JP2015148941A - Touch panel sensor and input-output device including touch panel sensor - Google Patents

Touch panel sensor and input-output device including touch panel sensor Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel sensor improved in designing property without decreasing detection sensitivity of a touch position.SOLUTION: The touch panel sensor includes: a decorative layer 46 disposed in a non-active area on a substrate 32 and configured to develop a predetermined color; a reflection layer 61 disposed on the decorative layer and containing a metal material to have reflection property; an overcoat layer 71 disposed on the reflection layer; and a plurality of frame wiring lines 43 arranged on the overcoat layer and having a metal layer having reflection property and conductivity. The reflection layer includes a first reflection layer; and the first reflection layer includes a parallel slit 61s that is disposed, in a plan view of the substrate, at least between a pair of adjoining frame wiring lines of the plurality of frame wiring lines and that extends along the frame wiring line.

Description

本発明は、タッチパネルセンサに関する。また本発明は、タッチパネルセンサと表示装置とを組み合わせることによって得られる入出力装置に関する。   The present invention relates to a touch panel sensor. The present invention also relates to an input / output device obtained by combining a touch panel sensor and a display device.

今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ、タッチパネルセンサ上への接触位置を検出する制御回路、配線およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を含んでいる。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）ディスプレイ等の表示装置が組み込まれた種々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルセンサが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力が可能になっている。タッチパネルセンサのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルセンサのこの領域が、接触位置（接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。   Today, touch panel devices are widely used as input means. The touch panel device includes a touch panel sensor, a control circuit that detects a contact position on the touch panel sensor, wiring, and an FPC (flexible printed circuit board). In many cases, the touch panel device is used as an input means for various devices in which a display device such as a liquid crystal display or an organic EL (Electro-Luminescence) display is incorporated (for example, a ticket vending machine, an ATM device, a mobile phone, a game machine). And used together with a display device. In such a device, the touch panel sensor is disposed on the display surface of the display device, thereby enabling extremely direct input to the display device. The area | region which faces the display area of a display apparatus among touch panel sensors is transparent, and this area | region of a touch panel sensor comprises the active area which can detect a contact position (approach position).

タッチパネル装置は、タッチパネルセンサ上への接触位置（接近位置）を検出する原理に基づいて、種々の形式に区別される。昨今では、光学的に明るいこと、意匠性があること、構造が容易であること、機能的にも優れていること等の理由から、容量結合方式のタッチパネル装置が注目されている。容量結合方式のタッチパネル装置においては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルセンサに接触（接近）する際、新たに奇生容量が発生する。この奇生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネルセンサ上における対象物の位置が検出される。容量結合方式には表面型と投影型とがあるが、マルチタッチの認識（多点認識）への対応に適していることから、投影型が注目を浴びている。   Touch panel devices are classified into various types based on the principle of detecting a contact position (approach position) on a touch panel sensor. In recent years, capacitive touch panel devices have attracted attention because they are optically bright, have good design properties, have a simple structure, and are superior in function. In a capacitively coupled touch panel device, when an external conductor (typically a finger) whose position is to be detected contacts (approaches) the touch panel sensor via a dielectric, a new strange capacitance is generated. The position of the object on the touch panel sensor is detected based on the change in capacitance caused by this strange capacity. The capacitive coupling method includes a surface type and a projection type, but the projection type is attracting attention because it is suitable for multi-touch recognition (multi-point recognition).

投影型容量結合方式のタッチパネルセンサは、誘電体と、誘電体のうち上述のアクティブエリア内に形成された電極パターンと、誘電体のうちアクティブエリアの外側の非アクティブエリア（いわゆる額縁領域）に形成された額縁配線と、を有している。電極パターンは、透光性および導電性を有する材料、例えば金属酸化物から形成される。一方、額縁配線は、電極パターンからの信号をタッチパネルセンサの外部に設けられた制御回路に伝達したり、制御回路からの駆動信号を電極パターンに伝達したりするためのものであり、一般に、高い導電性を有する金属材料からなる層を含んでいる。   A projected capacitively coupled touch panel sensor is formed in a dielectric, an electrode pattern formed in the above active area of the dielectric, and an inactive area (so-called frame region) outside the active area of the dielectric. Frame frame wiring. The electrode pattern is formed from a material having translucency and conductivity, such as a metal oxide. On the other hand, the frame wiring is used to transmit a signal from the electrode pattern to a control circuit provided outside the touch panel sensor or to transmit a drive signal from the control circuit to the electrode pattern. A layer made of a conductive metal material is included.

上述のように、非アクティブエリアには一般に、額縁配線などの、透光性を有さないパターンが配置されている。この場合、観察者側に位置するユーザーから額縁配線などが見えないようにし、これによって意匠性を向上させるため、額縁配線よりも観察者側の位置で非アクティブエリアに加飾層を設けることが知られている（例えば特許文献１）。   As described above, in the non-active area, a pattern having no translucency such as a frame wiring is generally arranged. In this case, a decorative layer may be provided in the inactive area at a position closer to the observer side than the frame wiring in order to prevent the frame wiring and the like from being seen by the user located on the observer side and thereby improve the design. Known (for example, Patent Document 1).

特許第４９６５００６号公報Japanese Patent No. 4965006

額縁配線などがユーザーから視認されることを十分に防ぐためには、加飾層の光透過率が十分に低くなるように加飾層を構成することが好ましい。しかしながら、加飾層の光透過率を低くしようとすると、加飾層の厚みが大きくなってしまい、この結果、加飾層とその周辺の部分との間に大きな段差が生じてしまう。このような大きな段差が存在していると、搬送工程や表示装置との組合せ工程など、タッチパネルの製造工程の後に実施される様々な工程における生産性や作業性が低下してしまうことが考えられる。また、アクティブエリアおよび非アクティブエリアの両者に跨がって延びる配線が存在する場合、配線がそのような大きな段差を跨ぐことになり、この結果、配線の断線が段差の部分で生じやすくなってしまうことも考えられる。   In order to sufficiently prevent the frame wiring and the like from being visually recognized by the user, it is preferable to configure the decorative layer so that the light transmittance of the decorative layer is sufficiently low. However, if the light transmittance of the decorative layer is to be lowered, the thickness of the decorative layer is increased, and as a result, a large step is generated between the decorative layer and the surrounding portion. If such a large level difference exists, it is considered that productivity and workability in various processes performed after the touch panel manufacturing process, such as a transport process and a combination process with a display device, are reduced. . In addition, when there is a wiring that extends over both the active area and the inactive area, the wiring straddles such a large step, and as a result, the disconnection of the wiring is likely to occur at the step portion. It can also be considered.

また近年は、タッチパネルセンサが、スマートフォンやタブレットＰＣなどの意匠性が重要視される分野で多く使用されている。このような分野においては、加飾層の色として、従来の黒色だけでなく、黒色以外の色、例えば白色、桃色や水色なども採用されている。しかしながら、黒色以外の色を呈する加飾層の光透過率は一般に、黒色を呈する加飾層の光透過率よりも大きくなっている。このため、黒色以外の加飾層が採用される場合、額縁配線などをユーザーから十分に遮蔽するためには、より大きな厚みを有する加飾層が必要になる。この結果、加飾層とその周辺の部分との間に生じる段差がさらに大きくなってしまうことが考えられる。   In recent years, touch panel sensors are often used in fields in which designability is important, such as smartphones and tablet PCs. In such a field, not only the conventional black color but also a color other than black, such as white, pink or light blue, is adopted as the color of the decorative layer. However, generally the light transmittance of the decoration layer which exhibits colors other than black is larger than the light transmittance of the decoration layer which exhibits black. For this reason, when a decoration layer other than black is employed, a decoration layer having a larger thickness is required to sufficiently shield the frame wiring and the like from the user. As a result, it is conceivable that the level difference generated between the decorative layer and the surrounding portion is further increased.

本発明は、このような課題を効果的に解決し得るタッチパネルセンサおよびタッチパネルセンサを備えた入出力装置を提供することを目的とする。   An object of this invention is to provide the input / output device provided with the touch panel sensor and touch panel sensor which can solve such a subject effectively.

本発明は、タッチパネルセンサであって、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、前記基材の前記アクティブエリアに配置された複数の電極パターンと、前記基材の上の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層と、前記加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層と、前記反射層上に設けられたオーバーコート層と、対応する前記電極パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を含む額縁配線と、を備え、前記反射層は、第１の反射層を有しており、前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている、タッチパネルセンサである。   The present invention is a touch panel sensor, and includes a base material including an active area corresponding to a region where a touch position can be detected, a non-active area positioned around the active area, and the active area of the base material. A plurality of electrode patterns arranged, a decoration layer arranged in the inactive area on the base material and configured to exhibit a predetermined color, provided on the decoration layer, and a metal material A reflective layer having reflectivity, an overcoat layer provided on the reflective layer, and a plurality of frame wirings electrically connected to the corresponding electrode pattern and arranged on the overcoat layer A frame wiring including a metal layer having reflectivity and conductivity, and the reflection layer has a first reflection layer, and the first reflection layer includes the base material. In the surface view, between the plurality of at least one pair of adjacent frame lines each other among the frame line, parallel slits extending along the frame line is provided, a touch panel sensor.

本発明によるタッチパネルセンサは、例えば相互容量型のタッチパネルセンサであり、前記複数の額縁配線は、複数の駆動配線及び複数の検出配線を含み、前記平行スリットは、前記基材の平面視において、前記複数の駆動配線と、前記複数の検出配線と、の間に設けられている。   The touch panel sensor according to the present invention is, for example, a mutual capacitance type touch panel sensor, the plurality of frame wirings include a plurality of drive wirings and a plurality of detection wirings, and the parallel slits are in the plan view of the base material, It is provided between the plurality of drive wirings and the plurality of detection wirings.

本発明によるタッチパネルセンサは、好ましくは、前記オーバーコート層上であって、前記複数の駆動配線と、前記複数の検出配線と、の間に配置されたシールド配線を更に備え、前記シールド配線は、前記複数の電極パターンのいずれにも電気的に接続されておらず、前記シールド配線は、前記基材の平面視において、前記シールド配線の領域が前記平行スリットの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている。   The touch panel sensor according to the present invention preferably further includes a shield wiring arranged on the overcoat layer and between the plurality of drive wirings and the plurality of detection wirings, The shield wiring is not electrically connected to any of the plurality of electrode patterns, and the shield wiring includes at least a part of the parallel slit region in a plan view of the base material. Is arranged.

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記平行スリットは、互いに隣接する前記額縁配線の間に複数本が設けられていてもよい。   In the touch panel sensor according to the present invention, a plurality of the parallel slits may be provided between the frame wirings adjacent to each other.

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記平行スリットは、各額縁配線毎に配置されており、各額縁配線は、前記基材の平面視において、各額縁配線の領域が当該額縁配線に対応する平行スリットの領域の少なくとも一部を包含するように配置されていてもよい。   In the touch panel sensor according to the present invention, the parallel slits are arranged for each frame wiring, and each frame wiring has a parallel slit corresponding to the frame wiring in an area of each frame wiring in a plan view of the base material. You may arrange | position so that at least one part of an area | region may be included.

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記平行スリットを横切るように延びる交差スリットが設けられていてもよい。   In the touch panel sensor according to the present invention, the first reflective layer may be provided with a cross slit extending across the parallel slit in a plan view of the substrate.

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記反射層は、第２の反射層を有しており、前記第２の反射層は、交差スリットに沿って延びており、前記第２の反射層は、前記基材の平面視において、前記第２の反射層の領域が前記交差スリットの領域の少なくとも一部を覆うように設けられている。この場合、好ましくは、前記第１の反射層は、前記第２の反射層に対して、前記加飾層の側に設けられている。   In the touch panel sensor according to the present invention, preferably, the reflective layer has a second reflective layer, the second reflective layer extends along a cross slit, and the second reflective layer is In the plan view of the substrate, the region of the second reflective layer is provided so as to cover at least a part of the region of the cross slit. In this case, preferably, the first reflective layer is provided on the decorative layer side with respect to the second reflective layer.

本発明によるタッチパネルセンサは、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間の少なくとも一部の領域に配置されたダミー配線を更に備え、前記ダミー配線は、反射性を有する金属層を含んでおり、前記ダミー配線は、前記複数の電極パターンのいずれにも電気的に接続されておらず、前記ダミー配線は、前記基材の平面視において、前記ダミー配線の領域が前記平行スリットの領域の少なくとも一部を覆うように配置されていてもよい。   The touch panel sensor according to the present invention further includes a dummy wiring arranged in at least a part of a region between at least a pair of adjacent frame wirings among the plurality of frame wirings, and the dummy wiring is a reflective metal. The dummy wirings are not electrically connected to any of the plurality of electrode patterns, and the dummy wirings have the dummy wiring regions parallel to each other in plan view of the substrate. You may arrange | position so that at least one part of the area | region of a slit may be covered.

本発明によるタッチパネルセンサは、前記加飾層は、黒色以外の色を呈するよう構成されていてもよい。   In the touch panel sensor according to the present invention, the decorative layer may be configured to exhibit a color other than black.

本発明によるタッチパネルセンサにおいて、好ましくは、前記基材は、表示装置用の保護板として機能するものであり、前記電極パターン、前記加飾層、前記反射層、前記オーバーコート層および前記額縁配線はいずれも、前記基材の面のうち表示装置側の面に設けられている。   In the touch panel sensor according to the present invention, preferably, the base material functions as a protective plate for a display device, and the electrode pattern, the decorative layer, the reflective layer, the overcoat layer, and the frame wiring are Both are provided on the surface of the base material on the display device side.

