JP2015076473A - Substrate treatment apparatus - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、薬液を用いて基板の処理を行う基板処理装置にて、この薬液を貯溜した薬液容器を交換する技術に関する。 The present invention relates to a technique for exchanging a chemical solution container in which a chemical solution is stored in a substrate processing apparatus for processing a substrate using the chemical solution.
半導体製造工程の一つであるフォトレジスト工程においては、基板である半導体ウエハ（以下、ウエハという）の表面にレジストを塗布し、このレジストを所定のパターンで露光した後に現像してレジストパターンを形成している。この処理は、レジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置（基板処理装置）に、露光装置を接続したシステムを用いて行われる。 In the photoresist process, which is one of the semiconductor manufacturing processes, a resist is applied to the surface of a semiconductor wafer (hereinafter referred to as a wafer), which is a substrate, and the resist is exposed in a predetermined pattern and then developed to form a resist pattern. doing. This process is performed using a system in which an exposure apparatus is connected to a coating and developing apparatus (substrate processing apparatus) for applying and developing a resist.
塗布、現像装置は、液処理モジュールを用いてウエハに各種の薬液を順次供給することによってレジスト塗布処理や現像処理など、フォトレジスト工程に係る各種の処理を実行する。このため、塗布、現像装置には、各種の薬液を貯溜した薬液容器の収容領域が設けられ、ここから各液処理モジュールへと薬液が供給される。 The coating and developing apparatus executes various processes related to the photoresist process such as a resist coating process and a developing process by sequentially supplying various chemicals to the wafer using a liquid processing module. For this reason, the coating and developing apparatus is provided with a storage area for chemical containers storing various chemical solutions, from which chemical solutions are supplied to each liquid processing module.
多数枚のウエハに対して処理が行われ、薬液容器内の薬液が空になった場合には、使用済みの薬液容器は、例えばオペレータによって収容領域から取り出され、新たな薬液容器と交換される。ところが、塗布、現像装置で用いられる薬液の中には、空気との接触などにより性状が変質するものも存在し、前記収容領域を開放して薬液容器を交換する作業は、ウエハ間で均質な処理を実行する際の不安定要因ともなる。また、薬液容器の交換時に、外部のパーティクルが当該容器内に進入すると、パーティクルの混入した薬液がウエハに供給され、ウエハを汚染してしまうおそれもある。 When a large number of wafers are processed and the chemical solution in the chemical solution container becomes empty, the used chemical solution container is taken out of the storage area by, for example, an operator and replaced with a new chemical solution container. . However, some chemicals used in the coating and developing apparatus have properties that change due to contact with air, etc., and the operation of opening the storage area and replacing the chemical container is uniform between wafers. It also becomes an unstable factor when executing processing. Further, when an external particle enters the container when the chemical container is replaced, there is a possibility that the chemical liquid mixed with the particles is supplied to the wafer and contaminates the wafer.
ここで特許文献１には、液体取り出しパイプが設けられたキャップに対して昇降自在に構成されたテーブル上に、レジスト液などを貯留する容器を載置して、このテーブルを昇降させることによって容器に対して液体取り出しパイプの挿入、抜出を行う液体の連続供給装置が記載されている。また、特許文献２には、レジスト塗布処理や現像処理を行う基板処理装置にて、処理液の収容容器にその内容物の情報を記憶したＩＣタグシールを添付しておき、複数の収容容器を設置可能な設置区画に収容容器が設置された後、ＩＣタグシールから読み取った情報と、各設置区画に配置されるべき収容容器の内容物についての情報とを照合することにより、誤った処理液を収容した収容容器が設置されることを抑制する技術が記載されている。
しかしながらこれらの特許文献のいずれにおいてもテーブルや設置区画に配置されている使用済みの容器と新しい容器とを交換する際に、液の変質やパーティクルの混入を抑制する技術は言及されていない。
Here, in Patent Document 1, a container for storing a resist solution or the like is placed on a table configured to be movable up and down with respect to a cap provided with a liquid take-out pipe, and the container is moved up and down. Describes a continuous liquid supply device for inserting and extracting a liquid take-out pipe. In addition, in Patent Document 2, an IC tag seal that stores information on the contents of a processing liquid storage container is attached to a processing liquid storage container in a substrate processing apparatus that performs resist coating processing and development processing, and a plurality of storage containers are installed. After the storage container is installed in a possible installation section, the wrong processing liquid is stored by collating the information read from the IC tag sticker with the information about the contents of the storage container to be placed in each installation section. A technique for suppressing the installation of the storage container is described.
However, in any of these patent documents, there is no mention of a technique for suppressing deterioration of liquid or mixing of particles when a used container placed on a table or an installation section is replaced with a new container.
本発明はこのような事情の下になされたものであり、その目的は、人手を介さずに薬液容器の交換をすることが可能な基板処理装置を提供することにある。 The present invention has been made under such circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate processing apparatus capable of exchanging a chemical solution container without human intervention.
本発明の基板処理装置は、基板が複数枚収納されたキャリアが搬入されるキャリアブロックと、
前記キャリアブロックに対して横方向に並べて配置され、当該キャリアブロック内のキャリアから取り出された基板に対して薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールを備えた処理ブロックと、
前記キャリアブロック及び処理ブロックに対して一列に並ぶように設けられ、前記液処理モジュールに供給される薬液を貯溜した複数の薬液容器を収容するための薬液ブロックと、を備え、
前記薬液ブロックは、
前記キャリアブロック及び処理ブロックの並びの方向に対して直交する方向に前記複数の薬液容器を配置した容器配置部と、
薬液容器を搬入出するための搬入搬出ポートと、
前記容器配置部と搬入搬出ポートとの間で使用済みの薬液容器と新規な薬液容器との自動交換を行うための機構と、を備えたことを特徴とする。
The substrate processing apparatus of the present invention includes a carrier block into which a carrier containing a plurality of substrates is loaded;
A processing block including a liquid processing module that is arranged side by side with respect to the carrier block and supplies a chemical to a substrate taken out of the carrier in the carrier block to perform liquid processing;
A chemical liquid block that is provided so as to be aligned with the carrier block and the processing block, and stores a plurality of chemical liquid containers that store the chemical liquid supplied to the liquid processing module, and
The chemical block is
A container disposition unit in which the plurality of chemical liquid containers are disposed in a direction orthogonal to the direction in which the carrier blocks and the processing blocks are arranged;
A loading / unloading port for loading / unloading chemical containers;
And a mechanism for automatically exchanging a used chemical solution container and a new chemical solution container between the container placement portion and the carry-in / out port.
前記基板処理装置は、以下の構成を備えていてもよい。
（ａ）前記薬液ブロックは、基板の通路が形成されていること。また前記基板の通路は、基板の移動方向に伸びる筒状体により囲まれていること
（ｂ）前記薬液ブロックは、前記キャリアブロックと前記処理ブロックとの間に設けられていること。
（ｃ）前記処理ブロックは、基板にレジスト膜を含む塗布膜を形成するために薬液を用いて基板に液処理を行う液処理モジュールと、露光後の基板に対して薬液である現像液により現像を行う液処理モジュールとを備え、前記処理ブロックから見てキャリアブロックが設けられている向きの反対側には、露光装置に接続され、処理ブロックと露光装置との間の基板の搬送を行うインターフェイスブロックが設けられ、前記薬液ブロックは、前記処理ブロックと前記インターフェイスブロックとの間に設けられていること。
（ｄ）前記キャリアブロックと前記処理ブロックとの並び方向を前後方向とすると、前記薬液ブロックを囲み、左及び右の少なくとも一方の側壁に薬液容器の搬入出口が形成されていること。また、前記薬液ブロックを囲む天井部に薬液容器の搬入出口が形成されていること。
The substrate processing apparatus may have the following configuration.
(A) The chemical block has a substrate passage formed therein. The substrate passage is surrounded by a cylindrical body extending in the direction of substrate movement.
(B) The chemical liquid block is provided between the carrier block and the processing block.
(C) The processing block is developed with a liquid processing module that performs chemical processing on a substrate using a chemical solution to form a coating film including a resist film on the substrate, and a developer that is a chemical solution for the exposed substrate. An interface that is connected to the exposure apparatus on the opposite side of the direction in which the carrier block is provided when viewed from the processing block, and that transports the substrate between the processing block and the exposure apparatus. A block is provided, and the chemical solution block is provided between the processing block and the interface block.
(D) Assuming that the arrangement direction of the carrier block and the processing block is the front-rear direction, the chemical solution block is enclosed, and a loading / unloading port for the chemical solution container is formed on at least one of the left and right side walls. Also, a loading / unloading port for the chemical solution container is formed in the ceiling portion surrounding the chemical solution block.
本発明は、薬液容器の自動交換を行う機構を用いて、容器配置部と搬入搬出ポートとの間で使用済みの薬液容器と新規な薬液容器との交換を行う。このため、一列に並んだキャリアブロックや処理ブロックの並び方向と直交する方向に向けて複数の薬液容器が並ぶように容器配置部が配置され、人手による作業が困難な場合であっても薬液容器の交換を実行することができる。 In the present invention, a used chemical solution container and a new chemical solution container are exchanged between the container arrangement portion and the carry-in / out port using a mechanism for automatically changing the chemical solution container. For this reason, even if it is difficult to perform manual operations, the container placement portion is arranged so that a plurality of chemical liquid containers are arranged in a direction orthogonal to the arrangement direction of the carrier blocks and processing blocks arranged in a row. Can be exchanged.
本発明が適用される塗布、現像装置１（基板処理装置）の構成について図１〜図９を参照しながら説明する。図１に示すように、本例の塗布、現像装置１は、キャリアブロックＤ１と、薬液ブロックＤ２と、処理ブロックＤ３と、インターフェイスブロックＤ４と、が一列に並ぶように接続されている。インターフェイスブロックＤ４にはさらに露光装置Ｄ５が接続されている。以下、ブロックＤ１〜Ｄ４の配列方向を前後方向、キャリアブロックＤ１が配置されている一端側を手前側として説明を行う。 The configuration of the coating and developing apparatus 1 (substrate processing apparatus) to which the present invention is applied will be described with reference to FIGS. As shown in FIG. 1, the coating and developing apparatus 1 of this example is connected so that a carrier block D1, a chemical solution block D2, a processing block D3, and an interface block D4 are aligned. An exposure device D5 is further connected to the interface block D4. Hereinafter, the arrangement direction of the blocks D1 to D4 will be described as the front-rear direction, and the one end side where the carrier block D1 is disposed is the front side.
キャリアブロックＤ１は、同一ロットのウエハＷを複数枚収容したＦＯＵＰ（Front Opening Unified Pod）などからなるキャリアＣと、塗布、現像装置１との間でウエハＷを搬入出する役割を有する。図２に示すようにキャリアブロックＤ１は、キャリアＣの載置台２１と、キャリアＣの蓋の開閉を行う開閉部２２と、キャリアＣからウエハＷを取り出して搬送するための搬送アーム２３とを備えている。 The carrier block D1 has a role of carrying the wafer W in / out between the carrier C made of FOUP (Front Opening Unified Pod) or the like containing a plurality of wafers W of the same lot and the coating / developing apparatus 1. As shown in FIG. 2, the carrier block D <b> 1 includes a mounting table 21 for the carrier C, an opening / closing part 22 for opening and closing the lid of the carrier C, and a transfer arm 23 for taking out and transferring the wafer W from the carrier C. ing.
