JP2015066470A - 洗浄方法及び洗浄装置 - Google Patents
洗浄方法及び洗浄装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015066470A JP2015066470A JP2013200249A JP2013200249A JP2015066470A JP 2015066470 A JP2015066470 A JP 2015066470A JP 2013200249 A JP2013200249 A JP 2013200249A JP 2013200249 A JP2013200249 A JP 2013200249A JP 2015066470 A JP2015066470 A JP 2015066470A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cleaning
- cleaning liquid
- washing
- ultrapure water
- ufb
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 9
- 238000005406 washing Methods 0.000 title abstract description 15
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims abstract description 127
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 48
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 5
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 34
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 34
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 16
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical group [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 150000003376 silicon Chemical class 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
【解決手段】ウルトラファインバブル(粒径が1μm未満の気泡)を含有する洗浄液A中に被洗浄物Bを浸した状態で、回転子2aの回転によって洗浄液Aを流動させる。この洗浄液の流速はウルトラファインバブルを含有しない洗浄液で洗浄した場合において洗浄効率の変化が鈍化し始める流速以上である。これにより、ウルトラファインバブルを有しない洗浄液で洗浄するよりも、効率的に被洗浄物Bを洗浄できる。
【選択図】図1
Description
なお、本発明は実施の形態に限らない。例えば、UFB超純水に含まれるUFBは窒素で構成される場合を説明したが、窒素以外でもよい。また、UFBが含まれる液体は超純水以外でもよい。また、半導体基板はシリコンウェハ以外でもよい。また、基板はウェハ状のもの以外でもよい。被洗浄物は半導体基板の他、金属物などでもよい。また、洗浄液の流速とは、上記実施の形態で説明したように流速を生じさせる攪拌部の回転速度でもよいし、洗浄液自体の流速でもよい。
Claims (3)
- ウルトラファインバブルを含有する洗浄液中に被洗浄物を浸した状態で、当該洗浄液を流動させ、
前記洗浄液の流速は、
ウルトラファインバブルを含有しない洗浄液で洗浄した場合において洗浄効率の変化が鈍化し始める流速以上である洗浄方法。 - 前記被洗浄物は、
半導体基板である請求項1に記載の洗浄方法。 - ウルトラファインバブルを含有する洗浄液中に被洗浄物を浸した状態で、当該洗浄液を流動させ、
前記洗浄液の流速は、
ウルトラファインバブルを含有しない洗浄液で洗浄した場合において洗浄効率の変化が鈍化し始める流速以上である洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013200249A JP6159210B2 (ja) | 2013-09-26 | 2013-09-26 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013200249A JP6159210B2 (ja) | 2013-09-26 | 2013-09-26 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015066470A true JP2015066470A (ja) | 2015-04-13 |
JP6159210B2 JP6159210B2 (ja) | 2017-07-05 |
Family
ID=52833790
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013200249A Expired - Fee Related JP6159210B2 (ja) | 2013-09-26 | 2013-09-26 | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6159210B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105234143A (zh) * | 2015-10-27 | 2016-01-13 | 昆山洺九机电有限公司 | 一种键盘膜清洗装置 |
CN112663071A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-16 | 博峰汽配科技(芜湖)有限公司 | 一种用于钢丝生产的自动酸洗处理加工装置 |
KR20230068052A (ko) * | 2021-11-10 | 2023-05-17 | (주)정신전자 | 초음파 세척기 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004121962A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ナノバブルの利用方法及び装置 |
JP2006310456A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パーティクル除去方法および基板処理装置 |
JP2010075827A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Mitsubishi Electric Corp | 洗浄方法および洗浄装置 |
JP2011088979A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 洗浄液、洗浄方法、洗浄液製造装置 |
-
2013
- 2013-09-26 JP JP2013200249A patent/JP6159210B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004121962A (ja) * | 2002-10-01 | 2004-04-22 | National Institute Of Advanced Industrial & Technology | ナノバブルの利用方法及び装置 |
JP2006310456A (ja) * | 2005-04-27 | 2006-11-09 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パーティクル除去方法および基板処理装置 |
JP2010075827A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Mitsubishi Electric Corp | 洗浄方法および洗浄装置 |
JP2011088979A (ja) * | 2009-10-21 | 2011-05-06 | Panasonic Electric Works Co Ltd | 洗浄液、洗浄方法、洗浄液製造装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105234143A (zh) * | 2015-10-27 | 2016-01-13 | 昆山洺九机电有限公司 | 一种键盘膜清洗装置 |
CN112663071A (zh) * | 2020-12-10 | 2021-04-16 | 博峰汽配科技(芜湖)有限公司 | 一种用于钢丝生产的自动酸洗处理加工装置 |
KR20230068052A (ko) * | 2021-11-10 | 2023-05-17 | (주)정신전자 | 초음파 세척기 |
KR102563302B1 (ko) | 2021-11-10 | 2023-08-03 | (주)정신전자 | 초음파 세척기 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6159210B2 (ja) | 2017-07-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6121959B2 (ja) | エッチング方法、物品及び半導体装置の製造方法、並びにエッチング液 | |
KR100907125B1 (ko) | 기판처리방법 및 기판처리장치 | |
JP6159210B2 (ja) | 洗浄方法及び洗浄装置 | |
US9773688B2 (en) | Ultrasonic cleaning method and ultrasonic cleaning apparatus | |
JP2018026477A (ja) | 液処理装置及び液処理方法 | |
WO2006068127A1 (ja) | エピタキシャルシリコンウェハの製造方法 | |
JP5408982B2 (ja) | 基板の帯電除去装置及び帯電除去方法 | |
KR101172591B1 (ko) | 화학 기계식 연마 시스템의 기판의 헹굼 건조 장치 | |
JP6797622B2 (ja) | 基板処理装置 | |
CN102496591A (zh) | 晶圆的清洗装置及清洗方法 | |
WO2016127423A1 (en) | Method and apparatus for integrated substrate cleaning and drying | |
JP2009246000A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
TW201023254A (en) | Cleaning method of semiconductor wafer | |
US9922835B2 (en) | Plating method, plating apparatus, and storage medium | |
JP2007273806A (ja) | 半導体基板の洗浄方法および洗浄装置 | |
WO2013159943A1 (en) | Method for cleaning photomasks using megasonic energy | |
TWI706433B (zh) | 用於清洗和乾燥積體電路基板的方法和裝置 | |
US20080169007A1 (en) | Apparatus and method for processing a hydrophobic surface of a substrate | |
CN111033696B (zh) | 硅晶圆的清洗方法 | |
TWI571506B (zh) | 抑制微細構造體的圖案崩塌用之處理液及使用該處理液的微細構造體的製造方法 | |
JP2014029931A (ja) | エッチング方法 | |
JP2010212363A (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
JP6471322B2 (ja) | 洗浄装置 | |
JP2006181555A (ja) | 多結晶シリコンの洗浄方法と洗浄装置 | |
JP2010027640A (ja) | 洗浄装置および洗浄方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160412 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170317 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170511 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170605 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170609 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6159210 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |