JP2015230195A - Charged particle beam device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、荷電粒子線装置に係り、特に、試料に対する荷電粒子ビームの照射に基づいて得られる荷電粒子を検出する検出器を備えた荷電粒子線装置に関する。 The present invention relates to a charged particle beam apparatus, and more particularly to a charged particle beam apparatus including a detector that detects charged particles obtained based on irradiation of a charged particle beam onto a sample.
試料に電子ビーム等の荷電粒子ビームを照射することによって得られる荷電粒子を検出する荷電粒子線装置には、荷電粒子を検出するための検出器が備えられている。例えば電子ビームを試料に走査することによって、試料から放出された電子を検出する場合、電子検出器に１０ｋＶ程度の正電圧を印加することによって、電子を検出器のシンチレータに導く。電子の衝突によってシンチレータにて発生した光はライトガイドに導かれ、光電管などの受光素子によって電気信号に変換され、画像信号や波形信号となる。 A charged particle beam apparatus for detecting charged particles obtained by irradiating a sample with a charged particle beam such as an electron beam is provided with a detector for detecting charged particles. For example, when electrons emitted from a sample are detected by scanning the sample with an electron beam, a positive voltage of about 10 kV is applied to the electron detector to guide the electrons to the scintillator of the detector. The light generated in the scintillator by the collision of electrons is guided to the light guide, converted into an electric signal by a light receiving element such as a photoelectric tube, and becomes an image signal or a waveform signal.
特許文献１には、蛍光に対して透明な基板と、当該基板の一方の面に形成され、電子の入射により蛍光を発する量子井戸構造を有する窒化物半導体層を備えた検出器が開示されている。また、特許文献２には、有機ＥＬ素子の発光部に対向して配置される透明基板に複数の突起を設けることが説明されている。 Patent Document 1 discloses a detector that includes a substrate transparent to fluorescence and a nitride semiconductor layer that is formed on one surface of the substrate and has a quantum well structure that emits fluorescence upon incidence of electrons. Yes. Patent Document 2 describes that a plurality of protrusions are provided on a transparent substrate that is disposed to face a light emitting portion of an organic EL element.
特許文献１に開示されているような検出器の発光素子によれば、電子の入射によって発生する光を比較的高い応答速度で検出することができる。一方、上述したように、検出対象となる電子は１０ｋｅＶ程度に加速されているため、発行素子の入射面から相応の深さまで電子が侵入する。また、この侵入深さは一定ではなく拡がりを持っている。異なる深さに到達した電子によって蛍光が発生する場合、蛍光を取り出すための基板側からみると、種々の方向から基板に向かって蛍光が入射することになる。複数の方向から入射する蛍光を、損失を抑制しつつ、取り込むことは困難である。特許文献１には、基板に対して複数の方向から入射する蛍光を、損失を低減しつつ、取り込む構成については何等論じられていない。また、特許文献２にも、１０ｋｅＶ程度の加速エネルギーを持って入射する電子が生じさせる蛍光を高効率に取り込む構成については何等論じられていない。 According to the light emitting element of the detector as disclosed in Patent Document 1, it is possible to detect light generated by the incidence of electrons at a relatively high response speed. On the other hand, as described above, since the electrons to be detected are accelerated to about 10 keV, the electrons enter from the incident surface of the issuing element to a suitable depth. Moreover, the penetration depth is not constant but has a spread. When fluorescence is generated by electrons reaching different depths, the fluorescence enters the substrate from various directions when viewed from the substrate side for extracting the fluorescence. It is difficult to capture fluorescence incident from a plurality of directions while suppressing loss. Patent Document 1 does not discuss anything about a configuration that captures fluorescence incident on a substrate from a plurality of directions while reducing loss. Also, Patent Document 2 does not discuss anything about a configuration that efficiently captures fluorescence generated by incident electrons having an acceleration energy of about 10 keV.
以下に、高加速で入射する電子に基づいて発生する蛍光を、損失を抑制しつつ、高効率に検出することを目的とする荷電粒子線装置を提案する。 In the following, a charged particle beam apparatus is proposed that aims to detect fluorescence generated based on electrons incident at high acceleration with high efficiency while suppressing loss.
上記目的を達成するための一態様として、荷電粒子ビームの照射に基づいて得られる荷電粒子を検出する検出器を備えた荷電粒子線装置であって、前記検出器は、基板と、当該基板上に形成され、ＧａＩｎＮを含む第１の層と、ＧａＮを含む第２の層が複数、且つ交互に積層された発光層とを備え、前記基板の前記発光層に対向する面には、複数の突起が形成される荷電粒子線装置を提案する。 As one aspect for achieving the above object, there is provided a charged particle beam apparatus including a detector that detects charged particles obtained based on irradiation of a charged particle beam, the detector including a substrate and the substrate. Formed on the surface of the substrate facing the light emitting layer, and a plurality of second layers containing GaN and alternately stacked a plurality of second layers containing GaN. A charged particle beam apparatus in which protrusions are formed is proposed.
上記構成によれば、高加速で入射する電子に基づいて発生する蛍光を、損失を抑制しつつ、高効率に検出することが可能となる。 According to the above configuration, it is possible to detect fluorescence generated based on electrons incident at high acceleration with high efficiency while suppressing loss.
以下に説明する実施例では、荷電粒子線装置の一例として主に電子線を照射することによって得られる電子を検出する電子顕微鏡を例にとって説明する。電子顕微鏡は、電子ビームを走査、或いは投射することによって、試料から放出される電子、或いは放出された電子が、他部材に衝突することによって発生する電子を検出することによって、画像信号や波形信号を生成する装置である。例えば、走査電子顕微鏡は、電子ビームを試料に走査することによって、試料から放出される電子等を検出し、当該電子の検出量に応じた輝度信号を走査信号に同期させることによって、画像信号化、或いは波形信号化する装置である。このような装置に内蔵された検出器では、電子を検出するための素子として、電子の入射により発光するシンチレータと呼ばれる物質を用いる。電子の入射による発光を導くライトガイドを介し、光電管などの受光素子で電気信号に変換し、画像情報として表示する。 In the embodiments described below, an electron microscope that detects electrons obtained mainly by irradiating an electron beam will be described as an example of a charged particle beam apparatus. An electron microscope scans or projects an electron beam, detects an electron emitted from a sample, or an electron generated when the emitted electron collides with another member. Is a device that generates For example, a scanning electron microscope detects an electron emitted from a sample by scanning the sample with an electron beam, and generates an image signal by synchronizing a luminance signal corresponding to the detected amount of the electron with the scanning signal. Alternatively, it is a device for converting a waveform signal. In a detector built in such a device, a substance called a scintillator that emits light by the incidence of electrons is used as an element for detecting electrons. It is converted into an electric signal by a light receiving element such as a phototube through a light guide that guides light emission by the incidence of electrons, and is displayed as image information.