図１、図３に示すように、処理ブロックＤ３は、ウエハＷに液処理を行う第１〜第６の単位ブロックＢ１〜Ｂ６が下から順に積層されている。説明の便宜上ウエハＷに下層側の反射防止膜を形成する処理を「ＢＣＴ」、ウエハＷにレジスト膜を形成する処理を「ＣＯＴ」、露光後のウエハＷにレジストパターンを形成するための処理を「ＤＥＶ」と夫々表現する場合がある。本例では、下からＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２、ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４、ＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６が２層ずつ積み上げられている。同種の単位ブロックにおいては、互いに並行してウエハＷの搬送及び処理が行われる。 As shown in FIGS. 1 and 3, the processing block D <b> 3 includes first to sixth unit blocks B <b> 1 to B <b> 6 that perform liquid processing on the wafer W stacked in order from the bottom. For convenience of explanation, “BCT” is a process for forming a lower antireflection film on the wafer W, “COT” is a process for forming a resist film on the wafer W, and a process for forming a resist pattern on the exposed wafer W is performed. Sometimes expressed as “DEV”. In this example, two BCT layers B1, B2, COT layers B3, B4, and DEV layers B5, B6 are stacked from the bottom. In the same type of unit block, the wafer W is transferred and processed in parallel with each other.
これらの単位ブロックを代表して、図２にはＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４を例示してある。ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４には、キャリアブロックＤ１からインターフェイスブロックＤ４へ向かう方向に伸びるように搬送領域３１が設けられ、搬送領域３１の一方側（例えば手前側から見て左手）の側方に複数の棚ユニットＵが前後方向に並んで配置されている。また、前記搬送領域３１の他方側（例えば手前側から見て右手）の側方には回転するウエハＷの表面に各種薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールであるレジスト膜形成モジュールＣＯＴや保護膜形成モジュールＩＴＣが前後方向に並べて設けられている。 As representative of these unit blocks, FIG. 2 illustrates COT layers B3 and B4. The COT layers B3 and B4 are provided with a transport region 31 so as to extend in a direction from the carrier block D1 to the interface block D4, and a plurality of sides are provided on one side of the transport region 31 (for example, the left hand as viewed from the front side). The shelf units U are arranged side by side in the front-rear direction. Further, a resist film forming module COT, which is a liquid processing module that performs liquid processing by supplying various chemicals to the surface of the rotating wafer W on the other side (for example, the right hand as viewed from the front side) of the transfer region 31. And a protective film forming module ITC are provided side by side in the front-rear direction.
レジスト膜形成モジュールＣＯＴは、ウエハＷにレジストを供給してレジスト膜を形成する。保護膜形成モジュールＩＴＣは、レジスト膜上に所定の処理液を供給し、当該レジスト膜を保護する保護膜を形成する。また各棚ユニットＵは、不図示の加熱モジュールを備え、前記搬送領域３１には、ウエハＷの搬送機構である搬送アームＦ３、Ｆ４が設けられている。 The resist film forming module COT supplies a resist to the wafer W to form a resist film. The protective film forming module ITC supplies a predetermined processing liquid onto the resist film and forms a protective film for protecting the resist film. Each shelf unit U includes a heating module (not shown), and the transfer area 31 is provided with transfer arms F3 and F4 which are transfer mechanisms for the wafer W.
他の単位ブロックＢ１、Ｂ２、Ｂ５及びＢ６は、ウエハＷに供給する薬液が異なることを除き、単位ブロックＢ３、Ｂ４とほぼ同様に構成される。単位ブロックＢ１、Ｂ２は、液処理モジュールとして、レジスト膜形成モジュールＣＯＴや保護膜形成モジュールＩＴＣの代わりに反射防止膜形成モジュールＢＣＴを備え、単位ブロックＢ５、Ｂ６は、現像モジュールＤＥＶを備える。図３では各単位ブロックＢ１〜Ｂ６の搬送アームはＦ１〜Ｆ６と示している。 The other unit blocks B1, B2, B5 and B6 are configured in substantially the same manner as the unit blocks B3 and B4 except that the chemicals supplied to the wafer W are different. The unit blocks B1 and B2 include an antireflection film forming module BCT as a liquid processing module instead of the resist film forming module COT and the protective film forming module ITC, and the unit blocks B5 and B6 include a developing module DEV. In FIG. 3, the transfer arms of the unit blocks B1 to B6 are indicated as F1 to F6.
処理ブロックＤ３における前方側には、各単位ブロックＢ１〜Ｂ６に跨って上下方向に伸びるタワーＴ１と、タワーＴ１に設けられた複数のモジュール間でのウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在な受け渡しアーム３２とが設けられている。タワーＴ１には、複数のモジュールが上下方向に互いに積層されて設けられ、これらのモジュールのうち、各単位ブロックＢ１〜Ｂ６の高さに対応して設けられている受け渡しモジュールＴＲＳは、単位ブロックＢ１〜Ｂ６内の搬送アームＦ１〜Ｆ６との間でウエハＷの受け渡しを行う際に用いられる。 On the front side of the processing block D3, the tower T1 extending in the vertical direction across the unit blocks B1 to B6 and the wafer W that can be moved up and down for delivering the wafer W between a plurality of modules provided in the tower T1. An arm 32 is provided. The tower T1 is provided with a plurality of modules stacked in the vertical direction. Among these modules, the transfer module TRS provided corresponding to the height of each of the unit blocks B1 to B6 is the unit block B1. Used when transferring the wafer W between the transfer arms F1 to F6 in .about.B6.
タワーＴ１に設けられているモジュールの具体例を挙げると、単位ブロックＢ１〜Ｂ６との間でのウエハＷを受け渡す際に用いられる既述の受け渡しモジュールＴＲＳ、ウエハＷの温度調整を行う温調モジュールＣＰＬ、複数枚のウエハＷを一時的に保管するバッファモジュールＢＵ、ウエハＷの表面を疎水化する疎水化処理モジュールＡＤＨなどがある。説明を簡単にするため、前記疎水化処理モジュールＡＤＨ、温調モジュールＣＰＬ、バッファモジュールＢＵについての図示は省略してある。 As a specific example of the module provided in the tower T1, the above-described transfer module TRS used when the wafer W is transferred between the unit blocks B1 to B6, and the temperature control for adjusting the temperature of the wafer W. There are a module CPL, a buffer module BU for temporarily storing a plurality of wafers W, a hydrophobizing module ADH for hydrophobizing the surface of the wafers W, and the like. In order to simplify the description, the hydrophobic treatment module ADH, the temperature control module CPL, and the buffer module BU are not shown.
インターフェイスブロックＤ４は、単位ブロックＢ１〜Ｂ６に跨って上下方向に伸びるタワーＴ２、Ｔ３、Ｔ４を備えている（図２、図３）。インターフェイスブロックＤ４には、タワーＴ２とタワーＴ３との間でウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在なインターフェイスアーム４１と、タワーＴ２とタワーＴ４との間でウエハＷの受け渡しを行うための昇降自在なインターフェイスアーム４２と、タワーＴ２と露光装置Ｄ５との間でウエハＷの受け渡しを行うためのインターフェイスアーム４３とが設けられている。 The interface block D4 includes towers T2, T3, and T4 extending in the vertical direction across the unit blocks B1 to B6 (FIGS. 2 and 3). In the interface block D4, an up and down interface arm 41 for transferring the wafer W between the tower T2 and the tower T3, and an up and down movement for transferring the wafer W between the tower T2 and the tower T4. An interface arm 42 and an interface arm 43 for delivering the wafer W between the tower T2 and the exposure apparatus D5 are provided.
タワーＴ２は、受け渡しモジュールＴＲＳ、露光処理前の複数枚のウエハＷを格納して滞留させるバッファモジュールＢＵ、露光処理後の複数枚のウエハＷを格納するバッファモジュールＢＵ、及びウエハＷの温度調整を行う温調モジュールＣＰＬなどが互いに積層されて構成されているが、タワーＴ１の場合と同様に、バッファモジュールＢＵ及び温調モジュールＣＰＬの図示は省略する。 The tower T2 includes a delivery module TRS, a buffer module BU for storing and retaining a plurality of wafers W before exposure processing, a buffer module BU for storing a plurality of wafers W after exposure processing, and temperature adjustment of the wafers W. Although the temperature control module CPL etc. to be performed are laminated | stacked mutually, similarly to the case of tower T1, illustration of buffer module BU and temperature control module CPL is abbreviate | omitted.
また、手前側から見てタワーＴ２の右手に配置されているタワーＴ３には、露光処理後のウエハＷの洗浄処理を行う複数台の露光後洗浄モジュールＰＩＲが上下方向に積層されて配置されている。一方、タワーＴ２の左手に配置されているタワーＴ４には露光装置Ｄ５に搬入される前のウエハＷの裏面洗浄を行う複数台の裏面洗浄モジュールＢＳＴが上下方向に積層されて配置されている。これらのモジュールの記載についても図示は省略してある。 In addition, a plurality of post-exposure cleaning modules PIR for cleaning the wafer W after the exposure processing are stacked in the vertical direction on the tower T3 disposed on the right hand side of the tower T2 when viewed from the front side. Yes. On the other hand, a plurality of back surface cleaning modules BST for cleaning the back surface of the wafer W before being loaded into the exposure apparatus D5 are stacked in a vertical direction on the tower T4 disposed on the left side of the tower T2. The illustration of these modules is also omitted.
以上に説明した構成を備えた本例の塗布、現像装置１は、液処理モジュールである反射防止膜形成モジュールＢＣＴ、膜形成モジュールＣＯＴ、保護膜形成モジュールＩＴＣや現像モジュールＤＥＶに供給される薬液を貯留した複数の薬液容器５０を収容するための薬液ブロックＤ２を備えている。以下、当該薬液ブロックＤ２の詳細な構成について説明する。 The coating / developing apparatus 1 of the present example having the above-described configuration is configured to supply the chemical solution supplied to the antireflection film forming module BCT, the film forming module COT, the protective film forming module ITC, and the developing module DEV which are liquid processing modules. A chemical liquid block D2 for storing a plurality of stored chemical liquid containers 50 is provided. Hereinafter, the detailed structure of the said chemical | medical solution block D2 is demonstrated.
本例の薬液ブロックＤ２は、塗布、現像装置１が配置されている工場内の雰囲気（外部雰囲気）及び他のブロックＤ１、Ｄ３から区画された筐体内に設けられ、キャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３の並び方向に沿って、これらキャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３との間に前後を挟まれるように配置されている。
薬液ブロックＤ２には、外部から搬入された薬液容器５０がトレー５０に収容された状態で載置されるトレー載置台６９と、各液処理モジュールへ薬液を供給するために薬液容器５０が配置される容器配置部を構成する複数の容器載置モジュール６と、これらトレー載置台６９と各容器載置モジュール６との間で薬液容器５０を搬送する容器搬送機構７と、を備えている。
The chemical solution block D2 of this example is provided in an atmosphere (external atmosphere) in the factory where the coating / developing apparatus 1 is arranged and a housing partitioned from the other blocks D1 and D3, and the carrier block D1 and the processing block D3. Are arranged so that the front and rear are sandwiched between the carrier block D1 and the processing block D3.
In the chemical liquid block D2, a tray mounting table 69 on which the chemical liquid container 50 carried in from the outside is placed in the tray 50 and the chemical liquid container 50 for supplying the chemical liquid to each liquid processing module are arranged. And a container transport mechanism 7 for transporting the chemical solution container 50 between the tray mounting table 69 and each container mounting module 6.
図４に示すようにトレー載置台６９は、薬液ブロックＤ２の側壁面に形成され、開閉部６４１によって開閉自在に構成された容器搬入出口６４ａと対向する位置に設けられている。なお、本例の容器搬入出口６４ａは、手前側から見て、薬液ブロックＤ２の右側の側壁に設けられているが、左側の側壁に容器搬入出口６４ａを設けてもよいことは勿論である。トレー載置台６９は、オペレータによって容器搬入出口６４ａを介して薬液容器５０の搬入、搬出が行われる位置と、容器搬送機構７との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置との間を横方向に移動することができる。 As shown in FIG. 4, the tray mounting table 69 is formed on the side wall surface of the chemical liquid block D <b> 2 and is provided at a position facing the container loading / unloading port 64 a configured to be opened and closed by the opening / closing unit 641. The container loading / unloading port 64a of this example is provided on the right side wall of the chemical liquid block D2 when viewed from the front side, but it is needless to say that the container loading / unloading port 64a may be provided on the left side wall. The tray mounting table 69 is located between the position where the chemical container 50 is carried in and out by the operator via the container loading / unloading port 64a and the position where the chemical container 50 is transferred to and from the container transport mechanism 7. Can be moved to.