本発明は、表示装置と、前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、前記タッチパネルセンサは、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、前記基材の前記アクティブエリアに配置された複数の電極パターンと、前記基材の上の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層と、前記加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層と、前記反射層上に設けられたオーバーコート層と、対応する前記電極パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を有する額縁配線と、を備え、前記反射層は、第１の反射層を有しており、前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている、入出力装置である。   The present invention includes a display device and a touch panel sensor disposed on a display surface of the display device, and the touch panel sensor includes an active area corresponding to an area in which a touch position can be detected, and a periphery of the active area. A non-active area positioned, a plurality of electrode patterns disposed in the active area of the base material, and disposed in the non-active area on the base material so as to exhibit a predetermined color A decorative layer formed on the reflective layer, a reflective layer containing a metal material and having reflectivity, an overcoat layer provided on the reflective layer, and a corresponding electrode pattern. A plurality of frame wirings arranged on the overcoat layer, the frame wiring having a reflective and conductive metal layer. The reflective layer includes a first reflective layer, and the first reflective layer includes at least a pair of adjacent frame wirings among the plurality of frame wirings in a plan view of the base material. The input / output device is provided with a parallel slit extending along the frame wiring therebetween.

本発明によれば、基材の上の非アクティブエリアに配置された加飾層と複数の額縁配線との間に、金属材料を含み反射性を有する第１の反射層が設けられている。この場合、加飾層を透過して額縁配線に到達した光は、額縁配線によって反射されて観察者側に戻り、また、加飾層を透過して第１の反射層に到達した光も同様に、第１の反射層によって反射されて観察者側に戻る。このため、非アクティブエリアのうち額縁配線が存在する場所における加飾層の見え方と、非アクティブエリアのうち額縁配線が存在しない場所における加飾層の見え方との間に差が生じることを抑制することができる。このため、加飾層の光遮蔽性に関する要求を従来よりも低くすることができ、従って、加飾層の厚みを従来よりも小さくすることができる。このことにより、加飾層とその周辺の部分との間に段差が生じることを抑制することができる。   According to this invention, the 1st reflective layer which contains a metal material and has reflectivity is provided between the decoration layer arrange | positioned in the inactive area on a base material, and several frame wiring. In this case, the light that has passed through the decorative layer and reached the frame wiring is reflected by the frame wiring and returned to the viewer side, and the light that has passed through the decorative layer and reached the first reflective layer is also the same. Then, the light is reflected by the first reflective layer and returns to the viewer side. Therefore, there is a difference between the appearance of the decoration layer in the inactive area where the frame wiring exists and the appearance of the decoration layer in the inactive area where the frame wiring does not exist. Can be suppressed. For this reason, the request | requirement regarding the light-shielding property of a decoration layer can be made lower than before, Therefore, the thickness of a decoration layer can be made smaller than before. Thereby, it can suppress that a level | step difference arises between a decoration layer and its peripheral part.

一方で、金属材料を含む反射層は導電性を有するため、反射層が複数の額縁配線に近接して配置されていると、隣接する額縁配線間で生じる容量結合が、反射層を介して促進されてしまう虞がある。隣接する額縁配線間で生じる容量結合が促進されてしまうと、アクティブエリアに形成される電界が弱まってしまい、タッチ位置の検出感度が低下してしまう虞がある。   On the other hand, since the reflective layer containing a metal material has conductivity, if the reflective layer is arranged close to a plurality of frame wirings, capacitive coupling generated between adjacent frame wirings is promoted via the reflective layer. There is a risk of being. If capacitive coupling generated between adjacent frame wirings is promoted, the electric field formed in the active area may be weakened, and the touch position detection sensitivity may be reduced.

しかしながら本発明によれば、第１の反射層には、基材の平面視において、複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている。この場合、隣接する額縁配線間の容量結合が反射層を介して促進されてしまうことが抑制される。このことにより、アクティブエリアに形成される電界が弱まってしまうことが抑制され、タッチ位置の検出を精度良く行うことができる。   However, according to the present invention, the first reflective layer has a parallel slit extending along the frame wiring between at least a pair of adjacent frame wirings of the plurality of frame wirings in a plan view of the substrate. Is provided. In this case, it is possible to suppress the capacitive coupling between the adjacent frame wirings from being promoted through the reflective layer. This suppresses the weakening of the electric field formed in the active area, and the touch position can be detected with high accuracy.

図１は、第１の実施の形態におけるタッチパネルセンサを備える入出力装置を示す展開図。FIG. 1 is a development view showing an input / output device including a touch panel sensor according to the first embodiment. 図２は、図１の入出力装置におけるタッチパネルセンサを示す平面図。FIG. 2 is a plan view showing a touch panel sensor in the input / output device of FIG. 1. 図３は、図２のタッチパネルセンサの、III線に沿った断面図。3 is a cross-sectional view of the touch panel sensor of FIG. 2 along the line III. 図４は、図２のタッチパネルセンサの、IV線に沿った断面図。4 is a cross-sectional view of the touch panel sensor of FIG. 2 taken along line IV. 図５Ａは、図２のタッチパネルセンサの、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す平面図。FIG. 5A is a plan view showing a drive wiring, a detection wiring, a shield wiring, and a first reflective layer of the touch panel sensor of FIG. 図５Ｂは、図５ＡのＶＢ線断面を示す断面図。FIG. 5B is a cross-sectional view showing a cross section taken along line VB of FIG. 5A. 図６Ａは、図２のタッチパネルセンサの、端子部と、ダミー配線と、反射層と、を示す平面図。6A is a plan view showing a terminal portion, a dummy wiring, and a reflective layer of the touch panel sensor of FIG. 図６Ｂは、図６ＡのVIＢ線断面を示す断面図。6B is a cross-sectional view showing a cross section along line VIB of FIG. 6A. 図６Ｃは、図６ＡのVIＣ線断面を示す断面図。6C is a cross-sectional view showing a cross-section along the line VIC in FIG. 6A. 図７Ａは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。FIG. 7A is a diagram for explaining a decorative layer forming step, a reflective layer forming step, and an overcoat layer forming step in the first embodiment. 図７Ｂは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。FIG. 7B is a diagram for explaining a decorative layer forming step, a reflective layer forming step, and an overcoat layer forming step in the first embodiment. 図７Ｃは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。FIG. 7C is a diagram for explaining a decorative layer forming step, a reflective layer forming step, and an overcoat layer forming step in the first embodiment. 図７Ｄは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。FIG. 7D is a diagram for describing a decorative layer forming step, a reflective layer forming step, and an overcoat layer forming step in the first embodiment. 図７Ｅは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図。FIG. 7E is a diagram for describing a decorative layer forming step, a reflective layer forming step, and an overcoat layer forming step in the first embodiment. 図８Ａは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。FIG. 8A is a diagram for explaining a frame wiring formation step and an electrode pattern formation step in the first embodiment. 図８Ｂは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。FIG. 8B is a diagram for explaining a frame wiring formation step and an electrode pattern formation step in the first embodiment. 図８Ｃは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。FIG. 8C is a diagram for explaining a frame wiring formation step and an electrode pattern formation step in the first embodiment. 図８Ｄは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。FIG. 8D is a diagram for explaining a frame wiring formation step and an electrode pattern formation step in the first embodiment. 図８Ｅは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。FIG. 8E is a diagram for explaining a frame wiring formation step and an electrode pattern formation step in the first embodiment. 図８Ｆは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。FIG. 8F is a diagram for explaining a frame wiring formation step and an electrode pattern formation step in the first embodiment. 図８Ｇは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図。FIG. 8G is a diagram for explaining a frame wiring formation step and an electrode pattern formation step in the first embodiment. 図９Ａは、第２の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す平面図。FIG. 9A is a plan view showing a drive wiring, a detection wiring, a shield wiring, and a first reflective layer in the second embodiment. 図９Ｂは、図９ＡのIXＢ線断面を示す断面図。9B is a cross-sectional view showing a cross section taken along line IXB of FIG. 9A. 図１０Ａは、第３の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す図。FIG. 10A is a diagram showing a drive wiring, a detection wiring, a shield wiring, and a first reflective layer in the third embodiment. 図１０Ｂは、図１０ＡのＸＢ線断面を示す断面図。10B is a cross-sectional view showing a cross section taken along line XB of FIG. 10A. 図１１Ａは、第４の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す図。FIG. 11A is a diagram illustrating a drive wiring, a detection wiring, a shield wiring, and a first reflective layer in the fourth embodiment. 図１１Ｂは、図１１ＡのＸＩＢ線断面を示す断面図。11B is a cross-sectional view showing a cross section along line XIB of FIG. 11A. 図１２Ａは、第５の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、を示す図。FIG. 12A is a diagram showing a drive wiring, a detection wiring, a shield wiring, and a first reflective layer in the fifth embodiment. 図１２Ｂは、図１２ＡのＸIIＢ線断面を示す断面図。12B is a cross-sectional view showing a cross section along line XIIB of FIG. 12A. 図１３Ａは、第６の実施の形態における、駆動配線と、検出配線と、シールド配線と、第１の反射層と、第２の反射層と、を示す図。FIG. 13A is a diagram showing a drive wiring, a detection wiring, a shield wiring, a first reflective layer, and a second reflective layer in the sixth embodiment. 図１３Ｂは、図１３ＡのＸIIIＢ線断面を示す断面図。13B is a cross-sectional view showing a cross section taken along line XIIIB of FIG. 13A. 図１３Ｃは、図１３ＡのＸIIIＣ線断面を示す断面図。FIG. 13C is a cross-sectional view showing a cross section taken along line XIIIC of FIG. 13A. 図１４Ａは、第６の実施の形態におけるタッチパネルセンサの、端子部と、第１の反射層と、ダミー端子部と、を示す平面図。FIG. 14A is a plan view showing a terminal portion, a first reflective layer, and a dummy terminal portion of a touch panel sensor according to a sixth embodiment. 図１４Ｂは、図１４ＡのＸIVＢ線断面を示す断面図。14B is a cross-sectional view showing a cross section along line XIVB of FIG. 14A. 図１４Ｃは、図１４ＡのＸIVＣ線断面を示す断面図。14C is a cross-sectional view showing a cross section along line XIVC in FIG. 14A.

以下、図１乃至図８Ｇを参照して、本発明の第１の実施の形態について説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。また本明細書において、「シート」、「フィルム」、「板」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。したがって、例えば「板」は、シートやフィルム等とも呼ばれ得るような部材や部分も含む概念である。   The first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 8G. In the drawings attached to the present specification, for the sake of illustration and ease of understanding, the scale, the vertical / horizontal dimension ratio, and the like are appropriately changed and exaggerated from those of the actual ones. Further, in the present specification, the terms “sheet”, “film”, and “plate” are not distinguished from each other only based on the difference in names. Therefore, for example, the “plate” is a concept including members and parts that can also be called sheets, films and the like.

タッチパネル装置および入出力装置
はじめに図１を参照して、タッチパネルセンサ３０を備えた入出力装置１０について説明する。図１に示すように、入出力装置１０は、タッチパネルセンサ３０と表示装置（例えば液晶表示装置）１５とを組み合わせることによって構成されている。図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができるアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。 Touch Panel Device and Input / Output Device First, an input / output device 10 including a touch panel sensor 30 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the input / output device 10 is configured by combining a touch panel sensor 30 and a display device (for example, a liquid crystal display device) 15. The illustrated display device 15 is configured as a flat panel display. The display device 15 includes a display panel 16 having a display surface 16 a and a display control unit (not shown) connected to the display panel 16. The display panel 16 includes an active area A1 that can display an image, and an inactive area (also referred to as a frame area) A2 that is disposed outside the active area A1 so as to surround the active area A1. . The display control unit processes information regarding the video to be displayed, and drives the display panel 16 based on the video information. That is, the display device 15 plays a role as an output device that outputs information such as characters and drawings as video.

図１に示すように、タッチパネルセンサ３０は、表示装置１５の表示面１６ａ上に配置されている。このタッチパネルセンサ３０は、例えば、表示装置１５の表示面１６ａ上に接着層（図示せず）を介して接着されている。   As shown in FIG. 1, the touch panel sensor 30 is disposed on the display surface 16 a of the display device 15. The touch panel sensor 30 is bonded to the display surface 16a of the display device 15 via an adhesive layer (not shown), for example.

なお、本実施の形態において、タッチパネルセンサ３０は、タッチ位置検出機能をもたらすだけでなく、表示装置を保護する役割をも果たすように構成されている。具体的には、タッチパネルセンサ３０の基材３２は、表示装置用の保護板として機能するように構成されている。この場合、基材３２の観察者側の面３２ｂが、入出力装置１０のうち最も観察者側に位置する面を構成している。また、タッチパネルセンサ３０の各構成要素、例えば後述する電極パターン４１，４２、額縁配線４３やシールド配線４５および端子部４４は、いずれも基材３２の表示装置側の面３２ａに設けられている。また、基材３２は、表示装置１５を保護する上で十分な強度を有する材料から構成されている。   In the present embodiment, the touch panel sensor 30 is configured not only to provide a touch position detection function but also to protect the display device. Specifically, the base material 32 of the touch panel sensor 30 is configured to function as a protective plate for a display device. In this case, the surface 32 b on the viewer side of the base material 32 constitutes the surface of the input / output device 10 that is positioned closest to the viewer. Each component of the touch panel sensor 30, for example, electrode patterns 41 and 42, which will be described later, the frame wiring 43, the shield wiring 45, and the terminal portion 44 are all provided on the surface 32 a of the base material 32 on the display device side. The base material 32 is made of a material having sufficient strength for protecting the display device 15.

