO_xが吸蔵されづらくなり、かつ硝酸塩が熱分解してNO₂の形で排気浄化触媒13から放出されるからである。即ち、NO_xを硝酸塩の形で吸蔵している限り、触媒温度TCが高いときに高いNO_x浄化率を得るのは困難である。しかしながら図４、５Ａおよび５Ｂに示されるNO_x浄化方法では、硝酸塩の形で吸蔵されているNO_x量は小量であり、斯くして触媒温度TCが400℃以上の高温時であっても高いNO_x浄化率を得ることができる。この図４、５Ａおよび５Ｂに示されるNO_x浄化方法を以下、第１のNO_x浄化方法と称し、図３に示されるNO_xの吸蔵放出を利用したNO_x浄化方法を以下、第２のNO_x浄化方法と称する。

一方、パティキュレートフィルタ14を再生するときには炭化水素供給弁15から炭化水素が噴射され、噴射された炭化水素の酸化反応熱によってパティキュレートフィルタ14の昇温作用が行われる。また、排気浄化触媒13に吸蔵されたSO_xを排気浄化触媒13から放出させるときにも炭化水素供給弁15から炭化水素が噴射され、噴射された炭化水素の酸化反応熱によって排気浄化触媒13の昇温作用が行われる。図７は、このようにパティキュレートフィルタ14或いは排気浄化触媒13のような排気処理装置を昇温するために炭化水素供給弁15から炭化水素が噴射された場合の炭化水素供給弁15からの炭化水素噴射量と排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inの変化を示している。図７からわかるように、このときには排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inをリーンに維持しつつ図４に示される場合と同じような短い周期でもって炭化水素供給弁15から炭化水素が噴射される。

次に、第１のNO_x浄化方法が用いられているときの炭化水素供給弁15からの炭化水素噴射量の算出方法、および排気浄化触媒13或いはパティキュレートフィルタ14のような排気処理装置13,14を昇温させるときの炭化水素供給弁15からの炭化水素噴射量の算出方法について簡単に説明する。まず初めに、第１のNO_x浄化方法が用いられているときの炭化水素供給弁15からの炭化水素噴射量の算出方法について説明すると、排気浄化触媒13に流入するNO_xを還元させるには、単位時間に排気浄化触媒13に流入するNO_x量（mg/s）に比例した量の炭化水素が必要である。従って、単位時間に排気浄化触媒13に流入するNO_x量（mg/s）が増大したときには、排気浄化触媒13に流入するNO_xを還元させるのに必要となる単位時間当たりの炭化水素噴射量、即ち噴射密度（mg/s）を増大させる必要がある。

一方、前述したように、排気浄化触媒13に流入するNO_xは塩基性層5２上に保持又は吸着された還元性中間体により還元され、この場合、還元性中間体が塩基性層5２上に保持又は吸着されている時間は排気浄化触媒13の温度ＴＣが高くなるほど短くなる。一方、このように、還元性中間体が塩基性層5２上に保持又は吸着されている時間が短くなったときに排気浄化触媒13に流入するNO_xを良好に還元させるには、短時間のうちに多量の還元性中間体を生成させることが必要となり、そのためには、炭化水素の噴射密度（mg/s）を増大させる必要がある。従って、排気浄化触媒13の温度ＴＣが高くなったときには、炭化水素の噴射密度（mg/s）を増大させる必要があることになる。

従って、排気浄化触媒13に流入するNO_xを還元させるのに必要となる単位時間当たりの炭化水素の噴射密度（mg/s）は、図８Ａに示されるように、単位時間に排気浄化触媒13に流入するNO_x量（mg/s）と排気浄化触媒13の温度ＴＣの関数となる。なお、図８Ａにおいて、実線ＤＸは炭化水素の等噴射密度線を表している。従って、図８Ａから、炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）は、NO_x量（mg/s）が増大するにつれて増大し、排気浄化触媒13の温度ＴＣが高くなるにつれて増大することがわかる。本発明による実施例では、この炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）が、単位時間に排気浄化触媒13に流入するNO_x量（mg/s）と排気浄化触媒13の温度ＴＣの関数として、図８Ｂに示されるようなマップの形で予めＲＯＭ32内に記憶されている。