容器搬送機構７との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置に移動したトレー載置台６９の上方側には、上下方向へ向けて薬液容器５０を搬送するための容器搬入出路６４ｂが形成されている。容器搬入出路６４ｂの上端部（搬入出口）は、薬液ブロックＤ２の天井部に開口し、この開口部は開閉部６４１によって開閉自在に構成されている。一方、本例の塗布、現像装置１が配置されている工場の天井部には、軌道に沿って薬液容器５０を搬送するＯＨＴ（Overhead Hoist Transport）１０１が配置されている。ＯＨＴ１０１は、把持部１０２を降下、上昇させることによって、容器搬入出路６４ｂの搬入出口を介して、その下方位置に移動したトレー載置台６９との間で薬液容器５０の受け渡しを行う。
トレー載置台６９や容器搬入出口６４ａ、容器搬入出路６４ｂは、本実施の形態の搬入搬出ポートを構成している。
A container loading / unloading path 64b for transporting the chemical liquid container 50 in the vertical direction is formed on the upper side of the tray mounting table 69 moved to a position where the chemical liquid container 50 is transferred to and from the container transport mechanism 7. Yes. The upper end (loading / unloading port) of the container loading / unloading path 64b opens to the ceiling of the chemical liquid block D2, and the opening is configured to be opened and closed by an opening / closing section 641. On the other hand, an OHT (Overhead Hoist Transport) 101 that transports the chemical solution container 50 along the track is disposed on the ceiling of the factory where the coating and developing apparatus 1 of this example is disposed. The OHT 101 lowers and raises the grip portion 102 to transfer the chemical solution container 50 to and from the tray mounting table 69 moved to the lower position via the loading / unloading port of the container loading / unloading path 64b.
The tray mounting table 69, the container loading / unloading port 64a, and the container loading / unloading path 64b constitute the loading / unloading port of the present embodiment.
容器搬入出口６４ａや容器搬入出路６４ｂを介して薬液ブロックＤ２内に搬入される薬液容器５０は、トレー５１に収容されている。図２、図５に示すようにトレー５１は、上面が開口した直方体形状の容器であり、薬液を貯留した薬液容器５０の本体がこのトレー５１内に収容される。トレー５１内の底部には、予め設定された位置に薬液容器５０を固定するための容器受部５１１が設けられている。また、トレー５１の側面には、ＯＨＴ１０１の把持部１０２により、トレー５１を把持するための不図示の取手部が設けられている。さらにトレー５１の底部には、後述する容器搬送機構７のアーム７２２を挿入するための切り欠き部５１２が形成されている（図５、図７などを参照）。 The chemical solution container 50 carried into the chemical solution block D <b> 2 via the container loading / unloading port 64 a and the container loading / unloading path 64 b is accommodated in the tray 51. As shown in FIGS. 2 and 5, the tray 51 is a rectangular parallelepiped container having an open upper surface, and the main body of the chemical solution container 50 storing the chemical solution is accommodated in the tray 51. A container receiving portion 511 for fixing the chemical solution container 50 at a preset position is provided at the bottom of the tray 51. Further, on the side surface of the tray 51, a handle portion (not shown) for gripping the tray 51 by the grip portion 102 of the OHT 101 is provided. Further, a notch 512 for inserting an arm 722 of the container transport mechanism 7 described later is formed at the bottom of the tray 51 (see FIGS. 5 and 7).
薬液容器５０は、例えばプラスチック製やガラス製の細口ビンとして構成され、その開口部（薬液取り出し口）がねじ蓋などからなる蓋部５０１によって密封された状態で薬液ブロックＤ２内に搬入される。薬液容器５０の本体の外面には、薬液容器５０に貯留されている薬液の種類を識別するための識別情報であるバーコード５０２が貼付されている。また、容器搬送機構７との薬液容器５０の受け渡し位置に移動したトレー載置台６９の近傍には、薬液を識別する情報の取得部であるバーコードリーダ８１が配置されている。このバーコードリーダ８１によってバーコード５０２を読み取ることにより、搬入された薬液容器５０内に貯留されている薬液の種類を識別することができる。このバーコード５０２はトレー５１に設けてもよい。
ここで薬液の種類を識別する識別情報を取得する手法は、バーコード５０２とバーコードリーダ８１との組み合わせに限られるものではない。ＩＣタグを薬液容器５０やトレー５１に設け、このＩＣタグと通信を行って識別情報を取得する通信部をトレー載置台６９の近傍に配置してもよい。
The chemical solution container 50 is configured as a narrow bottle made of plastic or glass, for example, and is loaded into the chemical solution block D2 with its opening (chemical solution outlet) sealed by a lid portion 501 made of a screw lid or the like. On the outer surface of the main body of the chemical solution container 50, a barcode 502, which is identification information for identifying the type of the chemical solution stored in the chemical solution container 50, is affixed. In addition, a barcode reader 81 serving as an information acquisition unit for identifying a chemical solution is disposed in the vicinity of the tray mounting table 69 moved to the delivery position of the chemical solution container 50 with the container transport mechanism 7. By reading the barcode 502 with the barcode reader 81, the type of chemical stored in the chemical container 50 that has been carried in can be identified. This barcode 502 may be provided on the tray 51.
Here, the method for acquiring the identification information for identifying the type of the chemical solution is not limited to the combination of the barcode 502 and the barcode reader 81. An IC tag may be provided in the chemical solution container 50 or the tray 51, and a communication unit that communicates with the IC tag to acquire identification information may be disposed in the vicinity of the tray mounting table 69.
図２、図５などに示すように、薬液容器５０の搬送を行う容器搬送機構７は、本体部７１に、薬液容器５０を保持する２組のアーム（第１アーム７２１及び第２アーム７２２）を設けた構成となっている。第１、第２アーム７２１、７２２は、互いに連結された状態で本体部７１の上面側に設けられ、本体部７１から各アーム７２１、７２２を伸張させて、トレー載置台６９や容器載置モジュール６との間で薬液容器５０の受け渡しを行う位置と、本体部７１上に各アーム７２１、７２２を折り畳んで薬液容器５０の搬送を行う位置との間で伸縮自在に構成されている。さらに第１アーム７２１の伸縮方向の先端部及び後端部には、搬送中におけるトレー５１の位置ずれを防止するために、トレー５１の保持位置を前後から規制するトレーガイド７２３が設けられている。 As shown in FIG. 2, FIG. 5, etc., the container transport mechanism 7 that transports the chemical solution container 50 has two sets of arms (first arm 721 and second arm 722) that hold the chemical solution container 50 in the main body 71. Is provided. The first and second arms 721 and 722 are provided on the upper surface side of the main body 71 in a state of being connected to each other, and the arms 721 and 722 are extended from the main body 71 so as to extend the tray mounting table 69 and the container mounting module. 6 is configured to be stretchable between a position where the chemical solution container 50 is delivered to and from the position 6 and a position where the arms 721 and 722 are folded on the main body 71 and the chemical solution container 50 is conveyed. Further, a tray guide 723 for restricting the holding position of the tray 51 from the front and rear is provided at the front end portion and the rear end portion in the expansion / contraction direction of the first arm 721 in order to prevent displacement of the tray 51 during conveyance. .
本体部７１は、回転軸７３を介して支持部７４上に保持され、鉛直軸周りに回転自在に構成されている。この結果、トレー載置台６９との間で薬液容器５０の受け渡しを行う向き（図２に実線で示してある）と、各容器載置モジュール６との間で薬液容器５０の受け渡しを行う向き（同図中に破線で示してある）との間で、各組のアーム７２１、７２２の伸縮方向を変更することができる。 The main body portion 71 is held on the support portion 74 via the rotation shaft 73 and is configured to be rotatable around the vertical axis. As a result, the direction in which the chemical solution container 50 is transferred to and from the tray mounting table 69 (shown by a solid line in FIG. 2) and the direction in which the chemical solution container 50 is transferred to and from each container mounting module 6 ( The expansion / contraction direction of each pair of arms 721 and 722 can be changed.
また、図２、図３に示すように、本体部７１を保持する支持部７４は、上下方向に伸びる２本の昇降レール７５１に支持され、さらにこれら昇降レール７５１の上端部及び下端部は、薬液ブロックＤ２の天井部近傍、及び床面近傍に沿って横方向に伸びる移動レール７５２によって支持されている。そして、昇降レール７５１、移動レール７５２に設けられた不図示の駆動機構により、支持部７４が上下方向に昇降自在、昇降レール７５１が左右方向に移動自在に構成されていることにより、薬液ブロックＤ２の内壁面に沿った任意の位置に本体部７１を移動させることができる。そして、前述のトレー載置台６９と各容器載置モジュール６との間で容器搬送機構７（本体部７１）が移動する領域が、薬液容器５０の搬送領域となる。 As shown in FIGS. 2 and 3, the support portion 74 that holds the main body 71 is supported by two lifting rails 751 extending in the vertical direction, and the upper and lower ends of these lifting rails 751 are It is supported by a moving rail 752 that extends in the lateral direction along the vicinity of the ceiling and the floor of the chemical liquid block D2. The support 74 is movable up and down in the vertical direction and the vertical rail 751 is movable in the left and right directions by a drive mechanism (not shown) provided on the up and down rail 751 and the moving rail 752. The main body 71 can be moved to any position along the inner wall surface. A region where the container transport mechanism 7 (main body 71) moves between the tray mounting table 69 and each container mounting module 6 is a transport region of the chemical solution container 50.
容器搬送機構７は、第２アーム７２２に設けられた前後のトレーガイド７２３の間に位置するトレー５１の載置領域を、既述の切り欠き部５１２を介してトレー５１の下方側に進入させ、次いで第２アーム７２２を上昇させることによりトレー載置台６９や容器載置モジュール６から薬液容器５０を受け取る（図５）。そして第１、第２アーム７２１、７２２を折り畳み、本体部７１上にトレー５１を配置した状態で薬液容器５０の搬送を行う（図６）。なお、本体部７１には、切り欠き部５１２の左右位置から下方側へ向けて伸びるトレー５１の側壁の下端部との干渉を避けるための溝部が形成されている（例えば、容器搬送機構７の変形例に係わる図１１に記載の溝部７１１参照）。 The container transport mechanism 7 causes the placement area of the tray 51 located between the front and rear tray guides 723 provided on the second arm 722 to enter the lower side of the tray 51 through the notch 512 described above. Then, the chemical solution container 50 is received from the tray mounting table 69 and the container mounting module 6 by raising the second arm 722 (FIG. 5). The first and second arms 721 and 722 are folded, and the chemical solution container 50 is transported in a state where the tray 51 is disposed on the main body 71 (FIG. 6). The main body 71 is formed with a groove for avoiding interference with the lower end of the side wall of the tray 51 extending downward from the left and right positions of the notch 512 (for example, the container transport mechanism 7 (Refer to a groove 711 shown in FIG. 11 according to the modification).
