JP2015007754A - Structured illumination device and structured illumination microscope device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the efficiency in acquisition of a plurality of modulation images necessary for the creation of super-resolution images (demodulation images).SOLUTION: One example of a structured illumination device of the present invention includes a branching part that branches a light beam emitted from a light source into a plurality of branched light beams, an illumination optical system that forms interference fringes by the plurality of branched light beams on the surface of a sample, and a switching part that switches the direction of the interference fringes formed on the surface of the sample. The switching part includes a first deflection part that deflects the entire plurality of branched light beams in a direction deviated from a predetermined axis, a reflection part that reflects the plurality of branched light beams emitted from the first deflection part, and a second deflection part that deflects the plurality of branched light beams emitted from the reflection part in a direction along the axis, where the first deflection part and the second deflection part are configured to be rotatable around a rotation shaft, and the reflection part is composed of fixed reflection surfaces arranged respectively at a plurality of positions around the axis.

Description

本発明は、構造化照明装置及び構造化照明顕微鏡装置に関する。   The present invention relates to a structured illumination apparatus and a structured illumination microscope apparatus.

生体標本などの被観察物を超解像観察するための手法に、被観察物の構造の空間周波数を照明光で変調する手法がある(特許文献1を参照)。   As a technique for super-resolution observation of an observation object such as a biological specimen, there is a technique of modulating the spatial frequency of the structure of the observation object with illumination light (see Patent Document 1).

この手法では、空間変調された照明光で被観察物を照明し、被観察物の構造に含まれる解像限界を超える高い空間周波数の情報を、顕微鏡光学系の結像に寄与させる。また、空間照明のパターンを切り替え、互いに異なる照明パターンの下で得られた複数の変調像のデータ(以下、「変調画像」と称す。)へ演算を施すことにより、復調像のデータ(以下、「復調画像」又は「超解像画像」と称す。)を取得する。   In this technique, the object to be observed is illuminated with spatially modulated illumination light, and high spatial frequency information exceeding the resolution limit included in the structure of the object to be observed is contributed to the imaging of the microscope optical system. Further, by switching the spatial illumination pattern and performing operations on a plurality of modulated image data (hereinafter referred to as “modulated images”) obtained under different illumination patterns, demodulated image data (hereinafter referred to as “modulated image data”). (Referred to as “demodulated image” or “super-resolution image”).

米国再発行特許発明第38307号明細書US Reissue Patent No. 38307 Specification

本発明は、超解像画像(復調画像)の生成に必要な複数の変調画像の取得効率を向上させることを目的とする。   An object of the present invention is to improve the acquisition efficiency of a plurality of modulated images necessary for generating a super-resolution image (demodulated image).

本発明の構造化照明装置の一例は、光源からの射出光束を複数の分岐光束に分岐する分岐部と、前記複数の分岐光束による干渉縞を標本面に形成する光学系と、前記標本面に形成される前記干渉縞の方向を切り換える切換部とを備えた構造化照明装置であって、前記切換部は、前記複数の分岐光束を所定の軸から逸れた方向へ偏向する第1偏向部と、前記第1偏向部から射出した前記複数の分岐光束を反射する反射部と、前記反射部から射出した前記複数の分岐光束を前記軸に沿った方向へ偏向する第2偏向部とを備え、前記第1偏向部及び前記第2偏向部は、前記軸周りに回動可能に構成され、前記反射部は、前記軸周りの複数位置の各々に配置された固定型反射面で構成される。   An example of the structured illuminating device of the present invention includes a branching unit that branches an emitted light beam from a light source into a plurality of branched light beams, an optical system that forms interference fringes due to the plurality of branched light beams on a sample surface, and a sample surface. A structured illumination device comprising: a switching unit that switches a direction of the formed interference fringes, wherein the switching unit includes a first deflection unit that deflects the plurality of branched light beams in a direction deviating from a predetermined axis; A reflection unit that reflects the plurality of branched light beams emitted from the first deflection unit; and a second deflection unit that deflects the plurality of branched light beams emitted from the reflection unit in a direction along the axis; The first deflecting unit and the second deflecting unit are configured to be rotatable around the axis, and the reflecting unit is configured by a fixed reflecting surface disposed at each of a plurality of positions around the axis.

本発明の構造化照明顕微鏡装置の一例は、本発明の構造化照明装置の一例と、前記干渉縞で空間変調された前記標本の画像である変調画像を撮像する撮像素子とを備える。   An example of the structured illumination microscope apparatus of the present invention includes the example of the structured illumination apparatus of the present invention and an imaging element that captures a modulated image that is an image of the sample spatially modulated by the interference fringes.

本発明によれば、超解像画像(復調画像)の生成に必要な複数の変調画像の取得効率を向上させることができる。   According to the present invention, it is possible to improve the acquisition efficiency of a plurality of modulated images necessary for generating a super-resolution image (demodulated image).

第1実施形態の構造化照明顕微鏡装置1の構成図である。It is a block diagram of the structured illumination microscope apparatus 1 of 1st Embodiment. 回折格子13を説明する図である。It is a figure explaining the diffraction grating. 第1実施形態のイメージローテータ50の動作を説明する図である。It is a figure explaining operation | movement of the image rotator 50 of 1st Embodiment. 集光点の配列方向と干渉縞の方向との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the arrangement direction of a condensing point, and the direction of an interference fringe. 0次光シャッタ200、高次光カット部材18を説明する図である。It is a figure explaining the 0th-order light shutter 200 and the high-order light cut member 18. FIG. 1/4波長板31、31’の機能を詳しく説明する図である。It is a figure explaining in detail the function of quarter wave plates 31 and 31 '. 並進機構15Aの機能を説明する図である。It is a figure explaining the function of 15 A of translation mechanisms. 第2実施形態のイメージローテータ60を示す図である。It is a figure which shows the image rotator 60 of 2nd Embodiment. 回動機構60Aを示す図である。It is a figure which shows 60 A of rotation mechanisms. 第3実施形態のイメージローテータ70を説明する図である。It is a figure explaining the image rotator 70 of 3rd Embodiment. 補助偏向ミラー80−1’、80−3’を示す図である。It is a figure which shows auxiliary | assistant deflection | deviation mirror 80-1 ', 80-3'. イメージローテータ80を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing an image rotator 80. イメージローテータ80の角度関係を説明する図である。It is a figure explaining the angle relationship of the image rotator.

[第1実施形態]
先ず、構造化照明顕微鏡装置の構成を説明する。
[First Embodiment]
First, the structure of the structured illumination microscope apparatus will be described.

図1は、構造化照明顕微鏡装置1の構成図である。以下では構造化照明顕微鏡装置1を全反射蛍光顕微鏡(TIRFM:Total Internal Reflection Fluorescence Microscopy)として使用する場合も適宜併せて説明する。TIRFMは、蛍光性を有した試料(標本)5の表面の極めて薄い層を観察するものである。   FIG. 1 is a configuration diagram of the structured illumination microscope apparatus 1. Hereinafter, a case where the structured illumination microscope apparatus 1 is used as a total internal reflection fluorescence microscope (TIRFM) will be described as appropriate. TIRFM observes an extremely thin layer on the surface of a sample (specimen) 5 having fluorescence.

先ず、構造化照明顕微鏡装置1の構成を説明する。図1に示すとおり構造化照明顕微鏡装置1には、レーザユニット100と、光ファイバ11と、照明光学系10と、結像光学系30と、第1撮像素子351と、第2撮像素子352と、制御装置39と、画像記憶・演算装置40と、画像表示装置45とが備えられる。なお、照明光学系10は落射型であり、結像光学系30の対物レンズ6及びダイクロイックミラー7を利用して標本5の照明を行う。以下、照明光学系10の光軸Oの方向にZ軸を配し、光軸Oに直交する紙面内の方向にY軸を配し、光軸Oに直交する紙面の奥行方向にX軸を配したXYZ直交座標系を想定する(図1の右下を参照。)。   First, the structure of the structured illumination microscope apparatus 1 will be described. As shown in FIG. 1, the structured illumination microscope apparatus 1 includes a laser unit 100, an optical fiber 11, an illumination optical system 10, an imaging optical system 30, a first image sensor 351, and a second image sensor 352. A control device 39, an image storage / arithmetic device 40, and an image display device 45 are provided. The illumination optical system 10 is an epi-illumination type, and the specimen 5 is illuminated using the objective lens 6 and the dichroic mirror 7 of the imaging optical system 30. Hereinafter, the Z-axis is arranged in the direction of the optical axis O of the illumination optical system 10, the Y-axis is arranged in the direction in the paper orthogonal to the optical axis O, and the X-axis is set in the depth direction of the paper orthogonal to the optical axis O. An arranged XYZ rectangular coordinate system is assumed (see the lower right in FIG. 1).

