JP2016020049A - インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及びこれを用いた樹脂成型品 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】熱可塑性透明基材フィルムの一面に、ハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とがこの順に積層されている。高屈折率層の屈折率は1.50〜1.65、膜厚は130〜180nmである。低屈折率層の屈折率は1.36〜1.42、膜厚は70〜100nmである。低屈折率層は防汚剤を含有することが好ましく、ハードコート層はアクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィンを含むことが好ましい。
【選択図】なし
Description
本実施形態の耐指紋性反射防止フィルムは、インサート成型に適したフィルムであって、熱可塑性透明基材フィルムの一面に、当該熱可塑性透明基材フィルム側からハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とが、この順に積層されている。以下に、このインサート成型に適した耐指紋性反射防止フィルムの構成要素について順に説明する。
熱可塑性透明基材フィルムは、ポリカーボネート樹脂、及び/又はポリメチルメタクリレート樹脂からなるフィルムを使用できる。特に、ポリカーボネート層及びポリメチルメタクリレート層の二層構造からなるフィルムが好ましい。この場合、ポリメチルメタクリレート層上にハードコート層を積層するのが望ましい。後述のハードコート層形成用組成物を、熱可塑性透明基材フィルム上へ良好にウェットコーティングすることができるからである。また、ハードコート層のバインダー成分としてアクリル樹脂(アクリル基を有するモノマーの硬化物)を含む場合には、ハードコート層とポリメチルメタクリレート層の屈折率が近くなるため、両者が直に積層されていれば、反射光の干渉ムラも生じ難くなる。加えて、メチルメタクリレート層とハードコート層の材質が類似するため、熱可塑性透明基材フィルムとハードコート層との密着性も向上する。一方、ポリカーボネート層はポリメチルメタクリレート層に比べガラス転移点(Tg)が高いため、ポリカーボネート層に加飾印刷することで、インサート成型時にインク流れが生じにくくなる。熱可塑性透明基材フィルムの膜厚や屈折率は、この種のインサート成型用フィルムにおける従来から公知の一般的な範囲であればよく、特に制限されない。具体的には、熱可塑性透明基材フィルムの膜厚は通常30〜300μm、好ましくは125〜200μmである。また、熱可塑性透明基材フィルムの屈折率は、通常1.49〜1.59である。
ハードコート層は、ハードコート層形成用組成物を硬化させることにより形成される。当該ハードコート層は、所要の強度及び硬度を有しており、樹脂成形品の表面硬度を向上するために積層する層である。ハードコート層の乾燥硬化後の膜厚は、1〜20μmが好ましい。膜厚が1μmより薄い場合は、十分な表面硬度が得られないため好ましくない。膜厚が20μmより厚い場合は、屈曲性の低下等の問題が生じるため好ましくない。なお、ハードコート層の屈折率は後述する材料を使用する限り特に限定されないが、そのような材料の屈折率としては1.49〜1.54程度である。
ハードコート層形成用組成物は、基本的にはこの種のインサート成形用フィルムにおいて従来から公知の組成物を特に制限無く使用することができ、典型的には、紫外線硬化型樹脂(B)と光重合開始剤(C)とを含有してなる。
次に、高屈折率層について説明する。高屈折率層は、後述の低屈折率層よりも屈折率の高い層であって、低屈折率層との有意な屈折率及び膜厚の相対関係により反射防止効果及び耐指紋性(指紋を見え難くする効果)を発現させる層であり、低屈折率層と共に反射防止層及び耐指紋層を構成する層である。高屈折率層の屈折率は、1.50〜1.65である。高屈折率層の屈折率が1.50未満の場合は、低屈折率層との屈折率差が小さ過ぎて高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が弱くなり、反射防止性能及び耐指紋性が十分に発揮されない場合がある。また、高屈折率層の屈折率が1.65を超える場合は、高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が強くなり、反射光の着色が強くなる。また、高屈折率層の膜厚は、130〜180nmである。高屈折率層の膜厚が130未満の場合や180nmを超える場合は、低屈折率層との干渉バランスが崩れ、反射率、反射彩度C、及び皮脂汚れが付着した際の反射色差ΔEの上昇を引き起こしてしまい、十分な反射防止性や耐指紋性が得られなくなる。
高屈折率層は、高屈折率層形成用組成物からなる塗布液をハードコート層上に塗布した後、紫外線照射により硬化することで形成される。その塗布方法や硬化条件、及び粘度調整用の希釈溶媒は、ハードコート層と同様であればよい。高屈折率層形成用組成物を構成する材料としては、高屈折率層の屈折率の範囲において、金属酸化物微粒子及び紫外線硬化型樹脂を任意に用いることができる。
次に、低屈折率層について説明する。低屈折率層は、高屈折率層よりも屈折率の低い層であって、高屈折率層との有意な屈折率及び膜厚の相対関係により反射防止効果及び耐指紋性(指紋を見え難くする効果)を発現させる層であり、高屈折率層と共に反射防止層及び耐指紋層を構成する層である。低屈折率層の屈折率は、1.36〜1.42の範囲である。該屈折率が1.36未満の場合には十分に硬い層を形成することが困難であり、屈折率が1.42を超える場合には、高屈折率層との屈折率差が小さ過ぎて高屈折率層と低屈折率層との界面での反射が弱くなり、反射防止性能及び耐指紋性が十分に発揮されない場合がある。
低屈折率層は、低屈折率層形成用組成物からなる塗布液を高屈折率層上に塗布した後、紫外線照射により硬化することで形成される。その塗布方法や硬化条件、及び粘度調整用の希釈溶媒は、ハードコート層や高屈折率層と同様であればよい。低屈折率層形成用組成物は、紫外線硬化型樹脂と中空シリカ微粒子と光重合開始剤とを含有する。