近年、電子顕微鏡を用いた測定や検査には、更なる高精細化、低ノイズ化、スループット向上などが要求されている。このような要求に応えるためには、検出器による電子の検出時間の短縮化と、検出器の検出面の検出面積の小型化を行う必要がある。このような相反する要求を満たすためには、を向上させる必要がある。また、シンチレータの応答速度を早くすることが必要である。 In recent years, measurements and inspections using an electron microscope are required to have higher definition, lower noise, improved throughput, and the like. In order to meet such a demand, it is necessary to shorten the detection time of electrons by the detector and to reduce the detection area of the detection surface of the detector. In order to satisfy such conflicting demands, it is necessary to improve. It is also necessary to increase the response speed of the scintillator.
また、測長ＳＥＭ（Ｃｒｉｔｉｃａｌ Ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ−Ｓｃａｎｎｉｎｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：ＣＤ−ＳＥＭ）のような高精度で対象物の寸法を計測する装置では、電子ビームの照射により試料がチャージアップすると、像がゆがみ測長精度が低下する場合がある。電子線のスキャン速度を早くし、１画面を表示するためにかかる時間を短くすることで、チャージアップを低減することができる。そのためには、さらに応答速度が早く、かつ高感度のシンチレータが必要である。 Further, in a device that measures the size of an object with high accuracy, such as a critical dimension scanning electron microscope (CD-SEM), if the sample is charged up by irradiation with an electron beam, the image is distorted and the measurement accuracy is high. May decrease. Charge-up can be reduced by increasing the scanning speed of the electron beam and shortening the time required to display one screen. For this purpose, a scintillator with a higher response speed and higher sensitivity is required.
一方、応答速度を速めるためには、発光層を厚くするように、発光層の多層化を行うことが望ましい。しかしながら、多層化によって厚くなった発光層の厚み方向の異なる位置で蛍光が発生することになり、結果として応答速度を高めることができる。しかしながら、このように異なる位置で蛍光が発生すると、同じ位置で蛍光が発生する場合と比較して、発光層と、発光層にて発生した蛍光を導くためのライトガイドとの間の界面で、界面反射する蛍光の量が増大する。これにより、発光の多くが発光層に閉じ込められる。 On the other hand, in order to increase the response speed, it is desirable to make the light emitting layer multilayer so as to increase the thickness of the light emitting layer. However, fluorescence is generated at different positions in the thickness direction of the light emitting layer that is thickened due to the multilayering, and as a result, the response speed can be increased. However, when fluorescence is generated at different positions in this way, compared to the case where fluorescence is generated at the same position, at the interface between the light emitting layer and the light guide for guiding the fluorescence generated at the light emitting layer, The amount of fluorescence reflected at the interface increases. Thereby, most of the light emission is confined in the light emitting layer.
発光層の多層化により信号量を増大させることができても、界面反射により十分に信号を取り出すことができなければ、信号量増大の効果は限定的なものとなる。また、界面反射を抑制するために、シンチレータと受光素子の間に、シンチレータより小さい屈折率を持つ樹脂や空気層を介在させることも考えられるが、種々の方向から入射する蛍光の界面反射を包括的に抑制することは難しく、更に挿入される膜質に応じて発光出力が変化するため、やはり積層化による信号量増大の効果は限定的なものとなる。 Even if the signal amount can be increased by making the light emitting layer multi-layered, the effect of increasing the signal amount is limited if the signal cannot be sufficiently extracted by the interface reflection. In order to suppress interfacial reflection, a resin or air layer having a refractive index smaller than that of the scintillator may be interposed between the scintillator and the light receiving element, but the interface reflection of fluorescence incident from various directions is included. In addition, since the light emission output changes depending on the quality of the inserted film, the effect of increasing the signal amount by the lamination is also limited.
以下に説明する実施例は、応答が高速なシンチレータの発光を外部に効率よく取り出し受光素子に入射させることにより、シンチレータの出力を大幅に増やし、優れた特性を実現した放射線検出器に関するものである。 The embodiment described below relates to a radiation detector that achieves excellent characteristics by greatly increasing the output of the scintillator by efficiently extracting the light emitted from the scintillator having a high response speed to the outside and making it incident on the light receiving element. .
以下に説明する実施例では主に、検出器において、荷電粒子線入射により発光する発光部を有し、前記発光部はＧａ1-x-yＡｌxＩｎyＮ（０≦ｘ＜１, ０≦ｙ＜１）を含む材料により構成され、さらに、前記発光部と基板部の間、もしくは基板部の表面の少なくとも一方（基板部の発光層に対向する側の面）に、連続的に形成された構造ピッチ１０〜２０００ｎｍかつ構造高さ１〜２００００ｎｍの突起状構造が連続的に形成されている構成とする。また、荷電粒子検出器にそのような構成のシンチレータを用いる。 In the embodiment described below, the detector mainly includes a light emitting portion that emits light by incident charged particle beam, and the light emitting portion is Ga 1-xy Al x In y N (0 ≦ x <1, 0 ≦ y <1) and further formed continuously between the light emitting portion and the substrate portion, or at least one of the surfaces of the substrate portion (surface facing the light emitting layer of the substrate portion). A projecting structure having a structure pitch of 10 to 2000 nm and a structure height of 1 to 20000 nm is continuously formed. Further, the scintillator having such a configuration is used for the charged particle detector.