容器搬送機構７が上下左右に移動する薬液ブロックＤ２の内壁面に対向する領域には、互いに区画された複数の容器載置モジュール６が格子棚状に上下左右に並べて配置された容器配置部である容器棚６０が設けられている。本例では、５個の容器載置モジュール６を横方向に並べてなる棚段が、上下方向に４段積み重ねられて容器棚６０が構成されている。この容器棚６０には、後述するウエハ搬送路６５が配置される位置を除いて合計１９個の容器載置モジュール６が設けられている。図２に示すように容器棚６０は、キャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３の並び方向（前後方向）に対して直交する方向に向けて、各棚段の容器載置モジュール６が手前から見て左右に並ぶように配置されている。 In a region facing the inner wall surface of the drug solution block D2 in which the container transport mechanism 7 moves up, down, left, and right, a container placement unit in which a plurality of container placement modules 6 that are partitioned from each other are arranged side by side in a lattice shelf shape. A container shelf 60 is provided. In the present example, a shelf shelf in which five container placement modules 6 are arranged in the horizontal direction is stacked in four stages in the vertical direction to constitute a container shelf 60. The container shelf 60 is provided with a total of 19 container mounting modules 6 except for a position where a wafer transfer path 65 described later is disposed. As shown in FIG. 2, the container shelf 60 has a left and right side when the container mounting modules 6 of each shelf are viewed from the front in a direction orthogonal to the arrangement direction (front-rear direction) of the carrier blocks D1 and the processing blocks D3. It is arranged to line up.
塗布、現像装置１においては、濃度や成分の異なる複数種類のレジスト液が使い分けられる他、露光後のレジスト膜の現像を行う現像液、ウエハの表面でレジスト液を広がり易くするためのシンナー、レジスト膜の上面や下面に形成される反射防止膜や保護膜の原料液など、多種類の薬液が用いられる。容器棚６０内の容器載置モジュール６は、これら各種の薬液を貯留した薬液容器５０が１つずつ配置される配置位置となっている。また、ある薬液容器５０内の薬液が空になった場合に、他の薬液容器５０から継続して液処理モジュールへ薬液を供給できるように、同種の薬液を貯留した薬液容器５０を複数の容器載置モジュール６に配置し、これらの薬液容器５０を切り替えて薬液を供給する場合もある。 In the coating and developing apparatus 1, a plurality of types of resist solutions having different concentrations and components can be used properly, a developing solution for developing the resist film after exposure, a thinner and a resist for easily spreading the resist solution on the surface of the wafer Many kinds of chemicals such as an antireflection film formed on the upper and lower surfaces of the film and a raw material solution for the protective film are used. The container placement module 6 in the container shelf 60 has an arrangement position in which the chemical liquid containers 50 storing these various chemical liquids are arranged one by one. Further, when a chemical solution in a certain chemical solution container 50 becomes empty, the chemical solution container 50 storing the same type of chemical solution is provided in a plurality of containers so that the chemical solution can be continuously supplied from the other chemical solution container 50 to the liquid processing module. There is a case where the chemical liquid is supplied by switching the chemical liquid containers 50 by being arranged in the mounting module 6.
図７、図８に示すように、各容器載置モジュール６は、容器搬送機構７に対向する前面が開放され、互いに区画された棚内に設けられ、液処理モジュールへの薬液供給路の基端側を構成する吸引ノズル６１１と、薬液容器５０に対してこの吸引ノズル６１１の着脱を行うノズル着脱機構６１と、薬液容器５０を密封する蓋部５０１の開閉を行う蓋部開閉機構６２と、容器載置モジュール６の空間内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部６３と、を備えている。 As shown in FIG. 7 and FIG. 8, each container mounting module 6 is provided in shelves partitioned from each other with the front surface facing the container transport mechanism 7 open, and the base of the chemical solution supply path to the liquid processing module is provided. A suction nozzle 611 constituting the end side, a nozzle attaching / detaching mechanism 61 for attaching / detaching the suction nozzle 611 to / from the chemical liquid container 50, a lid opening / closing mechanism 62 for opening / closing the lid 501 for sealing the chemical liquid container 50, And an inert gas supply unit 63 for supplying an inert gas into the space of the container placement module 6.
ノズル着脱機構６１は、下方側へ向けて伸び出し、下端部が開口した樹脂製や金属製の細管からなる吸引ノズル６１１の上端部を支持し、水平方向に伸びる支持アーム６１２と、前記吸引ノズル６１１の支持位置とは反対側の支持アーム６１２の基端部を支持し、上下方向に伸縮自在に構成された昇降機構６１３と、を備えている。 The nozzle attaching / detaching mechanism 61 extends downward and supports the upper end portion of a suction nozzle 611 made of a resin or metal thin tube having an open lower end portion. The support arm 612 extends in the horizontal direction, and the suction nozzle And an elevating mechanism 613 that supports the base end portion of the support arm 612 opposite to the support position 611 and is configured to be extendable in the vertical direction.
吸引ノズル６１１は、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入したとき、開口部の形成された下端部が、薬液容器５０の底面近傍まで進入することが可能な長さを備え、薬液容器５０内に貯留されている薬液のほぼ全量を吸引することが可能なストロー管として構成されている。吸引ノズル６１１は、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入したとき、薬液容器５０の開口を上面側から押さえて当該開口を塞ぐ、例えばゴム製の保持部６１４を介して支持アーム６１２に保持されている。昇降機構６１３は、支持アーム６１２を昇降させることにより、吸引ノズル６１１の全体が薬液容器５０の開口部の上方側に抜き出された抜出位置（図７）と、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入した装着位置（図８）との間で、吸引ノズル６１１を移動させる。 The suction nozzle 611 has a length that allows the lower end portion formed with the opening to enter the vicinity of the bottom surface of the chemical solution container 50 when the suction nozzle 611 is inserted into the chemical solution container 50. It is configured as a straw tube that can suck almost the entire amount of the chemical stored in the container. When the suction nozzle 611 is inserted into the chemical liquid container 50, the suction nozzle 611 is held by the support arm 612 via, for example, a rubber holding portion 614, pressing the opening of the chemical liquid container 50 from the upper surface side to close the opening. ing. The lifting mechanism 613 moves the support arm 612 up and down, so that the entire suction nozzle 611 is pulled out above the opening of the chemical solution container 50 (FIG. 7), and the suction nozzle 611 is moved to the chemical solution container 50. The suction nozzle 611 is moved between the mounting position (FIG. 8) inserted therein.
蓋部開閉機構６２は、蓋部５０１の開閉を実行する開閉部６２１と、開閉部６２１を保持する支持アーム６２２と、支持アーム６２２を昇降させる昇降機構６２３と、を備えている。
開閉部６２１は、薬液容器５０を密封する蓋部５０１の外周面に密着して嵌合する開口を備えた部材であり、前記開口を下方側へ向けて支持アーム６２２の先端部に保持されている。開閉部６２１は、支持アーム６２２内に設けられた不図示の駆動機構により、蓋部５０１を開ける方向と、閉じる方向とに、鉛直軸周りに回転自在に構成されている。
The lid opening / closing mechanism 62 includes an opening / closing portion 621 that opens and closes the lid 501, a support arm 622 that holds the opening / closing portion 621, and a lifting mechanism 623 that raises and lowers the support arm 622.
The opening / closing part 621 is a member provided with an opening that closely fits and fits to the outer peripheral surface of the lid part 501 that seals the chemical solution container 50, and is held at the tip of the support arm 622 with the opening facing downward. Yes. The opening / closing part 621 is configured to be rotatable around a vertical axis in a direction in which the lid part 501 is opened and a direction in which it is closed by a drive mechanism (not shown) provided in the support arm 622.
本例の支持アーム６２２は、昇降機構６２３に支持された基端側のアームと、開閉部６２１を保持する先端側のアームとが鉛直方向に伸びる回転軸を介して連結されている。これにより、薬液容器５０上端部に開閉部６２１を対向させて蓋部５０１の開閉を行う開閉位置（図７）と、この開閉位置から開閉部６２１を側方に退避させ、ノズル着脱機構６１による吸引ノズル６１１の着脱動作との干渉を避ける退避位置（図８）との間で、開閉部６２１を移動させることができる。また開閉部６２１は、退避位置への移動時に、取り外した蓋部５０１を持った状態で退避位置へと移動する。 In the support arm 622 of this example, a base end side arm supported by the elevating mechanism 623 and a front end side arm holding the opening / closing portion 621 are connected via a rotating shaft extending in the vertical direction. As a result, the opening / closing part 621 is opened and closed by making the opening / closing part 621 face the upper end of the chemical solution container 50, and the opening / closing part 621 is retracted from the opening / closing position to the side. The opening / closing part 621 can be moved between a retracted position (FIG. 8) that avoids interference with the attaching / detaching operation of the suction nozzle 611. Further, the opening / closing part 621 moves to the retracted position while holding the removed cover 501 when moving to the retracted position.
また本例の蓋部開閉機構６２において、昇降機構６２３は例えば隣り合う容器載置モジュール６を区画する区画壁の壁面に設けられ、開閉位置に移動させた開閉部６２１を降下させて蓋部５０１に嵌合させる動作や、蓋部５０１の開閉時、蓋部５０１の移動にあわせて開閉部６２１を昇降させる動作を実行する。 Further, in the lid opening / closing mechanism 62 of this example, the lifting mechanism 623 is provided on the wall surface of the partition wall that partitions the adjacent container mounting modules 6, for example, and the lid 501 is moved down by moving the opening / closing part 621 moved to the opening / closing position. When the lid portion 501 is opened and closed, an operation for raising and lowering the opening and closing portion 621 in accordance with the movement of the lid portion 501 is executed.
不活性ガス供給部６３は、開閉部６２１により蓋部５０１の開閉動作が行われる領域へ開口部を向けて配置された不活性ガス供給管６３１と、この不活性ガス供給管６３１に介設され、容器載置モジュール６に供給される不活性ガス中のパーティクルを除去するフィルタ６３２と、不活性ガス供給管６３１の基端部に設けられ、窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガスの供給を実行する不活性ガス供給源６３３と、を備えている。 The inert gas supply unit 63 is interposed between the inert gas supply pipe 631 and the inert gas supply pipe 631. The inert gas supply pipe 631 is arranged with the opening directed to a region where the opening / closing operation of the lid 501 is performed by the opening / closing unit 621. The filter 632 for removing particles in the inert gas supplied to the container mounting module 6 and the base end of the inert gas supply pipe 631 are provided to supply an inert gas such as nitrogen gas or argon gas. And an inert gas supply source 633 to be executed.
不活性ガス供給管６３１は、蓋部５０１の開閉動作時に、開放された薬液容器５０内への空気の進入を抑制するため、薬液容器５０の開口部へ向けて不活性ガスを供給する。図８に示すように、吸引ノズル６１１を薬液容器５０内に挿入した際、保持部６１４によって薬液容器５０の開口を塞ぐ構成となっている場合には、薬液を払い出すことによって薬液容器５０内が真空雰囲気とならないように、薬液容器５０内に不活性ガスを供給する機構をノズル着脱機構６１に設けてもよい。また、薬液容器５０の開口を密閉せずに、当該開口から周囲の気体を取り込んで薬液容器５０内の圧力を維持する場合には、容器載置モジュール６の前面に開閉扉（シャッタ）を設けて容器載置モジュール６内を密閉可能とし、この区画内に不活性ガスを供給しながら薬液を払い出してもよい。 The inert gas supply pipe 631 supplies an inert gas toward the opening of the chemical liquid container 50 in order to suppress the entry of air into the opened chemical liquid container 50 during the opening / closing operation of the lid 501. As shown in FIG. 8, when the suction nozzle 611 is inserted into the chemical solution container 50, when the opening of the chemical solution container 50 is closed by the holding unit 614, the chemical solution is dispensed by discharging the chemical solution. A mechanism for supplying an inert gas into the chemical solution container 50 may be provided in the nozzle attaching / detaching mechanism 61 so that the atmosphere does not become a vacuum atmosphere. Further, when the surrounding gas is taken in from the opening without maintaining the opening of the chemical solution container 50 and the pressure in the chemical solution container 50 is maintained, an opening / closing door (shutter) is provided on the front surface of the container placement module 6. Thus, the inside of the container mounting module 6 can be sealed, and the chemical solution may be dispensed while supplying an inert gas into the compartment.
