JP2015125087A - Sample processing method and sample processing device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）や透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）などで観察するための試料を集束イオンビーム（ＦＩＢ）によって加工する試料加工方法や試料加工装置に関するものである。 The present invention relates to a sample processing method and a sample processing apparatus for processing a sample for observation with a scanning electron microscope (SEM), a transmission electron microscope (TEM), or the like using a focused ion beam (FIB).
試料の特定断面についてのＳＥＭ観察やＴＥＭ観察には、高精度の断面形成加工技術や薄片試料加工技術が必須である。これを実現するために、集束イオンビームによる加工法が定着している。 For SEM observation and TEM observation of a specific cross section of a sample, high-precision cross-section forming technology and thin piece sample processing technology are essential. In order to realize this, a processing method using a focused ion beam has been established.
集束イオンビーム装置により試料基板から微小試料を分離する方法としては、特許文献１や特許文献２に記載された方法がある。これらの方法では試料基板を集束イオンビーム装置により溝加工して微小試料を分離する。 As a method for separating a micro sample from a sample substrate by a focused ion beam apparatus, there are methods described in Patent Document 1 and Patent Document 2. In these methods, a sample substrate is grooved by a focused ion beam apparatus to separate a minute sample.
また、特許文献３や特許文献４には、試料に有機ガスを吹き付けながら、試料にイオンビームを照射し、アシストガスによる膜形成や、導電性パターンの生成による電気的接続を行う技術が記載されている。 Patent Document 3 and Patent Document 4 describe a technique for irradiating a sample with an ion beam while irradiating the sample with an organic gas to form a film using an assist gas and performing electrical connection by generating a conductive pattern. ing.
また、特許文献５には、イオンビーム装置の中に、金属イオンを溶解させたイオン液体を入れ、イオンビームを当該液体に照射することにより、金属を析出させてパターン形成する技術が記載されている。 Patent Document 5 describes a technique for depositing a metal ion in an ion beam apparatus and irradiating the liquid with the ion beam to deposit a metal to form a pattern. Yes.
本願発明者が、アシストガスと反応し易い材料や、エッチングされ易い材料の加工方法について鋭意検討した結果、次の知見を得るに至った。 The inventor of the present application has earnestly studied the processing method of the material that easily reacts with the assist gas and the material that is easily etched, and as a result, the following knowledge has been obtained.
従来の試料加工方法では、微小試料の取り出しに用いるアシストガスと反応し易い材料や、エッチングされ易い材料の加工方法について配慮されていない。 In the conventional sample processing method, no consideration is given to a material processing method that easily reacts with an assist gas used for taking out a micro sample or a material that is easily etched.
リチウムを含む材料や半田材料は、アシストガスと反応し易い、又はエッチングされ易い材料である。このような材料を加工する場合は、アシストガスと反応し難い、又はエッチングされ難い材料を蒸着した後に加工を行わなければならず、作業が煩雑であった。このため、アシストガスを用いずに微小試料を取り出せる方法や装置が望まれている。 A material containing lithium or a solder material is a material that easily reacts with the assist gas or is easily etched. In the case of processing such a material, the processing has to be performed after depositing a material that hardly reacts with the assist gas or is difficult to be etched, and the operation is complicated. For this reason, a method and an apparatus capable of taking out a minute sample without using an assist gas are desired.
本発明の目的は、リチウムを含む材料や半田材料などのアシストガスと反応し易い、又はエッチングされ易い材料から、アシストガスを用いないで微小試料を取り出すことに関する。 An object of the present invention relates to taking out a minute sample without using an assist gas from a material that easily reacts with an assist gas such as a material containing lithium or a solder material or is easily etched.
本発明は、イオンビームを照射して試料から微小試料を摘出する試料加工方法において、微小試料を摘出できるプローブと微小試料とをイオン液体を用いて接着することに関する。 The present invention relates to bonding a probe capable of extracting a minute sample and the minute sample using an ionic liquid in a sample processing method for extracting a minute sample from a sample by irradiation with an ion beam.
本発明によれば、リチウムを含む材料や半田材料などのアシストガスと反応し易い、又はエッチングされ易い材料から、アシストガスを用いないで微小試料を取り出すことが可能となる。 According to the present invention, a minute sample can be taken out from a material that easily reacts with an assist gas such as a material containing lithium or a solder material or is easily etched without using an assist gas.