Z−R1−Si(OR2)3 ・・・(1)
〔式中、Zは(メタ)アクリロイルオキシ基であり、R1は炭素数1〜4のアルキレン基であり、R2は水素原子、メチル基又はエチル基である。〕
なお、低屈折率層には防汚性(指紋を付着し難くし、且つ拭き取り易くする効果)を付与して耐指紋性を向上させることもできる。防汚剤としては、公知のポリシロキサン系あるいはフッ素系の防汚剤を適宜添加することが好ましい。ポリシロキサン系化合物の好ましい例としては、例えばアクリル基を有するポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ジメチルシロキサン、アクリル基を有するポリエステル変性ジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン、アラルキル変性ポリメチルアルキルシロキサン、などが挙げられる。
本実施形態の樹脂成形品は、インサート成型融着法にて、樹脂を成型すると同時に、その樹脂成形品の表面に耐指紋性反射防止フィルムを一体化して得られる。例えば、耐指紋性反射防止フィルムを射出成型金型内のキャビティに保持し、溶融した樹脂を金型内に注入することで、表面に耐指紋性反射防止フィルムが一体化された樹脂成形品を得ることができる。
(1)屈折率1.49のアクリル樹脂板(「デラグラスA」、旭化成ケミカルズ(株)製)上に、ディップコーター((株)杉山元医理器製)により、各層形成用組成物(塗液)をそれぞれ乾燥膜厚で光学膜厚が550nm程度になるように層の厚みを調整して塗布した。
(2)溶媒乾燥後、必要に応じて紫外線照射装置(岩崎電気(株)製)により窒素雰囲気下で120W高圧水銀灯を用いて、400mJの紫外線を照射して各塗液を硬化させた。
(3)アクリル樹脂板裏面をサンドペーパーで荒らし、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計(「U−Best V560」、日本分光(株)製)により、光の波長400〜650nmにおける5°、−5°正反射率を測定し、その反射率の極小値又は極大値を読み取った。
(4)反射率の極値より以下の式を用いて屈折率を計算した。
ハードコート層形成用組成物として、次の原料を使用し、各原料を下記表1に記載した組成にて混合し、ハードコート層形成用組成物HC1を調製した。ハードコート層形成用組成物の各原料は、以下の通りである。
アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィン(a):下記製造例1で合成した水酸基含有メタクリレート変性無水マレイン酸グラフト化ポリオレフィン
紫外線硬化型樹脂(b):
(b−1);ダイセル・サイテック(株)製「EBECRYL8402」
(b−2);日本化薬(株)製「KAYARAD DPCA−20」
(b−3);共栄社化学(株)製「ライトアクリレート1.9ND−A」
光重合開始剤(c):チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製「IRGACURE184(I−184)」
高分子ポリオレフィン(プロピレンと1−ブテンとの共重合体:三井化学社製「タフマーXR110T」)を攪拌機および温度計を備えた反応容器に入れ、360℃まで昇温して溶融させ、窒素気流下で80分間加熱することにより、熱減成による低分子ポリオレフィンを得た。
アンチモン酸亜鉛微粒子分散液(日産化学工業(株)製、セルナックスCX−603M−F2)を固形分換算で70質量部、ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)25質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−1の屈折率は1.58であった。
酸化チタン微粒子37質量部、ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)58質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−2の屈折率は1.65であった。
ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)95質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−3の屈折率は1.50であった。
酸化チタン微粒子40質量部、ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)55質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−4の屈折率は1.66であった。
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子10質量部、ウレタンアクリレート(分子量1400、60℃における粘度が2500〜4500Pa・s、日本合成化学工業(株)製、紫光UV7600B)85質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア184)を5質量部、及びイソプロピルアルコール500質量部を混合し、高屈折率層形成用組成物(含アンチモン酸亜鉛微粒子硬化性塗布液)を得た。H−5の屈折率は1.49であった。
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子40質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)60質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−1の屈折率は1.39であった。
