JP2016038292A - Measuring device and manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被検物を計測する計測装置及び製造方法に関する。 The present invention relates to a measuring apparatus and a manufacturing method for measuring a test object.
被検物を測定して、被検物の寸法、公差や角度などの形状情報を算出する計測装置のひとつに画像測定機がある。画像測定機は、被検物を照明する照明装置と、照明された被検物からの光を結像させる結像光学系と被検物の画像を取得する取得部を有する。画像測定機は被検物を撮像して被検物の画像を取得し、画像の強度分布のデータから被検物のエッジを検出し、検出した複数のエッジの間の距離を算出することによって、被検物の寸法を計測する。 An image measuring machine is one of measuring apparatuses that measure a test object and calculate shape information such as dimensions, tolerances, and angles of the test object. The image measuring machine includes an illuminating device that illuminates the test object, an imaging optical system that forms an image of light from the illuminated test object, and an acquisition unit that acquires an image of the test object. The image measuring machine captures the test object, acquires an image of the test object, detects the edge of the test object from the intensity distribution data of the image, and calculates the distance between the detected edges Measure the dimensions of the specimen.
照明装置による照明方式として、結像光学系や取得部に対して、被検物を後方から照明する透過照明や、被検物を前方から照明する反射照明がある。反射照明には、被検物を被検面に対して垂直方向から照明する同軸落射照明や、被検物を取り囲むリング状の光を被検物に斜入射させるリング照明などの方式がある。 Illumination methods using an illuminating device include transmission illumination for illuminating a test object from the rear and reflection illumination for illuminating the test object from the front with respect to the imaging optical system and acquisition unit. As the reflected illumination, there are methods such as coaxial epi-illumination that illuminates the test object from a direction perpendicular to the test surface, and ring illumination that causes the ring-shaped light surrounding the test object to be incident obliquely on the test object.
このような照明方式の中で、反射照明では透過照明よりも高精度にエッジの位置を測定できないという問題がある。この理由の一つは、反射照明の場合、被検物の表面の加工痕や粗さによって、被検物の画像の強度に大きなバラつきが発生し、画像処理によるエッジ位置の算出誤差が大きくなるからである。被検物内の凸部や非貫通穴など、透過照明で照明することができない部分を測定する場合は反射照明を使用せざるを得ず、反射照明により高精度に測定することができないことは問題である。 Among such illumination methods, there is a problem that the position of the edge cannot be measured with higher accuracy than with the transmission illumination in the reflection illumination. One reason for this is that, in the case of reflected illumination, the intensity of the image of the test object varies greatly due to the processing marks and roughness of the surface of the test object, and the edge position calculation error due to image processing increases. Because. When measuring parts that cannot be illuminated with transmitted illumination, such as protrusions and non-through holes in the test object, reflected illumination must be used, and it is impossible to measure with high accuracy using reflected illumination. It is a problem.
この問題を解決するための技術が特許文献1又は2に開示されている。特許文献1の画像測定機では、被検物のエッジと交差するようにストライプ状に被検物を照明して、焦点位置にある表面では狭い幅で照明し、デフォーカスした位置にある表面では広い幅で照明している。特許文献2では、透過照明と反射照明で測定したエッジ位置を比較して補正係数を決定し、反射照明で測定したエッジ位置を補正する技術が開示されている。
A technique for solving this problem is disclosed in
反射照明でエッジ位置を精度よく測定できない理由として、被検物のエッジ以外の領域(表面)で散乱された光のうち、エッジにおける面取りや角R(アール)の部分で反射される光の影響があることが分かった。このような光が結像光学系に取り込まれると、取得部により取得された画像においてエッジ近傍の光強度分布が変化し、画像処理によって算出されるエッジ位置がシフトしてしまう。 The reason why the edge position cannot be measured accurately with reflected illumination is the influence of the light reflected by the chamfered edge and the corner R (R) of the scattered light in the region (surface) other than the edge of the test object. I found out that When such light is taken into the imaging optical system, the light intensity distribution near the edge changes in the image acquired by the acquisition unit, and the edge position calculated by image processing shifts.
特許文献1に記載の画像測定機では、焦点位置にある表面とデフォーカスした位置にある表面を同時に照明している。そのため、デフォーカスした位置にある表面で散乱された光のうちエッジにおける面取りや角Rの部分で反射される光の影響がある。特許文献2に記載の反射照明でも同様の問題が生じうる。
In the image measuring machine described in
また、特許文献2に記載の技術では、被検物の性質(素材や色など)や、被検物の状態(表面粗さや加工痕、被検物の厚みなど)によって、補正係数を変える必要があるため、補正係数の調整作業が大きな負担である。 In the technique described in Patent Document 2, it is necessary to change the correction coefficient depending on the property (material, color, etc.) of the specimen and the state of the specimen (surface roughness, processing trace, thickness of the specimen, etc.). Therefore, adjustment of the correction coefficient is a heavy burden.