タッチパネルセンサ
次に図２乃至図６Ｃを参照して、第１の実施の形態のタッチパネルセンサ３０について説明する。図２は、タッチパネルセンサ３０を示す平面図であり、図３は、図２のタッチパネルセンサ３０の、III線に沿った断面図であり、図４は、図２のタッチパネルセンサ３０の、IV線に沿った断面図である。また、図５Ａは、図２のタッチパネルセンサ３０の、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図５Ｂは、図５ＡのＶＢ線断面を示す断面図である。また、図６Ａは、図２のタッチパネルセンサ３０の、端子部４４と、ダミー端子部９１と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図６Ｂは、図６ＡのVIＢ線断面を示す断面図であり、図６Ｃは、図６ＡのVIＣ線断面を示す断面図である。 Touch Panel Sensor Next, the touch panel sensor 30 according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 2 to 6C. 2 is a plan view showing the touch panel sensor 30, FIG. 3 is a cross-sectional view of the touch panel sensor 30 of FIG. 2 along the line III, and FIG. 4 is a IV line of the touch panel sensor 30 of FIG. FIG. 5A is a plan view showing the drive wiring 43x, the detection wiring 43y, the shield wiring 45, and the first reflective layer 61 of the touch panel sensor 30 of FIG. 2, and FIG. 5B is a plan view of FIG. It is sectional drawing which shows the VB line cross section. 6A is a plan view showing the terminal portion 44, the dummy terminal portion 91, and the first reflective layer 61 of the touch panel sensor 30 of FIG. 2, and FIG. 6B is a cross-sectional view taken along the line VIB of FIG. 6A. 6C is a cross-sectional view showing a cross section taken along the line VIC of FIG. 6A.

図２に示されたタッチパネルセンサ３０は、投影型の静電容量結合方式として構成され、タッチパネルセンサ３０の外部導体（例えば、人間の指）の接触位置（タッチ位置とも称する）を検出可能に構成されている。なお、静電容量結合方式のタッチパネルセンサ３０の検出感度が優れている場合には、外部導体がタッチパネルセンサ３０に接近しただけで当該外部導体がタッチパネル装置のどの領域に接近しているかを検出することができる。従って、ここで用いる「接触位置」とは、実際には接触していないが位置を検出され得る接近位置を含む概念とする。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本件では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。さらに、図２に示されたタッチパネルセンサ３０は、本実施の形態では、特に相互容量型のタッチパネルセンサとして構成されるが、これに限定されない。   The touch panel sensor 30 shown in FIG. 2 is configured as a projection-type capacitive coupling method, and can detect a contact position (also referred to as a touch position) of an external conductor (for example, a human finger) of the touch panel sensor 30. Has been. In addition, when the detection sensitivity of the capacitive coupling type touch panel sensor 30 is excellent, it is detected which area of the touch panel device the external conductor is approaching just by approaching the external conductor to the touch panel sensor 30. be able to. Accordingly, the “contact position” used here is a concept including an approach position that is not actually in contact but can be detected. The “capacitive coupling” method is also referred to as “capacitance” method or “capacitance coupling” method in the technical field of touch panels. It is treated as a term synonymous with the “capacitive coupling” method. Furthermore, in the present embodiment, the touch panel sensor 30 shown in FIG. 2 is particularly configured as a mutual capacitance type touch panel sensor, but is not limited thereto.

図２に示すように、タッチパネルセンサ３０は、タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する非アクティブエリアＡａ２と、を含む基材３２と、基材３２のアクティブエリアＡａ１に配置された複数の電極パターン４１，４２と、対応する電極パターン４１，４２に電気的に接続されるとともに、基材３２の非アクティブエリアＡａ２に並べられた複数の額縁配線４３であって、反射性および導電性を有する金属層を含む額縁配線４３と、を備えている。基材３２のアクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２はそれぞれ、表示パネル１６のアクティブエリアＡ１および非アクティブエリアＡ２に対応して区画されたものである。   As illustrated in FIG. 2, the touch panel sensor 30 includes a base material 32 including an active area Aa1 corresponding to a region where a touch position can be detected, and an inactive area Aa2 positioned around the active area Aa1, and a base material A plurality of frame patterns arranged in the non-active area Aa2 of the substrate 32 while being electrically connected to the corresponding electrode patterns 41 and 42 and the plurality of electrode patterns 41 and 42 arranged in the 32 active areas Aa1 Frame wiring 43 including a metal layer having reflectivity and conductivity. The active area Aa1 and the inactive area Aa2 of the base material 32 are respectively partitioned corresponding to the active area A1 and the inactive area A2 of the display panel 16.

以下、タッチパネルセンサ３０を構成する各要素についてさらに詳述する。   Hereinafter, each element constituting the touch panel sensor 30 will be described in detail.

基材３２は、タッチパネルセンサ３０において誘電体として機能するものである。また上述のように、基材３２は、表示装置用の保護板としても機能するものである。基材３２は例えば、十分な強度を有するよう、ガラスなどを用いて構成されている。   The base material 32 functions as a dielectric in the touch panel sensor 30. As described above, the base material 32 also functions as a protective plate for the display device. For example, the base material 32 is made of glass or the like so as to have sufficient strength.

電極パターン４１，４２は、図２に示すように、第１方向に沿って、例えば図２のｘ方向に沿って延びる複数の第１電極パターン４１と、第１方向に直交する第２方向に沿って、例えば図２のｙ方向に沿って延びる複数の第２電極パターン４２と、を有している。本実施の形態では、第１電極パターン４１は、ｘ方向に沿って直線状に延びるｘ方向接続部４１ａと、ｘ方向にｘ方向接続部４１ａを介して接続されたｘ方向電極単位４１ｂと、を有している。また、第２電極パターン４２は、ｙ方向に沿って直線状に延びるｙ方向接続部４２ａと、ｘ方向電極単位４１ｂ間に位置し、ｙ方向にｙ方向接続部４２ａを介して接続されたｙ方向電極単位４２ｂと、を有している。図２に示すように、ｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂは、各々略正方形の形状を有している。   As shown in FIG. 2, the electrode patterns 41 and 42 are arranged in a second direction perpendicular to the first direction and a plurality of first electrode patterns 41 extending along the first direction, for example, along the x direction in FIG. 2. A plurality of second electrode patterns 42 extending along the y direction of FIG. 2, for example. In the present embodiment, the first electrode pattern 41 includes an x-direction connection portion 41a extending linearly along the x-direction, an x-direction electrode unit 41b connected in the x-direction via the x-direction connection portion 41a, have. The second electrode pattern 42 is located between the y-direction connection portion 42a that extends linearly along the y-direction and the x-direction electrode unit 41b, and is connected to the y-direction via the y-direction connection portion 42a. Direction electrode unit 42b. As shown in FIG. 2, the x-direction electrode unit 41b and the y-direction electrode unit 42b each have a substantially square shape.

電極パターン４１，４２を構成する材料は、導電性を有する限りにおいて特には限定されないが、本実施の形態においては、ｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂを構成する材料としては、導電性および透光性を有する透明導電材料が用いられる。ｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂを構成する透明導電材料としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化亜鉛、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系などの導電性酸化物が用いられる。これらの導電性酸化物が２種以上複合されてもよい。   The material constituting the electrode patterns 41 and 42 is not particularly limited as long as it has conductivity, but in this embodiment, the material constituting the x-direction electrode unit 41b and the y-direction electrode unit 42b is a conductive material. A transparent conductive material having translucency is used. As the transparent conductive material constituting the x-direction electrode unit 41b and the y-direction electrode unit 42b, indium tin oxide (ITO), zinc oxide, indium oxide, antimony-added tin oxide, fluorine-added tin oxide, aluminum-added zinc oxide, potassium Conductive oxides such as added zinc oxide, silicon-added zinc oxide, zinc oxide-tin oxide, indium oxide-tin oxide, and zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide are used. Two or more of these conductive oxides may be combined.

ｘ方向接続部４１ａおよびｙ方向接続部４２ａを構成する材料も、導電性を有する限りにおいては特には限定されない。
例えば本実施の形態においては、ｘ方向接続部４１ａおよびｙ方向接続部４２ａを構成する材料としては、ｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂと同一の材料が用いられる。このようにｘ方向接続部４１ａないしｙ方向接続部４２ａがｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂの材料と同一の材料から形成されていることにより、後述するタッチパネルセンサの製造工程において、ｘ方向接続部４１ａないしｙ方向接続部４２ａのいずれか一方をｘ方向電極単位４１ｂおよびｙ方向電極単位４２ｂの形成工程と同一の工程で形成することができる。
若しくは、ｘ方向電極単位４１ｂ、ｙ方向電極単位４２ｂおよびｘ方向接続部４１ａを、透明導電材料を用いて構成し、ｙ方向接続部４２ａを、金属材料を用いて構成してもよい。 The material constituting the x-direction connection portion 41a and the y-direction connection portion 42a is not particularly limited as long as it has conductivity.
For example, in the present embodiment, the same material as the x-direction electrode unit 41b and the y-direction electrode unit 42b is used as the material constituting the x-direction connection portion 41a and the y-direction connection portion 42a. As described above, the x-direction connection portion 41a to the y-direction connection portion 42a are formed of the same material as the material of the x-direction electrode unit 41b and the y-direction electrode unit 42b. Any one of the direction connecting portion 41a to the y direction connecting portion 42a can be formed in the same process as the forming process of the x direction electrode unit 41b and the y direction electrode unit 42b.
Alternatively, the x-direction electrode unit 41b, the y-direction electrode unit 42b, and the x-direction connection portion 41a may be configured using a transparent conductive material, and the y-direction connection portion 42a may be configured using a metal material.

ｙ方向接続部４２ａは、図３および図４に示すように、ｘ方向接続部４１ａに対して基板３２の側に形成されている。ｙ方向接続部４２ａとｘ方向接続部４１ａとの間には、絶縁層４７が介在されており、これによってｙ方向接続部４２ａとｘ方向接続部４１ａとが電気的に短絡するのが防がれている。絶縁層４７を形成する材料としては、電気絶縁性を有する材料であれば特に限定されないが、本実施の形態においては、透明性を有するアクリル樹脂が用いられる。   As shown in FIGS. 3 and 4, the y-direction connection portion 42 a is formed on the substrate 32 side with respect to the x-direction connection portion 41 a. An insulating layer 47 is interposed between the y-direction connection portion 42a and the x-direction connection portion 41a, thereby preventing the y-direction connection portion 42a and the x-direction connection portion 41a from being electrically short-circuited. It is. The material for forming the insulating layer 47 is not particularly limited as long as it is an electrically insulating material, but in this embodiment, an acrylic resin having transparency is used.

額縁配線４３は、電極パターン４１，４２を駆動するための信号、または電極パターン４１，４２によって伝達された信号が流れるものであり、反射性および導電性を有する金属層を含んでいる。額縁配線４３は、複数本が非アクティブエリアＡａ２に並べられており、その一端において対応する電極パターン４１，４２に、その他端において対応する端子部４４に電気的に接続されている。   The frame wiring 43 flows a signal for driving the electrode patterns 41 and 42 or a signal transmitted by the electrode patterns 41 and 42, and includes a metal layer having reflectivity and conductivity. A plurality of the frame wirings 43 are arranged in the inactive area Aa2, and are electrically connected to the corresponding electrode patterns 41 and 42 at one end and the corresponding terminal portion 44 at the other end.

本実施の形態においては、複数の額縁配線４３は、対応する第１電極パターン４１に接続された複数の駆動配線４３ｘと、対応する第２電極パターン４２に電気的に接続された検出配線４３ｙと、を含んでいる。すなわち本実施の形態においては、第１電極パターン４１が駆動電極として機能し、第２電極パターン４２が検出電極として機能する。しかしながら、これに限られることはなく、第１電極パターン４１が検出電極として機能し、第２電極パターン４２が駆動電極として機能するよう、複数の額縁配線４３が電極パターン４１，４２に接続されていてもよい。   In the present embodiment, the plurality of frame wires 43 include a plurality of drive wires 43x connected to the corresponding first electrode patterns 41, and detection wires 43y electrically connected to the corresponding second electrode patterns 42. , Including. That is, in the present embodiment, the first electrode pattern 41 functions as a drive electrode, and the second electrode pattern 42 functions as a detection electrode. However, the present invention is not limited to this, and a plurality of frame wirings 43 are connected to the electrode patterns 41 and 42 so that the first electrode pattern 41 functions as a detection electrode and the second electrode pattern 42 functions as a drive electrode. May be.

額縁配線４３によって端子部４４まで伝達された信号は、端子部４４に取り付けられたフレキシブル基板（図示せず）などを介して検出制御部へ伝達される。   The signal transmitted to the terminal unit 44 by the frame wiring 43 is transmitted to the detection control unit via a flexible substrate (not shown) attached to the terminal unit 44.

シールド配線４５は、複数の電極パターン４１，４２のいずれにも電気的に接続されていない配線であって、安定したシールド電位に維持されるものである。シールド配線４５は、例えば図２においては、非アクティブエリアＡａ２のうち、複数の駆動配線４３ｘと複数の検出配線４３ｙとの間の領域に、隣接する額縁配線４３に沿って各１本ずつ設けられている。もっとも、シールド配線４５が設けられる領域および当該領域におけるシールド配線４５の本数は、これに限られない。シールド配線４５は、その一端において端子部４４に電気的に接続されており、当該端子部４４を介して図示しない接地端子や接地配線に接続されている。もっとも、シールド配線４５は、どこにも電気的に接続されていない配線であってもよい。   The shield wiring 45 is a wiring that is not electrically connected to any of the plurality of electrode patterns 41 and 42, and is maintained at a stable shield potential. For example, in FIG. 2, one shield wiring 45 is provided in each region along the adjacent frame wiring 43 in the region between the plurality of drive wirings 43x and the plurality of detection wirings 43y in the inactive area Aa2. ing. But the area | region in which the shield wiring 45 is provided, and the number of the shield wiring 45 in the said area | region are not restricted to this. The shield wiring 45 is electrically connected to the terminal portion 44 at one end thereof, and is connected to a ground terminal or a ground wiring (not shown) via the terminal portion 44. However, the shield wiring 45 may be a wiring that is not electrically connected anywhere.