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子30質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)70質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−2の屈折率は1.42であった。
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子60質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)40質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−3の屈折率は1.36であった。
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子65質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)35質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−4の屈折率は1.43であった。
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子25質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)75質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、シリコン添加剤(信越化学工業(株)製、TIC2457)5質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、を及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−5の屈折率は1.35であった。
粒子径が60nmの中空シリカ微粒子55質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬(株)製、商品名「DPHA」)45質量部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、イルガキュア907)5質量部、シリコン添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、BYKUV−3570)8質量部、含フッ素アクリル化合物(信越化学工業(株)製、KY1203)10質量部、アルミナ添加剤(ビックケミー・ジャパン(株)製、NANOBYKUV-3601)0.5質量部、及びイソプロピルアルコール2000質量部を混合し、低屈折率層用組成物(含シリカ硬化性塗布液)を得た。L−6の屈折率は1.39であった。
厚さ188μmのポリカーボネート層とポリメチルメタクリレート層との2層構造からなるフィルム(PC/PMMA):住友化学株式会社製「C001」のPMMA層上に、ハードコート層形成用組成物(HC−1)をロールコーターにて乾燥膜厚が7μmとなるように塗布し、80℃で2分間乾燥した。その後、窒素雰囲気下で120W高圧水銀灯(日本電池(株)製)により紫外線を照射し(積算光量300mJ/cm2)、ハードコート層形成用組成物を硬化させてハードコート層を形成した。
低屈折率層の膜厚を70nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
低屈折率層の膜厚を80nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
低屈折率層の膜厚を100nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
高屈折率層の膜厚を130nmにする以外は、実施例1−2と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
高屈折率層の膜厚を180nmにする以外は、実施例1−4と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
低屈折率層用組成物L−2を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
低屈折率層用組成物L−3を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
高屈折率層用組成物H−2を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
高屈折率層用組成物H−3を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
熱可塑性透明基材フィルムにポリカーボネートフィルム(PC):住友化学(株)製「C008」を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
熱可塑性透明基材フィルムにポリメチルメタクリレートフィルム(PMMA):住友化学株式会社製「S014G」を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
低屈折率層用組成物L−6を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−2と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−3と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−4と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−5と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−6と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−7と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−8と