JP2015203606A - 放射線撮像装置及びその製造方法、並びに放射線撮像システム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 放射線撮像装置の製造方法は、センサ基板および該センサ基板の上に光を検出するセンサ部を有するセンサパネルの前記センサ部側の面と第2の基板の表面とにシンチレータを蒸着してシンチレータ層を形成する工程と、前記シンチレータ層が形成された前記センサパネルをシンチレータ層が形成された前記第2の基板から分離して放射線撮像装置を取得する工程と、を含む。前記シンチレータ層を形成する工程は、前記センサ基板の側面と前記第2の基板の側面とが接触するかまたは前記シンチレータ層の厚さの2倍以下の間隙をおいて位置するように保持しながら行われる。
【選択図】 図1
Description
以下、本発明の第1実施形態の放射線撮像装置の製造方法を図1に基づいて説明する。図1の(a)は、第1実施形態の放射線撮像装置の製造方法を示す断面図である。センサパネル10は、センサ基板(第1の基板)2と、センサ基板2の上に配置された光を検出するセンサ部(画素部)3とを含む。センサ基板2には、ガラス基板等の絶縁性基板、シリコン基板、アルミニウム基板、アモルファスカーボン等のカーボン基板等が使用される。
(1)複数のセンサ基板2の側面が互いに少なくとも一部で接触している、または、複数のセンサ基板2の側面が互いに間隙をおいて位置していても、側面間の間隙は形成するシンチレータ層8の厚さの2倍以下、好ましくは0.1mm以下である。
(2)複数のセンサパネル10の蒸着面側の表面の段差は、シンチレータ層8の厚さより小さい。
以下、第2実施形態の放射線撮像装置の製造方法を図2に基づいて説明する。図2の(a)は、第2実施形態の断面図であり、(b)は、平面図である。第2実施形態においても、第1実施形態と同様に、2枚のセンサ基板2を突き当て部5で突き当てた状態でホルダー1および錘部材4を用いて保持しながらシンチレータ層8を形成する。
以下、第3実施形態の放射線撮像装置の製造方法を図3に基づいて説明する。図3は、第3実施形態の断面図である。第3実施形態においても、第1実施形態と同様に、2枚のセンサ基板2を突き当て部5で突き当てた状態でホルダー1および錘部材4を用いて保持しながらシンチレータ層8を形成する。
本実施形態では、2枚のセンサ基板2を保持する方法として、2枚のセンサ基板2を突き当てて保持する場合を図示した。しかし、静電吸着により2枚のセンサ基板2を基台12に保持する方法、または、耐熱性の粘着シート(粘着層)15を介して2枚のセンサ基板2を基台12に保持してもよい。
上記の各実施形態で製造された放射線撮像装置200を含む放射線撮像システムを、図8を用いて説明する。図8に示すように、X線チューブ(放射線源)210で発生した放射線(X線)211は、患者あるいは被験者220の胸部221を透過し、放射線撮像装置200に入射する。この入射したX線には患者220の体内部の情報が含まれている。X線の入射に対応してシンチレータ層8は発光し、この発光をセンサパネル10のセンサ部(光電変換素子)3が光電変換して、電気的情報を得る。この電気的情報は、デジタルに変換され、信号処理部(イメージプロセッサ)230により画像処理され、表示部(ディスプレイ)240によって観察できる。
Claims (19)
- センサ基板および該センサ基板の上に光を検出するセンサ部を有するセンサパネルの前記センサ部側の面と第2の基板の表面とにシンチレータを蒸着してシンチレータ層を形成する工程と、
前記シンチレータ層が形成された前記センサパネルをシンチレータ層が形成された前記第2の基板から分離して放射線撮像装置を取得する工程と、
を含み、
前記シンチレータ層を形成する工程は、前記センサ基板の側面と前記第2の基板の側面とが接触するかまたは前記シンチレータ層の厚さの2倍以下の間隙をおいて位置するように保持しながら行われることを特徴とする放射線撮像装置の製造方法。 - 前記シンチレータ層を形成する工程で、前記センサパネルの前記面と前記第2の基板の前記表面との段差が前記シンチレータ層の厚さよりも小さくなるように前記センサパネルと前記第2の基板とを保持することを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記シンチレータ層を形成する工程で、前記センサ基板の前記側面と前記第2の基板の前記側面とが接触するように前記センサ基板と前記第2の基板とを突き当てた状態で前記センサパネルと前記第2の基板とを保持することを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記センサ基板と前記第2の基板とを突き当てた状態で、前記センサ基板の前記側面の前記蒸着面側の一部が前記第2の基板の前記側面の一部と接触し、前記センサ基板の前記蒸着面と反対の側において前記センサ基板の側面の残部と前記第2の基板の前記側面の残部とがテーパー形状の空間を形成し、該空間に前記テーパー形状の部材を配置した状態で前記センサパネルと前記第2の基板とを保持することを特徴とする請求項3に記載の製造方法。