実施例では、イオンビームを照射して試料から微小試料を摘出する試料加工方法において、微小試料を摘出できるプローブと前記微小試料とをイオン液体を用いて接着することを開示する。また、プローブ及び微小試料に接触しているイオン液体にイオンビームを照射して固化させることにより、プローブと微小試料とを接着させることを開示する。 In an embodiment, in a sample processing method for extracting a micro sample from a sample by irradiating an ion beam, it is disclosed that a probe capable of extracting the micro sample and the micro sample are bonded using an ionic liquid. Further, it is disclosed that an ionic liquid that is in contact with a probe and a micro sample is irradiated with an ion beam to solidify the probe and the micro sample.
また、実施例では、電子顕微鏡観察用試料台と微小試料とをイオン液体を用いて接着することを開示する。また、電子顕微鏡用試料台及び微小試料に接触しているイオン液体にイオンビームを照射して固化させることにより、電子顕微鏡観察用試料台と微小試料とを接着させることを開示する。 Moreover, in an Example, it discloses that the sample stand for electron microscope observation and a micro sample are adhere | attached using an ionic liquid. Also disclosed is that the electron microscope observation sample stage and the micro sample are bonded together by irradiating and solidifying the ionic liquid in contact with the electron microscope sample stage and the micro sample.
また、実施例では、試料又は微小試料の保護膜としてイオン液体を用いることを開示する。また、試料又は微小試料に塗布されたイオン液体にイオンビームを照射して固化させることにより、試料又は微小試料に保護膜を形成することを開示する。 In addition, the embodiment discloses the use of an ionic liquid as a protective film for a sample or a micro sample. In addition, it discloses that a protective film is formed on a sample or a micro sample by irradiating an ionic liquid applied to the sample or the micro sample with an ion beam and solidifying it.
また、実施例では、試料が、イオン液体を保持する試料台に保持されていることを開示する。また、試料台に保持されているイオン液体を、プローブを用いて搬送することを開示する。 Moreover, in an Example, it discloses that the sample is hold | maintained at the sample stand holding an ionic liquid. Moreover, conveying the ionic liquid currently hold | maintained at the sample stand using a probe is disclosed.
また、実施例では、イオン液体が、エチル(2-ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウム メタンスルホナート C7H19NO4Sであることを開示する。 In the Examples, it is disclosed that the ionic liquid is ethyl (2-hydroxyethyl) dimethylammonium methanesulfonate C7H19NO4S.
また、実施例では、試料が、リチウムを含む材料、又は半田材料であることを開示する。 In addition, the examples disclose that the sample is a material containing lithium or a solder material.
また、実施例では、イオンビームの照射光学系と、微小試料を摘出できるプローブと、微小試料が摘出される試料、及びイオン液体を保持できる試料台と、を備える試料加工装置を開示する。また、試料とイオン液体の距離が、試料台を移動できる試料ステージの可動範囲に収まっていることを開示する。また、プローブの先端形状を選択できることを開示する。 In addition, the embodiment discloses a sample processing apparatus including an ion beam irradiation optical system, a probe that can extract a micro sample, a sample from which the micro sample is extracted, and a sample stage that can hold an ionic liquid. Further, it is disclosed that the distance between the sample and the ionic liquid is within the movable range of the sample stage that can move the sample stage. Moreover, it discloses that the tip shape of the probe can be selected.
以下、上記及びその他の本発明の新規な特徴と効果について、図面を参酌して説明する。なお、図面は専ら発明の理解のために用いるものであり、権利範囲を限縮するものではない。 The above and other novel features and effects of the present invention will be described below with reference to the drawings. It should be noted that the drawings are used exclusively for understanding the invention and do not limit the scope of rights.
