JP2015219508A - 光学積層体、光学積層体の製造方法、画像表示装置及び画像表示装置の干渉縞改善方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】ポリエステルフィルムのような面内に複屈折率を有する光透過性基材上にハードコート層が積層された構成であっても、干渉縞の発生を高度に抑制できる光学積層体を提供する。【解決手段】少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体であって、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材は、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置され、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記アンダーコート層の膜厚をｄ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする光学積層体。［数１］［数２］【選択図】なし
Description
本発明は、光学積層体、光学積層体の製造方法、画像表示装置及び画像表示装置の干渉縞改善方法に関する。
液晶表示装置は、省電力、軽量、薄型等といった特徴を有していることから、従来のＣＲＴディスプレイに替わり、近年急速に普及している。
このような液晶表示装置には液晶セルの画像表示面側に偏光板が配置されており、通常、取扱い時に偏光板の偏光子に傷が付かないように硬度を付与することが要求されることから、偏光板保護フィルムとして、光透過性基材上にハードコート層等を設けたハードコートフィルムを利用することにより、画像表示面に硬度を付与することが一般になされている。
このような液晶表示装置には液晶セルの画像表示面側に偏光板が配置されており、通常、取扱い時に偏光板の偏光子に傷が付かないように硬度を付与することが要求されることから、偏光板保護フィルムとして、光透過性基材上にハードコート層等を設けたハードコートフィルムを利用することにより、画像表示面に硬度を付与することが一般になされている。
従来、このようなハードコートフィルムの光透過性基材として、トリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムが用いられていた。これは、セルロースエステルは、透明性、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない（リタデーション値が低い）ため、入射直線偏光の振動方向を変化させることが極めて少なく、液晶表示装置の表示品質への影響が少ないことや、適度な透水性を有することから、光学積層体を用いてなる偏光板を製造した時に偏光子に残留した水分を、光学積層体を通して乾燥させることができる等の利点に基づくものである。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、耐湿、耐熱性が充分でなく、ハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。また、セルロースエステルは、コスト的にも不利な素材でもあった。
しかしながら、セルロースエステルフィルムは、耐湿、耐熱性が充分でなく、ハードコートフィルムを偏光板保護フィルムとして高温多湿の環境下で使用すると、偏光機能や色相等の偏光板機能を低下させるという欠点があった。また、セルロースエステルは、コスト的にも不利な素材でもあった。
このようなセルロースエステルフィルムの問題点から、透明性、耐熱性、機械強度に優れ、かつ、セルロースエステルフィルムに比べて安価で市場において入手が容易な、あるいは簡易な方法で製造することが可能な汎用性フィルムを光学積層体の光透過性基材として用いることが望まれており、例えば、セルロースエステル代替フィルムとして、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルフィルムを利用する試みがなされている（例えば、特許文献１〜３参照）。
なお、ポリエステルフィルムは、分子鎖中に分極率の大きい芳香族環を持つため固有複屈折が極めて大きく、優れた透明性、耐熱性、機械強度を付与させるための延伸処理による分子鎖の配向に伴って複屈折が発現しやすいという性質を有する。
なお、ポリエステルフィルムは、分子鎖中に分極率の大きい芳香族環を持つため固有複屈折が極めて大きく、優れた透明性、耐熱性、機械強度を付与させるための延伸処理による分子鎖の配向に伴って複屈折が発現しやすいという性質を有する。
ところが、本発明者らの研究によると、セルロースエステルフィルム代替フィルムとしてポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のポリエステルフィルムを用いた光学積層体を、偏光素子上に配置した場合、ポリエステルフィルムの面内の複屈折が発現しやすいという性質により、液晶表示装置に色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」ともいう）が、特に表示画面を斜めから観察したときに生じ、液晶表示装置の表示品質が損なわれてしまうという問題点があることが判明した。
ポリエステルフィルムをセルロースエステルフィルムに代わる光透過性基材の材料として利用する試みとしては、例えば、特許文献４には、２．５から６倍に延伸して充分透明性を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを透明基材として用いた防眩フィルムが記載されている。この防眩フィルムにおいては、レターデーションが１０００以上であれば、正面での色つきは目立たなくなるが、斜め方向での色ムラ（ニジムラ）は解消できないので、全へイズが透過鮮明度の８倍以上となるようにすることでニジムラを解消している。しかしながら、透過鮮明度が低いと視認性が低下してしまうので、特許文献４に記載の防眩フィルムは、ヘイズとして、５．５〜５５％が必要となっている。さらには、上記透過鮮明度とヘイズの関係を満たすために、表面凹凸形状の周期を大きくして、防眩層の正反射率を０．０５〜２％と非常に低い値とするため、防眩層表面にはほとんど平面が存在しないので、ニジムラは解消できても、白ぼけやコントラスト等を含めた画質が劣るという問題が生じてしまうこととなる。
また、特許文献５には、光源として白色発光ダイオードを用い、リタデーションが３０００〜３００００ｎｍの高分子フィルムを偏光板の吸収軸と高分子フィルムの遅相軸とのなす角が４５度となるように配して用いることで、サングラスなどの偏光板を通して画面を観察したとき、観察角度によらず、良好な視認性が確保できることが記載されている。しかしながら、特許文献５における好ましい高分子フィルムであるポリエステルやポリカーボネートフィルムは柔らかく耐擦傷性がないため、高分子フィルム表面にハードコート層を設けないかぎり実用に供し得ないものであった。然るに、高分子フィルムの表面にハードコート層を設けた場合、両者の屈折率の差が大きくなると該屈折率差に起因した干渉縞が生じて画質劣化をきたしてしまう。
ここで、干渉縞とは、透明な薄膜に白色光が当たると、薄膜の表面から反射する光といったん薄膜に入ってその内部に存在する屈折率差を有する界面から反射する光が干渉を起こして、部分的な虹彩状色彩が見られる現象であり、見る方向により強め合う波長が変わるために生じる現象である。この現象は、使用者にとって見づらいばかりか不快な印象を与える場合があり、改善が強く求められる。高分子フィルム（屈折率：Ｎｐ）上に、ハードコート層（屈折率：Ｎｈ）を設けた場合、ＮｐとＮｈに差（屈折率差）がある場合、例えば、ポリエステルフィルムに汎用のハードコート層を積層した場合のように、Ｎｐが１．６４〜１．６８でＮｈが１．５０〜１．５３の場合などに、高分子フィルムとハードコート層との界面での反射光の干渉が起こり、上記屈折率差が大きいほど干渉縞は顕著である。
一方、高分子フィルム（屈折率：Ｎｐ）及びハードコート層（屈折率：Ｎｈ）の屈折率をできるだけ揃える（以下、干渉縞解消法１ともいう）ことによって干渉縞が解消できることが知られている。更には、高分子フィルムとハードコート層の間に中間層（例えば、密着性向上のためのプライマー層）を設けることがあるが、その際、中間層の屈折率を、高分子フィルムの屈折率（Ｎｐ）とハードコート層の屈折率（Ｎｈ）との中間の屈折率とすることにより（以下、干渉縞解消法２ともいう）、干渉縞を抑制する技術も知られている（例えば、特許文献６、７等参照）。なお、高分子フィルムの屈折率（Ｎｐ）とハードコート層の屈折率（Ｎｈ）との中間の屈折率（Ｎｐｈ）は、理論的には下記数式により算出される。
すなわち、特許文献５に記載の発明においても、干渉縞を防止するには、上記干渉縞解消法１に基づいてハードコート層を設けたり、上記干渉縞解消法２に基づいて中間層を設けたりする必要があった。
しかしながら、特許文献５においては、高分子フィルムに高いリタデーション値を持たせるため、必然的に高分子フィルムの縦方向と横方向の屈折率（以下それぞれ、Ｎｘ、Ｎｙともいう。ここで、Ｎｐ−Ｎｘ＝Ｎｙ−Ｎｐである）が大きく異なることとなる。そのため、上記干渉縞解消法１に基づいてハードコート層の屈折率Ｎｈを決定することができないし、たとえ、ＮｈをＮｘとＮｙの平均値にしたとしても、縦及び横方向ではそれぞれ｜Ｎｈ−Ｎｘ｜、｜Ｎｈ−Ｎｙ｜の屈折率差が存在することとなるので干渉縞を解消することはできない。また、同様に、縦方向と横方向の屈折率が異なるので、上記干渉縞解消法２に基づいて中間層の屈折率を決定できないし、該中間層を最善の屈折率にしたとしても、必ず干渉縞が生じてしまう。なお、リタデーションは、高分子フィルムの縦横の屈折率差に、該高分子フィルムの膜厚を乗じた値である。昨今、ハードコートフィルム等には薄膜化が求められているため、高分子フィルムの膜厚を増すことは好ましくない。このため、高分子フィルムの膜厚を増せないのであれば、該高分子フィルムのリタデーション値を大きくするには、上述の縦横の屈折率差を大きくしなければならない。すなわち、高分子フィルムのリタデーション値を大きくすればするほど、干渉縞はより大きな問題となるので、特許文献５においては、干渉縞の発生による画質低下の問題を避けることはできないものであった。
このようなポリエステルフィルムを用いた場合の問題に対して、更に検討したところ、光学積層体の光透過性基材として、ある程度高いリタデーション値を有するポリエステルフィルムを用いることで、従来のポリエステルフィルムからなる光透過性基材を備えた光学積層体を用いた場合と比較して、ニジムラの問題を改善できることを見出した。
ところが、このようなある程度高いリタデーション値を有するポリエステルフィルムを光透過性基材として用いた場合、ハードコート層との密着性を担保するためアンダーコート層が必須となるが、このようなハードコート層やアンダーコート層を有する構成の光学積層体では、干渉縞の発生が問題となり画像表示装置の表示品質が著しく損なわれることが判明した。
ところが、このようなある程度高いリタデーション値を有するポリエステルフィルムを光透過性基材として用いた場合、ハードコート層との密着性を担保するためアンダーコート層が必須となるが、このようなハードコート層やアンダーコート層を有する構成の光学積層体では、干渉縞の発生が問題となり画像表示装置の表示品質が著しく損なわれることが判明した。
本発明は、上記現状に鑑み、ポリエステルフィルムのような面内に複屈折率を有する光透過性基材上にハードコート層が積層された構成であっても、干渉縞の発生を高度に抑制できた光学積層体、該光学積層体の製造方法、画像表示装置及び画像表示装置の干渉縞改善方法を提供することを目的とする。
本発明は、少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体であって、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材は、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置され、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記アンダーコート層の膜厚をｄ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする光学積層体である。
本発明の光学積層体は、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸と、上記画像表示装置の表示画面側の偏光板の偏光子の吸収軸とが平行になるように配置されていることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記反射防止層表面の視感度反射率Ｙが０．３％以下であることが好ましい。
また、上記アンダーコート層の膜厚ｄが、上記アンダーコート層の波長６５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ６５０としたとき、下記式（３）を満たすことが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、反射色相値が、色相ａ＊の絶対値が３以上であるか、又は、色相ｂ＊の絶対値が３以上であることが好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記反射防止層表面の視感度反射率Ｙが０．３％以下であることが好ましい。
また、上記アンダーコート層の膜厚ｄが、上記アンダーコート層の波長６５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ６５０としたとき、下記式（３）を満たすことが好ましい。
また、本発明は、少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体の製造方法であって、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材を、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する工程を有し、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記アンダーコート層の膜厚をｄ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする光学積層体の製造方法でもある。
また、本発明は、上記本発明の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
本発明の画像表示装置は、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードの液晶表示装置であることが好ましい。
本発明の画像表示装置は、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードの液晶表示装置であることが好ましい。
また、本発明は、少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体を用いた画像表示装置の干渉縞改善方法であって、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材を、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置し、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記アンダーコート層の膜厚をｄ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする画像表示装置の干渉縞改善方法でもある。
なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体も“樹脂”と記載する。
本発明者らは、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層された構成の光学積層体について、鋭意検討した結果、上記光学積層体を画像表示装置に設置する際に、該光透過性基材の屈折率の小さい方向である進相軸を、画像表示装置の表示画面に対して特定の方向となるようにし、更に、上記光学積層体を構成する各層の屈折率が特定の関係となるようにすることで、干渉縞の発生を高度に抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。
なお、上述のように従来光学積層体として用いられていたトリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムは、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない。このため、該セルロースエステルからなるフィルムを光透過性基材として用いた光学積層体の場合、該光透過性基材の設置方向は考慮する必要がなかった。すなわち、上述した干渉縞の問題は、光学積層体の光透過性基材として、面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いたことにより生じたものである。
ここで、従来、光学積層体の表面に凹凸形状を設けることで、干渉縞の改善を図ることができることが知られているが、このような表面に凹凸形状を有する構造の光学積層体は、白濁感が生じるという問題があり、画像表示装置の表面に設置した場合、鮮明な表示画像を得ることができないという問題があった。
これに対し、本発明の光学積層体によれば、従来の光学積層体表面の凹凸形状による干渉縞改善方法を用いることなく、上述した干渉縞の問題を解決できるので、外光によって白濁感が生じることがなく、鮮明でリアル感が高い動画、静止画を見ることができ、かつ、光学積層体表面に凹凸形状を有さないために、エアギャップ構造を有するタッチパネル等に用いた場合であっても、ギラツキ等の問題が生じることがなく、鮮明な画像を得ることができる。
なお、上述のように従来光学積層体として用いられていたトリアセチルセルロースに代表されるセルロースエステルからなるフィルムは、光学等方性に優れ、面内にほとんど位相差を持たない。このため、該セルロースエステルからなるフィルムを光透過性基材として用いた光学積層体の場合、該光透過性基材の設置方向は考慮する必要がなかった。すなわち、上述した干渉縞の問題は、光学積層体の光透過性基材として、面内に複屈折率を有する光透過性基材を用いたことにより生じたものである。
ここで、従来、光学積層体の表面に凹凸形状を設けることで、干渉縞の改善を図ることができることが知られているが、このような表面に凹凸形状を有する構造の光学積層体は、白濁感が生じるという問題があり、画像表示装置の表面に設置した場合、鮮明な表示画像を得ることができないという問題があった。
これに対し、本発明の光学積層体によれば、従来の光学積層体表面の凹凸形状による干渉縞改善方法を用いることなく、上述した干渉縞の問題を解決できるので、外光によって白濁感が生じることがなく、鮮明でリアル感が高い動画、静止画を見ることができ、かつ、光学積層体表面に凹凸形状を有さないために、エアギャップ構造を有するタッチパネル等に用いた場合であっても、ギラツキ等の問題が生じることがなく、鮮明な画像を得ることができる。
本発明は、少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体である。
