JP2015150637A - Polishing device of conical roller and polishing method of conical roller - Google Patents

Polishing device of conical roller and polishing method of conical roller Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a polishing device of a conical roller and a polishing method of a conical roller capable of suppressing clogging of a grind stone and improving the efficiency of a polishing operation.SOLUTION: A polishing device 1 includes: a disc-like carrier 3 which is provided with a plurality of pockets 3a for each housing a conical roller 2 and has a shaft line in the vertical direction; an upper disc 4 and a lower disc 5 which are provided concentrically with the carrier 3 and hold the conical roller 2 from above and below; and a rotation driving device which revolves the conical roller 2 together with the carrier 3 around the shaft line as a center while performing rotation of the conical roller 2 so as to rotate and drive the upper disc 4 and the lower disc 5 in the direction opposite to each other around the shaft line. Further, a grind stone 18 which is formed in such a shape that a part of a circle is cut out in a plan view, is provided in a concentric shape with the carrier 3 on the radial direction outer side, is brought into contact with a large edge surface and performs grinding and a swinging unit 9 which swings the grind stone 18 brought into contact with the large edge surface in the vertical direction are provided.

Description

本発明は、円すいころの研磨装置、及び円すいころの研磨方法に関する。   The present invention relates to a tapered roller polishing apparatus and a tapered roller polishing method.

円すいころ軸受では、円すいころの大端面が内輪の軸方向端部に設けられている鍔部に摺接することから、円すいころの大端面には、摩擦抵抗を低減するために研磨による仕上げ加工が施されている。このように大端面を研磨するための装置として、例えば、特許文献１に開示されている研磨装置がある。   In tapered roller bearings, the large end surface of the tapered roller is in sliding contact with the flange provided at the axial end of the inner ring, so that the large end surface of the tapered roller is finished by polishing to reduce frictional resistance. It has been subjected. As an apparatus for polishing the large end face in this way, for example, there is a polishing apparatus disclosed in Patent Document 1.

従来の研磨装置として、図１７に示す装置がある。この研磨装置１０１は、軸線１０２ａを上下方向とする支軸１０２を中心として回転自在に設けられた円盤状のキャリア１０３と、キャリア１０３の上下に配置された円盤状の上盤１０４及び下盤１０５と、上盤１０４用の回転駆動装置１０６及び下盤１０５用の回転駆動装置１０７と、キャリア１０３の径方向外側に設けられた砥石１０８とを有している。上盤１０４、下盤１０５及び砥石１０８は、キャリア１０３と同心状に配置されている。   As a conventional polishing apparatus, there is an apparatus shown in FIG. The polishing apparatus 101 includes a disk-shaped carrier 103 that is rotatably provided around a support shaft 102 having an axis line 102 a as an up-down direction, and disk-shaped upper and lower boards 104 and 105 that are arranged above and below the carrier 103. A rotation driving device 106 for the upper board 104 and a rotation driving device 107 for the lower board 105, and a grindstone 108 provided on the radially outer side of the carrier 103. The upper board 104, the lower board 105, and the grindstone 108 are disposed concentrically with the carrier 103.

砥石１０８は、平面視において円の一部が取り除かれた形状（Ｃ形状）であり、この取り除かれている間欠領域において、研磨対象となる円すいころ１１０が上盤１０４と下盤１０５との間に投入され、また、研磨を終えた円すいころ１１０が上盤１０４と下盤１０５との間から取り出される。
キャリア１０３の外周縁部には、上下及び径方向外側に開口するポケット１０３ａが周方向に複数形成されている。このポケット１０３ａには、投入された円すいころ１１０が大端面１１０ａを径方向外側として収容され、また、大端面１１０ａ側がポケット１０３ａから径方向外側に突出した状態となる。
ポケット１０３ａに収容された円すいころ１１０は、上盤１０４と下盤１０５との間に上下挟まれた状態にあり、回転駆動装置１０６、１０７により上盤１０４と下盤１０５とが周方向に関して相互に反対方向に回転する。これにより、円すいころ１１０には径方向外側へ向かう推力が生じて大端面１１０ａが砥石１０８の内周面１０８ａに押し付けられた状態となり、そして、この円すいころ１１０を自転させながら軸線１０２ａを中心としてキャリア１０３と共に公転させることができる。
以上より、円すいころ１１０は前記間欠領域から研磨装置１０１に投入されると、支軸１０２を中心としてほぼ１周公転する間に大端面１１０ａが砥石１０８に摺接して研磨され、そして、前記間欠領域において、大端面１１０ａが研磨された円すいころ１１０が取り出される。 The grindstone 108 has a shape (C shape) from which a part of a circle is removed in plan view, and the tapered roller 110 to be polished is located between the upper board 104 and the lower board 105 in the removed intermittent region. In addition, the tapered rollers 110 that have been polished are taken out from between the upper board 104 and the lower board 105.
A plurality of pockets 103 a are formed in the circumferential direction on the outer peripheral edge of the carrier 103 so as to open vertically and radially outward. The inserted tapered roller 110 is accommodated in the pocket 103a with the large end face 110a as the radially outer side, and the large end face 110a side protrudes radially outward from the pocket 103a.
The tapered rollers 110 accommodated in the pockets 103a are sandwiched between the upper board 104 and the lower board 105, and the upper board 104 and the lower board 105 are mutually connected in the circumferential direction by the rotation driving devices 106 and 107. Rotate in the opposite direction. As a result, thrust toward the radially outer side is generated in the tapered roller 110 so that the large end surface 110a is pressed against the inner peripheral surface 108a of the grindstone 108, and the tapered roller 110 rotates while the axis 102a is centered. It can be revolved together with the carrier 103.
As described above, when the tapered roller 110 is inserted into the polishing apparatus 101 from the intermittent region, the large end surface 110a is slidably contacted with the grindstone 108 while being revolved around the support shaft 102, and the intermittent roller is polished. In the region, the tapered roller 110 whose large end face 110a is polished is taken out.

特開２００５−２９７１８１号公報JP 2005-297181 A

図１７に示す研磨装置１０１により研磨作業を継続していると、砥石１０８に目詰まり等が生じて、研磨効率が徐々に低下してくる。このため、従来では、円すいころ１１０の研磨作業を休止して、砥石１０８の内周面１０８ａの目立て作業を別途行う必要があり、作業効率が悪い。   When the polishing operation is continued by the polishing apparatus 101 shown in FIG. 17, the grinding stone 108 is clogged and the polishing efficiency is gradually lowered. For this reason, conventionally, it is necessary to suspend the polishing operation of the tapered roller 110 and separately perform the sharpening operation of the inner peripheral surface 108a of the grindstone 108, and the work efficiency is poor.

また、従来においては、次のような問題点もある。
まず、円すいころの形状に関して説明する。図１８（ａ）は、テーパー角（率）Ｔ１が大きな円すいころ１１５（以下、大円すいころという）の説明図である。図１８（ｂ）は、テーパー角Ｔ２（Ｔ２＜Ｔ１）が小さな円すいころ１１６（以下、小円すいころという）の説明図である。大（小）円すいころ１１５（１１６）の外周面１１５ｂ（１１６ｂ）を、小端面１１５ｃ（１１６ｃ）から延長すると、１点Ｐ２（Ｐ３）で収束する。以下、この収束する点をコーンセンタという。大小円すいころ１１５，１１６の大端面１１５ａ，１１６ａは凸曲面であり、これら大端面１１５ａ，１１６ａにおける、コーンセンタＰ２，Ｐ３を中心とする半径（以下、曲率半径という）をＲ４，Ｒ５とすると、Ｒ４＜Ｒ５となる。つまり、円すいころ１１５，１１６では、テーパー角が大きくなるほど、曲率半径が小さくなる。 Conventionally, there are also the following problems.
First, the shape of the tapered roller will be described. FIG. 18A is an explanatory view of a tapered roller 115 (hereinafter referred to as a great tapered roller) having a large taper angle (rate) T1. FIG. 18B is an explanatory view of a tapered roller 116 (hereinafter referred to as a small tapered roller) having a small taper angle T2 (T2 <T1). When the outer peripheral surface 115b (116b) of the large (small) tapered roller 115 (116) is extended from the small end surface 115c (116c), it converges at one point P2 (P3). Hereinafter, this convergence point is referred to as a cone center. The large end faces 115a and 116a of the large and small tapered rollers 115 and 116 are convex curved surfaces, and radii around the cone centers P2 and P3 (hereinafter referred to as curvature radii) of these large end faces 115a and 116a are R4 and R5. R4 <R5. That is, in the tapered rollers 115 and 116, the radius of curvature decreases as the taper angle increases.

そして、図１７に示す研磨装置１０１では、砥石１０８の内周面１０８ａは、支軸１０２の軸線１０２ａを中心とする環状面となり、この内周面１０８ａの内径をＲ６とすると、内径Ｒ６は、研磨対象となる円すいころ１１０の大端面１１０ａにおけるコーンセンタＰ４を中心とする曲率半径Ｒ７と（ほぼ）同一となるように設定されている。   In the polishing apparatus 101 shown in FIG. 17, the inner peripheral surface 108a of the grindstone 108 is an annular surface centered on the axis 102a of the support shaft 102. When the inner diameter of the inner peripheral surface 108a is R6, the inner diameter R6 is It is set to be (substantially) the same as the radius of curvature R7 around the cone center P4 in the large end face 110a of the tapered roller 110 to be polished.