図１は、本実施例にかかるＦＩＢ装置１の基本構成図である。ＦＩＢ装置１の鏡体には、イオン銃２、コンデンサーレンズ３、絞り４、走査電極５、及び対物レンズ６が配置されている。ＦＩＢ装置１の試料室７には、試料８を取り付けた試料ホールダ９が配置されており、その上方に二次電子検出器１０、試料８への保護膜の形成及び試料台への試料８の固定のために通常用いられるデポジション銃１１、並びにＦＩＢ加工により作製した微小試料片１８を運搬するためのマイクロプローブ１２が配置されている。二次電子検出器１０には、走査像表示装置１３が接続されている。走査像表示装置１３は、走査電極制御部１４を介して走査電極５に接続されている。また、マイクロプローブ１２にはマイクロプローブ１２の位置制御のためのマイクロプローブ制御装置１５が接続されている。 FIG. 1 is a basic configuration diagram of an FIB apparatus 1 according to the present embodiment. An ion gun 2, a condenser lens 3, a diaphragm 4, a scanning electrode 5, and an objective lens 6 are disposed in the mirror body of the FIB apparatus 1. A sample holder 9 to which a sample 8 is attached is arranged in the sample chamber 7 of the FIB apparatus 1. A secondary electron detector 10, a protective film is formed on the sample 8, and the sample 8 is placed on the sample stage. A deposition gun 11 usually used for fixing, and a microprobe 12 for transporting a micro sample piece 18 produced by FIB processing are arranged. A scanning image display device 13 is connected to the secondary electron detector 10. The scanning image display device 13 is connected to the scanning electrode 5 via the scanning electrode control unit 14. The microprobe 12 is connected to a microprobe control device 15 for controlling the position of the microprobe 12.
イオン銃２から放出されたイオンビーム１６は、コンデンサーレンズ３と絞り４により収束され、対物レンズ６を通過し、試料８上に収束する。対物レンズ６の上方にある走査電極５は、走査電極制御部１４の制御により、試料８に入射するイオンビーム１６を偏向して走査させる。イオンビーム１６が試料８に照射されると、試料８はスパッタされるとともに二次電子を発生する。発生した二次電子は、二次電子検出器１０により検出され、走査像表示装置１３に表示される。 The ion beam 16 emitted from the ion gun 2 is converged by the condenser lens 3 and the diaphragm 4, passes through the objective lens 6, and converges on the sample 8. The scanning electrode 5 above the objective lens 6 deflects and scans the ion beam 16 incident on the sample 8 under the control of the scanning electrode control unit 14. When the sample 8 is irradiated with the ion beam 16, the sample 8 is sputtered and generates secondary electrons. The generated secondary electrons are detected by the secondary electron detector 10 and displayed on the scanning image display device 13.
ここで、デポジション銃１１より試料８の方向に放出されたアシストガスは、イオンビーム１６と反応し分解され、金属が試料８面上のイオンビーム１６照射領域に堆積する。
この堆積膜は、ＦＩＢ加工前における試料８の表面への保護膜の形成及び微小試料片１８の試料台への固定に通常用いられる。
Here, the assist gas released from the deposition gun 11 toward the sample 8 reacts with the ion beam 16 and is decomposed, and metal is deposited on the irradiation region of the ion beam 16 on the surface of the sample 8.
This deposited film is usually used for forming a protective film on the surface of the sample 8 before FIB processing and fixing the micro sample piece 18 to the sample stage.
一方、本実施例にかかるマイクロプローブ１２は、イオン液体１７の運搬もできる。また、マイクロプローブ１２は、イオン液体１７を試料表面又は試料台に塗布できる形状となっている。そして、試料ホールダ９は、試料８と共にイオン液体１７を保持することができる。 On the other hand, the microprobe 12 according to the present embodiment can also carry the ionic liquid 17. The microprobe 12 has a shape that allows the ionic liquid 17 to be applied to the sample surface or sample stage. The sample holder 9 can hold the ionic liquid 17 together with the sample 8.
イオンビーム１６がイオン液体１７に照射されると、イオン液体１７は固化するため、これを用いて微小試料片１８とマイクロプローブ１２を固定できる。固化したイオン液体１７によってマイクロプローブ１２に固定された微小試料は、自由に運搬することができる。ここで用いられるイオン液体１７は、例えば、エチル(2-ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウム メタンスルホナート C7H19NO4S を主成分とする電子顕微鏡用イオン液体「HILEM IL1000（商標）」である。このイオン液体は、室温以上に加熱しても、室温以下に冷却しても性質が変わらないので、微小試料片１８とマイクロプローブ１２などを固定するのに好適である。 Since the ionic liquid 17 is solidified when the ion beam 16 is irradiated to the ionic liquid 17, the micro sample piece 18 and the microprobe 12 can be fixed by using this. The micro sample fixed to the microprobe 12 by the solidified ionic liquid 17 can be transported freely. The ionic liquid 17 used here is, for example, an ionic liquid for electron microscope “HILEM IL1000 (trademark)” containing ethyl (2-hydroxyethyl) dimethylammonium methanesulfonate C7H19NO4S as a main component. This ionic liquid is suitable for fixing the micro sample piece 18 and the microprobe 12 and the like because its properties do not change even when heated above room temperature or cooled below room temperature.