本発明の光学積層体は、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸が、上記画像表示装置の表示画面の左右方向と平行に配置される。
ここで、画像表示装置は、通常、室内（明所）に設置し固定された状態で用いられるものであるため、該画像表示装置の表示画面には壁面や床面で反射した光が入射される。本発明者らは、上記壁面や床面で反射し、上記画像表示装置の表示画面に入射する光は、その多くが上記表示画面の左右方向に振動した状態となっていることに着目した。
一方で、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層された光学積層体において、上記アンダーコート層の上下界面における光学干渉により干渉縞の低減を図る場合、面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率とハードコート層の屈折率との差が小さい方がより干渉縞を抑制した設計が可能になる。上記ハードコート層に一般に用いられる樹脂材料の屈折率に対し、面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率の方が高いことが多く、従って、該面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率の小さい方向である進相軸が、上記ハードコート層の屈折率に近いことになる。
このような理由より、面内に複屈折率を有する光透過性基材においては進相軸に合わせて光学設計した場合に干渉縞を低減した設計をしやすい。
これらの室内における画像表示装置の表示画面に入射する外光と、上記構成を有する光学積層体との関係から、本発明の光学積層体を、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示装置の表示画面の左右方向とが平行になるように配置するものとした。
すなわち、本発明の光学積層体は、その用途を画像表示装置の表面に設置するものに限定し、この本発明の光学積層体を設置した画像表示装置は、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸が、上記壁面や床面で反射した光の振動方向に対して平行な方向を向いた状態となっている。このように画像表示装置において、光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸の方向を特定の方向となるように光学積層体を設置してなることで、上記光学積層体は、干渉縞の発生を高度に抑制することができる。
なお、上記「上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸が、上記画像表示装置の表示画面の左右方向と平行に配置される」とは、上記進相軸が、上記表示画面の左右方向に対して０°±１５°の範囲で光学積層体が画像表示装置に配置された状態を意味する。また、上記「画像表示装置の表示画面の左右方向」とは、上記画像表示装置を表示画面が床面に対して垂直となるように設置した場合における該表示画面の上下方向に対して直角方向、すなわち、上記画像表示装置を設置した床面に対して水平な方向を意味する。
上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示装置の表示画面の左右方向とのなす角度は０°±５°であることが好ましく、０°±２°であることがより好ましく、０°であることが更に好ましい。
本発明の光学積層体は、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸が、上記画像表示装置の表示画面の左右方向と平行に配置される。
ここで、画像表示装置は、通常、室内（明所）に設置し固定された状態で用いられるものであるため、該画像表示装置の表示画面には壁面や床面で反射した光が入射される。本発明者らは、上記壁面や床面で反射し、上記画像表示装置の表示画面に入射する光は、その多くが上記表示画面の左右方向に振動した状態となっていることに着目した。
一方で、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層された光学積層体において、上記アンダーコート層の上下界面における光学干渉により干渉縞の低減を図る場合、面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率とハードコート層の屈折率との差が小さい方がより干渉縞を抑制した設計が可能になる。上記ハードコート層に一般に用いられる樹脂材料の屈折率に対し、面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率の方が高いことが多く、従って、該面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率の小さい方向である進相軸が、上記ハードコート層の屈折率に近いことになる。
このような理由より、面内に複屈折率を有する光透過性基材においては進相軸に合わせて光学設計した場合に干渉縞を低減した設計をしやすい。
これらの室内における画像表示装置の表示画面に入射する外光と、上記構成を有する光学積層体との関係から、本発明の光学積層体を、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示装置の表示画面の左右方向とが平行になるように配置するものとした。
すなわち、本発明の光学積層体は、その用途を画像表示装置の表面に設置するものに限定し、この本発明の光学積層体を設置した画像表示装置は、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸が、上記壁面や床面で反射した光の振動方向に対して平行な方向を向いた状態となっている。このように画像表示装置において、光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸の方向を特定の方向となるように光学積層体を設置してなることで、上記光学積層体は、干渉縞の発生を高度に抑制することができる。
なお、上記「上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸が、上記画像表示装置の表示画面の左右方向と平行に配置される」とは、上記進相軸が、上記表示画面の左右方向に対して０°±１５°の範囲で光学積層体が画像表示装置に配置された状態を意味する。また、上記「画像表示装置の表示画面の左右方向」とは、上記画像表示装置を表示画面が床面に対して垂直となるように設置した場合における該表示画面の上下方向に対して直角方向、すなわち、上記画像表示装置を設置した床面に対して水平な方向を意味する。
上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示装置の表示画面の左右方向とのなす角度は０°±５°であることが好ましく、０°±２°であることがより好ましく、０°であることが更に好ましい。
また、本発明の光学積層体は、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記アンダーコート層の膜厚をｄ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすものである。
上記式（１）を満たすことで、本発明の光学積層体による干渉縞の改善効果が優れたものとなる。これは、複数の層が積層されてなる積層体に光が入射されたときに各層間の界面で起こる反射の反射率Ｒは、下記式（Ａ）で表され、ハードコート層とアンダーコート層との界面、アンダーコート層と光透過性基材との界面でそれぞれ下記式（Ａ）に基づく反射が起こり、これらの反射された光同士が位相π異なる状態で等しい強度で重ね合わせられるときに最も干渉縞強度の弱い状態となるためである。なお、このときの屈折率と厚さの関係式は下記式（Ｂ）及び（Ｃ）となる。
Ｒ＝（ｎ１−ｎ２）２／（ｎ１＋ｎ２）２ （Ａ）
ｎ２＝（ｎ１×ｎ３）１／２ （Ｂ）
ｄ＝（１／４）×（λ／ｎ２） （Ｃ）
ただし、上記式（Ａ）〜（Ｃ）中、ｎ１は第１層の屈折率、ｎ２は第２層の屈折率、ｎ３は第３層の屈折率、ｄは第２層の厚さを表す。
Ｒ＝（ｎ１−ｎ２）２／（ｎ１＋ｎ２）２ （Ａ）
ｎ２＝（ｎ１×ｎ３）１／２ （Ｂ）
ｄ＝（１／４）×（λ／ｎ２） （Ｃ）
ただし、上記式（Ａ）〜（Ｃ）中、ｎ１は第１層の屈折率、ｎ２は第２層の屈折率、ｎ３は第３層の屈折率、ｄは第２層の厚さを表す。
上記光透過性基材としては、面内に複屈折率を有するものであれば特に限定されず、例えば、ポリカーボネート、アクリル、ポリエステル等からなる基材が挙げられるが、なかでも、コスト及び機械的強度において有利なポリエステル基材であることが好適である。なお、以下の説明では、面内に複屈折率を有する光透過性基材をポリエステル基材として説明する。
なお、本発明の光学積層体において、上記光透過性基材としては、従来、光学等方性材料として用いられていたセルロースエステル等からなる光透過性基材であっても、敢えて複屈折率を持たせることで使用することができる。
なお、本発明の光学積層体において、上記光透過性基材としては、従来、光学等方性材料として用いられていたセルロースエステル等からなる光透過性基材であっても、敢えて複屈折率を持たせることで使用することができる。
本発明の光学積層体において、上記ポリエステル基材の面内において屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、上記遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）との差ｎｘ−ｎｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０１以上であることが好ましい。上記Δｎが０．０１未満であると、透過率向上効果が少なくなることがある。一方、上記Δｎは、０．３０以下であることが好ましい。０．３０を超えると、ポリエステル基材を過度に延伸する必要が生じるため、ポリエステル基材が裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。
以上の観点から、上記Δｎのより好ましい下限は０．０５、より好ましい上限は０．２７である。なお、上記Δｎが０．２７を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．２５である。このようなΔｎを満たすことで、好適な光透過率の向上を図ることができる。
以上の観点から、上記Δｎのより好ましい下限は０．０５、より好ましい上限は０．２７である。なお、上記Δｎが０．２７を超えると、耐湿熱性試験でのポリエステル基材の耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．２５である。このようなΔｎを満たすことで、好適な光透過率の向上を図ることができる。
なお、本明細書において、光透過性基材が面内に複屈折率を有しているか否かは、波長５５０ｎｍの屈折率において、Δｎ（ｎｘ−ｎｙ）≧０．０００５であるものは、複屈折性を有しているとし、Δｎ＜０．０００５であるものは、複屈折性を有していないとする。複屈折率は、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲを用いて、測定角０°かつ測定波長５５２．１ｎｍに設定して、測定を行うことができる。このとき、複屈折率算出には、膜厚、平均屈折率が必要となる。膜厚は、例えば、マイクロメーター（Ｄｉｇｉｍａｔｉｃ Ｍｉｃｒｏｍｅｔｅｒ、ミツトヨ社製）や、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定できる。平均屈折率は、アッベ屈折率計や、エリプソメーターを用いて測定することができる。
なお、一般的に等方性材料として知られる、トリアセチルセルロースからなるＴＤ８０ＵＬ−Ｍ（富士フィルム社製）、シクロオレフィンポリマーから成るＺＦ１６−１００（日本ゼオン社製）のΔｎは、上記測定方法により、それぞれ、０．００００３７５、０．００００５であり、複屈折性を有していない（等方性）と判断した。
その他、複屈折率を測定する方法として、二枚の偏光板を用いて、光透過性基材の配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求めることもできるし、裏面に黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから、分光光度計（Ｖ７１００型、自動絶対反射率測定ユニット、ＶＡＲ−７０１０ 日本分光社製）を用いて、偏光測定：Ｓ偏光にて、Ｓ偏光に対して、遅相軸を平行にした場合と、進相軸を平行にした場合の５度反射率を測定し、反射率（Ｒ）と屈折率（ｎ）との関係を示す下記式（Ｉ）より、遅相軸と進相軸の各波長の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を算出することもできる。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）２／（１＋ｎ）２ 式（Ｉ）
なお、一般的に等方性材料として知られる、トリアセチルセルロースからなるＴＤ８０ＵＬ−Ｍ（富士フィルム社製）、シクロオレフィンポリマーから成るＺＦ１６−１００（日本ゼオン社製）のΔｎは、上記測定方法により、それぞれ、０．００００３７５、０．００００５であり、複屈折性を有していない（等方性）と判断した。
その他、複屈折率を測定する方法として、二枚の偏光板を用いて、光透過性基材の配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求めることもできるし、裏面に黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから、分光光度計（Ｖ７１００型、自動絶対反射率測定ユニット、ＶＡＲ−７０１０ 日本分光社製）を用いて、偏光測定：Ｓ偏光にて、Ｓ偏光に対して、遅相軸を平行にした場合と、進相軸を平行にした場合の５度反射率を測定し、反射率（Ｒ）と屈折率（ｎ）との関係を示す下記式（Ｉ）より、遅相軸と進相軸の各波長の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を算出することもできる。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）２／（１＋ｎ）２ 式（Ｉ）
また、平均屈折率は、アッベ屈折率計や、エリプソメーターを用いて測定することができ、光透過性フィルムの厚み方向の屈折率ｎｚは、上記の方法によって測定した、ｎｘ、ｎｙを用いて、下記式（ＩＩ）より、計算できる。
平均屈折率Ｎ＝（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３ 式（ＩＩ）
平均屈折率Ｎ＝（ｎｘ＋ｎｙ＋ｎｚ）／３ 式（ＩＩ）
ここで、ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの算出方法を、具体例を挙げて説明する。
なお、ｎｘは、光透過性基材の遅相軸方向の屈折率、ｎｙは、光透過性基材の進相軸方向の屈折率、ｎｚは、光透過性基材の厚み方向の屈折率である。
（３次元屈折率波長分散の算出）
まずは、シクロオレフィンポリマーを例に挙げて、３次元屈折率波長分散の算出方法を具体的に説明する。
面内に複屈折率を有さないシクロオレフィンポリマーフィルムの平均屈折率波長分散を、エリプソメーター（ＵＶＩＳＥＬ 堀場製作所）を用いて測定し、その結果を図１に示した。この測定結果より、面内に複屈折率を有さないシクロオレフィンポリマーフィルムの平均屈折率波長分散を、ｎｘとｎｙ、ｎｚの屈折率波長分散とした。
このフィルムを延伸温度１５５℃で自由端一軸延伸して、面内に複屈折率を有するフィルムを得た。膜厚は、１００μｍであった。この自由端一軸延伸したフィルムを、複屈折測定計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器）により、入射角０°及び４０°のリタデーション値を４波長（４４７．６ｎｍ、５４７．０ｎｍ、６３０．６ｎｍ、７４３．４ｎｍ）で測定した。
各波長での、平均屈折率（Ｎ）と、リタデーション値とを元に、複屈折測定計付属の３次元波長分散計算ソフトを用いて、Ｃａｕｃｈｙ又はＳｅｌｌｍｅｉｅｒの式などを用いて、３次元屈折率波長分散を算出し、その結果を図２に示した。なお、図２中、ｎｙはｎｚとほぼ重なって示されている。この結果より、面内に複屈折率を有するシクロオレフィンポリマーフィルムの３次元屈折率波長分散を得た。
（分光光度計を用いた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの算出）
ポリエチレンテレフタレートを例に挙げて、分光光度計を用いた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの算出方法を具体的に説明する。
面内に複屈折率を有さないポリエチレンテレフタレートの平均屈折率波長分散は、上記３次元屈折率波長分散の算出方法と同様に行った。
面内に複屈折率を有するポリエチレンテレフタレートの屈折率波長分散（ｎｘ、ｎｙ）は、分光光度計（Ｖ７１００型、自動絶対反射率測定ユニットＶＡＲ−７０１０ 日本分光社製）を用いて算出した。測定面とは反対面に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから、偏光測定：Ｓ偏光にて、光透過性基材の配向軸を平行に設置した場合と、配向軸に対して直交する軸を平行に設置した場合との５度分光反射率を測定した。結果を図３に示す。反射率（Ｒ）と屈折率（ｎ）との関係を示す上記式（Ｉ）より、屈折率波長分散（ｎｘ、ｎｙ）を算出した。より大きい反射率（上記式（Ｉ）により算出された屈折率）を示す方向をｎｘ（遅相軸ともいう）とし、より小さい反射率（上記式（Ｉ）により算出された屈折率）を示す方向をｎｙ（進相軸ともいう）とした。ここで、配向軸とは、光源の上に、クロスニコル状態に設置された二枚の偏光板の間に、面内に複屈折率を有するフィルムを挟み、フィルムを回転させ、光漏れがもっとも少ない状態の時、偏光板の透過軸、又は、吸収軸と同一方向が、フィルムの配向軸とすることができる。また、屈折率ｎｚは、上記平均屈折率（Ｎ）と上記式（ＩＩ）とにより算出できる。
なお、ｎｘは、光透過性基材の遅相軸方向の屈折率、ｎｙは、光透過性基材の進相軸方向の屈折率、ｎｚは、光透過性基材の厚み方向の屈折率である。
（３次元屈折率波長分散の算出）
まずは、シクロオレフィンポリマーを例に挙げて、３次元屈折率波長分散の算出方法を具体的に説明する。
面内に複屈折率を有さないシクロオレフィンポリマーフィルムの平均屈折率波長分散を、エリプソメーター（ＵＶＩＳＥＬ 堀場製作所）を用いて測定し、その結果を図１に示した。この測定結果より、面内に複屈折率を有さないシクロオレフィンポリマーフィルムの平均屈折率波長分散を、ｎｘとｎｙ、ｎｚの屈折率波長分散とした。
このフィルムを延伸温度１５５℃で自由端一軸延伸して、面内に複屈折率を有するフィルムを得た。膜厚は、１００μｍであった。この自由端一軸延伸したフィルムを、複屈折測定計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器）により、入射角０°及び４０°のリタデーション値を４波長（４４７．６ｎｍ、５４７．０ｎｍ、６３０．６ｎｍ、７４３．４ｎｍ）で測定した。