また、前記発光部はＧａ1-x-yＡｌxＩｎyＮ（０≦ｘ＜１, ０≦ｙ＜１）を含む材料による層（第１の層）、及びＧａＮによる層（第２の層）が交互に積層された構造により構成されており、交互に積層された各層の厚さは１５ｎｍ以上であり、交互に積層された層の数は２０層以上であり、交互に積層された層全体の厚さは３００ｎｍ以上である構成とすることでさらに良好な効果が得られる。 In addition, the light emitting portion includes a layer made of a material containing Ga 1 -xy Al x In y N (0 ≦ x <1, 0 ≦ y <1) (first layer), and a layer made of GaN (second layer). Are alternately stacked, the thickness of each alternately stacked layer is 15 nm or more, the number of alternately stacked layers is 20 or more, and the entire alternately stacked layers A better effect can be obtained by adopting a structure in which the thickness of the film is 300 nm or more.
また、前記した、交互に積層されたＧａ1-x-yＡｌxＩｎyＮ（０≦ｘ＜１, ０≦ｙ＜１）の各層におけるＩｎ組成ｙが０．１以上である構成とすることでさらに良好な効果が得られる。 Further, the In composition y in each layer of Ga 1-xy Al x In y N (0 ≦ x <1, 0 ≦ y <1) stacked alternately is set to be 0.1 or more. Further good effects can be obtained.
また、前記発光部に、発光材料と屈折率の異なる基板が用いられていた場合、上記突起状構造が、前記発光部と基板部の間、及び基板部の表面の両者に形成されている場合にはさらに良好な効果が得られる。 Further, when a substrate having a refractive index different from that of the light emitting material is used for the light emitting portion, the protruding structure is formed between the light emitting portion and the substrate portion and on the surface of the substrate portion. A better effect can be obtained.
上記構成によれば、シンチレータにおいて、シンチレータからの光が出力される界面でシンチレータ内に閉じ込められる光を効率よく取り出すことができ、発光出力を大幅に増加することができる。かかる構成によれば、応答が高速なシンチレータよりの発光を、損失を少なく受光素子に入射できるため、高速応答かつ高感度な検出器とすることができ、そのため、チャージアップが少なく高精度な評価が可能な荷電粒子線装置を提供できる。 According to the above configuration, in the scintillator, the light confined in the scintillator can be efficiently extracted at the interface where the light from the scintillator is output, and the light emission output can be greatly increased. According to such a configuration, light emitted from the scintillator having a high response speed can be incident on the light receiving element with little loss, so that a high-speed response and high sensitivity detector can be obtained. It is possible to provide a charged particle beam apparatus capable of
以下、図面等を用いて、荷電粒子線装置、及び当該荷電粒子線装置に用いられる検出器の具体的構成について説明する。以下の説明は、主に検出器の一具体例を示すものであり、発明がこれらの実施形態に限定されるものではなく、本明細書に開示される技術的思想の範囲内において当業者による様々な変更および修正が可能である。また、実施形態を説明するための全図において、同一の機能を有するものは、同一の符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。 Hereinafter, specific configurations of the charged particle beam device and a detector used in the charged particle beam device will be described with reference to the drawings. The following description mainly shows one specific example of the detector, and the present invention is not limited to these embodiments, but by those skilled in the art within the scope of the technical idea disclosed in this specification. Various changes and modifications are possible. Further, in all the drawings for explaining the embodiments, the same reference numerals are given to those having the same function, and the repeated explanation thereof is omitted.
本実施例は、荷電粒子線を試料に照射し、試料から発生する二次電子や反射電子等の二次粒子を検出することで試料の画像を得る装置に関する。以下、電子顕微鏡、特に走査電子顕微鏡の例について説明するが、これに限られることなく、例えば電子線の代わりにイオンビームを用いた走査イオン顕微鏡などの装置においても適用可能である。また、走査電子顕微鏡を用いた半導体パターンの計測装置、検査装置、観察装置等にも適用可能である。 The present embodiment relates to an apparatus for obtaining an image of a sample by irradiating a sample with a charged particle beam and detecting secondary particles such as secondary electrons and reflected electrons generated from the sample. Hereinafter, an example of an electron microscope, particularly a scanning electron microscope will be described. However, the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to an apparatus such as a scanning ion microscope using an ion beam instead of an electron beam. The present invention is also applicable to a semiconductor pattern measuring device, inspection device, observation device, etc. using a scanning electron microscope.
本明細書でのシンチレータとは、荷電粒子線を入射して発光する素子を指すものとする。本明細書におけるシンチレータは、実施例に示されたものに限定されず、様々な形状や構造をとることができる。 The scintillator in the present specification refers to an element that emits light upon entering a charged particle beam. The scintillators in this specification are not limited to those shown in the embodiments, and can take various shapes and structures.
図１は、電子顕微鏡の基本となる構成である。電子源９よりの一次電子線１２が試料８に照射され、二次電子や反射電子等の二次粒子１４が放出される。この二次粒子１４を引き込み、シンチレータＳに入射させる。シンチレータＳに二次粒子１４が入射するとシンチレータＳで発光が起こる。シンチレータＳの発光は、ライトガイド１１により導光され、受光素子７で電気信号に変換する。以下、シンチレータＳ、ライトガイド１１、受光素子７を合わせて検出系と呼ぶこともある。 FIG. 1 shows a basic configuration of an electron microscope. The primary electron beam 12 from the electron source 9 is irradiated onto the sample 8 and secondary particles 14 such as secondary electrons and reflected electrons are emitted. The secondary particles 14 are drawn into the scintillator S. When the secondary particles 14 enter the scintillator S, the scintillator S emits light. The light emitted from the scintillator S is guided by the light guide 11 and converted into an electric signal by the light receiving element 7. Hereinafter, the scintillator S, the light guide 11 and the light receiving element 7 may be collectively referred to as a detection system.