そこで、前記のとおり（図１８（ａ）（ｂ）参照）、円すいころ１１０のテーパー角が大きくなるほどその曲率半径が小さくなるが、図１７に示すように、研磨対象となる円すいころ１１０のテーパー角が大きくて曲率半径Ｒ７が小さくなると、砥石１０８の前記内径Ｒ６も小さくなり、これにより、砥石１０８の内周面１０８ａの周方向長さが短くなる。
すなわち、これは、研磨装置１０１による研磨作業において、円すいころ１１０が投入されてから砥石１０８により研磨され、取り出されるまでの公転移動距離が短くなることを意味しており、また、円すいころ１１０の自転回数も少なくなる。このため、円すいころ１１０の曲率半径Ｒ７が小さい場合には、砥石１０８に対する円すいころ１１０の大端面１１０ａの摺接（研磨）距離が短くなり、この結果、大端面１１０ａを十分に研磨できず、大端面１１０ａの取代不足が発生するおそれがある。 Therefore, as described above (see FIGS. 18A and 18B), the radius of curvature decreases as the taper angle of the tapered roller 110 increases. However, as shown in FIG. 17, the taper of the tapered roller 110 to be polished is tapered. When the angle is large and the radius of curvature R7 is small, the inner diameter R6 of the grindstone 108 is also small, thereby shortening the circumferential length of the inner peripheral surface 108a of the grindstone 108.
In other words, this means that in the polishing operation by the polishing apparatus 101, the revolution movement distance from when the tapered roller 110 is inserted to when it is polished by the grindstone 108 and taken out is shortened. The number of rotations also decreases. For this reason, when the radius of curvature R7 of the tapered roller 110 is small, the sliding contact (polishing) distance of the large end surface 110a of the tapered roller 110 with respect to the grindstone 108 becomes short. As a result, the large end surface 110a cannot be sufficiently polished, There is a risk of insufficient machining allowance for the large end face 110a.

そこで、本発明は、砥石の目詰まりを抑制可能であり、研磨作業の効率を改善できる円すいころの研磨装置及び円すいころの研磨方法を提供することを目的とする。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a tapered roller polishing apparatus and a tapered roller polishing method capable of suppressing clogging of a grindstone and improving the efficiency of a polishing operation.

（１）本発明の円すいころの研磨装置は、円すいころの大端面側を径方向外側へ突出させた状態として当該円すいころを収容するポケットが周方向に複数設けられ、軸線の方向を上下方向とする円盤状のキャリアと、前記キャリアと同心状に設けられ前記円すいころを上下から挟む上盤及び下盤と、前記上盤と前記下盤とを前記軸線回りに相互に反対方向に回転駆動して前記円すいころを自転させながら前記軸線を中心として前記キャリアと共に公転させる回転駆動装置と、平面視において円の一部が取り除かれた形状であり前記キャリアの径方向外側に当該キャリアと同心状に設けられ前記大端面に接触して当該大端面を研磨するための砥石と、前記大端面に接触する前記砥石を上下方向に揺動させる揺動手段とを備えていることを特徴とする。   (1) In the tapered roller polishing apparatus according to the present invention, a plurality of pockets for accommodating the tapered rollers are provided in the circumferential direction in a state where the large end surface side of the tapered rollers is protruded radially outward, and the direction of the axis is the vertical direction. A disc-shaped carrier, an upper plate and a lower plate provided concentrically with the carrier and sandwiching the tapered rollers from above and below, and the upper plate and the lower plate are driven to rotate in opposite directions around the axis. And a rotational drive device that revolves with the carrier around the axis while rotating the tapered roller, and a shape in which a part of the circle is removed in a plan view and is concentric with the carrier on the radial outer side of the carrier And a grindstone for contacting the large end surface to polish the large end surface, and a swinging means for swinging the grindstone in contact with the large end surface in the vertical direction. That.

この構成によれば、砥石を上下方向に揺動させることで、自転しながら公転する円すいころの大端面の各部の、砥石に対する摺接方向が種々な方向に変動する。この摺接方向の変動により、研磨作業をしながら砥石に対して目立てを行うことが可能となり、研磨作業の効率を改善できる。
ところで、前記のとおり、円すいころの大端面の曲率半径が小さくなるほど、砥石の内径が小さくなり、砥石の内周面の周方向長さ（加工距離）が短くなり、これにより、研磨作業において、円すいころが研磨装置に投入されてから排出されるまでの円すいころの公転移動距離が短くなって、円すいころの自転回数も少なくなる。
しかし、砥石を上下方向に揺動させることにより、円すいころの大端面と砥石との相対的な摺接運動には、円すいころの自転及び公転による運動以外に、砥石の上下揺動による運動も付加される。これにより、円すいころの大端面の各部に対する研磨を効率良く行うことができて、大端面に対して所望の取代を得ることができる。 According to this configuration, the sliding contact direction with respect to the grindstone of each part of the large end surface of the tapered roller that revolves while rotating is varied in various directions by swinging the grindstone in the vertical direction. Due to the change in the sliding direction, it is possible to sharpen the grindstone while performing the polishing operation, and the efficiency of the polishing operation can be improved.
By the way, as described above, the smaller the radius of curvature of the large end face of the tapered roller, the smaller the inner diameter of the grindstone, and the shorter the circumferential length (working distance) of the inner circumferential surface of the grindstone. The revolution moving distance of the tapered roller from when the tapered roller is inserted into the polishing apparatus to when it is discharged becomes shorter, and the number of rotations of the tapered roller is also reduced.
However, by swinging the grindstone in the vertical direction, the relative sliding movement between the large end face of the tapered roller and the grindstone includes not only the motion of the tapered roller due to rotation and revolution but also the motion due to the vertical swing of the grindstone. Added. Thereby, grinding | polishing with respect to each part of the large end surface of a tapered roller can be performed efficiently, and a desired machining allowance can be obtained with respect to a large end surface.

（２）なお、前記揺動手段は、前記軸線を中心として１８０°離間した支持箇所で前記砥石を揺動自在に支持する一対の支持装置と、前記砥石の周方向に関して両支持箇所間の中央に位置する駆動箇所を上下方向に移動させる駆動装置とを備えているのが好ましい。この構成によれば、揺動手段を簡易に構成できる。   (2) The swinging means includes a pair of support devices that swingably support the grindstone at support portions spaced apart from each other by 180 ° about the axis, and a center between both support portions in the circumferential direction of the grindstone. It is preferable to include a drive device that moves the drive location located in the vertical direction. According to this configuration, the swinging means can be configured simply.

（３）また、前記揺動用駆動装置は、揺動用モータと、前記砥石の前記駆動箇所を保持するホルダーと、前記軸線に直交する回転中心線を有し前記揺動用モータにより回転する駆動軸と、前記回転中心線に対して平行でかつ偏心する偏心中心線を有し当該回転中心線回りに前記駆動軸と一体回転する偏心軸と、前記偏心軸に外嵌すると共に当該偏心軸を前記ホルダーに回転自在に支持させるための軸受とを有し、前記ホルダーには、前記偏心中心線と直交する水平方向に前記軸受を移動自在としかつ前記軸受に対して当該ホルダーが上下首振り動作可能となるようにして当該軸受を収容する溝部が形成されているのが好ましい。
この構成によれば、駆動軸により偏心軸を回転運動させるという簡易な機構で、砥石を上下方向に揺動させることができる。 (3) Further, the swing drive device includes a swing motor, a holder that holds the drive portion of the grindstone, a drive shaft that has a rotation center line orthogonal to the axis and is rotated by the swing motor. An eccentric shaft having an eccentric center line that is parallel to and eccentric with respect to the rotation center line, and that rotates integrally with the drive shaft around the rotation center line, and is fitted around the eccentric shaft and the eccentric shaft is mounted on the holder. A bearing for rotatably supporting the bearing, and the holder is movable in a horizontal direction perpendicular to the eccentric center line, and the holder can swing up and down with respect to the bearing. It is preferable that a groove for accommodating the bearing is formed.
According to this configuration, the grindstone can be swung vertically by a simple mechanism in which the eccentric shaft is rotated by the drive shaft.

（４）また、本発明の円すいころの研磨方法は、上下方向の軸線を中心として円すいころの大端面を径方向外側に向け当該円すいころを自転させながら公転させ、平面視において円の一部が取り除かれた形状である砥石の内周面に当該大端面を摺接させて研磨する方法であって、前記大端面の研磨時に前記砥石を上下方向に揺動させることを特徴とする。
この構成によれば、上記（１）の研磨装置と同様の効果を奏することができる。 (4) Further, according to the method for polishing a tapered roller of the present invention, the tapered end of the tapered roller is revolved with the large end surface of the tapered roller radially outward with the vertical axis as the center, and a part of the circle is seen in a plan view. In this method, the large end face is slidably contacted with the inner peripheral surface of the grindstone having the shape from which the grindstone is removed, and the grindstone is swung in the vertical direction when the large end face is polished.
According to this configuration, the same effects as those of the polishing apparatus (1) can be obtained.