フィルタ６３２は、フィルタカートリッジ内にＨＥＰＡ（High Efficiency Particulate Air）フィルタなどのガスフィルタを格納した構成となっている。また不活性ガス供給源６３３は、不活性ガスが貯留されたガス貯溜部と、流量調節部とを備え、不活性ガスの給断や流量調節を実行することが可能である。例えば不活性ガス供給源６３３は、各々容器載置モジュール６へ不活性ガスを供給する複数の不活性ガス供給管６３１に対して共通に設けられる。 The filter 632 has a configuration in which a gas filter such as a HEPA (High Efficiency Particulate Air) filter is stored in a filter cartridge. In addition, the inert gas supply source 633 includes a gas storage unit in which an inert gas is stored and a flow rate control unit, and can perform the supply and disconnection of the inert gas and the flow rate control. For example, the inert gas supply source 633 is provided in common to the plurality of inert gas supply pipes 631 that supply the inert gas to the container mounting module 6.
ここで全ての容器載置モジュール６に対して不活性ガス供給部６３を設けることは必須の要件ではなく、例えば大気との接触に伴う薬液の変質が少なく、不活性ガスを供給する効果が小さい薬液を貯留した薬液容器５０が配置される容器載置モジュール６に対しては、不活性ガス供給部６３を設けなくてもよい。 Here, the provision of the inert gas supply unit 63 for all the container mounting modules 6 is not an essential requirement. For example, there is little alteration of the chemical solution due to contact with the atmosphere, and the effect of supplying the inert gas is small. The inert gas supply unit 63 may not be provided for the container mounting module 6 in which the chemical solution container 50 storing the chemical solution is disposed.
図９は、吸引ノズル６１１が装着された薬液容器５０から各液処理モジュール３３の薬液ノズル３３６までの薬液供給路３３８を示している。各容器載置モジュール６に配置された薬液容器５０は、薬液供給路３３８に介設されている薬液ポンプ６８１によって薬液容器５０から吸引され、各薬液ノズル３３６に送液される。薬液ポンプ６８１の下流には開閉バルブ６８２が配置され、この開閉バルブ６８２を駆動させることにより、各薬液ノズル３３６への薬液の給断が行われる。各薬液供給路３３８に介設された薬液ポンプ６８１や開閉バルブ６８２は、図３、図４に示すポンプ配置部６８にまとめて配置され、薬液容器５０から払い出された薬液がポンプ配置部６８に設けられた薬液ポンプ６８１によって各層Ｂ１〜Ｂ６の液処理モジュール３３へ向けて供給される。 FIG. 9 shows a chemical liquid supply path 338 from the chemical liquid container 50 to which the suction nozzle 611 is attached to the chemical liquid nozzle 336 of each liquid processing module 33. The chemical solution container 50 arranged in each container placement module 6 is sucked from the chemical solution container 50 by the chemical solution pump 681 provided in the chemical solution supply path 338 and sent to each chemical solution nozzle 336. An opening / closing valve 682 is disposed downstream of the chemical liquid pump 681, and by driving the opening / closing valve 682, supply / disconnection of the chemical liquid to each chemical liquid nozzle 336 is performed. The chemical pump 681 and the opening / closing valve 682 provided in each chemical supply path 338 are collectively arranged in the pump arrangement unit 68 shown in FIGS. 3 and 4, and the chemical solution dispensed from the chemical solution container 50 is pump arrangement unit 68. Is supplied toward the liquid processing module 33 of each of the layers B1 to B6 by the chemical pump 681 provided in
液処理モジュール３３の概要について説明しておくと、ノズルアーム３３７は、液処理モジュール３３にて実行される液処理の種類に応じて、１種類、または複数種類の薬液の供給を行うために、１本または複数本の薬液ノズル３３６を保持している。そして回転駆動部３３２によって鉛直軸周りに回転するスピンチャック３３１上に１枚ずつ保持されたウエハＷの表面に、薬液ノズル３３６から所定量の薬液を順次、供給することによりウエハＷに対して枚葉毎に液処理が行われる。回転するウエハＷから振り飛ばされた薬液は、スピンチャック３３１の周囲に配置されたカップ体３３３により受け止められて、排液口３３５を介して外部へ排出される。また、カップ体３３３内に流れ込んだ気流は排気口３３４を介して外部へ排出される。 The outline of the liquid processing module 33 will be described. The nozzle arm 337 supplies one type or a plurality of types of chemical solutions according to the type of liquid processing executed in the liquid processing module 33. One or a plurality of chemical liquid nozzles 336 are held. Then, a predetermined amount of chemical solution is sequentially supplied from the chemical solution nozzle 336 to the surface of the wafer W held one by one on the spin chuck 331 that is rotated around the vertical axis by the rotation driving unit 332, thereby supplying the wafer W to the wafer W. Liquid treatment is performed for each leaf. The chemical liquid shaken off from the rotating wafer W is received by the cup body 333 disposed around the spin chuck 331 and discharged to the outside through the liquid discharge port 335. Further, the airflow flowing into the cup body 333 is discharged to the outside through the exhaust port 334.
ここで、薬液ブロックＤ２に収容された薬液容器５０からの薬液の供給先は、上述の液処理モジュール３３に加え、例えばウエハＷの表面を疎水化する疎水化処理モジュールＡＤＨに疎水化処理ガスを供給する疎水化処理ガスの発生機構であってもよい。 Here, the supply destination of the chemical liquid from the chemical liquid container 50 accommodated in the chemical liquid block D2 is, in addition to the above-described liquid processing module 33, for example, the hydrophobization processing gas is applied to the hydrophobic processing module ADH that hydrophobizes the surface of the wafer W. A generation mechanism of the supplied hydrophobizing gas may be used.
容器載置モジュール６に載置された薬液容器５０内の薬液の量は、例えば容器載置モジュール６内に設けられた不図示の液面計や薬液供給路３３８に設けられた不図示の流量計などによって監視される。これらの例では、薬液容器５０内の薬液量が予め設定された液面高さを下回った場合や、薬液ポンプ６８１を稼働させ、開閉バルブ６８２を薬液ノズル３３６に連通させても所定の流量が検出されない場合などに、薬液容器５０の交換時期との判断がされる。 The amount of the chemical solution in the chemical solution container 50 placed on the container placement module 6 is, for example, a liquid level gauge (not shown) provided in the container placement module 6 or a flow rate (not shown) provided in the chemical solution supply path 338. It is monitored by a meter. In these examples, the predetermined flow rate is maintained even when the amount of the chemical solution in the chemical solution container 50 falls below a preset liquid level or when the chemical pump 681 is operated and the on-off valve 682 is communicated with the chemical nozzle 336. When it is not detected, it is determined that the chemical container 50 is to be replaced.
また塗布、現像装置１の天井部にはＦＦＵ（Fan Filter Unit）６７が設けられ、塗布、現像装置１の各ブロックＤ１〜Ｄ４内に清浄空気の下降流を形成することができる。そして図３に示すように、ＦＦＵ６７は薬液ブロックＤ２を構成する筐体内に清浄空気の下降流を形成し、この雰囲気内で蓋部５０１の開閉、吸引ノズル６１１の着脱を行うことにより、パーティクルなどの汚染物質の薬液への混入が抑えられる。この観点においてＦＦＵ６７は、本例の清浄気体供給部に相当する。 Further, an FFU (Fan Filter Unit) 67 is provided on the ceiling of the coating / developing apparatus 1, and a downflow of clean air can be formed in each of the blocks D <b> 1 to D <b> 4 of the coating / developing apparatus 1. As shown in FIG. 3, the FFU 67 forms a downward flow of clean air in the casing constituting the chemical liquid block D2, and opens and closes the lid portion 501 and attaches and detaches the suction nozzle 611 in this atmosphere, thereby generating particles and the like. Contamination of chemicals in the chemical is suppressed. In this respect, the FFU 67 corresponds to the clean gas supply unit of this example.
ここで既述のように、薬液ブロックＤ２は、キャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３との間に前後を挟まれるように配置されている。このためキャリアブロックＤ１にて取り出されたウエハＷや処理ブロックＤ３にて処理を終えたウエハＷは、この薬液ブロックＤ２を通り抜けて搬送先のブロックＤ３、Ｄ１へと搬送される。 Here, as described above, the chemical liquid block D2 is arranged so that the front and rear are sandwiched between the carrier block D1 and the processing block D3. For this reason, the wafer W taken out in the carrier block D1 and the wafer W that has been processed in the processing block D3 pass through the chemical solution block D2 and are transferred to the transfer destination blocks D3 and D1.
一方、各種の薬液を貯留した薬液容器５０の蓋部５０１の開閉が行われる薬液ブロックＤ２内にはこれらの薬液やその溶剤が揮発する可能性があるため、多種の薬液成分が浮遊しているおそれのある雰囲気中に、処理前や処理後のウエハＷを晒すことは好ましくない。また容器搬送機構７に加えて、ブロックＤ３、Ｄ１間でウエハＷを搬送する搬送機構が頻繁に往来することによってパーティクルが発生し、薬液ブロックＤ２内が汚染されることも好ましくない。 On the other hand, in the chemical liquid block D2 in which the lid 501 of the chemical liquid container 50 storing various chemical liquids is opened and closed, these chemical liquids and their solvents may be volatilized, and thus various chemical liquid components are floating. It is not preferable to expose the wafer W before processing or after processing in an atmosphere having a fear. In addition to the container transfer mechanism 7, it is not preferable that the transfer mechanism that transfers the wafer W between the blocks D3 and D1 frequently generates particles and contaminates the chemical block D2.
そこで図３、図４に示すように、本例の薬液ブロックＤ２には、キャリアブロックＤ１と処理ブロックＤ３とを接続するウエハＷの通路であるウエハ搬送路６５が、薬液ブロックＤ２を水平方向に貫通するように配置されている。このウエハ搬送路６５は、角管状の筒状体によって囲まれた空間に形成され、薬液ブロックＤ２内の雰囲気と、他のブロックＤ１、Ｄ３の雰囲気とが区画されている。ウエハ搬送路６５内にはシャトルアーム６６が配置され、このシャトルアーム６６によって両ブロックＤ１、Ｄ３間のウエハＷの搬送が行われる。シャトルアーム６６は、キャリアブロックＤ１の搬送アーム２３と、処理ブロックＤ３内のタワーＴ１に配置された受け渡しモジュールＴＲＳ０との間でウエハＷの搬送を行う。 Therefore, as shown in FIG. 3 and FIG. 4, in the chemical liquid block D2 of this example, a wafer transfer path 65, which is a path of the wafer W connecting the carrier block D1 and the processing block D3, extends the chemical liquid block D2 in the horizontal direction. It arrange | positions so that it may penetrate. The wafer transfer path 65 is formed in a space surrounded by a rectangular tubular body, and the atmosphere in the chemical liquid block D2 and the atmospheres of the other blocks D1 and D3 are partitioned. A shuttle arm 66 is disposed in the wafer transfer path 65, and the wafer W is transferred between the blocks D1 and D3 by the shuttle arm 66. The shuttle arm 66 transfers the wafer W between the transfer arm 23 of the carrier block D1 and the transfer module TRS0 disposed in the tower T1 in the processing block D3.
ウエハ搬送路６５は、前記受け渡しモジュールＴＲＳ０から、前方のキャリアブロックＤ１へ向けて横方向に伸び出すように設けられている。このため、当該ウエハ搬送路６５が容器棚６０を貫通している位置には、容器載置モジュール６が設けられていない（図４）。
また、移動レール７５２の伸びる方向に沿って横方向に移動する昇降レール７５１との干渉を避けるため、ウエハ搬送路６５には昇降レール７５１を通過させるための切り欠き部６５１が設けられている（図３）。切り欠き部６５１の幅は、昇降レール７５１を通過させることが可能であり、且つ、薬液ブロックＤ２内、ウエハ搬送路６５内の各々の雰囲気が混じり合うことによって、既述の薬液成分やシャトルアーム６６にて発生したパーティクルによる汚染が問題とならない程度に十分に狭くなっている。また、これらの雰囲気の混じり合いが発生しにくくなるように、切り欠き部６５１を形成するウエハ搬送路６５の切り欠き面の一方側から、他方側へ向けて清浄空気を流してエアカーテンを形成してもよい。
The wafer transfer path 65 is provided so as to extend laterally from the delivery module TRS0 toward the front carrier block D1. For this reason, the container mounting module 6 is not provided at a position where the wafer transfer path 65 penetrates the container shelf 60 (FIG. 4).
