JP2015011624A - マトリックス型電極基板の製造方法及びタッチパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】透明基板1の一面側に、複数の第1透明電極21と、該複数の第1透明電極21と交差する方向に延在する複数の第2透明電極22が第1透明電極21との交差部23で切断された状態にある第2透明電極前駆体20と、が形成されると共に、少なくとも第2透明電極22との交差部23となる位置の第1透明電極21上に絶縁膜3が形成されたものを用意し、絶縁膜3上を経由して第2透明電極前駆体20間を接続して第2透明電極22を形成するブリッジ配線4を、インクジェット法により導電性材料を含む塗布液を塗布し、これを乾燥することで形成する際に、第2透明電極前駆体20上と絶縁膜3上とに亘ってブリッジ配線4の膜厚及び線幅の何れか一方又は両方が略同一となるようにインクジェット法の塗布条件を制御する。
【選択図】図2
Description
前記絶縁膜上を経由して前記第2透明電極前駆体間を接続して前記第2透明電極を形成するブリッジ配線を、インクジェット法により導電性材料を含む塗布液を塗布し、これを乾燥することで形成する際に、
前記第2透明電極前駆体上と前記絶縁膜上とに亘って前記ブリッジ配線の膜厚及び線幅の何れか一方又は両方が略同一となるように前記インクジェット法の塗布条件を制御することを特徴とするマトリックス型電極基板の製造方法。
膜厚の変動(%)=([最大膜厚−最小膜厚]×100)/最大膜厚
線幅の変動(%)=([最大線幅−最小線幅]×100)/最大線幅
ガラス基板(透明基板)1の片面上にスパッタリング法にて、ITOを成膜し、このITO層上にポジ型レジストを塗布し、プリベーク、超高圧水銀灯光源を用いたマスク露光、現像を行った後、エッチング液にてITO層をエッチングし、苛性カリ水溶液にてレジストを剥離し、図1及び図2(a)に示すような複数の第1透明電極21と、複数の電極膜(第2透明電極前駆体)20とからなるパターンを形成した。
実施例1と同様にして、ガラス基板(透明基板)1の片面上に複数の第1透明電極21と、複数の電極膜(第2透明電極前駆体)20とからなるパターンを形成し、更に、絶縁膜3を形成した。
実施例1と同様にして、ガラス基板(透明基板)1の片面上に複数の第1透明電極21と、複数の電極膜(第2透明電極前駆体)20とからなるパターンを形成し、更に、絶縁膜3を形成した。
実施例1と同様にして、ガラス基板(透明基板)1の片面上に複数の第1透明電極21と、複数の電極膜(第2透明電極前駆体)20とからなるパターンを形成した。
実施例1と同様にして、ガラス基板(透明基板)1の片面上に複数の第1透明電極21と、複数の電極膜(第2透明電極前駆体)20とからなるパターンを形成した。
実施例1と同様にして、ガラス基板(透明基板)1の片面上に複数の第1透明電極21と、複数の電極膜(第2透明電極前駆体)20とからなるパターンを形成し、更に、絶縁膜3を形成した。
実施例1〜5で得られたマトリックス型電極基板は、電極膜20上と絶縁膜3上とに亘ってブリッジ配線4の膜厚及び線幅の両方が略同一であることにより、これらが略同一ではない比較例1と比較して、導電性及び透明性を安定化できることが確認された。
2:電極パターン
20:電極膜(第2透明電極前駆体)
21:第1透明電極
22:第2透明電極
23:交差部
3:絶縁膜
4:ブリッジ配線
Claims (7)
- 透明基板の一面側に、複数の第1透明電極と、該複数の第1透明電極と交差する方向に延在する複数の第2透明電極が前記第1透明電極との交差部で切断された状態にある第2透明電極前駆体と、が形成されると共に、少なくとも前記第2透明電極との交差部となる位置の前記第1透明電極上に絶縁膜が形成されたものを用意し、
前記絶縁膜上を経由して前記第2透明電極前駆体間を接続して前記第2透明電極を形成するブリッジ配線を、インクジェット法により導電性材料を含む塗布液を塗布し、これを乾燥することで形成する際に、
前記第2透明電極前駆体上と前記絶縁膜上とに亘って前記ブリッジ配線の膜厚及び線幅の何れか一方又は両方が略同一となるように前記インクジェット法の塗布条件を制御することを特徴とするマトリックス型電極基板の製造方法。 - 前記塗布条件の制御として、前記電極膜上と前記絶縁膜上とにおける塗布液の濡れ広がりに基づいて、塗布面積及び塗布液量の何れか一方又は両方を調整することを特徴とする請求項1記載のマトリックス型電極基板の製造方法。
- 前記塗布条件の制御として、前記電極膜上と前記絶縁膜上の何れか一方に塗布液を塗布し、これを乾燥させた後に他方に塗布液を塗布することを特徴とする請求項1又は2記載のマトリックス型電極基板の製造方法。
- 前記塗布条件の制御として、前記電極膜上と前記絶縁膜上とで、濡れ性の異なる塗布液を用いることを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のマトリックス型電極基板の製造方法。
- 前記導電性材料が、導電性高分子であることを特徴とする請求項1〜4の何れかに記載のマトリックス型電極基板の製造方法。
- 前記絶縁膜が、インクジェット法で形成されていることを特徴とする請求項1〜5の何れかに記載のマトリックス型電極基板の製造方法。
- 請求項1〜6の何れかに記載のマトリックス型電極基板の製造方法により形成されたマトリックス型電極基板を使用したタッチパネル。
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Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010146283A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | 静電容量式タッチパネルの製造方法 |
JP2010231287A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Seiko Epson Corp | タッチパネルとその製造方法及び表示装置製造方法並びに電子機器製造方法 |
JP2011013725A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Seiko Epson Corp | タッチパネル、タッチパネルの製造方法、電気光学装置、電子機器 |
JP2011076155A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Seiko Epson Corp | タッチパネル、タッチパネルの製造方法、電気光学装置、電子機器 |
JP2013066864A (ja) * | 2011-09-26 | 2013-04-18 | Toshiba Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010146283A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Toshiba Mobile Display Co Ltd | 静電容量式タッチパネルの製造方法 |
JP2010231287A (ja) * | 2009-03-26 | 2010-10-14 | Seiko Epson Corp | タッチパネルとその製造方法及び表示装置製造方法並びに電子機器製造方法 |
JP2011013725A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Seiko Epson Corp | タッチパネル、タッチパネルの製造方法、電気光学装置、電子機器 |
JP2011076155A (ja) * | 2009-09-29 | 2011-04-14 | Seiko Epson Corp | タッチパネル、タッチパネルの製造方法、電気光学装置、電子機器 |
JP2013066864A (ja) * | 2011-09-26 | 2013-04-18 | Toshiba Corp | 塗布装置及び塗布方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10401998B2 (en) | 2017-03-27 | 2019-09-03 | Shanghai Tianma AM-OLED Co., Ltd. | Flexible touch display panel and flexible touch display device |
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