そこで、本発明は、反射照明により高精度に被検物のエッジの位置を求めることを目的とする。 Accordingly, an object of the present invention is to obtain the position of the edge of a test object with high accuracy by reflected illumination.
上記課題を解決する本発明の一側面としての被検物を計測する計測装置は、前記被検物を照明する光を出射する照明光領域が変更可能な照明部と、前記照明部により照明された前記被検物で反射された光を結像させる結像光学系と、前記結像光学系により結像された前記被検物の画像を取得する取得部と、演算部とを有し、前記演算部は、前記被検物のエッジの仮位置の情報を取得し、前記照明部の照明光領域において前記仮位置に対応する位置を前記照明光領域の境界として、前記仮位置に対応する位置の片側の一部分に前記照明光領域を設定して、前記結像光学系の焦点位置からデフォーカスした前記被検物の面を照明する照明状態において、前記取得部が前記被検物の画像を取得し、前記演算部は、前記照明状態において前記取得部が取得した前記被検物の画像から前記被検物のエッジの位置を求めることを特徴とする。 A measuring apparatus for measuring a test object according to an aspect of the present invention that solves the above-described problems is illuminated by the illumination unit that can change an illumination light region that emits light that illuminates the test object, and the illumination unit. An imaging optical system that forms an image of the light reflected by the test object, an acquisition unit that acquires an image of the test object imaged by the imaging optical system, and a calculation unit; The calculation unit acquires information on a temporary position of the edge of the test object, and corresponds to the temporary position with a position corresponding to the temporary position in the illumination light region of the illumination unit as a boundary of the illumination light region. In the illumination state in which the illumination light region is set in a part of one side of the position and the surface of the test object defocused from the focal position of the imaging optical system is illuminated, the acquisition unit images the test object The calculation unit is configured so that the acquisition unit is in the lighting state. Obtained was said from the image of the object and obtains the position of an edge of the object.
本発明によれば、反射照明により高精度に被検物のエッジの位置を求めることができる。 According to the present invention, the position of the edge of the test object can be obtained with high accuracy by reflected illumination.
(第1実施形態)
図1に、画像測定機10の概略図を示す。画像測定機10は、被検物101を照明する照明装置110、被検物101の画像を取得するための受光部120、演算部131、制御部132、ステージ制御部133、ステージ134を有する。
(First embodiment)
FIG. 1 shows a schematic diagram of an
照明装置110(照明部)は、光源111、空間光変調器112、レンズ113を有する。光源111は、例えばLEDやランプ、蛍光灯である。空間光変調器112は、例えば、透過型液晶パネル、反射型液晶パネル(LCOS)、又はDMD(デジタル・マイクロミラー・デバイス)であり、光源111からの光の空間的な光強度分布、つまり、被検物を照明する光を出射する照明光領域を変更することができる。空間光変調器112は制御部132によって動作が制御される。空間光変調器112によって空間的に光強度が調整された光はレンズ113によってコリメートされ、受光部120のハーフミラー123に入射する。照明装置110から導入された光はハーフミラー123によって反射され、第1のレンズ群122aによって集光されて被検物101を照明する。レンズ113と第1のレンズ群122aにより結像光学系が構成され、その結像光学系により照明光領域からの光が焦点位置に結像される。結像光学系の焦点面には照明光領域と同様の照明領域が形成され、被検物101は照明光領域から出射した光で照明される。受光部120は、被検物101によって反射または散乱された光を受光する光検出器121(画像取得部)と、被検物101の像を光検出器121に結像するための結像光学系122を有する。光検出器121には例えば、CCDやCMOSを用いることができる。結像光学系122は、第1のレンズ群122aと第2のレンズ群122bから成り、第1のレンズ群122aと第2のレンズ群122bの間にはハーフミラー123が配置されている。図1では、第1のレンズ群122aと第2のレンズ群122bを簡略的に1つのレンズで示している。なお、第1のレンズ群122aと第2のレンズ群122bは、全てがレンズであるものに限らず、部分的に、あるいは全ての光学素子がミラーから構成されていても良い。