レーザユニット100には、第1レーザ光源101、第2レーザ光源102、シャッタ1031、1032、ミラー105、ダイクロイックミラー106、レンズ107が備えられる。第1レーザ光源101及び第2レーザ光源102の各々は可干渉光源であって、互いの出射波長は異なる。ここでは、第1レーザ光源101の波長λ1は、第2レーザ光源102の波長λ2よりも長いと仮定する(λ1>λ2)。これらの第1レーザ光源101、第2レーザ光源102、シャッタ1031、1032は、それぞれ制御装置39によって駆動される。   The laser unit 100 includes a first laser light source 101, a second laser light source 102, shutters 1031, 1032, a mirror 105, a dichroic mirror 106, and a lens 107. Each of the first laser light source 101 and the second laser light source 102 is a coherent light source, and the emission wavelengths thereof are different from each other. Here, it is assumed that the wavelength λ1 of the first laser light source 101 is longer than the wavelength λ2 of the second laser light source 102 (λ1> λ2). The first laser light source 101, the second laser light source 102, and the shutters 1031 and 1032 are driven by the control device 39, respectively.

光ファイバ11は、レーザユニット100から射出したレーザ光を導光するために、例えば、偏波面保存型のシングルモードファイバによって構成される。光軸Oの方向における光ファイバ11の出射端の位置は、位置調整機構11Aによって調節可能である。この位置調整機構11Aは、制御装置39によって駆動される。   The optical fiber 11 is configured by, for example, a polarization-preserving single mode fiber in order to guide the laser light emitted from the laser unit 100. The position of the exit end of the optical fiber 11 in the direction of the optical axis O can be adjusted by the position adjusting mechanism 11A. The position adjusting mechanism 11A is driven by the control device 39.

照明光学系10には、光ファイバ11の出射端側から順に、コレクタレンズ12と、回折光学素子(回折格子)13と、1/4波長板31と、イメージローテータ50と、1/4波長板31’と、集光レンズ16と、0次光シャッタ200と、高次光カット部材18と、レンズ25と、視野絞り26と、フィールドレンズ27と、励起フィルタ28と、ダイクロイックミラー7と、対物レンズ6とが配置される。   The illumination optical system 10 includes a collector lens 12, a diffractive optical element (diffraction grating) 13, a ¼ wavelength plate 31, an image rotator 50, and a ¼ wavelength plate in order from the emission end side of the optical fiber 11. 31 ′, a condensing lens 16, a zero-order light shutter 200, a high-order light cut member 18, a lens 25, a field stop 26, a field lens 27, an excitation filter 28, a dichroic mirror 7, and an objective lens 6 And are arranged.

なお、照明光学系10には、並進機構15A、回動機構50A、31A、200Aなども備えられ、これらの並進機構15A、回動機構50A、31A、200Aは、それぞれ制御装置39によって駆動される。   The illumination optical system 10 is also provided with a translation mechanism 15A, rotation mechanisms 50A, 31A, and 200A, and the translation mechanism 15A, rotation mechanisms 50A, 31A, and 200A are driven by the control device 39, respectively. .

結像光学系30には、標本5の側から順に、対物レンズ6と、ダイクロイックミラー7と、バリアフィルタ310と、第2対物レンズ32と、第2ダイクロイックミラー35と、が配置される。   In the imaging optical system 30, the objective lens 6, the dichroic mirror 7, the barrier filter 310, the second objective lens 32, and the second dichroic mirror 35 are arranged in this order from the sample 5 side.

標本5は、例えば、平行平板状のガラス表面に配置された蛍光性の細胞(蛍光色素で染色された細胞)や、シャーレ内に存在する蛍光性の生体細胞(蛍光色素で染色された動く細胞)などの細胞である。この細胞には、波長λ1の光によって励起される第1蛍光領域と、波長λ2の光によって励起される第2蛍光領域との双方が発現している。   The specimen 5 is, for example, fluorescent cells (cells stained with a fluorescent dye) arranged on a parallel flat glass surface, or fluorescent living cells (moving cells stained with a fluorescent dye) present in a petri dish. ) And so on. In this cell, both the first fluorescent region excited by light of wavelength λ1 and the second fluorescent region excited by light of wavelength λ2 are expressed.

なお、第1蛍光領域は、波長λ1の光に応じて中心波長λ1’の第1蛍光を発生させ、第2蛍光領域は、波長λ2の光に応じて中心波長λ2’の第2蛍光を発生させる。   The first fluorescent region generates the first fluorescence having the center wavelength λ1 ′ in response to the light having the wavelength λ1, and the second fluorescent region generates the second fluorescence having the center wavelength λ2 ′ in response to the light having the wavelength λ2. Let

構造化照明顕微鏡装置1がTIRFM(全反射蛍光顕微鏡)として使用される場合、対物レンズ6は、液浸型(油浸型)の対物レンズとして構成される。つまり、対物レンズ6と標本5のガラスとの間隙は、浸液(油)で満たされる。   When the structured illumination microscope apparatus 1 is used as a TIRFM (total reflection fluorescence microscope), the objective lens 6 is configured as an immersion type (oil immersion type) objective lens. That is, the gap between the objective lens 6 and the glass of the specimen 5 is filled with the immersion liquid (oil).

第1撮像素子351、第2撮像素子352の各々は、CCDやCMOS等からなる二次元の撮像素子である。第1撮像素子351、第2撮像素子352の各々は、制御装置39によって駆動されると、第1撮像素子351の撮像面361、第2撮像素子352の撮像面362の各々に形成された像を撮像し、画像を生成する。これら第1撮像素子351、第2撮像素子352の各々が生成した画像は、制御装置39を介して画像記憶・演算装置40へと取り込まれる。   Each of the first image sensor 351 and the second image sensor 352 is a two-dimensional image sensor composed of a CCD, a CMOS, or the like. When each of the first imaging element 351 and the second imaging element 352 is driven by the control device 39, an image formed on each of the imaging surface 361 of the first imaging element 351 and the imaging surface 362 of the second imaging element 352. Is captured and an image is generated. Images generated by the first image sensor 351 and the second image sensor 352 are taken into the image storage / arithmetic device 40 via the control device 39.

なお、第1撮像素子351、第2撮像素子352の各々は、所定のフレーム周期で画像生成(撮像)を繰り返すことが可能である。第1撮像素子351、第2撮像素子352の各々のフレーム周期は、例えば、30msec、60msecなどに設定される。個々の撮像素子のフレーム周期(撮像の繰り返し周期)は、通常、撮像素子の電荷蓄積時間、電荷転送時間などによって定められる。   Note that each of the first imaging element 351 and the second imaging element 352 can repeat image generation (imaging) at a predetermined frame period. The frame period of each of the first image sensor 351 and the second image sensor 352 is set to 30 msec, 60 msec, and the like, for example. The frame period (imaging repetition period) of each image sensor is usually determined by the charge accumulation time, charge transfer time, etc. of the image sensor.

制御装置39は、第1レーザ光源101、第2レーザ光源102、シャッタ1031、1032、位置調整機構11A、並進機構15A、回動機構50A、31A、200A、第1撮像素子351、第2撮像素子352を駆動制御する。   The control device 39 includes a first laser light source 101, a second laser light source 102, shutters 1031, 1032, a position adjustment mechanism 11A, a translation mechanism 15A, rotation mechanisms 50A, 31A, 200A, a first image sensor 351, and a second image sensor. 352 is driven and controlled.

画像記憶・演算装置40は、制御装置39を介して与えられた画像に対して波長毎に復調演算を施し、演算後の画像(波長毎の超解像画像)を不図示の内部メモリに格納すると共に、画像表示装置45へ送出する。   The image storage / arithmetic unit 40 performs demodulation calculation for each wavelength on the image given via the control unit 39, and stores the calculated image (super-resolution image for each wavelength) in an internal memory (not shown). At the same time, it is sent to the image display device 45.

次に、構造化照明顕微鏡装置1におけるレーザ光の振る舞いを説明する。   Next, the behavior of laser light in the structured illumination microscope apparatus 1 will be described.

第1レーザ光源101から射出した波長λ1のレーザ光(第1レーザ光)は、シャッタ1031を介してミラー105へ入射すると、ミラー105を反射し、ダイクロイックミラー106へ入射する。一方、第2レーザ光源102から射出した波長λ2のレーザ光(第2レーザ光)は、シャッタ1032を介してビームスプリッタ106へ入射し、第1レーザ光と統合される。ダイクロイックミラー106から射出した第1レーザ光及び第2レーザ光は、レンズ107を介して光ファイバ11の入射端に入射する。   When the laser beam (first laser beam) having the wavelength λ1 emitted from the first laser light source 101 enters the mirror 105 via the shutter 1031, it reflects from the mirror 105 and enters the dichroic mirror 106. On the other hand, the laser light having the wavelength λ2 (second laser light) emitted from the second laser light source 102 enters the beam splitter 106 via the shutter 1032 and is integrated with the first laser light. The first laser beam and the second laser beam emitted from the dichroic mirror 106 enter the incident end of the optical fiber 11 through the lens 107.