一方、還元性中間体の生成量を増大させるには排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を高める必要があり、そのためには炭化水素供給弁15からの一回当りの炭化水素の噴射量を増大させる必要がある。しかしながら、炭化水素供給弁15からの一回当りの炭化水素の噴射量を増大させて排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を高めると、炭化水素が排気浄化触媒13をすり抜けるようになる。従って、一回当りの炭化水素の噴射量（mg）は、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、最も高い還元性中間体の生成量の得られる量とされる。

ところで、機関燃焼室２内に噴射される燃料の噴射量Ｑ（mg）が増大すると排気ガス量が増大するために排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低下する。この場合、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、最も高い還元性中間体の生成量の得られる濃度とするには一回当りの炭化水素の噴射量（mg）を増大する必要がある。従って、燃焼室２内に噴射される燃料の噴射量Ｑ（mg）が増大するにつれて一回当りの炭化水素の噴射量（mg）を増大する必要がある。

一方、機関回転数Ｎが高くなると排気ガス量が増大するために排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度が低下する。この場合、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度を、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、最も高い還元性中間体の生成量の得られる濃度とするには一回当りの炭化水素の噴射量（mg）を増大する必要がある。従って、機関回転数Ｎが高くなるほど一回当りの炭化水素の噴射量（mg）を増大する必要がある。従って、一回当りの炭化水素の噴射量（mg）は、図９Ａに示されるように、燃焼室２内に噴射される燃料の噴射量Ｑ（mg）と機関回転数Ｎの関数となる。なお、図９Ａにおいて、実線Ｗは炭化水素の等噴射量を表している。従って、図９Ａから、一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）は、燃料の噴射量Ｑ（mg）が増大するにつれて増大し、機関回転数Ｎが高くなるにつれて増大することがわかる。

本発明による実施例では、一回当りの最適な炭化水素の噴射量Ｗ（mg）が燃焼室２内への燃料噴射量Ｑ（mg）および機関回転数Ｎの関数として、図９Ｂに示されるようなマップの形で予めＲＯＭ32内に記憶されている。更に、本発明による実施例では、図９Ｂに示される一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）を図８Ｂに示される炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）で除算することにより、炭化水素の噴射インターバルＩｔが算出される。この場合、炭化水素を、図９Ｂに示されるマップから求められた一回当りの噴射量（mg）でもってこの噴射インターバルＩｔで噴射すると、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度は、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、最も高い還元性中間体の生成量の得られる濃度となり、従って炭化水素のすり抜けが生じることがなく、炭化水素の消費量を抑制しつつ、排気ガス中に含まれるNO_X を良好に浄化することができる。

次に、パティキュレートフィルタ14を昇温させるときの炭化水素供給弁15からの炭化水素噴射量の算出方法について簡単に説明する。排気ガス中における炭化水素の濃度が高くなるほど排気浄化触媒13或いはパティキュレートフィルタ14のような排気処理装置13,14における酸化反応熱の発生量が大きくなり、パティキュレートフィルタ14を目標温度まで早期に上昇させることが可能となる。この場合、単位時間当たりの炭化水素の噴射密度が高くなるほど排気ガス中における炭化水素の濃度が高くなり、従って単位時間当たりの炭化水素の噴射密度を高くするほど、パティキュレートフィルタ14を目標温度まで早期に上昇させることが可能となる。この場合、パティキュレートフィルタ14を目標温度までオーバーシュートすることなく早期に上昇させるには、排気処理装置13,14の現在の温度ＴＣと目標温度ＴＧとの温度差（ＴＧ−ＴＣ）が大きいほど単位時間当たりの炭化水素の噴射密度を高くすることが好ましい。従ってパティキュレートフィルタ14を昇温させるときには、単位時間当たりの炭化水素の噴射密度は、排気処理装置13,14の現在の温度ＴＣと目標温度ＴＧとの温度差（ＴＧ−ＴＣ）が大きいほど高くされる。

一方、排気ガス量が多くなると、排気ガス中における炭化水素の濃度が低下し、この場合排気ガス中における炭化水素の濃度が低下しないようにするには、排気ガス量が多くなるほど単位時間当たりの炭化水素の噴射密度を高くする必要がある。従って、単位時間当りの炭化水素の噴射密度は、排気ガス量が多くなるにつれて高くされる。従って、単位時間当たりの炭化水素の噴射密度（mg/s）は、図１０Ａに示されるように、排気処理装置13,14の現在の温度ＴＣと目標温度ＴＧとの温度差（ＴＧ−ＴＣ）と排気ガス量（g/s）の関数となる。なお、図１０Ａにおいて、実線ＤＹは炭化水素の等噴射密度を表している。従って、図１０Ａから、単位時間当たりの炭化水素の噴射密度ＤＹ（mg/s）は、温度差（ＴＧ−ＴＣ）が大きいほど高くされ、排気ガス量（g/s）が多くなるにつれて高くされることがわかる。