上述のように、タッチパネルセンサ３０の非アクティブエリアＡａ２には一般に、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５をユーザーから見えないようにするための加飾層４６が、アクティブエリアＡａ１を取り囲むように設けられている。しかしながら、上述のように、加飾層４６の厚みには上限がある。このため、加飾層４６の上に直接的に額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５が設けられている場合、観察者側から加飾層４６を透過して額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５に到達し、その後、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５によって反射されて観察者側に戻る、という光が少なからず存在することが考えられる。また、表示装置１５から放射された後、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５が設けられていない領域を通って加飾層４６に入射し、そして加飾層４６を透過して観察者側に至る、という光も存在することが考えられる。この場合、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５が観察者側に居るユーザーによって視認されてしまう可能性がある。また、ユーザーによって視認される非アクティブエリアＡａ２の色が、外光や表示装置からの光に含まれる色や額縁配線４３の色などの影響を受けてしまう可能性もある。すなわち、ユーザーによって視認される非アクティブエリアＡａ２の色が、加飾層４６によって呈される色、例えば加飾層４６に含まれる着色剤の色からずれてしまう可能性がある。また、このような色のずれが部分的に生じる場合、非アクティブエリアＡａ２の色が不均一なものとして視認されてしまうことになる。   As described above, in general, in the non-active area Aa2 of the touch panel sensor 30, the decorative layer 46 for hiding the frame wiring 43, the terminal portion 44, and the shield wiring 45 from the user surrounds the active area Aa1. Is provided. However, as described above, the thickness of the decorative layer 46 has an upper limit. For this reason, when the frame wiring 43, the terminal part 44, and the shield wiring 45 are provided directly on the decoration layer 46, the frame wiring 43 and the terminal part 44 are transmitted through the decoration layer 46 from the observer side. It is conceivable that there is a considerable amount of light that reaches the shield wiring 45 and then is reflected by the frame wiring 43, the terminal portion 44, or the shield wiring 45 and returns to the viewer side. In addition, after being emitted from the display device 15, the light enters the decoration layer 46 through a region where the frame wiring 43, the terminal portion 44, and the shield wiring 45 are not provided, and passes through the decoration layer 46 to be an observer. It is possible that there is also light that reaches the side. In this case, the frame wiring 43, the terminal portion 44, and the shield wiring 45 may be visually recognized by a user who is on the observer side. In addition, the color of the inactive area Aa2 visually recognized by the user may be influenced by the color included in the external light, the light from the display device, the color of the frame wiring 43, or the like. That is, the color of the non-active area Aa2 visually recognized by the user may deviate from the color presented by the decoration layer 46, for example, the color of the colorant included in the decoration layer 46. In addition, when such a color shift partially occurs, the color of the inactive area Aa2 is visually recognized as non-uniform.

このような課題を考慮して、本実施の形態においてタッチパネルセンサ３０は、後述するように、加飾層４６上に設けられ、反射性を有する金属材料で形成された反射層をさらに備えている。この反射層を設けることにより、後述するように、加飾層４６の厚みをさほど大きくすることなく、非アクティブエリアＡａ２における所望の色彩を実現することができる。そして、額縁配線４３や端子部４４やシールド配線４５は、反射層および加飾層４６上に設けられたオーバーコート層７１上に配置されている。   In consideration of such problems, the touch panel sensor 30 in the present embodiment further includes a reflective layer provided on the decorative layer 46 and formed of a reflective metal material, as will be described later. . By providing this reflective layer, a desired color in the inactive area Aa2 can be realized without increasing the thickness of the decorative layer 46 as will be described later. The frame wiring 43, the terminal portion 44, and the shield wiring 45 are arranged on an overcoat layer 71 provided on the reflective layer and the decoration layer 46.

以下、図３および図４を参照して、このような反射層を含むタッチパネルセンサ３０の非アクティブエリアＡａ２に配置される構成要素の層構成について説明する。図３および図４に示すように、基材３２のうち表示装置側の面３２ａ上には、所定の色を呈するよう構成された加飾層４６が配置されている。   Hereinafter, with reference to FIG. 3 and FIG. 4, a layer configuration of components arranged in the inactive area Aa <b> 2 of the touch panel sensor 30 including such a reflective layer will be described. As shown in FIGS. 3 and 4, a decoration layer 46 configured to exhibit a predetermined color is disposed on the surface 32 a on the display device side of the base material 32.

加飾層４６の色は、タッチパネルセンサ３０および入出力装置１０に対して求められる意匠性に応じて選択される。ここでは、加飾層４６が、黒色以外の色を呈するよう構成されている場合について説明する。黒色以外の色の例としては、例えば、白色、水色、桃色、緑色などを挙げることができる。加飾層４６を構成する材料は、選択された色に応じて決定されるが、例えば白色が求められる場合、加飾層４６は、白色を呈するための着色剤として用いられる酸化チタンが分散された樹脂材料から構成される。   The color of the decorative layer 46 is selected according to the design properties required for the touch panel sensor 30 and the input / output device 10. Here, the case where the decoration layer 46 is comprised so that colors other than black may be demonstrated is demonstrated. Examples of colors other than black include white, light blue, pink, and green. Although the material which comprises the decorating layer 46 is determined according to the selected color, for example, when white is calculated | required, as for the decorating layer 46, the titanium oxide used as a coloring agent for exhibiting white is disperse | distributed. It is composed of a resin material.

加飾層４６は、所定の色を呈するための着色剤に加えて、光が照射されることによってその物性を変化させる感光剤をさらに含んでいてもよい。加飾層４６が感光剤を含むことにより、後述するように、加飾層４６を所望の形状にパターニングするための方法として、露光処理および現像処理を含むフォトリソグラフィー法を用いることが可能になる。加飾層４６に含まれる感光剤は、光硬化型のものであってもよく、光溶解型のものであってもよいが、ここでは、光硬化型のものが用いられる例について説明する。   In addition to the colorant for exhibiting a predetermined color, the decorative layer 46 may further include a photosensitizer that changes its physical properties when irradiated with light. When the decoration layer 46 contains a photosensitizer, a photolithography method including an exposure process and a development process can be used as a method for patterning the decoration layer 46 into a desired shape, as will be described later. . The photosensitizer contained in the decorative layer 46 may be a photocurable type or a photodissolvable type. Here, an example in which a photocurable type is used will be described.

（反射層）
図３および図４に示すように、加飾層４６の面のうち表示装置側の面上には、上述の反射層が設けられている。この反射層は第１の反射層６１を含んでおり、第１の反射層６１は、光を反射することができるよう構成されている。具体的には、第１の反射層６１は、金属材料を含んでいる。このため、観察者側から加飾層４６に入射して酸化チタンなどの着色剤（呈色成分）によって反射された後に第１の反射層６１に到達した光は、第１の反射層６１によって反射されて観察者側に戻ることになる。また第１の反射層６１は、表示装置１５から放射された光が加飾層４６および基材３２を透過して観察者側に到達することを防ぐという役割も果たす。このため、加飾層４６によって呈される色をユーザーに鮮明に認識させることができる。すなわち、加飾層４６の発色性を向上させることができる。第１の反射層６１は、どこにも電気的に接続されていなくてもよいし、図示しない配線を介して接地されていてもよいし、電源電圧が印加されるように任意の機能部に接続されていてもよい。 (Reflective layer)
As shown in FIGS. 3 and 4, the reflective layer described above is provided on the surface of the decorative layer 46 on the display device side. The reflective layer includes a first reflective layer 61, and the first reflective layer 61 is configured to reflect light. Specifically, the first reflective layer 61 includes a metal material. For this reason, the light that has entered the decorative layer 46 from the observer side and is reflected by the colorant (coloring component) such as titanium oxide and then has reached the first reflective layer 61 is transmitted by the first reflective layer 61. It is reflected and returns to the viewer side. The first reflective layer 61 also serves to prevent the light emitted from the display device 15 from passing through the decorative layer 46 and the base material 32 and reaching the observer side. For this reason, the color presented by the decorative layer 46 can be clearly recognized by the user. That is, the color developability of the decorative layer 46 can be improved. The first reflective layer 61 may not be electrically connected anywhere, may be grounded via a wiring (not shown), or connected to an arbitrary functional unit so that a power supply voltage is applied. May be.

上述のように、第１の反射層６１は、加飾層４６の発色性を向上させるという効果をもたらすことができる。一方で、第１の反射層６１は導電性を有しているため、第１の反射層６１が複数の額縁配線４３に近接して配置されていると、互いに隣接する２つの額縁配線４３間で生じる容量結合が、第１の反射層６１を介して促進されてしまう虞がある。この結果、アクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱くなり、タッチ位置の検出感度が低下する虞がある。   As described above, the first reflective layer 61 can bring about an effect of improving the color developability of the decorative layer 46. On the other hand, since the first reflective layer 61 has conductivity, when the first reflective layer 61 is arranged in the vicinity of the plurality of frame wirings 43, the distance between the two frame wirings 43 adjacent to each other. There is a possibility that the capacitive coupling generated in step 1 is promoted through the first reflective layer 61. As a result, the electric field formed in the active area Aa1 becomes weak, and there is a possibility that the detection sensitivity of the touch position is lowered.

本件発明者は、このような課題を解決すべく試行錯誤を重ねた結果、第１の反射層６１に複数の額縁配線４３に沿って延びるスリット、すなわち間隙、を設けることにより、互いに隣接する２つの額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまうことを抑制し得る、ということを見出した。特に、相互容量型のタッチパネルセンサ３０においては、基材３２の平面視において複数の駆動配線４３ｘと複数の検出配線４３ｙとの間に位置するようにスリットを設けた場合、互いに隣接する２つの額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまうことによるタッチ位置の検出感度の低下を効果的に抑制し得る、ということを見出した。   As a result of repeated trial and error in order to solve such a problem, the present inventor has provided slits extending along the plurality of frame wirings 43 in the first reflective layer 61, that is, gaps. It has been found that the capacitive coupling between the two frame wirings 43 can be suppressed from being promoted via the first reflective layer 61. In particular, in the mutual capacitance type touch panel sensor 30, when a slit is provided so as to be positioned between the plurality of drive wirings 43x and the plurality of detection wirings 43y in a plan view of the base material 32, two adjacent frames It has been found that a decrease in the detection sensitivity of the touch position due to the capacitive coupling between the wirings 43 being promoted via the first reflective layer 61 can be effectively suppressed.

ここで、図５Ａおよび図５Ｂを参照して、上述のスリットを有する本実施の形態の第１の反射層６１について説明する。図５Ａは、図２のタッチパネルセンサの、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、第１の反射層６１の側から基材３２の側に向かう方向に見た図である。また、図５Ｂは、図５ＡのＶＢ線断面を示す断面図である。   Here, with reference to FIG. 5A and FIG. 5B, the 1st reflective layer 61 of this Embodiment which has the above-mentioned slit is demonstrated. 5A is a plan view showing the drive wiring 43x, the detection wiring 43y, the shield wiring 45, and the first reflective layer 61 of the touch panel sensor of FIG. 2, from the first reflective layer 61 side. It is the figure seen in the direction which goes to the base material 32 side. 5B is a cross-sectional view showing a cross section taken along line VB of FIG. 5A.

第１の反射層６１には、基材３２の平面視において、複数の額縁配線４３のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線４３の間に、当該額縁配線４３に沿って延びる平行スリット６１ｓが設けられている。特に本実施の形態においては、平行スリット６１ｓは、図５Ａに示すように、基材３２の平面視において、複数の駆動配線４３ｘと複数の検出配線４３ｙとの間に１本が設けられている。これによって、駆動配線４３ｘ群と検出配線４３ｙ群との間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまう、ということが抑制され得る。   The first reflective layer 61 is provided with parallel slits 61 s extending along the frame wiring 43 between at least a pair of adjacent frame wirings 43 among the plurality of frame wirings 43 in the plan view of the base material 32. It has been. In particular, in the present embodiment, as shown in FIG. 5A, one parallel slit 61s is provided between the plurality of drive wirings 43x and the plurality of detection wirings 43y in the plan view of the substrate 32. . Accordingly, it is possible to suppress the capacitive coupling between the drive wiring 43x group and the detection wiring 43y group from being promoted through the first reflective layer 61.

ところで、第１の反射層６１に平行スリット６１ｓが設けられていると、観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓを通過する光が存在してしまう。この結果、加飾層の見え方が不均一になってしまう虞がある。このような課題を解決するため、本実施の形態では、シールド配線４５は、基材３２の平面視において、平行スリット６１ｓと重なるように配置されている。   By the way, when the parallel slit 61s is provided in the 1st reflective layer 61, the light which injects into the decorating layer 46 from the observer side and passes through the parallel slit 61s will exist. As a result, the appearance of the decorative layer may be uneven. In order to solve such a problem, in the present embodiment, the shield wiring 45 is arranged so as to overlap the parallel slit 61s in the plan view of the base material 32.

具体的には、シールド配線４５は、基材３２の平面視において、シールド配線４５の領域が平行スリット６１ｓの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている。このようにシールド配線４５が平行スリット６１ｓの領域の少なくとも一部を包含するように配置されていることにより、観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓを通過した光が、シールド配線４５によって反射されて観察者側に戻ることとなる。   Specifically, the shield wiring 45 is disposed so that the area of the shield wiring 45 includes at least a part of the area of the parallel slit 61s in the plan view of the base material 32. Since the shield wiring 45 is arranged so as to include at least a part of the region of the parallel slit 61s in this way, the light that has entered the decoration layer 46 from the observer side and passed through the parallel slit 61s is shielded. It is reflected by the wiring 45 and returns to the viewer side.