なお、制御装置39は、第1レーザ光源101、第2レーザ光源102、シャッタ1031、1032を制御することにより、レーザユニット100の出射波長(=光源波長)を、長い波長λ1と短い波長λ2との間で切り替えたり、光源波長を長い波長λ1と短い波長λ2との双方に設定したりすることができる。   The control device 39 controls the first laser light source 101, the second laser light source 102, and the shutters 1031, 1032 so that the emission wavelength (= light source wavelength) of the laser unit 100 is set to a long wavelength λ1 and a short wavelength λ2. The light source wavelength can be set to both the long wavelength λ1 and the short wavelength λ2.

光ファイバ11の入射端に入射したレーザ光は、光ファイバ11の内部を伝搬して光ファイバ11の出射端に点光源を生成する。その点光源から射出したレーザ光は、コレクタレンズ12によって平行光束に変換され、回折格子13へ入射すると、各次数の回折光束(以下、「回折光束群」と称す。)に分岐される。この回折光束群の各回折光束は、1/4波長板31、イメージローテータ50、1/4波長板31’を順に介して集光レンズ16に入射すると、集光レンズ16によって瞳共役面6A’の互いに異なる位置に集光される。   The laser light incident on the incident end of the optical fiber 11 propagates inside the optical fiber 11 and generates a point light source at the output end of the optical fiber 11. The laser light emitted from the point light source is converted into a parallel light beam by the collector lens 12, and when it enters the diffraction grating 13, it is branched into diffracted light beams of each order (hereinafter referred to as “diffracted light beam group”). When each diffracted light beam of this diffracted light beam group enters the condenser lens 16 through the quarter-wave plate 31, the image rotator 50, and the quarter-wave plate 31 ′ in this order, the pupil conjugate plane 6A ′ is collected by the condenser lens 16. Are condensed at different positions.

ここで、瞳共役面6A’は、集光レンズ16の焦点位置(後ろ側焦点位置)であって、後述する対物レンズ6の瞳6A(±1次回折光が集光する位置)に対してフィールドレンズ27、レンズ25を介して共役な位置のことである。但し、ここでいう「共役な位置」の概念には、当業者が対物レンズ6、フィールドレンズ27、レンズ25の収差、ビネッティング等の設計上必要な事項を考慮して決定した位置も含まれるものとする。   Here, the pupil conjugate plane 6A ′ is a focal position (rear focal position) of the condenser lens 16, and is a field with respect to a pupil 6A of the objective lens 6 described later (a position where ± first-order diffracted light is condensed). This is a conjugate position through the lens 27 and the lens 25. However, the concept of “conjugate position” here includes a position determined by a person skilled in the art in consideration of design necessary matters such as aberration and vignetting of the objective lens 6, the field lens 27, and the lens 25. Shall.

瞳共役面6A’に向かった回折光束群は、瞳共役面6A’の近傍に配置された0次光シャッタ200へ入射する。この0次光シャッタ200を通過した回折光束群は、高次光カット部材18へ入射する。   The group of diffracted light beams directed toward the pupil conjugate plane 6A ′ is incident on the 0th-order optical shutter 200 disposed in the vicinity of the pupil conjugate plane 6A ′. The diffracted light beam group that has passed through the zero-order light shutter 200 enters the high-order light cut member 18.

ここで、構造化照明顕微鏡装置1がTIRFM(全反射蛍光顕微鏡)として利用される場合、0次光シャッタ200は、入射した回折光束群のうち0次回折光束を遮光し、高次光カット部材18は、2次以降の高次回折光束を遮光する。よって、高次光カット部材18を通過できるのは、±1次回折光束のみとなる。   Here, when the structured illumination microscope apparatus 1 is used as a TIRFM (total reflection fluorescence microscope), the 0th-order light shutter 200 shields the 0th-order diffracted light beam in the incident diffracted light beam group, and the high-order light cut member 18 The second and higher order diffracted light beams are shielded. Therefore, only the ± first-order diffracted light beam can pass through the high-order light cut member 18.

高次光カット部材18を通過した±1次回折光束は、レンズ25によって視野絞り26付近で回折格子13と共役な面を形成する。その後、±1次回折光束の各々は、フィールドレンズ27により収束光に変換され、さらに励起フィルタ28を経てからダイクロイックミラー7で反射し、対物レンズ6の瞳面6A上の互いに異なる位置に集光される。   The ± first-order diffracted light beams that have passed through the high-order light cut member 18 form a conjugate plane with the diffraction grating 13 near the field stop 26 by the lens 25. Thereafter, each of the ± first-order diffracted light beams is converted into convergent light by the field lens 27, further reflected by the dichroic mirror 7 after passing through the excitation filter 28, and condensed at different positions on the pupil plane 6 </ b> A of the objective lens 6. Is done.

瞳面6A上に集光した±1次回折光束の各々は、対物レンズ6の先端から射出される際には平行光束となり、標本5の表面で互いに干渉し、干渉縞を形成する。この干渉縞が、構造化照明光として使用される。   Each of the ± first-order diffracted light beams collected on the pupil plane 6A becomes a parallel light beam when emitted from the tip of the objective lens 6 and interferes with each other on the surface of the sample 5 to form interference fringes. This interference fringe is used as structured illumination light.

また、構造化照明顕微鏡装置1がTIRFM(全反射蛍光顕微鏡)として利用される場合、標本5の表面に入射する際の入射角度は、エバネッセント場の生成条件(全反射条件)を満たす。以下、全反射条件を「TIRF条件」と称す。   When the structured illumination microscope apparatus 1 is used as a TIRFM (total reflection fluorescence microscope), the incident angle when entering the surface of the specimen 5 satisfies the evanescent field generation condition (total reflection condition). Hereinafter, the total reflection condition is referred to as “TIRF condition”.

TIRF条件を満たすためには、瞳面6Aにおける±1次回折光束の集光点は、瞳面6Aの最外周に位置する所定の輪帯状領域に位置していればよい。この場合、標本5の表面近傍には、干渉縞によるエバネッセント場が生起する。   In order to satisfy the TIRF condition, the condensing point of the ± 1st-order diffracted light beam on the pupil plane 6A only needs to be located in a predetermined annular zone located on the outermost periphery of the pupil plane 6A. In this case, an evanescent field due to interference fringes is generated near the surface of the specimen 5.

このような干渉縞により標本5を照明すると、干渉縞の周期構造と標本5上の蛍光領域の周期構造との差に相当するモアレ縞が現れるが、このモアレ縞においては、蛍光領域の高周波数の構造が元の周波数より低周波数側にシフトしているため、この構造を示す蛍光は、元の角度よりも小さい角度で対物レンズ6へ向かうことになる。よって、干渉縞により標本5を照明すると、蛍光領域の高周波数の構造情報までもが対物レンズ6によって伝達される。   When the specimen 5 is illuminated with such interference fringes, a moire fringe corresponding to the difference between the periodic structure of the interference fringes and the periodic structure of the fluorescent region on the specimen 5 appears. Since the structure is shifted to a lower frequency side than the original frequency, the fluorescence indicating this structure is directed toward the objective lens 6 at an angle smaller than the original angle. Therefore, when the specimen 5 is illuminated by the interference fringes, even the high-frequency structural information of the fluorescent region is transmitted by the objective lens 6.

標本5で発生した蛍光は、対物レンズ6に入射すると、対物レンズ6で平行光に変換された後、ダイクロイックミラー7及びバリアフィルタ310を透過し、第2ダイクロイックミラー35へ入射する。第2ダイクロイックミラー35へ入射した波長λ1’の第1蛍光は、第2ダイクロイックミラー35を反射し、第2ダイクロイックミラー35へ入射した波長λ2’の第2蛍光は、第2ダイクロイックミラー35を透過する。   When the fluorescence generated in the sample 5 is incident on the objective lens 6, it is converted into parallel light by the objective lens 6, then passes through the dichroic mirror 7 and the barrier filter 310 and enters the second dichroic mirror 35. The first fluorescence having the wavelength λ1 ′ incident on the second dichroic mirror 35 is reflected by the second dichroic mirror 35, and the second fluorescence having the wavelength λ2 ′ incident on the second dichroic mirror 35 is transmitted through the second dichroic mirror 35. To do.