本発明による実施例では、パティキュレートフィルタ14を昇温させるときの単位時間当たりの炭化水素の噴射密度ＤＹ（mg/s）は、温度差（ＴＧ−ＴＣ）および排気ガス量（g/s）の関数として、図１０Ｂに示されるようなマップの形で予めＲＯＭ32内に記憶されている。更に、本発明による実施例では、図９Ｂに示される一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）を図１０Ｂに示される炭化水素の噴射密度ＤＹ（mg/s）で除算することにより、炭化水素の噴射インターバルＩｔが算出される。この場合、炭化水素を、図９Ｂに示されるマップから求められた一回当りの噴射量（mg）でもってこの噴射インターバルＩｔで噴射すると、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度は、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、パティキュレートフィルタ14を目標温度までオーバーシュートすることなく早期に上昇させることのできる濃度となり、従って炭化水素のすり抜けが生じることがなく、炭化水素の消費量を抑制しつつ、パティキュレートフィルタ14を目標温度までオーバーシュートすることなく早期に上昇させることができる。

一方、排気浄化触媒13に吸蔵されたSO_xを排気浄化触媒13から放出させるために排気浄化触媒13を昇温させるときの単位時間当たりの炭化水素の噴射密度（mg/s）も、図１０Ｂに示されるようなマップの形で予めＲＯＭ32内に記憶されており、この場合も、図９Ｂに示される一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）を予めＲＯＭ32内に記憶されている炭化水素の噴射密度（mg/s）で除算することにより、炭化水素の噴射インターバルＩｔが算出される。この場合も、炭化水素を、図９Ｂに示されるマップから求められた一回当りの噴射量（mg）でもってこの噴射インターバルＩｔで噴射すると、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度は、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、排気浄化触媒13をSO_x放出温度までオーバーシュートすることなく早期に上昇させることのできる濃度となり、従って炭化水素のすり抜けが生じることがなく、炭化水素の消費量を抑制しつつ、排気浄化触媒13をSO_x放出温度までオーバーシュートすることなく早期に上昇させることができる。

次に、排気ガス中に含まれるNO_X を浄化する場合を例にとって、噴射インターバルＩｔの技術的意味について説明する。さて、前述したように、この噴射インターバルＩｔは、図９Ｂに示される一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）を図８Ｂに示される炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）で除算することにより算出される。この場合、前述したように、炭化水素を、図９Ｂに示されるマップから求められた一回当りの噴射量（mg）でもってこの噴射インターバルＩｔで噴射すると、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度は、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、最も高い還元性中間体の生成量の得られる濃度となり、従って炭化水素のすり抜けが生じることがなく、炭化水素の消費量を抑制しつつ、排気ガス中に含まれるNO_X を良好に浄化することができる。

次に、このことについて、図１１を参照しつつ説明する。この図１１は、時間がｔ_１ からｔ_４へと経過するに従って、単位時間に排気浄化触媒13に流入するNO_x量（mg/s）が増大した場合を示しており、このとき図１１に示されるように、単位時間当たりの炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）は時間が経過するに従って増大する。また、図１１には、各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ における算出噴射形態（ｔ_１）、（ｔ_２）、（ｔ_３）、（ｔ_４）、即ち、各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ において算出された一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）と噴射インターバルＩｔ１、Ｉｔ２、Ｉｔ３、Ｉｔ４とが示されている。例えば、算出噴射形態（ｔ_１）には、時刻ｔ_１のときの図９Ｂに示される一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）と、この一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）を図１１に示される時刻ｔ_１のときの炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）で除算することにより算出された噴射インターバルＩｔ１が示されている。

同様に、算出噴射形態（ｔ_２）には、時刻ｔ_２のときの図９Ｂに示される一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）と、この一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）を図１１に示される時刻ｔ_２のときの炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）で除算することにより算出された噴射インターバルＩｔ２が示されており、算出噴射形態（ｔ_３）には、時刻ｔ_３のときの図９Ｂに示される一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）と、この一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）を図１１に示される時刻ｔ_３のときの炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）で除算することにより算出された噴射インターバルＩｔ３が示されている。算出噴射形態（ｔ_４）についても同様である。