The illumination device 110 (illumination unit) includes a
被検物101によって反射された光は、結像光学系122に取り込まれ、ハーフミラー123を透過して、被検物101の像が光検出器121に結像される。空間光変調器112の照明光領域から出射された光はレンズ113と第1のレンズ群122aからなる結像光学系の焦点面に結像し、その焦点面にある被検面で反射した光は光検出器121の受光面上に結像する。したがって、空間光変調器112の照明光領域(画素)の位置と光検出器121の受光面上の画素の位置との対応関係は予め定められている。
The light reflected by the
被検物101はステージ134上に載置される。ステージ134は、ステージ制御部133の指令に基づいて制御され、アクチュエータによって3軸方向に駆動可能である。ステージ134が結像光学系122の光軸124に平行な方向に移動することにより、被検物101の表面を結像光学系122の焦点位置に合わせられるようになっている。また、ステージ134が結像光学系122の光軸124に垂直な方向に移動することにより、結像光学系122の視野よりも大きな被検物を移動させながら、被検物の複数の箇所を測定することができる。
The
光検出器121によって撮像された被検物101の画像のデータは、演算部131に転送される。演算部131は被検物の画像から画像処理によって被検物の面のエッジ(端、縁、輪郭)を検出し、エッジの位置を算出する。そして、演算部131はエッジの位置から寸法、幾何公差、角度、直交度や真円度などの被検物の形状情報を算出する。演算部131は液晶モニタやブラウン管などの表示手段を備えており、ユーザーが結果を確認できるように算出した形状情報を表示する。また、演算部131はさらにハードディスクやSSDなどの記憶手段を備えており、算出した形状情報の記憶・読み出しができるようになっている。
Data of the image of the
被検物101として、ここでは図1に示されるような角R101eを有する凸部を有する凸型形状の部品を測定する場合について説明する。ただし、このような単純な形状の部品の測定に限定されるものではなく、より複雑な形状の部品の測定にも適用することができる。被検物101は異なる高さの表面101a(第1面)と表面101b(第2面)を有しており、ここでは側面101cと側面101dの間、つまり、表面101aと角R101eを含む幅の寸法を測定する場合について詳細に説明する。被検物101の下側から照明しても、被検物自体で光が遮られて表面101aの部分は照明されないので、表面101aを透過照明により測定できない。そのため、被検物101を、上方、つまり、結像光学系の側から照明して測定する必要がある。
Here, a description will be given of the case where a convex shaped part having a convex part having an angle R101e as shown in FIG. However, it is not limited to the measurement of such a simple shaped part, but can be applied to the measurement of a more complicated shaped part. The
図2乃至図7を用いて、第1実施形態において、被検物101の形状情報が測定されるプロセスについて説明する。図2は第1実施形態における測定のフローを示した図である。測定を開始するとまず、被検物を第1の照明状態で照明するように制御部132によって空間光変調器112を制御する(S101)。具体的には、図3(a)に示されるように、空間光変調器112を構成する画素112aが全て光を透過する状態になるように空間光変調器112を制御する。そして、その状態の空間光変調器112により、被検物の表面101aおよび101bおよび角R101eのすべての領域を照明する。この照明状態を第1の照明状態とする。
A process of measuring shape information of the
次に、ステージ制御部133によってステージ134が上下に駆動制御され、測定機のオートフォーカス機能によって被検物101の表面へのピント合わせが行われる(S102)。側面101cと側面101dの間の幅の寸法を測定する場合、図3(b)に示されるように受光部120の結像光学系のフォーカス面(焦点位置)125と被検物の表面101aが一致するようにピントが合わせられる。
Next, the
次に、照明装置110により第1の照明状態で照明された被検物やステージ134で反射された光を結像光学系122で光検出器121の受光面に結像させて、光検出器121によって第1の画像140を取得する(S103)。図3(c)は第1の照明状態で取得した第1の画像140を表す図である。図3(c)で示される領域141は被検物101に対応する画像領域である。領域142はステージ134に対応する画像領域である。領域141aは被検物の表面101aおよび角R101eに対応する画像領域であり、領域141bは被検物の表面101bに対応する画像領域である。
Next, the test object illuminated in the first illumination state by the
図3(d)は、図3(c)で示される破線Aにおける画像の断面強度プロファイルである。範囲143aのプロファイルは被検物の表面101aおよび角R101eで反射された光の強度分布に対応し、範囲143bのプロファイルは被検物の表面101bで反射された光の強度分布に対応する。範囲143aでは、強度の変動(バラつき)が大きい。これは被検物の表面101aの粗さや加工痕などのテクスチャの影響により、表面上の場所によって反射される光の強度が大きく変わるためである。被検物の表面101bについても同様に、テクスチャの影響により場所によって、反射される光の強度が変動する。しかし、表面101bに対応する断面強度プロファイルの範囲143bでは、強度の変動は比較的小さい。これは、表面101bは表面101aに比べて、結像光学系のフォーカス面125に対して遠い位置にあるので、ピントが外れることにより画像がぼやけてテクスチャの影響が平滑化されるためである。
FIG. 3D is a cross-sectional intensity profile of the image taken along the broken line A shown in FIG. The profile in the