第2ダイクロイックミラー35を反射した第1蛍光は、第1撮像素子351の撮像面361上に第1蛍光領域の変調像を形成し、第2ダイクロイックミラー35を透過した第2蛍光は、第2撮像素子352の撮像面362上に第2蛍光領域の変調像を形成する。   The first fluorescence reflected from the second dichroic mirror 35 forms a modulated image of the first fluorescence region on the imaging surface 361 of the first imaging element 351, and the second fluorescence transmitted through the second dichroic mirror 35 is second A modulated image of the second fluorescent region is formed on the imaging surface 362 of the imaging element 352.

撮像面361に形成された第1蛍光領域の変調像、撮像面362に形成された第2蛍光領域の変調像は、第1撮像素子351、第2撮像素子352によって個別に画像化され、第1蛍光領域の変調画像と、第2蛍光領域の変調画像とが生成される。   The modulated image of the first fluorescent region formed on the imaging surface 361 and the modulated image of the second fluorescent region formed on the imaging surface 362 are individually imaged by the first imaging device 351 and the second imaging device 352, and A modulated image of one fluorescent region and a modulated image of the second fluorescent region are generated.

第1蛍光領域の変調画像と、第2蛍光領域の変調画像とは、制御装置39を介して画像記憶・演算装置40へと取り込まれる。さらに、取り込まれた第1蛍光領域の変調画像と、第2蛍光領域の変調画像との各々には、画像記憶・演算装置40において復調演算が施され、第1蛍光領域の復調画像(超解像画像)と、第2蛍光領域の復調画像(超解像画像)とが生成される。そして、これらの超解像画像は、画像記憶・演算装置40の内部メモリ(図示せず)に記憶されるとともに、画像表示装置45へと送出される。なお、復調演算としては、例えば、米国特許8115806号明細書に開示された方法が用いられる。   The modulated image of the first fluorescent region and the modulated image of the second fluorescent region are taken into the image storage / arithmetic device 40 via the control device 39. Further, each of the captured modulated image of the first fluorescent region and the modulated image of the second fluorescent region is subjected to a demodulation operation in the image storage / arithmetic device 40, so that the demodulated image (super solution) of the first fluorescent region is obtained. Image) and a demodulated image (super-resolution image) of the second fluorescent region are generated. These super-resolution images are stored in an internal memory (not shown) of the image storage / arithmetic device 40 and are sent to the image display device 45. As the demodulation operation, for example, a method disclosed in US Pat. No. 8,115,806 is used.

次に、回折格子13を詳しく説明する。   Next, the diffraction grating 13 will be described in detail.

図2(A)は、回折格子13を光源側から見た図であり、図2(B)は、瞳共役面6A’を光源側から見た図である。なお、図2(A)は模式図であるため、図2(A)に示した回折格子13の構造周期は実際の構造周期と同じとは限らない。   2A is a diagram of the diffraction grating 13 viewed from the light source side, and FIG. 2B is a diagram of the pupil conjugate plane 6A ′ viewed from the light source side. 2A is a schematic diagram, the structure period of the diffraction grating 13 illustrated in FIG. 2A is not necessarily the same as the actual structure period.

図2(A)に示すように回折格子13は、照明光学系10の光軸Oと垂直な面内(XY平面内)において所定方向Dかけて周期構造を有した1方向回折格子である。以下、周期構造の形成方向DはY軸方向であると仮定する。 The diffraction grating 13 as shown in FIG. 2 (A), is in one direction the diffraction grating in the optical axis O and a plane perpendicular to the illumination optical system 10 (the XY plane) having a predetermined direction D 1 over the periodic structure . Hereinafter, it is assumed that the forming direction D 1 of the periodic structure is a Y-axis direction.

この回折格子13の材質は、例えばガラスである。回折格子13の周期構造は、濃度(透過率)を利用して形成された濃度型の周期構造、段差(位相差)を利用して形成された位相型の周期構造の何れであってもよいが、位相差型の周期構造の方が+1次回折光の回折効率が高いという点で好ましい。   The material of the diffraction grating 13 is, for example, glass. The periodic structure of the diffraction grating 13 may be either a concentration-type periodic structure formed using concentration (transmittance) or a phase-type periodic structure formed using steps (phase difference). However, the phase difference type periodic structure is preferable in that the diffraction efficiency of the + 1st order diffracted light is higher.

このような回折格子13に入射した平行光束は、周期構造の方向D(=Y軸方向)にかけて分岐した回折光束群に変換される。 The parallel light beam incident on the diffraction grating 13 is converted into a diffracted light beam group branched in the direction D 1 (= Y-axis direction) of the periodic structure.

この回折光束群には、0次回折光束及び±1次回折光束が含まれ、このうち互いの次数が共通である±1次回折光束は、光軸Oに関して対称な方向に進行し、0次回折光束は、光軸Oに沿って進行する。   This diffracted light beam group includes a 0th-order diffracted light beam and a ± 1st-order diffracted light beam. Among these, the ± 1st-order diffracted light beams having the same order travel in a symmetric direction with respect to the optical axis O, and the 0th order. The folded light beam travels along the optical axis O.

これらの±1次回折光束及び0次回折光束は、前述したイメージローテータ50及び集光レンズ16を通過した後、瞳共役面6A’の互いに異なる位置に集光する。   These ± 1st order diffracted light beams and 0th order diffracted light beams pass through the image rotator 50 and the condensing lens 16 described above, and then are condensed at different positions on the pupil conjugate plane 6A ′.

図2(B)に示すように、0次回折光束の集光点14aは光軸O上に位置し、±1次回折光束の集光点14b、14cは、光軸Oに関して対称である。因みに、イメージローテータ50の後述する回動角θ’がゼロであるときには、集光点14c、14a、14bの配列方向は、図2(B)に示すとおり周期構造の方向D(=Y軸方向)と同じになる。 As shown in FIG. 2B, the condensing point 14a of the 0th-order diffracted light beam is located on the optical axis O, and the condensing points 14b and 14c of the ± 1st-order diffracted light beams are symmetric with respect to the optical axis O. Incidentally, when the rotation angle θ ′ (described later) of the image rotator 50 is zero, the arrangement direction of the condensing points 14c, 14a, and 14b is the direction D 1 (= Y axis) of the periodic structure as shown in FIG. Direction).

なお、ここでいう集光点とは、最大強度の8割以上の強度を有する領域の重心位置のことである。そのため、本実施形態の照明光学系10は、完全な集光点が形成されるまで光束を集光する必要はない。
また、以上の回折格子13は、ピエゾモータなどからなる前述した並進機構15Aによって並進移動が可能である。並進機構15Aによる回折格子13の並進移動の方向は、照明光学系10の光軸Oと垂直な方向であって、周期構造の方向D(=Y軸方向)に対して非垂直な方向である。この方向に回折格子13が並進移動すると、干渉縞の位相がシフトする(詳細は後述。)。
In addition, a condensing point here is a gravity center position of the area | region which has an intensity | strength 80% or more of the maximum intensity | strength. Therefore, the illumination optical system 10 of the present embodiment does not need to collect the light beam until a complete condensing point is formed.
The diffraction grating 13 described above can be translated by the translation mechanism 15A made of a piezo motor or the like. The direction of translational movement of the diffraction grating 13 by the translation mechanism 15A is a direction perpendicular to the optical axis O of the illumination optical system 10, and is a direction non-perpendicular to the direction D 1 (= Y-axis direction) of the periodic structure. is there. When the diffraction grating 13 is translated in this direction, the phase of the interference fringes shifts (details will be described later).

次に、イメージローテータ50を詳しく説明する。   Next, the image rotator 50 will be described in detail.

図1に示したとおり、イメージローテータ50には、光源側から順に、偏向プリズム50−1と、反射プリズム50−2と、偏向プリズム50−3とが配置される。   As shown in FIG. 1, in the image rotator 50, a deflection prism 50-1, a reflection prism 50-2, and a deflection prism 50-3 are arranged in this order from the light source side.

偏向プリズム50−1、反射プリズム50−2、偏向プリズム50−3の全体は、入射光軸と射出光軸とを照明光学系10の光軸O上に配したダブプリズム(平行系用のダブプリズム)と同じ機能を有している。但し、偏向プリズム50−1、50−3は、回動機構50Aによって光軸Oの周りに回動可能であるのに対して、反射プリズム50−2は、予め固定されている。   The deflecting prism 50-1, the reflecting prism 50-2, and the deflecting prism 50-3 are entirely composed of a dove prism (a dub for a parallel system) in which an incident optical axis and an outgoing optical axis are arranged on the optical axis O of the illumination optical system 10. It has the same function as a prism. However, the deflection prisms 50-1 and 50-3 can be rotated around the optical axis O by the rotation mechanism 50A, while the reflection prism 50-2 is fixed in advance.