さて、各算出噴射形態（ｔ_１）、（ｔ_２）、（ｔ_３）、（ｔ_４）における噴射インターバルＩｔ１、Ｉｔ２、Ｉｔ３、Ｉｔ４は、各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ において、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、最も高い還元性中間体の生成量の得られる噴射インターバルとなっており、従って各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ において、炭化水素を、算出された一回当りの噴射量（mg）でもって夫々噴射インターバルＩｔ１、Ｉｔ２、Ｉｔ３、Ｉｔ４で噴射すると、排気浄化触媒13に流入する炭化水素の濃度は、炭化水素のすり抜けを生ずることなく、最も高い還元性中間体の生成量の得られる濃度となり、従って炭化水素のすり抜けが生じることがなく、炭化水素の消費量を抑制しつつ、排気ガス中に含まれるNO_X を良好に浄化することができることになる。即ち、噴射インターバルＩｔ１、Ｉｔ２、Ｉｔ３、Ｉｔ４は夫々各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ における最良の噴射インターバルとなっている。

従って、例えば時刻ｔ_２においては、時刻ｔ_１における前回の噴射と時刻ｔ_２ における今回の噴射との噴射インターバルが、時刻ｔ_２ における最良の噴射インターバルＩｔ２になると、時刻ｔ_２ においては、炭化水素のすり抜けが生じることがなく、炭化水素の消費量を抑制しつつ、排気ガス中に含まれるNO_X を良好に浄化することができる最良の噴射形態となっている。同様に、時刻ｔ_３においては、時刻ｔ_２における前回の噴射と時刻ｔ_３ における今回の噴射との噴射インターバルが、時刻ｔ_３ における最良の噴射インターバルＩｔ３になると、時刻ｔ_３ においては、NO_X を良好に浄化することができる最良の噴射形態となっており、時刻ｔ_４においては、時刻ｔ_３における前回の噴射と時刻ｔ_４ における今回の噴射との噴射インターバルが、時刻ｔ_４ における最良の噴射インターバルＩｔ４になると、時刻ｔ_４ においては、NO_X を良好に浄化することができる最良の噴射形態となっている。

即ち、一回噴射が行われ、噴射が行われてからの経過時間が、次に行われる噴射の最良の噴射インターバルＩｔに一致したときに次に噴射の行われると、例えば単位時間に排気浄化触媒13に流入するNO_x量が急激に増大したとしても、NO_X は良好に浄化され、従って各噴射はNO_X の浄化からみて、最良に時期に行われていることになる。次にこのような噴射制御を行うための具体的な方法について、図１２を参照しつつ説明する。

図１２の縦軸は、炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）および一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）から算出された噴射インターバルＩｔを示しており、図１２の横軸は時間を示している。なお、図１２の横軸における各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ は図１１における各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ に夫々対応している。図１２に示される実施例では、噴射インターバルＩｔの演算周期は４ msec から２０ msec 位の短い周期であり、従って噴射インターバルＩｔはこの短い周期でもって継続的に算出されている。

一方、前述したように、本発明による実施例では、第１のNO_x浄化方法によるNO_x浄化作用が行われているときには、炭化水素の噴射周期、即ち噴射インターバルＩｔは０．３秒から５秒の間とされている。この場合の最も短い噴射インターバルＩｔは０．３秒、即ち３００ msec であり、従って噴射インターバルＩｔの演算周期は、炭化水素の噴射周期の範囲（０．３秒から５秒）に比べて小さいことがわかる。一方、図１２において斜めに延びている破線は時間カウンタＣの値、即ち経過時間ｔを表している。この時間カウンタＣは噴射が行われるとリセットされるので、経過時間ｔは噴射が行われてからの経過時間を表していることになる。図１２に示される例では時間カウンタＣは各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ においてリセットされ、従って経過時間ｔは各時刻ｔ_１、ｔ_２、ｔ_３、ｔ_４ からの経過時間を表している。

