JP2015021862A - 3次元計測装置及び3次元計測方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターン光を計測対象物2に投光するプロジェクタ3と、プロジェクタ3より前記パターン光が投光された計測対象物2をそれぞれ異なる方向から撮像する複数の撮像手段4と、プロジェクタ3とそれぞれの撮像手段4との間の校正を行う校正手段81と、それぞれの撮像手段4により撮像された画像に基づいて、それぞれ3次元点群を計測する3次元点群計測手段83と、3次元点群計測手段により計測されたそれぞれの3次元点群を校正手段により得られた校正結果に基づいて、パターン投光手段の座標系に射影し、それぞれの信頼度を比較することによりそれぞれの3次元点群の計測結果を統合する統合手段84と、を備える3次元計測装置1。
【選択図】図1
Description
2 計測対象物
3 プロジェクタ(パターン投光手段)
4、4a〜4f 撮像手段
81 校正手段
82 間接反射成分分離手段
83 3次元点群計測手段
84 統合手段
Claims (6)
- パターン光を計測対象物に投光するパターン投光手段と、
前記パターン投光手段により前記パターン光が投光された前記計測対象物をそれぞれ異なる方向から撮像する複数の撮像手段と、
前記パターン投光手段と前記それぞれの撮像手段との間の校正を行う校正手段と、
前記それぞれの撮像手段により撮像された画像に基づいて、それぞれ3次元点群を計測する3次元点群計測手段と、
前記3次元点群計測手段により計測された前記それぞれの3次元点群を前記校正手段により得られた校正結果に基づいて、所定の座標系に射影し、それぞれの信頼度を比較することにより前記それぞれの3次元点群の計測結果を統合する統合手段と、を備えることを特徴とする3次元計測装置。 - 前記パターン光は、縞パターン光であって、
前記パターン投光手段は、前記縞パターン光の縞方向が前記パターン投光手段と前記各撮像手段のそれぞれのエピポーラ線に対して平行にならないように前記縞パターン光を前記計測対象物に投光することを特徴とする請求項1に記載の3次元計測装置。 - 前記パターン投光手段により前記計測対象物に投光されるパターン光が、前記計測対象物の表面で反射して、前記撮像手段に直接入射する直接反射成分と、前記パターン投光手段により前記計測対象物に投光されるパターン光が、前記計測対象物の表面で反射した後、前記表面と異なる部分で反射して、前記撮像手段に入射する間接反射成分とを分離する間接反射成分分離手段を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の3次元計測装置。
- パターン光を計測対象物に投光するパターン投光手段と該パターン投光手段により前記パターン光が投光された前記計測対象物をそれぞれ異なる方向から撮像する複数の撮像手段との間の校正を行う校正ステップと、
前記それぞれの撮像手段により撮像された画像に基づいて、それぞれ3次元点群を計測する3次元点群計測ステップと、
前記3次元点群計測ステップにより計測された前記それぞれの3次元点群を前記校正ステップにより得られた校正結果に基づいて、所定の座標系に射影し、それぞれの信頼度を比較することにより前記それぞれの3次元点群の計測結果を統合する統合ステップと、を有することを特徴とする3次元計測方法。 - 前記パターン光は、縞パターン光であって、
前記パターン投光手段は、前記縞パターン光の縞方向が前記パターン投光手段と前記各撮像手段のそれぞれのエピポーラ線に対して平行にならないように前記縞パターン光を前記計測対象物に投光することを特徴とする請求項4に記載の3次元計測方法。 - 前記3次元点群計測ステップを行う前に、前記パターン投光手段により前記計測対象物に投光されるパターン光が、前記計測対象物の表面で反射して、前記撮像手段に直接入射する直接反射成分と、前記パターン投光手段により前記計測対象物に投光されるパターン光が、前記計測対象物の表面で反射した後、前記表面と異なる部分で反射して、前記撮像手段に入射する間接反射成分とを分離する間接反射成分分離ステップを有することを特徴とする請求項4又は5に記載の3次元計測方法。
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