先ず、偏向プリズム50−1は、非平行な入射面及び射出面を有した楔プリズムである。照明光学系10の光軸Oに沿った方向から偏向プリズム50−1へ入射した回折光束群は、偏向プリズム50−1を通過することで光路を偏向させ、光軸Oから逸れた方向へと進行する。   First, the deflection prism 50-1 is a wedge prism having a non-parallel entrance surface and exit surface. The diffracted light beam group that has entered the deflecting prism 50-1 from the direction along the optical axis O of the illumination optical system 10 passes through the deflecting prism 50-1, deflects the optical path, and deviates from the optical axis O. proceed.

次に、反射プリズム50−2は、正六角形状の底面を有した六角柱プリズムであって、その中心線(底面の中心を通る母線方向の直線)を、照明光学系10の光軸O上に配置している。また、反射プリズム50−2の各側面には、金属などからなる反射膜が蒸着されている。よって、偏向プリズム50−1から射出した回折光束群は、反射プリズ50−2の一方の底面から反射プリズム50−2の内部へ入射すると、反射プリズム50−2の側面である反射面で内面反射(全反射)する。なお、その反射面に対する回折光束群の入射角度が十分に大きい場合は、反射膜の形成を省略することも可能である。そして、その反射面で反射した回折光束群は、反射プリズム50−2の他方の底面から反射プリズム50−2の外部へ射出する。   Next, the reflecting prism 50-2 is a hexagonal prism having a regular hexagonal bottom surface, and its center line (a straight line in the generatrix direction passing through the center of the bottom surface) is placed on the optical axis O of the illumination optical system 10. Is arranged. A reflective film made of metal or the like is deposited on each side surface of the reflective prism 50-2. Therefore, when the diffracted light beam group emitted from the deflecting prism 50-1 enters the inside of the reflecting prism 50-2 from one bottom surface of the reflecting prism 50-2, it is internally reflected by the reflecting surface which is the side surface of the reflecting prism 50-2. (Total reflection). If the incident angle of the diffracted light beam group with respect to the reflecting surface is sufficiently large, the formation of the reflecting film can be omitted. Then, the diffracted light beam group reflected by the reflecting surface is emitted from the other bottom surface of the reflecting prism 50-2 to the outside of the reflecting prism 50-2.

次に、偏向プリズム50−3は、非平行な入射面及び射出面を有した楔プリズムである。反射プリズム50−2から射出した回折光束群は、偏向プリズム50−3を通過することで光路を偏向させ、照明光学系10の光軸Oに沿った方向へ進行する。   Next, the deflection prism 50-3 is a wedge prism having a non-parallel entrance surface and exit surface. The group of diffracted light beams emitted from the reflecting prism 50-2 passes through the deflecting prism 50-3, deflects the optical path, and travels in the direction along the optical axis O of the illumination optical system 10.

ここで、イメージローテータ50の入射側に配置された偏向プリズム50−1と、イメージローテータ50の射出側に配置された偏向プリズム50−3とは、同型同大、同質であって、偏向プリズム50−1の姿勢及び配置先と、偏向プリズム50−3の姿勢及び配置先とは、反射プリズム50−2の長手方向(照明光学系10の光軸O方向)における中心点を通り光軸Oと垂直な平面PAに関して対称である。また、偏向プリズム50−1と偏向プリズム50−3との配置間隔(光軸Oの方向における間隔)は、偏向プリズム50−1の入射光軸と偏向プリズム50−3の射出光軸とが一致するような最適値に設定されている。   Here, the deflecting prism 50-1 disposed on the incident side of the image rotator 50 and the deflecting prism 50-3 disposed on the exit side of the image rotator 50 are of the same type and size, and are the same. -1 and the placement destination of the deflecting prism 50-3 and the placement destination of the deflecting prism 50-3 pass through the center point in the longitudinal direction of the reflecting prism 50-2 (the optical axis O direction of the illumination optical system 10). Symmetric with respect to the vertical plane PA. In addition, the arrangement interval (interval in the direction of the optical axis O) between the deflecting prism 50-1 and the deflecting prism 50-3 is the same as the incident optical axis of the deflecting prism 50-1 and the exit optical axis of the deflecting prism 50-3. Is set to an optimum value.

そして、偏向プリズム50−1、50−3は、回動機構50Aによって光軸Oの周りに回動可能である。但し、その回転の際、1対の偏向プリズム50−1、50−3の姿勢及び配置先の対称性は、維持される。   The deflecting prisms 50-1 and 50-3 can be rotated around the optical axis O by a rotating mechanism 50A. However, during the rotation, the postures of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 and the symmetry of the arrangement destination are maintained.

なお、回動機構50Aには、例えば、偏向プリズム50−1、50−3の各々を保持し、かつ光軸Oの周りに回転可能な不図示の保持部材(鏡筒など)と、その保持部材の周りに形成された不図示の第1の歯車と、第1の歯車に噛み合う不図示の第2の歯車と、第2の歯車に連結された不図示のモータ(回転モータ)とが備えられる。このモータが駆動されると第2の歯車が回転し、その回転力が第1の歯車へと伝達され、偏向プリズム50−1、50−3が光軸Oの周りに回転する。   For example, the rotation mechanism 50A holds each of the deflection prisms 50-1 and 50-3 and rotates around the optical axis O (not shown) such as a lens barrel and the holding thereof. A first gear (not shown) formed around the member, a second gear (not shown) meshing with the first gear, and a motor (rotary motor) (not shown) connected to the second gear are provided. It is done. When this motor is driven, the second gear rotates, the rotational force is transmitted to the first gear, and the deflection prisms 50-1 and 50-3 rotate around the optical axis O.

図3は、イメージローテータ50の動作を説明する図である。図3(A)〜(C)は、イメージローテータ50を構成する各光学要素の姿勢変化を示す斜視図であり、図3(A’)は、図3(A)の状態における各光学要素を光源側から見た様子であり、図3(B’)は、図3(B)の状態における各光学要素を光源側から見た様子であり、図3(C’)は、図3(C)の状態における各光学要素を光源側から見た様子である。   FIG. 3 is a diagram for explaining the operation of the image rotator 50. FIGS. 3A to 3C are perspective views showing changes in posture of the optical elements constituting the image rotator 50, and FIG. 3A ′ shows the optical elements in the state of FIG. FIG. 3 (B ′) shows the state in which each optical element in the state of FIG. 3 (B) is seen from the light source side, and FIG. 3 (C ′) shows FIG. The optical elements in the state of) are viewed from the light source side.

なお、図3(A)〜(C)では、偏向プリズム50−1から反射プリズム50−2からまでの間隔と、反射プリズム50−2から偏向プリズム50−3までの間隔とを、図1におけるそれよりも強調して描いた。また、図3中に示したXYZ座標軸は、図1に示したXYZ座標軸に対応しており、図3中に示した白抜き矢印は、回折光束群の分岐方向(例えば−1次回折光束を基準とした+1次回折光束の分岐方向)を示している。また、図3において1対の偏向プリズム50−1、50−3の各々から突出した短くて太い矢印は、1対の偏向プリズム50−1、50−3の各々の頂部の向き、すなわち1対の偏向プリズム50−1、50−3の各々が厚さ分布を有している方向(楔方向)を、XY平面上のベクトルで表したものである。   3A to 3C, the distance from the deflecting prism 50-1 to the reflecting prism 50-2 and the distance from the reflecting prism 50-2 to the deflecting prism 50-3 are shown in FIG. I drew more emphasis than that. Also, the XYZ coordinate axes shown in FIG. 3 correspond to the XYZ coordinate axes shown in FIG. 1, and the white arrow shown in FIG. 3 indicates the branch direction of the diffracted light beam group (for example, the −1st order diffracted light beam). The + 1st order diffracted light beam branching direction) is shown. Further, in FIG. 3, a short and thick arrow protruding from each of the pair of deflection prisms 50-1 and 50-3 indicates the direction of the top of each of the pair of deflection prisms 50-1 and 50-3, ie, one pair. A direction (wedge direction) in which each of the deflection prisms 50-1 and 50-3 has a thickness distribution is represented by a vector on the XY plane.

以下、1対の偏向プリズム50−1、50−3の楔方向がY軸に対して成す角度を、1対の偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’とし、光源側から見た左周りの角度を「正」にとる(その他の角度も同様。)。   Hereinafter, the angle formed by the wedge direction of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 with respect to the Y axis is defined as the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3, and from the light source side. Take the angle around the left view as "positive" (the same applies to other angles).