図２に、本実施例にかかる試料ホールダの概略図を示す。試料ホールダ９は、透過型電子顕微鏡用のサイドエントリータイプのものも、走査型電子顕微鏡用のユーセントリックタイプのものも、基本的には同じ構造となっている。試料ホールダ９は、試料８とイオン液体１７を同時に保持できる構造となっている。試料８とイオン液体１７の距離は試料ステージの可動範囲に収まっており、試料８とイオン液体１７の全体を加工、観察、及び運搬することができる。 FIG. 2 shows a schematic diagram of a sample holder according to the present embodiment. The sample holder 9 has basically the same structure for the side entry type for the transmission electron microscope and the eucentric type for the scanning electron microscope. The sample holder 9 has a structure that can hold the sample 8 and the ionic liquid 17 simultaneously. The distance between the sample 8 and the ionic liquid 17 is within the movable range of the sample stage, and the entire sample 8 and the ionic liquid 17 can be processed, observed, and transported.
図３に、本実施例にかかるイオン液体搬送の説明図を示す。試料ホールダ９には、試料８及びイオン液体１７が保持されている。試料８には、予め微小試料片１８がイオンビームにより形成されている。マイクロプローブ１２をイオン液体１７に接近させる。次に、マイクロプローブ１２の先端をイオン液体１７に接触させる。その後、マイクロプローブ１２を引き上げると、表面張力によりイオン液体１７がマイクロプローブ１２に液滴となって付着する。このイオン液体１７の液滴をマイクロプローブ１２にて搬送し、微小試料片１８と接着させる。 FIG. 3 is an explanatory diagram of ionic liquid conveyance according to the present embodiment. A sample holder 9 holds a sample 8 and an ionic liquid 17. On the sample 8, a minute sample piece 18 is formed in advance by an ion beam. The microprobe 12 is brought close to the ionic liquid 17. Next, the tip of the microprobe 12 is brought into contact with the ionic liquid 17. Thereafter, when the microprobe 12 is pulled up, the ionic liquid 17 adheres to the microprobe 12 as a droplet due to surface tension. The droplet of the ionic liquid 17 is conveyed by the microprobe 12 and adhered to the micro sample piece 18.
図４に、本実施例にかかるマイクロプローブの概略図を示す。マイクロプローブ１２の先端は、図４に示すような、針状、板状、くし状、先端が２つに割れている形状、先端に大きさの異なる複数の穴が形成されている形状、又は先端に大きな穴があいている形状などであり、プローブ交換機能を利用して適切な先端を選択することで、マイクロプローブ１２に付着させるイオン液体１７の量を制御することができる。これにより、試料表面の保護膜形成のために塗布するイオン液体１７の膜厚を制御することができる。 FIG. 4 shows a schematic diagram of the microprobe according to this example. The tip of the microprobe 12 has a needle shape, a plate shape, a comb shape, a shape in which the tip is broken into two, a shape in which a plurality of holes of different sizes are formed in the tip, or as shown in FIG. The shape has a large hole at the tip, and the amount of the ionic liquid 17 attached to the microprobe 12 can be controlled by selecting an appropriate tip using the probe exchange function. Thereby, the film thickness of the ionic liquid 17 applied for forming the protective film on the sample surface can be controlled.