本発明によれば、研磨作業をしながら砥石の目立てを行うことが可能となり、研磨作業の効率を改善することができる。   According to the present invention, it is possible to sharpen a grindstone while performing a polishing operation, and the efficiency of the polishing operation can be improved.

本発明の一実施形態に係る円すいころの研磨装置の平面図である。1 is a plan view of a tapered roller polishing apparatus according to an embodiment of the present invention. 図１のＣ−Ｃ線矢視簡略断面図である。It is a CC sectional view simplified sectional drawing of FIG. 円すいころの大端面の研磨作業を示す簡略斜視図である。It is a simple perspective view which shows the grinding | polishing operation | work of the large end surface of a tapered roller. 砥石セットの平面図である。It is a top view of a grindstone set. 図４のＤ−Ｄ線矢視断面図である。It is DD sectional view taken on the line of FIG. 図１のＥ−Ｅ線矢視断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line EE in FIG. 1. 図１のＦ−Ｆ線矢視断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view taken along line F-F in FIG. 1. 偏心調整装置及びその周囲を示す平面図である。It is a top view which shows the eccentric adjustment apparatus and its periphery. 図８のＧ−Ｇ線矢視断面図である。It is a GG arrow directional cross-sectional view of FIG. 図９のＨ矢視図である。FIG. 10 is a view on arrow H in FIG. 9. 図９のＩ−Ｉ線矢視断面図である。It is the II sectional view taken on the line of FIG. 軸受及びその周囲の一部を示す拡大図である。It is an enlarged view which shows a bearing and some surroundings. 砥石セットの上下揺動の説明図であり、（ａ）は説明図、（ｂ）は（ａ）のＪ−Ｊ線矢視簡略断面図である。It is explanatory drawing of the up-and-down rocking | fluctuation of a grindstone set, (a) is explanatory drawing, (b) is a JJ arrow directional cross-sectional view of (a). 砥石セットの上下揺動の説明図であり、（ａ）は図１３（ａ）とは異なる状態を示す説明図、（ｂ）は（ａ）のＬ−Ｌ線矢視簡略断面図である。It is explanatory drawing of the vertical rocking | fluctuation of a grindstone set, (a) is explanatory drawing which shows a state different from Fig.13 (a), (b) is a LL line | wire simple sectional view of (a). 砥石セットの上下揺動の説明図であり、（ａ）は図１４（ａ）とは異なる状態を示す説明図、（ｂ）は（ａ）のＫ−Ｋ線矢視簡略断面図である。It is explanatory drawing of the vertical rocking | fluctuation of a grindstone set, (a) is explanatory drawing which shows a state different from Fig.14 (a), (b) is a KK arrow simple sectional view of (a). 砥石セットの揺動動作の説明図であり、（ａ）は図１のＡ矢視図であり、（ｂ）は図１のＢ矢視図である。It is explanatory drawing of rocking | fluctuation operation | movement of a grindstone set, (a) is A arrow directional view of FIG. 1, (b) is B arrow directional view of FIG. 従来の円すいころの研磨装置を示す簡略断面図である。It is a simplified sectional view showing a conventional tapered roller polishing apparatus. 円すいころを示し、（ａ）はテーパー角が大きな円すいころの説明図、（ｂ）はテーパー角が小さな円すいころの説明図である。FIG. 2A shows a tapered roller, in which FIG. 1A is an explanatory diagram of a tapered roller having a large taper angle, and FIG. 2B is an explanatory diagram of a tapered roller having a small taper angle.

本発明の好ましい実施形態について添付図面を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係る円すいころの研磨装置１の平面図である。図２は、図１のＣ−Ｃ線矢視簡略断面図である。図３は、この研磨装置１による円すいころ２の大端面２ｂの研磨作業を示す簡略斜視図である。
図１と図２に示すように、研磨装置１は、軸線１４ａを上下方向とする支軸１４を中心として回転自在に設けられた円盤状のキャリア３と、このキャリア３の上下に配置された円盤状の上盤４及び下盤５と、上盤４用の回転駆動装置６及び下盤５用の回転駆動装置７と、キャリア３の径方向外側に設けられ円すいころ２の大端面２ｂを研磨する砥石１８を含む砥石セット８（図３参照）と、砥石セット８を上下方向に揺動させる揺動手段として機能する揺動ユニット９と、研磨対象となる円すいころ２の投入装置１０と、研磨を終えた円すいころ２の排出シュート１１とを有している。上盤４、下盤５及び砥石セット８は、キャリア３と同心状に配置されている。
研磨対象となる円すいころ２はテーパー状であり（図２参照）、円すいころ２は、軸方向一端に位置する小端面２ａと、軸方向他端に位置する大端面２ｂと、テーパー状の外周面２ｃとを有する。なお、大端面２ｂにおけるコーンセンタＰを中心とした曲率半径はＲ１である。曲率半径についての定義は、図１８により説明したとおりである。 Preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view of a tapered roller polishing apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. 2 is a simplified cross-sectional view taken along the line CC in FIG. FIG. 3 is a simplified perspective view showing the polishing operation of the large end surface 2 b of the tapered roller 2 by the polishing apparatus 1.
As shown in FIG. 1 and FIG. 2, the polishing apparatus 1 is provided with a disk-shaped carrier 3 that is rotatably provided around a support shaft 14 having an axis line 14 a in the vertical direction, and is disposed above and below the carrier 3. The upper end 4 and the lower plate 5 of the disk shape, the rotation drive device 6 for the upper plate 4 and the rotation drive device 7 for the lower plate 5, and the large end surface 2 b of the tapered roller 2 provided on the radially outer side of the carrier 3 A grindstone set 8 including a grindstone 18 to be polished (see FIG. 3), a rocking unit 9 functioning as rocking means for rocking the grindstone set 8 in the vertical direction, and a feeding device 10 for the tapered roller 2 to be polished. And the discharge chute 11 of the tapered roller 2 that has been polished. The upper board 4, the lower board 5 and the grindstone set 8 are arranged concentrically with the carrier 3.
The tapered roller 2 to be polished is tapered (see FIG. 2). The tapered roller 2 has a small end surface 2a located at one end in the axial direction, a large end surface 2b located at the other end in the axial direction, and a tapered outer periphery. Surface 2c. The radius of curvature around the cone center P in the large end face 2b is R1. The definition of the curvature radius is as described with reference to FIG.

研磨装置１の概略構成について説明する。
図１に示すように、砥石セット８（砥石１８）は、平面視において円の一部が取り除かれた形状（Ｃ形状）であり、この取り除かれている間欠領域に、投入装置１０と排出シュート１１とが設けられている。投入装置１０により、研磨対象となる円すいころ２が上盤４と下盤５との間に投入され、また、排出シュート１１により、研磨を終えた円すいころ２が上盤４と下盤５との間から取り出される。
キャリア３の外周縁部には、上下及び径方向外側に開口するポケット３ａが周方向に複数形成されている。このポケット３ａには、図２に示すように、投入された円すいころ２が大端面２ｂを径方向外側として収容され、また、大端面２ｂ側がポケット３ａから径方向外側に突出した状態となる。
ポケット３ａに収容された円すいころ２は、上盤４と下盤５との間に上下挟まれた状態にあり、回転駆動装置６、７により上盤４と下盤５とが周方向に関して相互に反対方向に回転する。これにより、円すいころ２には径方向外側へ向かう推力が生じて大端面２ｂが砥石１８の内周面１８ａに押し付けられた状態となり、そして、この円すいころ２を自転させながら軸線１４ａを中心としてキャリア３と共に公転させることができる。
以上より、円すいころ２は前記間欠領域から研磨装置１に投入されると、軸線１４ａを中心としてほぼ１周公転する間に大端面２ｂが砥石１８により研磨され、そして、前記間欠領域において、大端面２ｂが研磨された円すいころ２は取り出される。更に、本実施形態では、後にも説明するが、円すいころ２の大端面２ｂを砥石１８により研磨している間、図１６に示すように、この砥石セット８を、図１に示す揺動ユニット９により揺動させることができる。なお、図１６は、後述する砥石セット８の揺動動作の説明図であり、図１６（ａ）は図１のＡ矢視図であり、図１６（ｂ）は図１のＢ矢視図である。 A schematic configuration of the polishing apparatus 1 will be described.
As shown in FIG. 1, the grindstone set 8 (grindstone 18) has a shape (C shape) from which a part of a circle is removed in a plan view. 11 is provided. The tapered roller 2 to be polished is fed between the upper board 4 and the lower board 5 by the feeding device 10, and the tapered rollers 2 that have been polished by the discharge chute 11 are made into the upper board 4 and the lower board 5. It is taken out from between.
A plurality of pockets 3 a are formed in the circumferential direction on the outer peripheral edge of the carrier 3 so as to open vertically and radially outward. As shown in FIG. 2, the inserted tapered rollers 2 are accommodated in the pocket 3a with the large end surface 2b radially outward, and the large end surface 2b side protrudes radially outward from the pocket 3a.
The tapered roller 2 accommodated in the pocket 3a is sandwiched between the upper board 4 and the lower board 5, and the upper board 4 and the lower board 5 are mutually connected by the rotational drive devices 6 and 7 in the circumferential direction. Rotate in the opposite direction. As a result, thrust toward the radially outer side is generated in the tapered roller 2 so that the large end surface 2b is pressed against the inner peripheral surface 18a of the grindstone 18, and the tapered roller 2 is rotated around the axis 14a. It can be revolved together with the carrier 3.
As described above, when the tapered roller 2 is put into the polishing apparatus 1 from the intermittent region, the large end surface 2b is polished by the grindstone 18 while revolving around the axis 14a around the axis 14a. The tapered roller 2 whose end face 2b is polished is taken out. Further, in this embodiment, as will be described later, while the large end surface 2b of the tapered roller 2 is being polished by the grindstone 18, the grindstone set 8 is replaced with the swing unit shown in FIG. 9 can be swung. 16 is an explanatory view of the swinging operation of the grindstone set 8 to be described later, FIG. 16 (a) is a view as seen from an arrow A in FIG. 1, and FIG. 16 (b) is a view as seen from an arrow B in FIG. It is.