受光素子７で得られた信号を電子線照射位置と対応付けて画像に変換し表示する。一次電子線１２を試料に集束して照射するための電子光学系、すなわち偏向器やレンズ、絞り、対物レンズ等は図示を省略している。電子光学系は電子光学鏡筒１０に設置されている。また、試料８は試料ステージに載置されることで移動可能な状態となっており、試料８と試料ステージは試料室１３に配置される。試料室６は、一般的には電子線照射の時には真空状態に保たれている。また、電子顕微鏡には図示しないが全体および各部品の動作を制御する制御部や、画像を表示する表示部、ユーザが電子顕微鏡の動作指示を入力する入力部等が接続されている。 The signal obtained by the light receiving element 7 is converted into an image in association with the electron beam irradiation position and displayed. An electron optical system for focusing and irradiating the sample with the primary electron beam 12, that is, a deflector, a lens, a diaphragm, an objective lens, and the like are not shown. The electron optical system is installed in the electron optical column 10. In addition, the sample 8 is movable by being placed on the sample stage, and the sample 8 and the sample stage are arranged in the sample chamber 13. The sample chamber 6 is generally kept in a vacuum state during electron beam irradiation. Although not shown, the electron microscope is connected with a control unit that controls the operation of the whole and each component, a display unit that displays an image, an input unit through which a user inputs an operation instruction for the electron microscope, and the like.
この電子顕微鏡は構成の一つの例であり、シンチレータ、ライトガイド、受光素子を備えた電子顕微鏡であれば、本発明は他の構成でも適用が可能である。また、二次粒子７には、透過電子、走査透過電子等も含まれる。また、簡単のため、検出器は１つのみ示しているが、反射電子検出用検出器と二次電子検出用検出器を別々に設けてもよいし、方位角または仰角を弁別して検出するために複数の検出器を備えていてもよい。 This electron microscope is an example of the configuration, and the present invention can be applied to other configurations as long as the electron microscope includes a scintillator, a light guide, and a light receiving element. Further, the secondary particles 7 include transmission electrons, scanning transmission electrons, and the like. For simplicity, only one detector is shown, but a backscattered electron detection detector and a secondary electron detection detector may be provided separately, or the azimuth or elevation angle is discriminated and detected. A plurality of detectors may be provided.
図１に例示する検出器のシンチレータＳには、例えば１０ｋＶ程度の正電圧が印加されており、二次粒子１４は、接地電位の電極１５との電位差によって生ずる電界によって、１０ｋｅＶに加速されて、シンチレータＳに衝突する。シンチレータＳの具体的な構成として、Ｇａ1-x-yＡｌxＩｎyＮ (但し０≦ｘ＜１、０≦ｙ＜１)で表される組成よりの発光を用いるシンチレータを用いた例を説明する。図２に構造の一例を示す。構造及び作製方法の例は、サファイア基板上にＧａＮバッファ層を成長させ、その上にＧａ1-x-yＡｌxＩｎyＮの層を、組成を変えて多数の層を成長させ、さらにその上にキャップ層としてＧａＮの層を成長させた構造が使用可能である。仕様の例としては、基板は２〜６インチφの円盤状もしくはこれから切り出した形状であり、バッファ層の厚さは１〜１０μｍの範囲の厚さであり、多層構造はＧａＩｎＮとＧａＮが交互に６周期〜３０周期の範囲で重なったものであり、その厚さは２０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であり、キャップ層の厚さが１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲のものなどが使用可能である。さらに、この構造上に、Ａｌの薄膜を４０〜８０ｎｍの厚さの範囲で蒸着により形成し、電子入射時の帯電防止としたものが使用可能である。 For example, a positive voltage of about 10 kV is applied to the scintillator S of the detector illustrated in FIG. 1, and the secondary particles 14 are accelerated to 10 keV by an electric field generated by a potential difference with the ground potential electrode 15. Colliding with scintillator S. As a specific configuration of the scintillator S, an example using a scintillator using light emission from a composition represented by Ga 1-xy Al x In y N (where 0 ≦ x <1, 0 ≦ y <1) will be described. . FIG. 2 shows an example of the structure. An example of the structure and the fabrication method is to grow a GaN buffer layer on a sapphire substrate, to grow a Ga 1-xy Al x In y N layer on the sapphire substrate, and to grow a number of layers with different compositions, and further on it A structure in which a GaN layer is grown as the cap layer can be used. As an example of the specification, the substrate has a disk shape of 2 to 6 inches φ or a shape cut out from the disk, the thickness of the buffer layer is in the range of 1 to 10 μm, and the multilayer structure is alternately GaInN and GaN. The layers overlap each other in the range of 6 to 30 cycles, the thickness thereof is in the range of 20 nm to 500 nm, and the cap layer having the thickness in the range of 10 nm to 100 nm can be used. Further, it is possible to use a structure in which an Al thin film is formed on this structure by vapor deposition in a thickness range of 40 to 80 nm to prevent charging at the time of electron incidence.
放射線検出器における受光素子としては、シリコンフォトダイオードやＧａＡｓＰフォトダイオード、Ｇｅフォトダイオードを用いることができる。また、光電子増倍管を使用することができる。シンチレータ材により発光中心波長が異なるので、発光中心波長近傍で高感度な受光素子を選定することが良い。 As a light receiving element in the radiation detector, a silicon photodiode, a GaAsP photodiode, or a Ge photodiode can be used. Moreover, a photomultiplier tube can be used. Since the emission center wavelength differs depending on the scintillator material, it is preferable to select a light receiving element having high sensitivity near the emission center wavelength.
シンチレータ素子と受光素子の間は、樹脂等で密着させた構造が可能である。また、シンチレータの発光の少なくとも一部を透過する材料で作成したライトガイドを介して、受光素子に発光を導光する構造が可能である。ライトガイドの例としては、材質はアクリル樹脂や、石英ガラス等であり、形状は、長さが５〜２０ｃｍの範囲で、直径が１０φ及び２０φの円筒状のものであるものが使用可能である。 A structure in which the scintillator element and the light receiving element are in close contact with a resin or the like is possible. In addition, a structure in which light emission is guided to the light receiving element through a light guide made of a material that transmits at least part of the light emission of the scintillator is possible. As an example of the light guide, the material is acrylic resin, quartz glass or the like, and the shape can be a cylindrical one having a length of 5 to 20 cm and a diameter of 10φ and 20φ. .