さて、本実施形態において、1対の偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’は、図3(A)〜(C)に示すとおり60°の角度周期で3通り(0°、60°、120°)に切り換わる。   In the present embodiment, the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 is three (0 °) with an angular period of 60 ° as shown in FIGS. , 60 °, 120 °).

先ず、図3(A’)に示すとおりθ’=0°のとき、Y軸方向に分岐した回折光束群は、イメージローテータ50へ入射すると、偏向プリズム50−1によって偏向された後に反射プリズム50−2へ入射し、反射プリズム50−2の反射面50−2aで反射され、反射プリズム50−2から射出すると、偏向プリズム50−3によって偏向された後にイメージローテータ50から射出する。このときにイメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向は、イメージローテータ50へ入射した回折光束群の分岐方向(=Y軸方向)に対して180°だけ回転している。よって、θ’=0°のとき、イメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向は、イメージローテータ50へ入射した回折光束群の分岐方向(=Y軸方向)と実質的に同じになる。   First, as shown in FIG. 3A ′, when θ ′ = 0 °, the diffracted light beam group branched in the Y-axis direction enters the image rotator 50 and is then deflected by the deflecting prism 50-1 and then reflected by the reflecting prism 50. -2, is reflected by the reflecting surface 50-2a of the reflecting prism 50-2, and exits from the reflecting prism 50-2, then exits from the image rotator 50 after being deflected by the deflecting prism 50-3. At this time, the branch direction of the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 is rotated by 180 ° with respect to the branch direction (= Y-axis direction) of the diffracted light beam group incident on the image rotator 50. Therefore, when θ ′ = 0 °, the branch direction of the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 is substantially the same as the branch direction (= Y-axis direction) of the diffracted light beam group incident on the image rotator 50.

次に、図3(B’)に示すとおり、θ’=+60°のとき、Y軸方向に分岐した回折光束群は、イメージローテータ50へ入射すると、偏向プリズム50−1によって偏向された後に反射プリズム50−2へ入射し、反射プリズム50−2の反射面50−2bで反射され、反射プリズム50−2から射出すると、偏向プリズム50−3によって偏向された後にイメージローテータ50から射出する。このときにイメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向は、θ’=0°のとき(図3(A’)参照)にイメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向に対して、120°だけ回転している。   Next, as shown in FIG. 3B ′, when θ ′ = + 60 °, the diffracted beam group branched in the Y-axis direction is incident on the image rotator 50 and reflected after being deflected by the deflecting prism 50-1. When entering the prism 50-2, reflected by the reflecting surface 50-2b of the reflecting prism 50-2, and exiting from the reflecting prism 50-2, it is deflected by the deflecting prism 50-3 and then exits from the image rotator 50. At this time, the branching direction of the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 is set to the branching direction of the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 when θ ′ = 0 ° (see FIG. 3A ′). It is rotated by 120 °.

次に、図3(C’)に示すとおり、θ’=+120°のとき、Y軸方向に分岐した回折光束群は、イメージローテータ50へ入射すると、偏向プリズム50−1によって偏向された後に反射プリズム50−2へ入射し、反射プリズム50−2の反射面50−2cで反射され、反射プリズム50−2から射出すると、偏向プリズム50−3によって偏向された後にイメージローテータ50から射出する。このときにイメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向は、θ’=0°のとき(図3(A’)参照)にイメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向に対して、240°だけ回転している。   Next, as shown in FIG. 3C ′, when θ ′ = + 120 °, the diffracted beam group branched in the Y-axis direction is incident on the image rotator 50 and reflected after being deflected by the deflecting prism 50-1. When entering the prism 50-2, reflected by the reflecting surface 50-2c of the reflecting prism 50-2, and exiting from the reflecting prism 50-2, it is deflected by the deflecting prism 50-3 and then exits from the image rotator 50. At this time, the branching direction of the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 is set to the branching direction of the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 when θ ′ = 0 ° (see FIG. 3A ′). Rotated by 240 °.

したがって、本実施形態では、1対の偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’が60°の角度周期で3通り(0°、60°、120°)に切り換わると、イメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向が、光軸Oの周りに120°の角度周期で3通りに切り換わる。   Therefore, in the present embodiment, when the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 is switched to three (0 °, 60 °, 120 °) with an angular period of 60 °, the image The branching direction of the diffracted light beam group emitted from the rotator 50 is switched in three ways around the optical axis O with an angular period of 120 °.

つまり、イメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向の回動角θと、1対の偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’との関係は、ダブプリズムを使用した従来のイメージローテータと同様、θ=2θ’である(但し、ここではθ’=0°におけるθの値をゼロとした。)。   That is, the relationship between the rotation angle θ in the branching direction of the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 and the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 is the same as that in the past using a dove prism. As in the image rotator, θ = 2θ ′ (however, here, the value of θ at θ ′ = 0 ° is set to zero).

また、本実施形態のイメージローテータ50では、1対の偏向プリズム50−1、50−3が回動するのに対して、反射プリズム50−2は固定されたままである。   In the image rotator 50 of the present embodiment, the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 rotate, while the reflecting prism 50-2 remains fixed.

しかし、本実施形態のイメージローテータ50における反射プリズム50−2は、光軸Oの周りの60°ずつ異なる各位置に反射面(固定された反射面50−2a、50−2b、50−2c)を有しているので、偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’が0°、60°、120°の何れであったとしても、偏向プリズム50−1と偏向プリズム50−3との間で回折光束群を中継することができる。   However, the reflecting prism 50-2 in the image rotator 50 of the present embodiment has reflecting surfaces (fixed reflecting surfaces 50-2a, 50-2b, 50-2c) at different positions around the optical axis O by 60 °. Therefore, even if the rotation angle θ ′ of the deflection prisms 50-1 and 50-3 is any of 0 °, 60 °, and 120 °, the deflection prism 50-1 and the deflection prism 50-3 The diffracted light beam group can be relayed between the two.

なお、反射プリズム50−2の側面(固定された反射面50−2a、50−2b、50−2c)のサイズは、回折光束群の全体(少なくとも±1次回折光束及び0次回折光束の全体)を反射できるような大きさに設定されている。   The size of the side surfaces (fixed reflecting surfaces 50-2a, 50-2b, 50-2c) of the reflecting prism 50-2 is the same as the entire diffracted light beam group (at least ± 1st order diffracted light beam and 0th order diffracted light beam). ) To reflect.

次に、1対の偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’と、瞳共役面6A’に形成される集光点の配列方向と、標本5に形成される干渉縞の方向との関係を説明する。   Next, the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3, the arrangement direction of the condensing points formed on the pupil conjugate plane 6A ′, and the direction of the interference fringes formed on the sample 5 Will be described.

図4は、集光点の配列方向と干渉縞の方向との関係を示す図である。   FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the arrangement direction of the condensing points and the direction of the interference fringes.

先ず、偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’が0°であるとき(図3(A)参照)における集光点14b、14a、14cの配列方向を、第1方向Vとおく(図4(A1)参照)。このとき、標本5に形成される干渉縞の方向は、第1方向Vに対応した方向となる(図4(A2)参照)。 First, when the rotation angle θ ′ of the deflecting prisms 50-1 and 50-3 is 0 ° (see FIG. 3A), the arrangement direction of the condensing points 14b, 14a, and 14c is the first direction V 1. (See FIG. 4A1). At this time, the direction of the interference fringes formed on the specimen 5 is a direction corresponding to the first direction V 1 (see FIG. 4 (A2)).

次に、1対の偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’が+60°だけ変化すると(図3(B))、集光点14b、14a、14cの配列方向は、第1方向Vから+120°だけ回転した第2方向Vとなる(図4(B1)参照)。このとき、標本5に形成される干渉縞の方向は、第2方向Vに対応した方向となる(図4(B2)参照)。 Next, when the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 changes by + 60 ° (FIG. 3B), the arrangement direction of the condensing points 14b, 14a, and 14c is the first. The second direction V 2 is rotated by + 120 ° from the direction V 1 (see FIG. 4 (B 1)). At this time, the direction of the interference fringes formed on the specimen 5 is a direction corresponding to the second direction V 2 (see FIG. 4 (B2)).

次に、1対の偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’が更に+60°だけ変化すると(図3(C)参照)、集光点14b、14a、14cの配列方向は、第2方向Vから+120°だけ回転した第3方向Vとなる(図4(C1)参照)。このとき、標本5に形成される干渉縞の方向は、第3方向Vに対応した方向となる(図4(C2)参照)。 Next, when the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 further changes by + 60 ° (see FIG. 3C), the arrangement direction of the condensing points 14b, 14a, and 14c is the third direction V 3 that is rotated by + 120 ° from the second direction V 2 (see FIG. 4 (C1)). At this time, the direction of the interference fringes formed on the specimen 5 is a direction corresponding to the third direction V 3 (see FIG. 4 (C2)).