Further, in order to avoid interference with the elevating rail 751 that moves laterally along the direction in which the moving rail 752 extends, the wafer transfer path 65 is provided with a notch 651 for allowing the elevating rail 751 to pass through ( FIG. 3). The width of the notch 651 can be passed through the elevating rail 751, and the atmospheres in the chemical block D2 and the wafer transfer path 65 are mixed, so that the chemical component and shuttle arm described above are mixed. It is narrow enough to prevent contamination by particles generated at 66. Further, an air curtain is formed by flowing clean air from one side of the notch surface of the wafer transfer path 65 forming the notch 651 toward the other side so that mixing of these atmospheres is less likely to occur. May be.
以上に説明した構成を備えた塗布、現像装置１は、図２、図５、図７、図９などに示すように制御部８と接続されている。制御部８はＣＰＵと記憶部とを備えたコンピュータからなり、記憶部には塗布、現像装置１の作用、即ち各ブロックＤ１〜Ｄ４におけるウエハＷの搬送やウエハＷの処理、バーコードリーダ８１にて読み取ったバーコード５０２の情報に基づき、正しい容器載置モジュール６に向けて薬液容器５０を搬送し、使用済みの薬液容器５０と交換する動作についてのステップ（命令）群が組まれたプログラムが記録されている。このプログラムは、例えばハードディスク、コンパクトディスク、マグネットオプティカルディスク、メモリーカード等の記憶媒体に格納され、そこからコンピュータにインストールされる。 The coating / developing apparatus 1 having the above-described configuration is connected to the control unit 8 as shown in FIGS. 2, 5, 7, 9 and the like. The control unit 8 includes a computer having a CPU and a storage unit. The storage unit includes an application and an operation of the developing device 1, that is, the transfer of the wafer W and the processing of the wafer W in each of the blocks D1 to D4, and the barcode reader 81. Based on the information of the barcode 502 read in this way, there is a program in which a group of steps (commands) for transporting the chemical container 50 toward the correct container placement module 6 and replacing it with the used chemical container 50 is assembled. It is recorded. This program is stored in a storage medium such as a hard disk, a compact disk, a magnetic optical disk, or a memory card, and installed in the computer therefrom.
以下、本実施の形態に係る塗布、現像装置１の作用について説明する。なお、説明の便宜上、図示を省略したモジュールにおける処理など、一部の処理の説明を省略する場合がある。
ウエハＷは、キャリアＣからロット毎に１枚ずつ搬出され、搬送アーム２３により、ウエハ搬送路６５内のシャトルアーム６６に受け渡され、当該ウエハ搬送路６５内を搬送された後、前記受け渡しモジュールＴＲＳ０に載置される。受け渡しモジュールＴＲＳ０のウエハＷは、受け渡しアーム３２により、受け渡しモジュールＴＲＳ１、ＴＲＳ２を介してＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２に振り分けられる。
Hereinafter, the operation of the coating and developing apparatus 1 according to the present embodiment will be described. For convenience of explanation, descriptions of some processes, such as processes in modules not shown, may be omitted.
The wafers W are unloaded from the carrier C one by one for each lot, transferred by the transfer arm 23 to the shuttle arm 66 in the wafer transfer path 65, and transferred in the wafer transfer path 65, and then the transfer module. Mounted on TRS0. The wafer W of the transfer module TRS0 is distributed by the transfer arm 32 to the BCT layers B1 and B2 via the transfer modules TRS1 and TRS2.
ＢＣＴ層Ｂ１、Ｂ２内に搬入されたウエハＷは、反射防止膜形成モジュール→加熱モジュール→ＴＲＳ１（ＴＲＳ２）の順に搬送されつつ処理が行われ、続いて受け渡しアーム３２により、各々受け渡しモジュールＴＲＳ３、ＴＲＳ４を介してＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４に振り分けられる。
ＣＯＴ層Ｂ３、Ｂ４内に搬入されたウエハＷは、レジスト膜形成モジュール→加熱モジュール→保護膜形成モジュールＩＴＣ→加熱モジュール→タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳの順に搬送されつつ処理が行われる。
The wafers W carried into the BCT layers B1 and B2 are processed while being transported in the order of the antireflection film forming module → the heating module → TRS1 (TRS2), and then transferred by the transfer arm 32 to the transfer modules TRS3 and TRS4, respectively. To the COT layers B3 and B4.
The wafers W carried into the COT layers B3 and B4 are processed while being transferred in the order of resist film forming module → heating module → protective film forming module ITC → heating module → tower T2 delivery module TRS.
タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳに搬入されたウエハＷは、不図示のバッファモジュールＳＢＵに搬入された後、インターフェイスアーム４２によってタワーＴ４の裏面洗浄モジュールＢＳＴに搬入され裏面洗浄が行われる。裏面洗浄後のウエハＷは、各インターフェイスアーム４２、４１、４３によりタワーＴ２の温調モジュールＣＰＬ（不図示）を介して露光装置Ｄ５へ搬入される。 The wafer W loaded into the transfer module TRS of the tower T2 is loaded into a buffer module SBU (not shown), and then loaded into the back surface cleaning module BST of the tower T4 by the interface arm 42 to perform back surface cleaning. The wafer W after the back surface cleaning is carried into the exposure apparatus D5 by the interface arms 42, 41, 43 via the temperature control module CPL (not shown) of the tower T2.
露光後のウエハＷは、インターフェイスアーム４３、４１によりタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ→タワーＴ３の露光後洗浄モジュールＰＩＲに搬入され、洗浄が行われた後、タワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳ５、ＴＲＳ６を介してＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６に振り分けられる。
ＤＥＶ層Ｂ５、Ｂ６に搬入されたウエハＷは、加熱モジュール→現像モジュール→加熱モジュール→タワーＴ１の受け渡しモジュールＴＲＳの順に搬送されつつ処理が行われ、キャリアブロックＤ１との受け渡し用の受け渡しモジュールＴＲＳ０に移載された後、シャトルアーム６６によってウエハ搬送路６５内を搬送され、搬送アーム２３に受け渡されてキャリアＣに戻される。
The wafer W after exposure is transferred by the interface arms 43 and 41 to the transfer module TRS of the tower T2 → the post-exposure cleaning module PIR of the tower T3, cleaned, and then passed through the transfer modules TRS5 and TRS6 of the tower T2. It is distributed to the DEV layers B5 and B6.
The wafers W carried into the DEV layers B5 and B6 are processed while being conveyed in the order of the heating module → the development module → the heating module → the delivery module TRS of the tower T1, and are transferred to the delivery module TRS0 for delivery with the carrier block D1. After being transferred, the wafer is transferred through the wafer transfer path 65 by the shuttle arm 66, transferred to the transfer arm 23, and returned to the carrier C.
上述のウエハＷの搬送、処理動作と並行して、薬液ブロックＤ２では薬液容器５０の搬入出や容器載置モジュール６における薬液容器５０の交換動作が実行される。
図４に示すように容器棚６０の各容器載置モジュール６には薬液容器５０が配置され、各液処理モジュール３３と接続された薬液容器５０から、液処理の進行状況に応じて薬液が供給されている。この際、各容器載置モジュール６における薬液容器５０の薬液の液面などを監視し、使用済みの薬液容器５０があるか否かを検知する。
In parallel with the transfer and processing operations of the wafer W described above, the chemical solution block D2 performs the loading / unloading of the chemical solution container 50 and the replacement operation of the chemical solution container 50 in the container placement module 6.
As shown in FIG. 4, a chemical solution container 50 is arranged in each container placement module 6 of the container shelf 60, and a chemical solution is supplied from the chemical solution container 50 connected to each liquid processing module 33 according to the progress of the liquid processing. Has been. At this time, the liquid level of the chemical solution in the chemical solution container 50 in each container placement module 6 is monitored to detect whether there is a used chemical solution container 50 or not.
そして、使用済みの薬液容器５０が検知されたら、塗布、現像装置１の外壁面に設けられた不図示のパネルディスプレイや、工場内の装置を管理するホストコンピュータに薬液容器の交換が必要である旨の情報や、交換する薬液の種類に関する情報が出力される。この結果、オペレータによって容器搬入出口６４ａを介して新たな薬液容器５０が薬液ブロックＤ２に搬入され、または、ホストコンピュータの指示を受けたＯＨＴ１０１によって、容器搬入出路６４ｂを介して新たな薬液容器５０の搬入が行われる。 When the used chemical container 50 is detected, it is necessary to replace the chemical container with a panel display (not shown) provided on the outer wall surface of the coating / developing apparatus 1 or a host computer that manages the apparatus in the factory. Information on the effect and information on the type of chemical to be exchanged are output. As a result, the new chemical solution container 50 is carried into the chemical solution block D2 through the container loading / unloading port 64a by the operator, or the new chemical solution container 50 through the container loading / unloading path 64b is received by the OHT 101 instructed by the host computer. Carry in.
そして、新しい薬液容器５０が搬入されると、バーコードリーダ８１により薬液容器５０のバーコード５０２を読み取り、薬液容器５０内に貯留されている薬液の種類を識別し、正しい薬液容器５０が搬入されたことを確認する。そして、トレー載置台６９から容器搬送機構７に薬液容器５０を受け取って交換対象の容器載置モジュール６へ向けて搬送する。このとき容器搬送機構７は、図３、図４に示したウエハ搬送路６５との干渉を避けながら目的の容器載置モジュール６へ向けて移動する。 When the new chemical solution container 50 is carried in, the barcode reader 81 reads the barcode 502 of the chemical solution container 50, identifies the type of the chemical solution stored in the chemical solution container 50, and the correct chemical solution container 50 is carried in. Make sure. Then, the chemical container 50 is received from the tray mounting table 69 to the container transport mechanism 7 and transported toward the container mounting module 6 to be replaced. At this time, the container transport mechanism 7 moves toward the target container mounting module 6 while avoiding interference with the wafer transport path 65 shown in FIGS.
交換対象の容器載置モジュール６においては、使用済みの薬液容器５０から吸引ノズル６１１を抜き出し、蓋部開閉機構６２により当該薬液容器５０に蓋部５０１を取り付けた状態で待機している（図７）。この容器載置モジュール６に移動してきた容器搬送機構７は、薬液容器５０を保持していない第１、第２アーム７２１、７２２を容器載置モジュール６に対向させて、使用済みの薬液容器５０を容器載置モジュール６から受け取る。次いで本体部７１を回転させ、新たに搬入された薬液容器５０を保持している第１、第２アーム７２１、７２２を容器載置モジュール６に対向させ、新しい薬液容器５０を容器載置モジュール６に受け渡す。容器載置モジュール６は、蓋部開閉機構６２により蓋部５０１を取り外して退避位置まで移動させた後、吸引ノズル６１１を装着して薬液容器５０の交換を完了する。
この後、使用済みの薬液容器５０はトレー載置台６９に搬送され、オペレータやＯＨＴ１０１によって外部へと搬出される。
In the container mounting module 6 to be exchanged, the suction nozzle 611 is extracted from the used chemical solution container 50 and is on standby with the lid 501 attached to the chemical solution container 50 by the lid opening / closing mechanism 62 (FIG. 7). ). The container transport mechanism 7 that has moved to the container mounting module 6 makes the used chemical liquid container 50 with the first and second arms 721 and 722 not holding the chemical liquid container 50 facing the container mounting module 6. Is received from the container mounting module 6. Next, the main body 71 is rotated, the first and second arms 721 and 722 holding the newly loaded chemical solution container 50 are opposed to the container placement module 6, and the new chemical solution container 50 is placed in the container placement module 6. Pass to. The container mounting module 6 removes the cover 501 by the cover opening / closing mechanism 62 and moves it to the retracted position, and then attaches the suction nozzle 611 to complete the replacement of the chemical solution container 50.
