JP2016021468A - インプリントモールドの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】インプリントモールドの製造方法は、第1面及びそれに対向する第2面を有し、金属膜パターンが第1面側に設けられたインプリントモールド用基材にエッチング処理を施して、インプリントモールド用基材の第1面側に微細凹凸パターンを形成し、微細凹凸パターンが形成されたインプリントモールド用基材の第1面側に異物が存在しているか否かを検査し、インプリントモールド用基材の第1面側における異物を含む領域を活性エネルギー線硬化性樹脂に接触させ、活性エネルギー線硬化性樹脂を半硬化させ、半硬化した活性エネルギー線硬化性樹脂から、インプリントモールド用基材を離間させる。
【選択図】図2
Description
2…微細凹凸パターン
10…インプリントモールド用基材
10a…第1面
10b…第2面
11…金属膜
13…金属膜パターン
20…異物
Claims (8)
- インプリントモールドを製造する方法であって、
第1面及び当該第1面に対向する第2面を有し、金属膜がパターニングされてなる金属膜パターンが前記第1面側に設けられてなるインプリントモールド用基材に、当該金属膜パターンをマスクとしたエッチング処理を施すことにより、前記インプリントモールド用基材の前記第1面側に微細凹凸パターンを形成する工程と、
前記微細凹凸パターンが形成された前記インプリントモールド用基材の前記第1面側に異物が存在しているか否かを検査する工程と、
前記インプリントモールド用基材の前記第1面側に前記異物が存在している場合に、前記第1面側における前記異物を含む領域を活性エネルギー線硬化性樹脂に接触させる工程と、
前記活性エネルギー線硬化性樹脂を半硬化させる工程と、
前記半硬化した活性エネルギー線硬化性樹脂から、前記インプリントモールド用基材を離間させる工程と
を含むことを特徴とするインプリントモールドの製造方法。 - 前記金属膜パターンが前記インプリントモールド用基材の前記第1面側に設けられたままの状態で、前記第1面側における前記異物を含む領域を活性エネルギー線硬化性樹脂に接触させることを特徴とする請求項1に記載のインプリントモールドの製造方法。
- 前記金属膜パターンは、前記活性エネルギー線が透過しない又は透過困難な材料により構成されており、
前記インプリントモールド用基材の前記異物が付着している領域を物理的に包含する領域と前記活性エネルギー線硬化性樹脂とを接触させた状態で、前記インプリントモールド用基材の前記第2面側から前記活性エネルギー線を照射することを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリントモールドの製造方法。 - 前記インプリントモールド用基材が、透明基材であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のインプリントモールドの製造方法。
- 前記半硬化した活性エネルギー線硬化性樹脂から前記インプリントモールド用基材を離間させた後、前記インプリントモールド用基材の前記第1面側から前記異物が除去されたか否かを検査する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載のインプリントモールドの製造方法。
- 前記インプリントモールド用基材の前記第1面側から前記異物が除去されたと判断された場合に、前記インプリントモールド用基材の前記第1面側から前記金属膜パターンを除去することを特徴とする請求項5に記載のインプリントモールドの製造方法。
- 前記インプリントモールド用基材の前記第1面側に前記微細凹凸パターンを形成した後、前記異物が存在しているか否かを検査する前に、前記インプリントモールド用基材を洗浄する工程をさらに含むことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のインプリントモールドの製造方法。
- 前記インプリントモールド用基材の前記第1面側に前記微細凹凸パターンを形成した後、前記微細凹凸パターンが形成された前記インプリントモールド用基材の前記第1面側に前記異物が存在しているか否かを、光学式検査装置を用いて検査することを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載のインプリントモールドの製造方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US11158672B2 (en) | 2018-12-28 | 2021-10-26 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Magnetic tunnel junction elements and magnetic resistance memory devices including the same |
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JP2009266841A (ja) * | 2008-04-21 | 2009-11-12 | Toshiba Corp | ナノインプリント方法 |
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2014
- 2014-07-14 JP JP2014144115A patent/JP6417761B2/ja active Active
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