研磨装置１が備えている各部について更に説明する。
図１において、キャリア３は円盤状であり、その中心部に、軸線１４ａを上下方向とする支軸１４が設けられている。この軸線１４ａを中心としてキャリア３は回転自在となる。キャリア３の外周縁部には、上下及び径方向外側に開口するポケット３ａが周方向等間隔に複数配設されている。図２に示すように、ポケット３ａには、円すいころ２が大端面２ｂを径方向外側として収容され、また、円すいころ２はポケット３ａから上下及び径方向外側に突出する。 Each part provided in the polishing apparatus 1 will be further described.
In FIG. 1, the carrier 3 has a disk shape, and a support shaft 14 having an axis line 14a in the vertical direction is provided at the center thereof. The carrier 3 is rotatable around the axis 14a. A plurality of pockets 3 a that open to the top and bottom and radially outward are arranged at equal intervals in the circumferential direction on the outer peripheral edge of the carrier 3. As shown in FIG. 2, the tapered roller 2 is accommodated in the pocket 3a with the large end surface 2b being radially outward, and the tapered roller 2 protrudes from the pocket 3a vertically and radially outward.

上盤４は、キャリア３の上側にキャリア３と同心状に設けられている。上盤４の下面外周縁は、円すいころ２の外周面２ｃと当接する水平な当接面４ａとなる。上盤４の外周面４ｂは、軸線１４ａを中心とする円筒面からなる。
下盤５は、キャリア３の下側にキャリア３と同心状に配設されている。下盤５の上面には、円すいころ２のテーパー形状と一致するように、支軸１４に向かうに従って高くなるテーパー面５ａが形成されている。テーパー面５ａは円すいころ２の外周面２ｃに下から当接する。
上盤４と下盤５間に挟まれた状態にある円すいころ２のコーンセンタＰは、軸線１４ａ上に位置している。また、下盤５のテーパー面５ａを上側に延長すると、このコーンセンタＰに収束する。下盤５の外周面５ｂは、支軸１４の軸線１４ａを中心とする円筒面からなる。
上盤４及び下盤５の外径Ｒ２は大端面２ｂの曲率半径Ｒ１よりも小さく、円すいころ２は上盤４の当接面４ａ及び下盤５のテーパー面５ａよりも径方向外側に突出する。 The upper board 4 is provided concentrically with the carrier 3 above the carrier 3. The outer peripheral edge of the lower surface of the upper board 4 becomes a horizontal contact surface 4 a that contacts the outer peripheral surface 2 c of the tapered roller 2. The outer peripheral surface 4b of the upper board 4 consists of a cylindrical surface centering on the axis line 14a.
The lower board 5 is disposed concentrically with the carrier 3 below the carrier 3. On the upper surface of the lower plate 5, a tapered surface 5 a is formed which becomes higher toward the support shaft 14 so as to coincide with the tapered shape of the tapered roller 2. The tapered surface 5a contacts the outer peripheral surface 2c of the tapered roller 2 from below.
The cone center P of the tapered roller 2 sandwiched between the upper board 4 and the lower board 5 is located on the axis 14a. Further, when the tapered surface 5a of the lower board 5 is extended upward, the cone center P is converged. The outer peripheral surface 5 b of the lower plate 5 is a cylindrical surface centered on the axis 14 a of the support shaft 14.
The outer diameter R2 of the upper board 4 and the lower board 5 is smaller than the curvature radius R1 of the large end face 2b, and the tapered roller 2 protrudes radially outward from the contact surface 4a of the upper board 4 and the tapered surface 5a of the lower board 5. To do.

上盤４用の回転駆動装置６及び下盤５用の回転駆動装置７は、上盤４と下盤５とを周方向に関して相互に反対方向に回転駆動する。これにより、ポケット３ａ内の円すいころ２は、支軸１４の軸線１４ａを公転軸として自転しながらキャリア３と共に公転する。回転駆動装置６，７には、電動モータ等が含まれる。   The rotation driving device 6 for the upper board 4 and the rotation driving device 7 for the lower board 5 rotate the upper board 4 and the lower board 5 in directions opposite to each other with respect to the circumferential direction. Thereby, the tapered roller 2 in the pocket 3a revolves with the carrier 3 while rotating around the axis 14a of the support shaft 14 as a revolution axis. The rotary drive devices 6 and 7 include an electric motor and the like.

砥石セット８は、キャリア３の径方向外側に設けられキャリア３と同心状に配置されている。図４は、砥石セット８の平面図である。図５は、図４のＤ−Ｄ線矢視断面図である。図４及び図５に示すように、砥石セット８は、平面視において、円の一部を取り除いた（切り取った）Ｃ形状であり、上下方向厚さが小さい。砥石セット８は、砥石セット８の大部分を構成する外周のセット本体１７と、セット本体１７の内周面１７ａに固着された砥石１８とを有する。図５の符号１８ｂは、砥石１８の全周にわたる部分の上下方向中央位置を通過する中央位置表示面を示している。
砥石１８は、円すいころ２の大端面２ｂに摺接して研磨する（図３参照）。図２に示すように、砥石１８の内周面１８ａは、コーンセンタＰを中心とする球面の一部となる。内周面１８ａの半径（以下、内径という）をＲ３とすると、内径Ｒ３は、円すいころ２の大端面２ｂの曲率半径Ｒ１と同一の大きさとされる。 The grindstone set 8 is provided outside the carrier 3 in the radial direction and is arranged concentrically with the carrier 3. FIG. 4 is a plan view of the grindstone set 8. 5 is a cross-sectional view taken along line D-D in FIG. As shown in FIGS. 4 and 5, the grindstone set 8 has a C shape in which a part of a circle is removed (cut) in a plan view and has a small vertical thickness. The grindstone set 8 includes an outer peripheral set body 17 constituting most of the grindstone set 8, and a grindstone 18 fixed to the inner peripheral surface 17 a of the set main body 17. Reference numeral 18 b in FIG. 5 indicates a center position display surface that passes through the center position in the vertical direction of the portion extending over the entire circumference of the grinding stone 18.
The grindstone 18 is slid in contact with the large end surface 2b of the tapered roller 2 and polished (see FIG. 3). As shown in FIG. 2, the inner peripheral surface 18 a of the grindstone 18 is a part of a spherical surface centered on the cone center P. When the radius (hereinafter referred to as the inner diameter) of the inner peripheral surface 18a is R3, the inner diameter R3 is the same size as the curvature radius R1 of the large end surface 2b of the tapered roller 2.

図１において、揺動ユニット９は、砥石セット８を上下方向に揺動させるためのものであり、砥石セット８を支持する一対の支持装置２２と、砥石セット８を揺動させる揺動用駆動装置２３とを有する。支持装置２２は、セット本体１７の支持箇所１７ｂの径方向外側に設けられており、一方の支持装置２２と、他方の支持装置２２とは同じ構成である。
各支持装置２２は、砥石セット８のセット本体１７のうち、軸線１４ａを中心として周方向に１８０°離間した一対の支持箇所１７ｂを、回転自在に支持する。これら支持装置２２によれば、軸線１４ａと交差する水平線回りに砥石セット８を上下揺動させることができる。 In FIG. 1, the swing unit 9 is for swinging the grindstone set 8 in the vertical direction, and a pair of support devices 22 for supporting the grindstone set 8 and a swing drive device for swinging the grindstone set 8. 23. The support device 22 is provided on the radially outer side of the support portion 17b of the set main body 17, and one support device 22 and the other support device 22 have the same configuration.
Each support device 22 rotatably supports a pair of support portions 17b that are separated from each other by 180 ° in the circumferential direction around the axis 14a in the set body 17 of the grindstone set 8. According to these support devices 22, the grindstone set 8 can be swung up and down around a horizontal line intersecting the axis 14a.