さて、本発明による実施例では、図１２に示されるように、破線で示される時間カウンタＣの値が、演算された噴射インターバルＩｔに到達すると、即ち噴射が行われてからの経過時間ｔが噴射インターバルＩｔと等しくなると、次の噴射が行われる。例えば、時刻ｔ_１ において噴射が行われてからの経過時間ｔが、演算された噴射インターバルＩｔと時刻ｔ_２ において等しくなったときには、時刻ｔ_２ において次の噴射が行われ、時刻ｔ_２ において噴射が行われてからの経過時間ｔが、演算された噴射インターバルＩｔと時刻ｔ_３ において等しくなったときには、時刻ｔ_３ において次の噴射が行われる。

これに対し、図１２に示されるように、時刻ｔ_４ では、時刻ｔ_３ において噴射が行われてからの経過時間ｔが、演算された噴射インターバルＩｔを越えているときに、次の噴射が行われる。従って、この場合も考慮すると、噴射が行われてからの経過時間ｔが、演算された噴射インターバルＩｔ以上になったときに、次の噴射が行われることになる。このようにして、炭化水素を炭化水素供給弁15から最良の噴射インターバルＩｔでもって噴射させることができる。

一方、前述したように、パティキュレートフィルタ14を再生するために排気浄化触媒13或いはパティキュレートフィルタ14のような排気処理装置13,14を昇温するとき、或いは排気浄化触媒13に吸蔵されたSO_xを排気浄化触媒13から放出させるために排気浄化触媒13を昇温させるときには、図７に示されるように排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比（Ａ／Ｆ）inをリーンに維持しつつ炭化水素供給弁15から短い周期でもって炭化水素が噴射される。このように、排気処理装置13,14の温度を上昇させるときにも、図１１および図１２に示される噴射制御がおこなわれる。このように図１１および図１２に示される本発明による噴射制御は、第１のNO_x浄化方法によるNO_x浄化方法だけではなく、排気処理装置13,14 の温度を上昇させるときにも適用することができる。

一方、前述したように、第２のNO_x浄化方法によるNO_x浄化方法では、排気浄化触媒13に吸蔵されたNO_x量が一定量を越えたときにNO_xを放出すべく炭化水素供給弁15から炭化水素が噴射される。このように炭化水素供給弁15からの炭化水素の噴射時期が吸蔵量の変化に応じて制御されている場合には、図１１および図１２に示される本発明による噴射制御を適用することができない。一方、このように、吸蔵量の変化に応じて噴射時期が制御されていない場合には、還元剤として炭化水素以外の還元剤を用いている場合でも、図１１および図１２に示される本発明による噴射制御を適用し得る場合がある。例えば、還元剤として尿素水を用い、NO_x量に応じて尿素水の供給量を制御するようにした場合には、図１１および図１２に示される本発明による噴射制御を適用することができる。

従って、本発明によれば、排気ガス中に含まれるNO_xを浄化するため或いは排気処理装置13,14の温度を上昇させるために、還元剤供給弁15から機関排気通路内に還元剤を予め定められた範囲内の周期でもって間欠的に噴射するようにした内燃機関の制御装置において、予め定められた一定の演算周期でもって、演算時における機関の運転状態に応じた還元剤の適切な噴射インターバルＩｔを演算しかつ演算された噴射インターバルＩｔを新たな噴射インターバルＩｔとして更新する演算部と、前回の噴射が行われたときからの経過時間ｔが、前回の噴射が行われた後に演算部により更新された最新の噴射インターバルＩｔ以上になったときに還元剤供給弁15からの還元剤の次の噴射を実行させる噴射実行部を具備している。

或いは、本発明を方法として捉えると、本発明によれば、排気ガス中に含まれるNO_xを浄化するため或いは排気処理装置13,14の温度を上昇させるために、還元剤供給弁15から機関排気通路内に還元剤を予め定められた範囲内の周期でもって間欠的に噴射するようにした内燃機関の制御方法において、予め定められた一定の演算周期でもって、演算時における機関の運転状態に応じた還元剤の適切な噴射インターバルＩｔを演算しかつ演算された噴射インターバルＩｔを新たな噴射インターバルＩｔとして更新し、前回の噴射が行われたときからの経過時間ｔが、前回の噴射が行われた後に演算部により更新された最新の噴射インターバルＩｔ以上になったときに還元剤供給弁15からの還元剤の次の噴射を実行させる。