図５に、本実施例にかかる加工方法の説明図を示す。図５(a)では試料８から微小試料片１８を摘出するために試料８にイオン液体１７を塗布した様子を示している。この塗布したイオン液体１７の一部を、マイクロプローブ１２を用いて搬送し、微小試料片１８の端部に接触させる。マイクロプローブ１２と微小試料片１８の接触部にイオンビーム１６を照射し、イオン液体１７を固化させることで微小試料片１８の摘出が可能となる。なお、試料８や微小試料片１８などの所望箇所に塗布されたイオン液体１７にイオンビームを照射すると、イオン液体が固化し、試料８や微小試料片１８などの所望箇所の表面を保護する保護膜が形成される。図５(b)では微小試料片１８を摘出した様子を示している。摘出した微小試料片１８はマイクロプローブ１２で搬送し、観察用試料台１９にイオン液体１７を用いて固定する。この時、観察用試料台１９には予めマイクロプローブ１２を用いて、イオン液体１７を塗布しておく。マイクロプローブ１２で搬送した微小試料片１８を、予めイオン液体１７が塗布された観察用試料台１９に接触させる。微小試料片１８と観察用試料台１９の接触部にイオンビーム１６を照射し、イオン液体１７を固化させることで微小試料片１８が観察用試料台１９に固定され、マイクロプローブ１２を切り離すことが可能となる。図５(c)は微小試料片１８を観察用試料台１９に固定し、マイクロプローブ１２を切り離した様子を示している。 FIG. 5 is an explanatory diagram of a processing method according to the present embodiment. FIG. 5A shows a state in which the ionic liquid 17 is applied to the sample 8 in order to extract the minute sample piece 18 from the sample 8. A part of the applied ionic liquid 17 is conveyed using the microprobe 12 and brought into contact with the end of the micro sample piece 18. By irradiating the contact portion between the microprobe 12 and the micro sample piece 18 with the ion beam 16 and solidifying the ionic liquid 17, the micro sample piece 18 can be extracted. It should be noted that when the ion liquid 17 applied to a desired location such as the sample 8 or the micro sample piece 18 is irradiated with an ion beam, the ionic liquid is solidified to protect the surface of the desired location such as the sample 8 or the micro sample piece 18. A film is formed. FIG. 5B shows a state where the minute sample piece 18 is extracted. The extracted micro sample piece 18 is conveyed by the microprobe 12 and fixed to the observation sample stage 19 using the ionic liquid 17. At this time, the ionic liquid 17 is applied to the observation sample stage 19 using the microprobe 12 in advance. The small sample piece 18 conveyed by the microprobe 12 is brought into contact with the observation sample stage 19 on which the ionic liquid 17 has been applied in advance. By irradiating the contact portion between the minute sample piece 18 and the observation sample stage 19 with the ion beam 16 and solidifying the ionic liquid 17, the minute sample piece 18 is fixed to the observation sample stage 19 and the microprobe 12 can be separated. It becomes possible. FIG. 5C shows a state in which the micro sample piece 18 is fixed to the observation sample stage 19 and the micro probe 12 is cut off.
１…ＦＩＢ装置、２…イオン銃、３…コンデンサーレンズ、４…絞り、５…走査電極、６…対物レンズ、７…試料室、８…試料、９…試料ホールダ、１０…二次電子検出器、１１…デポジション銃、１２…マイクロプローブ、１３…走査像表示装置、１４…走査電極制御部、１５…マイクロプローブ制御装置、１６…イオンビーム、１７…イオン液体、１８…微小試料片、１９…観察用試料台 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... FIB apparatus, 2 ... Ion gun, 3 ... Condenser lens, 4 ... Diaphragm, 5 ... Scanning electrode, 6 ... Objective lens, 7 ... Sample chamber, 8 ... Sample, 9 ... Sample holder, 10 ... Secondary electron detector DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 ... Deposition gun, 12 ... Microprobe, 13 ... Scanning image display apparatus, 14 ... Scanning electrode control part, 15 ... Microprobe control apparatus, 16 ... Ion beam, 17 ... Ionic liquid, 18 ... Small sample piece, 19 ... Sample stage for observation
Claims (13)
前記プローブ及び前記微小試料に接触しているイオン液体にイオンビームを照射して固化させることにより、前記プローブと前記微小試料とを接着させることを特徴とする試料加工方法。 The sample processing method according to claim 1,
A sample processing method comprising: adhering an ion beam to an ionic liquid contacting the probe and the micro sample to solidify the probe and the micro sample.
電子顕微鏡観察用試料台と前記微小試料とをイオン液体を用いて接着することを特徴とする試料加工方法。 The sample processing method according to claim 1,
A sample processing method comprising bonding an electron microscope observation sample stage and the micro sample using an ionic liquid.
前記電子顕微鏡用試料台及び前記微小試料に接触しているイオン液体にイオンビームを照射して固化させることにより、前記電子顕微鏡観察用試料台と前記微小試料とを接着させることを特徴とする試料加工方法。 In the sample processing method of Claim 3,
A sample characterized in that the electron microscope observation sample stage and the micro sample are bonded together by irradiating and solidifying the ionic liquid in contact with the electron microscope sample stage and the micro sample. Processing method.