図3(d)に示される破線の近傍は、被検物101のエッジ、つまり、側面101cと側面101dに対応する位置を表している。このエッジに対応する位置では、画像の強度が小さくなる。これは、角R101eにおける反射や散乱や側面101c、101dによって形成される影によって、結像光学系122に取り込まれる光の強度が小さくなるためである。エッジに対応する位置の画像強度は、角R101eの大きさ、又は、エッジにおける段差、つまり、表面101aと表面101bの高さの差に依存する。
The vicinity of the broken line shown in FIG. 3D represents the edge of the
光検出器121によって取得された画像は演算部131に転送され、演算部131は画像処理によって少なくともひとつのエッジを検出し、エッジの位置を算出する(S104)。エッジ検出にはキャニー法などの、サブピクセル精度が得られるアルゴリズムが用いられる。例えば、ガウシアンフィルターなどによって画像を平滑化した後に、微分演算を行なうことによって、エッジ位置が算出される。図3(d)に示される破線は検出したエッジの位置143c、143dを表す。後述するように、ここで算出されたエッジの位置には誤差があるため、仮の位置とする。
The image acquired by the
エッジ位置の算出精度は、エッジに対応する位置におけるコントラストとエッジ周辺の画像のノイズ(強度のバラつき)に依存する。第1の照明状態では表面101aと表面101bおよび角R101eのすべての領域が照明されるため、エッジに対応する位置で高い画像のコントラストが得られない。さらに、領域141aでは画像の強度バラつきが大きいため、第1の画像からは、高い精度でエッジ位置を算出することができない。
The calculation accuracy of the edge position depends on the contrast at the position corresponding to the edge and noise (intensity variation) of the image around the edge. In the first illumination state, all areas of the
このように高い精度でエッジ位置を算出することができない原因として、被検物の角Rや面取り部分で反射される光の影響がある。図4を用いて、この影響について説明する。被検物101は、照明光160によって、表面101aと表面101bおよび角R101e上の照明領域161が照明されている。表面101bの粗さが大きい場合、照明光160は表面101bによって反射され、広い角度範囲に散乱光162が発生する。一部の散乱光162aは、角R101eに向かい、角R101eによって反射されて、結像光学系122の取込角165の内部に偏向される光線163が生成される。角R101eで反射された光線163が結像光学系122に取り込まれると、光検出器121によって取得された画像において、エッジに対応する位置の部分の光強度が大きくなってしまう。その結果、第1の画像では、画像処理によって検出されるエッジ位置が真の位置からずれてしまい、高精度に測定することができなくなる。
The reason why the edge position cannot be calculated with such high accuracy is the influence of the light reflected at the corner R of the test object or the chamfered portion. This effect will be described with reference to FIG. The
そこで、本実施形態ではS105〜S108を行う。 Therefore, S105 to S108 are performed in the present embodiment.
まず、演算部131は、算出したエッジの仮の位置を境界として分割される2つの領域のうち、どちらにピントが合っているのか、フォーカスの判定を行う(S105)。図3(d)の画像の断面強度プロファイルから、図3(c)の領域141aはピントが合っており、領域141b乃至領域142はピントが外れていることが分かる。そのため、エッジの仮位置143cの右側にある領域141aにピントが合っていて、エッジの仮位置143cの左側にある領域141bにピントが合っていないと判定する。また、エッジの仮位置143dの左側にある領域141aにピントが合っていて、エッジの仮位置143dの右側にある領域141bにピントが合っていないと判定する。なお、S102におけるオートフォーカスにより表面101a(領域141a)にピントが合っているという情報がメモリに記憶されているなど、その情報が予め存在すれば、このフォーカス判定を行う必要はない。
First, the
次に、第1の照明状態とは異なる第2の照明状態で被検物を照明するように制御部132によって空間光変調器112を制御する(S106)。図5(a)に示すように、被検物の側面101cおよび101dの近傍の領域に対応する画素112b、112cが光を透過する状態、その領域以外に対応する画素が光を透過しない状態に設定する。光を透過する画素112b、112cが照明光領域である。照明光領域は、被検物101のエッジの仮位置に対応する位置を照明光領域の境界として仮位置に対応する位置の片側(デフォーカス側)の一部分に設定される。このように照明光領域を設定することにより、エッジの仮位置に対応する位置を境界として一方の側にある領域と他方の側にある領域のうちフォーカス面125から遠い領域の被検物のエッジ近傍の一部分が局所的に照明される照明領域が形成される。フォーカス面125から遠い領域かどうかは、S105の判定に基づいて決定される。例えば、画素112bは、被検物101のエッジの仮位置143cの左側にある領域141bにある面の一部分を結像光学系の焦点位置からデフォーカスした状態で局所的に照明する。また、画素112cは、被検物101のエッジの仮位置143dの右側にある領域141bにある面の一部分を結像光学系の焦点位置からデフォーカスした状態で局所的に照明する。この照明状態を第2の照明状態とする。この照明状態では、照明装置110は、図5(b)に示すようにエッジの仮位置を境界として仮位置の片側にある面の一部分を照明するように、照明領域を設定する。
Next, the spatial
次に、照明装置110により第2の照明状態で照明された被検物101で反射された光を結像光学系122で光検出器121の受光面に結像させて、光検出器121によって第2の画像150を取得する(S107)。
Next, the light reflected by the