各波長での、平均屈折率（Ｎ）と、リタデーション値とを元に、複屈折測定計付属の３次元波長分散計算ソフトを用いて、Ｃａｕｃｈｙ又はＳｅｌｌｍｅｉｅｒの式などを用いて、３次元屈折率波長分散を算出し、その結果を図２に示した。なお、図２中、ｎｙはｎｚとほぼ重なって示されている。この結果より、面内に複屈折率を有するシクロオレフィンポリマーフィルムの３次元屈折率波長分散を得た。
（分光光度計を用いた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの算出）
ポリエチレンテレフタレートを例に挙げて、分光光度計を用いた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚの算出方法を具体的に説明する。
面内に複屈折率を有さないポリエチレンテレフタレートの平均屈折率波長分散は、上記３次元屈折率波長分散の算出方法と同様に行った。
面内に複屈折率を有するポリエチレンテレフタレートの屈折率波長分散（ｎｘ、ｎｙ）は、分光光度計（Ｖ７１００型、自動絶対反射率測定ユニットＶＡＲ−７０１０ 日本分光社製）を用いて算出した。測定面とは反対面に、裏面反射を防止するために測定スポット面積よりも大きな幅の黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ってから、偏光測定：Ｓ偏光にて、光透過性基材の配向軸を平行に設置した場合と、配向軸に対して直交する軸を平行に設置した場合との５度分光反射率を測定した。結果を図３に示す。反射率（Ｒ）と屈折率（ｎ）との関係を示す上記式（Ｉ）より、屈折率波長分散（ｎｘ、ｎｙ）を算出した。より大きい反射率（上記式（Ｉ）により算出された屈折率）を示す方向をｎｘ（遅相軸ともいう）とし、より小さい反射率（上記式（Ｉ）により算出された屈折率）を示す方向をｎｙ（進相軸ともいう）とした。ここで、配向軸とは、光源の上に、クロスニコル状態に設置された二枚の偏光板の間に、面内に複屈折率を有するフィルムを挟み、フィルムを回転させ、光漏れがもっとも少ない状態の時、偏光板の透過軸、又は、吸収軸と同一方向が、フィルムの配向軸とすることができる。また、屈折率ｎｚは、上記平均屈折率（Ｎ）と上記式（ＩＩ）とにより算出できる。
上記ポリエステル基材を構成する材料としては、上述したΔｎを充足するものであれば特に限定されないが、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。かかるポリエステルの具体例として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ（１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート）、ポリエチレンナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリエチレン−１，４−ナフタレート、ポリエチレン−１，５−ナフタレート、ポリエチレン−２，７−ナフタレート、ポリエチレン−２，３−ナフタレート）などを例示することができる。また、ポリエステル基材に用いられるポリエステルは、これらのポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％以下）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしてポリエチレンテレフタレート又はポリエチレンナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においてはＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、光透過率に優れる偏光板を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりΔｎの制御が可能であり、固有複屈折が大きいため、比較的容易に複屈折率を持たせることができる。
上記ポリエステル基材を得る方法としては、上述したΔｎを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料の上記ＰＥＴ等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなることがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステル基材の透明性が低下しやすくなり、横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステル基材の複屈折が小さくなることがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行った後、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。
上記ポリエステル基材の厚みとしては、５〜３００μｍの範囲内であることが好ましい。５μｍ未満であると、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、３００μｍを超えると、ポリエステル基材が非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステル基材の厚さのより好ましい下限は１０μｍ、より好ましい上限は２００μｍであり、更に好ましい上限は１５０μｍである。
また、上記ポリエステル基材は、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
また、本発明において、上記ポリエステル基材には本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。
本発明の光学積層体は、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸と、画像表示装置の表示画面側の偏光板の偏光子の吸収軸とが平行になるように配置されていることが好ましい。上記光透過性基材と上記偏光子とがこのような特定の関係で配置されていることで、本発明の光学積層体を透過した進相軸と平行な偏光をもつ光を吸収し易くなるため、本発明の光学積層体による干渉縞の改善効果がより優れたものとなる。これは、上述したように、室内における外光は画像表示装置の表示画面の左右方向の振動成分が多く、上記光透過性基材の進相軸と偏光子の吸収軸とを上記画像表示装置の表示画面の左右方向に平行に設置した場合、上記光透過性基材を透過した外光が偏光子に到達したときにより多く外光を吸収し、偏光子界面における干渉縞を低減することができるためである。
なお、上記「上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸と、画像表示装置の表示画面側の偏光板の偏光子の吸収軸とが平行となるように配置されている」とは、上記光透過性基材の進相軸と上記偏光子の吸収軸とのなす角度が０°±１５°であることを意味する。
本発明において、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記偏光子の吸収軸とのなす角度は、０°±５°であることがより好ましく、０°±２°であることが更に好ましく、０°であることが最も好ましい。
なお、上記「上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸と、画像表示装置の表示画面側の偏光板の偏光子の吸収軸とが平行となるように配置されている」とは、上記光透過性基材の進相軸と上記偏光子の吸収軸とのなす角度が０°±１５°であることを意味する。
本発明において、上記光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記偏光子の吸収軸とのなす角度は、０°±５°であることがより好ましく、０°±２°であることが更に好ましく、０°であることが最も好ましい。
上記偏光子としては特に限定されず、例えば、ヨウ素等により染色し、延伸したポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等を使用することができる。上記偏光子と上記光透過性基材とのラミネート処理においては、該光透過性基材にケン化処理を行うことが好ましい。ケン化処理によって、接着性が良好になる。
上記アンダーコート層は、上記光透過性基材と後述するハードコート層との密着性向上を目的として設けられた接着層として機能する層である。
上記アンダーコート層の材料としては、上述した屈折率の条件を満たすものであれば特に限定されず、従来公知のものを適宜選択して用いることができるが、具体的には、例えば、熱硬化性又は熱可塑性のポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及び、これらの変性体等が挙げられる。
また、上記アンダーコート層の屈折率を調整するために、高屈折率微粒子、高屈折率樹脂、キレート化合物等を添加することができる。
上記アンダーコート層の材料としては、上述した屈折率の条件を満たすものであれば特に限定されず、従来公知のものを適宜選択して用いることができるが、具体的には、例えば、熱硬化性又は熱可塑性のポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、及び、これらの変性体等が挙げられる。
また、上記アンダーコート層の屈折率を調整するために、高屈折率微粒子、高屈折率樹脂、キレート化合物等を添加することができる。
上記ポリエステル樹脂としては、例えば、下記の多塩基酸成分とジオール成分とから得られるポリエステルを用いることができる。
上記多塩基酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられる。
上記多塩基酸成分としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、無水フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ダイマー酸、５−ナトリウムスルホイソフタル酸等が挙げられる。
また、上記ジオール成分としては、例えば、エチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、キシレングリコール、ジメチロールプロパン等や、ポリ（エチレンオキシド）グリコール、ポリ（テトラメチレンオキシド）グリコール当が挙げられる。
また、上記アクリル樹脂としては、例えば、以下に例示されるモノマーを共重合することで得られるものが挙げられる。
上記モノマーとしては、例えば、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基又はその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎ−アルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリン等のオキサゾリン基含有モノマー；メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエン等が挙げられる。
上記モノマーとしては、例えば、アルキルアクリレート、アルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）；２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート等のヒドロキシ含有モノマー；グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル等のエポキシ基含有モノマー；アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸、スチレンスルホン酸及びその塩（ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩、第三級アミン塩等）等のカルボキシ基又はその塩を有するモノマー；アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−アルキルアクリルアミド、Ｎ−アルキルメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルキルメタクリレート（アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、シクロヘキシル基等）、Ｎ−アルコキシアクリルアミド、Ｎ−アルコキシメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジアルコキシメタクリルアミド（アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基等）、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−フェニルメタクリルアミド等のアミド基を有するモノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸等の酸無水物のモノマー；２−ビニル−２−オキサゾリン、２−ビニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−ビニル−５−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−４−メチル−２−オキサゾリン、２−イソプロペニル−５−メチル−２−オキサゾリン等のオキサゾリン基含有モノマー；メトキシジエチレングリコールメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、ビニルイソシアネート、アリルイソシアネート、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルトリアルコキシシラン、アルキルマレイン酸モノエステル、アルキルフマール酸モノエステル、アルキルイタコン酸モノエステル、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニリデン、エチレン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル、ブタジエン等が挙げられる。
また、上記ウレタン樹脂としては、例えば、ポリオール、ポリイソシアネート、鎖長延長剤、架橋剤等で構成されたものが挙げられる。
上記ポリオールとしては、例えば、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールのようなポリエーテル、ポリエチレンアジペート、ポリエチレン−ブチレンアジペート、ポリカプロラクトン等を含むグリコールとジカルボン酸との脱水反応により製造されるポリエステル、カーボネート結合を有するポリカーボネート、アクリル系ポリオール、ひまし油等が挙げられる。
上記ポリオールとしては、例えば、ポリオキシエチレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコールのようなポリエーテル、ポリエチレンアジペート、ポリエチレン−ブチレンアジペート、ポリカプロラクトン等を含むグリコールとジカルボン酸との脱水反応により製造されるポリエステル、カーボネート結合を有するポリカーボネート、アクリル系ポリオール、ひまし油等が挙げられる。
また、上記ポリイソシアネートとしては、例えば、トリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート等が挙げられる。
また、上記鎖長延長剤あるいは架橋剤としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ヒドラジン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジシクロヘキシルメタン、水等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子としては、例えば、屈折率が１．６０〜２．８０の金属酸化物微粒子等が好適に用いられる。
上記金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率：２．３３）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５：屈折率２．１６）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍであることが好ましい。平均一次粒子径が１００ｎｍを超えると、上記アンダーコート層に光学散乱が発生し、透明性が悪くなることがあり、５ｎｍ未満であると微粒子同士の凝集が多くなり、二次粒子径が大きくなって光学散乱が発生し、上記アンダーコート層の透明性が悪くなることがある。
これらの高屈折率微粒子の屈折率は、例えば、屈折率がわかっている熱可塑性の樹脂と、質量を測定した金属酸化物とを混合した後、適当な厚さの透明なペレットに成型し、このペレットの屈折率測定を行い、上記屈折率既知の樹脂との配合比から高屈折率微粒子の屈折率を算出できる。上記屈折率測定は、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ａ法に従ったベッケ法によりアッベ屈折計により求めることができ、例えば、アタゴ社製ＤＲ−Ｍ４を用いることができる。なお、屈折率を測定する波長は５８９ｎｍとする。
また、上記平均一次粒子径は、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型電子顕微鏡観察による画像解析によって粒子２０個分の粒径の平均値として求めることができる。
上記高屈折率微粒子の含有量としては特に限定されず、例えば、アンダーコート層に添加する樹脂成分の硬化物の、予め測定した屈折率の値との加重平均で、形成するアンダーコート層の屈折率が後述する関係を満たすよう、その他の成分との関係で適宜調整すればよい。
上記金属酸化物微粒子としては、具体的には、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．７１）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．１０）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜１．９５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：２．０４）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、五酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率：２．３３）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５：屈折率２．１６）及びアンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９０〜２．００）等が挙げられる。
上記高屈折率微粒子は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍであることが好ましい。平均一次粒子径が１００ｎｍを超えると、上記アンダーコート層に光学散乱が発生し、透明性が悪くなることがあり、５ｎｍ未満であると微粒子同士の凝集が多くなり、二次粒子径が大きくなって光学散乱が発生し、上記アンダーコート層の透明性が悪くなることがある。