平行スリット６１ｓの幅Ｗ１を決定する上では、駆動配線４３ｘ群と検出配線４３ｙ群との間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまうことを所望の程度に抑制する、ということが考慮される。さらに本実施の形態においては、シールド配線４５の金属層４５ｍの幅Ｗ２が考慮される。すなわち、平行スリット６１ｓの幅Ｗ１は、基材３２の平面視において、シールド配線４５の金属層４５ｍ領域によって平行スリット６１ｓの領域が十分に包含されるように決定される。本実施の形態では、金属層４５ｍの幅Ｗ２が３０μｍ程度であり、平行スリット６１ｓの幅Ｗ１は１５μｍ程度である。換言すれば、基材３２の平面視において、金属層４５ｍと第１の反射層６１とが重なり合う領域の幅Ｗ３が、７．５μｍ程度である。   In determining the width W1 of the parallel slit 61s, it is suppressed to a desired degree that capacitive coupling between the drive wiring 43x group and the detection wiring 43y group is promoted through the first reflective layer 61. That is considered. Further, in the present embodiment, the width W2 of the metal layer 45m of the shield wiring 45 is considered. That is, the width W1 of the parallel slit 61s is determined so that the region of the parallel slit 61s is sufficiently included by the region of the metal layer 45m of the shield wiring 45 in the plan view of the substrate 32. In the present embodiment, the width W2 of the metal layer 45m is about 30 μm, and the width W1 of the parallel slit 61s is about 15 μm. In other words, in the plan view of the base material 32, the width W3 of the region where the metal layer 45m and the first reflective layer 61 overlap is about 7.5 μm.

（オーバーコート層）
ところで図３乃至図５Ｂに示すように、第１の反射層６１の表示装置側には、上述の額縁配線４３や端子部４４、シールド配線４５が設けられる。第１の反射層６１を介してこれらの額縁配線４３や端子部４４、シールド配線４５が互いに導通してしまうことを防ぐため、図３乃至図５Ｂに示すように、タッチパネルセンサ３０は、第１の反射層６１の面のうち表示装置側の面上に設けられたオーバーコート層７１をさらに備えている。このオーバーコート層７１は、額縁配線４３や端子部４４、シールド配線４５が互いに導通するのを防ぐという機能だけでなく、加飾層４６および第１の反射層６１を保護するという機能を有していてもよい。またオーバーコート層７１は、タッチパネルセンサ３０や入出力装置１０の製造工程において加飾層４６から排出されるアウトガスを遮蔽するという機能を有していてもよい。オーバーコート層７１の材料としては、例えばアクリル樹脂などが用いられ得る。なおオーバーコート層７１の形成工程においてフォトリソグラフィー法が用いられる場合、オーバーコート層７１は、加飾層４６の場合と同様に、感光剤をさらに含んでいてもよい。後述するオーバーコート層形成工程においては、オーバーコート層７１に光硬化型の感光剤が含まれている場合について説明する。 (Overcoat layer)
Incidentally, as shown in FIGS. 3 to 5B, the frame wiring 43, the terminal portion 44, and the shield wiring 45 described above are provided on the display device side of the first reflective layer 61. In order to prevent the frame wiring 43, the terminal portion 44, and the shield wiring 45 from being electrically connected to each other via the first reflective layer 61, as shown in FIGS. An overcoat layer 71 is further provided on the surface of the reflective layer 61 on the display device side. The overcoat layer 71 has a function of protecting the decorative layer 46 and the first reflective layer 61 as well as a function of preventing the frame wiring 43, the terminal portion 44, and the shield wiring 45 from conducting each other. It may be. The overcoat layer 71 may have a function of shielding outgas discharged from the decorative layer 46 in the manufacturing process of the touch panel sensor 30 or the input / output device 10. As a material of the overcoat layer 71, for example, an acrylic resin can be used. In the case where a photolithography method is used in the step of forming the overcoat layer 71, the overcoat layer 71 may further contain a photosensitizer as in the case of the decorative layer 46. In the overcoat layer forming step described later, the case where the overcoat layer 71 contains a photocurable photosensitive agent will be described.

（額縁配線、端子部およびシールド配線）
図３乃至図６Ｃに示すように、オーバーコート層７１の面のうち表示装置１５側の面上には、複数の額縁配線４３およびシールド配線４５が並べられている。これら額縁配線４３およびシールド配線４５は、反射性および導電性を有する金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍを含んでいる。なお図示はしないが、額縁配線４３およびシールド配線４５と同様に端子部４４も、オーバーコート層７１の面のうち表示装置１５側の面上に配置されている。また端子部４４も、反射性および導電性を有する金属層４４ｍを含んでいる。金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍを構成する材料としては、上述の第１の反射層６１の場合と同様に、例えばアルミニウム、モリブデン、銀、銅またはこれらの合金等を挙げることができる。 (Frame wiring, terminal and shield wiring)
As shown in FIGS. 3 to 6C, a plurality of frame wirings 43 and shield wirings 45 are arranged on the surface of the overcoat layer 71 on the display device 15 side. The frame wiring 43 and the shield wiring 45 include metal layers 43xm, 43ym, and 45m having reflectivity and conductivity. Although not shown, the terminal portion 44 is also disposed on the surface of the overcoat layer 71 on the display device 15 side, like the frame wiring 43 and the shield wiring 45. The terminal portion 44 also includes a metal layer 44m having reflectivity and conductivity. As a material constituting the metal layers 43xm, 43ym, 44m, and 45m, for example, aluminum, molybdenum, silver, copper, or alloys thereof can be used as in the case of the first reflective layer 61 described above.

ところで、シールド配線４５およびそれに接続された端子部４４は、基材３２の外縁までは延びていない。一方、平行スリット６１ｓは、基材３２の外縁まで延びている。したがって、端子部４４の基材３２の外縁側の端部４４ｅと、基材３２の外縁と、の間の領域において観察者側から観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓを通過してしまう、という光が存在する。   By the way, the shield wiring 45 and the terminal portion 44 connected thereto do not extend to the outer edge of the base material 32. On the other hand, the parallel slit 61 s extends to the outer edge of the base material 32. Therefore, in the region between the end portion 44e on the outer edge side of the base material 32 of the terminal portion 44 and the outer edge of the base material 32, the parallel slit 61s enters the decorative layer 46 from the observer side from the observer side. There is light that passes through.

このような課題を解決するため、本実施の形態では、オーバーコート層７１上であって端子部４４の外縁側端部４４ｅと基材３２の外縁との間の領域に、ダミー端子部９１が設けられている。ダミー端子部９１は、反射性を有する金属層９１ｍを含んでいる。ダミー端子部９１を構成する材料としては、上述の第１の反射層６１の場合と同様に、例えばアルミニウム、モリブデン、銀、銅またはこれらの合金等を挙げることができる。このように、端子部４４の外縁側端部４４ｅと基材３２の外縁との間の領域にダミー端子部９１が設けられていることにより、当該領域において、観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓを透過した光が、ダミー端子部９１によって反射されて観察者側に戻ることとなる。   In order to solve such a problem, in the present embodiment, the dummy terminal portion 91 is formed on the overcoat layer 71 in a region between the outer edge side end portion 44e of the terminal portion 44 and the outer edge of the base material 32. Is provided. The dummy terminal portion 91 includes a metal layer 91m having reflectivity. As a material constituting the dummy terminal portion 91, for example, aluminum, molybdenum, silver, copper, or an alloy thereof can be used as in the case of the first reflective layer 61 described above. Thus, by providing the dummy terminal portion 91 in the region between the outer edge side end portion 44e of the terminal portion 44 and the outer edge of the base material 32, the decorative layer 46 is formed from the observer side in the region. The light incident and transmitted through the parallel slit 61s is reflected by the dummy terminal portion 91 and returns to the viewer side.

なお額縁配線４３、端子部４４、シールド配線４５およびダミー端子部９１は、金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍ以外の層を含んでいてもよい。例えば図３、図４、図６Ｂおよび図６Ｃに示すように、額縁配線４３、端子部４４、シールド配線４５およびダミー端子部９１は、額縁配線４３等の側から基材３２の側に向かう方向に見て、額縁配線４３、端子部４４、シールド配線４５およびダミー端子部９１の金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍの金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍを覆うように形成された被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃ，４４ｃ，４５ｃ，９１ｃをさらに含んでいてもよい。このように金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍに被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃ，４４ｃ，４５ｃ，９１ｃが設けられていることにより、金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４４ｍ，４５ｍ，９１ｍの腐食を防止することができる。本実施の形態では、被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃ，４４ｃ，４５ｃ，９１ｃを構成する材料としては、上述の透光性を有する導電性金属酸化物が用いられる。   The frame wiring 43, the terminal portion 44, the shield wiring 45, and the dummy terminal portion 91 may include layers other than the metal layers 43xm, 43ym, 44m, 45m, and 91m. For example, as shown in FIGS. 3, 4, 6B, and 6C, the frame wiring 43, the terminal portion 44, the shield wiring 45, and the dummy terminal portion 91 are directed from the frame wiring 43 and the like toward the base material 32. As shown, the frame wiring 43, the terminal portion 44, the shield wiring 45, and the metal layers 43xm, 43ym, 44m, 45m, 91m of the dummy terminal portion 91 are formed so as to cover the metal layers 43xm, 43ym, 44m, 45m, 91m. The coating layers 43xc, 43yc, 44c, 45c, 91c may be further included. As described above, the coating layers 43xc, 43yc, 44c, 45c, 91c are provided on the metal layers 43xm, 43ym, 44m, 45m, 91m, thereby preventing corrosion of the metal layers 43xm, 43ym, 44m, 45m, 91m. be able to. In the present embodiment, the above-described conductive metal oxide having translucency is used as the material constituting the covering layers 43xc, 43yc, 44c, 45c, and 91c.

本実施の形態では、額縁配線４３、端子部４４およびシールド配線４５およびオーバーコート層７１の上にさらに、オーバーコート層８１が設けられている。オーバーコート層８１を構成する材料としては、上述の第１の反射層６１上に設けられたオーバーコート層７１と同様の材料が挙げられる。   In the present embodiment, an overcoat layer 81 is further provided on the frame wiring 43, the terminal portion 44, the shield wiring 45, and the overcoat layer 71. Examples of the material constituting the overcoat layer 81 include the same material as the overcoat layer 71 provided on the first reflective layer 61 described above.

タッチパネルセンサの製造方法
次に、以上のような構成からなるタッチパネルセンサ３０を製造する方法について、図７Ａ乃至図８Ｇを参照して説明する。図７Ａ乃至図７Ｅは、第１の実施の形態における、加飾層形成工程と、反射層形成工程と、オーバーコート層形成工程と、を説明するための図である。また、図８Ａ乃至図８Ｇは、第１の実施の形態における、額縁配線形成工程と、電極パターン形成工程と、を説明するための図である。 Method for Manufacturing Touch Panel Sensor Next, a method for manufacturing the touch panel sensor 30 configured as described above will be described with reference to FIGS. 7A to 8G. FIG. 7A to FIG. 7E are diagrams for explaining a decorative layer forming step, a reflective layer forming step, and an overcoat layer forming step in the first embodiment. 8A to 8G are diagrams for explaining the frame wiring forming process and the electrode pattern forming process in the first embodiment.

はじめに図７Ａに示すように、基材３２を準備する。上述のように、基材３２は、表示装置用の保護板としても機能することができるものである。   First, as shown in FIG. 7A, a base material 32 is prepared. As described above, the base material 32 can also function as a protective plate for a display device.

（加飾層形成工程）
次に図７Ｂに示すように、基材３２の表示装置側の面３２ａ上に加飾層４６を設ける。上述のように、加飾層４６は、基材３２の非アクティブエリアＡａ２に設けられる。 (Decoration layer formation process)
Next, as shown in FIG. 7B, a decoration layer 46 is provided on the surface 32a of the base material 32 on the display device side. As described above, the decoration layer 46 is provided in the inactive area Aa2 of the base material 32.

基材３２の非アクティブエリアＡａ２に加飾層４６を設ける方法が特に限られることはなく、様々な方法が用いられ得る。例えば、加飾層４６を構成するための樹脂材料および顔料を含む塗布液を、非アクティブエリアＡａ２にのみ選択的に塗布してもよい。選択的に塗布する方法としては、例えばスクリーン印刷法などが用いられ得る。若しくは、はじめに、基材３２の表示装置側の面３２ａの全域にわたって加飾層４６を設け、その後、加飾層４６を露光・現像して加飾層４６をパターニングするという、いわゆるフォトリソグラフィー法が用いられてもよい。この場合、加飾層４６は、露光光を照射されることによって硬化する感光材を含んでいる。   The method of providing the decoration layer 46 in the non-active area Aa2 of the base material 32 is not particularly limited, and various methods can be used. For example, a coating liquid containing a resin material and a pigment for constituting the decoration layer 46 may be selectively applied only to the non-active area Aa2. As a selective application method, for example, a screen printing method or the like can be used. Alternatively, there is a so-called photolithography method in which first, the decorative layer 46 is provided over the entire surface 32a of the base material 32 on the display device side, and then the decorative layer 46 is exposed and developed to pattern the decorative layer 46. May be used. In this case, the decorative layer 46 includes a photosensitive material that cures when irradiated with exposure light.

（反射層形成工程）
次に、図７Ｃに示すように、加飾層４６上および基材３２上に第１の反射層６１を形成するための金属層６１ｍを設ける。金属層６１ｍを設ける方法としては、例えばスパッタリング法などが用いられ得る。その後、加飾層４６上に形成されるべき第１の反射層６１のパターンに対応するパターンを有するレジスト層を、金属層６１ｍ上に設け、レジスト層をマスクとして金属層６１ｍをエッチングする。これによって、図７Ｄに示すように、後述する額縁配線形成工程で形成される額縁配線４３に沿うように延びる平行スリット６１ｓを、所望の位置に有する第１の反射層６１が形成される。 (Reflective layer forming process)
Next, as shown in FIG. 7C, a metal layer 61 m for forming the first reflective layer 61 is provided on the decorative layer 46 and the base material 32. As a method of providing the metal layer 61m, for example, a sputtering method or the like can be used. Thereafter, a resist layer having a pattern corresponding to the pattern of the first reflective layer 61 to be formed on the decorative layer 46 is provided on the metal layer 61m, and the metal layer 61m is etched using the resist layer as a mask. As a result, as shown in FIG. 7D, the first reflective layer 61 having parallel slits 61s extending along the frame wiring 43 formed in the frame wiring forming process described later is formed at a desired position.