図5(c)は第2の照明状態で取得した第2の画像150を表す図である。領域151は被検物101に対応する画像領域である。領域151aは、照明装置110によって照明されていない領域であり、画像は暗くなる。一方、被検物の側面101cおよび101dの近傍に対応する画像領域151b、151cは、照明装置110によって局所的に照明されているため、明るい画像が得られる。
FIG. 5C illustrates the
図5(d)は、図5(c)で示される破線Bにおける画像の断面強度プロファイルである。範囲153aは、被検物の表面101aに対応し、被検物の表面101aからの光の強度分布である。範囲153b、153cは領域151b、151cに対応し、表面101bのうち局所的に照明された領域から光の強度分布である。範囲153dは被検物の表面101bのうち照明されなかった領域からの光の強度分布である。
FIG. 5D is a cross-sectional intensity profile of the image taken along the broken line B shown in FIG. A range 153a corresponds to the
範囲153aでは、強度はほぼゼロである。これは照明装置110によって被検物の表面101aが照明されていないためである。一方、範囲153bでは、強度は大きな値となる。これは、被検物の表面101bのエッジ近傍の領域が照明装置110によって局所的に照明されているためである。範囲153cは、範囲153aと同様に照明装置110によって照明されないため、強度がほぼゼロとなる。
In the range 153a, the intensity is almost zero. This is because the
光検出器121によって取得された第2の画像は演算部131に転送され、演算部131は画像処理によって少なくともひとつのエッジを検出し、エッジの位置を算出する(S108)。エッジ位置の算出精度は、エッジのコントラストとエッジ周辺の画像のノイズ(強度のバラつき)に依存する。領域151aではほぼ強度がゼロである一方、領域151bでは強度が大きな値となっているため、第2の画像では非常に高いエッジのコントラストが得られる。このため、第2の画像から算出されたエッジ位置は、第1の画像から算出されたエッジ位置に比べて、誤差が小さい。エッジの位置を算出する方法として、例えば、画像の強度分布について微分演算を行って、微分値のピーク位置をエッジ位置として算出する方法がある。図5(d)に、そのような方法で算出されたエッジの位置153c、153dを示す。
The second image acquired by the
また、エッジ近傍を局所的に照明することによって、角Rや面取り部で反射される光の影響を小さくすることができる。この効果について、図6を用いて説明する。第1の照明状態を表す図4とは異なり、第2の照明状態では、被検物の側面101cおよび101dの近傍のみを照明する。被検物101は、照明光領域からの照明光170によって、表面101bのエッジ近傍の照明領域171が照明されている。照明領域171は表面101bの全体面積に比べて小さい。表面101bの粗さが大きい場合、照明光170は表面101bによって散乱され、広い角度範囲に散乱光172が発生する。一部の散乱光は角R101eに向かうが、照明領域171が小さいため、角R101eによって反射されて結像光学系122取込角165の内部に取り込まれる光は第1の照明状態と比較して少ない。このため、表面101b全体の広い領域を照明して得られる第1の画像と比較して、第2の画像では、画像処理によって算出されるエッジ位置の真の位置からのずれが小さく、高精度にエッジの位置を求めることができる。
Further, by locally illuminating the vicinity of the edge, it is possible to reduce the influence of light reflected at the corner R or the chamfered portion. This effect will be described with reference to FIG. Unlike FIG. 4 showing the first illumination state, in the second illumination state, only the vicinity of the side surfaces 101c and 101d of the test object is illuminated. In the
次に、第2の照明状態において局所的に照明される照明領域171の幅について説明する。図7に、被検物のエッジにおける段差hと照明領域171の幅dとの比に対するエッジ位置のずれ量をシミュレーションした結果を示す。計算は、エッジにおける角Rの曲率半径を0.2mmとして行った。段差hの大きさが一定の場合、照明領域171の幅dが大きくなるとともに、エッジ位置のずれ量が大きくなることが分かる。エッジ位置のずれ量は、被検物の表面粗さによって異なり、破線は散乱角が5°、一点鎖線は散乱角が10°、点線は散乱角が15°の結果を表す。被検物の表面が粗く、散乱角が大きいほど、エッジ位置のずれ量も大きくなる。図7から、表面粗さが大きな場合(例えば、散乱角15°)でもエッジ位置のずれ量を0.5μm以下にしたい場合、d/hを0.25以下にする必要があることが分かる。つまり、被検物のエッジにおける段差hが10mmの場合、照明領域171の幅dを2.5mm以下にする必要がある。これらの結果を元に検討したところ、照明領域171の幅d(mm)は、d<2500×h×r×Δxという条件に設定することが好ましいことが分かった。ここで、h(mm)はエッジにおける段差、r(mm)は角Rまたは面取りの大きさ、Δx(mm)はエッジ位置の許容誤差を表す。角Rの大きさは曲率半径、面取りの大きさはC面の大きさによって定義される。この式に、角Rの曲率半径rが0.2mm、段差hが10mm、エッジ位置の許容誤差Δxが0.5μmという条件を代入すると、d<2.5mmが得られる。
Next, the width of the
次に、演算部131は、算出したエッジ位置の情報を用いて、被検物101の形状情報を算出する(S109)。具体的には、領域151aと領域151bの境界に対応する複数のエッジ位置の間の距離を算出し、被検物101の側面101cと側面101dの間の寸法とする。
Next, the
