JP2015153475A - Organic electroluminescent element and display device - Google Patents

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晋二 中嶋
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve light extraction efficiency of light generated in an organic light-emitting layer in an organic EL element when the organic light-emitting layer has a structure in which sections are divided by partitions.SOLUTION: An organic EL element 10 comprises: a TFT substrate 1; a first electrode 2 provided on the TFT substrate 1 by patterning; an organic light-emitting medium layer 4 which is provided on the first electrode 2 and includes an organic light-emitting layer 6; a second electrode 7 which is provided at a position facing the first electrode 2 across the organic light-emitting medium layer 4; and partitions 3 each of which extends, on the TFT substrate 1 between the adjacent first electrodes 2, to a height exceeding that of the organic light-emitting medium layer 4, and which divide the organic light-emitting medium layer 4 into individual unit light-emitting cells. Each of the partitions 3 has a reflection part 3b which reflects light incident from the TFT substrate 1 onto the TFT substrate 1.

Description

本発明は有機エレクトロルミネッセンス素子（以下、有機ＥＬ素子と称する場合がある）および表示装置に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence element (hereinafter sometimes referred to as an organic EL element) and a display device.

従来、発光デバイスを用いて画像を表示する電子看板（サイネージ）やディスプレイなどの表示装置が知られている。
有機ＥＬ素子は、ふたつの対向する電極の間に有機発光材料からなる有機発光層が形成され、有機発光層に電流を流すことで発光させるものである。有機ＥＬ素子を効率よく発光させるには有機発光層の膜厚が重要であり、例えば、１００ｎｍ程度の薄膜にする必要がある。さらにカラー表示を行う有機ＥＬ素子の場合には、表示を行うための各画素が予め決められた配列バターンにしたがって、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の発光をするように、有機発光層を高精細にパターニングする必要がある。
このような有機ＥＬ素子の製造方法としては、基板上に一方の電極を形成した後、画素を構成する発光単位セルの領域を囲む隔壁を形成し、隔壁の内部に所定厚の有機発光材料をコーティングして有機発光層を形成する製造方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。 2. Description of the Related Art Conventionally, display devices such as an electronic signboard (signage) and a display that display an image using a light emitting device are known.
In the organic EL element, an organic light emitting layer made of an organic light emitting material is formed between two opposing electrodes, and light is emitted by passing a current through the organic light emitting layer. The film thickness of the organic light emitting layer is important for efficiently emitting light from the organic EL element, and it is necessary to make the film thin, for example, about 100 nm. Further, in the case of an organic EL element that performs color display, each pixel for performing display emits red (R), green (G), and blue (B) according to a predetermined arrangement pattern. It is necessary to pattern the organic light emitting layer with high definition.
As a method for manufacturing such an organic EL element, after one electrode is formed on a substrate, a partition wall that surrounds a region of a light emitting unit cell that constitutes a pixel is formed, and an organic light-emitting material having a predetermined thickness is formed inside the partition wall. A manufacturing method for forming an organic light emitting layer by coating is known (see, for example, Patent Document 1).

特開２０１１−１７０９８１号公報JP 2011-170981 A

しかしながら、上記のような従来技術には、以下のような問題があった。
有機ＥＬ素子では、有機発光層を挟む電極の一方が、透光性基板上に形成された透明電極からなり、有機ＥＬ素子で発光した光は、透明電極と透光性基板とを透過して素子外部に取り出される。このとき、透光性基板の屈折率と空気の屈折率が異なることに由来して、透光性基板と空気との界面で、一部の光が全反射を起こす。この全反射した光は素子内を導光し、素子の側面から漏れたり、素子内部で消滅したりする。一般に光の８０％程度は透光性基板と空気の界面の全反射によって透光性基板内を導光して最終的には光量損失を引き起こし、素子の表面からの光の取り出し効率は２０％程度になると言われている。
特に、特許文献１に記載されたような、発光単位セルが隔壁によって区画された有機ＥＬ素子では、隔壁は各発光単位セルに対応して隣接する有機発光層や電極を絶縁する絶縁部材の機能も有している。このため、光取り出し側から有機ＥＬ素子を見ると、隔壁は、電極が設けられた透光性基板上で、光取り出し側の電極の間の隙間を埋めるように配置されている。
透光性基板内で全反射して隔壁の部位に向かう光の一部は、隔壁内に漏れて減衰するため、隔壁が光取り出し効率を低下させる要因になっているという問題がある。
有機ＥＬ素子の光取り出し効率が低いと、所定の輝度を維持するための消費電力が増大し、有機発光層の劣化を起こしやすくなるという問題がある。 However, the prior art as described above has the following problems.
In the organic EL element, one of the electrodes sandwiching the organic light emitting layer is composed of a transparent electrode formed on the translucent substrate, and light emitted from the organic EL element is transmitted through the transparent electrode and the translucent substrate. It is taken out of the element. At this time, part of the light is totally reflected at the interface between the light-transmitting substrate and air because the light-transmitting substrate and the air have different refractive indexes. The totally reflected light is guided through the element and leaks from the side surface of the element or disappears inside the element. Generally, about 80% of light is guided through the translucent substrate by total reflection at the interface between the translucent substrate and the air, eventually causing a light loss, and the light extraction efficiency from the surface of the element is 20%. It is said to be about.
In particular, in an organic EL element in which light emitting unit cells are partitioned by partition walls as described in Patent Document 1, the partition functions as an insulating member that insulates adjacent organic light emitting layers and electrodes corresponding to each light emitting unit cell. Also have. For this reason, when the organic EL element is viewed from the light extraction side, the partition walls are arranged on the translucent substrate provided with the electrodes so as to fill a gap between the electrodes on the light extraction side.
A part of the light totally reflected in the translucent substrate and traveling toward the partition wall leaks into the partition wall and is attenuated, which causes a problem that the partition wall causes a decrease in light extraction efficiency.
When the light extraction efficiency of the organic EL element is low, there is a problem that power consumption for maintaining a predetermined luminance increases and the organic light emitting layer is likely to be deteriorated.

本発明は、上記のような問題に鑑みてなされたものであり、有機発光層が隔壁によって区画された構造を有する場合に有機発光層で発生した光の光取り出し効率を向上することができる有機ＥＬ素子を提供することを目的とする。
また、本発明は、このような有機ＥＬ素子を備えることにより、表示のための消費電力を低減することができる表示装置を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an organic material that can improve the light extraction efficiency of light generated in an organic light emitting layer when the organic light emitting layer has a structure partitioned by partition walls. An object is to provide an EL element.
Moreover, this invention aims at providing the display apparatus which can reduce the power consumption for a display by providing such an organic EL element.

上記の課題を解決するために、本発明の第１の態様の有機エレクトロルミネッセンス素子は、透光性基板と、該透光性基板上に、パターン化して設けられた第一電極と、該第一電極上に設けられ、有機発光層を含む有機発光媒体層と、該有機発光媒体層を挟んで前記第一電極と対向する位置に設けられた第二電極と、互いに隣接する前記第一電極の間の前記透光性基板上において前記有機発光媒体層を超える高さまで延ばされるとともに、前記有機発光媒体層を独立した発光単位セルに区画する隔壁と、を備え、該隔壁は、前記透光性基板から入射する光を前記透光性基板に向けて反射する反射部を有する構成とする。   In order to solve the above-described problems, an organic electroluminescent element according to a first aspect of the present invention includes a translucent substrate, a first electrode provided in a pattern on the translucent substrate, and the first electrode. An organic light emitting medium layer including an organic light emitting layer provided on one electrode, a second electrode provided at a position facing the first electrode across the organic light emitting medium layer, and the first electrodes adjacent to each other A partition that extends to a height exceeding the organic light-emitting medium layer on the light-transmitting substrate in between, and partitions the organic light-emitting medium layer into independent light-emitting unit cells, the partition comprising the light-transmitting The light source is configured to have a reflecting portion that reflects light incident from the transparent substrate toward the light-transmitting substrate.

上記有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記反射部は、金属層によって形成されていることが好ましい。   In the organic electroluminescence element, it is preferable that the reflecting portion is formed of a metal layer.

上記有機エレクトロルミネッセンス素子では、前記反射部は、前記透光性基板に密着して形成されていることが好ましい。   In the organic electroluminescence element, it is preferable that the reflection portion is formed in close contact with the light-transmitting substrate.

本発明の第２の態様の表示装置は、上記有機エレクトロルミネッセンス素子を備え、該有機エレクトロルミネッセンス素子の発光によって画像表示を行う構成とする。   A display device according to a second aspect of the present invention includes the organic electroluminescence element, and has a configuration in which image display is performed by light emission of the organic electroluminescence element.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子によれば、隔壁に反射部を有するため、有機発光層が隔壁によって区画された構造を有する場合に有機発光層で発生した光の光取り出し効率を向上するという効果を奏する。
また、本発明の表示装置によれば、本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子を備えることにより、表示のための消費電力を低減することができるという効果を奏する。 According to the organic electroluminescence device of the present invention, since the barrier rib has the reflective portion, the light extraction efficiency of the light generated in the organic light emitting layer can be improved when the organic light emitting layer has a structure partitioned by the barrier rib. Play.
In addition, according to the display device of the present invention, by providing the organic electroluminescence element of the present invention, there is an effect that power consumption for display can be reduced.

本発明の実施形態の有機ＥＬ素子および表示装置の構成を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the structure of the organic EL element and display apparatus of embodiment of this invention. 図１におけるＡ視図である。It is A view in FIG. 本発明の実施形態の有機ＥＬ素子の製造工程を示す模式的な工程説明図である。It is typical process explanatory drawing which shows the manufacturing process of the organic EL element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の有機ＥＬ素子の製造に用いる印刷装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the printing apparatus used for manufacture of the organic EL element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の有機ＥＬ素子の図３に続く製造工程を示す模式的な工程説明図である。It is typical process explanatory drawing which shows the manufacturing process following FIG. 3 of the organic EL element of embodiment of this invention. 本発明の実施形態の変形例（第１〜第３変形例）の有機ＥＬ素子および表示装置の主要部の構成を示す模式的な断面図である。It is typical sectional drawing which shows the structure of the principal part of the organic EL element of the modification (1st-3rd modification) of embodiment of this invention, and a display apparatus. 本発明の実施形態の変形例（第４変形例）の有機ＥＬ素子および表示装置の主要部の構成を示す模式的な断面図、およびそのＢ部の部分拡大図である。It is typical sectional drawing which shows the structure of the principal part of the organic EL element and display apparatus of the modification (4th modification) of embodiment of this invention, and the elements on larger scale of the B section.

以下では、本発明の実施形態について添付図面を参照して説明する。
本発明の実施形態の表示装置について説明する。
図１は、本発明の実施形態の有機ＥＬ素子および表示装置の構成を示す模式的な断面図である。図２は、図１におけるＡ視図である。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
A display device according to an embodiment of the present invention will be described.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a configuration of an organic EL element and a display device according to an embodiment of the present invention. FIG. 2 is a view on A in FIG.

図１に示すように、本実施形態の表示装置１１は、本実施形態の有機ＥＬ素子１０と、封止層８と、封止部材９と、有機ＥＬ素子１０を発光させるための図示略の駆動部とを備える。
このような表示装置１１は、例えば、電子看板（サイネージ）、ディスプレイ、モニタなどとして用いることができる。ここで、表示装置１１が表示する画像は、特に限定されず、静止画像でも動画像でもよい。また、表示する画像は、輝度パターンや色によって表される広義の画像であり、狭義の画像には限定されない。したがって、表示装置１１が表示する画像には、例えば、文字、数値、記号、標識画像、幾何学的なパターン、色彩によるパターン、グラデーションパターン、絵柄を有しないパターンなどが含まれる。 As shown in FIG. 1, the display device 11 of this embodiment includes an organic EL element 10, a sealing layer 8, a sealing member 9, and an organic EL element 10 that are not shown for emitting light. A drive unit.
Such a display device 11 can be used as, for example, an electronic sign (signage), a display, a monitor, or the like. Here, the image displayed by the display device 11 is not particularly limited, and may be a still image or a moving image. The image to be displayed is a broad image represented by a luminance pattern and color, and is not limited to a narrow image. Therefore, the image displayed by the display device 11 includes, for example, characters, numerical values, symbols, sign images, geometric patterns, patterns based on colors, gradation patterns, patterns having no design, and the like.

有機ＥＬ素子１０は、表示装置１１において、画像や映像の表示を行うための光を発生する装置部分であり、本実施形態では、独立に発光可能な複数の発光単位セルを有している。これらの発光単位セルは、本実施形態では、一例として、赤色、緑色、青色に発光する３種類のものが隣接して配置され、３つの発光単位セルの一組が、フルカラー表示を行うための画素を構成している。これらの画素は、図示略の駆動部に送出された画像信号等の制御信号に基づいて画素駆動され、駆動された画素が発光する。
有機ＥＬ素子１０の駆動方式は、パッシブマトリックス方式、アクティブマトリックス方式のいずれを採用することも可能である。以下では、一例として、アクティブマトリックス方式の場合の例で説明する。
有機ＥＬ素子１０は、ＴＦＴ基板１（透光性基板）、第一電極２、有機発光媒体層４、および第二電極７がこの順に積層されている。有機発光媒体層４は、隔壁３によって、複数の発光単位セルに区画されている。 The organic EL element 10 is a device portion that generates light for displaying an image or video in the display device 11, and in the present embodiment, has a plurality of light emitting unit cells that can emit light independently. In the present embodiment, for example, three types of these light emitting unit cells that emit red, green, and blue are arranged adjacent to each other, and one set of the three light emitting unit cells performs full color display. Constitutes a pixel. These pixels are pixel-driven based on a control signal such as an image signal sent to a drive unit (not shown), and the driven pixels emit light.
As a driving method of the organic EL element 10, either a passive matrix method or an active matrix method can be adopted. Hereinafter, an example in the case of the active matrix method will be described as an example.
In the organic EL element 10, a TFT substrate 1 (translucent substrate), a first electrode 2, an organic light emitting medium layer 4, and a second electrode 7 are laminated in this order. The organic light emitting medium layer 4 is partitioned into a plurality of light emitting unit cells by the partition walls 3.