図６は、図１のＥ−Ｅ線矢視断面図である。図６に示すように、支持装置２２は、台座（図示省略）に固定されたフレーム２６と、フレーム２６に固定された軸受装置２７と、軸受装置２７が有する一対の軸受２８，２９を介して回転自在に支持された支持軸３０と、支持軸３０の先端部に取り付けられたホルダー３１とを有する。なお、台座に対するフレーム２６の位置調整により、種々な外径を有する砥石セット８に対応可能となる。
支持軸３０は、セット本体１７の支持箇所１７ｂを通過する径方向に沿って設けられている。ホルダー３１は、支持箇所１７ｂを一対のスペーサ３４，３５を介して上下から挟持する上顎体３６及び下顎体３７と、上顎体３６と下顎体３７とを締結するボルト３８と、上顎体３６と下顎体３７との間に介装されるスペーサ３９と、スペーサ３９を固定するためのボルト４０とを有する。
支持軸３０の先端部は下顎体３７に固定されている。また、支持軸３０の軸線３０ａと、前記中央位置表示面１８ｂとを上下方向に関して一致させるために、スペーサ３４，３５が適宜交換される。また、支持箇所１７ｂの上下方向の厚さ等に応じて、スペーサ３４，３５，３９が適宜交換される。 6 is a cross-sectional view taken along line EE in FIG. As shown in FIG. 6, the support device 22 includes a frame 26 fixed to a pedestal (not shown), a bearing device 27 fixed to the frame 26, and a pair of bearings 28 and 29 included in the bearing device 27. The support shaft 30 is rotatably supported, and the holder 31 is attached to the tip of the support shaft 30. In addition, by adjusting the position of the frame 26 with respect to the pedestal, the grindstone set 8 having various outer diameters can be handled.
The support shaft 30 is provided along the radial direction passing through the support portion 17 b of the set main body 17. The holder 31 includes an upper jaw body 36 and a lower jaw body 37 that sandwich the support portion 17b from above and below via a pair of spacers 34, 35, a bolt 38 that fastens the upper jaw body 36 and the lower jaw body 37, and the upper jaw body 36 and the lower jaw. It has a spacer 39 interposed between the body 37 and a bolt 40 for fixing the spacer 39.
The distal end portion of the support shaft 30 is fixed to the lower jaw body 37. In order to make the axis 30a of the support shaft 30 and the center position display surface 18b coincide with each other in the vertical direction, the spacers 34 and 35 are appropriately replaced. Further, the spacers 34, 35, 39 are appropriately replaced according to the thickness of the support portion 17b in the vertical direction.

図１において、揺動用駆動装置２３は、セット本体１７の周方向に関して両支持箇所１７ｂ間の中央に位置する駆動箇所１７ｅを上下方向に揺動させる機能を有している。揺動用駆動装置２３は、駆動箇所１７ｅの径方向外側に設けられている。
図７は、図１のＦ−Ｆ線矢視断面図である。図７に示すように、揺動用駆動装置２３は、台座（図示省略）に固定されたフレーム４３と、揺動用モータ４４と、駆動軸４５と、偏心量調整装置４６と、偏心軸４７と、軸受４８と、ホルダー４９等を有する。なお、台座に対するフレーム４３の位置調整により、種々な外径を有する砥石セット８に対応可能となる。 In FIG. 1, the swing drive device 23 has a function of swinging a drive location 17 e located in the center between both support locations 17 b in the vertical direction with respect to the circumferential direction of the set body 17. The swing drive device 23 is provided on the radially outer side of the drive location 17e.
7 is a cross-sectional view taken along line FF in FIG. As shown in FIG. 7, the swing drive device 23 includes a frame 43 fixed to a pedestal (not shown), a swing motor 44, a drive shaft 45, an eccentricity adjusting device 46, an eccentric shaft 47, A bearing 48 and a holder 49 are included. In addition, by adjusting the position of the frame 43 with respect to the pedestal, it becomes possible to deal with the grindstone set 8 having various outer diameters.

揺動用モータ４４はインバータ制御され、揺動用モータ４４の回転数は調整可能である。これにより、砥石セット８の揺動速度が調整可能となる。
駆動軸４５は揺動用モータ４４の出力軸５２と同心状であり、駆動軸４５の基部がカップリング５０を介して出力軸５２の先端部と連結されている。駆動軸４５は一対の軸受５３，５４を介してハウジング５５に回転自在に支持されている。駆動軸４５の先端部には偏心量調整装置４６を介して偏心軸４７が設けられている。揺動用モータ４４の回転駆動により、駆動軸４５と偏心軸４７とは、軸線４５ａ回りに一体回転する。
偏心量調整装置４６は、駆動軸４５の軸線４５ａの延長線４５ｂを基準として、偏心軸４７の偏心中心線となる軸線４７ｃ（図８参照）の偏心量ｅを調整する機能を有している。なお、図８は、図７の偏心量調整装置４６及びその周囲の平面図である。図９は、図８の偏心量調整装置４６におけるＧ−Ｇ線矢視断面図である。図１０は、図９のＨ線矢視図である。図１１は、図９のＩ−Ｉ線矢視断面図である。図８に示すように、偏心量調整装置４６は、駆動軸４５の先端部に固定された取付台５８と、偏心量調整用スペーサ５９と、装着板６０とを有する。 The swing motor 44 is controlled by an inverter, and the rotation speed of the swing motor 44 can be adjusted. Thereby, the rocking speed of the grindstone set 8 can be adjusted.
The drive shaft 45 is concentric with the output shaft 52 of the swing motor 44, and the base of the drive shaft 45 is connected to the tip of the output shaft 52 via the coupling 50. The drive shaft 45 is rotatably supported by the housing 55 via a pair of bearings 53 and 54. An eccentric shaft 47 is provided at the tip of the drive shaft 45 via an eccentricity adjusting device 46. The drive shaft 45 and the eccentric shaft 47 are integrally rotated around the axis 45a by the rotational drive of the swing motor 44.
The eccentricity adjusting device 46 has a function of adjusting the eccentricity e of the axis 47c (see FIG. 8) that is the eccentric center line of the eccentric shaft 47 with reference to the extended line 45b of the axis 45a of the drive shaft 45. . FIG. 8 is a plan view of the eccentricity adjusting device 46 of FIG. 7 and its surroundings. 9 is a cross-sectional view taken along line GG in the eccentricity adjusting device 46 of FIG. 10 is a view taken in the direction of the arrow H in FIG. 11 is a cross-sectional view taken along the line II of FIG. As shown in FIG. 8, the eccentricity adjusting device 46 includes a mounting base 58 fixed to the distal end portion of the drive shaft 45, an eccentricity adjusting spacer 59, and a mounting plate 60.

取付台５８には、ホルダー４９側に開口する蟻溝６３（図９参照）が、軸線４５ａの延長線４５ｂと直交する水平方向に沿って形成されている。図９において、蟻溝６３は、広幅部６３ａと、広幅部６３ａよりも上下方向の幅が小さい狭幅部６３ｂとを備えている。
この蟻溝６３には、偏心軸４７の基部（４７ａ，４７ｂ）が、蟻溝６３の形成方向（水平方向）に沿って摺動自在に設けられている。偏心軸４７の基部は、蟻溝６３の広幅部６３ａに挿入される大径部４７ａと、狭幅部６３ｂに挿入される扁平部４７ｂとからなる。 A dovetail groove 63 (see FIG. 9) that opens to the holder 49 side is formed in the mounting base 58 along a horizontal direction orthogonal to the extension line 45b of the axis 45a. In FIG. 9, the dovetail 63 includes a wide portion 63a and a narrow portion 63b having a smaller vertical width than the wide portion 63a.
The dovetail groove 63 is provided with base portions (47a, 47b) of the eccentric shaft 47 so as to be slidable along the formation direction (horizontal direction) of the dovetail groove 63. The base part of the eccentric shaft 47 includes a large diameter part 47a inserted into the wide part 63a of the dovetail 63 and a flat part 47b inserted into the narrow part 63b.

図１０と図１１に示すように、取付台５８の水平方向両側面には、蟻溝６３を一方側から施蓋する偏心量調整用スペーサ５９と、蟻溝６３の他方側の開口を施蓋する装着板６０が、ボルト６６，６７により固定されている。偏心量調整用スペーサ５９には、調整軸部５９ａが設けられており、この調整軸部５９ａは、蟻溝６３内に挿入されてその先端部が偏心軸４７の大径部４７ａに当接する。装着板６０には（図１１参照）、偏心軸４７の大径部４７ａに螺合可能な調整ボルト６８が設けられている。この調整ボルト６８により、大径部４７ａを偏心量調整用スペーサ５９の調整軸部５９ａに押し付け可能である。偏心量調整用スペーサ５９の調整軸部５９ａの軸方向長さにより、駆動軸４５に対する偏心軸４７の偏心量ｅが設定される。
また、調整ボルト６８にはロックナット６９が螺結され、調整ボルト６８の頭部６８ａとロックナット６９とが装着板６０に対し締結されている。また、取付台５８には、偏心軸４７を取付台５８に固定するためのボルト７１が設けられている。
以上のようにして、偏心量調整装置４６は構成されている。 As shown in FIG. 10 and FIG. 11, an eccentric amount adjusting spacer 59 that covers the dovetail groove 63 from one side and an opening on the other side of the dovetail groove 63 are covered on both side surfaces of the mounting base 58 in the horizontal direction. A mounting plate 60 is fixed by bolts 66 and 67. The eccentric amount adjusting spacer 59 is provided with an adjusting shaft portion 59 a. The adjusting shaft portion 59 a is inserted into the dovetail groove 63, and a tip portion thereof abuts on the large diameter portion 47 a of the eccentric shaft 47. The mounting plate 60 (see FIG. 11) is provided with an adjustment bolt 68 that can be screwed into the large-diameter portion 47a of the eccentric shaft 47. With this adjustment bolt 68, the large diameter portion 47 a can be pressed against the adjustment shaft portion 59 a of the eccentricity adjustment spacer 59. The eccentric amount e of the eccentric shaft 47 with respect to the drive shaft 45 is set by the axial length of the adjusting shaft portion 59a of the eccentric amount adjusting spacer 59.
A lock nut 69 is screwed to the adjustment bolt 68, and a head 68 a of the adjustment bolt 68 and the lock nut 69 are fastened to the mounting plate 60. The mounting base 58 is provided with a bolt 71 for fixing the eccentric shaft 47 to the mounting base 58.
The eccentricity adjustment device 46 is configured as described above.