つまり、本実施形態のイメージローテータ50は、反射プリズム50−2を固定したまま1対の偏向プリズム50−1、50−3を+60°の角度周期で回動させるだけで、干渉縞の方向を+120°の角度周期で切り換えることができる。   That is, the image rotator 50 of the present embodiment can change the direction of the interference fringes only by rotating the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 with an angular period of + 60 ° while the reflecting prism 50-2 is fixed. It can be switched at an angular period of + 120 °.

したがって、本実施形態のイメージローテータ50は、ダブプリズムを使用した従来のイメージローテータと同様に干渉縞の方向を切り換えることができると共に、その切り換えに必要な可動部分の重量を、従来のイメージローテータよりも低く抑えることができる。   Therefore, the image rotator 50 of the present embodiment can switch the direction of the interference fringes in the same way as the conventional image rotator using the Dove prism, and the weight of the movable part necessary for the switching is larger than that of the conventional image rotator. Can be kept low.

このため、本実施形態の構造化照明顕微鏡装置1は、干渉縞の方向切り換えを高速化することができる。   For this reason, the structured illumination microscope apparatus 1 of the present embodiment can speed up the switching of the direction of the interference fringes.

次に、0次光シャッタ200を詳しく説明する。   Next, the 0th-order light shutter 200 will be described in detail.

図5(A)は、0次光シャッタ200を説明する図である。図5(A)に示すとおり0次光シャッタ200は、円形の透明基板の一部に円形の遮光部200Cを形成してなる空間フィルタである。   FIG. 5A is a diagram illustrating the 0th-order optical shutter 200. As shown in FIG. 5A, the 0th-order optical shutter 200 is a spatial filter formed by forming a circular light shielding part 200C on a part of a circular transparent substrate.

0次光シャッタ200の遮光部200Cは、0次回折光束の光路(集光点14a)をカバーし、0次光シャッッタ200の非遮光部(透過部200B)は、±1次回折光束の光路となりうる領域(集光点14b、14cの掃引軌道)をカバーする。   The light-shielding part 200C of the 0th-order optical shutter 200 covers the optical path (condensing point 14a) of the 0th-order diffracted light beam, and the non-light-shielding part (transmission part 200B) of the 0th-order light shutter 200 is the optical path of ± first-order diffracted light flux. It covers a possible region (sweep trajectory of the condensing points 14b and 14c).

この0次光シャッタ200は、前述した回動機構200Aにより、照明光学系10の光軸Oと平行、かつその光軸Oから離れた直線(軸AR)の周りに回動可能である。   The zero-order light shutter 200 can be rotated around a straight line (axis AR) parallel to the optical axis O of the illumination optical system 10 and away from the optical axis O by the rotation mechanism 200A.

なお、 回動機構200Aには、例えば、0次光シャッタ200を保持し、かつ軸ARの周りに回転可能な不図示の回動軸と、その回動軸へ回転力を与える不図示のモータ(回転モータ)とが備えられる。このモータが駆動されると、回転軸が回転し、0次光シャッタ200が軸ARの周りに回転する。   The rotation mechanism 200A includes, for example, a rotation shaft (not shown) that holds the zero-order light shutter 200 and can rotate around the axis AR, and a motor (not shown) that applies a rotation force to the rotation shaft. (Rotary motor). When this motor is driven, the rotation shaft rotates, and the zero-order light shutter 200 rotates about the axis AR.

0次光シャッタ200の回動角が図5(A)に示した基準角度(0°)に設定されると、遮光部200Cが0次回折光束の光路(集光点14a)に挿入され、0次光シャッタ200の回動位置が基準角度から外れた所定角度(例えば30°)に設定されると、遮光部200Cが0次回折光束の光路から外れる。   When the rotation angle of the 0th-order light shutter 200 is set to the reference angle (0 °) shown in FIG. 5A, the light shielding portion 200C is inserted into the optical path (condensing point 14a) of the 0th-order diffracted light beam, When the rotational position of the 0th-order light shutter 200 is set to a predetermined angle (for example, 30 °) that deviates from the reference angle, the light shielding unit 200C is out of the optical path of the 0th-order diffracted light beam.

したがって、0次光シャッタ200の回動角を0°と30°との間で切り換えれば、±1次回折光束をオンしたまま0次回折光束のみをオン/オフすることができる。   Therefore, if the rotation angle of the 0th-order light shutter 200 is switched between 0 ° and 30 °, only the 0th-order diffracted light beam can be turned on / off while the ± 1st-order diffracted light beam remains on.

但し、0次光シャッタ200の回動角が基準角度(0°)、所定角度(30°)の何れである場合にも、0次光シャッタ200の遮光部200Cは、±1次回折光束の光路となりうる領域(集光点14b、14cの掃引軌道)を遮ることは無いものとする。   However, even when the rotation angle of the 0th-order light shutter 200 is either the reference angle (0 °) or the predetermined angle (30 °), the light-shielding portion 200C of the 0th-order light shutter 200 has a ± 1st-order diffracted light beam. It is assumed that an area that can be an optical path (sweep trajectory of the condensing points 14b and 14c) is not blocked.

なお、ここでは0次光シャッタ200を回動可能な空間フィルタとしたが、スライド可能な空間フィルタや、固定配置された液晶素子などで0次光シャッタ200を構成してもよい。液晶素子の配向を電気的に制御すれば、液晶素子の屈折率異方性を制御することができるので、液晶素子を0次光シャッタ200として機能させることができる。   Here, although the 0th-order light shutter 200 is a rotatable spatial filter, the 0th-order light shutter 200 may be configured by a slidable spatial filter or a liquid crystal element fixedly arranged. If the orientation of the liquid crystal element is electrically controlled, the refractive index anisotropy of the liquid crystal element can be controlled, so that the liquid crystal element can function as the zero-order light shutter 200.

次に、高次光カット部材18を詳しく説明する。   Next, the high-order light cut member 18 will be described in detail.

図5(B)は、高次光カット部材18を説明する図である。図5(B)に示すとおり高次光カット部材18は、円形の不透明基板(マスク用基板)に、円形の開口部18aと輪帯状の開口部18bとを形成してなる空間フィルタである。   FIG. 5B is a diagram illustrating the high-order light cut member 18. As shown in FIG. 5B, the high-order light cut member 18 is a spatial filter formed by forming a circular opening 18a and a ring-shaped opening 18b on a circular opaque substrate (mask substrate).

高次光カット部材18において円形の開口部18aは、0次回折光束の集光点14aをカバーしており、輪帯状の開口部18bは、±1次回折光束の光路となりうる領域(集光点14b、14cの掃引軌道)をカバーしている。また、高次光カット部材18において2次以降の高次回折光束の光路となりうる領域は、遮光部(非開口部)となっている。   In the high-order light cut member 18, the circular opening 18a covers the condensing point 14a of the 0th-order diffracted light beam, and the annular opening 18b is a region (condensing point 14b) that can be an optical path of the ± 1st-order diffracted light beam. , 14c sweep trajectory). In the high-order light cut member 18, a region that can be an optical path of a second-order or higher-order diffracted light beam is a light shielding portion (non-opening portion).

なお、輪帯状の開口部18bの径方向の長さは、光源波長の切り換え、又は、光源の多波長化に対処できるよう、十分な大きさを有している。なぜなら、回折格子13における回折角度は光源波長に依存するので、照明光学系10の光軸Oから集光点14b、14cまでの高さも光源波長に依存する。   The length in the radial direction of the ring-shaped opening 18b is large enough to cope with switching of the light source wavelength or increasing the number of wavelengths of the light source. Because the diffraction angle in the diffraction grating 13 depends on the light source wavelength, the height from the optical axis O of the illumination optical system 10 to the condensing points 14b and 14c also depends on the light source wavelength.

因みに、光源波長をλとおき、回折格子13の構造周期をPとおき、レンズ16の焦点距離をfcとおくと、光軸Oから集光点14b、14cまでの高さDは、D=fc×λ/Pで表される。   Incidentally, if the light source wavelength is λ, the structural period of the diffraction grating 13 is P, and the focal length of the lens 16 is fc, the height D from the optical axis O to the condensing points 14b and 14c is D = It is represented by fc × λ / P.

次に、1/4波長板31、31’の機能を詳しく説明する。   Next, the function of the quarter wavelength plates 31, 31 'will be described in detail.