ＴＦＴ基板１は、第一電極２および隔壁３を形成する素子部形成面１ｂと、素子部形成面１ｂを透過した光を素子部形成面１ｂと反対側に出射する光出射面１ａとを備える。
ＴＦＴ基板１の材質は、電気絶縁性と透光性とを有する板状またはシート状の適宜の材料を採用することができる。
ＴＦＴ基板１に用いる基板材料としては、例えば、ガラス基板や石英基板を採用することができる。また、ＴＦＴ基板１に用いる基板材料には、フレキシブル性（可撓性）を有する材料も採用可能である。このようなフレキシブル性を有する基材例としては、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、シクロオレフィンポリマー、ポリアリレート、ポリアミド、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のプラスチックフィルムやシートを挙げることができる。
また、有機発光媒体層４への水分の侵入を防ぐことを目的として、これら、プラスチックフィルムやシートの表面に、金属酸化物薄膜、金属弗化物薄膜、金属窒化物薄膜、金属酸窒化膜薄膜、あるいは高分子樹脂膜を積層したものを基板材料として利用してもよい。
ＴＦＴ基板１の透過率は、９０％以上とすることが好ましい。 The TFT substrate 1 includes an element portion forming surface 1b for forming the first electrode 2 and the partition wall 3, and a light emitting surface 1a for emitting light transmitted through the element portion forming surface 1b to the side opposite to the element portion forming surface 1b. .
As the material of the TFT substrate 1, an appropriate plate-like or sheet-like material having electrical insulation and translucency can be adopted.
As a substrate material used for the TFT substrate 1, for example, a glass substrate or a quartz substrate can be employed. Further, as the substrate material used for the TFT substrate 1, a material having flexibility (flexibility) can also be adopted. Examples of such flexible base materials include polypropylene, polyethersulfone, polycarbonate, cycloolefin polymer, polyarylate, polyamide, polymethyl methacrylate, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and other plastic films and sheets. Can do.
Further, for the purpose of preventing moisture from entering the organic light emitting medium layer 4, a metal oxide thin film, a metal fluoride thin film, a metal nitride thin film, a metal oxynitride thin film, Alternatively, a laminate of polymer resin films may be used as the substrate material.
The transmittance of the TFT substrate 1 is preferably 90% or more.

ＴＦＴ基板１に用いる上記のような基板材料は、あらかじめ加熱処理を行うことにより、基板内部や表面に吸着した水分を極力低減することがより好ましい。また、基板上に積層される材料に応じて、密着性を向上させるために、超音波洗浄処理、コロナ放電処理、プラズマ処理、ＵＶオゾン処理などの表面処理を施してから使用することが好ましい。   It is more preferable that the above-described substrate material used for the TFT substrate 1 reduces the moisture adsorbed inside or on the surface as much as possible by performing a heat treatment in advance. Further, in order to improve the adhesion depending on the material to be laminated on the substrate, it is preferable to use after performing surface treatment such as ultrasonic cleaning treatment, corona discharge treatment, plasma treatment, UV ozone treatment.

本実施形態では、素子部形成面１ｂには、各発光単位セルの有機発光媒体層４と独立して発光させるため、周知の半導体プロセスによる薄膜トランジスタ１ｃが形成されている。
薄膜トランジスタ１ｃとしては、アクティブマトリックス方式の有機ＥＬ素子の駆動に用いる公知の薄膜トランジスタの構成を適宜用いることができる。詳細構造の図示は省略するが、具体的には、主として、ソース／ドレイン領域及びチャネル領域が形成される活性層、ゲート絶縁膜及びゲート電極から構成される薄膜トランジスタが挙げられる。薄膜トランジスタの構造としては、特に限定されるものではなく、例えば、スタガ型、逆スタガ型、トップゲート型、コプレーナ型等が挙げられる。 In the present embodiment, a thin film transistor 1c by a well-known semiconductor process is formed on the element portion formation surface 1b in order to emit light independently of the organic light emitting medium layer 4 of each light emitting unit cell.
As the thin film transistor 1c, a known thin film transistor used for driving an active matrix type organic EL element can be appropriately used. Although a detailed structure is not shown, specifically, a thin film transistor mainly including an active layer in which a source / drain region and a channel region are formed, a gate insulating film, and a gate electrode can be given. The structure of the thin film transistor is not particularly limited, and examples thereof include a staggered type, an inverted staggered type, a top gate type, and a coplanar type.

なお、図１は、模式図のため、詳細の配線を記載していないが、薄膜トランジスタ１ｃと反射部３ｂとは、互いに電気的に絶縁されている。
また、図１では、第一電極２に対して１つずつ薄膜トランジスタ１ｃが設けられているように図示されているが、２つ以上の薄膜トランジスタ１ｃが配置されていてもよい。 Although FIG. 1 is a schematic diagram, detailed wiring is not shown, but the thin film transistor 1c and the reflecting portion 3b are electrically insulated from each other.
In FIG. 1, the thin film transistors 1 c are illustrated as being provided one by one with respect to the first electrode 2, but two or more thin film transistors 1 c may be disposed.

第一電極２は、後述する有機発光媒体層４に直流電圧を印加するためＴＦＴ基板１の素子部形成面１ｂ上に形成された電極である。本実施形態では、有機発光媒体層４で発生した光をＴＦＴ基板１に向かって透過させるため、透明電極からなり、有機ＥＬ素子１０の陽極を構成している。
第一電極２の透過率としては、９０％以上であることが好ましい。
本実施形態では、アクティブマトリックス方式を採用しているため、第一電極２の平面視形状は、発光単位セルに区画された各有機発光媒体層４を、それぞれ独立して覆う形状に形成される。
本実施形態では、一例として、有機発光媒体層４が。図１における図示ｘ方向が短辺、図示ｙ方向（紙面奥行き方向）が長辺である平面視矩形状に形成されていることに対応して、有機発光媒体層４よりもわずかに大きい矩形状にパターン化して形成されている。
このような各第一電極２には、後述する第二電極７との間にスイッチング素子である薄膜トランジスタ１ｃが接続されており、図示略の駆動部からの制御信号に基づいて、第一電極２ごとに独立して直流電圧が印加されるようになっている。 The first electrode 2 is an electrode formed on the element portion forming surface 1b of the TFT substrate 1 in order to apply a DC voltage to the organic light emitting medium layer 4 described later. In this embodiment, in order to transmit the light generated in the organic light emitting medium layer 4 toward the TFT substrate 1, it is made of a transparent electrode and constitutes the anode of the organic EL element 10.
The transmittance of the first electrode 2 is preferably 90% or more.
In the present embodiment, since the active matrix system is adopted, the planar view shape of the first electrode 2 is formed so as to independently cover each organic light emitting medium layer 4 partitioned into the light emitting unit cells. .
In the present embodiment, the organic light emitting medium layer 4 is an example. The rectangular shape slightly larger than the organic light emitting medium layer 4 corresponding to the rectangular shape in plan view in which the illustrated x direction in FIG. 1 is the short side and the y direction (the depth direction in the drawing) is the long side. It is formed by patterning.
Each of the first electrodes 2 is connected to a thin film transistor 1c, which is a switching element, between the first electrode 2 and a second electrode 7 to be described later. Based on a control signal from a drive unit (not shown), the first electrode 2 A DC voltage is applied independently for each.

第一電極２の材料としては、例えば、ＩＴＯ（インジウムスズ複合酸化物）、ＩＺＯ（インジウム亜鉛複合酸化物）、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、亜鉛アルミニウム複合酸化物等の金属複合酸化物や、金、白金、クロムなどの金属材料を採用することができる。これらの材料は、単独で用いてもよいし、複数を積層して用いてもよい。
第一電極２の形成方法は、材料に応じて、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の乾式成膜法を用いることができる。 Examples of the material of the first electrode 2 include metal composite oxides such as ITO (indium tin composite oxide), IZO (indium zinc composite oxide), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, and zinc aluminum composite oxide. Metal materials such as gold, platinum and chromium can be used. These materials may be used alone, or a plurality of these materials may be laminated.
As a method for forming the first electrode 2, for example, a dry film forming method such as a resistance heating vapor deposition method, an electron beam vapor deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion plating method, or a sputtering method can be used.

特に、ＩＴＯは、低抵抗であること、溶剤耐性があること、透明性が高いことなどから第一電極２として特に好ましい材料である。第一電極２の材料としてＩＴＯを採用する場合は、スパッタリング法により層を形成してから、フォトリソグラフィ法によりパターニングすることで第一電極２を形成することができる。   In particular, ITO is a particularly preferable material for the first electrode 2 because of its low resistance, solvent resistance, and high transparency. When ITO is employed as the material of the first electrode 2, the first electrode 2 can be formed by forming a layer by sputtering and then patterning by photolithography.

互いに隣接する第一電極２の間には、図２に示すように、第一電極２の各辺に沿って延びるように隔壁３が形成されている。
隔壁３は、図１にｘ方向に沿う断面を示すように、素子部形成面１ｂからの高さが、有機発光媒体層４の高さを超える高さまで延ばされた突起部であり、断面形状は、素子部形成面１ｂから離れるにつれて幅が狭まる略等脚台形状とされている。
隔壁３は、有機発光媒体層４を独立した発光単位セルに区画する隔壁本体３ａと、ＴＦＴ基板１から入射する光をＴＦＴ基板１に向けて反射する反射部３ｂとを備える。
隔壁本体３ａの高さは、有機発光媒体層４の形成方法に応じて適宜の高さに設定する。例えば、有機発光媒体層４を凸版印刷法により形成する場合には、凸版印刷法はインクジェット法と異なり、版と印刷対象の基板とが直接的に接するようにして、有機発光媒体層４を形成するためのインキが転移される。このため、隔壁本体３ａの高さは、有機発光媒体層４の最上部の位置よりもわずかに高くなるようにする。例えば、有機発光媒体層４の最上部よりも、０．５μｍ〜１．０μｍ程度高くなるようにすることが好ましい。 As shown in FIG. 2, partition walls 3 are formed between the first electrodes 2 adjacent to each other so as to extend along each side of the first electrode 2.
As shown in FIG. 1, the partition wall 3 is a projecting portion whose height from the element portion forming surface 1 b is extended to a height exceeding the height of the organic light emitting medium layer 4. The shape is a substantially isosceles trapezoidal shape whose width decreases as the distance from the element portion forming surface 1b increases.
The partition 3 includes a partition body 3 a that partitions the organic light emitting medium layer 4 into independent light emitting unit cells, and a reflecting portion 3 b that reflects light incident from the TFT substrate 1 toward the TFT substrate 1.
The height of the partition body 3 a is set to an appropriate height according to the method for forming the organic light emitting medium layer 4. For example, when the organic light emitting medium layer 4 is formed by the relief printing method, the relief printing method is different from the ink jet method, and the organic light emitting medium layer 4 is formed so that the plate and the substrate to be printed are in direct contact with each other. Ink for transferring is transferred. For this reason, the height of the partition main body 3a is set to be slightly higher than the uppermost position of the organic light emitting medium layer 4. For example, it is preferable to be higher by about 0.5 μm to 1.0 μm than the uppermost part of the organic light emitting medium layer 4.

隔壁本体３ａの材質は、電気絶縁性と、隔壁本体３ａで囲まれた領域に有機発光媒体層４を形成する際の液剤に対する耐性とを有する適宜の材料を採用することができる。
本実施形態では、隔壁本体３ａのパターニングは、後述するように、フォトリソグラフィ法によって行うため、樹脂材料を主成分とするポジ型またはネガ型の適宜の感光性材料を採用することができる。
隔壁本体３ａを形成するのに好適な感光性材料としては、例えば、光ラジカル重合系、光カチオン重合系の光硬化性樹脂、あるいはアクリロニトリル成分を含有する共重合体、ポリビニルフェノール、ポリビニルアルコール、ノボラック樹脂、ポリイミド樹脂、およびシアノエチルプルラン等を挙げることができる。 As the material of the partition body 3a, an appropriate material having electrical insulation and resistance to a liquid agent when forming the organic light emitting medium layer 4 in a region surrounded by the partition body 3a can be adopted.
In the present embodiment, the patterning of the partition wall main body 3a is performed by a photolithography method, as will be described later. Therefore, an appropriate positive or negative photosensitive material mainly composed of a resin material can be employed.
Examples of the photosensitive material suitable for forming the partition wall main body 3a include, for example, photo radical polymerization type, photo cationic polymerization type photo-curing resin, or a copolymer containing an acrylonitrile component, polyvinyl phenol, polyvinyl alcohol, and novolak. Examples thereof include resins, polyimide resins, and cyanoethyl pullulan.

