JP2015144982A - プラズマ処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
0.1<Aa1/Ab1<1.0
0.08<Aa2/Ab2<2.0
である。
E(x)=V/k(x)
となる。
14…リアクタ 16…放電電極部
18…流体案内部 20…被処理物
26A…第1放電電極 26B…第2放電電極
30A…第1導体 30B…第2導体
34A…第1セラミック層 34B…第2セラミック層
36A…第1電極部 36B…第2電極部
Claims (14)
- 陽極と陰極とを有し、パルス電源からの高電圧パルスの供給に基づいて前記陽極と前記陰極間に放電を発生させる放電電極部を少なくとも有するプラズマ処理装置を使用し、前記放電電極部に窒素を含む流体を導入しながら、前記放電電極部において前記放電によりプラズマを発生させ、その活性種を前記流体と共に対象物に当てることにより、前記対象物の少なくとも表面を処理するプラズマ処理方法であって、
前記流体の流速が20mm/s以上500mm/s以下であり、
前記パルス電源における前記放電電極部の面積当たりの電力量が1.4×104(J/cm2)以上であり、
前記放電電極部の中心部から前記対象物までの離間距離が3mm以上1700mm以下であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1記載のプラズマ処理方法において、
前記離間距離が30mm以上500mm以下であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1又は2記載のプラズマ処理方法において、
前記パルス電源から出力される前記高電圧パルスのパルス周波数が1×103パルス/sec以上3×104パルス/sec以下であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1又は2記載のプラズマ処理方法において、
前記パルス電源から出力される前記高電圧パルスのパルス周波数が3×103パルス/sec以上1×104パルス/sec以下であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載のプラズマ処理方法において、
前記放電電極部は、前記陽極となる1以上の第1放電電極と、前記陰極となる1以上の第2放電電極とを有し、
前記流体の流通方向に沿って前記第1放電電極と前記第2放電電極とが互いに離間して配列されていることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項5記載のプラズマ処理方法において、
前記第1放電電極は、第1導体を有する1以上の第1電極部を有し、
前記第2放電電極は、第2導体を有する1以上の第2電極部を有し、
前記第1電極部と前記第2電極部とが、互いに離間し、且つ、前記放電電極部に対する前記流体の流通方向から見たときに、前記第1電極部と前記第2電極部とが交差した位置関係にあることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6記載のプラズマ処理方法において、
前記放電電極部に対する前記流体の流通方向から見たときに、前記第1電極部と前記第2電極部とで複数の格子が形成されることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6又は7記載のプラズマ処理方法において、
前記放電電極部に対する前記流体の流通方向から見たときに、前記第1電極部と前記第2電極部との交差部の数が1個/cm2以上25個/cm2以下であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項8記載のプラズマ処理方法において、
前記交差部の配列ピッチが2〜15mmであることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項9記載のプラズマ処理方法において、
前記交差部の配列ピッチが4〜6.5mmであることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6〜10のいずれか1項に記載のプラズマ処理方法において、
高電位電極間距離/対向電極間距離の比が0.5〜3の範囲であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6〜10のいずれか1項に記載のプラズマ処理方法において、
高電位電極間距離/対向電極間距離の比が0.8〜1.3の範囲であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6〜12のいずれか1項に記載のプラズマ処理方法において、
前記第1電極部は、前記第1導体と、該第1導体を被覆する第1セラミック層とを有し、
前記第2電極部は、前記第2導体と、該第2導体を被覆する第2セラミック層とを有することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項1〜13のいずれか1項に記載のプラズマ処理方法において、
前記パルス電源は、前記陽極及び前記陰極間に前記高電圧パルスを印加するパルス発生部と、前記陽極及び前記陰極間に放電を発生させるように前記パルス発生部を制御するパルス制御部とを有し、
前記パルス発生部は、直流電源部の両端に直列接続されたトランス及びスイッチを有し、前記パルス制御部の前記スイッチに対するオン制御によって前記トランスへの誘導エネルギーの蓄積を行い、前記パルス制御部の前記スイッチに対するオフ制御によって前記トランスの二次側での前記高電圧パルスの発生を行うパルス発生回路を有することを特徴とするプラズマ処理方法。
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