これらの高屈折率微粒子の屈折率は、例えば、屈折率がわかっている熱可塑性の樹脂と、質量を測定した金属酸化物とを混合した後、適当な厚さの透明なペレットに成型し、このペレットの屈折率測定を行い、上記屈折率既知の樹脂との配合比から高屈折率微粒子の屈折率を算出できる。上記屈折率測定は、例えば、ＪＩＳ Ｋ７１４２（２００８）Ａ法に従ったベッケ法によりアッベ屈折計により求めることができ、例えば、アタゴ社製ＤＲ−Ｍ４を用いることができる。なお、屈折率を測定する波長は５８９ｎｍとする。
また、上記平均一次粒子径は、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ等の透過型電子顕微鏡観察による画像解析によって粒子２０個分の粒径の平均値として求めることができる。
上記高屈折率微粒子の含有量としては特に限定されず、例えば、アンダーコート層に添加する樹脂成分の硬化物の、予め測定した屈折率の値との加重平均で、形成するアンダーコート層の屈折率が後述する関係を満たすよう、その他の成分との関係で適宜調整すればよい。
また、上記高屈折率樹脂としては、アンダーコート層の材料と上述した樹脂よりも高い屈折率を有する樹脂であれば特に限定されず、例えば、エポキシ樹脂やアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、アミノ樹脂、ポリウレタン樹脂等従来公知の樹脂が挙げられる。
このような高屈折率樹脂としては、具体的には、例えば、フルオレン骨格を有する樹脂であるオグソールＥＡ−０２００、オクゾールＥＡ−Ｆ５００３、オクゾールＥＡ−Ｆ５５０３、オクゾールＥＡ−Ｆ５５１０（いずれも大阪ガスケミカル社製）、Ａ−ＢＰＥＦ（９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン）（新中村化学社製）、アダマンタン骨格を有する樹脂であるアダマンテートＭ−１０４、アダマンテートＸ−Ａ−１０１、アダマンテートＸ−Ａ−２０１、アダマンテートＭＭ、アダマンテートＥＭ、アダマンテートＨＭ、アダマンテートＨＡ、アダマンテートＭＡ、アダマンテートＥＡ（いずれも出光興産社製）、ビフェニル骨格を有する樹脂であるニューフロンティアＯＰＰＥ（オクソフェニルフェノールアクリレート）（第一工業製薬社製）、ビスフェノールＡ骨格を有する樹脂であるビスフェノールＡのＥＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのＰＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシアクリレート、ジフェニルオキサイド骨格を有する樹脂であるライトアクリレートＰＯＢ−Ａ（ｍ−フェノキシベンジルアクリレート）（共栄社化学社製）、ジフェニルスルホン骨格を有する樹脂である４，４’−ビス（β−（メタ）アクリ ロイルオキシエトキシ）ジフェニルスルホン、ジフェニルスルフィド骨格を有する樹脂である４，４’−ジ（β−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）ジフェニルスルフィド等が挙げられる。これらは、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
このような高屈折率樹脂としては、具体的には、例えば、フルオレン骨格を有する樹脂であるオグソールＥＡ−０２００、オクゾールＥＡ−Ｆ５００３、オクゾールＥＡ−Ｆ５５０３、オクゾールＥＡ−Ｆ５５１０（いずれも大阪ガスケミカル社製）、Ａ−ＢＰＥＦ（９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン）（新中村化学社製）、アダマンタン骨格を有する樹脂であるアダマンテートＭ−１０４、アダマンテートＸ−Ａ−１０１、アダマンテートＸ−Ａ−２０１、アダマンテートＭＭ、アダマンテートＥＭ、アダマンテートＨＭ、アダマンテートＨＡ、アダマンテートＭＡ、アダマンテートＥＡ（いずれも出光興産社製）、ビフェニル骨格を有する樹脂であるニューフロンティアＯＰＰＥ（オクソフェニルフェノールアクリレート）（第一工業製薬社製）、ビスフェノールＡ骨格を有する樹脂であるビスフェノールＡのＥＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのＰＯ付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシアクリレート、ジフェニルオキサイド骨格を有する樹脂であるライトアクリレートＰＯＢ−Ａ（ｍ−フェノキシベンジルアクリレート）（共栄社化学社製）、ジフェニルスルホン骨格を有する樹脂である４，４’−ビス（β−（メタ）アクリ ロイルオキシエトキシ）ジフェニルスルホン、ジフェニルスルフィド骨格を有する樹脂である４，４’−ジ（β−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）ジフェニルスルフィド等が挙げられる。これらは、単独で用いられてもよく、２種以上が併用されてもよい。
また、上記キレート化合物としては、例えば、水溶性のチタンキレート化合物、水溶性のチタンアシレート化合物及び水溶性のジルコニウム化合物等が挙げられる。
上記水溶性のチタンキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン、イソプロポキシ（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジイソプロポキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタンのアンモニウム塩、チタンベロキソクエン酸アンモニウム塩等が挙げられる。
また、水溶性のチタンアシレート化合物としては、例えば、オキソチタンビス（モノアンモニウムオキサレート）等が挙げられる。
また、水溶性のジルコニウム化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムアセテート等が挙げられる。
上記水溶性のチタンキレート化合物としては、例えば、ジイソプロポキシビス（アセチルアセトナト）チタン、イソプロポキシ（２−エチル−１，３−ヘキサンジオラト）チタン、ジイソプロポキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ジ−ｎ−ブトキシビス（トリエタノールアミナト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタン、ヒドロキシビス（ラクタト）チタンのアンモニウム塩、チタンベロキソクエン酸アンモニウム塩等が挙げられる。
また、水溶性のチタンアシレート化合物としては、例えば、オキソチタンビス（モノアンモニウムオキサレート）等が挙げられる。
また、水溶性のジルコニウム化合物としては、例えば、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムアセテート等が挙げられる。
本発明の光学積層体は、上記アンダーコート層の膜厚ｄが、下記式（３）を満たすことが好ましい。
上記アンダーコート層の膜厚ｄが上記式（３）を満たすことで、本発明の光学積層体による干渉縞の改善効果がより優れたものとなる。これは、上述したように、複数の層が積層されてなる積層体に光が入射したとき、２つの界面で反射されたそれぞれの光が位相π異なる状態で等しい強度で重ね合わせられるときに最も干渉縞強度の弱い状態となるためである。なお、これらの光の位相差は、下記式（４）及び（５）を満たすときにπとなる。
すなわち、ｎ１を第１層の屈折率、ｎ２を第２層の屈折率、ｎ３を第３層の屈折率、ｄを第２層の膜厚、λを光の波長とした場合、
ｎ１＜ｎ２＜ｎ３ 又は ｎ１＞ｎ２＞ｎ３ （４）
ｄ＝（１／４）×（λ／ｎ２） （５）
さらに、赤色領域である波長６５０ｎｍにおける干渉を特に弱めることで干渉縞の視認性を抑えることができる。
なお、上記アンダーコート層の厚みｄは、例えば、上記アンダーコート層の断面を、電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察することにより、任意の１０点を測定して得られた平均値（ｎｍ）である。非常に薄い厚みの場合は、高倍率観察したものを写真として記録し、更に拡大することで測定する。拡大した場合、層界面ラインが、境界線として明確に分かる程度に非常に細い線であったものが、太い線になる。その場合は、太い線幅を２等分した中心部分を境界線として測定する。
本発明の光学積層体において、上記アンダーコート層は、上述した材料と、必要に応じて光重合開始剤及び他の成分とを溶媒中に混合分散させて調製したアンダーコート層用組成物を用いて形成することができる。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
上記混合分散は、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー等の公知の装置を使用して行うとよい。
上記溶媒としては、水が好ましく用いられ、水溶液、水分散液或いは乳化液等の水性塗液の形態で使用されることが好ましい。また、多少の有機溶媒を含んでもよい。
上記有機溶媒としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル）等が挙げられる。
上記有機溶媒としては、例えば、アルコール（例、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ベンジルアルコール、ＰＧＭＥ、エチレングリコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ヘプタノン、ジイソブチルケトン、ジエチルケトン）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、ハロゲン化炭化水素（例、メチレンクロライド、クロロホルム、四塩化炭素）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル）等が挙げられる。
上記その他の成分としては特に限定されず、例えば、レベリング剤、有機又は無機微粒子、光重合開始剤、熱重合開始剤、架橋剤、硬化剤、重合促進剤、粘度調整剤、帯電防止剤、酸化防止剤、防汚剤、スリップ剤、屈折率調整剤、分散剤等が挙げられる。
上記アンダーコート層用組成物は、総固形分が１〜２０％であることが好ましい。１％未満であると、残留溶剤が残ったり、白化が生じるおそれがある。２０％を超えると、アンダーコート層用組成物の粘度が高くなり、塗工性が低下して表面にムラやスジが出たり、所望の膜厚が得られないおそれがある。上記固形分は、２〜１０％であることがより好ましい。
上記アンダーコート層用組成物の上記ポリエステル基材への塗布は、任意の段階で実施することができるが、ポリエステル基材の製造過程で実施するのが好ましく、更には配向結晶化が完了する前のポリエステル基材に塗布することが好ましい。
ここで、配向結晶化が完了する前のポリエステル基材とは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向又は横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向及び横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向又は横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルム又は一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記アンダーコート層用組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸及び／又は横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
上記アンダーコート層用組成物をポリエステル基材に塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてポリエステル基材表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいはアンダーコート層用組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
ここで、配向結晶化が完了する前のポリエステル基材とは、未延伸フィルム、未延伸フィルムを縦方向又は横方向の何れか一方に配向せしめた一軸配向フィルム、更には縦方向及び横方向の二方向に低倍率延伸配向せしめたもの（最終的に縦方向又は横方向に再延伸せしめて配向結晶化を完了せしめる前の二軸延伸フィルム）等を含むものである。なかでも、未延伸フィルム又は一方向に配向せしめた一軸延伸フィルムに、上記アンダーコート層用組成物の水性塗液を塗布し、そのまま縦延伸及び／又は横延伸と熱固定とを施すのが好ましい。
上記アンダーコート層用組成物をポリエステル基材に塗布する際には、塗布性を向上させるための予備処理としてポリエステル基材表面にコロナ表面処理、火炎処理、プラズマ処理等の物理処理を施すか、あるいはアンダーコート層用組成物と共にこれと化学的に不活性な界面活性剤を併用することが好ましい。
上記アンダーコート層用組成物の塗布方法としては、公知の任意の塗工法が適用できる。例えば、ロールコート法、グラビアコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法等を単独又は組合せて用いることができる。なお、塗膜は必要に応じポリエステル基材の片面のみに形成してもよいし、両面に形成してもよい。
上記ポリエステル基材の両面にアンダーコート層を形成した場合、上記ポリエステル基材に易滑性を付与でき、その結果、本発明の光学積層体をロールトゥロールで好適に製造することが可能となる。
上記ポリエステル基材の両面にアンダーコート層を形成した場合、上記ポリエステル基材に易滑性を付与でき、その結果、本発明の光学積層体をロールトゥロールで好適に製造することが可能となる。
上記ハードコート層は、上記アンダーコート層上に形成されており、硬度が、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４（１９９９）による鉛筆硬度試験（荷重４．９Ｎ）において、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましい。
上記ハードコート層は、本発明の光学積層体の表面のハードコート性を担保する層であり、上述した屈折率の条件を満たすものであれば特に限定されず、従来公知のものを適宜選択して用いることができる。具体的には、例えば、紫外線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂と光重合開始剤とを含有するハードコート層用組成物を用いて形成されたものであることが好ましい。
上記ハードコート層は、本発明の光学積層体の表面のハードコート性を担保する層であり、上述した屈折率の条件を満たすものであれば特に限定されず、従来公知のものを適宜選択して用いることができる。具体的には、例えば、紫外線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂と光重合開始剤とを含有するハードコート層用組成物を用いて形成されたものであることが好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等が挙げられる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等及びこれらをエチレンオキサイド（ＥО）等で変性した多官能化合物、又は、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等の反応生成物（例えば、多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）等が挙げられる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量（数平均分子量３００〜８万、好ましくは４００〜５０００）のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。なお、この場合の樹脂とは、モノマー以外のダイマー、オリゴマー、ポリマー全てを含む。
本発明における好ましい化合物としては、３以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。このような化合物を用いると形成するハードコート層の架橋密度を高めることができ、塗硬度を良好にできる。
具体的には、本発明においては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）等を適宜組み合わせて用いることが好ましい。
本発明における好ましい化合物としては、３以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。このような化合物を用いると形成するハードコート層の架橋密度を高めることができ、塗硬度を良好にできる。
具体的には、本発明においては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）等を適宜組み合わせて用いることが好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。なお、上記溶剤乾燥型樹脂とは、熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂をいう。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、製膜性、透明性や耐候性の観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等が好ましい。
また、上記ハードコート層用組成物は、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等が挙げられる。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、例えば、上記光重合開始剤としては、具体例には、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
上記光重合開始剤としては、上記電離放射線硬化型樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、上記電離放射線硬化型樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。
本発明において用いる開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化型樹脂の場合は、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、及び、黄変も少ないという理由から好ましい。
本発明において用いる開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化型樹脂の場合は、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、及び、黄変も少ないという理由から好ましい。