反射部３ｂの形状や材質は、ＴＦＴ基板１から入射する光を前記透光性基板に向けて反射できれば、特に限定されない。本実施形態では、反射部３ｂは、素子部形成面１ｂに面する隔壁本体３ａの表面に密着し、隔壁本体３ａの幅方向の内側の範囲に形成された金属単体または合金からなる金属層を採用している。
このため、反射部３ｂは、図１、２に示すように、互いに隣り合う第一電極２の外形に沿って、各第一電極２同士の間隔よりもわずかに狭い帯状に延ばされ、素子部形成面１ｂに密着する表面を除いて隔壁本体３ａに囲まれている。
したがって、反射部３ｂの外縁部と、第一電極２および有機発光媒体層４とは、隔壁本体３ａを介して離間されており、これにより、反射部３ｂと、第一電極２および隔壁本体３ａとは、互いに電気的に絶縁されている。
反射部３ｂの厚さは、例えば、０．０１μｍ以上０．１０μｍ以下であることが好ましい。
反射部３ｂの反射率は、５０％以上であることが好ましい。
反射部３ｂに用いる金属材料としては、例えば、チタン（Ｔｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、金（Ａｕ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、ニッケル（Ｎｉ）、白金（Ｐｔ）、スズ（Ｓｎ）、タングステン（Ｗ）などの金属単体、またはこれら金属のいずれかを主成分として含む合金が好適である。 The shape and material of the reflecting portion 3b are not particularly limited as long as the light incident from the TFT substrate 1 can be reflected toward the translucent substrate. In the present embodiment, the reflective portion 3b is a metal layer made of a single metal or an alloy that is in close contact with the surface of the partition wall body 3a facing the element portion formation surface 1b and is formed in the inner side in the width direction of the partition wall body 3a. Adopted.
For this reason, as shown in FIGS. 1 and 2, the reflection portion 3 b is extended in a band shape slightly narrower than the interval between the first electrodes 2 along the outer shape of the first electrodes 2 adjacent to each other. It is surrounded by the partition wall body 3a except for the surface closely contacting the part forming surface 1b.
Therefore, the outer edge part of the reflection part 3b, the 1st electrode 2, and the organic luminescent medium layer 4 are spaced apart by the partition main body 3a, and, thereby, the reflection part 3b, the first electrode 2, and the partition main body 3a. Are electrically insulated from each other.
The thickness of the reflecting portion 3b is preferably 0.01 μm or more and 0.10 μm or less, for example.
The reflectance of the reflecting portion 3b is preferably 50% or more.
Examples of the metal material used for the reflecting portion 3b include titanium (Ti), aluminum (Al), gold (Au), silver (Ag), chromium (Cr), nickel (Ni), platinum (Pt), and tin (Sn). ), Tungsten (W) and the like, or an alloy containing any one of these metals as a main component is suitable.

有機発光媒体層４は、層厚方向に直流電圧が印加されることにより、注入された電子および正孔を再結合して励起子を生成し、この励起子の失活する際の光の放出により発光する有機発光層６を含む層状部であり、第一電極２と後述する第二電極７との間に挟まれている。
有機発光媒体層４は、有機発光層６のみから構成されていてもよいし、有機発光層６と発光補助層との積層構造から構成されたものでもよい。
図１では、陽極である第一電極２から陰極である第二電極７に向かって、発光補助層である正孔輸送層５と有機発光層６とがこの順に積層された構成の有機発光媒体層６を示している。 The organic light emitting medium layer 4 generates excitons by recombining injected electrons and holes by applying a DC voltage in the layer thickness direction, and emits light when the excitons are deactivated. Is a layered portion including the organic light emitting layer 6 that emits light, and is sandwiched between the first electrode 2 and a second electrode 7 described later.
The organic light emitting medium layer 4 may be composed of only the organic light emitting layer 6 or may be composed of a laminated structure of the organic light emitting layer 6 and the light emission auxiliary layer.
In FIG. 1, an organic light emitting medium having a structure in which a hole transport layer 5 as an emission auxiliary layer and an organic light emitting layer 6 are laminated in this order from a first electrode 2 as an anode toward a second electrode 7 as a cathode. Layer 6 is shown.

ただし、発光補助層は、正孔輸送層５には限定されず、例えば、正孔注入層、電子輸送層、電子注入層などを必要に応じて設けることができる。例えば、正孔輸送層５と有機発光層６との間に正孔注入層を設けた構成や、有機発光層６と第二電極７との間に、有機発光層６側から電子輸送層、電子注入層を順次積層させた構成が可能である。また、これらの一部の層を削除した構成も可能である。   However, the light emission auxiliary layer is not limited to the hole transport layer 5, and for example, a hole injection layer, an electron transport layer, an electron injection layer, and the like can be provided as necessary. For example, a structure in which a hole injection layer is provided between the hole transport layer 5 and the organic light emitting layer 6, or an electron transport layer from the organic light emitting layer 6 side between the organic light emitting layer 6 and the second electrode 7, A configuration in which electron injection layers are sequentially stacked is possible. A configuration in which some of these layers are deleted is also possible.

有機発光媒体層４は、各第一電極２上に積層されるとともに、第一電極２を囲む隔壁３よりも低い層厚となるように形成されている。これにより、有機発光媒体層４は、隔壁３によって、平面視矩形状に区画されている。
本実施形態の有機発光媒体層４における有機発光層６は、フルカラー表示を行うため、ｘ方向に並んだ隣接する３つの発光単位セルが、赤色に発光する赤色有機発光層６Ｒ、緑色に発光する緑色有機発光層６Ｇ、および青色に発光する青色有機発光層６Ｂからなる。
赤色有機発光層６Ｒ、緑色有機発光層６Ｇ、および青色有機発光層６Ｂのｙ方向に配列された各発光単位セルは、それぞれ同色の発光を行う有機発光層６からなる。 The organic light emitting medium layer 4 is laminated on each first electrode 2 and is formed to have a lower layer thickness than the partition 3 surrounding the first electrode 2. Thereby, the organic light emitting medium layer 4 is partitioned by the partition 3 into a rectangular shape in plan view.
Since the organic light emitting layer 6 in the organic light emitting medium layer 4 of the present embodiment performs full color display, three adjacent light emitting unit cells arranged in the x direction emit red light, and the organic light emitting layer 6 emits green light. It consists of a green organic light emitting layer 6G and a blue organic light emitting layer 6B that emits blue light.
Each light emitting unit cell arranged in the y direction of the red organic light emitting layer 6R, the green organic light emitting layer 6G, and the blue organic light emitting layer 6B includes the organic light emitting layer 6 that emits light of the same color.

有機発光層６を形成する有機発光材料の例としては、９，１０−ジアリールアントラセン誘導体、ピレン、コロネン、ペリレン、ルブレン、１，１，４，４−テトラフェニルブタジエン、トリス（８−キノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−８−キノラート）アルミニウム錯体、ビス（８−キノラート） 亜鉛錯体、トリス（４−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノラート）アルミニウム錯体、トリス（４−メチル−５−シアノ−８−キノラート）アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−トリフルオロメチル−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、ビス（２−メチル−５−シアノ−８−キノリノラート）［４−（４−シアノフェニル）フェノラート］アルミニウム錯体、トリス（８−キノリノラート）スカンジウム錯体、ビス［８−（パラートシル）アミノキノリン］亜鉛錯体及びカドミウム錯体、１，２，３，４−テトラフェニルシクロペンタジエン、２，５−ジヘプチルオキシ−パラ−フェニレンビニレンなどの低分子系発光材料を挙げることができる。   Examples of organic light emitting materials for forming the organic light emitting layer 6 include 9,10-diarylanthracene derivatives, pyrene, coronene, perylene, rubrene, 1,1,4,4-tetraphenylbutadiene, tris (8-quinolate) aluminum. Complex, tris (4-methyl-8-quinolato) aluminum complex, bis (8-quinolato) zinc complex, tris (4-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolato) aluminum complex, tris (4-methyl-5) -Cyano-8-quinolate) aluminum complex, bis (2-methyl-5-trifluoromethyl-8-quinolinolato) [4- (4-cyanophenyl) phenolate] aluminum complex, bis (2-methyl-5-cyano- 8-quinolinolato) [4- (4-cyanophenyl) phenolate] aluminum Complexes, tris (8-quinolinolato) scandium complexes, bis [8- (palatosyl) aminoquinoline] zinc complexes and cadmium complexes, 1,2,3,4-tetraphenylcyclopentadiene, 2,5-diheptyloxy-para- A low molecular weight light emitting material such as phenylene vinylene can be given.

また、有機発光層６を形成する有機発光材料の他の例としては、クマリン系蛍光体、ペリレン系蛍光体、ピラン系蛍光体、アンスロン系蛍光体、ポリフィリン系蛍光体、キナクリドン系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアルキル置換キナクリドン系蛍光体、ナフタルイミド系蛍光体、Ｎ，Ｎ’−ジアリール置換ピロロピロール系蛍光対等、Ｉｒ錯体等の燐光性発光体などの低分子系発光材料を、高分子材料中に分散させたものを挙げることができる。これら低分子系発光材料を分散させる高分子材料の例としては、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等を挙げることができる。   Other examples of the organic light emitting material for forming the organic light emitting layer 6 include a coumarin phosphor, a perylene phosphor, a pyran phosphor, an anthrone phosphor, a porphyrin phosphor, a quinacridone phosphor, N , N′-dialkyl-substituted quinacridone-based phosphors, naphthalimide-based phosphors, N, N′-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based fluorescence pairs, phosphorescent phosphors such as Ir complexes, etc. The thing dispersed in can be mentioned. Examples of the polymer material in which these low molecular weight light emitting materials are dispersed include polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinyl carbazole and the like.

また、有機発光層６を形成する有機発光材料の他の例としては、ポリ（２−デシルオキシ−１，４−フェニレン）（ＤＯ−ＰＰＰ）、ポリ［２，５−ビス−［２−（Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリエチルアンモニウム）エトキシ］−１，４−フェニル−アルト−１，４−フェニルレン］ジブロマイド（ＰＰＰ−ＮＥｔ３ ）ポリ［２−（２’−エチルヘキシルオキシ）−５−メトキシ−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＥＨ−ＰＰＶ）、ポリ［５−メトキシ−（２−プロパノキシサルフォニド）−１，４−フェニレンビニレン］（ＭＰＳ−ＰＰＶ）、ポリ［２，５−ビス−（ヘキシルオキシ）−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）］（ＣＮ−ＰＰＶ）、ポリ（９，９−ジオクチルフルオレン）（ＰＤＡＦ） などの高分子発光材料を挙げることができる。高分子発光材料以外にもＰＰＶ前駆体、ＰＮＶ前駆体、ＰＰＰ前駆体などの高分子前駆体が挙げられる。
また、有機発光層６を形成する有機発光材料としては、これら高分子材料に前記低分子発光材料の分散又は共重合した材料や、その他既存の発光材料を用いることもできる。 Other examples of the organic light emitting material for forming the organic light emitting layer 6 include poly (2-decyloxy-1,4-phenylene) (DO-PPP), poly [2,5-bis- [2- (N , N, N-triethylammonium) ethoxy] -1,4-phenyl-alt-1,4-phenyllene] dibromide (PPP-NEt3) poly [2- (2′-ethylhexyloxy) -5-methoxy-1 , 4-phenylene vinylene] (MEH-PPV), poly [5-methoxy- (2-propanoxysulfonide) -1,4-phenylene vinylene] (MPS-PPV), poly [2,5-bis- ( Hexyloxy) -1,4-phenylene- (1-cyanovinylene)] (CN-PPV), poly (9,9-dioctylfluorene) (PDAF), and the like. Kill. In addition to the polymer light emitting material, polymer precursors such as a PPV precursor, a PNV precursor, and a PPP precursor can be used.
In addition, as the organic light emitting material for forming the organic light emitting layer 6, a material obtained by dispersing or copolymerizing the low molecular light emitting material in these polymer materials, or other existing light emitting materials can be used.

正孔輸送層５の材料としては、銅フタロシアニン、テトラ（ｔ−ブチル）銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−１，１’−ビフェニル−４，４’− ジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（１−ナフチル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−１，１’−ビフェニル−４，４’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正孔注入輸送材料や、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸との混合物などの高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他既存の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。   Examples of the material for the hole transport layer 5 include metal phthalocyanines such as copper phthalocyanine and tetra (t-butyl) copper phthalocyanine and metal-free phthalocyanines, quinacridone compounds, 1,1-bis (4-di-p-tolylaminophenyl). ) Cyclohexane, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl) -1,1′-biphenyl-4,4′-diamine, N, N′-di (1-naphthyl) -N , N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine and other aromatic amine-based low-molecular hole injection / transport materials, polyaniline, polythiophene, polyvinylcarbazole, poly (3,4-ethylenedioxy) Polymeric hole transport materials such as a mixture of thiophene and polystyrene sulfonic acid, polythiophene oligomer materials, and other existing hole transport materials You can choose from.

また、電子輸送層の材料の例としては、２−（４−ビフィニルイル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３， ４−オキサジアゾール、オキサジアゾール誘導体やビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリノラート）ベリリウム錯体、トリアゾール化合物等を挙げることができる。   Examples of the material for the electron transport layer include 2- (4-bifinylyl) -5- (4-tert-butylphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2,5-bis (1-naphthyl). ) -1,3,4-oxadiazole, oxadiazole derivatives, bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinolato) beryllium complexes, triazole compounds, and the like.

上述した有機発光媒体層４を形成する材料は、いずれも、溶剤中に溶解または分散させてインキ化し、後述する湿式成膜によって第一電極２上に成膜することが可能である。
上記有機発光材料を溶解または分散する溶媒としては、トルエン、キシレン、アセトン、ヘキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、２−メチル−（ｔ−ブチル）ベンゼン、１，２，３，４−テトラメチルベンゼン、ペンチルベンゼン、１，３，５−トリエチルベンゼン、シクロヘキシルベンゼン、１，３，５−トリ−イソプロピルベンゼン等を単独又は混合して用いることができる。また、有機発光インキには、必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調整剤、紫外線吸収剤等が添加されてもよい。
上記正孔輸送材料、電子輸送材料を溶解または分散させる溶剤としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独またはこれらの混合溶剤などが挙げられる。特に、正孔輸送材料をインキ化する場合には水またはアルコール類が好適である。 Any of the materials for forming the organic light emitting medium layer 4 described above can be dissolved or dispersed in a solvent to form an ink, and can be formed on the first electrode 2 by wet film formation to be described later.
Solvents for dissolving or dispersing the organic light-emitting material include toluene, xylene, acetone, hexane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethyl acetate, butyl acetate, 2-methyl- (t-butyl ) Benzene, 1,2,3,4-tetramethylbenzene, pentylbenzene, 1,3,5-triethylbenzene, cyclohexylbenzene, 1,3,5-tri-isopropylbenzene, etc. may be used alone or in combination. it can. Moreover, surfactant, antioxidant, a viscosity modifier, a ultraviolet absorber, etc. may be added to organic luminescent ink as needed.
Examples of the solvent for dissolving or dispersing the hole transport material and the electron transport material include toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethyl acetate, butyl acetate, and water. These may be used alone or as a mixed solvent thereof. In particular, water or alcohols are suitable when forming a hole transport material into an ink.