Thereafter, the used chemical container 50 is transported to the tray mounting table 69 and carried out to the outside by the operator or the OHT 101.
本実施の形態に係る塗布、現像装置１によれば以下の効果がある。薬液容器の自動交換を行う容器搬送機構７を用いて、容器棚６０（容器配置部）とトレー載置台６９（搬入搬出ポート）との間で使用済みの薬液容器５０と新規な薬液容器５０との交換を行う。このため、一列に並んだキャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３の並び方向と直交する方向に向けて複数の薬液容器５０が並ぶように容器棚６０の棚段が配置され、人手による作業が困難な場合であっても薬液容器５０の交換を実行することができる。この結果、パーティクルなどの汚染物質が薬液容器５０に混入すること避けると共に、容器載置モジュール６に不活性ガスを供給して薬液の変質を低減することもできる。 The coating and developing apparatus 1 according to the present embodiment has the following effects. Using the container transport mechanism 7 that automatically replaces the chemical container, the used chemical container 50 and the new chemical container 50 between the container shelf 60 (container placement unit) and the tray mounting table 69 (loading / unloading port) Exchange. For this reason, when the shelf of the container shelf 60 is arranged so that the plurality of liquid chemical containers 50 are arranged in a direction orthogonal to the arrangement direction of the carrier blocks D1 and the processing blocks D3 arranged in a row, it is difficult to perform manual work. Even so, the chemical container 50 can be replaced. As a result, contaminants such as particles can be prevented from mixing into the chemical container 50, and the inert gas can be supplied to the container mounting module 6 to reduce the deterioration of the chemical liquid.
また、人が入り込むことが難しい、狭い領域に容器棚６０や容器搬送機構７を配置することが可能となり、薬液ブロックＤ２を設けることに伴う塗布、現像装置のフットプリントの増大も抑制できる。この場合には、各容器載置モジュール６や容器搬送機構７などのメンテナンスのため、手前側から見て左右いずれかの方向に向けて薬液ブロックＤ２を引き出すことができるように構成したり、薬液ブロックＤ２からキャリアブロックＤ１や処理ブロックＤ３を取り外すことができるように構成したりしておくとよい。 Further, the container shelf 60 and the container transport mechanism 7 can be arranged in a narrow area where it is difficult for a person to enter, and an increase in the footprint of the coating and developing apparatus accompanying the provision of the chemical solution block D2 can be suppressed. In this case, for the maintenance of each container placement module 6 and the container transport mechanism 7, the chemical liquid block D2 can be drawn out in either the left or right direction as viewed from the front side, or the chemical liquid It may be configured such that the carrier block D1 and the processing block D3 can be removed from the block D2.
ここで薬液容器５０を搬送する容器搬送機構７の構成は図２等に示した例に限定されない。例えば図１０、図１１に他の構成例を示す。これらの例において、既述の容器搬送機構７にて説明したものと共通の機能を持つ構成要素には、先に説明した図に付した符号と共通の符号を付してある（以下、後述する塗布、現像装置１ａなどにおいても同じ）。 Here, the configuration of the container transport mechanism 7 that transports the chemical solution container 50 is not limited to the example shown in FIG. For example, FIGS. 10 and 11 show other configuration examples. In these examples, the constituent elements having the same functions as those described in the container transport mechanism 7 described above are denoted by the same reference numerals as those in the above-described drawings (hereinafter described later). The same applies to the coating and developing apparatus 1a.
図１０に示す容器搬送機構７ａは、移動レール７５２の伸びる方向に沿って本体部７１が横方向に移動自在に構成されると共に、各組の第１、第２アーム７２１、７２２が、本体部７１の移動方向と交差する方向、即ち、容器棚６０（容器載置モジュール６）の配置方向（図２、図３参照）へ向けて伸縮する構成となっている。本体部７１を回転させないことにより、容器搬送機構７ａの移動に必要なスペースが小さくなり、薬液ブロックＤ２の設置スペースを小型化できる。この容器搬送機構７ａを用いる場合には、容器搬入出口６４ａの側方や容器搬入出路６４ｂの下方にトレー載置台６９を設けることに替えて、当該位置まで容器搬送機構７ａを移動させ、容器搬送機構７ａとの間で直接、薬液容器５０の搬入出を行ってもよい。 The container transport mechanism 7a shown in FIG. 10 is configured such that the main body 71 is movable in the lateral direction along the direction in which the moving rail 752 extends, and the first and second arms 721 and 722 of each set are configured as the main body. It is the structure which expands-contracts in the direction which cross | intersects the moving direction of 71, ie, the arrangement | positioning direction (refer FIG. 2, FIG. 3) of the container shelf 60 (container mounting module 6). By not rotating the main body 71, the space required for the movement of the container transport mechanism 7a is reduced, and the installation space for the chemical liquid block D2 can be reduced. When this container transport mechanism 7a is used, the container transport mechanism 7a is moved to the corresponding position instead of providing the tray mounting table 69 on the side of the container transport inlet / outlet 64a or below the container transport path 64b. You may carry in / out the chemical | medical solution container 50 directly between the mechanisms 7a.
また、図１１に示す容器搬送機構７ｂは、薬液容器５０を上下方向に並べて配置した例を示している。本例では、上下に積み重ねられた搬送棚７１ａ内に、各々第１、第２アーム７２１、７２２が配置されている。そして、これらの搬送棚７１ａ全体を回転軸７３にて回転させてトレー載置台６９や各容器載置モジュール６に対向させ、搬送棚７１ａを昇降させながら薬液容器５０の交換を行う。この例においても搬送棚７１ａの回転半径が小さくなり、薬液ブロックＤ２の設置スペースを小型化することができる。 Moreover, the container conveyance mechanism 7b shown in FIG. 11 has shown the example which has arrange | positioned the chemical | medical solution container 50 along with the up-down direction. In the present example, first and second arms 721 and 722 are arranged in a transport shelf 71a stacked vertically. Then, the entire transport shelf 71a is rotated by the rotation shaft 73 so as to face the tray mounting table 69 and each container mounting module 6, and the chemical container 50 is exchanged while moving up and down the transport shelf 71a. Also in this example, the rotation radius of the transport shelf 71a is reduced, and the installation space for the chemical liquid block D2 can be reduced.
次いで、薬液ブロックＤ２の配置位置のバリエーションについて説明する。図１２は、薬液ブロックＤ２、Ｄ２ａ〜Ｄ２ｃを配置可能な位置を斜線のハッチで塗り潰して示してある。
ウエハ搬送路６５を設けることにより、薬液ブロックＤ２内の雰囲気と区画された空間を介してウエハＷの搬送を行う場合には、図３、図４に示した例の他、処理ブロックＤ３におけるタワーＴ１や受け渡しアーム３２の配置領域と、単位ブロックＢ１〜Ｂ６が積層されている領域との間（図１２の薬液ブロックＤ２ａ）、処理ブロックＤ３とインターフェイスブロックＤ４との間（同図の薬液ブロックＤ２ｂ）、インターフェイスブロックＤ４と露光装置Ｄ５との間（同図の薬液ブロックＤ２ｃ）にも薬液ブロックＤ２ａ〜Ｄ２ｃを配置することができる。例えば図１３には、処理ブロックＤ３とインターフェイスブロックＤ４との間に薬液ブロックＤ２ａを配置した例を示してある。この場合には、インターフェイスブロックＤ４に設けられたタワーＴ２の受け渡しモジュールＴＲＳと、処理ブロックＤ２の単位ブロックＢ１〜Ｂ６との間の受け渡し位置にてウエハＷの搬送が可能なように、ウエハ搬送路６５及び搬送アーム６６が設けられる。
Subsequently, the variation of the arrangement position of the chemical | medical solution block D2 is demonstrated. FIG. 12 shows the positions where the chemical liquid blocks D2 and D2a to D2c can be arranged by filling them with hatched hatching.
When the wafer transfer path 65 is provided to transfer the wafer W through the space separated from the atmosphere in the chemical solution block D2, in addition to the examples shown in FIGS. 3 and 4, the tower in the processing block D3 is used. Between the arrangement region of T1 and the delivery arm 32 and the region where the unit blocks B1 to B6 are stacked (chemical solution block D2a in FIG. 12), between the processing block D3 and the interface block D4 (chemical solution block D2b in the same drawing). The chemical liquid blocks D2a to D2c can also be arranged between the interface block D4 and the exposure apparatus D5 (chemical liquid block D2c in the figure). For example, FIG. 13 shows an example in which a chemical solution block D2a is disposed between the processing block D3 and the interface block D4. In this case, the wafer transfer path is such that the wafer W can be transferred at the transfer position between the transfer module TRS of the tower T2 provided in the interface block D4 and the unit blocks B1 to B6 of the processing block D2. 65 and a transfer arm 66 are provided.
図１４に他の実施の形態に係る容器配置部の構成を示す。本例の薬液ブロックＤ２ｄは、左右の内壁面、天井面及び床面に沿って張設された搬送ベルト６０１にて容器載置モジュール６を保持することによって容器配置部が構成されている。そして、不図示の駆動機構により搬送ベルト６０１を駆動し、トレー載置台６９との間の受け渡し位置まで各容器載置モジュール６を移動させて、容器搬送機構７ｃによる薬液容器５０の交換が行われる。 FIG. 14 shows a configuration of a container placement unit according to another embodiment. In the chemical liquid block D2d of this example, the container placement unit is configured by holding the container mounting module 6 with the conveyance belt 601 stretched along the left and right inner wall surfaces, the ceiling surface, and the floor surface. Then, the conveyance belt 601 is driven by a drive mechanism (not shown), each container placement module 6 is moved to the delivery position with the tray placement table 69, and the chemical container 50 is exchanged by the container conveyance mechanism 7c. .
各容器載置モジュール６は、可撓性を有する樹脂製の配管部材などからなる薬液供給路３３８を束ねた集合配管６０２を介して薬液ポンプ６８１に接続される。本例ではウエハ搬送路６５と干渉せずに集合配管６０２を動かすことができる範囲が搬送ベルト６０１の駆動範囲となる。
本例の薬液ブロックＤ２ｄは、容器搬送機構７ｃが移動する空間を設ける必要がないので、薬液ブロックＤ２ｄの前後方向の幅をより狭くすることが可能となる。
Each container mounting module 6 is connected to a chemical pump 681 via a collective pipe 602 in which chemical liquid supply paths 338 made of a resin pipe member having flexibility are bundled. In this example, the range in which the collective piping 602 can be moved without interfering with the wafer transfer path 65 is the drive range of the transfer belt 601.
Since the chemical liquid block D2d of this example does not need to provide a space in which the container transport mechanism 7c moves, the width of the chemical liquid block D2d in the front-rear direction can be further reduced.
さらに、薬液ブロックＤ２（Ｄ２ａ〜Ｄ２ｄ）に設けられるウエハ搬送路６５は、筒状体の内側に形成する場合に限定されない。例えばウエハ搬送路６５の天井面及び床面を構成するプレートを上下に対向するように配置し、薬液ブロックＤ２内の空間に向けて開口している上下のプレートの側方位置にエアカーテンを形成することにより、薬液ブロックＤ２の雰囲気から区画されたウエハ搬送路６５を構成してもよい。 Furthermore, the wafer transfer path 65 provided in the chemical liquid block D2 (D2a to D2d) is not limited to the case where it is formed inside the cylindrical body. For example, the plates constituting the ceiling surface and floor surface of the wafer transfer path 65 are arranged so as to face each other up and down, and an air curtain is formed at a side position of the upper and lower plates opened toward the space in the chemical liquid block D2. By doing so, you may comprise the wafer conveyance path 65 divided from the atmosphere of the chemical | medical solution block D2.