上記ハードコート層用組成物にける上記光重合開始剤の含有量は、上記電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部であることが好ましい。１質量部未満であると、本発明の光学積層体におけるハードコート層の硬度を上述した範囲とすることができないことがあり、１０質量部を超えると、塗設した膜の深部まで電離放射線が届かなくなり内部硬化が促進されず、目標であるハードコート層の表面硬度が得られないおそれがあるためである。
上記光重合開始剤の含有量のより好ましい下限は２質量部であり、より好ましい上限は８質量部である。上記光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。
上記光重合開始剤の含有量のより好ましい下限は２質量部であり、より好ましい上限は８質量部である。上記光重合開始剤の含有量がこの範囲にあることで、膜厚方向に硬度分布が発生せず、均一な硬度になりやすくなる。
上記ハードコート層用組成物は、溶剤を含有していてもよい。
上記溶剤としては、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が挙げられ、これらの混合溶媒であってもよい。
特に本発明においては、ケトン系の溶媒でメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか、又は、これらの混合物を少なくとも含むことが、樹脂との相溶性、塗工性に優れるという理由から好ましい。
上記溶剤としては、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が挙げられ、これらの混合溶媒であってもよい。
特に本発明においては、ケトン系の溶媒でメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか、又は、これらの混合物を少なくとも含むことが、樹脂との相溶性、塗工性に優れるという理由から好ましい。
上記ハードコート層用組成物中における原料の含有割合（固形分）として特に限定されないが、通常は５〜７０質量％、特に２５〜６０質量％とすることが好ましい。
上記ハードコート層用組成物には、ハードコート層の硬度を高くする、硬化収縮を抑える、ブロッキングを防止する、屈折率を制御する、防眩性を付与する、粒子やハードコート層表面の性質を変える等の目的に応じて、従来公知の有機、無機微粒子、分散剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤等を添加していてもよい。
また、上記ハードコート層用組成物は、光増感剤を混合して用いてもよく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホソフィン等が挙げられる。
上記ハードコート層用組成物の調製方法としては各成分を均一に混合できれば特に限定されず、例えば、ペイントシェーカー、ビーズミル、ニーダー、ミキサー等の公知の装置を使用して行うことができる。
また、上記ハードコート層用組成物を上記アンダーコート層上に塗布する方法としては特に限定されず、例えば、グラビアコート法、スピンコート法、ディップ法、スプレー法、ダイコート法、バーコート法、ロールコーター法、メニスカスコーター法、フレキソ印刷法、スクリーン印刷法、ピードコーター法等の公知の方法を挙げることができる。
上記アンダーコート層上に上記ハードコート層用組成物を塗布して形成した塗膜は、必要に応じて加熱及び／又は乾燥し、活性エネルギー線照射等により硬化させることが好ましい。
上記活性エネルギー線照射としては、紫外線又は電子線による照射が挙げられる。上記紫外線源の具体例としては、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源が挙げられる。また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
なお、上記ハードコート層の好ましい膜厚（硬化時）は０．５〜１００μｍ、より好ましくは０．８〜２０μｍ、カール防止性やクラック防止性が特に優れるので、もっとも好ましくは２〜１０μｍの範囲である。上記ハードコート層の膜厚は、断面を電子顕微鏡（ＳＥＭ、ＴＥＭ、ＳＴＥＭ）で観察し、任意の１０点を測定した平均値（μｍ）である。ハードコート層の膜厚は、このほかの方法として、厚さ測定装置ミツトヨ社製のデジマチックインジケーターＩＤＦ−１３０を用いて任意の１０点を測定し、平均値を求めてもよい。
上記反射防止層は、上記画像表示装置の表示画面から外光が入射する層であり、低屈折率層であることが好ましい。上記反射防止層が低屈折率層であることで、上記外光の反射を好適に低減させることができる。
上記低屈折率層としては、好ましくは、１）シリカ、フッ化マグネシウム等の低屈折率粒子を含有する樹脂、２）低屈折率樹脂であるフッ素系樹脂、３）シリカ又はフッ化マグネシウムを含有するフッ素系樹脂、４）シリカ、フッ化マグネシウム等の低屈折率物質の薄膜等のいずれかで構成される。フッ素系樹脂以外の樹脂については、後述するバインダー樹脂と同様の樹脂を用いることができる。
また、上述したシリカは、中空シリカ微粒子であることが好ましく、このような中空シリカ微粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は３０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
また、上記低屈折率層は単層で効果が得られるが、より低い最低反射率、あるいはより高い最低反射率を調整する目的で、低屈折率層及び高屈折率層を２層以上設けることも適宜可能である。上記２層以上の異なる屈折率を有する層を設ける場合、各々の層の屈折率及び厚みに差異を設けることが好ましい。
また、上述したシリカは、中空シリカ微粒子であることが好ましく、このような中空シリカ微粒子は、例えば、特開２００５−０９９７７８号公報の実施例に記載の製造方法にて作製できる。
これらの低屈折率層は、その屈折率が１．４５以下、特に１．４２以下であることが好ましい。
また、低屈折率層の厚みは限定されないが、通常は３０ｎｍ〜１μｍ程度の範囲内から適宜設定すれば良い。
また、上記低屈折率層は単層で効果が得られるが、より低い最低反射率、あるいはより高い最低反射率を調整する目的で、低屈折率層及び高屈折率層を２層以上設けることも適宜可能である。上記２層以上の異なる屈折率を有する層を設ける場合、各々の層の屈折率及び厚みに差異を設けることが好ましい。
上記フッ素系樹脂としては、少なくとも分子中にフッ素原子を含む重合性化合物又はその重合体を用いることができる。重合性化合物としては特に限定されないが、例えば、電離放射線で硬化する官能基、熱硬化する極性基等の硬化反応性の基を有するものが好ましい。また、これらの反応性の基を同時に併せ持つ化合物でもよい。この重合性化合物に対し、重合体とは、上記のような反応性基などを一切もたないものである。
上記電離放射線で硬化する官能基を有する重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を有するフッ素含有モノマーを広く用いることができる。より具体的には、フルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロブタジエン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）を例示することができる。（メタ）アクリロイルオキシ基を有するものとしては、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、α−トリフルオロメタクリル酸メチル、α−トリフルオロメタクリル酸エチルのような、分子中にフッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物；分子中に、フッ素原子を少なくとも３個持つ炭素数１〜１４のフルオロアルキル基、フルオロシクロアルキル基又はフルオロアルキレン基と、少なくとも２個の（メタ）アクリロイルオキシ基とを有する含フッ素多官能（メタ）アクリル酸エステル化合物等もある。
上記熱硬化する極性基として好ましいのは、例えば、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、エポキシ基等の水素結合形成基である。これらは、塗膜との密着性だけでなく、シリカ等の無機超微粒子との親和性にも優れている。熱硬化性極性基を持つ重合性化合物としては、例えば、４−フルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体；フルオロエチレン−炭化水素系ビニルエーテル共重合体；エポキシ、ポリウレタン、セルロース、フェノール、ポリイミド等の各樹脂のフッ素変性品等が挙げられる。
上記電離放射線で硬化する官能基と熱硬化する極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
上記電離放射線で硬化する官能基と熱硬化する極性基とを併せ持つ重合性化合物としては、アクリル又はメタクリル酸の部分及び完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルエーテル類、完全又は部分フッ素化ビニルエステル類、完全又は部分フッ素化ビニルケトン類等を例示することができる。
また、フッ素系樹脂としては、例えば、次のようなものを挙げることができる。
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体等が例示される。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
上記電離放射線硬化性基を有する重合性化合物の含フッ素（メタ）アクリレート化合物を少なくとも１種類含むモノマー又はモノマー混合物の重合体；上記含フッ素（メタ）アクリレート化合物の少なくとも１種類と、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレートの如き分子中にフッ素原子を含まない（メタ）アクリレート化合物との共重合体；フルオロエチレン、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、３，３，３−トリフルオロプロピレン、１，１，２−トリクロロ−３，３，３−トリフルオロプロピレン、ヘキサフルオロプロピレンのような含フッ素モノマーの単独重合体又は共重合体等が例示される。これらの共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体も用いることができる。この場合のシリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサン、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が例示される。なかでも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
更には、以下のような化合物からなる非重合体又は重合体も、フッ素系樹脂として用いることができる。すなわち、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基を有する含フッ素化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基のようなイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオールのようなフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等を用いることができる。
また、上記したフッ素原子を持つ重合性化合物や重合体とともに、バインダー樹脂を混合して使用することもできる。更に、反応性基等を硬化させるための硬化剤、塗工性を向上させたり、防汚性を付与させたりするために、各種添加剤、溶剤を適宜使用することができる。
上記バインダー樹脂としては、透明性のものが好ましく、例えば、紫外線又は電子線により硬化する樹脂である電離放射線硬化型樹脂が紫外線又は電子線の照射により硬化したものであることが好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、アクリレート系等の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、テトラペンタエリスリトールデカ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、ポリエステルトリ（メタ）アクリレート、ポリエステルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、ジグリセリンテトラ（メタ）アクリレート、アダマンチルジ（メタ）アクリレート、イソボロニルジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の多官能化合物等を挙げることができる。なかでも、ペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）が好適に用いられる。なお、本明細書において「（メタ）アクリレート」は、メタクリレート及びアクリレートを指すものである。また、本発明では、上記電離放射線硬化型樹脂として、上述した化合物をＰＯ、ＥＯ等で変性したものも使用できる。
上記化合物のほかに、不飽和二重結合を有する比較的低分子量（数平均分子量３００〜８万、好ましくは４００〜５０００）のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も上記電離放射線硬化型樹脂として使用することができる。なお、この場合の樹脂とは、モノマー以外のダイマー、オリゴマー、ポリマー全てを含む。
本発明における好ましい化合物としては、３以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。このような化合物を用いると形成するハードコート層の架橋密度を高めることができ、塗硬度を良好にできる。
具体的には、本発明においては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）等を適宜組み合わせて用いることが好ましい。
本発明における好ましい化合物としては、３以上の不飽和結合を有する化合物が挙げられる。このような化合物を用いると形成するハードコート層の架橋密度を高めることができ、塗硬度を良好にできる。
具体的には、本発明においては、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ポリエステル多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）、ウレタン多官能アクリレートオリゴマー（３〜１５官能）等を適宜組み合わせて用いることが好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂は、溶剤乾燥型樹脂（熱可塑性樹脂等、塗工時に固形分を調整するために添加した溶剤を乾燥させるだけで、被膜となるような樹脂）と併用して使用することもできる。溶剤乾燥型樹脂を併用することによって、ハードコート層を形成する際に、塗液の塗布面の被膜欠陥を有効に防止することができる。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等がより好ましい。
上記電離放射線硬化型樹脂と併用して使用することができる溶剤乾燥型樹脂としては特に限定されず、一般に、熱可塑性樹脂を使用することができる。
上記熱可塑性樹脂としては特に限定されず、例えば、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ハロゲン含有樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロース誘導体、シリコーン系樹脂及びゴム又はエラストマー等を挙げることができる。上記熱可塑性樹脂は、非結晶性で、かつ有機溶媒（特に複数のポリマーや硬化性化合物を溶解可能な共通溶媒）に可溶であることが好ましい。特に、透明性や耐候性という観点から、スチレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、セルロース誘導体（セルロースエステル類等）等がより好ましい。
また、上記バインダー樹脂としては、熱硬化性樹脂を含有していてもよい。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
上記熱硬化性樹脂としては特に限定されず、例えば、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン−尿素共縮合樹脂、ケイ素樹脂、ポリシロキサン樹脂等を挙げることができる。
上記溶剤としては、使用する樹脂成分の種類及び溶解性に応じて選択して使用することができ、例えば、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等）、エーテル類（ジオキサン、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等）、脂肪族炭化水素類（ヘキサン等）、脂環式炭化水素類（シクロヘキサン等）、芳香族炭化水素類（トルエン、キシレン等）、ハロゲン化炭素類（ジクロロメタン、ジクロロエタン等）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等）、水、アルコール類（エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、セロソルブ類（メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等）、セロソルブアセテート類、スルホキシド類（ジメチルスルホキシド等）、アミド類（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）等が例示でき、これらの混合溶媒であってもよい。
特に本発明においては、ケトン系の溶媒でメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか、又は、これらの混合物を少なくとも含むことが、樹脂との相溶性、塗工性に優れるという理由から好ましい。
特に本発明においては、ケトン系の溶媒でメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンのいずれか、又は、これらの混合物を少なくとも含むことが、樹脂との相溶性、塗工性に優れるという理由から好ましい。
上記低屈折率層の形成においては、上述した材料を添加してなる低屈折率層用組成物の粘度を好ましい塗布性が得られる０．５〜５ｍＰａ・ｓ（２５℃）、好ましくは０．７〜３ｍＰａ・ｓ（２５℃）の範囲のものとすることが好ましい。可視光線の優れた反射防止層を実現でき、かつ、均一で塗布ムラのない薄膜を形成することができ、かつ、密着性に特に優れた低屈折率層を形成することができる。
上記低屈折率層層組成物を上記光透過性基材上に塗布し形成した塗膜を乾燥後、該塗膜中の樹脂を硬化させることで低屈折率層を形成することができる。