第二電極７は、有機発光媒体層４に直流電圧を印加するため、第一電極２の対向電極となるものであり、本実施形態では陰極を構成している。
第二電極７は、本実施形態では、図１に示すように、有機ＥＬ素子１０において、有機発光層６および隔壁３の先端部の全体を覆う層状に設けられている。 The second electrode 7 serves as a counter electrode of the first electrode 2 in order to apply a DC voltage to the organic light emitting medium layer 4, and constitutes a cathode in this embodiment.
In the present embodiment, as shown in FIG. 1, the second electrode 7 is provided in a layered manner covering the entire organic light emitting layer 6 and the tip of the partition wall 3 in the organic EL element 10.

第二電極７の材質は、本実施形態では陰極として用いるため、電子注入効率の高い物質を採用することが好ましい。また、第二電極７材質は、光取り出し効率の点では、反射率が良好な材質であることが好ましい。
具体的には、第二電極７として、例えば、マグネシウム（Ｍｇ）、Ａｌ、イッテルビウム（Ｙｂ）等の金属単体を採用することができる。
また、第二電極７として、電子注入効率の高い金属や化合物の層、例えば、Ｌｉ、酸化リチウム、フッ化リチウム（ＬｉＦ）の層と、安定性や導電性に優れるＡｌや銅（Ｃｕ）等の金属層とを積層して構成し、電子注入効率の高い金属や化合物の層の層を有機発光媒体層４との界面に配置した構成を採用することができる。この場合、電子注入効率の高い金属や化合物の層の層厚は、例えば、１ｎｍ程度が好適である。
また、第二電極７としては、低仕事関数の金属１種以上と、安定性や導電性に優れる金属との合金も好適である。低仕事関数の金属の例としては、例えば、Ｌｉ、Ｍｇ、カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、ランタン（Ｌａ）、セリウム（Ｃｅ）、エルビウム（Ｅｒ）、ユウロビウム（Ｅｕ）、スカンジウム（Ｓｃ）、イットリウム（Ｙ）、Ｙｂ等の金属を挙げることができる。安定性や導電性に優れる金属の例としては、Ａｇ、Ａｌ、Ｃｕ等の金属を挙げることができる。
このような合金の具体例としては、例えば、ＭｇＡｇ合金、ＡｌＬｉ合金、ＣｕＬｉ合金等を挙げることができる。 Since the material of the second electrode 7 is used as a cathode in the present embodiment, it is preferable to employ a material having high electron injection efficiency. The material of the second electrode 7 is preferably a material having good reflectivity in terms of light extraction efficiency.
Specifically, for example, a single metal such as magnesium (Mg), Al, or ytterbium (Yb) can be used as the second electrode 7.
Further, as the second electrode 7, a metal or compound layer with high electron injection efficiency, for example, a layer of Li, lithium oxide, or lithium fluoride (LiF), Al or copper (Cu) having excellent stability or conductivity, etc. It is possible to adopt a configuration in which a metal layer or a metal layer having a high electron injection efficiency is arranged at the interface with the organic light emitting medium layer 4. In this case, the layer thickness of the metal or compound layer having high electron injection efficiency is preferably about 1 nm, for example.
As the second electrode 7, an alloy of one or more metals having a low work function and a metal having excellent stability and conductivity is also suitable. Examples of low work function metals include, for example, Li, Mg, calcium (Ca), strontium (Sr), lanthanum (La), cerium (Ce), erbium (Er), eurobium (Eu), and scandium (Sc). And metals such as yttrium (Y) and Yb. Examples of metals having excellent stability and conductivity include metals such as Ag, Al, and Cu.
Specific examples of such alloys include MgAg alloy, AlLi alloy, CuLi alloy and the like.

このような第二電極７の形成方法は、材料に応じて、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、反応性蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の乾式成膜法を用いることができる。第二電極７の層厚は、１０ｎｍ〜１μｍ程度が望ましい。   As a method for forming the second electrode 7, a dry film forming method such as a resistance heating vapor deposition method, an electron beam vapor deposition method, a reactive vapor deposition method, an ion plating method, or a sputtering method is used depending on the material. Can do. The layer thickness of the second electrode 7 is desirably about 10 nm to 1 μm.

以上、有機ＥＬ素子１０がアクティブマトリックス方式の構成の場合の例で説明した。有機ＥＬ素子１０を、パッシブマトリックス方式の構成とするには、薄膜トランジスタ１ｃを削除し、第一電極２を、例えば、図１のｙ方向に延びてｘ方向に離間したストライプ状に形成し、第二電極７を各発光単位セルと重なるように、図１のｘ方向に延びてｙ方向に離間したストライプ状に形成すればよい。   The example in which the organic EL element 10 has an active matrix type configuration has been described above. In order to make the organic EL element 10 have a passive matrix configuration, the thin film transistor 1c is deleted, and the first electrode 2 is formed in, for example, a stripe shape extending in the y direction and spaced apart in the x direction in FIG. The two electrodes 7 may be formed in stripes extending in the x direction and spaced apart in the y direction so as to overlap each light emitting unit cell.

封止層８は、例えば、ＴＦＴ基板１と反対側からの水分や酸素の侵入を防止して、有機ＥＬ素子１０の劣化を防止するため、ＴＦＴ基板１と反対側の有機ＥＬ素子１０の表面の全体を覆って密着された樹脂層である。
封止層８としては、例えば、アクリレート系、エポキシ系などの接着剤を硬化させた樹脂層を採用することができる。 The sealing layer 8 is, for example, a surface of the organic EL element 10 on the opposite side to the TFT substrate 1 in order to prevent moisture and oxygen from entering from the opposite side to the TFT substrate 1 and prevent the organic EL element 10 from deteriorating. It is the resin layer which covered the whole and adhered.
As the sealing layer 8, for example, a resin layer obtained by curing an acrylate-based or epoxy-based adhesive can be employed.

封止部材９は、封止層８に積層され、表示装置１１においてＴＦＴ基板１と反対側の外表面を形成する部材であり、例えば、板状のガラス版や、表示装置１１の側方も封止する形状のガラスキャップや金属キャップなどからなる。   The sealing member 9 is a member that is laminated on the sealing layer 8 and forms an outer surface opposite to the TFT substrate 1 in the display device 11. For example, a plate-shaped glass plate or a side of the display device 11 is also formed. It consists of a glass cap or a metal cap having a shape to be sealed.

このような構成の表示装置１１は、有機ＥＬ素子１０を製造し、有機ＥＬ素子１０のＴＦＴ基板１と反対側を、封止層８および封止部材９によって封止することにより製造することができる。
まず、有機ＥＬ素子１０の製造方法の一例について説明する。
図３は、本発明の実施形態の有機ＥＬ素子の製造工程を示す模式的な工程説明図である。図４は、本発明の実施形態の有機ＥＬ素子の製造に用いる印刷装置を示す模式図である。図５は、本発明の実施形態の有機ＥＬ素子の図３に続く製造工程を示す模式的な工程説明図である。 The display device 11 having such a configuration can be manufactured by manufacturing the organic EL element 10 and sealing the side of the organic EL element 10 opposite to the TFT substrate 1 with the sealing layer 8 and the sealing member 9. it can.
First, an example of a method for manufacturing the organic EL element 10 will be described.
FIG. 3 is a schematic process explanatory view showing a manufacturing process of the organic EL element of the embodiment of the present invention. FIG. 4 is a schematic diagram illustrating a printing apparatus used for manufacturing the organic EL element according to the embodiment of the present invention. FIG. 5 is a schematic process explanatory view showing a manufacturing process subsequent to FIG. 3 of the organic EL element of the embodiment of the present invention.

有機ＥＬ素子１０を製造するには、まず、ガラス基板やプラスチックフィルムなどの基板材料の一方の表面である素子部形成面１ｂに、周知の半導体プロセスによって、薄膜トランジスタ１ｃを形成して、ＴＦＴ基板１を製造する。   In order to manufacture the organic EL element 10, first, the thin film transistor 1c is formed on the element portion forming surface 1b, which is one surface of a substrate material such as a glass substrate or a plastic film, by a known semiconductor process, and the TFT substrate 1 Manufacturing.

次に、ＴＦＴ基板１の素子部形成面１ｂ上に第一電極２を形成する。例えば、第一電極２の材料としてＩＴＯを用いる場合、素子部形成面１ｂ上に、スパッタリング法などによってＩＴＯの層を形成し、例えば、フォトリソグラフィ法などによりパターニングして、第一電極２を形成する。
本実施形態では、矩形状の第一電極２が、短辺に沿う方向であるｘ方向と、長辺に沿う方向であるｙ方向とにそれぞれ離間して、矩形格子状に配列されるようにパターニングする。 Next, the first electrode 2 is formed on the element part forming surface 1b of the TFT substrate 1. For example, when ITO is used as the material of the first electrode 2, an ITO layer is formed on the element portion forming surface 1 b by a sputtering method or the like, and is patterned by, for example, a photolithography method to form the first electrode 2. To do.
In the present embodiment, the rectangular first electrodes 2 are arranged in the form of a rectangular lattice, being separated from each other in the x direction that is the direction along the short side and the y direction that is the direction along the long side. Pattern.

次に、第一電極２の間の素子部形成面１ｂ上に、反射部３ｂを形成する。
例えば、反射部３ｂを構成する金属や合金などの反射材料を感光性材料とブレンドして、成形材料溶液を作製する。成形材料溶液に用いる感光性材料としては、上述した隔壁本体３ａに好適な感光性材料と同様の材料を採用することができる。
次に、この成形材料溶液を、例えば、スリットコート法やスピンコート法などにより素子部形成面１ｂ上に全面コーティングする。
次に、フォトリソグラフィ法によってパターニングを行う。すなわち、感光性材料がポジ型からネガ型かに応じて、第一電極２の間に格子状の反射部３ｂが残るようなパターンを露光してから現像を行う。これにより、反射部３ｂが形成される。 Next, the reflection part 3 b is formed on the element part formation surface 1 b between the first electrodes 2.
For example, a reflective material such as a metal or an alloy constituting the reflective portion 3b is blended with a photosensitive material to produce a molding material solution. As the photosensitive material used for the molding material solution, a material similar to the photosensitive material suitable for the partition body 3a described above can be employed.
Next, the entire surface of the element forming surface 1b is coated with this molding material solution by, for example, a slit coat method or a spin coat method.
Next, patterning is performed by photolithography. That is, depending on whether the photosensitive material is positive type or negative type, development is performed after exposing a pattern in which a lattice-like reflecting portion 3b remains between the first electrodes 2. Thereby, the reflection part 3b is formed.

次に、隔壁本体３ａを形成する。
本実施形態では、隔壁本体３ａもフォトリソグラフィ法によって形成する。すなわち、隔壁本体３ａとなる樹脂材料を含む上述の感光性材料を、素子部形成面１ｂに形成された第一電極２および反射部３ｂの上に、例えば、スリットコート法やスピンコート法によりコーティングする。
次に、フォトリソグラフィ法によってパターニングを行う。すなわち、感光性材料がポジ型からネガ型かに応じて、反射部３ｂと第一電極２の外縁部とを覆う壁体が残るようなパターンを露光してから現像を行う。これにより、隔壁本体３ａが形成される。 Next, the partition body 3a is formed.
In the present embodiment, the partition body 3a is also formed by photolithography. That is, the above-described photosensitive material including the resin material to be the partition wall body 3a is coated on the first electrode 2 and the reflective portion 3b formed on the element portion forming surface 1b by, for example, a slit coating method or a spin coating method. To do.
Next, patterning is performed by photolithography. That is, depending on whether the photosensitive material is positive or negative, development is performed after exposing a pattern that leaves a wall covering the reflective portion 3b and the outer edge of the first electrode 2. Thereby, the partition main body 3a is formed.

このようにして、図３に断面形状を示すような被印刷基板１２が形成される。
被印刷基板１２では、隣り合う第一電極２と反射部３ｂとは、隙間に隔壁本体３ａが充填されることで、電気的に絶縁されている。
各第一電極２は、隔壁本体３ａによって平面視矩形状に囲まれており、それぞれに発光単位セルを形成するための凹所１２ａが形成されている。 In this way, the printed substrate 12 having a cross-sectional shape shown in FIG. 3 is formed.
In the printed substrate 12, the adjacent first electrode 2 and the reflecting portion 3b are electrically insulated by filling the gap main body 3a in the gap.
Each first electrode 2 is surrounded by a partition wall body 3a in a rectangular shape in plan view, and has a recess 12a for forming a light emitting unit cell.

次に、被印刷基板１２の凹所１２ａに、正孔輸送層５、有機発光層６を積層させて、有機発光媒体層４を形成する。
本実施形態では、有機発光媒体層４は、一例として、湿式成膜法により形成する。ただし、有機発光媒体層４は、例えば、蒸着法、スパッタ法などの乾式成膜法により形成することも可能である。また、湿式成膜法を用いる場合にも、本実施形態のように、有機発光媒体層４が積層構造から構成される場合には、その各層の全てを湿式成膜法により形成する必要はない。
有機発光媒体層４を形成するのに好適な湿式成膜法の例としては、例えば、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、吐出コート法、プレコート法、ロールコート法、バーコート法等の塗布法と、例えば、凸版印刷法、インクジェット印刷法、オフセット印刷法、グラビア印刷法等の印刷法とを挙げることができる。
特に、本実施形態のように有機発光層６が、赤色有機発光層６Ｒ、緑色有機発光層６Ｇ、青色有機発光層６Ｂのように複数種類の発光材料によって形成される場合には、それぞれの発光材料を、発光単位セルを形成する所定の凹所１２ａに選択的に配置することが容易な印刷法を用いる。 Next, the hole transport layer 5 and the organic light emitting layer 6 are laminated in the recess 12 a of the substrate to be printed 12 to form the organic light emitting medium layer 4.
In the present embodiment, the organic light emitting medium layer 4 is formed by a wet film forming method as an example. However, the organic light emitting medium layer 4 can also be formed by, for example, a dry film forming method such as an evaporation method or a sputtering method. Further, even when the wet film forming method is used, when the organic light emitting medium layer 4 has a laminated structure as in the present embodiment, it is not necessary to form all the layers by the wet film forming method. .
Examples of wet film forming methods suitable for forming the organic light emitting medium layer 4 include spin coating, die coating, dip coating, discharge coating, pre-coating, roll coating, bar coating, and the like. Examples of the application method include a relief printing method, an ink jet printing method, an offset printing method, and a gravure printing method.
In particular, when the organic light emitting layer 6 is formed of a plurality of types of light emitting materials such as the red organic light emitting layer 6R, the green organic light emitting layer 6G, and the blue organic light emitting layer 6B as in the present embodiment, the respective light emission. A printing method is used in which it is easy to selectively place the material in the predetermined recess 12a forming the light emitting unit cell.