次に、被検物101の別の場所の寸法や形状を測定するか判断する(S110)。これは、演算部131のディスプレイ上に表示して対話形式でユーザーが選択できるようにしてもよいし、予め作成したティーチングプログラムから判断しても良い。被検物101の別の場所を測定する場合は、再びS101に戻り第1の照明状態に設定した後、被検物101の別の場所でオートフォーカスを行う。別の場所で測定を行わない場合は、測定を終了する。
Next, it is determined whether to measure the size and shape of another location of the test object 101 (S110). This may be displayed on the display of the
本実施形態では、被検物101の側面101cと側面101dの間の寸法のみを測定する場合について説明したが、本発明はこのような測定対象に限定されるものではなく、より多くの寸法を測定したり、より複雑な被検物を測定したりする場合に適用できる。例えば、被検物の複数の場所について寸法を測定する場合は、それぞれの測定したいエッジの近傍を逐次的に局所的に照明することにより、迷光の影響を最小限に抑えて高精度にエッジ位置を測定することができる。また、被検物の測定すべき場所の複数が同一のフォーカス平面上にある場合は、複数の測定したいエッジの近傍を同一の焦点位置で同時に局所的に照明しても良い。この場合、エッジ周辺が局所的に照明されるので迷光の発生は最小限に抑えられるとともに、照明の切り替えおよび画像の取得に要する時間を短縮することができる。また、被検物のエッジの形状にも限定されない。例えば、被検物のエッジは直線的であっても、円弧状であっても、自由形状の曲線であっても良い。
In the present embodiment, the case where only the dimension between the
以上のように、本実施形態によれば、面取りや角Rがある被検物についても、反射照明により高精度にエッジの位置を求めることができる。 As described above, according to the present embodiment, the position of the edge can be obtained with high accuracy by reflected illumination even for a test object having a chamfer or a corner R.
(第2実施形態)
第2実施形態は第1実施形態と比較して、被検物101の形状を測定するフローが異なる。第2実施形態は、測定前に被検物101の寸法や幾何公差などの形状情報が既知であり、同じ形状の異なる部品(同じ型番の部品)を繰り返し測定する場合に用いられる。図8は第2実施形態における測定のフローを示した図である。
(Second Embodiment)
The second embodiment is different from the first embodiment in the flow for measuring the shape of the
第2実施形態の測定では、まず、画像測定機10と被検物101の位置合わせを行って、ステージ134上における被検物101の位置や角度を演算部131が取得する(S201)。位置合わせには公知の技術が用いられる。例えば、被検物101を治具によって保持し、治具を画像測定機10のステージ134上にある不図示の突き当て部に突き当てることによって、画像測定機10と被検物101の位置合わせが行われる。あるいは、不図示の透過照明によって被検物101を下側から照明して画像を取得し、被検物の輪郭を算出することにより、画像測定機10と被検物101の相対的な位置と角度の情報が取得される。透過照明を用いて画像を取得する場合は、輪郭部のコントラストが高くなるようにオートフォーカスなどにより予めピントを合わせておくことが好ましい。あるいは、被検物101を照明装置110によって上方から照明して画像を取得し、既知の形状情報とのパターンマッチングにより画像測定機10と被検物101の相対的な位置と角度を算出しても良い。
In the measurement of the second embodiment, first, the
次に、演算部131は、ハードディスクやSSDなどの記憶手段に記憶された被検物101の形状情報を読み出す(S202)。記憶手段に記憶された被検物101の形状情報は、CADデータなどの設計データや、計測装置で予め低精度に計測された形状などである。読み出された形状情報には、被検物のエッジ位置の情報が含まれる。
Next, the
次に、演算部131は、S201で取得した被検物101の位置や角度の情報、および、S202で読み出した被検物の形状情報を参照して、画像測定機10の視野内における被検物101のエッジの仮位置を算出する(S203)。
Next, the
次に、ステージ制御部133によってステージ134が上下に駆動制御され、公知のオートフォーカス技術によって測定するエッジ周辺の表面にピント合わせが行われる(S204)。
Next, the
次に、演算部131は、測定するエッジを境界として一方の側にある領域と他方の側にある領域のうち、どちらにピントが合っているのか、フォーカスの判定を行う(S205)。次に、制御部132によって照明装置110が局所的照明状態になるように制御される(S206)。第1実施形態と同様に、第2の照明状態となるように制御される。具体的には、図4(a)に示されるように、空間光変調器112を構成する画素112aのうち、被検物の表面101aに対応する領域にある画素が、光を透過しない状態に設定される。これによって、被検物101のエッジを境界として分割される2つの領域のうち、結像光学系122のフォーカス面125から遠い領域について、エッジ境界と近接する領域が局所的に照明される。つまり、図5(b)に示すように、照明装置110はエッジの仮位置を境界として仮位置の片側にある面の一部分を照明する。
Next, the
次に、局所的照明状態で、光検出器121によって画像が取得される(S207)。表面101bは表面101aに比べて、受光部120のフォーカス面125に対して遠い位置にあるので、ピントが外れることにより画像がぼやけてテクスチャの影響が平滑化される。
Next, an image is acquired by the
光検出器121によって取得された画像は演算部131に転送され、演算部131は、画像処理によってエッジの位置を算出する(S208)。エッジ位置の算出精度は、第1実施形態と同様に、ピントが合った領域の画像はほぼ強度がゼロである一方、ピントが外れた領域の画像は強度が大きな値となっているため、非常に高いエッジのコントラストが得られる。さらに、角Rからの迷光の影響が小さいため、エッジの位置を高精度に算出することができる。
The image acquired by the