実施例１のシンチレータについて以下説明する。図４は実施例１のシンチレータＳを示す模式図である。シンチレータ発光部１の材料はＧａＮを含む量子井戸層による発光素子を用いる。 The scintillator of Example 1 will be described below. FIG. 4 is a schematic diagram illustrating the scintillator S of the first embodiment. The material of the scintillator light emitting unit 1 is a light emitting element having a quantum well layer containing GaN.
実施例１のシンチレータ発光部１の構造及び作製方法として、サファイア基板上にＧａＮバッファ層を成長させ、その上にＧａ1-x-yＡｌxＩｎyＮ(但し０≦ｘ＜１、０≦ｙ＜１)の層を、組成を変えて多数の層を成長させ、さらにその上にキャップ層としてＧａＮの層を成長させた。 As the structure and manufacturing method of the scintillator light emitting section 1 of Example 1, a GaN buffer layer is grown on a sapphire substrate, and Ga 1 -xy Al x In y N (where 0 ≦ x <1, 0 ≦ y < A number of layers were grown for the layer 1) by changing the composition, and a GaN layer was further grown thereon as a cap layer.
サファイヤ基板は２インチφの円盤状であり、バッファ層の厚さは１〜１０μｍの範囲の厚さであり、多層構造はＧａＩｎＮとＧａＮが交互に６周期〜３０周期の範囲で重なったものであり、その厚さは２０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であり、キャップ層の厚さが１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲とした。さらに、この構造上に、Ａｌの薄膜を４０〜８０ｎｍの厚さの範囲で蒸着により形成し、電子入射時の帯電防止とした。これから所定のサイズに切り出したものをシンチレータとして用いた。実施例１での発光スペクトルの一例を図３に示す。 The sapphire substrate has a disk shape of 2 inches φ, the thickness of the buffer layer is in the range of 1 to 10 μm, and the multilayer structure is such that GaInN and GaN are alternately overlapped in the range of 6 to 30 cycles. The thickness is in the range of 20 nm to 500 nm, and the thickness of the cap layer is in the range of 10 nm to 100 nm. Further, on this structure, an Al thin film was formed by vapor deposition in a thickness range of 40 to 80 nm to prevent charging at the time of electron incidence. What was cut out to a predetermined size was used as a scintillator. An example of the emission spectrum in Example 1 is shown in FIG.
シンチレータ発光部１表面、すなわち、上記サファイア基板表面に、構造ピッチ１０〜１０００ｎｍかつ構造高さ１０〜１００００ｎｍの突起状構造５が連続的に形成されている。ここでは、ピッチを３００〜５００ｎｍ、構造高さを３００〜５００ｎｍとした。 Protruding structures 5 having a structure pitch of 10 to 1000 nm and a structure height of 10 to 10000 nm are continuously formed on the surface of the scintillator light emitting unit 1, that is, the surface of the sapphire substrate. Here, the pitch was set to 300 to 500 nm, and the structure height was set to 300 to 500 nm.
実施例１の原理を以下に記す。本発明のシンチレータ材料は屈折率が高く、ＧａＮの屈折率は２．３程度である。また、サファイア基板の屈折率は１．８程度である。シンチレータを用いた検出器は、このような高屈折率の発光を効率的に取出し、受光素子に入射させる必要がある。通常、受光素子の表面は、ガラスや樹脂で覆われており、屈折率は一般的に１．５前後である。また、空気や真空の屈折率はほぼ1である。 The principle of Example 1 is described below. The scintillator material of the present invention has a high refractive index, and the refractive index of GaN is about 2.3. The refractive index of the sapphire substrate is about 1.8. A detector using a scintillator needs to efficiently take out light having such a high refractive index and make it incident on a light receiving element. Usually, the surface of the light receiving element is covered with glass or resin, and the refractive index is generally around 1.5. Also, the refractive index of air or vacuum is almost 1.
シンチレータの発光は、シンチレータ材料からガラス、樹脂、空気中、または真空中などに取り出され、受光素子に入射する。このとき、光は高い屈折率の材料からそれより低い屈折率の材料に取り出されるが、このような場合は、一定以上の角度の光では全反射が生じて取り出せない。例えば屈折率２．３のＧａＮから屈折率１．８のサファイア基板へ光を取り出す場合には、半分以上の光が全反射され取り出せない。また、屈折率１．８のサファイア基板から空気中に取り出す場合は、３３°程度以上の角度でサファイア基板から空気中へ出ようとする光は、全て全反射となり取り出せない。これを全周で積分すると、取り出せずに全反射する光は全体の９０%程度となり、ほとんどの光は取り出せずに内部に閉じ込められる。 Light emitted from the scintillator is extracted from the scintillator material into glass, resin, air, or vacuum, and is incident on the light receiving element. At this time, light is extracted from a material having a high refractive index to a material having a lower refractive index. In such a case, light having a certain angle or more is totally reflected and cannot be extracted. For example, when light is extracted from GaN having a refractive index of 2.3 to a sapphire substrate having a refractive index of 1.8, more than half of the light is totally reflected and cannot be extracted. Further, when taking out from the sapphire substrate having a refractive index of 1.8 into the air, all the light that goes out of the sapphire substrate into the air at an angle of about 33 ° or more is totally reflected and cannot be taken out. When this is integrated over the entire circumference, the total reflected light without being extracted is about 90% of the total, and most of the light is confined inside without being extracted.
実施例1の所定のサイズで形成した突起状構造は、通常のシンチレータによる発光の波長には、連続的に屈折率が変化した層としての効果を持つ。そのため、急峻な屈折率を持つ界面がなくなり、反射を大幅に低減する。また、光を回折させ、角度を変化させる働きを持つ。そのため、全反射による光の閉じ込めを低減することができる。これらにより、サファイア基板へ取り出される光量が増加し、さらに空気中への光量も増加し、受光素子７への発光出力も増加する。 The projecting structure formed with a predetermined size in Example 1 has an effect as a layer whose refractive index continuously changes at the wavelength of light emitted by a normal scintillator. Therefore, there is no interface having a steep refractive index, and reflection is greatly reduced. It also has the function of diffracting light and changing the angle. Therefore, light confinement due to total reflection can be reduced. As a result, the amount of light extracted to the sapphire substrate increases, the amount of light into the air also increases, and the light emission output to the light receiving element 7 also increases.