以下では、一例として、正孔輸送層５をスピンコート法により、有機発光層６を凸版印刷法により形成する場合の例で説明する。   In the following, as an example, a case where the hole transport layer 5 is formed by a spin coating method and the organic light emitting layer 6 is formed by a relief printing method will be described.

まず、正孔輸送層５を形成する正孔輸送層材料を上述の溶剤に溶解または分散させて正孔輸送材料インキを製造する。これを、スピンコート法によって、被印刷基板１２の各凹所１２ａ上に一定の層厚となるように成膜する。
次に、真空加熱オーブンによって、正孔輸送材料インキを乾燥させる。その後、例えば、メタノールなどを用いて、有効発光単位セル域外に付着した正孔輸送材料インキを取り除く。これにより、正孔輸送層５が形成される。 First, a hole transport material ink is manufactured by dissolving or dispersing the hole transport layer material forming the hole transport layer 5 in the above-described solvent. This is deposited by spin coating so as to have a constant layer thickness on each recess 12a of the substrate 12 to be printed.
Next, the hole transport material ink is dried in a vacuum heating oven. Thereafter, the hole transport material ink adhered to the outside of the effective light emitting unit cell region is removed using, for example, methanol. Thereby, the hole transport layer 5 is formed.

次に、凸版印刷法により有機発光層６を形成する。
有機発光層６は、平板に印刷する方式の適宜の凸版印刷装置を使用して形成することができるが、図４に示すような印刷装置１９によって形成することが特に好ましい。
印刷装置１９は、ステージ１３、インクタンク１４、インキチャンバー１５、アニロックスロール１６、および樹脂凸版１８を取り付けした版胴１７を有している。 Next, the organic light emitting layer 6 is formed by a relief printing method.
The organic light emitting layer 6 can be formed using an appropriate letterpress printing apparatus that prints on a flat plate, but is particularly preferably formed by a printing apparatus 19 as shown in FIG.
The printing device 19 has a plate cylinder 17 on which a stage 13, an ink tank 14, an ink chamber 15, an anilox roll 16, and a resin relief plate 18 are attached.

ステージ１３は、被印刷基板１２に正孔輸送層５が形成された被印刷基板１２Ａを、光出射面１ａを下に向けて保持し、被印刷基板１２Ａをｘ方向に搬送する装置部分である。   The stage 13 is an apparatus portion that holds the printed substrate 12A, in which the hole transport layer 5 is formed on the printed substrate 12, with the light emitting surface 1a facing down and conveys the printed substrate 12A in the x direction. .

インクタンク１４には、有機発光層６を形成するため、有機発光材料が溶剤で希釈された有機発光インキが収容されており、この有機発光インキは、インクタンク１４からインキチャンバー１５に送り込まれるようになっている。
本実施形態の有機発光層６は、赤色有機発光層６Ｒ、緑色有機発光層６Ｇ、および青色有機発光層６Ｂから構成されるため、有機発光インキとしては、これら赤色有機発光層６Ｒ、緑色有機発光層６Ｇ、および青色有機発光層６Ｂに対応する３種の有機発光インキが、それぞれ切り替え可能に収容されている。 The ink tank 14 contains an organic light emitting ink in which an organic light emitting material is diluted with a solvent in order to form the organic light emitting layer 6. The organic light emitting ink is sent from the ink tank 14 to the ink chamber 15. It has become.
Since the organic light emitting layer 6 of the present embodiment is composed of a red organic light emitting layer 6R, a green organic light emitting layer 6G, and a blue organic light emitting layer 6B, as the organic light emitting ink, these red organic light emitting layer 6R and green organic light emitting layer are used. Three types of organic light emitting inks corresponding to the layer 6G and the blue organic light emitting layer 6B are accommodated in a switchable manner.

アニロックスロール１６は、インキチャンバー１５から供給された有機発光インキの膜厚を均一化して保持するものであり、インキチャンバー１５のインキ供給部と、外周面に樹脂凸版１８が取り付けられた版胴１７の外周部とに接して回転するようになっている。
なお、アニロックスロール１６と版胴１７とは、ステージ１３上に配置された被印刷基板１２Ａのｙ方向に沿う回転軸回りに回転できるようになっている。 The anilox roll 16 keeps the film thickness of the organic light emitting ink supplied from the ink chamber 15 uniform. The anilox roll 16 has an ink supply portion of the ink chamber 15 and a plate cylinder 17 having a resin relief plate 18 attached to the outer peripheral surface thereof. It rotates in contact with the outer periphery of the.
The anilox roll 16 and the plate cylinder 17 can be rotated about a rotation axis along the y direction of the printing substrate 12A disposed on the stage 13.

樹脂凸版１８は、被印刷基板１２Ａにおいて、有機発光インキを適宜のパターンに印刷するための凸部が形成された版である。本実施形態では、樹脂凸版１８の凸部は、同一の有機発光インキを用いる有機発光層６が被印刷基板１２Ａのｙ方向に沿って整列するとともに、ｘ方向に２つの発光単位セルの分だけ離間して配置されていることに対応したストライプ状とされている。すなわち、樹脂凸版１８の凸部は、版胴１７の軸方向に延び、版胴１７の周方向に離間されたストライプ状のパターンに形成され、各凸部の短手幅は、有機発光層６における発光単位セルのｙ方向に沿う幅と略一致（一致している場合を含む）されている。   The resin relief plate 18 is a plate on which a projection for printing the organic light-emitting ink in an appropriate pattern is formed on the printed substrate 12A. In the present embodiment, the convex portions of the resin relief plate 18 are formed by aligning the organic light emitting layer 6 using the same organic light emitting ink along the y direction of the substrate 12A to be printed and by two light emitting unit cells in the x direction. The stripe shape corresponds to the fact that they are spaced apart. That is, the convex portions of the resin relief plate 18 are formed in a stripe pattern extending in the axial direction of the plate cylinder 17 and spaced apart in the circumferential direction of the plate cylinder 17. Is substantially the same as the width of the light emitting unit cell along the y direction (including the case where they match).

樹脂凸版１８は、水現像タイプの感光性樹脂を用いる形成することが好ましい。本実施形態に好適となる水現像タイプの感光性樹脂としては、例えば親水性のポリマーと不飽和結合を含むモノマーいわゆる架橋性モノマー及び光重合開始剤を構成要素とするタイプを挙げることができる。
このタイプの感光性樹脂では、親水性ポリマーとしてポリアミド、ポリビニルアルコール、セルロース誘導体等が用いられる。また、架橋性モノマーとしては、例えばビニル結合を有するメタクリレート類が挙げられ、光重合開始剤としては例えば芳香族カルボニル化合物が挙げられる。中でも、印刷適性の面からポリアミド系の水現像タイプの感光性樹脂が好適である。 The resin relief 18 is preferably formed using a water developing type photosensitive resin. Examples of the water-developable photosensitive resin suitable for the present embodiment include a type having a hydrophilic polymer and a monomer containing an unsaturated bond, a so-called crosslinkable monomer and a photopolymerization initiator as constituent elements.
In this type of photosensitive resin, polyamide, polyvinyl alcohol, cellulose derivatives and the like are used as hydrophilic polymers. Examples of the crosslinkable monomer include methacrylates having a vinyl bond, and examples of the photopolymerization initiator include aromatic carbonyl compounds. Among these, a polyamide-based water-developable photosensitive resin is preferable from the viewpoint of printability.

このような構成により、アニロックスロール１６の回転にともない、インキチャンバー１５から供給された有機発光インキは、アニロクッスロール１６の表面に均一に保持されたあと、版胴１７に取り付けされた樹脂凸版１８の凸部に均一な膜厚で転移するようになっている。   With such a configuration, the organic light emitting ink supplied from the ink chamber 15 is uniformly held on the surface of the anilox roll 16 as the anilox roll 16 rotates, and then the resin relief plate 18 attached to the plate cylinder 17. The protrusions are transferred with a uniform film thickness.

印刷装置１９によって、有機発光層６を形成するには、ステージ１３上に、被印刷基板１２Ａを配置し、図示略の位置調整機構により、例えば、赤色有機発光層６Ｒを形成する被印刷基板１２Ａ上の位置に、樹脂凸版１８の凸部が当接するように被印刷基板１２と樹脂凸版１８との位置関係を調整する。
そして、赤色有機発光層６Ｒを形成する有機発光インキをインキチャンバー１５に供給して、被印刷基板１２Ａをｘ方向に送りつつ、版胴１７およびアニロックスロール１６を回転して、有機発光インキを被印刷基板１２Ａ上に転移させる印刷を行う。
樹脂凸版１８の凸部に付着した所定層厚の有機発光インキは、被印刷基板１２上で、ｙ方向に整列する凹所１２ａ上に転移する。
このようにして、赤色有機発光層６Ｒを形成する凹所１２ａのすべての印刷が完了したら、加熱することによって、有機発光インキを乾燥させる。 In order to form the organic light emitting layer 6 by the printing device 19, the substrate to be printed 12A is disposed on the stage 13, and the substrate to be printed 12A on which, for example, the red organic light emitting layer 6R is formed by a position adjusting mechanism (not shown). The positional relationship between the printed substrate 12 and the resin relief 18 is adjusted so that the convex portion of the resin relief 18 comes into contact with the upper position.
Then, the organic light emitting ink for forming the red organic light emitting layer 6R is supplied to the ink chamber 15, and the plate cylinder 17 and the anilox roll 16 are rotated while feeding the substrate to be printed 12A in the x direction so that the organic light emitting ink is covered. Printing to be transferred onto the printed board 12A is performed.
The organic light-emitting ink having a predetermined layer thickness attached to the convex portions of the resin relief plate 18 is transferred onto the concave portions 12a aligned in the y direction on the substrate 12 to be printed.
Thus, when all the printing of the recess 12a forming the red organic light emitting layer 6R is completed, the organic light emitting ink is dried by heating.

次に、図示略の位置調整機構により、緑色有機発光層６Ｇを形成する被印刷基板１２Ａ上の位置に、樹脂凸版１８の凸部が当接するように被印刷基板１２と樹脂凸版１８との位置関係を調整する。そして、上記と同様にして緑色有機発光層６Ｇを形成する有機発光インキを印刷し、乾燥させる。
次に、図示略の位置調整機構により、青色有機発光層６Ｂを形成する被印刷基板１２Ａ上の位置に、樹脂凸版１８の凸部が当接するように被印刷基板１２と樹脂凸版１８との位置関係を調整する。そして、上記と同様にして青色有機発光層６Ｂを形成する有機発光インキを印刷し、乾燥させる。
このようにして、図５に示すように、被印刷基板１２上に、有機発光媒体層４が形成された基板１２Ｂが形成される。 Next, the position of the printing substrate 12 and the resin relief plate 18 is adjusted by a position adjustment mechanism (not shown) so that the convex portion of the resin relief plate 18 comes into contact with the position on the printing substrate 12A where the green organic light emitting layer 6G is formed. Adjust the relationship. Then, the organic light emitting ink for forming the green organic light emitting layer 6G is printed and dried in the same manner as described above.
Next, the positions of the printed substrate 12 and the resin relief plate 18 are adjusted by a position adjustment mechanism (not shown) so that the convex portions of the resin relief plate 18 come into contact with the positions on the printed substrate 12A where the blue organic light emitting layer 6B is formed. Adjust the relationship. Then, the organic light emitting ink for forming the blue organic light emitting layer 6B is printed and dried in the same manner as described above.
In this way, as shown in FIG. 5, the substrate 12 </ b> B on which the organic light emitting medium layer 4 is formed is formed on the substrate 12 to be printed.

次に、基板１２Ｂ上に、第二電極７を形成する。例えば、第二電極７をＡｌで形成する場合には、真空蒸着法などによって、有機発光媒体層４および隔壁３の先端部の全面にＡｌを成膜する。
次に、第二電極７を形成した基板を大気曝露しない状態で、例えば、熱硬化型接着剤などを塗布して、封止部材９を貼り付け、熱を加えて熱硬化型接着剤を硬化させることにより、第二電極７と封止部材９との間に封止層８を形成する。
以上で、図１に示すような表示装置１１が形成される。 Next, the second electrode 7 is formed on the substrate 12B. For example, when the second electrode 7 is formed of Al, Al is formed on the entire surface of the organic light emitting medium layer 4 and the tip of the partition 3 by a vacuum deposition method or the like.
Next, in a state where the substrate on which the second electrode 7 is formed is not exposed to the atmosphere, for example, a thermosetting adhesive is applied, the sealing member 9 is applied, and heat is applied to cure the thermosetting adhesive. By doing so, the sealing layer 8 is formed between the second electrode 7 and the sealing member 9.
Thus, the display device 11 as shown in FIG. 1 is formed.