上記低屈折率層層組成物を上記光透過性基材上に塗布し形成した塗膜を乾燥後、該塗膜中の樹脂を硬化させることで低屈折率層を形成することができる。
上記樹脂の硬化手段としては、電離放射線を照射する方法が挙げられ、例えば、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク灯、ブラックライト蛍光灯、メタルハライドランプ灯等の光源を用いる方法が挙げられる。
また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
また、硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
また、紫外線の波長としては、１９０〜３８０ｎｍの波長域を使用することができる。電子線源の具体例としては、コッククロフトワルト型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器型、又は直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器が挙げられる。
また、硬化処理のために加熱手段が利用される場合には、加熱により、例えばラジカルを発生して重合性化合物の重合を開始させる熱重合開始剤がフッ素系樹脂組成物に添加されることが好ましい。
上記低屈折率層用組成物は、更に光重合開始剤を含有することが好ましい。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
上記光重合開始剤としては特に限定されず、公知のものを用いることができ、具体例には、例えば、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、チオキサントン類、プロピオフェノン類、ベンジル類、ベンゾイン類、アシルホスフィンオキシド類が挙げられる。また、光増感剤を混合して用いることが好ましく、その具体例としては、例えば、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等が挙げられる。
上記光重合開始剤としては、上記電離放射線硬化型樹脂がラジカル重合性不飽和基を有する樹脂系の場合は、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、チオキサントン類、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等を単独又は混合して用いることが好ましい。また、上記電離放射線硬化型樹脂がカチオン重合性官能基を有する樹脂系の場合は、上記光重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ベンゾインスルホン酸エステル等を単独又は混合物として用いることが好ましい。
本発明において用いる開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化型樹脂の場合は、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、及び、黄変も少ないという理由から好ましい。
本発明において用いる開始剤としては、ラジカル重合性不飽和基を有する電離放射線硬化型樹脂の場合は、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトンが、電離放射線硬化型樹脂との相溶性、及び、黄変も少ないという理由から好ましい。
上記低屈折率層の層厚（ｎｍ）ｄＡは、下記式（ａ）：
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ） （ａ）
（上記式中、
ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。
ｄＡ＝ｍλ／（４ｎＡ） （ａ）
（上記式中、
ｎＡは低屈折率層の屈折率を表し、
ｍは正の奇数を表し、好ましくは１を表し、
λは波長であり、好ましくは４８０〜５８０ｎｍの範囲の値である）
を満たすものが好ましい。
また、本発明にあっては、低屈折率層は下記式（ｂ）：
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５ （ｂ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
１２０＜ｎＡｄＡ＜１４５ （ｂ）
を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
本発明の光学積層体は、上記反射防止層表面の視感度反射率Ｙが０．３％以下であることが好ましい。０．３％を超えると、本発明の光学積層体の干渉縞の改善効果が劣ることとなる場合がある。干渉縞は本発明の光学積層体の表面反射光の振幅が小さいほど低減されるため、上記視感反射率Ｙのより好ましい上限は０．２％である。
なお、上記反射防止層表面の視感度反射率Ｙとは、ＪＩＳ Ｚ８７０１に規定されるＣ光源に対する３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの分光反射率に対して、ＣＩＥ（国際照明委員会）が定義した等色関数Ｙ（λ）を用いて、視感度補正したものである。
また、視感度とは、人間の眼の色感覚、つまり、網膜の色知覚細胞の感度の感受度に相当するものである。
なお、上記反射防止層表面の視感度反射率Ｙとは、ＪＩＳ Ｚ８７０１に規定されるＣ光源に対する３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの分光反射率に対して、ＣＩＥ（国際照明委員会）が定義した等色関数Ｙ（λ）を用いて、視感度補正したものである。
また、視感度とは、人間の眼の色感覚、つまり、網膜の色知覚細胞の感度の感受度に相当するものである。
また、本発明の光学積層体は、反射色相値が、色相ａ＊の絶対値が３以上（ａ＊≦−３、３≦ａ＊）であるか、又は、色相ｂ＊の絶対値が３以上（ｂ＊≦−３、３≦ｂ＊）であることが好ましい。色相ａ＊の絶対値及び色相ｂ＊の絶対値のいずれかが３以上であることで、干渉縞の視認性が低下するため好ましい。
なお、反射色相とは、ＪＩＳ Ｚ８７０１に規定されたＸＹＺ表色系における三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを用いた物体色の表示方法であり、上記反射色相値は、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの分光反射率に対するＪＩＳ Ｚ８７２９に規定されたＣＩＥ１９７６（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）のうち、ａ＊、ｂ＊のことである。
なお、反射色相とは、ＪＩＳ Ｚ８７０１に規定されたＸＹＺ表色系における三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを用いた物体色の表示方法であり、上記反射色相値は、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの分光反射率に対するＪＩＳ Ｚ８７２９に規定されたＣＩＥ１９７６（Ｌ＊ａ＊ｂ＊）のうち、ａ＊、ｂ＊のことである。
また、本発明の光学積層体は、全光線透過率が８０％以上であることが好ましい。８０％未満であると、画像表示装置に装着した場合において、色再現性や視認性を損なうおそれがある他、所望のコントラストが得られないおそれがある。上記全光線透過率は、９０％以上であることがより好ましい。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
上記全光線透過率は、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により測定することができる。
また、本発明の光学積層体は、ヘイズが１％以下であることが好ましい。１％を超えると、所望の光学特性が得られず、本発明の光学積層体を画像表示表面に設置した際の視認性が低下する。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。
上記ヘイズは、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いてＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法により測定することができる。
本発明の光学積層体は、上述した式（１）で表される関係を満たすように、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層及びハードコート層の屈折率を制御し、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材を所定の方向で配置することで製造することができる。このような本発明の光学積層体の製造方法もまた、本発明の一つである。
すなわち、本発明の光学積層体の製造方法は、少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体の製造方法であって、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材を、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する工程を有し、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記アンダーコート層の膜厚をｄ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする。
本発明の光学積層体の製造方法において、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層、並びに、偏光子としては、上述した本発明の光学積層体と同様のものが挙げられる。
また、上記「上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する」とは、上述した本発明の光学積層体と同様の意味である。
また、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材と上記偏光子との積層は、上述したアンダーコート層を介して行うことが好ましい。
また、上記「上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する」とは、上述した本発明の光学積層体と同様の意味である。
また、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材と上記偏光子との積層は、上述したアンダーコート層を介して行うことが好ましい。
上述した本発明の光学積層体を備えてなる画像表示装置もまた、本発明の一つである。
本発明の画像表示装置は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。
本発明の画像表示装置は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。
上記の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の光学積層体が形成されてなるものである。
本発明の画像表示装置が本発明の光学積層体を有する液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明の光学積層体の下側から照射される。なお、液晶表示素子と光源側の偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
上記ＰＤＰは、表面に電極を形成した表面ガラス基板と、当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置され、電極及び、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成した背面ガラス基板とを備えてなるものである。本発明の画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に上述した本発明の光学積層体を備えるものでもある。
本発明の画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の最表面又はその前面板の表面に上述した本発明の光学積層体を備えるものである。
ここで、本発明が上記光学積層体有する液晶表示装置の場合、該液晶表示装置において、バックライト光源としては特に限定されないが、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）であることが好ましく、本発明の画像表示装置は、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードの液晶表示装置であることが好ましい。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明所コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
また、上記ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードとは、電圧無印加のときに液晶分子が液晶セルの基板に垂直になるように配向されて暗表示を示し、電圧の印加で液晶分子を倒れ込ますことで明表示を示す動作モードである。
また、上記ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードとは、液晶セルの一方の基板に設けた櫛形電極対に印加された横方向の電界により、液晶を基板面内で回転させて表示を行う方式である。
本発明の光学積層体を用いた画像表示装置が、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードであることが好ましいのは、以下の理由からである。
すなわち、本発明の画像表示装置は、表示画面に入射する割合の多い左右方向に振動する光（Ｓ偏光）の本発明の光学積層体での反射を低減させることができるが、結果として、多くのＳ偏光が透過することとなる。通常、これらの透過したＳ偏光は、表示装置内部で吸収されるが、観測者側に戻ってくる光もごく僅かであるが存在する。ＶＡモード又はＩＰＳモードは、液晶セルよりも観測者側に設置された偏光子の吸収軸が、表示画面に対して左右方向であるため、本発明の光学積層体を透過したＳ偏光を吸収することができ、より、観測者側に戻ってくる光を低下させることができるからである。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明所コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、本発明における上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
また、上記ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードとは、電圧無印加のときに液晶分子が液晶セルの基板に垂直になるように配向されて暗表示を示し、電圧の印加で液晶分子を倒れ込ますことで明表示を示す動作モードである。
また、上記ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モードとは、液晶セルの一方の基板に設けた櫛形電極対に印加された横方向の電界により、液晶を基板面内で回転させて表示を行う方式である。
本発明の光学積層体を用いた画像表示装置が、バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードであることが好ましいのは、以下の理由からである。
すなわち、本発明の画像表示装置は、表示画面に入射する割合の多い左右方向に振動する光（Ｓ偏光）の本発明の光学積層体での反射を低減させることができるが、結果として、多くのＳ偏光が透過することとなる。通常、これらの透過したＳ偏光は、表示装置内部で吸収されるが、観測者側に戻ってくる光もごく僅かであるが存在する。ＶＡモード又はＩＰＳモードは、液晶セルよりも観測者側に設置された偏光子の吸収軸が、表示画面に対して左右方向であるため、本発明の光学積層体を透過したＳ偏光を吸収することができ、より、観測者側に戻ってくる光を低下させることができるからである。
本発明の画像表示装置は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、電子ペーパー、タッチパネル、タブレットＰＣなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤ、タッチパネルなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
また、このような画像表示装置は、例えば、上述した方法により製造した本発明の光学積層体を、表示画面側の偏光板上に積層することで製造することができる。
すなわち、本発明の画像表示装置の製造方法は、少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体を用いた画像表示装置の製造方法であって、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材を、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する工程を有するものであり、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記アンダーコート層の膜厚をｄ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする。
すなわち、本発明の画像表示装置の製造方法は、少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体を用いた画像表示装置の製造方法であって、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材を、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する工程を有するものであり、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記アンダーコート層の膜厚をｄ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする。
本発明の画像表示装置の製造方法において、上記光学積層体としては、上述した本発明の光学積層体と同様のものが挙げられる。
また、上記また、上記「上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する」とは、上述した本発明の光学積層体と同様の意味である。
また、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材と上記偏光子との積層は、上述したアンダーコート層を介して行うことが好ましい。
また、上記また、上記「上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する」とは、上述した本発明の光学積層体と同様の意味である。