図７に示すように、偏心軸４７の先端部には、偏心軸４７をホルダー４９に回転自在に支持させるための軸受４８が外嵌、固定されている。軸受４８（図９参照）は、同心状とされた内輪７２及び外輪７３と、これらの間に配設された転動体とされる玉７４とを有する。
また、図７において、ホルダー４９は、砥石セット８のセット本体１７の駆動箇所１７ｅを保持する。ホルダー４９は、駆動箇所１７ｅを一対のスペーサ７６，７７を介して上下から挟持する上顎体７８及び下顎体７９と、上顎体７８と下顎体７９とを締結するボルト８０と、上顎体７８と下顎体７９との間に介装されるスペーサ８１と、このスペーサ８１を固定するためのボルト８２とを有する。
駆動軸４５の軸線４５ａの延長線４５ｂと前記中央位置表示面１８ｂとを上下方向に関して一致させるために、スペーサ７６，７７が適宜交換される。また、駆動箇所１７ｅの上下方向の厚さ等に応じて、スペーサ７６，７７，８１が適宜交換される。 As shown in FIG. 7, a bearing 48 for rotatably supporting the eccentric shaft 47 on the holder 49 is externally fitted and fixed to the tip of the eccentric shaft 47. The bearing 48 (see FIG. 9) includes an inner ring 72 and an outer ring 73 that are concentric, and a ball 74 that is a rolling element disposed therebetween.
In FIG. 7, the holder 49 holds the drive location 17 e of the set body 17 of the grindstone set 8. The holder 49 includes an upper jaw body 78 and a lower jaw body 79 that sandwich the drive point 17e from above and below via a pair of spacers 76 and 77, a bolt 80 that fastens the upper jaw body 78 and the lower jaw body 79, and the upper jaw body 78 and the lower jaw. A spacer 81 interposed between the body 79 and a bolt 82 for fixing the spacer 81 is provided.
In order to make the extended line 45b of the axis 45a of the drive shaft 45 coincide with the central position display surface 18b in the vertical direction, the spacers 76 and 77 are appropriately replaced. Further, the spacers 76, 77, 81 are appropriately replaced according to the thickness in the vertical direction of the drive location 17e.

図１２は、図７の軸受４８及びその周囲を示す拡大図である。図１２に示すように、下顎体７９の偏心量調整装置４６側の端部は、軸受４８を支持する支持部７９ａとなる。支持部７９ａは、偏心量調整装置４６側に開口する軸受用溝部７９ｂが、蟻溝６３の形成方向と平行（水平方向）に形成されている。
溝部７９ｂの水平方向両端部は開口しており、溝部７９ｂに軸受４８が収容されている。溝部７９ｂの上下内面それぞれには、突出する湾曲状の突条７９ｃ，７９ｄが溝部７９ｂの形成方向に沿って形成されている。両突条７９ｃ，７９ｄの間に軸受４８が介装されており、軸受４８は、両突条７９ｃ，７９ｄに沿って、偏心軸４７の軸線４７ｃ（軸受４８の軸線）と直交する水平方向に摺動自在となる。 FIG. 12 is an enlarged view showing the bearing 48 of FIG. 7 and its surroundings. As shown in FIG. 12, the end of the lower jaw body 79 on the eccentric amount adjusting device 46 side is a support portion 79 a that supports the bearing 48. In the support portion 79 a, a bearing groove portion 79 b that opens to the eccentric amount adjusting device 46 side is formed in parallel (horizontal direction) to the formation direction of the dovetail groove 63.
Both ends in the horizontal direction of the groove 79b are open, and the bearing 48 is accommodated in the groove 79b. Projecting curved ridges 79c and 79d are formed on the upper and lower inner surfaces of the groove 79b along the direction in which the groove 79b is formed. A bearing 48 is interposed between the protrusions 79c and 79d, and the bearing 48 extends in a horizontal direction perpendicular to the axis 47c of the eccentric shaft 47 (the axis of the bearing 48) along the protrusions 79c and 79d. It becomes slidable.

各突条７９ｃ，７９ｄと軸受４８の外輪７３とは、それぞれ、点接触する。また、両突条７９ｃ，７９ｄの一方と外輪７３との間に極めて小さな隙間を介在させる場合もある。
溝部７９ｂの上下内面における各突条７９ｃ，７９ｄの両側部と、軸受４８の外輪７３との間には隙間Ｓ１，Ｓ２が形成されている。これら隙間Ｓ１，Ｓ２により、軸受４８に対してホルダー４９は、セット本体１７の駆動箇所１７ｅ（図７参照）と共に上下首振り動作（揺動）することが可能となる。この構成により、偏心軸４７と共に軸受４８が軸線４５ａ（４５ｂ）回りに偏心回転すると、軸受４８は溝部７９ｂに沿って移動しながら、ホルダー４９が上下首振り動作するとともに全体として上下動し、この上下動により支持箇所１７ｅが上下動して砥石セット８が揺動する。 Each protrusion 79c, 79d and the outer ring 73 of the bearing 48 are in point contact with each other. In some cases, an extremely small gap may be interposed between one of the protrusions 79 c and 79 d and the outer ring 73.
Clearances S1 and S2 are formed between both side portions of the protrusions 79c and 79d on the upper and lower inner surfaces of the groove 79b and the outer ring 73 of the bearing 48. These clearances S1 and S2 allow the holder 49 to swing up and down (swing) together with the drive portion 17e (see FIG. 7) of the set body 17 with respect to the bearing 48. With this configuration, when the bearing 48 is eccentrically rotated about the axis 45a (45b) together with the eccentric shaft 47, the holder 49 moves vertically along the groove 79b while the holder 49 swings up and down as a whole. The support portion 17e moves up and down by the vertical movement, and the grindstone set 8 swings.

図１に戻って、投入装置１０及び排出シュート１１は、キャリア３の径方向外側に配設されて、砥石セット８のセット本体１７の周方向両端部１７ｃ，１７ｄ間に配設されている。投入装置１０は、円すいころ２をキャリア３のポケット３ａに投入する。排出シュート１１は、大端面２ｂの研磨が終了した円すいころ２を外部に排出する。   Returning to FIG. 1, the charging device 10 and the discharge chute 11 are disposed on the outer side in the radial direction of the carrier 3, and are disposed between the circumferential ends 17 c and 17 d of the set body 17 of the grindstone set 8. The loading device 10 loads the tapered roller 2 into the pocket 3 a of the carrier 3. The discharge chute 11 discharges the tapered roller 2 after the polishing of the large end surface 2b to the outside.

上記構成を備えた研磨装置１による研磨方法について説明する。
回転駆動装置６，７（図２参照）により、上盤４と下盤５とを周方向に関して相互に反対方向に回転駆動する。図１に示す投入装置１０から、円すいころ２がキャリア３のポケット３ａに次々と投入される。
投入された円すいころ２は上盤４と下盤５とにより挟まれると共に、支軸１４を中心として自転しながらキャリア３と共に公転する。この自転と公転とにより、円すいころ２の大端面２ｂが砥石１８の内周面１８ａに摺接し、大端面２ｂがこの内周面１８ａに対応した形状に研磨される。 A polishing method by the polishing apparatus 1 having the above configuration will be described.
The upper board 4 and the lower board 5 are rotationally driven in directions opposite to each other with respect to the circumferential direction by the rotation driving devices 6 and 7 (see FIG. 2). The tapered rollers 2 are successively inserted into the pockets 3a of the carrier 3 from the charging device 10 shown in FIG.
The inserted tapered roller 2 is sandwiched between the upper board 4 and the lower board 5 and revolves with the carrier 3 while rotating around the support shaft 14. By this rotation and revolution, the large end surface 2b of the tapered roller 2 comes into sliding contact with the inner peripheral surface 18a of the grindstone 18, and the large end surface 2b is polished into a shape corresponding to the inner peripheral surface 18a.