前記試料又は前記微小試料の保護膜としてイオン液体を用いることを特徴とする試料加工方法。 The sample processing method according to claim 1,
A sample processing method comprising using an ionic liquid as a protective film for the sample or the micro sample.
前記試料又は前記微小試料に塗布された前記イオン液体にイオンビームを照射して固化させることにより、前記試料又は前記微小試料に保護膜を形成することを特徴とする試料加工方法。 The sample processing method according to claim 5, wherein
A sample processing method comprising: forming a protective film on the sample or the micro sample by irradiating the ion liquid applied to the sample or the micro sample with an ion beam and solidifying the sample.
前記試料が、イオン液体を保持する試料台に保持されていることを特徴とする試料加工方法。 The sample processing method according to claim 1,
A sample processing method, wherein the sample is held on a sample stand for holding an ionic liquid.
前記試料台に保持されているイオン液体を、前記プローブを用いて搬送することを特徴とする試料加工方法。 The sample processing method according to claim 7, wherein
A sample processing method, wherein an ionic liquid held on the sample stage is transported using the probe.
前記イオン液体が、エチル(2-ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニウム メタンスルホナート C7H19NO4Sであることを特徴とする試料加工方法。 In the sample processing method in any one of Claims 1-8,
A sample processing method, wherein the ionic liquid is ethyl (2-hydroxyethyl) dimethylammonium methanesulfonate C7H19NO4S.
前記試料が、リチウムを含む材料、又は半田材料であることを特徴とする試料加工方法。 In the sample processing method in any one of Claims 1-9,
A sample processing method, wherein the sample is a material containing lithium or a solder material.
微小試料を摘出できるプローブと、
微小試料が摘出される試料、及びイオン液体を保持できる試料台と、を備えることを特徴とする試料加工装置。 An ion beam irradiation optical system;
A probe that can extract a minute sample;
A sample processing apparatus comprising: a sample from which a micro sample is extracted; and a sample stage capable of holding an ionic liquid.
前記試料と前記イオン液体の距離が、前記試料台を移動できる試料ステージの可動範囲に収まっていることを特徴とする試料加工装置。 The sample processing apparatus according to claim 11, wherein
The sample processing apparatus, wherein a distance between the sample and the ionic liquid is within a movable range of a sample stage that can move the sample stage.
プローブの先端形状を選択できることを特徴とする試料加工装置。 The sample processing apparatus according to claim 11, wherein
A sample processing apparatus characterized in that a tip shape of a probe can be selected.
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010064386A1 (en) * | 2008-12-04 | 2010-06-10 | 国立大学法人大阪大学 | Pattern-forming method |
| WO2011074178A1 (en) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Charged particle beam device and sample observation method |
| JP2011137807A (en) * | 2009-12-01 | 2011-07-14 | Hokkaido Univ | Liquid medium for sample observation by electron microscope, and sample observation method by the electron microscope using the liquid medium |
| JP2012083146A (en) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Hitachi High-Technologies Corp | Method of observation of sample floating on liquid surface under scanning electron microscope |
| JP2013161647A (en) * | 2012-02-06 | 2013-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | Charged particle beam device and wiring method |
| WO2013133012A1 (en) * | 2012-03-09 | 2013-09-12 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | Specimen observation method and specimen pretreatment method |
-
2013
- 2013-12-27 JP JP2013270810A patent/JP2015125087A/en active Pending
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010064386A1 (en) * | 2008-12-04 | 2010-06-10 | 国立大学法人大阪大学 | Pattern-forming method |
| JP2011137807A (en) * | 2009-12-01 | 2011-07-14 | Hokkaido Univ | Liquid medium for sample observation by electron microscope, and sample observation method by the electron microscope using the liquid medium |
| WO2011074178A1 (en) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | Charged particle beam device and sample observation method |
| JP2012083146A (en) * | 2010-10-08 | 2012-04-26 | Hitachi High-Technologies Corp | Method of observation of sample floating on liquid surface under scanning electron microscope |
| JP2013161647A (en) * | 2012-02-06 | 2013-08-19 | Hitachi High-Technologies Corp | Charged particle beam device and wiring method |
| WO2013133012A1 (en) * | 2012-03-09 | 2013-09-12 | 株式会社 日立ハイテクノロジーズ | Specimen observation method and specimen pretreatment method |
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