また、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材と上記偏光子との積層は、上述したアンダーコート層を介して行うことが好ましい。
本発明の画像表示装置は、上述した本発明の光学積層体が用いられており、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸と、画像表示装置の表示画面の左右方向とが平行となるように配置され、また、上記光学積層体を構成する光透過性基材、アンダーコート層及びハードコート層が特定の屈折率の関係を満たすものであるため、干渉縞の発生が改善されたものとなる。このような画像表示装置の干渉縞改善方法もまた、本発明の一つである。
すなわち、本発明の画像表示装置の干渉縞改善方法は、少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体を用いた画像表示装置の干渉縞改善方法であって、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材を、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置し、上記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、上記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、上記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たすことを特徴とする。
本発明の画像表示装置の干渉縞改善方法において、上記光学積層体としては、上述した本発明の光学積層体と同様のものが挙げられ、また、上記画像表示装置としては、上述した本発明の画像表示装置と同様のものが挙げられる。
また、上記「面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置」とは、上述した本発明の光学積層体と同様のことを意味する。
また、上記「面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、上記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置」とは、上述した本発明の光学積層体と同様のことを意味する。
本発明の光学積層体は、上述した構成からなるものであるため、ポリエステルフィルムのような面内に複屈折率を有する光透過性基材上にハードコート層が積層された構成であっても、干渉縞の発生を高度に抑制できたものとなる。
以下に実施例及び比較例を掲げて本発明を更に詳しく説明するが、本発明はこれら実施例及び比較例のみに限定されるものではない。
（光透過性基材の作製）
（面内に複屈折を有する光透過性基材Ａの作製）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、ガラス上にて、ゆっくりと冷却し、光透過性基材ａを得た。波長５５０ｎｍにおけるΔｎ＝０．０００３５であり、平均屈折率Ｎ＝１．６１６７であった。
上記光透過性基材ａを、１２０℃で４．０倍固定端一軸延伸して、面内に複屈折を有する光透過性基材Ａを作製した。分光光度計を用いて、屈折率波長分散（ｎｘ、ｎｙ）を計算した。波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎｘ＝１．７０１、ｎｙ＝１．６０１５であり、ｎｚ＝１．５４７６であった。
（面内に複屈折を有する光透過性基材Ａの作製）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、ガラス上にて、ゆっくりと冷却し、光透過性基材ａを得た。波長５５０ｎｍにおけるΔｎ＝０．０００３５であり、平均屈折率Ｎ＝１．６１６７であった。
上記光透過性基材ａを、１２０℃で４．０倍固定端一軸延伸して、面内に複屈折を有する光透過性基材Ａを作製した。分光光度計を用いて、屈折率波長分散（ｎｘ、ｎｙ）を計算した。波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎｘ＝１．７０１、ｎｙ＝１．６０１５であり、ｎｚ＝１．５４７６であった。
（面内に複屈折を有する光透過性基材Ｂの作製）
ポリエチレンナフタレート材料を２９０℃で溶融して、ガラス上にて、ゆっくりと冷却し、光透過性基材ｂを得た。波長５５０ｎｍにおけるΔｎ＝０．０００４であり、平均屈折率Ｎ＝１．６８３３であった。
上記光透過性基材ｂを、１２０℃で４．０倍固定端一軸延伸して、面内に複屈折を有する光透過性基材Ｂを作製した。分光光度計を用いて、屈折率波長分散（ｎｘ、ｎｙ）を計算した。波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎｘ＝１．８４７２、ｎｙ＝１．６４６６であり、ｎｚ＝１．５５６１であった。
ポリエチレンナフタレート材料を２９０℃で溶融して、ガラス上にて、ゆっくりと冷却し、光透過性基材ｂを得た。波長５５０ｎｍにおけるΔｎ＝０．０００４であり、平均屈折率Ｎ＝１．６８３３であった。
上記光透過性基材ｂを、１２０℃で４．０倍固定端一軸延伸して、面内に複屈折を有する光透過性基材Ｂを作製した。分光光度計を用いて、屈折率波長分散（ｎｘ、ｎｙ）を計算した。波長５５０ｎｍにおける屈折率ｎｘ＝１．８４７２、ｎｙ＝１．６４６６であり、ｎｚ＝１．５５６１であった。
（実施例１）
光透過性基材Ａの表面に、下記組成のアンダーコート層用組成物１を、乾燥後（４０℃×１分）の膜厚が０．０８５μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させてアンダーコート層（屈折率１．５７）を形成した。
形成したアンダーコート層の上に、下記組成のハードコート層用組成物１を、乾燥後（６０℃×１分）の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させてハードコート層（屈折率１．５４）を形成した。
次いで、形成したハードコート層の上に、下記組成の高屈折率層用組成物１を、乾燥後（５０℃×１分）の膜厚が０．１６μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて高屈折率層（屈折率１．６２）を形成した。
そして、形成した高屈折率層の上に、下記組成の低屈折率層用組成物１を、乾燥後（４０℃×１分）の膜厚が０．１０μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて低屈折率層（屈折率１．３３）を形成し、光学積層体を製造した。
なお、製造した光学積層体は、低屈折率層側からの表面反射率が０．４５％、そのときの反射色相はａ＊が−０．５６、ｂ＊が−０．７４であった。
光透過性基材Ａの表面に、下記組成のアンダーコート層用組成物１を、乾燥後（４０℃×１分）の膜厚が０．０８５μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させてアンダーコート層（屈折率１．５７）を形成した。
形成したアンダーコート層の上に、下記組成のハードコート層用組成物１を、乾燥後（６０℃×１分）の膜厚が１０μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させてハードコート層（屈折率１．５４）を形成した。
次いで、形成したハードコート層の上に、下記組成の高屈折率層用組成物１を、乾燥後（５０℃×１分）の膜厚が０．１６μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて高屈折率層（屈折率１．６２）を形成した。
そして、形成した高屈折率層の上に、下記組成の低屈折率層用組成物１を、乾燥後（４０℃×１分）の膜厚が０．１０μｍとなるように塗布し、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン社製、光源Ｈバルブ）を用いて、窒素雰囲気（酸素濃度２００ｐｐｍ以下）下にて、積算光量１００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線照射を行って硬化させて低屈折率層（屈折率１．３３）を形成し、光学積層体を製造した。
なお、製造した光学積層体は、低屈折率層側からの表面反射率が０．４５％、そのときの反射色相はａ＊が−０．５６、ｂ＊が−０．７４であった。
（アンダーコート層用組成物１）
ＯＰＰＥ（オクソフェニルフェノールアクリレート、第一工業製薬社製） １．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
１．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．１５質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．００３質量部
ＭＩＢＫ ９７質量部
ＯＰＰＥ（オクソフェニルフェノールアクリレート、第一工業製薬社製） １．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
１．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．１５質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．００３質量部
ＭＩＢＫ ９７質量部
（ハードコート層用組成物１）
ＵＶ−７６００Ｂ（日本合成化学社製） ２４質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
２４質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ２質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０５質量部
ＭＩＢＫ ５０質量部
ＵＶ−７６００Ｂ（日本合成化学社製） ２４質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
２４質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ２質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０５質量部
ＭＩＢＫ ５０質量部
（高屈折率層用組成物１）
Ｂ３６４Ｍ（御国色素社製） ７．３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
１．６質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０８質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０３質量部
ＭＩＢＫ ４８質量部
ＰＧＭＥ ４３質量部
Ｂ３６４Ｍ（御国色素社製） ７．３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
１．６質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０８質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０３質量部
ＭＩＢＫ ４８質量部
ＰＧＭＥ ４３質量部
（低屈折率層用組成物１）
中空シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分：２０質量％、溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒径：６０ｎｍ） ９質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
１質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０７質量部
変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．０８質量部
ＭＩＢＫ ８０質量部
ＰＧＭＥＡ １０質量部
中空シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分：２０質量％、溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒径：６０ｎｍ） ９質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
１質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０７質量部
変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．０８質量部
ＭＩＢＫ ８０質量部
ＰＧＭＥＡ １０質量部
（実施例２）
実施例１で得られた光学積層体の裏面に、光透過性基材Ａの進相軸と偏光子の吸収軸が平行となるように偏光子を貼合し、偏光子を備えた光学積層体を得た。
実施例１で得られた光学積層体の裏面に、光透過性基材Ａの進相軸と偏光子の吸収軸が平行となるように偏光子を貼合し、偏光子を備えた光学積層体を得た。
（実施例３）
低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物２（硬化後屈折率１．３０）を用いた以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．１６％、そのときの反射色相はａ＊が１．１０、ｂ＊が−２．１５であった。
低屈折率層用組成物１の代わりに、下記組成の低屈折率層用組成物２（硬化後屈折率１．３０）を用いた以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．１６％、そのときの反射色相はａ＊が１．１０、ｂ＊が−２．１５であった。
（低屈折率層用組成物２）
中空シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分：２０質量％、溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒径：６０ｎｍ） １０．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
０．７５質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０７質量部
変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．０８質量部
ＭＩＢＫ ７８．６質量部
ＰＧＭＥＡ １０質量部
中空シリカ微粒子（該シリカ微粒子の固形分：２０質量％、溶液；メチルイソブチルケトン、平均粒径：６０ｎｍ） １０．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
０．７５質量部
重合開始剤（イルガキュア１２７；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０７質量部
変性シリコーンオイル（Ｘ２２１６４Ｅ；信越化学工業社製） ０．０８質量部
ＭＩＢＫ ７８．６質量部
ＰＧＭＥＡ １０質量部
（実施例４）
アンダーコート層の乾燥後の膜厚が０．１００μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．４４％、そのときの反射色相はａ＊が−０．３８、ｂ＊が−０．２２であった。
アンダーコート層の乾燥後の膜厚が０．１００μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．４４％、そのときの反射色相はａ＊が−０．３８、ｂ＊が−０．２２であった。
（実施例５）
高屈折率層の乾燥後の膜厚が０．１４μｍとなるように塗布し、低屈折率層の乾燥後の膜厚が０．０９μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．５１％、そのときの反射色相はａ＊が４．８５、ｂ＊が−０．０２であった。
高屈折率層の乾燥後の膜厚が０．１４μｍとなるように塗布し、低屈折率層の乾燥後の膜厚が０．０９μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．５１％、そのときの反射色相はａ＊が４．８５、ｂ＊が−０．０２であった。
（実施例６）
低屈折率層の乾燥後の膜厚が０．１１μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．５６％、そのときの反射色相はａ＊が−０．５７、ｂ＊が−６．５２であった。
低屈折率層の乾燥後の膜厚が０．１１μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．５６％、そのときの反射色相はａ＊が−０．５７、ｂ＊が−６．５２であった。
（実施例７）
アンダーコート層の乾燥後の膜厚が０．１００μｍとなるように塗布し、高屈折率層の乾燥後の膜厚が０．１４μｍとなるように塗布し、低屈折率層の乾燥後の膜厚が０．０９μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．１９％、そのときの反射色相はａ＊が５．１８、ｂ＊が−１．１４であった。
アンダーコート層の乾燥後の膜厚が０．１００μｍとなるように塗布し、高屈折率層の乾燥後の膜厚が０．１４μｍとなるように塗布し、低屈折率層の乾燥後の膜厚が０．０９μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．１９％、そのときの反射色相はａ＊が５．１８、ｂ＊が−１．１４であった。
（実施例８）
面内に複屈折を有する光透過性基材Ａの代わりに、面内に複屈折を有する光透過性基材Ｂを用い、アンダーコート層用組成物１の代わりに下記組成のアンダーコート層用組成物２（硬化後屈折率１．５９）を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．４４％、そのときの反射色相はａ＊が−０．６１、ｂ＊が−０．９８であった。
面内に複屈折を有する光透過性基材Ａの代わりに、面内に複屈折を有する光透過性基材Ｂを用い、アンダーコート層用組成物１の代わりに下記組成のアンダーコート層用組成物２（硬化後屈折率１．５９）を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．４４％、そのときの反射色相はａ＊が−０．６１、ｂ＊が−０．９８であった。
（アンダーコート層用組成物２）
ＯＰＰＥ（オクソフェニルフェノールアクリレート、第一工業製薬社製） ２．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
０．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．１５質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．００３質量部
ＭＩＢＫ ９７質量部
ＯＰＰＥ（オクソフェニルフェノールアクリレート、第一工業製薬社製） ２．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