ところで、研磨装置１によりこのような研磨を継続していると、砥石８に目詰まり等が生じて砥石１８の切れ味が低下し、研磨効率が徐々に低下してくる。
そこで、本実施形態では、砥石セット８を上下方向に揺動させるようにしている。これにより、自転しながら公転する円すいころ２の大端面２ｂの、砥石１８に対する摺接方向が種々な方向に変動する。この変動により、円すいころ２の大端面２ｂの研磨作業を行いながら、砥石１８の目立て作業が可能となる。この結果、従来のように目立て作業のために円すいころ２の研磨を休止する必要がなくなり、作業効率を改善できる。
なお、円すいころ２の大端面２ｂの研磨作業時に、砥石セット８を常時揺動させるのではなく、砥石１８の切れ味（研磨効率）の低下に応じて間欠的に揺動させてもよい。
また、この研磨装置１を砥石１８の目立て装置として使用することも可能である。この場合には、キャリア３のポケット３ａに、円すいころ２ではなく、砥石１８の目立てに適した部材を収容すればよい。 By the way, if such grinding | polishing is continued by the grinding | polishing apparatus 1, clogging etc. will arise in the grindstone 8, the sharpness of the grindstone 18 will fall, and polishing efficiency will fall gradually.
Therefore, in this embodiment, the grindstone set 8 is swung in the vertical direction. Thereby, the sliding contact direction with respect to the grindstone 18 of the large end surface 2b of the tapered roller 2 revolving while rotating varies in various directions. Due to this change, the grinding work of the grindstone 18 can be performed while the grinding work of the large end surface 2b of the tapered roller 2 is performed. As a result, it is not necessary to stop the polishing of the tapered roller 2 for the sharpening work as in the prior art, and the work efficiency can be improved.
Note that the grinding wheel set 8 may not be constantly rocked during the polishing operation of the large end surface 2b of the tapered roller 2, but may be rocked intermittently in accordance with a decrease in the sharpness (polishing efficiency) of the grinding wheel 18.
Further, the polishing apparatus 1 can be used as a sharpening device for the grindstone 18. In this case, not the tapered roller 2 but a member suitable for sharpening the grindstone 18 may be accommodated in the pocket 3 a of the carrier 3.

砥石セット８の上下方向の揺動に関して説明する。図１３（ａ）はその説明図、図１３（ｂ）は図１３（ａ）のＪ−Ｊ線矢視簡略断面図である。図１４（ａ）は図１３（ａ）とは異なる状態を示す説明図、図１４（ｂ）は図１４（ａ）のＬ−Ｌ線矢視簡略断面図である。図１５（ａ）は図１４（ａ）とは更に異なる状態を示す説明図、図１５（ｂ）は図１５（ａ）のＫ−Ｋ線矢視簡略断面図である。なお、図１３（ａ）等において、支持装置２２を簡略化して示している。
砥石セット８を揺動させるためには、揺動用モータ４４の出力軸５２を回転駆動する。この駆動により、出力軸５２と連結された駆動軸４５が軸線４５ａ回りに回転する。この回転により、図１３（ｂ）、図１４（ｂ）及び図１５（ｂ）に示すように、偏心軸４７が軸線４５ａを中心として円運動を行う。この円運動により、偏心軸４７の先端部に設けられた軸受４８が、ホルダー４９の軸受用溝部７９ｂ内を水平方向に摺動すると共に、軸受４８に対してホルダー４９が砥石セット８の駆動箇所１７ｅと共に上下首振り動作を行う（揺動する）。これにより、砥石セット８が下記のように揺動する。 The vertical swing of the grindstone set 8 will be described. FIG. 13A is an explanatory view thereof, and FIG. 13B is a simplified cross-sectional view taken along the line JJ of FIG. 13A. 14A is an explanatory view showing a state different from FIG. 13A, and FIG. 14B is a simplified cross-sectional view taken along line LL in FIG. 14A. FIG. 15A is an explanatory view showing a further different state from FIG. 14A, and FIG. 15B is a simplified cross-sectional view taken along the line KK in FIG. 15A. In FIG. 13A and the like, the support device 22 is shown in a simplified manner.
In order to oscillate the grindstone set 8, the output shaft 52 of the oscillating motor 44 is rotationally driven. By this drive, the drive shaft 45 connected to the output shaft 52 rotates around the axis 45a. By this rotation, as shown in FIGS. 13 (b), 14 (b), and 15 (b), the eccentric shaft 47 performs a circular motion around the axis 45a. By this circular motion, the bearing 48 provided at the tip of the eccentric shaft 47 slides in the horizontal direction in the bearing groove 79b of the holder 49, and the holder 49 is driven to drive the grindstone set 8 with respect to the bearing 48. A vertical swing motion is performed (swinged) together with 17e. Thereby, the grindstone set 8 swings as follows.

すなわち、図１３（ａ）（ｂ）に示すように、偏心軸４７が円運動の最上位（上死点）に到達した際には、ホルダー４９及び砥石セット８が最も大きく上側に変位する。この上側への変位時には、図１３（ａ）に示すように、ホルダー４９が下に向くようにして首をふる（揺動する）。
図１４（ａ）（ｂ）に示すように、偏心軸４７が円運動の最下位（下死点）に到達した際には、ホルダー４９及び砥石セット８が最も大きく下側に変位する。この下側への変位時には、図１４（ａ）に示すように、ホルダー４９が上に向くようにして首をふる（揺動する）。
そして、図１５（ａ）（ｂ）に示すように、偏心軸４７が円運動の最上位と最下位との間の中間点に位置した際には、軸受４８は軸受用溝部７９ｂ内で最も水平方向に変位した状態となる。この際には、砥石セット８も揺動域の中間位置となる。砥石セット８の中間位置では、砥石セット８は、通常、水平姿勢とされるが、傾斜姿勢とされる場合もある。なお、図１３〜図１５の各図において、ｅは、駆動軸４５の軸線４５ａの延長線４５ｂと偏心軸４７の軸線４７ｃとの距離、すなわち、偏心量を示している。 That is, as shown in FIGS. 13 (a) and 13 (b), when the eccentric shaft 47 reaches the highest position (top dead center) of the circular motion, the holder 49 and the grindstone set 8 are displaced most upward. At the time of this upward displacement, as shown in FIG. 13A, the neck is swung (swinged) so that the holder 49 faces downward.
As shown in FIGS. 14A and 14B, when the eccentric shaft 47 reaches the lowest position (bottom dead center) of the circular motion, the holder 49 and the grindstone set 8 are displaced most downward. At the time of the downward displacement, as shown in FIG. 14A, the neck is swung (swinged) so that the holder 49 faces upward.
As shown in FIGS. 15A and 15B, when the eccentric shaft 47 is positioned at an intermediate point between the highest and lowest positions of the circular motion, the bearing 48 is the most within the bearing groove 79b. It will be in the state displaced in the horizontal direction. At this time, the grindstone set 8 is also at an intermediate position in the swing region. At the intermediate position of the grindstone set 8, the grindstone set 8 is normally in a horizontal posture, but may be in a tilted posture. 13 to 15, e indicates the distance between the extension line 45 b of the axis 45 a of the drive shaft 45 and the axis 47 c of the eccentric shaft 47, that is, the amount of eccentricity.

ところで、砥石１８の内径Ｒ３（図２参照）は円すいころ２の大端面２ｂの曲率半径Ｒ１とほぼ同一である。そのため、円すいころ２の曲率半径Ｒ１が小さくなるほど、砥石１８の内径Ｒ３が小さくなり、砥石１８の内周面１８ａの周方向長さ（加工距離）が小さくなる。このため、この砥石１８による研磨において、円すいころ２が研磨装置１に投入されてから排出されるまでの円すいころ２の公転移動距離が小さくなり、円すいころ２の自転回数も少なくなる。
そこで、従来のように砥石セット８を固定していると、円すいころ２の大端面２ｂの各部に対する砥石１８の研磨（摺接）距離が短くなって、大端面２ｂの各部を十分に研磨できず、大端面２ｂの取代不足が発生する問題がある。 Incidentally, the inner diameter R3 (see FIG. 2) of the grindstone 18 is substantially the same as the curvature radius R1 of the large end surface 2b of the tapered roller 2. Therefore, the smaller the radius of curvature R1 of the tapered roller 2, the smaller the inner diameter R3 of the grindstone 18, and the smaller the circumferential length (working distance) of the inner circumferential surface 18a of the grindstone 18. For this reason, in the polishing with the grindstone 18, the revolution moving distance of the tapered roller 2 from when the tapered roller 2 is put into the polishing apparatus 1 until it is discharged is reduced, and the number of rotations of the tapered roller 2 is also reduced.
Therefore, when the grindstone set 8 is fixed as in the prior art, the grinding (sliding contact) distance of the grindstone 18 with respect to each portion of the large end surface 2b of the tapered roller 2 is shortened, and each portion of the large end surface 2b can be sufficiently polished. In other words, there is a problem that the machining allowance of the large end face 2b is insufficient.