- 前記シンチレータ層を形成する工程で、前記センサ基板の前記側面と前記第2の基板の前記側面とが0.1mm以下の間隙をおいて配置され、前記間隙の大きさを規定し前記センサ基板と前記第2の基板とを接続する接続部材を前記間隙に配置した状態で前記センサパネルと前記第2の基板とを保持することを特徴とする請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記シンチレータ層を形成する工程で、前記センサパネルの前記蒸着面の周縁部と前記第2の基板に前記蒸着面側の表面の周縁部とを支持することを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記シンチレータ層を形成する工程で、前記センサパネルの前記蒸着面と反対の側の背面における周縁部の一部と前記第2の基板の前記背面側の表面の周縁部の一部を押圧することを特徴とする請求項6に記載の製造方法。
- 前記シンチレータ層を形成する工程で、前記センサパネルの前記蒸着面と反対の側の背面と前記第2の基板の前記背面側の表面とを静電チャックによって基台に保持することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記シンチレータ層を形成する工程で、前記センサパネルの前記蒸着面と反対の側の背面と前記第2の基板の前記背面側の表面とを粘着層によって基台に保持することを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記第2の基板は、センサ基板および該センサ基板の上に光を検出するセンサ部を有する他のセンサパネルであることを特徴とする請求項1ないし9のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記センサパネルと前記他のセンサパネルとは、同一の保持基板の上に形成され、前記保持基板を切り出すことによって取得されたことを特徴とする請求項10に記載の製造方法。
- 前記第2の基板は、前記センサ基板と同一の材料で形成されていることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に記載の製造方法。
- 前記第2の基板は、シンチレータの付着確率および熱容量の少なくともいずれが前記センサ基板と同一であることを特徴とする請求項1ないし11のいずれか1項に記載の製造方法。
- 第1の基板の側面と第2の基板の側面とが接触するかまたは間隙をおいて位置するように前記第1の基板および前記第2の基板を保持しながら前記第1の基板の蒸着面および前記第2の基板の蒸着面にシンチレータを蒸着してシンチレータ層を形成する工程と、
シンチレータ層が形成された前記第1の基板をシンチレータ層が形成された前記第2の基板から分離してシンチレータパネルを取得する工程と、
センサ基板および該センサ基板の上に光を検出するセンサ部を有するセンサパネルの前記センサ部側に前記シンチレータパネルを取り付けて放射線撮像装置を取得する工程と、
を含み、
前記間隙は、前記シンチレータ層の厚さの2倍以下であることを特徴とする放射線撮像装置の製造方法。 - 前記シンチレータ層を形成する工程で、前記第1の基板の前記蒸着面と前記第2の基板の前記蒸着面との段差が前記シンチレータ層の厚さよりも小さくなるように前記第1の基板と前記第2の基板とを保持することを特徴とする請求項14に記載の製造方法。
- 前記第1の基板と前記第2の基板は、同一の材料で形成されていることを特徴とする請求項14または15に記載の製造方法。
- 前記第2の基板は、シンチレータの付着確率および熱容量の少なくともいずれが前記第1の基板と同一であることを特徴とする請求項14または15に記載の製造方法。
- 請求項1ないし17のいずれか1項に記載の製造方法によって製造され、前記第2の基板が位置した側の周縁部におけるシンチレータ層が前記蒸着面に垂直な側壁を有することを特徴とする放射線撮像装置。
- 請求項18に記載の放射線撮像装置と、
前記放射線撮像装置からの信号を処理する信号処理部と、
前記信号処理部からの信号を表示するための表示部と、
前記放射線を発生させるための放射線源と、
を備えることを特徴とする放射線撮像システム。
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