このような表示装置１１によれば、図示略の駆動部から制御信号が送出されて、第一電極２と第二電極７との間に電圧が印加されると、図１に示すように、有機発光層６において発光が起こり、有機発光層６からＴＦＴ基板１に向かう光Ｌ１が出射される。このとき、有機発光層６から第二電極７に向かう光も発生するが、本実施形態では、第二電極７は光反射性を有するため、第二電極７に向かう図示略の光は、第二電極７で一部が反射されて、光Ｌ１と同様に、ＴＦＴ基板１に向かうことになる。
光Ｌ１は、正孔輸送層５、第一電極２を通して、ＴＦＴ基板１の内部に入射する。
光Ｌ１は、光出射面１ａに到達すると、一部が光Ｌ２として、外部に透過し、その他が光Ｌ３として内部反射する。
光Ｌ３は、第一電極２との界面に到達するか、または図１に示すように隔壁３との界面に到達する。
第一電極２との界面に到達した光は、第一電極２および有機発光媒体層４の内部に導光し、第二電極７によって再度反射されてＴＦＴ基板１に戻るか、またはＴＦＴ基板１に戻ることなく減衰する。 According to such a display device 11, when a control signal is sent from a drive unit (not shown) and a voltage is applied between the first electrode 2 and the second electrode 7, as shown in FIG. Light emission occurs in the organic light emitting layer 6, and light L 1 directed from the organic light emitting layer 6 toward the TFT substrate 1 is emitted. At this time, light directed from the organic light emitting layer 6 toward the second electrode 7 is also generated. However, in the present embodiment, since the second electrode 7 has light reflectivity, the light (not illustrated) directed toward the second electrode 7 A part of the light is reflected by the two electrodes 7 and travels toward the TFT substrate 1 similarly to the light L1.
The light L1 enters the TFT substrate 1 through the hole transport layer 5 and the first electrode 2.
When the light L1 reaches the light emitting surface 1a, part of the light L1 is transmitted to the outside as light L2, and the other is internally reflected as light L3.
The light L3 reaches the interface with the first electrode 2 or reaches the interface with the partition 3 as shown in FIG.
The light that reaches the interface with the first electrode 2 is guided into the first electrode 2 and the organic light emitting medium layer 4 and reflected again by the second electrode 7 to return to the TFT substrate 1 or the TFT substrate 1. Attenuate without returning to.

隔壁３との界面に到達した光Ｌ３は、第一電極２と反射部３ｂとの間の隙間に露出した隔壁本体３ａに入射する光（図示略）と、反射部３ｂに照射される図示の光Ｌ３とに分かれる。
隔壁本体３ａに入射する光は、隔壁本体３ａの内部で減衰する。
一方、反射部３ｂに照射された光Ｌ３は、反射部３ｂの反射率に応じて、光出射面１ａ側に向かう光Ｌ４として反射される。
光Ｌ４は、一部が光Ｌ５として、外部に透過し、その他が、光Ｌ３と同様に、ＴＦＴ基板１の内部に反射される。
このため、有機ＥＬ素子１０から外部に取り出される光は、第一電極２を通して直接的に外部に出射される光Ｌ２と、反射部３ｂによって反射されて、外部に出射される光Ｌ５との和になる。
このように、本実施形態の有機ＥＬ素子１０では、反射部３ｂを備えるため、従来技術のように隔壁３に反射部３ｂが設けられていない場合に比べて、有機ＥＬ素子１０からの光取り出し効率を向上することができる。
また、有機発光媒体層４に対する負荷が軽減されるため、有機発光媒体層４の劣化を抑制することができ、有機ＥＬ素子１０の耐久性を向上することができる。
また、本実施形態の表示装置１１は、光取り出し効率が向上された本実施形態の有機ＥＬ素子１０を備えるため、表示のための消費電力を低減することができる。 The light L3 that has reached the interface with the partition wall 3 is incident on the partition body 3a exposed in the gap between the first electrode 2 and the reflection part 3b (not shown) and is irradiated to the reflection part 3b. Divided into light L3.
The light incident on the partition wall body 3a is attenuated inside the partition wall body 3a.
On the other hand, the light L3 irradiated to the reflecting portion 3b is reflected as light L4 toward the light emitting surface 1a according to the reflectance of the reflecting portion 3b.
A part of the light L4 is transmitted to the outside as the light L5, and the other is reflected to the inside of the TFT substrate 1 in the same manner as the light L3.
For this reason, the light extracted to the outside from the organic EL element 10 is the sum of the light L2 directly emitted to the outside through the first electrode 2 and the light L5 reflected by the reflecting portion 3b and emitted to the outside. become.
As described above, since the organic EL element 10 of the present embodiment includes the reflecting portion 3b, light extraction from the organic EL element 10 is performed as compared with the case where the reflecting portion 3b is not provided in the partition wall 3 as in the related art. Efficiency can be improved.
Moreover, since the load with respect to the organic light emitting medium layer 4 is reduced, the deterioration of the organic light emitting medium layer 4 can be suppressed, and the durability of the organic EL element 10 can be improved.
In addition, since the display device 11 of the present embodiment includes the organic EL element 10 of the present embodiment with improved light extraction efficiency, it is possible to reduce power consumption for display.

［第１変形例］
次に、本実施形態の第１変形例の有機ＥＬ素子および表示装置について説明する。
図６（ａ）は、本発明の実施形態の第１変形例の有機ＥＬ素子および表示装置の主要部の構成を示す模式的な断面図である。 [First Modification]
Next, an organic EL element and a display device according to a first modification of the present embodiment will be described.
FIG. 6A is a schematic cross-sectional view showing a configuration of main parts of an organic EL element and a display device according to a first modification of the embodiment of the present invention.

図６（ａ）に示すように、本変形例の表示装置３１は、上記実施形態の表示装置１１の有機ＥＬ素子１０に代えて、有機ＥＬ素子３０を備える。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。 As shown in FIG. 6A, the display device 31 of this modification includes an organic EL element 30 instead of the organic EL element 10 of the display device 11 of the above embodiment.
Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the above embodiment.

有機ＥＬ素子３０は、上記実施形態の有機ＥＬ素子１０のＴＦＴ基板１に代えて、ＴＦＴ基板２１（透光性基板）を備える。
ＴＦＴ基板２１は、ＴＦＴ基板１の素子部形成面１ｂに代えて、入射光を散乱させるための凹凸形状を備えた素子部形成面２１ｂを備える点が上記実施形態と異なる。
素子部形成面２１ｂの凹凸形状としては、入射光を散乱させることができれば、特に限定されないが、例えば、シリンドリカルレンズのような凹凸形状や、プリズムレンズのような凹凸形状を採用することができる。 The organic EL element 30 includes a TFT substrate 21 (translucent substrate) instead of the TFT substrate 1 of the organic EL element 10 of the above embodiment.
The TFT substrate 21 is different from the above-described embodiment in that the TFT substrate 21 includes an element portion forming surface 21b having an uneven shape for scattering incident light instead of the element portion forming surface 1b of the TFT substrate 1.
The uneven shape of the element portion forming surface 21b is not particularly limited as long as incident light can be scattered. For example, an uneven shape such as a cylindrical lens or an uneven shape such as a prism lens can be employed.

本変形例の第一電極２、反射部３ｂは、このような素子部形成面２１ｂ上に、上記実施形態と同様にして形成される。
このため、第一電極２、反射部３ｂは、素子部形成面２１ｂの凹凸形状に密着して形成される。これにより、第一電極２、反射部３ｂとＴＦＴ基板２１との界面が、素子部形成面２１ｂの凹凸形状を反転した凹凸形状に形成されている。 The first electrode 2 and the reflecting portion 3b of this modification are formed on the element portion forming surface 21b in the same manner as in the above embodiment.
For this reason, the 1st electrode 2 and the reflection part 3b are closely_contact | adhered and formed in the uneven | corrugated shape of the element part formation surface 21b. Thereby, the interface of the 1st electrode 2, the reflection part 3b, and the TFT substrate 21 is formed in the uneven | corrugated shape which reversed the uneven | corrugated shape of the element part formation surface 21b.

本変形例の有機ＥＬ素子３０によれば、素子部形成面２１ｂに入出射される光が、素子部形成面２１ｂの凹凸形状によって散乱されるため、ＴＦＴ基板２１内を、全反射して導光される光成分が、上記実施形態に比べて低減される。
このため、本変形例の有機ＥＬ素子３０は、有機ＥＬ素子１０に比べて、光取り出し効率をさらに向上することができる。
また、本変形例の表示装置３１は、このような有機ＥＬ素子３０を備えるため、表示のための消費電力をさらに低減することができる。 According to the organic EL element 30 of the present modification, the light entering and exiting the element portion forming surface 21b is scattered by the uneven shape of the element portion forming surface 21b, and thus the TFT substrate 21 is totally reflected and guided. The light component emitted is reduced as compared with the above embodiment.
For this reason, the organic EL element 30 of this modification can further improve the light extraction efficiency as compared with the organic EL element 10.
Further, since the display device 31 of this modification includes such an organic EL element 30, it is possible to further reduce power consumption for display.

［第２変形例］
次に、本実施形態の第２変形例の有機ＥＬ素子および表示装置について説明する。
図６（ｂ）は、本発明の実施形態の第２変形例の有機ＥＬ素子および表示装置の主要部の構成を示す模式的な断面図である。 [Second Modification]
Next, an organic EL element and a display device according to a second modification of the present embodiment will be described.
FIG. 6B is a schematic cross-sectional view showing the configuration of the main part of the organic EL element and the display device of the second modification of the embodiment of the present invention.

図６（ｂ）に示すように、本変形例の表示装置４１は、上記実施形態の表示装置１１の有機ＥＬ素子１０に代えて、有機ＥＬ素子４０を備える。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。 As shown in FIG. 6B, the display device 41 of the present modification includes an organic EL element 40 instead of the organic EL element 10 of the display device 11 of the above embodiment.
Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the above embodiment.

有機ＥＬ素子４０は、上記実施形態の有機ＥＬ素子１０の隔壁３に代えて、隔壁４３を備える。
隔壁４３は、隔壁３における反射部３ｂのＴＦＴ基板１と反対側の表面に、隔壁本体３ａの屈折率に比べて高い屈折率を有する高屈折率層４３ｃを追加したものである。
高屈折率層４３ｃの材質としては、例えば、ＩＴＯ、酸化ジルコニウム（ジルコニア、ＺｒＯ２）、酸化チタン（ＴｉＯ２）などを採用することができる。
このような高屈折率層４３ｃは、採用する材料に応じた適宜の成膜方法によって成膜することができる。例えば、ＩＴＯを採用する場合には、スパッタリング法などによって成膜することができる。 The organic EL element 40 includes a partition wall 43 instead of the partition wall 3 of the organic EL element 10 of the above embodiment.
The partition wall 43 is obtained by adding a high refractive index layer 43c having a refractive index higher than that of the partition body 3a on the surface of the partition wall 3 on the side opposite to the TFT substrate 1 of the reflecting portion 3b.
As a material of the high refractive index layer 43c, for example, ITO, zirconium oxide (zirconia, ZrO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), or the like can be employed.
Such a high refractive index layer 43c can be formed by an appropriate film forming method according to the material to be employed. For example, when ITO is employed, the film can be formed by a sputtering method or the like.

本変形例の有機ＥＬ素子４０によれば、高屈折率層４３ｃと隔壁本体３ａとの間に、光学的な粗密が発生する。これにより、反射部３ｂを透過して、高屈折率層４３ｃに入射した光が、高屈折率層４３ｃと隔壁本体３ａとの界面で、全反射されやすくなるため、反射部３ｂを透過した一部の光を、ＴＦＴ基板１側に反射することができる。
このため、有機ＥＬ素子４０は、上記実施形態の有機ＥＬ素子１０において反射部３ｂの反射率が実質的に向上したのと同様になり、有機ＥＬ素子１０に比べて、光取り出し効率をさらに向上することができる。
また、本変形例の表示装置４１は、このような有機ＥＬ素子４０を備えるため、表示のための消費電力をさらに低減することができる。 According to the organic EL element 40 of the present modification, optical density is generated between the high refractive index layer 43c and the partition wall body 3a. As a result, the light that has passed through the reflective portion 3b and entered the high refractive index layer 43c is likely to be totally reflected at the interface between the high refractive index layer 43c and the partition wall body 3a. Part of the light can be reflected to the TFT substrate 1 side.
For this reason, the organic EL element 40 is the same as that of the organic EL element 10 of the above embodiment in which the reflectance of the reflecting portion 3b is substantially improved, and further improves the light extraction efficiency compared to the organic EL element 10. can do.
Further, since the display device 41 of this modification includes such an organic EL element 40, the power consumption for display can be further reduced.

［第３変形例］
次に、本実施形態の第３変形例の有機ＥＬ素子および表示装置について説明する。
図６（ｃ）は、本発明の実施形態の第３変形例の有機ＥＬ素子および表示装置の主要部の構成を示す模式的な断面図である。 [Third Modification]
Next, an organic EL element and a display device according to a third modification of the present embodiment will be described.
FIG.6 (c) is typical sectional drawing which shows the structure of the principal part of the organic EL element and display apparatus of the 3rd modification of embodiment of this invention.

図６（ｃ）に示すように、本変形例の表示装置５１は、上記実施形態の表示装置１１の有機ＥＬ素子１０に代えて、有機ＥＬ素子５０を備える。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。 As shown in FIG. 6C, the display device 51 of this modification includes an organic EL element 50 instead of the organic EL element 10 of the display device 11 of the above embodiment.
Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the above embodiment.