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−9と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−10と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−11と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例1−12と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−3を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−4を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、実施例2−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成型品を作製した。
低屈折率層の膜厚を60nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
低屈折率層の膜厚を110nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
高屈折率層の膜厚を120nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
高屈折率層の膜厚を190nmにする以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
低屈折率層用組成物L−4を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
低屈折率層用組成物L−5を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
高屈折率層用組成物H−4を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
高屈折率層用組成物H−5を使用する以外は、実施例1−1と同様の方法インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
透明基材フィルムにPETを使用する以外は、実施例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、比較例1−1と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
ハードコート層形成用組成物HC−2を使用する以外は、比較例1−4と同様の方法でインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム及び樹脂成形品を作製した。
測定面の裏面反射を除くため、裏面をサンドペーパーで粗し、黒色塗料で塗りつぶしたものを分光光度計(大塚電子(株)製、商品名:FE3000)により、光の波長380nm〜780nmの5°、−5°正反射スペクトルを測定した。得られる380nm〜780nmの分光反射率と、CIE標準イルミナントD65の相対分光分布を用いて、JIS Z8701で想定されているXYZ表色系における、反射による物体色の三刺激値Yを視感度反射率(%)とした。
視感度反射率で測定した光の波長380〜780nmの分光反射率と、CIE標準イルミナントD65の相対分光分布を用いて、JISZ8729に規定される色空間CIE1976L*a*b*表色系を計算し、求めたa*、b*値からCab*={(a*)2+(b*)2}1/2を計算した。
視感度反射率で測定した光の波長380〜780nmの分光反射率と、CIE標準イルミナントD65の相対分光分布を用いて、JISZ8729に規定される色空間CIE1976L*a*b*表色系を計算し、JIS Z8730に規定されるΔE*a* b*={(ΔL*)2+(Δa*)2+(Δb*)2}1/2を計算した。
視感度反射率が2.0%以下の場合を○、2.0%より高い場合を×とした。
インサート成型用耐指紋性反射防止フィルムに指紋を付着させ、成分付着前後の外観変化を評価した。比較対象としてガラス板(日本板硝子(株)製FL2.0)を使用し、ガラス板に指紋が付着した場合よりも、指紋が見え難いものを○、さらに見え難いものを◎、同程度のものを×とした。
試験片に指紋の見え具合試験と同様の指紋を付着させ、ネル布(白ネル・金塊グレード)を使用して500gf/cm2荷重で30往復摩擦して指紋を拭き取った。その後、指紋が見えなかったものを○、指紋が見えたものを×とした。
得られた各樹脂成型品について、JIS D0202−1998に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。判定は100マスのうち、剥離が全く生じていない(0マス)ものを◎、剥離が殆ど生じていない(1〜5マス)ものを○、剥離が生じた(6マス以上)ものを×とした。
Claims (4)
- 熱可塑性透明基材フィルムの一面に、ハードコート層と、高屈折率層と、低屈折率層とが、この順に積層されており、
前記高屈折率層の屈折率が1.50〜1.65、膜厚が130〜180nmであり、
前記低屈折率層の屈折率が1.36〜1.42、膜厚が70〜100nmである、インサート成型用耐指紋性反射防止フィルム。 - 前記低屈折率層に防汚剤が含有されている、請求項1に記載のインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム。
- 前記ハードコート層は、アクリル変性不飽和ジカルボン酸(無水物)グラフト化ポリオレフィンを含む組成物を硬化してなる、請求項1または請求項2のいずれか一項に記載のインサート成型用耐指紋性反射防止フィルム。
- 請求項1ないし請求項3のうちいずれか一項に記載のインサート成型用耐指紋性反射防止フィルムを表面に備える、樹脂成型品。
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