上記効果のためには、構造を発光波長に対して適切なサイズとすることが必要である。本実施例では、シンチレータの発光は３５０ｎｍ〜１０００ｎｍ程度の波長を想定している。検討により、この波長範囲では、図７に示す構造ピッチサイズの場合に、回折が生じた。さらに、斜線をかけた範囲での構造ピッチサイズでは、広い角度範囲で回折が生じ、良好な結果が得られた。すなわち、構造ピッチが１０〜２０００ｎｍの範囲とした場合に、望ましい特性が得られる。 For the above effect, it is necessary to make the structure an appropriate size with respect to the emission wavelength. In this embodiment, the scintillator emits light of a wavelength of about 350 nm to 1000 nm. By examination, diffraction occurred in this wavelength range in the case of the structure pitch size shown in FIG. Furthermore, in the structure pitch size in the hatched range, diffraction occurred in a wide angle range, and good results were obtained. That is, desirable characteristics can be obtained when the structural pitch is in the range of 10 to 2000 nm.
また、構造高さは、回折効果が十分生じる高さであり、また、屈折率変化をなだらかにすることができる高さが必要である。検討により、このような高さは、ピッチの１／１０以上の高さが必要である。また、ピッチの１０倍以下であれば効果は十分である。これより、構造高さは、１〜２００００ｎｍの範囲であれば効果が大きい。 Further, the structure height is a height at which a diffraction effect is sufficiently generated, and a height at which the refractive index change can be made smooth is necessary. By examination, such height needs to be 1/10 or more of the pitch. The effect is sufficient if it is 10 times or less of the pitch. Therefore, the effect is large if the structural height is in the range of 1 to 20000 nm.
このような構造の作製方法の例としては、シンチレータ表面に、適切な開口部を持つマスクを形成し、ドライエッチを行うことで作製が可能である。このようなマスクは、微小な突起を持つ金型による転写や、フォトリソグラフィーや、電子線描画などで作成が可能である。また、このような構造を持つ材料を、シンチレータ表面に接合することでも形成が可能である。作製方法は、前記したものに限らず、上記のような構造の形成が可能であれば、どのような方法を用いてもかまわない。 As an example of a manufacturing method of such a structure, it can be manufactured by forming a mask having an appropriate opening on the surface of the scintillator and performing dry etching. Such a mask can be formed by transfer using a mold having minute protrusions, photolithography, electron beam drawing, or the like. It can also be formed by bonding a material having such a structure to the scintillator surface. The manufacturing method is not limited to the above, and any method may be used as long as the above structure can be formed.
実施例１における光出力の変化を調べた結果、従来例に比べ大幅な光出力の増加が示された。このシンチレータを有する検出器を用いた構成により、高速なスキャンが可能で、ＳＮ比が高い、高精度な荷電粒子線検出器を得た。 As a result of examining the change in the light output in Example 1, a significant increase in the light output was shown as compared with the conventional example. With the configuration using the detector having this scintillator, a high-accuracy charged particle beam detector capable of high-speed scanning and having a high S / N ratio was obtained.
実施例２のシンチレータについて以下説明する。図５は、実施例２のシンチレータＳの模式図である。シンチレータ発光部１の材料はＧａＮを含む量子井戸層による発光素子を用いる。 The scintillator of Embodiment 2 will be described below. FIG. 5 is a schematic diagram of the scintillator S of the second embodiment. The material of the scintillator light emitting unit 1 is a light emitting element having a quantum well layer containing GaN.
シンチレータ発光部１が基板６上に形成されており、基板６の両側の表面に突起状構造５を形成している点が実施例１と異なる。製造方法や概略寸法は実施例１とほぼ同様である。 The scintillator light emitting section 1 is formed on the substrate 6 and differs from the first embodiment in that the protruding structures 5 are formed on the surfaces on both sides of the substrate 6. The manufacturing method and approximate dimensions are substantially the same as those in the first embodiment.
図５において、シンチレータ発光部１が形成されている基板６の両側の表面に構造ピッチ１０〜２０００ｎｍかつ構造高さ１〜２００００ｎｍの突起状構造５が連続的に形成されている。本実施例における構造の一例では、ピッチを３００〜５００ｎｍ、構造高さを３００〜５００ｎｍとした。 実施例２のシンチレータ発光部１の構造及び作製方法として、サファイア基板上にＧａＮバッファ層を成長させ、その上にＧａ1-x-yＡｌxＩｎyＮの層を、組成を変えて多数の層を成長させ、さらにその上にキャップ層としてＧａＮの層を成長させた。 In FIG. 5, protruding structures 5 having a structure pitch of 10 to 2000 nm and a structure height of 1 to 20000 nm are continuously formed on the surfaces on both sides of the substrate 6 on which the scintillator light emitting section 1 is formed. In an example of the structure in the present embodiment, the pitch is set to 300 to 500 nm and the structure height is set to 300 to 500 nm. As the structure and manufacturing method of the scintillator light-emitting unit 1 of Example 2, a GaN buffer layer is grown on a sapphire substrate, a Ga 1-xy Al x In y N layer is formed thereon, and a number of layers are formed by changing the composition. Then, a GaN layer was grown as a cap layer thereon.
サファイア基板は２インチφの円盤状であり、バッファ層の厚さは１〜１０μｍの範囲の厚さであり、多層構造はＧａＩｎＮとＧａＮが交互に６周期〜３０周期の範囲で重なったものであり、その厚さは２０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であり、キャップ層の厚さが１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲とした。さらに、この構造上に、Ａｌの薄膜を４０〜８０ｎｍの厚さの範囲で蒸着により形成し、電子入射時の帯電防止とした。これから所定のサイズに切り出したものをシンチレータとして用いた。 The sapphire substrate has a disk shape of 2 inches φ, the thickness of the buffer layer is in the range of 1 to 10 μm, and the multilayer structure is such that GaInN and GaN are alternately overlapped in the range of 6 to 30 cycles. The thickness is in the range of 20 nm to 500 nm, and the thickness of the cap layer is in the range of 10 nm to 100 nm. Further, on this structure, an Al thin film was formed by vapor deposition in a thickness range of 40 to 80 nm to prevent charging at the time of electron incidence. What was cut out to a predetermined size was used as a scintillator.