有機ＥＬ素子５０は、上記実施形態の有機ＥＬ素子１０の隔壁３に代えて、隔壁５３を備える。
隔壁５３は、隔壁３の反射部３ｂに代えて、白色の層状部からなる反射部５３ｂを備える。
このような反射部５３ｂは、例えば、透明なバインダー樹脂に散乱粒子が分散された層状部として構成することができる
反射部５３ｂのバインダー樹脂としては、例えば、アクリル酸樹脂、エポキシ樹脂などを採用することができる。
反射部５３ｂの散乱粒子としては、バインダー樹脂よりも高い屈折率を有する透明な微粒子、例えば、酸化チタン、アルミナ（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ジルコニウムなどを採用することができる。
散乱粒子の含有量は、反射部５３ｂに必要な反射率に応じて決めることができる。反射部５３ｂの反射率は、５０％以上であることが好ましい。
例えば、バインダー樹脂がアクリル酸樹脂、散乱粒子が酸化チタンであり、バインダー樹脂に対する散乱粒子の配合量が７０％のとき、層厚０．１μｍの反射部３ｂを形成すると、反射率は、６５％になる。
このような反射部５３ｂの製造方法は特に限定されず、例えば、フォトリソグラフィ法、各種の印刷などによって形成することができる。 The organic EL element 50 includes a partition wall 53 instead of the partition wall 3 of the organic EL element 10 of the above embodiment.
The partition wall 53 includes a reflection portion 53b made of a white layered portion instead of the reflection portion 3b of the partition wall 3.
Such a reflection part 53b can be configured as a layered part in which scattering particles are dispersed in a transparent binder resin, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, or the like is employed as the binder resin of the reflection part 53b. be able to.
As the scattering particles of the reflecting portion 53b, transparent fine particles having a refractive index higher than that of the binder resin, for example, titanium oxide, alumina (Al 2 O 3 ), zirconium oxide, and the like can be employed.
The content of the scattering particles can be determined according to the reflectance necessary for the reflecting portion 53b. The reflectance of the reflecting portion 53b is preferably 50% or more.
For example, when the binder resin is an acrylic resin, the scattering particles are titanium oxide, and the blending amount of the scattering particles with respect to the binder resin is 70%, when the reflective portion 3b having a layer thickness of 0.1 μm is formed, the reflectance is 65%. become.
The manufacturing method of such a reflection part 53b is not specifically limited, For example, it can form by the photolithographic method, various printings, etc.

このような構成の反射部５３ｂは、電気絶縁性を有するため、隣り合う第一電極２の間の隙間の全体に反射部５３ｂを形成することが可能である。
このような反射部５３ｂは、例えば、散乱粒子をバインダー樹脂に混合したものをスクリーン印刷するなどして形成することができる。 Since the reflection part 53b having such a configuration has electrical insulation, the reflection part 53b can be formed in the entire gap between the adjacent first electrodes 2.
Such a reflection part 53b can be formed by screen-printing what mixed scattering particle | grains with binder resin, for example.

本変形例の有機ＥＬ素子５０によれば、ＴＦＴ基板１から反射部５３ｂに入射した光は、白色の反射部５３ｂにより、反射部５３ｂの反射率に応じて、入射側であるＴＦＴ基板１の方に反射される。例えば、反射部５３ｂが散乱粒子を含有する場合には、この散乱粒子によって散乱されて、ＴＦＴ基板１の方に反射される。
このため、上記実施形態と同様に、反射部５３ｂを有しない隔壁を備える従来技術の有機ＥＬ素子に比べて、光取り出し効率をさらに向上することができる。
また、本変形例では、反射部５３ｂが電気絶縁性を有する。このため、第一電極２との絶縁距離を取る必要から幅が制限される上記実施形態の反射部３ｂに比べて、反射部５３ｂの幅をより広幅にして有効反射面積を増大することが可能である。したがって、反射部５３ｂが反射部３ｂと同程度の反射率を有する場合には、上記実施形態よりも光取り出し効率を向上することができる。
また、本変形例の表示装置５１は、このような有機ＥＬ素子５０を備えるため、表示のための消費電力を低減することができる。 According to the organic EL element 50 of this modification, the light incident on the reflecting portion 53b from the TFT substrate 1 is reflected by the white reflecting portion 53b on the incident side of the TFT substrate 1 according to the reflectance of the reflecting portion 53b. Reflected towards. For example, when the reflecting portion 53b contains scattering particles, the scattering portions 53b are scattered by the scattering particles and reflected toward the TFT substrate 1.
For this reason, as in the above embodiment, the light extraction efficiency can be further improved as compared with the organic EL element of the prior art provided with a partition wall that does not have the reflecting portion 53b.
Moreover, in this modification, the reflection part 53b has electrical insulation. For this reason, it is possible to increase the effective reflection area by making the width of the reflection portion 53b wider than that of the reflection portion 3b of the above-described embodiment where the width is limited because it is necessary to take an insulation distance from the first electrode 2. It is. Therefore, when the reflection part 53b has a reflectance comparable as the reflection part 3b, light extraction efficiency can be improved rather than the said embodiment.
Moreover, since the display apparatus 51 of this modification is provided with such an organic EL element 50, the power consumption for a display can be reduced.

［第４変形例］
次に、本実施形態の第４変形例の有機ＥＬ素子および表示装置について説明する。
図７（ａ）は、本発明の実施形態の第４変形例の有機ＥＬ素子および表示装置の主要部の構成を示す模式的な断面図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）におけるＢ部の部分拡大図である。 [Fourth Modification]
Next, an organic EL element and a display device according to a fourth modification of the present embodiment will be described.
Fig.7 (a) is typical sectional drawing which shows the structure of the principal part of the organic EL element and display apparatus of the 4th modification of embodiment of this invention. FIG.7 (b) is the elements on larger scale of the B section in Fig.7 (a).

図７（ａ）に示すように、本変形例の表示装置６１は、上記実施形態の表示装置１１の有機ＥＬ素子１０に代えて、有機ＥＬ素子６０を備える。
以下、上記実施形態と異なる点を中心に説明する。 As shown in FIG. 7A, the display device 61 of this modification includes an organic EL element 60 instead of the organic EL element 10 of the display device 11 of the above embodiment.
Hereinafter, a description will be given focusing on differences from the above embodiment.

有機ＥＬ素子６０は、上記実施形態の有機ＥＬ素子１０の隔壁３に代えて、光反射性隔壁６３（隔壁、反射部）を備える。
光反射性隔壁６３は、隔壁３と同様の形状を、電気絶縁性を有する白色の光反射性材料によって形成したものである。
このような光反射性材料の例としては、透明なバインダー樹脂に、バインダー樹脂よりも屈折率が高い透明微粒子である散乱粒子を分散した構成を挙げることができる。
この場合、上記第３変形例の反射部５３ｂと同様に、バインダー樹脂としては、例えば、アクリル酸樹脂、エポキシ樹脂などを採用することができる。
散乱粒子としては、例えば、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＺｒＯ２などを採用することができる。散乱粒子の含有量は、光反射性隔壁６３に必要な反射率に応じて決めることができる。光反射性隔壁６３の反射率は、ＴＦＴ基板１との界面における反射率が５０％以上であることが好ましい。
このような光反射性隔壁６３の製造方法は特に限定されず、例えば、フォトリソグラフィ法、各種の印刷などによって形成することができる。 The organic EL element 60 includes a light-reflective partition wall 63 (a partition wall, a reflection portion) instead of the partition wall 3 of the organic EL element 10 of the above embodiment.
The light-reflective partition wall 63 has the same shape as the partition wall 3 and is formed of a white light-reflective material having electrical insulation.
As an example of such a light reflective material, a configuration in which scattering particles, which are transparent fine particles having a refractive index higher than that of the binder resin, is dispersed in a transparent binder resin.
In this case, similarly to the reflective portion 53b of the third modification, for example, an acrylic acid resin, an epoxy resin, or the like can be employed as the binder resin.
As the scattering particles, for example, TiO 2 , Al 2 O 3 , ZrO 2 or the like can be employed. The content of the scattering particles can be determined according to the reflectance required for the light reflective partition wall 63. The reflectance of the light reflective partition 63 is preferably 50% or more at the interface with the TFT substrate 1.
The manufacturing method of such a light reflective partition 63 is not specifically limited, For example, it can form by the photolithographic method, various printings, etc.

本変形例の有機ＥＬ素子６０によれば、ＴＦＴ基板１から光反射性隔壁６３に入射した光は、白色の光反射性隔壁６３により、光反射性隔壁６３の反射率に応じて、入射側であるＴＦＴ基板１の方に反射される。例えば、光反射性隔壁６３が散乱粒子を含有する場合には、この散乱粒子によって散乱されて、ＴＦＴ基板１の方に反射される。
このため、上記実施形態と同様に、光反射性隔壁６３を有しない隔壁を備える従来技術の有機ＥＬ素子に比べて、光取り出し効率をさらに向上することができる。
本変形例は、隔壁の全体が反射部を構成している場合の例になっている。 According to the organic EL element 60 of the present modification, the light incident on the light reflective partition wall 63 from the TFT substrate 1 is incident on the incident side according to the reflectance of the light reflective partition wall 63 by the white light reflective partition wall 63. Is reflected toward the TFT substrate 1. For example, when the light reflective partition 63 contains scattering particles, it is scattered by the scattering particles and reflected toward the TFT substrate 1.
For this reason, similarly to the above-described embodiment, the light extraction efficiency can be further improved as compared with the organic EL element of the prior art provided with a partition without the light reflective partition 63.
This modification is an example in the case where the entirety of the partition wall constitutes a reflection portion.

また、本変形例では、光反射性隔壁６３が電気絶縁性を有する。このため、上記第３変形例と同様、上記実施形態の反射部３ｂに比べて、広い有効反射面積が得られる。したがって、光反射性隔壁６３が反射部３ｂと同程度の反射率を有する場合には、上記実施形態よりも光取り出し効率を向上することができる。
また、本変形例の表示装置６１は、このような有機ＥＬ素子６０を備えるため、表示のための消費電力を低減することができる。 Moreover, in this modification, the light reflective partition 63 has electrical insulation. For this reason, as in the third modified example, a wider effective reflection area can be obtained as compared with the reflecting portion 3b of the embodiment. Therefore, when the light reflective partition 63 has a reflectance comparable to that of the reflecting portion 3b, the light extraction efficiency can be improved as compared with the above embodiment.
Further, since the display device 61 of this modification includes such an organic EL element 60, power consumption for display can be reduced.

また、本変形例の有機ＥＬ素子６０および表示装置６１によれば、光反射性隔壁６３のみで隔壁と反射部との機能を実現している。このため、隔壁本体３ａと反射部３ｂとから隔壁３を警醒する上記実施形態に比べて製造工程を簡素化することができ、より製造コストを低減することができる。   In addition, according to the organic EL element 60 and the display device 61 of the present modification, the functions of the partition and the reflecting portion are realized by only the light reflective partition 63. For this reason, compared with the said embodiment which alerts the partition 3 from the partition main body 3a and the reflection part 3b, a manufacturing process can be simplified and manufacturing cost can be reduced more.

なお、上記実施形態および各変形例の説明では、第一電極２が陽極、第二電極７が陰極の場合の例で説明したが、第一電極２を陰極、第二電極７を陽極とすることも可能である。   In the description of the embodiment and each modification, the first electrode 2 is an anode and the second electrode 7 is a cathode. However, the first electrode 2 is a cathode and the second electrode 7 is an anode. It is also possible.

上記実施形態および各変形例の説明では、隔壁の反射部が、透光性基板との界面に形成された場合の例で説明したが、反射部は、透明材料を介して隔壁の内部に設けることも可能である。   In the description of the embodiment and each modification, the example in which the reflecting portion of the partition wall is formed at the interface with the light-transmitting substrate has been described. However, the reflecting portion is provided inside the partition wall through a transparent material. It is also possible.

また、上記実施形態、各変形例に説明したすべての構成要素は、本発明の技術的思想の範囲で適宜組み合わせを代えたり、削除したりして実施することができる。   In addition, all the components described in the above embodiment and each modification can be implemented by appropriately changing or deleting the combination within the scope of the technical idea of the present invention.

以下では、上記実施形態および上記第４変形例に対応する実施例１、２について説明する。   Hereinafter, Examples 1 and 2 corresponding to the embodiment and the fourth modification will be described.

［実施例１］
上記実施形態の実施例である有機ＥＬ素子１０、表示装置１１を以下のようにして製造した。
なお、有機ＥＬ素子１０は、フルカラー表示を行うため２４０×３２０ドットの画素を有するものとし、各画素は、サブピクセルとして３つの発光単位セルを備えるようにした。このため、サブピクセル数は７２０×３２０ドットとした。
各サブピクセルの形状は、１２０μｍ×３６０μｍの矩形状とした。サブピクセル間の隙間は、図５におけるｘ方向の寸法を４０μｍ、ｙ方向の寸法を１００μｍとした。 [Example 1]
The organic EL element 10 and the display device 11 which are examples of the above-described embodiment were manufactured as follows.
The organic EL element 10 has 240 × 320 dot pixels for full color display, and each pixel includes three light emitting unit cells as sub-pixels. For this reason, the number of subpixels was set to 720 × 320 dots.
The shape of each subpixel was a rectangular shape of 120 μm × 360 μm. The gap between the sub-pixels was 40 μm in the x direction and 100 μm in the y direction in FIG.

まず、屈折率１．５２、厚さ７００μｍの高屈折率ガラス製の基材の表面に、半導体プロセスを用いて薄膜トランジスタ１ｃを形成し、ＴＦＴ基板１を形成した。
次に、上記のような形状の発光単位セルを発光させるため、ＩＴＯをスパッタリング方によりパターニングして第一電極２を形成した。このとき、第一電極２は、適宜の作製されたコンタクトホールなどによって薄膜トランジスタ１ｃと電気的に接続されている。これにより、薄膜トランジスタ１ｃは、接続された第一電極２に対するスイッチング素子として機能する。 First, a thin film transistor 1c was formed on a surface of a high refractive index glass substrate having a refractive index of 1.52 and a thickness of 700 μm by using a semiconductor process, and a TFT substrate 1 was formed.
Next, in order to make the light emitting unit cell having the above shape emit light, the first electrode 2 was formed by patterning ITO by sputtering. At this time, the first electrode 2 is electrically connected to the thin film transistor 1c through an appropriately manufactured contact hole or the like. Thereby, the thin film transistor 1c functions as a switching element for the connected first electrode 2.