（オーバーコート層形成工程）
次に図７Ｅに示すように、反射層６１上および加飾層４６上にオーバーコート層７１を設ける。オーバーコート層７１を設ける方法としては、加飾層４６の形成工程と同様の方法を用いることができる。 (Overcoat layer forming process)
Next, as shown in FIG. 7E, an overcoat layer 71 is provided on the reflective layer 61 and the decorative layer 46. As a method of providing the overcoat layer 71, the same method as that for forming the decorative layer 46 can be used.

（額縁配線形成工程）
次に図８Ａに示すように、オーバーコート層７１上および基材３２上に、額縁配線４３等の金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍ，４４ｍ，９１ｍを形成するための金属層５２を設ける。金属層５２を設ける方法としては、第１の反射層６１を形成するための金属層６１ｍの場合と同様に、スパッタリング法やめっき法が用いられ得る。その後、図８Ｂに示すように、金属層５２をパターニングする。これによって、額縁配線４３、シールド配線４５、端子部４４およびダミー端子部９１を構成するための金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍ，４４ｍ，９１ｍを同時に得ることができる。金属層６１ｍをパターニングする方法としては、上述の第１の反射層６１をパターニングする工程と同様の方法が用いられ得る。 (Frame wiring formation process)
Next, as shown in FIG. 8A, a metal layer 52 for forming metal layers 43xm, 43ym, 45m, 44m, and 91m such as the frame wiring 43 is provided on the overcoat layer 71 and the base material 32. As a method of providing the metal layer 52, a sputtering method or a plating method can be used as in the case of the metal layer 61m for forming the first reflective layer 61. Thereafter, as shown in FIG. 8B, the metal layer 52 is patterned. Thereby, the metal layers 43xm, 43ym, 45m, 44m, and 91m for constituting the frame wiring 43, the shield wiring 45, the terminal portion 44, and the dummy terminal portion 91 can be obtained simultaneously. As a method of patterning the metal layer 61m, the same method as the step of patterning the first reflective layer 61 described above can be used.

次に図８Ｃに示すように、額縁配線４３、シールド配線４５、端子部４４およびダミー端子部９１の金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍ，４４ｍ，９１ｍ上、オーバーコート層７１上および基材３２上に、ｙ方向接続部４２ａを形成するための導電性酸化物層５３を設ける。導電性酸化物層５３を設ける方法としては、例えばスパッタリング法が用いられ得る。その後、上述の金属層６１ｍをパターニングする工程と同様の方法を用いて、導電性酸化物層５３をパターニングする。これによって、図８Ｄに示すように、ｙ方向接続部４２ａを得ることができる。この際、金属層４３ｘｍ，４３ｙｍ，４５ｍ，４４ｍ，９１ｍを被覆する被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃ，４５ｃ，４４ｃ，９１ｃを、導電性酸化物層５３から同時に得ることができる。   Next, as shown in FIG. 8C, on the metal wiring 43xm, 43ym, 45m, 44m, 91m of the frame wiring 43, the shield wiring 45, the terminal portion 44 and the dummy terminal portion 91, on the overcoat layer 71 and on the base material 32. The conductive oxide layer 53 for forming the y-direction connection portion 42a is provided. As a method of providing the conductive oxide layer 53, for example, a sputtering method can be used. Thereafter, the conductive oxide layer 53 is patterned by using the same method as that for patterning the metal layer 61m. As a result, as shown in FIG. 8D, the y-direction connecting portion 42a can be obtained. At this time, the covering layers 43xc, 43yc, 45c, 44c, 91c covering the metal layers 43xm, 43ym, 45m, 44m, 91m can be simultaneously obtained from the conductive oxide layer 53.

次に図８Ｅに示すように、ｙ方向接続部４２ａを構成する部分の上に絶縁層４７を設ける。絶縁層４７を設ける方法が特に限られることはなく、スクリーン印刷法やフォトリソグラフィー法などが用いられ得る。   Next, as shown in FIG. 8E, an insulating layer 47 is provided on the portion constituting the y-direction connection portion 42a. The method for providing the insulating layer 47 is not particularly limited, and a screen printing method, a photolithography method, or the like can be used.

その後図８Ｆに示すように、ｙ方向接続部４２ａ上、絶縁層４７上、基材３２上、額縁配線４３上、およびオーバーコート層７１上に、ｘ方向接続部４１ａ、ｘ方向電極単位４１ｂ、およびｙ方向電極単位４２ｂを形成するための導電性酸化物層５１を設ける。導電性酸化物層５１を設ける方法としては、例えばスパッタリング法が用いられ得る。その後、上述の金属層６１ｍをパターニングする工程と同様の方法を用いて、導電性酸化物層５１をパターニングする。これによって、上述のｘ方向接続部４１ａ、ｘ方向電極単位４１ｂ、およびｙ方向電極単位４２ｂを同時に得ることができる。このようにして、図５に示すタッチパネルセンサ３０を作製することができる。その後、基材３２の表示装置１５側を覆うようにオーバーコート層８１が設けられる。そして、タッチパネルセンサ３０と表示装置１５とを組み合わせることによって、入出力装置１０を得ることができる。   Thereafter, as shown in FIG. 8F, on the y-direction connection portion 42a, on the insulating layer 47, on the base material 32, on the frame wiring 43, and on the overcoat layer 71, the x-direction connection portion 41a, the x-direction electrode unit 41b, And the conductive oxide layer 51 for forming the y-direction electrode unit 42b is provided. As a method of providing the conductive oxide layer 51, for example, a sputtering method can be used. Thereafter, the conductive oxide layer 51 is patterned using the same method as that for patterning the metal layer 61m. Thereby, the above-described x-direction connecting portion 41a, x-direction electrode unit 41b, and y-direction electrode unit 42b can be obtained simultaneously. In this way, the touch panel sensor 30 shown in FIG. 5 can be manufactured. Then, the overcoat layer 81 is provided so that the display apparatus 15 side of the base material 32 may be covered. The input / output device 10 can be obtained by combining the touch panel sensor 30 and the display device 15.

ここで本実施の形態によれば、基材３２の上の非アクティブエリアＡａ２に配置された加飾層４６と複数の額縁配線４３との間に、反射性を有する金属材料で形成された第１の反射層６１が設けられている。この場合、加飾層４６を透過して額縁配線４３に到達した光は、額縁配線４３によって反射されて観察者側に戻り、また、加飾層４６を透過して第１の反射層６１に到達した光も同様に、第１の反射層６１によって反射されて観察者側に戻る。このため、非アクティブエリアＡａ２のうち額縁配線４３が存在する場所における加飾層４６の見え方と、非アクティブエリアＡａ２のうち額縁配線４３が存在しない場所における加飾層４６の見え方との間に差が生じることを抑制することができる。このため、加飾層４６の光遮蔽性に関する要求を従来よりも低くすることができ、従って、加飾層４６の厚みを従来よりも小さくすることができる。このことにより、加飾層４６とその周辺の部分との間に段差が生じることを抑制することができる。   Here, according to the present embodiment, between the decorative layer 46 arranged in the non-active area Aa2 on the base material 32 and the plurality of frame wirings 43, the first metal layer made of a reflective metal material is used. 1 reflective layer 61 is provided. In this case, the light that has passed through the decoration layer 46 and reached the frame wiring 43 is reflected by the frame wiring 43 and returns to the viewer side, and also passes through the decoration layer 46 and reaches the first reflection layer 61. Similarly, the reached light is reflected by the first reflective layer 61 and returns to the viewer side. For this reason, between the appearance of the decoration layer 46 in the place where the frame wiring 43 exists in the inactive area Aa2, and the appearance of the decoration layer 46 in the place where the frame wiring 43 does not exist in the inactive area Aa2. It is possible to suppress the difference between the two. For this reason, the request | requirement regarding the light shielding property of the decoration layer 46 can be made lower than before, and therefore the thickness of the decoration layer 46 can be made smaller than before. Thereby, it can suppress that a level | step difference arises between the decoration layer 46 and its peripheral part.

また本発明によれば、第１の反射層６１には、基材３２の平面視において、複数の額縁配線４３のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線４３の間に、当該額縁配線４３に沿って延びる平行スリットが設けられている。この場合、互いに隣接する額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１によって促進されてしまってアクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱くなってしまう、ということを抑制することができる。このことにより、タッチ位置の検出を精度よく行うことができる。   In addition, according to the present invention, the first reflective layer 61 is provided along the frame wiring 43 between at least a pair of adjacent frame wirings 43 among the plurality of frame wirings 43 in the plan view of the base material 32. A parallel slit is provided. In this case, it can be suppressed that the capacitive coupling between the frame wirings 43 adjacent to each other is promoted by the first reflective layer 61 and the electric field formed in the active area Aa1 is weakened. As a result, the touch position can be detected with high accuracy.

次に、本発明によるタッチパネルセンサの他の実施の形態について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。   Next, another embodiment of the touch panel sensor according to the present invention will be described. In the following description and the drawings used in the following description, the same reference numerals as those used for the corresponding parts in the above embodiment are used for the parts that can be configured in the same manner as in the above embodiment. A duplicate description is omitted.

まず、図９Ａおよび図９Ｂを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第２の実施の形態について説明する。図９Ａは、第２の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図９Ｂは、図９ＡのIXＢ線断面を示す断面図である。   First, a second embodiment of the touch panel sensor according to the present invention will be described with reference to FIGS. 9A and 9B. 9A is a plan view showing the drive wiring 43x, the detection wiring 43y, the shield wiring 45, and the first reflective layer 61 in the second embodiment, and FIG. 9B is an IXB of FIG. 9A. It is sectional drawing which shows a line cross section.

本実施の形態において、平行スリット６１ｓは、基材３２の平面視において、互いに隣接する額縁配線４３の間に複数本が設けられている。その他の構成は、第１の実施の形態のタッチパネルセンサ３０と略同一である。   In the present embodiment, a plurality of parallel slits 61 s are provided between the frame wirings 43 adjacent to each other in a plan view of the base material 32. Other configurations are substantially the same as those of the touch panel sensor 30 of the first embodiment.

図９Ａおよび図９Ｂに示す例においては、平行スリット６１ｓは、複数の駆動配線４３ｘと複数の検出配線４３ｙとの間に、２本が設けられている。このように、互いに隣接する額縁配線４３の間に複数本の平行スリット６１ｓを設けることにより、互いに隣接する額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまってアクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱まってしまう、ということがさらに効果的に抑制される。   In the example illustrated in FIGS. 9A and 9B, two parallel slits 61s are provided between the plurality of drive wirings 43x and the plurality of detection wirings 43y. As described above, by providing a plurality of parallel slits 61 s between the frame wirings 43 adjacent to each other, the capacitive coupling between the frame wirings 43 adjacent to each other is promoted through the first reflective layer 61 and active. It is further effectively suppressed that the electric field formed in area Aa1 is weakened.

また本実施の形態においては、シールド配線４５が、基材３２の平面視において、シールド配線４５の領域が２本の平行スリット６１ｓの領域をどちらも包含するように配置されている。このため、２本の平行スリット６１ｓに起因して加飾層４６の発色性が低下してしまうことを抑制することができる。また本実施の形態によれば、基材３２の平面視において、シールド配線４５の領域と重なるように、第１の反射層６１のスリット間部分６１'が配置されることになる。これにより、図６Ａに示す例と比較して、観察者側から加飾層４６に入射して第１の反射層６１によって反射される光が増える。このことにより、より加飾層４６の見え方をより一層均一なものとすることができる。スリット間部分６１'は、第１の反射層６１の場合と同様に、どこにも電気的に接続されていなくてもよいし、図示しない配線を介して接地されていてもよいし、電源電圧が印加されるように任意の機能部に接続されていてもよい。また、第１の反射層６１の電位とスリット間部分６１'の電位とは、同一であってもよく、異なっていてもよい。   Further, in the present embodiment, the shield wiring 45 is arranged so that the area of the shield wiring 45 includes both the areas of the two parallel slits 61 s in plan view of the base material 32. For this reason, it can suppress that the coloring property of the decorating layer 46 falls due to the two parallel slits 61s. Further, according to the present embodiment, the inter-slit portion 61 ′ of the first reflective layer 61 is arranged so as to overlap the area of the shield wiring 45 in the plan view of the base material 32. Thereby, as compared with the example illustrated in FIG. 6A, more light is incident on the decorative layer 46 from the viewer side and is reflected by the first reflective layer 61. Thereby, the appearance of the decorative layer 46 can be made more uniform. As in the case of the first reflective layer 61, the inter-slit portion 61 ′ may not be electrically connected anywhere, may be grounded via a wiring (not shown), and the power supply voltage may be It may be connected to an arbitrary functional unit so as to be applied. Further, the potential of the first reflective layer 61 and the potential of the inter-slit portion 61 ′ may be the same or different.

次に、図１０Ａおよび図１０Ｂを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第３の実施の形態について説明する。図１０Ａは、第３の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図１０Ｂは、図１０ＡのＸＢ線断面を示す断面図である。   Next, a third embodiment of the touch panel sensor according to the present invention will be described with reference to FIGS. 10A and 10B. 10A is a plan view showing the drive wiring 43x, the detection wiring 43y, the shield wiring 45, and the first reflective layer 61 in the third embodiment, and FIG. 10B is an XB of FIG. 10A. It is sectional drawing which shows a line cross section.

本実施の形態において、平行スリット６１ｓは、各額縁配線４３毎に設けられており、基材３２の平面視において、各額縁配線４３の領域が当該額縁配線４３に対応する平行スリット６１ｓの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている。その他の構成は、第１の実施の形態のタッチパネルセンサ３０と略同一である。   In the present embodiment, the parallel slits 61 s are provided for each frame wiring 43, and the area of each frame wiring 43 corresponds to the area of the parallel slit 61 s corresponding to the frame wiring 43 in the plan view of the base material 32. It arrange | positions so that at least one part may be included. Other configurations are substantially the same as those of the touch panel sensor 30 of the first embodiment.