以上に説明した各例において、薬液供給路３３８の基端側を薬液容器５０に対して着脱する機構は、図７、図８に示した吸引ノズル６１１の着脱機構６１の例に限られない。例えば、蓋部５０１に替えて薬液容器５０の開口部に押し込んで取り付けられるゴム部材などからなる蓋部に、薬液供給路３３８の基端側を接続し、この蓋部を薬液容器５０に取り付けた後、薬液容器５０の上下を転動させて薬液の払い出しを行ってもよい。この場合は、薬液供給路３３８と接続された蓋部の着脱を行う機構が前記着脱機構となる。 In each example described above, the mechanism for attaching and detaching the base end side of the chemical solution supply path 338 to the chemical solution container 50 is not limited to the example of the attaching and detaching mechanism 61 of the suction nozzle 611 shown in FIGS. For example, the base end side of the chemical liquid supply path 338 is connected to a lid made of a rubber member or the like that is attached by being pushed into the opening of the chemical liquid container 50 instead of the lid 501, and the lid is attached to the chemical liquid container 50. Thereafter, the chemical solution may be dispensed by rolling up and down the chemical solution container 50. In this case, a mechanism for attaching / detaching the lid connected to the chemical solution supply path 338 is the attaching / detaching mechanism.
また、各容器載置モジュール６に蓋部開閉機構６２を設けることに替えて例えば蓋部開閉機構６２と容器搬送機構７との間の薬液容器５０の受け渡し位置に共通の蓋部開閉機構６２を設け、ここで蓋部５０１を取った後、開栓した状態で薬液容器５０を各容器載置モジュール６に搬送してもよい。薬液容器５０から取り外された蓋部５０１は例えば共通の廃棄ボックス等に集められ、別途、廃棄される。また使用済みの薬液容器５０は蓋部５０１を取り外した状態で搬出される。この例の場合には、蓋部５０１を取り外した状態で薬液容器５０が搬送されるので、薬液の変質を防止するため、薬液ブロックＤ２の空間内全体を不活性ガスの雰囲気としていてもよい。 Further, instead of providing the lid opening / closing mechanism 62 in each container mounting module 6, for example, a common lid opening / closing mechanism 62 is provided at the delivery position of the chemical liquid container 50 between the lid opening / closing mechanism 62 and the container transport mechanism 7. The chemical container 50 may be transported to each container mounting module 6 in the opened state after removing the lid portion 501. The lid portion 501 removed from the chemical solution container 50 is collected, for example, in a common waste box or the like and separately discarded. Moreover, the used chemical | medical solution container 50 is carried out in the state which removed the cover part 501. FIG. In the case of this example, since the chemical solution container 50 is transported with the lid portion 501 removed, the entire space of the chemical solution block D2 may be an inert gas atmosphere in order to prevent the chemical solution from being altered.
ここで、容器載置モジュール６に開閉扉（シャッタ）を設ける構成は、既述のように薬液容器５０の開口を介して周囲の気体を取り込むために、容器載置モジュール６の区画内に不活性ガスを供給する場合に限定されない。不活性ガスの供給を行わない場合であっても、例えば通常時には開閉扉を閉じておき、薬液容器５０の交換時のみ開閉扉を開くことにより、容器搬送機構７が移動する空間からのパーティクルの進入を抑え、清浄な空間内で薬液の供給を行うことができる。 Here, the configuration in which the container placement module 6 is provided with an opening / closing door (shutter) is not provided in the compartment of the container placement module 6 in order to take in the surrounding gas through the opening of the chemical solution container 50 as described above. It is not limited to supplying the active gas. Even when the inert gas is not supplied, for example, the opening and closing door is closed during normal operation, and the opening and closing door is opened only when the chemical solution container 50 is replaced. It is possible to suppress entry and supply chemicals in a clean space.
さらに容器載置モジュール６は、蓋部開閉機構６２を備えることも必須ではない。例えば薬液容器５０として、開口部がゴム膜で覆われたバイアル容器を用いる場合には、蓋部開閉機構６２を用いて蓋部５０１を取り外すことに替えて、前記ゴム膜を突き刺すようにして薬液容器５０内に吸引ノズル６１１を挿入してもよい。 Furthermore, it is not essential for the container mounting module 6 to include the lid opening / closing mechanism 62. For example, when a vial container whose opening is covered with a rubber film is used as the chemical liquid container 50, the chemical liquid is pierced with the rubber film instead of removing the lid 501 using the lid opening / closing mechanism 62. A suction nozzle 611 may be inserted into the container 50.
また、容器棚６０を設ける場合、容器載置部（図４の容器棚６０や図１８の容器載置モジュール６の列）において、隣り合う容器載置モジュール６同士を区画する隔壁を設けることは必須ではなく、共通する横長の棚段の予め設定された位置（配置領域）に薬液容器５０を載置してもよい。この場合には、着脱機構６１や蓋部開閉機構６２を複数の薬液容器５０間で移動自在に構成することにより着脱機構６１や蓋部開閉機構６２を共有化してもよい。さらにこの場合は、各薬液容器５０の配置領域の近傍に、薬液供給路３３８の基端部や、蓋部５０１を載置する載置台などを設けるとよい。 Moreover, when providing the container shelf 60, in the container mounting part (the container shelf 60 of FIG. 4 and the row | line | column of the container mounting module 6 of FIG. 18), providing the partition which divides adjacent container mounting modules 6 mutually. It is not essential, and the chemical solution container 50 may be placed at a preset position (arrangement region) on a common horizontally long shelf. In this case, the attachment / detachment mechanism 61 and the lid opening / closing mechanism 62 may be shared by configuring the attachment / detachment mechanism 61 and the lid opening / closing mechanism 62 to be movable between the plurality of chemical liquid containers 50. Furthermore, in this case, a proximal end portion of the chemical solution supply path 338, a mounting table on which the lid portion 501 is mounted, and the like may be provided in the vicinity of the arrangement region of each chemical solution container 50.
この他、薬液容器５０に吸引ノズル６１１や薬液供給路３３８を装着するタイミングは、容器載置モジュール６に薬液容器５０を載置した後に限られない。容器載置モジュール６の区画内に薬液容器５０を搬送した後、容器搬送機構７によって薬液容器５０を保持したまま蓋部５０１を取り外して吸引ノズル６１１等の装着を行い、その後、容器載置モジュール６に薬液容器５０を載置してもよい。 In addition, the timing at which the suction nozzle 611 and the chemical liquid supply path 338 are attached to the chemical liquid container 50 is not limited to after the chemical liquid container 50 is mounted on the container mounting module 6. After transporting the chemical container 50 into the compartment of the container mounting module 6, the container transport mechanism 7 removes the lid 501 while holding the chemical container 50 and attaches the suction nozzle 611 and the like, and then the container mounting module The chemical solution container 50 may be placed on 6.
さらには、本発明を適用可能な基板処理装置は、ウエハＷに対してレジストの塗布、現像を行う塗布、現像装置１に限られるものではない。例えば液処理モジュールとして、ウエハＷの表面や裏面にアルカリ性や酸性の薬液を供給して洗浄処理を実行する洗浄モジュールを備え、処理ブロック内にこれらの洗浄モジュールが複数台設けられた洗浄装置にも本発明は適用することができる。 Further, the substrate processing apparatus to which the present invention can be applied is not limited to the coating and developing apparatus 1 that performs resist coating and development on the wafer W. For example, as a liquid processing module, there is also provided a cleaning module that performs a cleaning process by supplying alkaline or acidic chemicals to the front and back surfaces of the wafer W, and a cleaning apparatus in which a plurality of these cleaning modules are provided in a processing block. The present invention is applicable.
Ｗ ウエハ
Ｄ２、Ｄ２ａ〜Ｄ２ｄ
薬液ブロック
１、１ａ
塗布、現像装置
３３ 液処理モジュール
３３６ 薬液ノズル
３３８ 薬液供給路
５０ 薬液容器
５０１ 蓋部
５０２ バーコード
５１ トレー
６ 薬液配置モジュール
６０ 容器棚
６０１ 搬送ベルト
６１ ノズル着脱機構
６１１ 吸引ノズル
６２ 蓋部開閉機構
６３ 不活性ガス供給部
６４ａ 容器搬入出口
６４ｂ 容器搬入出路
６５ ウエハ搬送路
６７ ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）
６９ トレー載置台
７、７ａ〜７ｃ
容器搬送機構
８ 制御部
８１ バーコードリーダ
W Wafer D2, D2a to D2d
Chemical block 1, 1a
Coating and developing device 33 Liquid processing module 336 Chemical liquid nozzle 338 Chemical liquid supply path 50 Chemical liquid container 501 Lid 502 Barcode 51 Tray 6 Chemical liquid placement module 60 Container shelf 601 Conveying belt 61 Nozzle attaching / detaching mechanism 611 Suction nozzle 62 Lid opening / closing mechanism 63 Active gas supply unit 64a Container loading / unloading port 64b Container loading / unloading path 65 Wafer transfer path 67 Fan filter unit (FFU)
69 Tray mounting table 7, 7a-7c
Container transport mechanism 8 Control unit 81 Bar code reader
Claims (7)
前記キャリアブロックに対して横方向に並べて配置され、当該キャリアブロック内のキャリアから取り出された基板に対して薬液を供給して液処理を行う液処理モジュールを備えた処理ブロックと、
前記キャリアブロック及び処理ブロックに対して一列に並ぶように設けられ、前記液処理モジュールに供給される薬液を貯溜した複数の薬液容器を収容するための薬液ブロックと、を備え、
前記薬液ブロックは、
前記キャリアブロック及び処理ブロックの並びの方向に対して直交する方向に前記複数の薬液容器を配置した容器配置部と、
薬液容器を搬入出するための搬入搬出ポートと、
前記容器配置部と搬入搬出ポートとの間で使用済みの薬液容器と新規な薬液容器との自動交換を行うための機構と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。 A carrier block into which a carrier containing a plurality of substrates is loaded;
A processing block including a liquid processing module that is arranged side by side with respect to the carrier block and supplies a chemical to a substrate taken out of the carrier in the carrier block to perform liquid processing;
A chemical liquid block that is provided so as to be aligned with the carrier block and the processing block, and stores a plurality of chemical liquid containers that store the chemical liquid supplied to the liquid processing module, and
The chemical block is
A container disposition unit in which the plurality of chemical liquid containers are disposed in a direction orthogonal to the direction in which the carrier blocks and the processing blocks are arranged;
A loading / unloading port for loading / unloading chemical containers;
A substrate processing apparatus comprising: a mechanism for automatically exchanging a used chemical solution container and a new chemical solution container between the container placement unit and the carry-in / out port.
前記処理ブロックから見てキャリアブロックが設けられている向きの反対側には、露光装置に接続され、処理ブロックと露光装置との間の基板の搬送を行うインターフェイスブロックが設けられ、
前記薬液ブロックは、前記処理ブロックと前記インターフェイスブロックとの間に設けられていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一つに記載の基板処理装置。 The processing block includes a liquid processing module that performs chemical processing on a substrate using a chemical solution to form a coating film including a resist film on the substrate, and a liquid that performs development with a developer that is a chemical solution on the exposed substrate. A processing module,
On the opposite side of the direction in which the carrier block is provided when viewed from the processing block, an interface block is provided that is connected to the exposure apparatus and conveys the substrate between the processing block and the exposure apparatus,
The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the chemical liquid block is provided between the processing block and the interface block.
7. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein a loading / unloading port for the chemical solution container is formed in a ceiling portion surrounding the chemical solution block.
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