次に、０．１ｇのＡｌが分散されたポジ型の感光性材料であるＴＥＬＲシリーズ（東京応化社製）２０ｍＬをスピンコート法にて、第一電極２および第一電極２の間に露出した素子部形成面１ｂ等の全面に塗布し、１２０度で６０ｓｅｃの間、プリベークを施した。スピンコート時の塗布装置の回転数は４５０ｒｐｍ、塗布時間は、２０ｓｅｃとした。
次に、感光性材料を、反射部３ｂの形状にパターニングするため、積算３００ｍＪの露光を行い、７５ｓｅｃの現像処理と、９０ｓｅｃの水洗とを行った後、２３０℃のポストベークを行い、図２に示すような格子状パターンの反射部３ｂを形成した。
このようにして得られた反射部３ｂの素子部形成面１ｂからの高さは０．１μｍであった。 Next, 20 mL of TELR series (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), which is a positive photosensitive material in which 0.1 g of Al is dispersed, was exposed between the first electrode 2 and the first electrode 2 by spin coating. It apply | coated to the whole surface of element part formation surface 1b etc., and prebaked for 60 seconds at 120 degree | times. The rotation speed of the coating apparatus during spin coating was 450 rpm, and the coating time was 20 sec.
Next, in order to pattern the photosensitive material into the shape of the reflecting portion 3b, exposure was performed for a total of 300 mJ, development processing for 75 sec and water washing for 90 sec were performed, followed by post baking at 230 ° C. A reflection part 3b having a lattice pattern as shown in FIG.
The height of the reflection part 3b thus obtained from the element part forming surface 1b was 0.1 μm.

次に、ポジ型の感光性材料であるＴＥＬＲシリーズ（東京応化社製）４０ｍＬをスピンコート法にて、第一電極２、反射部３ｂ、および第一電極２と反射部３ｂとの間に露出した素子部形成面１ｂ等の全面に塗布し、１２０度で６０secプリベークを施した。スピンコート時の塗布装置の回転数は４５０ｒｐｍ、塗布時間は、２０ｓｅｃとした。
次に、感光性材料を、隔壁３の形状にパターニングするため、積算３００ｍＪの露光を行い、７５ｓｅｃの現像処理と、９０ｓｅｃの水洗とを行った後、２３０℃のポストベークを行い、図３に示すような形状の隔壁本体３ａを形成した。
このようにして得られた隔壁本体３ａの素子部形成面１ｂからの高さは０．５μｍであった。 Next, 40 mL of a positive photosensitive material TELR series (manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) is exposed by the spin coating method between the first electrode 2, the reflective portion 3b, and the first electrode 2 and the reflective portion 3b. This was applied to the entire surface of the element part formation surface 1b and the like, and pre-baked at 120 degrees for 60 seconds. The rotation speed of the coating apparatus during spin coating was 450 rpm, and the coating time was 20 sec.
Next, in order to pattern the photosensitive material into the shape of the partition walls 3, exposure was performed for 300 mJ, 75 seconds of development processing and 90 seconds of water washing were performed, and then 230 ° C. post-baking was performed. A partition wall body 3a having a shape as shown was formed.
The height of the partition wall main body 3a thus obtained from the element part forming surface 1b was 0.5 μm.

次に、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸の混合物（以下ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳという）を水に分散させた正孔輸送インキを形成し、隔壁本体３ａで囲まれた各第一電極２上に、スピンコート法により厚さ０．１μｍに成膜した。その後、メタノールを用いて有効画素周辺にある不必要箇所にある正孔輸送インキを取り除いた。これにより、正孔輸送層５が形成された。   Next, a hole transport ink in which a mixture of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrenesulfonic acid (hereinafter referred to as PEDOT / PSS) is dispersed in water is formed, and each of the first layers surrounded by the partition wall body 3a is formed. A film having a thickness of 0.1 μm was formed on one electrode 2 by spin coating. Then, the hole transport ink in the unnecessary part around an effective pixel was removed using methanol. Thereby, the hole transport layer 5 was formed.

次に、樹脂凸版１８として水現像タイプの感光性樹脂凸版を備える印刷装置１９を用い、赤色、緑色、青色の発光色を有する有機発光材料であるポリフェニレンビニレン誘導体らを含む有機発光インキを使用した凸版印刷法によって、それぞれ所定位置の正孔輸送層５上に印刷した。これにより、図５に示すように、隔壁本体３ａで区画された矩形状領域に、赤色有機発光層６Ｒ、緑色有機発光層６Ｇ、青色有機発光層６Ｂを形成した。
このとき、アニロックスロール１６は、１５０線／インチのものを使用した。これにより、得られた赤色有機発光層６Ｒ、緑色有機発光層６Ｇ、青色有機発光層６Ｂの膜厚は、いずれも８０ｎｍであった。 Next, an organic light-emitting ink containing a polyphenylene vinylene derivative or the like, which is an organic light-emitting material having red, green, and blue emission colors, was used using a printing apparatus 19 having a water-developable photosensitive resin relief plate as the resin relief plate 18. It printed on the positive hole transport layer 5 of a predetermined position, respectively by the relief printing method. Thereby, as shown in FIG. 5, the red organic light emitting layer 6R, the green organic light emitting layer 6G, and the blue organic light emitting layer 6B were formed in the rectangular region partitioned by the partition wall body 3a.
At this time, the anilox roll 16 used was 150 lines / inch. Thereby, the film thicknesses of the obtained red organic light emitting layer 6R, green organic light emitting layer 6G, and blue organic light emitting layer 6B were all 80 nm.

次に、赤色有機発光層６Ｒ、緑色有機発光層６Ｇ、青色有機発光層６Ｂ、および隔壁本体３ａの全体を覆う領域に、真空蒸着法でバリウム（Ｂａ）を５ｎｍ、その上にＡｌを２０ｎｍ成膜し、第二電極７を形成した。その後スパッタリング法をもちいて、第二電極７上にＩＴＯ膜を成膜し、大気暴露することなく露点−８０度、酸素濃度１ｐｐｍの窒素下で封止層８となる熱硬化型接着剤を用いて、封止部材９となるガラス板を貼り付けた。
これにより、図１に示すような、有機ＥＬ素子１０および表示装置１１が得られた。 Next, in a region covering the red organic light-emitting layer 6R, the green organic light-emitting layer 6G, the blue organic light-emitting layer 6B, and the entire partition wall body 3a, barium (Ba) is formed by 5 nm by vacuum deposition, and Al is formed thereon by 20 nm. The second electrode 7 was formed. Thereafter, an ITO film is formed on the second electrode 7 using a sputtering method, and a thermosetting adhesive that becomes the sealing layer 8 under nitrogen having a dew point of −80 degrees and an oxygen concentration of 1 ppm is used without being exposed to the atmosphere. And the glass plate used as the sealing member 9 was affixed.
Thereby, the organic EL element 10 and the display apparatus 11 as shown in FIG. 1 were obtained.

得られた表示装置１１に対し、パネルの点灯表示確認をおこない、輝度測定を行ったところ、１ピクセル当たり３μＡの電流のもと、１ピクセル当たりの効率は、５．３７ｃｄ/Ａ、１ピクセル当たりの輝度は、２３３ｃｄ/ｍ２であった。 When the display device 11 thus obtained was checked for lighting of the panel and measured for luminance, the efficiency per pixel was 5.37 cd / A per pixel under a current of 3 μA per pixel. The luminance of was 233 cd / m 2 .

［実施例２］
上記実施形態の第４変形例の実施例である有機ＥＬ素子６０、表示装置６１を以下のようにして製造した。
本実施例の有機ＥＬ素子６０の画素構成は、実施例１の場合と同様とした。 [Example 2]
The organic EL element 60 and the display device 61 which are examples of the fourth modification of the above embodiment were manufactured as follows.
The pixel configuration of the organic EL element 60 of this example was the same as that of Example 1.

上記実施例１と同様にして、ＴＦＴ基板１上に、薄膜トランジスタ１ｃ、第一電極２を形成した。   In the same manner as in Example 1, the thin film transistor 1c and the first electrode 2 were formed on the TFT substrate 1.

次に、０．１ｇの酸化チタンが分散されたポジ型の感光性材料であるＴＥＬＲシリーズ（東京応化社製）４０ｍＬをスピンコート法にて、第一電極２および第一電極２の間に露出した素子部形成面１ｂ等の全面に塗布し、１２０度で６０ｓｅｃの間、プリベークを施した。スピンコート時の塗布装置の回転数は４５０ｒｐｍ、塗布時間は、２０ｓｅｃとした。
次に、感光性材料を、光反射性隔壁６３の形状にパターニングするため、積算３００ｍＪの露光を行い、７５ｓｅｃの現像処理と、９０ｓｅｃの水洗とを行った後、２３０℃のポストベークを行い、図７（ａ）に示すような断面形状を有する光反射性隔壁６３を形成した。
このようにして得られた光反射性隔壁６３の素子部形成面１ｂからの高さは０．５μｍであった。 Next, 40 mL of TELR series (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), which is a positive photosensitive material in which 0.1 g of titanium oxide is dispersed, is exposed between the first electrode 2 and the first electrode 2 by spin coating. This was applied to the entire surface of the element part forming surface 1b and the like, and pre-baked at 120 degrees for 60 seconds. The rotation speed of the coating apparatus during spin coating was 450 rpm, and the coating time was 20 sec.
Next, in order to pattern the photosensitive material into the shape of the light-reflective partition wall 63, exposure is performed for a total of 300 mJ, 75 seconds of development processing and 90 seconds of water washing are performed, and then 230 ° C. post-baking is performed. A light reflective partition wall 63 having a cross-sectional shape as shown in FIG.
The height of the light reflective partition wall 63 thus obtained from the element portion forming surface 1b was 0.5 μm.

次に、上記実施例１と、同様にして、正孔輸送層５、有機発光層６（赤色有機発光層６Ｒ、緑色有機発光層６Ｇ、青色有機発光層６Ｂ）を順次形成し、第二電極７、封止層８、および封止部材９を形成した。
これにより、図７（ａ）に示すような、有機ＥＬ素子６０および表示装置６１が得られた。 Next, in the same manner as in Example 1, the hole transport layer 5 and the organic light emitting layer 6 (red organic light emitting layer 6R, green organic light emitting layer 6G, blue organic light emitting layer 6B) were sequentially formed, and the second electrode 7, the sealing layer 8, and the sealing member 9 were formed.
Thereby, an organic EL element 60 and a display device 61 as shown in FIG. 7A were obtained.

得られた表示装置１１に対し、パネルの点灯表示確認をおこない、輝度測定を行ったところ、１ピクセル当たり３μＡの電流のもと、１ピクセル当たりの効率は、５．３７ｃｄ/Ａ、１ピクセル当たりの輝度は、２３３ｃｄ/ｍ２であった。 When the display device 11 thus obtained was checked for lighting of the panel and measured for luminance, the efficiency per pixel was 5.37 cd / A per pixel under a current of 3 μA per pixel. The luminance of was 233 cd / m 2 .

１、２１ ＴＦＴ基板（透光性基板）
１ａ 光出射面
１ｂ、２１ｂ 素子部形成面
２ 第一電極
３、４３、５３ 隔壁
３ａ 隔壁本体
３ｂ、５３ｂ 反射部
４ 有機発光媒体層
５ 正孔輸送層
６ 有機発光層
６Ｂ 青色有機発光層
６Ｇ 緑色有機発光層
６Ｒ 赤色有機発光層
７ 第二電極
８ 封止層
９ 封止部材
１０、３０、４０、５０、６０ 有機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）
１１、３１、４１、５１、６１ 表示装置
１９ 印刷装置
４３ｃ 高屈折率層
６３ 光反射性隔壁（隔壁、反射部） 1,21 TFT substrate (Translucent substrate)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1a Light emission surface 1b, 21b Element part formation surface 2 1st electrode 3, 43, 53 Partition 3a Partition body 3b, 53b Reflection part 4 Organic light emitting medium layer 5 Hole transport layer 6 Organic light emitting layer 6B Blue organic light emitting layer 6G Green Organic light emitting layer 6R Red organic light emitting layer 7 Second electrode 8 Sealing layer 9 Sealing member 10, 30, 40, 50, 60 Organic EL element (organic electroluminescence element)
11, 31, 41, 51, 61 Display device 19 Printing device 43c High refractive index layer 63 Light-reflective partition wall (partition wall, reflection part)

Claims (4)

透光性基板と、
該透光性基板上に、パターン化して設けられた第一電極と、
該第一電極上に設けられ、有機発光層を含む有機発光媒体層と、
該有機発光媒体層を挟んで前記第一電極と対向する位置に設けられた第二電極と、
互いに隣接する前記第一電極の間の前記透光性基板上において前記有機発光媒体層を超える高さまで延ばされるとともに、前記有機発光媒体層を独立した発光単位セルに区画する隔壁と、
を備え、
該隔壁は、
前記透光性基板から入射する光を前記透光性基板に向けて反射する反射部を有する、有機エレクトロルミネッセンス素子。 A translucent substrate;
A first electrode patterned and provided on the translucent substrate;
An organic light emitting medium layer provided on the first electrode and including an organic light emitting layer;
A second electrode provided at a position facing the first electrode across the organic light emitting medium layer;
A partition that extends to a height exceeding the organic light emitting medium layer on the translucent substrate between the first electrodes adjacent to each other, and partitions the organic light emitting medium layer into independent light emitting unit cells;
With
The partition wall
An organic electroluminescence element having a reflection part that reflects light incident from the translucent substrate toward the translucent substrate. 前記反射部は、
金属層によって形成されている
ことを特徴とする、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The reflective portion is
2. The organic electroluminescence device according to claim 1, wherein the organic electroluminescence device is formed of a metal layer. 前記反射部は、
前記透光性基板に密着して形成されている
ことを特徴とする、請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子。 The reflective portion is
The organic electroluminescence element according to claim 1, wherein the organic electroluminescence element is formed in close contact with the translucent substrate. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンス素子を備え、
該有機エレクトロルミネッセンス素子の発光によって画像表示を行う、表示装置。 The organic electroluminescence element according to any one of claims 1 to 3,
A display device that displays an image by light emission of the organic electroluminescence element.
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