この場合、本発明による実施例では、電子制御ユニット30が、演算部および噴射実行部を構成している。なお、前述したように、本発明による実施例では、予め定められた一定の噴射インターバルＩｔの演算周期が、還元剤供給弁15からの還元剤の噴射周期の範囲よりも短くされている。また、本発明による実施例では、予め定められた一定の演算周期でもって還元剤の噴射密度ＤＸ，ＤＹと一回当りの噴射量Ｗとが算出され、最適な噴射インターバルＩｔは一回当りの噴射量Ｗを噴射密度ＤＸ，ＤＹで除算することにより求められる。

次に、図１３を参照しつつ、炭化水素供給弁15から炭化水素を噴射する場合を例にとって、本発明による噴射制御について説明する。図１３は、本発明による噴射制御を行うための排気浄化制御ルーチンを示しており、このルーチンは０．３秒から５秒の時間間隔で繰り返し実行されている。

図１３を参照すると、まず初めに、ステップ80において排気浄化触媒13或いはパティキュレートフィルタ14のような排気処理装置13,14を昇温すべきであることを示す昇温要求が発せられているか否かが判別される。昇温要求が発せられていないときにはステップ81に進んで第１のNO_x浄化方法によるNO_x浄化を行うべき運転状態であるか否かが判別される。第１のNO_x浄化方法によるNO_x浄化を行うべき運転状態であるときにはステップ82に進んで、図８Ｂに示されるマップから炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）が算出される。次いで、ステップ83では、図９Ｂに示されるマップから一回当りの最適な炭化水素の噴射量Ｗ（mg）が算出される。

次いで、ステップ84では、ステップ83において算出された一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）をステップ82において算出された炭化水素の噴射密度ＤＸ（mg/s）で除算することにより、炭化水素の噴射インターバルＩｔが算出される。次いで、ステップ85では、前回噴射が行われてからの経過時間ｔが、ステップ84において算出された噴射インターバルＩｔ以上になったか否かが判別される。この経過時間ｔは図１４に示される経過時間算出ルーチンにより算出されている。この経過時間算出ルーチンは一定時間Δｔ毎に繰り返し実行されている。ステップ85において、前回噴射が行われてからの経過時間ｔが、ステップ84において算出された噴射インターバルＩｔよりも短いと判別されたときには処理サイクルを終了する。

これに対し、ステップ85において、前回噴射が行われてからの経過時間ｔが、ステップ84において算出された噴射インターバルＩｔ以上になったと判別されたときにはステップ86に進み、ステップ83において算出された噴射量Ｗを噴射するのに必要な炭化水素供給弁15からの噴射時間が算出される。次いでステップ87では炭化水素供給弁15から炭化水素を噴射すべきであることを示す噴射指令が発せられる。噴射指令が発せられると、炭化水素供給弁15からはステップ86において算出された噴射時間に亘って炭化水素が噴射される。次いで、ステップ88では経過時間ｔがクリアされる。経過時間ｔがクリアされると図１４に示される経過時間算出ルーチンにより再び零から経過時間ｔの算出が開始される。

一方、ステップ81において、第１のNO_x浄化方法によるNO_x浄化を行うべき運転状態でないと判別されたときにはステップ89に進んで、第２のNO_x浄化方法によるNO_x浄化が行われる。即ち、ステップ89において、排気浄化触媒13の吸蔵されているNO_x量が算出される。具体的に言うと、機関の運転状態が定まると機関から排出されるNO_x量が定まるので、機関から排出されるNO_x量を積算することによって排気浄化触媒13の吸蔵されているNO_x量が算出される。次いで、ステップ90では、排気浄化触媒13の吸蔵されているNO_x量が予め定められた許容値ＭＡＸを超えたか否かが判別される。排気浄化触媒13の吸蔵されているNO_x量が予め定められた許容値ＭＡＸを超えたときにはステップ91に進んで、排気浄化触媒13からNO_xを放出させるために排気浄化触媒13に流入する排気ガスの空燃比が一時的にリッチにされる。

一方、ステップ80において、排気浄化触媒13或いはパティキュレートフィルタ14のような排気処理装置13,14を昇温すべきであることを示す昇温要求が発せられていると判別されたときにはステップ92に進んで、昇温制御が行われる。即ち、パティキュレートフィルタ14を昇温すべきであることを示す昇温要求が発せられているときには図１０Ｂに示されるマップから単位時間当たりの炭化水素の噴射密度ＤＹ（mg/s）が算出され、次いで、ステップ93では、図９Ｂに示されるマップから一回当りの最適な炭化水素の噴射量Ｗ（mg）が算出される。次いで、ステップ94では、ステップ93において算出された一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）をステップ92において算出された炭化水素の噴射密度ＤＹ（mg/s）で除算することにより、炭化水素の噴射インターバルＩｔが算出される。

