JP2015518596A - タッチスクリーンパネル製作方法およびシステムで使用される透明体 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (15)
- タッチスクリーンパネルで使用される透明体(10)を製作する方法であって、
第1の透明層スタック(12)を透明基板(14)の上に堆積させることであり、前記第1の透明層スタック(12)が、
第1の屈折率から第2の屈折率までの傾斜した屈折率をもつ第1の誘電体膜を含む層スタックと、
第1の屈折率をもつ少なくとも第1の誘電体膜(16)と、前記第1の屈折率と異なる第2の屈折率をもつ第2の誘電体膜(18)とを含む層スタックと
からなる群から選択される、堆積させることと、
構造化された透明導電膜(22)を設けることであり、構造化された前記透明導電膜が100オーム/スクエア以下のシート抵抗に対応する、設けることと、
前記タッチスクリーンパネルの隣接する構成要素に前記透明体を取り付けるように構成された透明接着剤を構造化された前記透明導電膜の上に設けることと
を含む方法。 - 前記第1の透明層スタックが構造化された前記透明導電膜の上に堆積されるか、または構造化された前記透明導電膜が前記基板上に堆積される、請求項1に記載の方法。
- 構造化された前記透明導電膜を設けることが、構造化されていない堆積された透明導電膜をパターン化することを含む、請求項1または2に記載の方法。
- 前記第1の誘電体膜が少なくとも1.8の屈折率を有し、かつ前記第2の誘電体膜が1.5以下の屈折率を有する、請求項1ないし3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記誘電体膜が、MFスパッタリングによって、一般に、回転可能なターゲットからスパッタリングされ、前記透明導電膜が、DCスパッタリングによって、一般に、回転可能なターゲットからスパッタリングされる、請求項1ないし4のいずれか一項に記載の方法。
- タッチスクリーンパネルで使用するように構成された透明体であって、
透明基板と、
前記透明基板の上に堆積された透明層スタックであり、前記透明層スタック(12)が、
第1の屈折率から前記第1の屈折率と異なる第2の屈折率までの傾斜した屈折率をもつ第1の誘電体膜を含む層スタックと、
第1の屈折率をもつ少なくとも第1の誘電体膜(16)、および前記第1の屈折率と異なる第2の屈折率をもつ第2の誘電体膜(18)を含む層スタックと
からなる群から選択される、透明層スタックと、
前記透明基板の上に堆積された透明導電膜であり、構造化された前記透明導電膜が100オーム/スクエア以下のシート抵抗に対応する、透明導電膜と、
前記透明導電膜の上に堆積された透明接着剤であり、前記タッチスクリーンパネルの隣接する構成要素に前記透明体を取り付けるように構成された、透明接着剤と
を含む、透明体。 - 前記層スタックが取り付けられるべきである第2の透明基板をさらに含み、前記透明接着剤が前記第2の透明基板の屈折率と同様の屈折率を有する、請求項6に記載の透明体。
- 前記透明基板が、剛体基板、フレキシブル基板、有機基板、無機基板、ガラス、プラスチックフォイル、偏光板材料基板、および四分の一波長リターダ基板からなる群から選択される、請求項6または7に記載の透明体。
- 前記透明層スタックが屈折率整合層スタックであり、かつ/またはSiOx、SiNx、SiOxNy、AlOx、AlOxNy、TiOx、TaOx、MgFx、およびNbOxからなる群から選択される、請求項6ないし8のいずれか一項に記載の透明体。
- 前記透明導電膜が、20nm以上、特に、50nmから150nmの厚さを有する、請求項6ないし9のいずれか一項に記載の透明体。
- 前記透明導電膜がインジウムスズ酸化物(ITO)を含む、請求項6ないし10のいずれか一項に記載の透明体。
- 前記透明接着剤が、光透過性接着剤ラミネートまたは液体光透過性接着剤である、請求項6ないし11のいずれか一項に記載の透明体。
- 前記透明接着剤が1.3から1.7の屈折率を有する、請求項6ないし12のいずれか一項に記載の透明体。
- タッチスクリーンパネルで使用される透明体(10)を製作するための堆積装置(600)であって、前記堆積装置は、
第1の透明層スタック(12)を基板(14)の上に堆積させるように構成された第1の堆積アセンブリ(622)であり、前記第1の透明層スタック(12)が、第1の屈折率をもつ少なくとも第1の誘電体膜(16)、および前記第1の屈折率と異なる第2の屈折率をもつ第2の誘電体膜(18)を含む、第1の堆積アセンブリ(622)と、
透明導電膜(22)を堆積させるように構成された第2の堆積アセンブリ(624)と、
透明導電性接着剤を構造化された前記透明導電膜の上に設ける手段と
を含み、
前記第1の堆積アセンブリ(622)および前記第2の堆積アセンブリ(624)は、前記第1の透明層スタック(12)および前記透明導電膜(22)がこの順序で前記基板(14)の上に配置されるように配列され、前記第1の堆積アセンブリ(622)または前記第2の堆積アセンブリのうちの少なくとも1つが、ターゲットに動作可能に結合されたスパッタリングシステムを含み、前記スパッタリングシステムが、前記ターゲットのスパッタリングによって、前記第1の誘電体膜(16)、前記第2の誘電体膜(18)、または前記透明導電膜(22)のうちの少なくとも1つを堆積させるように構成される、装置。 - 前記第1の堆積アセンブリ(6222)および前記第2の堆積アセンブリ(624)が、前記第1の透明スタック(12)および前記透明導電膜(22)を、マグネトロンスパッタリング、一般に、回転可能なターゲットからのマグネトロンスパッタリングによって堆積させるように構成される、請求項14に記載の装置。
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