このように、各額縁配線４３毎に平行スリット６１ｓを設けることにより、互いに隣接する額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１によって促進されてしまってアクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱まってしまう、ということがさらに効果的に抑制される。   As described above, by providing the parallel slit 61s for each frame wiring 43, the capacitive coupling between the frame wirings 43 adjacent to each other is promoted by the first reflective layer 61, and an electric field formed in the active area Aa1 is generated. The weakening is further effectively suppressed.

また、観察者側から見て、平行スリット６１ｓが設けられている各々の領域には、額縁配線４３またはシールド配線４５が配置されている。このため、加飾層４６を透過して平行スリット６１ｓを通過した光は、額縁配線４６またはシールド配線４５によって反射されて観察者側に戻る。したがって、平行スリット６１ｓが形成されている領域における加飾層４６の見え方と、その他の領域とにおける加飾層４６の見え方と、の間に差が生じる、ということを抑制することができる。すなわち、加飾層４６の見え方をより均一なものとすることができる。   In addition, the frame wiring 43 or the shield wiring 45 is arranged in each region where the parallel slits 61s are provided when viewed from the observer side. For this reason, the light that has passed through the decorative layer 46 and passed through the parallel slit 61s is reflected by the frame wiring 46 or the shield wiring 45 and returns to the viewer side. Therefore, it can suppress that a difference arises between the appearance of the decoration layer 46 in the area | region in which 61 s of parallel slits are formed, and the appearance of the decoration layer 46 in another area | region. . That is, the appearance of the decorative layer 46 can be made more uniform.

次に、図１１Ａおよび図１１Ｂを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第４の実施の形態について説明する。図１１Ａは、第４の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す平面図であり、図１１Ｂは、図１１ＡのＸＩＢ線断面を示す断面図である。   Next, a fourth embodiment of the touch panel sensor according to the present invention will be described with reference to FIGS. 11A and 11B. FIG. 11A is a plan view showing the drive wiring 43x, the detection wiring 43y, the shield wiring 45, and the first reflective layer 61 in the fourth embodiment, and FIG. 11B is a XIB of FIG. 11A. It is sectional drawing which shows a line cross section.

本実施の形態においては、図１１Ａに示すように、第１の反射層６１には、平行スリット６１ｓを横切るように延びる交差スリット６１ｃが設けられている。その他の構成は、第３の実施の形態のタッチパネルセンサ３０と略同一である。   In the present embodiment, as shown in FIG. 11A, the first reflective layer 61 is provided with a cross slit 61c that extends across the parallel slit 61s. Other configurations are substantially the same as those of the touch panel sensor 30 of the third embodiment.

このように、平行スリット６１ｓを横切るように延びる交差スリット６１ｃが設けられていることにより、互いに隣接する額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１によって促進されてしまってアクティブエリアＡａ１に形成される電界が弱まってしまう、ということがさらに効果的に抑制される。   Thus, by providing the cross slit 61c extending so as to cross the parallel slit 61s, the capacitive coupling between the frame wirings 43 adjacent to each other is promoted by the first reflective layer 61, and thus the active area Aa1. It is further effectively suppressed that the formed electric field is weakened.

交差スリット６１ｃの長さＬ１を決定する上では、観察者側から加飾層４６に入射して交差スリット６１ｃを通過する光が存在しても加飾層４６の見え方の均一性が損なわれないこと等が考慮される。本実施の形態においては、第１の反射層６１のスリット間部分６１'の長さＬ２が３０μｍ程度であるのに対し、交差スリット６１ｃの長さＬ１は１５μｍ程度である。   In determining the length L1 of the cross slit 61c, even if there is light that enters the decorative layer 46 from the observer side and passes through the cross slit 61c, the uniformity of the appearance of the decorative layer 46 is impaired. It is considered that there is no such thing. In the present embodiment, the length L2 of the inter-slit portion 61 ′ of the first reflective layer 61 is about 30 μm, whereas the length L1 of the intersecting slit 61c is about 15 μm.

次に、図１２Ａおよび図１２Ｂを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第５の実施の形態について説明する。図１２Ａは、第５の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、を示す図であり、図１２Ｂは、図１２ＡのＸIIＢ線断面を示す断面図である。   Next, a fifth embodiment of the touch panel sensor according to the present invention will be described with reference to FIGS. 12A and 12B. FIG. 12A is a diagram showing the drive wiring 43x, the detection wiring 43y, the shield wiring 45, and the first reflective layer 61 in the fifth embodiment, and FIG. 12B is a XIIB line in FIG. 12A. It is sectional drawing which shows a cross section.

上述の第３の実施の形態では、第１の反射層６１には、各額縁配線４３毎に平行スリット６１ｓが設けられている。ところで第３の実施の形態においては、第１の反射層６１のスリット間部分６１'が、基材３２の平面視において、互いに隣接する２つの額縁配線４３の両方と重なるように配置されている。したがって、互いに隣接する２つの額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまう、ということを十分に抑制することができない虞がある。   In the third embodiment described above, the first reflective layer 61 is provided with parallel slits 61 s for each frame wiring 43. By the way, in the third embodiment, the inter-slit portion 61 ′ of the first reflective layer 61 is arranged so as to overlap both of the two frame wirings 43 adjacent to each other in a plan view of the base material 32. . Therefore, there is a possibility that the capacitive coupling between the two frame wirings 43 adjacent to each other is promoted through the first reflective layer 61, and cannot be sufficiently suppressed.

このような課題を解決するため、本実施の形態では、基材３２の平面視において、互いに隣接する２つの額縁配線間で、第１の反射層６１にさらに平行スリット６１ｓ'を設けることを提案する。これにより、互いに隣接する２つの額縁配線４３間の容量結合が第１の反射層６１を介して促進されてしまう、ということをより効果的に抑制し得る。   In order to solve such a problem, in the present embodiment, it is proposed that a parallel slit 61s ′ is further provided in the first reflective layer 61 between two frame wirings adjacent to each other in a plan view of the base material 32. To do. Thereby, it can suppress more effectively that the capacitive coupling between the two frame wirings 43 adjacent to each other is promoted via the first reflective layer 61.

一方、第１の反射層６１に平行スリット６１ｓ'が設けられていると、観察者側から加飾層４６に入射した光が平行スリット６１ｓ'を通過してしまって、加飾層４６の見え方が不均一になってしまう虞がある。   On the other hand, when the parallel slit 61s ′ is provided in the first reflective layer 61, the light incident on the decorative layer 46 from the observer side passes through the parallel slit 61s ′, and the decorative layer 46 is visible. There is a possibility that it becomes non-uniform.

このような課題を解決するため、本実施の形態では、オーバーコート層７１上に、平行スリット６１ｓ'に対応するようにダミー配線７０を配置する。これにより、観察者側から加飾層４６に入射して平行スリット６１ｓ'を通過した光が、ダミー配線７０によって反射されて観察者側に戻される。この結果、加飾層４６の見え方を均一にし得る。   In order to solve such a problem, in the present embodiment, dummy wirings 70 are arranged on the overcoat layer 71 so as to correspond to the parallel slits 61s ′. Thereby, the light that has entered the decorative layer 46 from the viewer side and has passed through the parallel slit 61 s ′ is reflected by the dummy wiring 70 and returned to the viewer side. As a result, the appearance of the decorative layer 46 can be made uniform.

より詳しくは、本実施の形態のタッチパネルセンサ３０は、複数の額縁配線４３のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線４３の間の少なくとも一部の領域に配置されたダミー配線７０を更に備えている。ダミー配線７０は、反射性を有する金属層７０ｍを含んでいる。ダミー配線７０は、複数の電極パターン４１，４２のいずれにも電気的に接続されていなくてもよいし、図示しない配線を介して接地されていてもよいし、電源電圧が印加されるように任意の機能部に接続されていてもよい。また、ダミー配線７０は、基材３２の平面視において、ダミー配線７０の領域が平行スリット６１ｓの領域の少なくとも一部を覆うように配置されている。その他の構成は、第４の実施の形態のタッチパネルセンサ３０と略同一である。   More specifically, the touch panel sensor 30 according to the present embodiment further includes a dummy wiring 70 disposed in at least a part of a region between at least a pair of adjacent frame wirings 43 among the plurality of frame wirings 43. . The dummy wiring 70 includes a metal layer 70m having reflectivity. The dummy wiring 70 may not be electrically connected to any of the plurality of electrode patterns 41 and 42, may be grounded via a wiring (not shown), or may be applied with a power supply voltage. It may be connected to an arbitrary function unit. Further, the dummy wiring 70 is arranged so that the region of the dummy wiring 70 covers at least a part of the region of the parallel slit 61s in the plan view of the base material 32. Other configurations are substantially the same as those of the touch panel sensor 30 of the fourth embodiment.

図１２Ａおよび図１２Ｂに示す例においては、互いに隣接する駆動配線４３ｘの間、互いに隣接する検出配線４３ｙの間、互いに隣接するシールド配線４５と駆動配線４３ｘとの間、および、互いに隣接するシールド配線４５と検出配線４３ｙとの間に、各々に、ダミー配線７０が配置されている。   In the example shown in FIG. 12A and FIG. 12B, between the drive wirings 43x adjacent to each other, between the detection wirings 43y adjacent to each other, between the shield wirings 45 and the drive wirings 43x adjacent to each other, and the shield wirings adjacent to each other. A dummy wiring 70 is disposed between each of the wiring 45 and the detection wiring 43y.

ダミー配線７０の金属層７０ｍを構成する材料としては、反射性を有する限りにおいて特には限定されないが、本実施の形態においては、額縁配線４３の金属層４３ｘｍ，４３ｙｍと同一の材料が用いられる。また、ダミー配線７０は、ダミー配線７０の側から基材３２の側に向かう方向に見て、金属層７０ｍを覆うように形成された被覆層７０ｃを有していてよい。被覆層７０ｃを形成する材料としては、本実施の形態においては、額縁配線４３の被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃと同一の材料が用いられる。このように、金属層７０ｍと金属層４３ｘｍ，４３ｙｍとが同一の材料で形成されていることにより、また、被覆層７０ｃと被覆層４３ｘｃ，４３ｙｃとが同一の材料で形成されていることにより、上述の額縁配線形成工程と同一の工程でダミー配線７０を形成することができる。   The material constituting the metal layer 70m of the dummy wiring 70 is not particularly limited as long as it has reflectivity. In the present embodiment, the same material as the metal layers 43xm and 43ym of the frame wiring 43 is used. Further, the dummy wiring 70 may have a coating layer 70c formed so as to cover the metal layer 70m when viewed in the direction from the dummy wiring 70 side toward the base material 32 side. In the present embodiment, the same material as the covering layers 43xc and 43yc of the frame wiring 43 is used as the material for forming the covering layer 70c. As described above, the metal layer 70m and the metal layers 43xm and 43ym are formed of the same material, and the coating layer 70c and the coating layers 43xc and 43yc are formed of the same material. The dummy wiring 70 can be formed in the same process as the above-described frame wiring forming process.

ダミー配線７０の金属層７０ｍの幅Ｗ５、ダミー配線７０に対応して設けられる平行スリット６１ｓ'の幅Ｗ６、および、第１の反射層６１のスリット間部分６１'の幅Ｗ７を決定する上では、金属層７０ｍおよび第１の反射層６１のパターニングの精度等が考慮される。本実施の形態においては、金属層７０ｍの幅Ｗ５は、１０μｍ程度であり、平行スリット６１ｓ'の幅Ｗ６は、５μｍ程度である。また、第１の反射層６１のスリット間部分６１'の幅Ｗ７は、１２．５μｍ程度である。   In determining the width W5 of the metal layer 70m of the dummy wiring 70, the width W6 of the parallel slit 61s ′ provided corresponding to the dummy wiring 70, and the width W7 of the inter-slit portion 61 ′ of the first reflective layer 61 The patterning accuracy of the metal layer 70m and the first reflective layer 61 is taken into consideration. In the present embodiment, the width W5 of the metal layer 70m is about 10 μm, and the width W6 of the parallel slit 61s ′ is about 5 μm. The width W7 of the inter-slit portion 61 ′ of the first reflective layer 61 is about 12.5 μm.

次に、図１３Ａ乃至図１４Ｃを参照して、本発明によるタッチパネルセンサの第６の実施の形態について説明する。図１３Ａは、第６の実施の形態における、駆動配線４３ｘと、検出配線４３ｙと、シールド配線４５と、第１の反射層６１と、第２の反射層６２と、を示す図であり、図１３Ｂは、図１３ＡのＸIIIＢ線断面を示す断面図であり、図１３Ｃは、図１３ＡのＸIIIＣ線断面を示す断面図である。また、図１４Ａは、第６の実施の形態におけるタッチパネルセンサの、端子部４４と、第１の反射層６１と、ダミー端子部９１と、を示す平面図であり、図１４Ｂは、図１４ＡのＸIVＢ線断面を示す断面図であり、図１４Ｃは、図１４ＡのＸIVＣ線断面を示す断面図である。   Next, with reference to FIG. 13A thru | or FIG. 14C, 6th Embodiment of the touchscreen sensor by this invention is described. FIG. 13A is a diagram showing a drive wiring 43x, a detection wiring 43y, a shield wiring 45, a first reflective layer 61, and a second reflective layer 62 in the sixth embodiment. 13B is a cross-sectional view showing a cross section taken along line XIIIB of FIG. 13A, and FIG. 13C is a cross-sectional view showing a cross section taken along line XIIIC of FIG. 13A. Moreover, FIG. 14A is a top view which shows the terminal part 44, the 1st reflective layer 61, and the dummy terminal part 91 of the touchscreen sensor in 6th Embodiment, FIG. 14B is FIG. 14C is a cross-sectional view showing a cross section taken along line XIVB, and FIG. 14C is a cross-sectional view showing a cross section taken along line XIVC in FIG. 14A.