次に、演算部131が、算出したエッジ位置の情報を用いて、被検物101の形状情報を算出する(S209)。次に、被検物101の別の場所の寸法や形状を測定するか判断する(S210)。被検物101の別の部分を測定する場合は、再びS203に戻り測定する別の場所のエッジの仮位置を算出した後、オートフォーカスを行う。別の場所で測定を行わない場合は、測定を終了する。
Next, the
以上のように、第2実施形態によれば、面取りや角Rがある被検物についても、反射照明により高精度にエッジの位置を求めることができる。 As described above, according to the second embodiment, the position of the edge can be obtained with high accuracy by reflected illumination even for a test object having a chamfer or a corner R.
高さが異なる複数の場所を焦点位置に合わせて複数回測定する場合、第1実施形態の測定フローでは各場所で第1の照明状態での画像と第2の照明状態での画像を取得する必要がある。一方、第2実施形態の測定フローでは既知の被検物の形状情報を利用することにより、各場所で局所的照明状態のみの画像を取得すれば良い。したがって、形状が複雑で、高さが異なる多数の場所で測定が必要な被検物について繰り返し測定を行う場合は、第2実施形態の測定フローが好適である。 When a plurality of places having different heights are measured a plurality of times in accordance with the focal position, in the measurement flow of the first embodiment, an image in the first illumination state and an image in the second illumination state are acquired at each place. There is a need. On the other hand, in the measurement flow of the second embodiment, it is only necessary to acquire an image of only the local illumination state at each location by using known shape information of the test object. Therefore, the measurement flow of the second embodiment is suitable when the measurement is repeatedly performed on the specimens that need to be measured at a large number of places having complicated shapes and different heights.
<物品の製造方法の実施形態>
本実施形態における物品の製造方法は、例えば、ギアなどの金属部品や光学素子等の物品を製造するために用いられる。本実施形態の物品の製造方法は、上記の計測装置を用いて、上記物品である被検物の寸法などの形状を計測する工程と、かかる工程における計測結果に基づいて被検物を加工する工程とを含む。例えば、被検物の形状を計測装置を用いて計測し、その計測結果に基づいて、被検物の形状が設計値など所望の形状になるように当該被検物を加工する。上記計測装置により高精度に被検物の形状を計測できるため、本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、少なくとも物品の加工精度の点で有利である。また、上記計測装置により高精度に計測された被検物の形状情報を用いて製造装置が物品を製造することもできる。
<Embodiment of Method for Manufacturing Article>
The method for manufacturing an article in the present embodiment is used, for example, to manufacture an article such as a metal part such as a gear or an optical element. The method for manufacturing an article according to this embodiment uses the above-described measurement device to measure a shape such as a dimension of the specimen that is the article, and to process the specimen based on the measurement result in the process. Process. For example, the shape of the test object is measured using a measuring device, and the test object is processed based on the measurement result so that the shape of the test object becomes a desired shape such as a design value. Since the shape of the test object can be measured with high accuracy by the measuring device, the article manufacturing method of the present embodiment is advantageous in at least the processing accuracy of the article as compared with the conventional method. In addition, the manufacturing apparatus can manufacture an article using the shape information of the test object measured with high accuracy by the measuring apparatus.