しかし、本実施形態では、円すいころ２の曲率半径Ｒ１が小さくなる場合であっても、砥石セット８を適宜上下方向に揺動させる。この揺動により、円すいころ２の大端面２ｂと砥石１８との相対的な摺接運動には、円すいころ２の自転及び公転による運動以外に、砥石１８の上下揺動による運動も付加される。
これにより、研磨作業時において、円すいころ２の大端面２ｂの各部に対する砥石１８の研磨を効率良く行うことができ、大端面２ｂの取代不足の発生を抑制できる。これにより、取代不足による円すいころ２の廃棄を少なくしたり、大端面２ｂの再研磨作業を少なくできる。なお、円すいころ２の曲率半径Ｒ１が小さい場合でも、大端面２ｂの研磨作業時に、砥石セット８を常時揺動させるのではなく、大端面２ｂの取代不足に応じて間欠的に揺動させることも行われる。
なお、砥石セット８を適宜上下方向に揺動させて、砥石１８により円すいころ２の大端面２ｂを研磨することで、理論上、大端面２ｂの曲率半径Ｒ１は砥石１８の内径Ｒ３と同一の大きさとなる。 However, in this embodiment, even if the radius of curvature R1 of the tapered roller 2 is small, the grindstone set 8 is appropriately swung up and down. Due to this swing, in addition to the rotation and revolution of the tapered roller 2, a motion due to the vertical swing of the grindstone 18 is added to the relative sliding contact motion between the large end surface 2 b of the tapered roller 2 and the grindstone 18. .
Thereby, at the time of a grinding | polishing operation | work, grinding | polishing of the grindstone 18 with respect to each part of the large end surface 2b of the tapered roller 2 can be performed efficiently, and generation | occurrence | production of the machining allowance lack of the large end surface 2b can be suppressed. Thereby, the disposal of the tapered roller 2 due to insufficient machining allowance can be reduced, and the re-polishing operation of the large end surface 2b can be reduced. Even when the radius of curvature R1 of the tapered roller 2 is small, the grindstone set 8 is not constantly rocked during polishing of the large end face 2b, but is intermittently swung according to the lack of machining allowance of the large end face 2b. Is also done.
In addition, the grindstone set 8 is appropriately swung up and down and the large end surface 2b of the tapered roller 2 is polished by the grindstone 18, so that the radius of curvature R1 of the large end surface 2b is theoretically the same as the inner diameter R3 of the grindstone 18. It becomes size.

なお、本発明は、上記の実施形態に限定されることなく適宜変更して実施可能である。例えば、上記実施形態では、砥石セット８のセット本体１７に支持装置２２のための支持箇所１７ｂや揺動用駆動装置２３のための駆動箇所１７ｅを設けて、支持装置２２により砥石１８を間接的に支持すると共に、揺動用駆動装置２３により砥石１８を間接的に揺動させるようにした。しかし、砥石１８自体に支持装置２２のための支持箇所や揺動用駆動装置２３のための駆動箇所を設けて、支持装置２２により砥石１８を直接支持すると共に、揺動用駆動装置２３により砥石１８を直接揺動させるようにしてもよい。   The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be implemented with appropriate modifications. For example, in the above-described embodiment, the support body 17 of the grindstone set 8 is provided with the support location 17b for the support device 22 and the drive location 17e for the swing drive device 23, and the grindstone 18 is indirectly attached by the support device 22. While supporting, the grindstone 18 was indirectly rocked by the rocking drive device 23. However, the grindstone 18 itself is provided with a support location for the support device 22 and a drive location for the swing drive device 23 so that the grindstone 18 is directly supported by the support device 22, and the grindstone 18 is supported by the swing drive device 23. You may make it rock directly.

１：研磨装置、 ２：円すいころ、 ２ｂ：大端面、 ３：キャリア、 ３ａ：ポケット、 ４：上盤、 ５：下盤、 ６：上盤用の回転駆動装置、 ７：下盤用の回転駆動装置、 ８：砥石セット、 ９：揺動ユニット、 １４：支軸、 １７：セット本体、 １７ｂ：支持箇所、 １７ｅ：駆動箇所、 １８：砥石、 ２２：支持装置、 ２３：揺動用駆動装置、 ３０：支持軸、 ４４：揺動用モータ、 ４５：駆動軸、 ４６：偏心量調整装置、 ４７：偏心軸、 ４８：軸受、 ４９：ホルダー、 ７９ｂ：軸受用溝部   1: Polishing device, 2: Tapered roller, 2b: Large end surface, 3: Carrier, 3a: Pocket, 4: Upper board, 5: Lower board, 6: Rotation drive device for upper board, 7: Rotation for lower board Drive device, 8: Grinding wheel set, 9: Oscillating unit, 14: Support shaft, 17: Set body, 17b: Support location, 17e: Drive location, 18: Grinding wheel, 22: Support device, 23: Drive device for oscillation 30: Support shaft, 44: Oscillating motor, 45: Drive shaft, 46: Eccentricity adjusting device, 47: Eccentric shaft, 48: Bearing, 49: Holder, 79b: Groove for bearing

Claims (4)

円すいころの大端面側を径方向外側へ突出させた状態として当該円すいころを収容するポケットが周方向に複数設けられ、軸線の方向を上下方向とする円盤状のキャリアと、
前記キャリアと同心状に設けられ前記円すいころを上下から挟む上盤及び下盤と、
前記上盤と前記下盤とを前記軸線回りに相互に反対方向に回転駆動して前記円すいころを自転させながら前記軸線を中心として前記キャリアと共に公転させる回転駆動装置と、
平面視において円の一部が取り除かれた形状であり前記キャリアの径方向外側に当該キャリアと同心状に設けられ前記大端面に接触して当該大端面を研磨するための砥石と、
前記大端面に接触する前記砥石を上下方向に揺動させる揺動手段と、
を備えていることを特徴とする円すいころの研磨装置。 A plurality of pockets for accommodating the tapered rollers in a state in which the large end face side of the tapered rollers is protruded radially outward, and a disk-shaped carrier having an axial direction as a vertical direction,
An upper board and a lower board provided concentrically with the carrier and sandwiching the tapered rollers from above and below;
A rotation drive device that revolves the upper plate and the lower plate together with the carrier around the axis while rotating the tapered rollers around the axis and rotating the tapered rollers;
A grindstone for polishing the large end surface in contact with the large end surface provided concentrically with the carrier on the radially outer side of the carrier in a shape in which a part of a circle is removed in plan view,
Rocking means for rocking the grindstone in contact with the large end surface in the vertical direction;
A taper roller polishing apparatus comprising: 前記揺動手段は、
前記軸線を中心として１８０°離間した支持箇所で前記砥石を揺動自在に支持する一対の支持装置と、
前記砥石の周方向に関して両支持箇所間の中央に位置する駆動箇所を上下方向に移動させる駆動装置と、
を備えている請求項１に記載の円すいころの研磨装置。 The swinging means is
A pair of support devices that swingably support the grindstone at support points that are 180 ° apart from each other about the axis;
A driving device for moving a driving point located in the center between both supporting points in the vertical direction with respect to the circumferential direction of the grinding wheel;
The tapered roller polishing apparatus according to claim 1, further comprising: 前記揺動用駆動装置は、
揺動用モータと、
前記砥石の前記駆動箇所を保持するホルダーと、
前記軸線に直交する回転中心線を有し前記揺動用モータにより回転する駆動軸と、
前記回転中心線に対して平行でかつ偏心する偏心中心線を有し当該回転中心線回りに前記駆動軸と一体回転する偏心軸と、
前記偏心軸に外嵌すると共に当該偏心軸を前記ホルダーに回転自在に支持させるための軸受と、
を有し、
前記ホルダーには、前記偏心中心線と直交する水平方向に前記軸受を移動自在としかつ前記軸受に対して当該ホルダーが上下首振り動作可能となるようにして当該軸受を収容する溝部が形成されている請求項２に記載の円すいころの研磨装置。 The swing drive device includes:
A swing motor;
A holder for holding the drive point of the grindstone;
A drive shaft having a rotation center line orthogonal to the axis and rotating by the swing motor;
An eccentric shaft that has an eccentric center line that is parallel and eccentric to the rotation center line, and that rotates integrally with the drive shaft about the rotation center line;
A bearing for externally fitting to the eccentric shaft and for rotatably supporting the eccentric shaft on the holder;
Have
The holder is formed with a groove for receiving the bearing so that the bearing can move in a horizontal direction perpendicular to the eccentric center line and the holder can swing up and down with respect to the bearing. The taper roller polishing apparatus according to claim 2. 上下方向の軸線を中心として円すいころの大端面を径方向外側に向け当該円すいころを自転させながら公転させ、平面視において円の一部が取り除かれた形状である砥石の内周面に当該大端面を摺接させて研磨する円すいころの研磨方法であって、
前記大端面の研磨時に前記砥石を上下方向に揺動させることを特徴とする円すいころの研磨方法。 Centering on the axis in the vertical direction, the tapered end of the tapered roller is revolved with the large end face radially outward, and the tapered roller is rotated and revolved. It is a method of polishing a tapered roller that polishes by sliding the end face,
A method for polishing a tapered roller, wherein the grindstone is swung in a vertical direction during polishing of the large end face.
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