本実施の形態において、反射層は、反射性を有する金属材料を含む第２の反射層６２を有している。第２の反射層６２は、交差スリット６１ｃに沿って延びており、第２の反射層６２は、基材３２の平面視において、第２の反射層６２の領域が交差スリット６１ｃの領域の少なくとも一部を覆うように設けられている。第２の反射層６２と第１の反射層６１との間には、オーバーコート層６５が設けられている。その他の構成は、第４の実施の形態のタッチパネルセンサ３０の構成と略同一である。   In the present embodiment, the reflective layer has a second reflective layer 62 containing a reflective metal material. The second reflective layer 62 extends along the intersecting slit 61c, and the second reflective layer 62 has at least the region of the intersecting slit 61c in the region of the second reflective layer 62 in a plan view of the substrate 32. It is provided so as to cover a part. An overcoat layer 65 is provided between the second reflective layer 62 and the first reflective layer 61. Other configurations are substantially the same as the configuration of the touch panel sensor 30 of the fourth embodiment.

図１３Ａ乃至図１３Ｃに示す例においては、基材３２の平面視において、平行スリット６１ｓと交差スリット６１ｃとが交差する領域の各々を第２の反射層６２が包含するように、第２の反射層６２が設けられている。   In the example shown in FIGS. 13A to 13C, the second reflection layer 62 includes the second reflection layer 62 so that each of the regions where the parallel slits 61 s and the intersecting slits 61 c intersect in the plan view of the base material 32 is included. A layer 62 is provided.

第２の反射層６２を構成する材料としては、例えば、第１の反射層６１と同一の材料が用いられ得る。また、第１の反射層６１と第２の反射層６２のオーバーコート層６５を構成する材料としては、オーバーコート層７１と同一の材料が用いられ得る。   As a material constituting the second reflective layer 62, for example, the same material as that of the first reflective layer 61 can be used. Further, as the material constituting the overcoat layer 65 of the first reflective layer 61 and the second reflective layer 62, the same material as the overcoat layer 71 can be used.

第２の反射層６２は、基材３２の平面視において、平行スリット６１ｓと交差スリット６１ｃとが交差する領域を十分に包含するように設けられる。本実施の形態においては、基材３２の平面視において、平行スリット６１ｓの長さ方向の、平行スリット６１ｓと交差スリット６１ｃとが重なり合う領域の長さＬ３は、７．５μｍ程度である。   The second reflective layer 62 is provided so as to sufficiently include a region where the parallel slit 61s and the intersecting slit 61c intersect in the plan view of the substrate 32. In the present embodiment, in a plan view of the base material 32, the length L3 of the region where the parallel slit 61s and the intersecting slit 61c overlap in the length direction of the parallel slit 61s is about 7.5 μm.

このように、基材３２の平面視において、第２の反射層６２の領域が交差スリット６１ｃの領域の少なくとも一部を覆うように第２の反射層６２が設けられていることにより、観察者側から加飾層４６に入射して交差スリット６１ｃを通過した光は、第２の反射層６２によって反射されて観察者側に戻る。したがって、交差スリット６１ｃが形成されている領域における加飾層４６の見え方と、その他の領域とにおける加飾層４６の見え方と、の間に差が生じることを抑制することができる。すなわち、加飾層４６の見え方をより均一なものとすることができる。   Thus, in the plan view of the base material 32, the second reflective layer 62 is provided so that the region of the second reflective layer 62 covers at least a part of the region of the cross slit 61c. The light that has entered the decorative layer 46 from the side and passed through the intersecting slit 61c is reflected by the second reflective layer 62 and returns to the viewer side. Therefore, it can suppress that a difference arises between the appearance of the decoration layer 46 in the area | region in which the cross slit 61c is formed, and the appearance of the decoration layer 46 in another area | region. That is, the appearance of the decorative layer 46 can be made more uniform.

さらに本実施の形態では、図１４Ａ乃至図１４Ｃに示すように、ダミー端子部９１は、第２の反射層６２と同じ層上に、基材３２の平面視において、端子部４４の外縁側端部４４ｅと基材３２の外縁との間において、ダミー端子部９１の領域が平行スリット６１ｓの領域を包含するように配置されている。ダミー端子部９１が第２の反射層６２と同じ層上に形成されていることにより、タッチパネルセンサ３０の製造工程において、第２の反射層６２の形成工程と同一の工程で形成され得る。また、基材３２の平面視において、ダミー端子部９１が、端子部４４の外縁側端部４４ｅと基材３２の外縁との間において、ダミー端子部９１の領域が平行スリット６１ｓの領域を包含するように配置されていることにより、図６Ａに示す例と比較して、観察者側から加飾層４６に入射した光が端子部４４の外縁側端部４４ｅとダミー端子部９１との間を通過してしまって加飾層４６の見え方が不均一になってしまう、ということが抑制される。   Furthermore, in the present embodiment, as shown in FIGS. 14A to 14C, the dummy terminal portion 91 is on the same layer as the second reflective layer 62, and the outer edge side end of the terminal portion 44 in the plan view of the base material 32. Between the portion 44e and the outer edge of the base member 32, the region of the dummy terminal portion 91 is disposed so as to include the region of the parallel slit 61s. Since the dummy terminal portion 91 is formed on the same layer as the second reflective layer 62, it can be formed in the same process as the second reflective layer 62 in the manufacturing process of the touch panel sensor 30. Further, in the plan view of the base material 32, the dummy terminal portion 91 includes a region of the parallel slit 61 s between the outer edge side end portion 44 e of the terminal portion 44 and the outer edge of the base material 32. 6A, compared with the example shown in FIG. 6A, the light incident on the decorative layer 46 from the observer side is between the outer edge side end portion 44e of the terminal portion 44 and the dummy terminal portion 91. The appearance of the decorative layer 46 becomes non-uniform due to passing through the sheet.

３０ タッチパネルセンサ
３２ 基材
４１ 第１電極パターン
４２ 第２電極パターン
４３ 額縁配線
４５ シールド配線
４６ 加飾層
６１ 第１の反射層
６１ｓ 平行スリット
６１ｃ 交差スリット
６２ 第２の反射層
７１ オーバーコート層
Ａ１ アクティブエリア
Ａ２ 非アクティブエリア 30 Touch Panel Sensor 32 Base Material 41 First Electrode Pattern 42 Second Electrode Pattern 43 Frame Wiring 45 Shield Wiring 46 Decorating Layer 61 First Reflective Layer 61s Parallel Slit 61c Crossing Slit 62 Second Reflective Layer 71 Overcoat Layer A1 Active Area A2 Inactive area

Claims (12)

タッチパネルセンサであって、
タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、
前記基材の前記アクティブエリアに配置された複数の電極パターンと、
前記基材の上の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層と、
前記加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層と、
前記反射層上に設けられたオーバーコート層と、
対応する前記電極パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を含む額縁配線と、を備え、
前記反射層は、第１の反射層を有しており、
前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている、タッチパネルセンサ。 A touch panel sensor,
A substrate including an active area corresponding to an area where a touch position can be detected, and an inactive area located around the active area;
A plurality of electrode patterns arranged in the active area of the substrate;
A decorative layer disposed in the inactive area on the substrate and configured to exhibit a predetermined color;
A reflective layer provided on the decorative layer and including a metal material and having reflectivity;
An overcoat layer provided on the reflective layer;
A plurality of frame wirings electrically connected to the corresponding electrode pattern and arranged on the overcoat layer, the frame wiring including a reflective and conductive metal layer,
The reflective layer has a first reflective layer;
The first reflective layer is provided with a parallel slit extending along the frame wiring between at least a pair of adjacent frame wirings among the plurality of frame wirings in a plan view of the base material. Touch panel sensor. 前記タッチパネルセンサは、相互容量型のタッチパネルセンサであり、
前記複数の額縁配線は、複数の駆動配線及び複数の検出配線を含み、
前記平行スリットは、前記基材の平面視において、前記複数の駆動配線と、前記複数の検出配線と、の間に設けられている、請求項１に記載のタッチパネルセンサ。 The touch panel sensor is a mutual capacitance type touch panel sensor,
The plurality of frame wires include a plurality of drive wires and a plurality of detection wires,
The touch panel sensor according to claim 1, wherein the parallel slit is provided between the plurality of drive wirings and the plurality of detection wirings in a plan view of the base material. 前記タッチパネルセンサは、前記オーバーコート層上であって、前記複数の駆動配線と、前記複数の検出配線と、の間に配置されたシールド配線を更に備え、
前記シールド配線は、前記複数の電極パターンのいずれにも電気的に接続されておらず、
前記シールド配線は、前記基材の平面視において、前記シールド配線の領域が前記平行スリットの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている、請求項２に記載のタッチパネルセンサ。 The touch panel sensor further includes a shield wiring disposed on the overcoat layer and between the plurality of drive wirings and the plurality of detection wirings,
The shield wiring is not electrically connected to any of the plurality of electrode patterns,
The touch panel sensor according to claim 2, wherein the shield wiring is arranged so that a region of the shield wiring includes at least a part of a region of the parallel slit in a plan view of the base material. 前記平行スリットは、前記基材の平面視において、互いに隣接する前記額縁配線の間に複数本が設けられている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。   4. The touch panel sensor according to claim 1, wherein a plurality of the parallel slits are provided between the frame wirings adjacent to each other in a plan view of the base material. 5. 前記平行スリットは、各額縁配線毎に配置されており、
各額縁配線は、前記基材の平面視において、各額縁配線の領域が当該額縁配線に対応する平行スリットの領域の少なくとも一部を包含するように配置されている、請求項１乃至４のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。 The parallel slits are arranged for each frame wiring,
Each frame wiring is arrange | positioned so that the area | region of each frame wiring may include at least one part of the area | region of the parallel slit corresponding to the said frame wiring in planar view of the said base material. The touch panel sensor according to claim 1. 前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記平行スリットを横切るように延びる交差スリットが設けられている、請求項１乃至５のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。   The touch panel sensor according to claim 1, wherein the first reflective layer is provided with a cross slit extending across the parallel slit in a plan view of the base material. 前記反射層は、第２の反射層を有しており、
前記第２の反射層は、交差スリットに沿って延びており、
前記第２の反射層は、前記基材の平面視において、前記第２の反射層の領域が前記交差スリットの領域の少なくとも一部を覆うように設けられている、請求項６に記載のタッチパネルセンサ。 The reflective layer has a second reflective layer;
The second reflective layer extends along a cross slit;
The touch panel according to claim 6, wherein the second reflective layer is provided so that a region of the second reflective layer covers at least a part of a region of the intersecting slit in a plan view of the base material. Sensor. 前記第１の反射層は、前記第２の反射層に対して、前記加飾層の側に設けられている、請求項７に記載のタッチパネルセンサ。   The touch panel sensor according to claim 7, wherein the first reflective layer is provided on the decorative layer side with respect to the second reflective layer. 前記タッチパネルセンサは、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間の少なくとも一部の領域に配置されたダミー配線を更に備え、
前記ダミー配線は、反射性を有する金属層を含んでおり、
前記ダミー配線は、前記複数の電極パターンのいずれにも電気的に接続されておらず、
前記ダミー配線は、前記基材の平面視において、前記ダミー配線の領域が前記平行スリットの領域の少なくとも一部を覆うように配置されている、請求項１乃至８のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。 The touch panel sensor further includes a dummy wiring disposed in at least a part of a region between at least a pair of adjacent frame wirings among the plurality of frame wirings,
The dummy wiring includes a reflective metal layer,
The dummy wiring is not electrically connected to any of the plurality of electrode patterns,
9. The dummy wiring according to claim 1, wherein the dummy wiring is arranged such that a region of the dummy wiring covers at least a part of a region of the parallel slit in a plan view of the base material. Touch panel sensor. 前記加飾層は、黒色以外の色を呈するよう構成されている、請求項１乃至９のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。   The touch panel sensor according to any one of claims 1 to 9, wherein the decoration layer is configured to exhibit a color other than black. 前記基材は、表示装置用の保護板として機能するものであり、
前記電極パターン、前記加飾層、前記反射層、前記オーバーコート層および前記額縁配線はいずれも、前記基材の面のうち表示装置側の面に設けられている、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載のタッチパネルセンサ。 The base material functions as a protective plate for a display device,
The said electrode pattern, the said decoration layer, the said reflection layer, the said overcoat layer, and the said frame wiring are all provided in the surface at the side of a display apparatus among the surfaces of the said base material. The touch panel sensor according to claim 1. 表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置されたタッチパネルセンサと、を備え、
前記タッチパネルセンサは、
タッチ位置を検出され得る領域に対応するアクティブエリアと、アクティブエリアの周辺に位置する非アクティブエリアと、を含む基材と、
前記基材の前記アクティブエリアに配置された複数の電極パターンと、
前記基材の上の前記非アクティブエリアに配置され、所定の色を呈するように構成された加飾層と、
前記加飾層上に設けられ、金属材料を含み反射性を有する反射層と、
前記反射層上に設けられたオーバーコート層と、
対応する前記電極パターンに電気的に接続されるとともに、前記オーバーコート層上に並べられた複数の額縁配線であって、反射性および導電性を有する金属層を含む額縁配線と、を備え、
前記反射層は、第１の反射層を有しており、
前記第１の反射層には、前記基材の平面視において、前記複数の額縁配線のうち少なくとも一対の互いに隣接する額縁配線の間に、当該額縁配線に沿って延びる平行スリットが設けられている、入出力装置。 A display device;
A touch panel sensor disposed on a display surface of the display device,
The touch panel sensor
A substrate including an active area corresponding to an area where a touch position can be detected, and an inactive area located around the active area;
A plurality of electrode patterns arranged in the active area of the substrate;
A decorative layer disposed in the inactive area on the substrate and configured to exhibit a predetermined color;
A reflective layer provided on the decorative layer and including a metal material and having reflectivity;
An overcoat layer provided on the reflective layer;
A plurality of frame wirings electrically connected to the corresponding electrode pattern and arranged on the overcoat layer, the frame wiring including a reflective and conductive metal layer,
The reflective layer has a first reflective layer;
The first reflective layer is provided with a parallel slit extending along the frame wiring between at least a pair of adjacent frame wirings among the plurality of frame wirings in a plan view of the base material. , I / O device.
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