実施例２の光出力の変化を調べた結果、実施例１と同様もしくはそれ以上に大幅な光出力の増加が示された。実施例２の原理を以下に記す。基板６に、本実施例の所定サイズで形成した突起状構造は、通常のシンチレータによる発光の波長には、連続的な屈折率変化層としての効果を持つ。そのため、急峻な屈折率を持つ界面がなくなり、反射を大幅に低減する。また、光を回折させ、角度を変化させる働きを持つ。そのため、実施例１のように、全反射による光の閉じ込めを低減することができる。 As a result of investigating the change in the light output of Example 2, it was found that the light output increased significantly as in Example 1 or more. The principle of Example 2 is described below. The protruding structure formed on the substrate 6 with the predetermined size of this embodiment has an effect as a continuous refractive index changing layer for the wavelength of light emitted by a normal scintillator. Therefore, there is no interface having a steep refractive index, and reflection is greatly reduced. It also has the function of diffracting light and changing the angle. Therefore, as in the first embodiment, light confinement due to total reflection can be reduced.
シンチレータ発光部１は基板６の一つの面上に成長しており、基板６より高屈折率である。また、基板６に取り出された発光は、もう一方の面で、樹脂や、空気中や、真空中などの低屈折率の層へ取り出す。そのため、通常は、両方の面で、界面の反射及び全反射による光閉じ込めが生じる。実施例５では、両方の面に上記構造を形成することにより、両方の面での界面反射及び光閉じ込めを低減できる。これらにより、サファイア基板６へ取り出される光量が増加し、さらに低屈折率な層２へ取り出される光量も増加し、発光出力が大幅に増加する。 The scintillator light emitting unit 1 grows on one surface of the substrate 6 and has a higher refractive index than the substrate 6. Further, the emitted light extracted to the substrate 6 is extracted on the other surface to a low refractive index layer such as resin, air or vacuum. Therefore, light confinement usually occurs on both surfaces due to interface reflection and total reflection. In Example 5, by forming the structure on both surfaces, interface reflection and light confinement on both surfaces can be reduced. As a result, the amount of light extracted to the sapphire substrate 6 increases, the amount of light extracted to the low refractive index layer 2 also increases, and the light emission output increases significantly.
このシンチレータを有する検出器を用いた構成により、高速なスキャンが可能で、SN比が高い、高精度な荷電粒子線検出器を得た。 With the configuration using the detector having this scintillator, a highly accurate charged particle beam detector capable of high-speed scanning and having a high SN ratio was obtained.
実施例３のシンチレータＳを有する検出器について以下説明する。図６は実施例３の荷電粒子線検出器Ｄを示す模式図である。シンチレータ発光部１の材料として、ＧａＮを含む量子井戸層による発光素子を用い、かつ、基板６の両側の表面に突起状構造５を形成している点が実施例１と異なる。また、検出器Ｄにおいて、シンチレータＳと受光素子７の接合を、ライトガイド１１を介して行っている。 A detector having the scintillator S of Example 3 will be described below. FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a charged particle beam detector D according to the third embodiment. As a material for the scintillator light-emitting portion 1, a light-emitting element using a quantum well layer containing GaN is used, and the protruding structures 5 are formed on both surfaces of the substrate 6, which is different from the first embodiment. In the detector D, the scintillator S and the light receiving element 7 are joined via the light guide 11.
実施例１のシンチレータの構造及び作製方法として、サファイア基板上にＧａＮバッファ層を成長させ、その上にＧａ1-x-yＡｌxＩｎyＮ(但し０≦ｘ＜１、０≦ｙ＜１)の層を、組成を変えて多数の層を成長させ、さらにその上にキャップ層としてＧａＮの層を成長させた。基板は２インチφの円盤状であり、バッファ層の厚さは１〜１０μｍの範囲の厚さであり、多層構造はＧａＩｎＮとＧａＮが交互に６周期〜３０周期の範囲で重なったものであり、その厚さは２０ｎｍ〜５００ｎｍの範囲であり、キャップ層の厚さが１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲とした。さらに、この構造上に、Ａｌの薄膜を４０〜８０ｎｍの厚さの範囲で蒸着により形成し、電子入射時の帯電防止とした。これから所定のサイズに切り出したものをシンチレータとして用いた。 As the structure and manufacturing method of the scintillator of Example 1, a GaN buffer layer is grown on a sapphire substrate, and Ga 1-xy Al x In y N (where 0 ≦ x <1, 0 ≦ y <1) is formed thereon. A number of layers were grown with different compositions, and a GaN layer was further grown thereon as a cap layer. The substrate is a disk shape of 2 inches φ, the thickness of the buffer layer is in the range of 1 to 10 μm, and the multilayer structure is such that GaInN and GaN are alternately overlapped in the range of 6 to 30 cycles. The thickness was in the range of 20 nm to 500 nm, and the thickness of the cap layer was in the range of 10 nm to 100 nm. Further, on this structure, an Al thin film was formed by vapor deposition in a thickness range of 40 to 80 nm to prevent electrification during electron incidence. What was cut out to a predetermined size was used as a scintillator.
図６では、シンチレータＳと受光素子７を、ライトガイド１１を介して接合している。ここで、ライトガイド１１の材質は、ガラス、石英、もしくはアクリル等の樹脂を用いた。形状は、長さが５〜２０ｃｍの範囲で、直径が１０φの円筒状のものを用いた。 In FIG. 6, the scintillator S and the light receiving element 7 are joined via the light guide 11. Here, the material of the light guide 11 is a resin such as glass, quartz, or acrylic. The shape used was a cylindrical shape having a length of 5 to 20 cm and a diameter of 10φ.