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。例えば、ステージやステージ制御部を画像測定機とは別の装置として構成してもよい。オートフォーカスは、ステージ上下移動だけに限らず、結像光学系と光検出器とを一体的に上下動することにより行っても、結像光学系の焦点距離を変えることにより行ってもよい。 As mentioned above, although preferable embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these embodiment, A various deformation | transformation and change are possible within the range of the summary. For example, the stage and the stage control unit may be configured as an apparatus different from the image measuring machine. The auto focus is not limited to the vertical movement of the stage, but may be performed by moving the imaging optical system and the photodetector up and down integrally or by changing the focal length of the imaging optical system.
Claims (10)
前記被検物を照明する光を出射する照明光領域が変更可能な照明部と、
前記照明部により照明された前記被検物で反射された光を結像させる結像光学系と、
前記結像光学系により結像された前記被検物の画像を取得する取得部と、
演算部とを有し、
前記演算部は、前記被検物のエッジの仮位置の情報を取得し、
前記照明部の照明光領域において前記仮位置に対応する位置を前記照明光領域の境界として、前記仮位置に対応する位置の片側の一部分に前記照明光領域を設定して、前記結像光学系の焦点位置からデフォーカスした前記被検物の面を照明する照明状態において、前記取得部が前記被検物の画像を取得し、
前記演算部は、前記照明状態において前記取得部が取得した前記被検物の画像から前記被検物のエッジの位置を求めることを特徴とする計測装置。 A measuring device for measuring a test object,
An illumination unit capable of changing an illumination light region that emits light that illuminates the test object; and
An imaging optical system that forms an image of light reflected by the test object illuminated by the illumination unit;
An acquisition unit for acquiring an image of the test object imaged by the imaging optical system;
An arithmetic unit,
The calculation unit obtains information on a temporary position of the edge of the test object,
In the illumination light area of the illumination unit, the illumination optical area is set in a part of one side of the position corresponding to the temporary position, with the position corresponding to the temporary position as a boundary of the illumination light area, and the imaging optical system In the illumination state that illuminates the surface of the test object defocused from the focal position, the acquisition unit acquires the image of the test object,
The measuring device is characterized in that the position of the edge of the test object is obtained from the image of the test object acquired by the acquisition unit in the illumination state.
前記演算部は、前記被検物の第1面を前記結像光学系の焦点位置に合わせた状態で前記第1面と前記第2面を照明して前記取得部が取得した前記被検物の画像から、前記被検物のエッジの仮位置を求め、
前記照明状態において、前記被検物の第1面を前記結像光学系の焦点位置に合わせた状態で前記第2面の一部分を該設定された照明光領域で照明する、ことを特徴とする請求項3に記載の計測装置。 The test object has a first surface and a second surface having different heights,
The said operation part illuminates the said 1st surface and the said 2nd surface in the state which match | combined the 1st surface of the said test object with the focus position of the said imaging optical system, and the said test object which the said acquisition part acquired From the image of, obtain the temporary position of the edge of the test object,
In the illumination state, a part of the second surface is illuminated with the set illumination light region in a state where the first surface of the test object is aligned with the focal position of the imaging optical system. The measuring device according to claim 3.
前記計測工程による計測結果を用いて前記物品を加工する工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。 A measuring step of measuring the shape of the article using the measuring device according to claim 1;
And a step of processing the article using a measurement result obtained by the measurement step.
前記被検物のエッジの仮位置の情報を取得する工程と、
前記被検物を照明する光を出射する照明部の照明光領域において前記仮位置に対応する位置を前記照明光領域の境界として、前記仮位置に対応する位置の片側の一部分に前記照明光領域を設定して、結像光学系の焦点位置からデフォーカスした前記被検物の面を照明する照明状態において、前記被検物を照明する工程と、
前記照明状態において該照明された前記被検物で反射された光を前記結像光学系により結像させる工程と、
前記照明状態において該結像された前記被検物の画像を取得する工程と、
前記照明状態において該取得した前記被検物の画像から前記被検物のエッジの位置を求める工程と、を備えることを特徴とする計測方法。 A measuring method for measuring a test object,
Obtaining information on the temporary position of the edge of the test object;
In the illumination light area of the illumination unit that emits light that illuminates the test object, the position corresponding to the temporary position is set as a boundary of the illumination light area, and the illumination light area is partially located on one side of the position corresponding to the temporary position. Illuminating the test object in an illumination state in which the surface of the test object defocused from the focal position of the imaging optical system is set;
Imaging the light reflected by the illuminated object in the illumination state by the imaging optical system;
Obtaining the image of the test object imaged in the illumination state;
Obtaining a position of an edge of the test object from the acquired image of the test object in the illumination state.
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CN110470219A (en) * | 2019-08-16 | 2019-11-19 | 福建农林大学 | The out-of-focus image distance measuring method and device retained based on edge spectrum |
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