JP2015016454A - エアベントシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】塗布液を貯留するマニホールドとスリットノズルとを有する口金部を前記スリットノズルから塗布液を吐出させつつ走査させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置のエアベントシステムであって、前記口金部には、マニホールドに塗布液が供給される塗布液供給孔と、この塗布液供給孔から塗布液を供給することにより前記マニホールドに存在するエアを排出させるエアベント孔とが設けられており、前記エアベント孔から排出されるエアを含む塗布液を貯留するエアベントタンクと、前記エアベントタンクの圧力を減圧させる減圧器とを備える構成とする。
【選択図】図3
Description
そして、エアベントタンクが減圧されることにより、エアベントタンクに貯留された塗布液は、大気圧よりも低い圧力状態に曝されるため、エアベントタンクが大気圧の場合に比べて、塗布液中に含まれるエアを、排出しやすくなり(脱気しやすくなり)、塗布液に含まれるエアを短時間で除去することができる。なお、エアベントタンクをそのまま減圧し続けることにより、大気圧中では取り除くことが難しい塗布液に溶存しているエアについても除去することができる。したがって、エアベント処理を短時間で行うことができるとともに、エアベントタンク内の塗布液を再利用する場合でも、その塗布液が劣化するのを抑えることができる。
なお、この真空エジェクタ70に圧空を供給しない時に、後述する排気バルブ73bを開いておくことにより、エアベントタンク60を大気開放状態に設定することもできる。すなわち、真空エジェクタ70への圧空供給及び排気バルブ73bを適宜制御することで、エアベントタンクの圧力状態を必要に応じて減圧・加圧・大気開放状態のいずれかに、設定することができる。仮にエアベントタンクが大気開放状態に設定することにより、通常のサイフォン効果によるエアベントを実施することもできる。
21 ステージ
25 廃液トレイ
30 塗布ユニット
34 口金部
34a スリットノズル
41 マニホールド
42 塗布液供給孔
43 エアベント孔
44 エア抜き穴
53 エアベント配管
60 エアベントタンク
70 圧力調整器
70a 真空エジェクタ
Claims (4)
- 塗布液を貯留するマニホールドとスリットノズルとを有する口金部を前記スリットノズルから塗布液を吐出させつつ走査させることにより基板上に塗布膜を形成する塗布装置のエアベントシステムであって、
前記口金部には、マニホールドに塗布液が供給される塗布液供給孔と、この塗布液供給孔から塗布液を供給することにより前記マニホールドに存在するエアを排出させるエアベント孔とが設けられており、
前記エアベント孔から排出されるエアを含む塗布液を貯留するエアベントタンクと、
前記エアベントタンクの圧力を減圧させる減圧器と、
を備えることを特徴とするエアベントシステム。 - 前記口金部には、エアベント孔が複数個設けられており、各エアベント孔と前記エアベントタンクとが配管で連結されていることにより、それぞれのエアベント孔から排出されるエアを含む塗布液が共通のエアベントタンクに貯留されることを特徴とする請求項1に記載のエアベントシステム。
- 前記エアベントタンクの圧力を加圧させる加圧器を備えており、この加圧器が前記エアベントタンク内を加圧することにより、脱気後の前記エアベントタンク内の塗布液を前記口金部のマニホールドに戻すことを特徴とする請求項1又は2に記載のエアベントシステム。
- 前記減圧器と前記加圧器とは、共通の圧力調整器であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のエアベントシステム。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013146853A JP6218219B2 (ja) | 2013-07-12 | 2013-07-12 | エアベントシステム |
TW103120367A TWI615206B (zh) | 2013-07-12 | 2014-06-12 | 排氣系統 |
KR1020140079494A KR102188024B1 (ko) | 2013-07-12 | 2014-06-27 | 에어 벤트 시스템 |
CN201410299903.4A CN104275278B (zh) | 2013-07-12 | 2014-06-27 | 排气*** |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013146853A JP6218219B2 (ja) | 2013-07-12 | 2013-07-12 | エアベントシステム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015016454A true JP2015016454A (ja) | 2015-01-29 |
JP6218219B2 JP6218219B2 (ja) | 2017-10-25 |
Family
ID=52250904
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013146853A Active JP6218219B2 (ja) | 2013-07-12 | 2013-07-12 | エアベントシステム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6218219B2 (ja) |
KR (1) | KR102188024B1 (ja) |
CN (1) | CN104275278B (ja) |
TW (1) | TWI615206B (ja) |
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- 2013-07-12 JP JP2013146853A patent/JP6218219B2/ja active Active
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2014
- 2014-06-12 TW TW103120367A patent/TWI615206B/zh active
- 2014-06-27 CN CN201410299903.4A patent/CN104275278B/zh active Active
- 2014-06-27 KR KR1020140079494A patent/KR102188024B1/ko active IP Right Grant
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CN104275278A (zh) | 2015-01-14 |
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A621 | Written request for application examination |
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