シンチレータ発光部が形成されている基板６の両側の表面に構造ピッチ１０〜２０００ｎｍかつ構造高さ１〜２００００ｎｍの突起状構造５が連続的に形成されている。本実施例における構造の一例では、ピッチを３００〜５００ｎｍ、構造高さを３００〜５００ｎｍとした。また、ライトガイド１１の一端に直接シンチレータＳを接合し、もう一端に受光素子７の受光部を接合し、放射線検出器Ｄを得た。 Protruding structures 5 having a structure pitch of 10 to 2000 nm and a structure height of 1 to 20000 nm are continuously formed on the surfaces on both sides of the substrate 6 on which the scintillator light emitting portions are formed. In an example of the structure in the present embodiment, the pitch is set to 300 to 500 nm and the structure height is set to 300 to 500 nm. Further, the scintillator S was directly joined to one end of the light guide 11, and the light receiving part of the light receiving element 7 was joined to the other end to obtain the radiation detector D.
実施例３における光出力の変化を調べた結果、実施例１と同様もしくはそれ以上に大幅な光出力の増加が示された。この検出器を用いた構成により、高速なスキャンが可能で、ＳＮ比が高い、高精度な荷電粒子線検出器を得た。 As a result of examining the change in the light output in Example 3, the light output was significantly increased as in the case of Example 1 or more. With the configuration using this detector, a highly accurate charged particle beam detector capable of high-speed scanning and having a high S / N ratio was obtained.
図８は、上述の検出器の他の適用例を示す図であり、質量分析装置の一例を示す図である。質量分析装置はイオンを電磁気的作用により質量分離し、測定対象イオンの質量/電荷比を計測する。質量分離部には、ＱＭＳ型、ｉｏｎ ｔｒａｐ型、 時間飛行（ＴＯＦ）型、ＦＴ−ＩＣＲ型、Ｏｒｂｉｔｒａｐ型, それら複合型等があるが、本荷電粒子線装置は、質量分離部にて質量選択されたイオンを、コンバージョンダイノードと呼ばれる変換電極に衝突させ、荷電粒子に変換、発生した荷電粒子をシンチレータにて検出し、発光した光を検出することで信号出力を得る。 FIG. 8 is a diagram illustrating another application example of the above-described detector, and is a diagram illustrating an example of a mass spectrometer. The mass spectrometer separates ions by electromagnetic action and measures the mass / charge ratio of ions to be measured. There are QMS type, ion trap type, time-of-flight (TOF) type, FT-ICR type, Orbitrap type, composite type, etc. for this mass separation unit. The ions are made to collide with a conversion electrode called a conversion dynode, converted into charged particles, the generated charged particles are detected with a scintillator, and the emitted light is detected to obtain a signal output.
１ シンチレータ発光部
２ 低屈折率層
３ 光散乱粒子
４ 微小粒子(発光部表面)
５ 突起状構造
６ 基板
７ 受光素子
８ 試料
９ 電子源
１０ 電子光学鏡筒
１１ ライトガイド
１２ 一次電子線
１３ 試料室
１４ 二次粒子
Ｓ シンチレータ
Ｄ 荷電粒子線検出器
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Scintillator light emission part 2 Low-refractive-index layer 3 Light-scattering particle 4 Fine particle (light emission part surface)
5 Protruding structure 6 Substrate 7 Light-receiving element 8 Sample 9 Electron source 10 Electro-optical column 11 Light guide 12 Primary electron beam 13 Sample chamber 14 Secondary particle S Scintillator D Charged particle beam detector
Claims (8)
前記検出器は、基板と、当該基板上に形成され、Ｇａ１−ｘ−ｙＡｌｘＩｎｙＮ（但し０≦ｘ＜１、０≦ｙ＜１）を含む材料により構成される発光層とを備え、前記基板の前記発光層に対向する面には、複数の突起が形成されることを特徴とする荷電粒子線装置。 In a charged particle beam apparatus having a detector for detecting charged particles obtained based on irradiation of a charged particle beam emitted from a charged particle source,
The detector includes a substrate and a light emitting layer formed on the substrate and made of a material containing Ga1-x-yAlxInyN (where 0 ≦ x <1, 0 ≦ y <1). A charged particle beam device, wherein a plurality of protrusions are formed on a surface facing the light emitting layer.
前記突起は、前記複数の突起間のピッチが、１０〜２０００ｎｍとなるように形成されることを特徴とする荷電粒子線装置。 In claim 1,
The charged particle beam device according to claim 1, wherein the protrusion is formed so that a pitch between the plurality of protrusions is 10 to 2000 nm.
前記突起は、高さが１０〜２００００ｎｍとなるように形成されることを特徴とする荷電粒子線装置。 In claim 1,
The charged particle beam device, wherein the protrusion is formed to have a height of 10 to 20000 nm.
前記突起は、前記複数の突起間のピッチが、１０〜２０００ｎｍとなるように形成されることを特徴とする荷電粒子線装置。 In claim 3,
The charged particle beam device according to claim 1, wherein the protrusion is formed so that a pitch between the plurality of protrusions is 10 to 2000 nm.
前記第１の層、及び前記第２の層は１５ｎｍ以上の厚さを有することを特徴とする荷電粒子線装置。 In claim 1,
The charged particle beam device, wherein the first layer and the second layer have a thickness of 15 nm or more.
前記発光層は、３００ｎｍ以上の厚さを有することを特徴とする荷電粒子線装置。 In claim 1,
The charged particle beam device, wherein the light emitting layer has a thickness of 300 nm or more.
前記発光層は、前記第１の層と前記第２の層からなる２０層以上の積層層であることを特徴とする荷電粒子線装置。 In claim 1,
The charged particle beam device, wherein the light emitting layer is a stacked layer of 20 or more layers including the first layer and the second layer.
前記シンチレータは、基板と、当該基板上に形成され、Ｇａ１−ｘ−ｙＡｌｘＩｎｙＮ（但し０≦ｘ＜１、０≦ｙ＜１）を含む材料により構成される発光層とを備え、前記基板の前記発光層に対向する面には、複数の突起が形成されることを特徴とする荷電粒子検出器。 In a charged particle detector equipped with a scintillator that detects charged particles emitted from an irradiation point of a charged particle beam, or charged particles that are generated when the charged particles collide with other members in the charged particle beam apparatus,
The scintillator includes a substrate and a light emitting layer formed on the substrate and made of a material containing Ga1-x-yAlxInyN (where 0 ≦ x <1, 0 ≦ y <1). A charged particle detector, wherein a plurality of protrusions are formed on a surface facing the light emitting layer.
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