０．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．１５質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．００３質量部
ＭＩＢＫ ９７質量部
（実施例９）
ハードコート層用組成物１の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物２（硬化後屈折率１．５０）を用い、アンダーコート層用組成物１の代わりに、下記組成のアンダーコート層用組成物３（硬化後屈折率１．５５）を用いた以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．８５％、そのときの反射色相はａ＊が−０．５７、ｂ＊が０．６８であった。
ハードコート層用組成物１の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物２（硬化後屈折率１．５０）を用い、アンダーコート層用組成物１の代わりに、下記組成のアンダーコート層用組成物３（硬化後屈折率１．５５）を用いた以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．８５％、そのときの反射色相はａ＊が−０．５７、ｂ＊が０．６８であった。
（ハードコート層用組成物２）
ＭＩＢＫ−ＳＤ（日産化学社製） ７５．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製） ２２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） １．８質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０５質量部
ＭＩＢＫ−ＳＤ（日産化学社製） ７５．５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製） ２２．５質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） １．８質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０５質量部
（アンダーコート層用組成物３）
ＯＰＰＥ（オクソフェニルフェノールアクリレート、第一工業製薬社製） ０．６質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
２．４質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．１５質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．００３質量部
ＭＩＢＫ ９７質量部
ＯＰＰＥ（オクソフェニルフェノールアクリレート、第一工業製薬社製） ０．６質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
２．４質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．１５質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．００３質量部
ＭＩＢＫ ９７質量部
（実施例１０）
ハードコート層用組成物１の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物３（硬化後屈折率１．５８）を用い、アンダーコート層用組成物１の代わりに、アンダーコート層用組成物２（硬化後屈折率１．５９）を用いた以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．６２％、そのときの反射色相はａ＊が０．３０、ｂ＊が−２．５４であった。
ハードコート層用組成物１の代わりに、下記組成のハードコート層用組成物３（硬化後屈折率１．５８）を用い、アンダーコート層用組成物１の代わりに、アンダーコート層用組成物２（硬化後屈折率１．５９）を用いた以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．６２％、そのときの反射色相はａ＊が０．３０、ｂ＊が−２．５４であった。
（ハードコート層用組成物３）
Ｂ３６４Ｍ（御国色素社製） ６５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製） ３３質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） １．９質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０５質量部
Ｂ３６４Ｍ（御国色素社製） ６５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製） ３３質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） １．９質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０５質量部
（比較例１）
アンダーコート層用組成物１の代わりに、下記組成のアンダーコート層用組成物４（硬化後屈折率１．６２）を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．４９％、そのときの反射色相はａ＊が１．７０、ｂ＊が１．４４であった。
アンダーコート層用組成物１の代わりに、下記組成のアンダーコート層用組成物４（硬化後屈折率１．６２）を用いた以外は、実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．４９％、そのときの反射色相はａ＊が１．７０、ｂ＊が１．４４であった。
（アンダーコート層用組成物４）
Ｂ３６４Ｍ（御国色素社製） ７．３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
１．６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０８質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０３質量部
ＭＩＢＫ ４８質量部
ＰＧＭＥ ４３質量部
Ｂ３６４Ｍ（御国色素社製） ７．３質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）（ダイセル・サイテック社製）
１．６質量部
重合開始剤（イルガキュア１８４；ＢＡＳＦジャパン社製） ０．０８質量部
レベリング剤（Ｆ５５４；ＤＩＣ社製） ０．０３質量部
ＭＩＢＫ ４８質量部
ＰＧＭＥ ４３質量部
（比較例２）
アンダーコート層の乾燥後の膜厚が０．３００μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．４７％、そのときの反射色相はａ＊が０．８９、ｂ＊が０．９０であった。
アンダーコート層の乾燥後の膜厚が０．３００μｍとなるように塗布した以外は実施例１と同様にして光学積層体を製造した。
なお、低屈折率層側からの表面反射率は０．４７％、そのときの反射色相はａ＊が０．８９、ｂ＊が０．９０であった。
実施例及び比較例に係る光学積層体の干渉縞の発生の有無を以下の方法で評価し、結果を表１に示した。
（干渉縞）
実施例及び比較例で得られた各光学積層体の低屈折率層と逆の面（光透過性基材側面、実施例２に係る光学積層体については、偏光子の表面）を、アンダーコート層（接着層）を介して、裏面反射を防止するための黒アクリル板に貼り、比較的強い光源にて室内（明所）の偏光環境を仮定するため、偏光子を光学積層体との間に設置して偏光光源とした三波長管（日立製作所社製、あかりん棒２０形１８Ｗ、ＦＬ２０ＳＳ−ＥＸ−Ｎ／１８−Ｊ、３波長形白昼色）の下で干渉縞の状態を観察した。このとき、各光学積層体の光透過性基材の進相軸を光源の偏光方向と平行となるようにして低屈折率層の面をほぼ正面からの観察となるよう光源と各光学積層体と観察位置のなす角が１０°以内となるように目視で観察し、さらに、斜め位置からの観察として光源と各光学積層体と観察位置のなす角が４５°となるように目視で観察し、干渉縞の発生の有無を以下の基準により評価した。
なお、実施例１に係る光学積層体を用い、光透過性基材の進相軸が光源の偏光方向と１５°の角度をなすように観察したものを、実施例１１に係る光学積層体として評価し、実施例１に係る光学積層体を用い、光透過性基材の進相軸が光源の偏光方向と３０°の角度をなすようにして観察したものを比較例３として評価し、実施例１の光学積層体を用い、光透過性基材の進相軸が光源の偏光方向と９０°の角度をなすようにして観察したものを比較例４として評価した。
◎＊：いずれの観察角においても干渉縞を視認することができなかった。
◎：いずれかの観察角において干渉縞を視認することができなかった。
○：いずれの観察角においても干渉縞の発生が若干あるが問題ないレベルであった。
×：干渉縞の発生があった。
実施例及び比較例で得られた各光学積層体の低屈折率層と逆の面（光透過性基材側面、実施例２に係る光学積層体については、偏光子の表面）を、アンダーコート層（接着層）を介して、裏面反射を防止するための黒アクリル板に貼り、比較的強い光源にて室内（明所）の偏光環境を仮定するため、偏光子を光学積層体との間に設置して偏光光源とした三波長管（日立製作所社製、あかりん棒２０形１８Ｗ、ＦＬ２０ＳＳ−ＥＸ−Ｎ／１８−Ｊ、３波長形白昼色）の下で干渉縞の状態を観察した。このとき、各光学積層体の光透過性基材の進相軸を光源の偏光方向と平行となるようにして低屈折率層の面をほぼ正面からの観察となるよう光源と各光学積層体と観察位置のなす角が１０°以内となるように目視で観察し、さらに、斜め位置からの観察として光源と各光学積層体と観察位置のなす角が４５°となるように目視で観察し、干渉縞の発生の有無を以下の基準により評価した。
なお、実施例１に係る光学積層体を用い、光透過性基材の進相軸が光源の偏光方向と１５°の角度をなすように観察したものを、実施例１１に係る光学積層体として評価し、実施例１に係る光学積層体を用い、光透過性基材の進相軸が光源の偏光方向と３０°の角度をなすようにして観察したものを比較例３として評価し、実施例１の光学積層体を用い、光透過性基材の進相軸が光源の偏光方向と９０°の角度をなすようにして観察したものを比較例４として評価した。
◎＊：いずれの観察角においても干渉縞を視認することができなかった。
◎：いずれかの観察角において干渉縞を視認することができなかった。
○：いずれの観察角においても干渉縞の発生が若干あるが問題ないレベルであった。
×：干渉縞の発生があった。
表１に示したように、式（１）及び式（２）を満たし、また、光透過性基材の進相軸と画像表示装置の左右方向とが平行に配置された実施例に係る光学積層体は、干渉縞の防止性に優れていた。
一方、比較例１に係る光学積層体は、式（１）を満たさず、比較例２に係る光学積層体は、式（２）を満たさず、比較例３及び４に係る光学積層体は、光透過性基材の進相軸と画像表示装置の左右方向とが平行でなかったため、干渉縞の防止性に劣っていた。
なお、実施例及び比較例で得られた光学積層体について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いて、ＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により全光線透過率を測定し、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法によりヘイズを測定したところ、すべての実施例及び比較例において、全光線透過率は９３％以上であり、基材のヘイズを差し引いた、塗膜部分のみのヘイズは０．３％以下であった。
一方、比較例１に係る光学積層体は、式（１）を満たさず、比較例２に係る光学積層体は、式（２）を満たさず、比較例３及び４に係る光学積層体は、光透過性基材の進相軸と画像表示装置の左右方向とが平行でなかったため、干渉縞の防止性に劣っていた。
なお、実施例及び比較例で得られた光学積層体について、ヘイズメーター（村上色彩技術研究所製、製品番号；ＨＭ−１５０）を用いて、ＪＩＳ Ｋ−７３６１に準拠した方法により全光線透過率を測定し、ＪＩＳ Ｋ−７１３６に準拠した方法によりヘイズを測定したところ、すべての実施例及び比較例において、全光線透過率は９３％以上であり、基材のヘイズを差し引いた、塗膜部分のみのヘイズは０．３％以下であった。
本発明の光学積層体は、ポリエステルフィルムのような面内に複屈折率を有する光透過性基材上にハードコート層が積層された構成であっても、画像表示装置に用いられた場合に干渉縞の発生を高度に抑制できたものとなる。
Claims (9)
- 少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体であって、
前記面内に複屈折率を有する光透過性基材は、前記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、前記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置され、
前記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、前記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、前記アンダーコート層の膜厚をｄ、前記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たす
ことを特徴とする光学積層体。
- 面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸と、画像表示装置の表示画面側の偏光板の偏光子の吸収軸とが平行になるように配置されている請求項１記載の光学積層体。
- 反射防止層表面の視感度反射率Ｙが０．３％以下である請求項１又は２記載の光学積層体。
- アンダーコート層の膜厚ｄが、前記アンダーコート層の波長６５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ６５０としたとき、下記式（３）を満たす請求項１、２又は３記載の光学積層体。
- 反射色相値が、色相ａ＊の絶対値が３以上であるか、又は、色相ｂ＊の絶対値が３以上である請求項１、２、３又は４記載の光学積層体。
- 少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体の製造方法であって、
前記面内に複屈折率を有する光透過性基材を、前記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、前記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置する工程を有し、
前記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、前記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、前記アンダーコート層の膜厚をｄ、前記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たす
ことを特徴とする光学積層体の製造方法。
- 請求項１、２、３、４又は５記載の光学積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。
- バックライト光源として白色発光ダイオードを備えたＶＡモード又はＩＰＳモードの液晶表示装置である請求項７記載の画像表示装置。
- 少なくとも、面内に複屈折率を有する光透過性基材、アンダーコート層、ハードコート層及び反射防止層がこの順に積層され、画像表示装置の表示画面側の偏光板上に配置して用いられる光学積層体を用いた画像表示装置の干渉縞改善方法であって、
前記面内に複屈折率を有する光透過性基材を、前記面内に複屈折率を有する光透過性基材の屈折率が小さい方向である進相軸と、前記画像表示の表示画面の左右方向とが平行になるように配置し、
前記面内に複屈折率を有する光透過性基材の進相軸方向の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＦ、前記アンダーコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＵＣ、前記アンダーコート層の膜厚をｄ、前記ハードコート層の波長５５０ｎｍにおける屈折率をｎＨＣとしたとき、下記式（１）及び式（２）を満たす
ことを特徴とする画像表示装置の干渉縞改善方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014105568A JP2015219508A (ja) | 2014-05-21 | 2014-05-21 | 光学積層体、光学積層体の製造方法、画像表示装置及び画像表示装置の干渉縞改善方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014105568A JP2015219508A (ja) | 2014-05-21 | 2014-05-21 | 光学積層体、光学積層体の製造方法、画像表示装置及び画像表示装置の干渉縞改善方法 |
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|---|---|---|---|---|
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Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013088836A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | パナソニック株式会社 | 反射防止部材 |
| WO2013179951A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板、偏光板の製造方法、画像表示装置、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置の視認性改善方法 |
-
2014
- 2014-05-21 JP JP2014105568A patent/JP2015219508A/ja active Pending
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| WO2013088836A1 (ja) * | 2011-12-16 | 2013-06-20 | パナソニック株式会社 | 反射防止部材 |
| WO2013179951A1 (ja) * | 2012-05-31 | 2013-12-05 | 大日本印刷株式会社 | 光学積層体、偏光板、偏光板の製造方法、画像表示装置、画像表示装置の製造方法及び画像表示装置の視認性改善方法 |
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| JP2020008861A (ja) * | 2018-07-09 | 2020-01-16 | エスケイシー・カンパニー・リミテッドＳｋｃ Ｃｏ．， Ｌｔｄ． | 光学多層フィルム、これを含む光学部品および表示装置 |
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