次いで、ステップ95では、前回噴射が行われてからの経過時間ｔが、ステップ94において算出された噴射インターバルＩｔ以上になったか否かが判別される。前回噴射が行われてからの経過時間ｔが、ステップ94において算出された噴射インターバルＩｔ以上になったと判別されたときにはステップ96に進み、ステップ93において算出された噴射量Ｗを噴射するのに必要な炭化水素供給弁15からの噴射時間が算出される。次いでステップ97では炭化水素供給弁15から炭化水素を噴射すべきであることを示す噴射指令が発せられる。噴射指令が発せられると、炭化水素供給弁15からはステップ96において算出された噴射時間に亘って炭化水素が噴射される。次いで、ステップ98では経過時間ｔがクリアされる。

これに対し、排気浄化触媒13に吸蔵されたSO_xを排気浄化触媒13から放出させるために排気浄化触媒13を昇温すべきであることを示す昇温要求が発せられているときには、ステップ92において図１０Ｂに示されるマップと同様な別のマップから単位時間当たりの炭化水素の噴射密度ＤＹ（mg/s）が算出され、次いで、ステップ93では、図９Ｂに示されるマップから一回当りの最適な炭化水素の噴射量Ｗ（mg）が算出される。次いで、ステップ94では、ステップ93において算出された一回当りの炭化水素の噴射量Ｗ（mg）をステップ92において算出された炭化水素の噴射密度ＤＹ（mg/s）で除算することにより、炭化水素の噴射インターバルＩｔが算出される。次いで、ステップ95からステップ98では、上述した排気処理装置13,14の昇温制御時と同様な処理が行われる。

４ 吸気マニホルド
５ 排気マニホルド
12 排気管
13 排気浄化触媒
14 パティキュレートフィルタ
15 炭化水素供給弁

Claims (6)

1. 排気ガス中に含まれるNO_xを浄化するため或いは排気処理装置の温度を上昇させるために、還元剤供給弁から機関排気通路内に還元剤を予め定められた範囲内の周期でもって間欠的に噴射するようにした内燃機関の制御装置において、予め定められた一定の演算周期でもって、演算時における機関の運転状態に応じた還元剤の適切な噴射インターバルを演算しかつ演算された噴射インターバルを新たな噴射インターバルとして更新する演算部と、前回の噴射が行われたときからの経過時間が、該前回の噴射が行われた後に該演算部により更新された最新の噴射インターバル以上になったときに還元剤供給弁からの還元剤の次の噴射を実行させる噴射実行部を具備した内燃機関の制御装置。
2. 該予め定められた一定の演算周期が、還元剤供給弁からの還元剤の上記噴射周期の範囲よりも短い請求項１に記載の内燃機関の制御装置。
3. 該予め定められた一定の演算周期でもって還元剤の噴射密度と一回当りの噴射量とが算出され、上記適切な噴射インターバルは該一回当りの噴射量を該噴射密度で除算することにより求められる請求項１に記載の内燃機関の制御装置。
4. 排気ガス中に含まれるNO_xを浄化するため或いは排気処理装置の温度を上昇させるために、還元剤供給弁から機関排気通路内に還元剤を予め定められた範囲内の周期でもって間欠的に噴射するようにした内燃機関の制御方法において、
   予め定められた一定の演算周期でもって、演算時における機関の運転状態に応じた還元剤の適切な噴射インターバルを演算しかつ演算された噴射インターバルを新たな噴射インターバルとして更新し、
   前回の噴射が行われたときからの経過時間が、前回の噴射が行われた後に該演算部により更新された最新の噴射インターバル以上になったときに還元剤供給弁からの還元剤の次の噴射を実行させる内燃機関の制御方法。
5. 該予め定められた一定の演算周期が、還元剤供給弁からの還元剤の上記噴射周期の範囲よりも短い請求項４に記載の内燃機関の制御方法。
6. 該予め定められた一定の演算周期でもって還元剤の噴射密度と一回当りの噴射量とが算出され、上記適切な噴射インターバルは該一回当りの噴射量を該噴射密度で除算することにより求められる請求項４に記載の内燃機関の制御方法。

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