前述した1/4波長板31、31’は、標本5へ入射する回折光束の偏光状態をS偏光に制御するために使用される。標本5へ入射する回折光束をS偏光に制御すれば、干渉縞のコントラストを高く維持できるからである。   The quarter-wave plates 31 and 31 'described above are used to control the polarization state of the diffracted light beam incident on the sample 5 to S-polarized light. This is because the contrast of the interference fringes can be kept high by controlling the diffracted light beam incident on the specimen 5 to be S-polarized light.

先ず、図6(A)に示すとおり集光点の配列方向が第1方向Vであるときには、回折光束群の偏光方向は、図6(A)に点線矢印で示した方向V’とされるべきである。この方向V’は、方向Vを光軸Oの周りに90°だけ回転させた方向である。 First, when the arrangement direction of as focal point shown in FIG. 6 (A) is a first direction V 1 was, the polarization direction of the diffracted light flux group, a direction V 1 'indicated by the dotted line arrow in FIG. 6 (A) It should be. This direction V 1 ′ is a direction obtained by rotating the direction V 1 around the optical axis O by 90 °.

次に、図6(B)に示すとおり集光点の配列方向が第2方向Vであるときには、回折光束群の偏光方向は、図6(B)に点線矢印で示した方向V’とされるべきである。この方向V’は、方向Vを光軸Oの周りに90°だけ回転させた方向である。 Next, as shown in FIG. 6B, when the arrangement direction of the condensing points is the second direction V 2 , the polarization direction of the diffracted light beam group is the direction V 2 ′ indicated by the dotted arrow in FIG. Should be. This direction V 2 ′ is a direction obtained by rotating the direction V 2 around the optical axis O by 90 °.

次に、図6(C)に示すとおり集光点の配列方向が第3方向Vであるときには、回折光束群の偏光方向は、図6(C)に点線矢印で示した方向V’とされるべきである。この方向V’は、方向Vを光軸Oの周りに90°だけ回転させた方向である。 Next, as shown in FIG. 6C, when the arrangement direction of the condensing points is the third direction V 3 , the polarization direction of the diffracted light beam group is the direction V 3 ′ indicated by the dotted arrow in FIG. Should be. This direction V 3 ′ is a direction obtained by rotating the direction V 3 around the optical axis O by 90 °.

そこで本実施形態では、イメージローテータ50の上流側に配置された1/4波長板31の進相軸を予め決められた方向に固定し、イメージローテータ50の下流側に配置された1/4波長板31’を回動機構31A(図1参照)によって光軸Oの周りに回動させる。   Therefore, in the present embodiment, the fast axis of the quarter wavelength plate 31 disposed on the upstream side of the image rotator 50 is fixed in a predetermined direction, and the quarter wavelength disposed on the downstream side of the image rotator 50. The plate 31 ′ is rotated around the optical axis O by a rotation mechanism 31A (see FIG. 1).

なお、回動機構31Aには、例えば、1/4波長板31’を保持し、かつ光軸Oの周りに回転可能な不図示の保持部材(金物)と、その保持部材の周りに形成された不図示の第1の歯車と、第1の歯車に噛み合う不図示の第2の歯車と、第2の歯車に連結された不図示のモータ(回転モータ)とが備えられる。このモータが駆動されると第2の歯車が回転し、その回転力が第1の歯車へと伝達され、1/4波長板31’が光軸Oの周りに回転する。   The rotation mechanism 31A is formed, for example, around a holding member (not shown) that holds the quarter-wave plate 31 ′ and can rotate around the optical axis O, and the holding member. A first gear (not shown), a second gear (not shown) that meshes with the first gear, and a motor (rotary motor) (not shown) connected to the second gear are provided. When this motor is driven, the second gear rotates, the rotational force is transmitted to the first gear, and the quarter-wave plate 31 ′ rotates around the optical axis O.

また、1/4波長板31の進相軸の方向は、入射した回折光束群の偏光方向に対して45°の角度を成すように設定される。この場合、1/4波長板31から射出する回折光束群の偏光状態は、円偏光となる。   The direction of the fast axis of the quarter wavelength plate 31 is set to form an angle of 45 ° with respect to the polarization direction of the incident diffracted light beam group. In this case, the polarization state of the diffracted light beam group emitted from the quarter wavelength plate 31 is circularly polarized light.

一方、1/4波長板31’の進相軸の方向は、1対の偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’に応じた方向に設定される。   On the other hand, the direction of the fast axis of the quarter wavelength plate 31 'is set to a direction corresponding to the rotation angle θ' of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3.

具体的に、回動角θ’が0°であるとき、1/4波長板31’の進相軸の方向は、図6(A)に示した方向V’に対して45°の角度を成すように設定される。以下、この状態における1/4波長板31’の回動角θ”を、θ”=0°とおく。この場合、1/4波長板31’から射出する回折光束群の偏光状態は、方向V’にかけて偏光した直線偏光となる。 Specifically, when the rotation angle θ ′ is 0 °, the direction of the fast axis of the quarter-wave plate 31 ′ is an angle of 45 ° with respect to the direction V 1 ′ shown in FIG. It is set to form. Hereinafter, the rotation angle θ ″ of the quarter-wave plate 31 ′ in this state is set to θ ″ = 0 °. In this case, the polarization state of the diffracted light beam group emitted from the quarter-wave plate 31 ′ is linearly polarized light that is polarized in the direction V 1 ′.

次に、回動角θ’が60°であるとき、1/4波長板31’の進相軸の方向は、図6(B)に示した方向V’に対して45°の角度を成すように設定される。この状態における1/4波長板31’の回動角θ”は、θ”=−60°である。この場合、1/4波長板31’から射出する回折光束群の偏光状態は、方向V’にかけて偏光した直線偏光となる。 Next, when the rotation angle θ ′ is 60 °, the direction of the fast axis of the quarter-wave plate 31 ′ is 45 ° with respect to the direction V 2 ′ shown in FIG. 6B. To be configured. The rotation angle θ ″ of the quarter-wave plate 31 ′ in this state is θ ″ = − 60 °. In this case, the polarization state of the diffracted light beam exiting from the quarter-wave plate 31 ′ becomes linearly polarized light polarized in the direction V 2 ′.

次に、回動角θ’が120°であるとき、1/4波長板31’の進相軸の方向は、図6(C)に示した方向V’に対して45°の角度を成す方向に設定される。この状態における1/4波長板31’の回動角θ”は、θ”=−120°である。この場合、1/4波長板31’から射出する回折光束群の偏光状態は、方向V’にかけて偏光した直線偏光となる。 Next, when the rotation angle θ ′ is 120 °, the direction of the fast axis of the quarter-wave plate 31 ′ is 45 ° with respect to the direction V 3 ′ shown in FIG. 6C. It is set in the direction to be formed. The rotation angle θ ″ of the quarter-wave plate 31 ′ in this state is θ ″ = − 120 °. In this case, the polarization state of the diffracted light beam exiting from the quarter-wave plate 31 ′ is linearly polarized light polarized in the direction V 3 ′.

したがって、本実施形態では、回動機構50Aが偏向プリズム50−1、50−3の回動角θ’を60°の角度周期で切り換える際に、回動機構31Aは、1/4波長板31’の回動角θ”を−60°の角度周期で切り換えればよい。   Therefore, in the present embodiment, when the rotation mechanism 50A switches the rotation angle θ ′ of the deflecting prisms 50-1 and 50-3 at an angular period of 60 °, the rotation mechanism 31A includes the quarter wavelength plate 31. The 'rotation angle θ' may be switched at an angular period of -60 °.

なお、本実施形態では、標本5へ入射する回折光束をS偏光とするために、固定配置された1/4波長板と回動可能な1/4波長板との組み合わせを使用したが、固定配置された直線偏光板と回動可能な1/2波長板との組み合わせを使用してもよい。   In this embodiment, in order to make the diffracted light beam incident on the specimen 5 S-polarized light, a combination of a fixed quarter wave plate and a rotatable quarter wave plate is used. You may use the combination of the arrange | positioned linear polarizing plate and the rotatable 1/2 wavelength plate.

また、その場合、回動可能な1/2波長板の代わりに、固定配置された液晶素子を使用し、その液晶素子を1/2波長板17として機能させてもよい。液晶素子の配向を電気的に制御すれば、液晶素子の屈折率異方性を高速に制御することができるので、1/2波長板としての進相軸を高速に回転させることができる。   In that case, instead of the rotatable half-wave plate, a liquid crystal element fixedly arranged may be used, and the liquid crystal element may function as the half-wave plate 17. If the orientation of the liquid crystal element is electrically controlled, the refractive index anisotropy of the liquid crystal element can be controlled at high speed, so that the fast axis as a half-wave plate can be rotated at high speed.

次に、並進機構15A(図1参照)の機能を詳しく説明する。   Next, the function of the translation mechanism 15A (see FIG. 1) will be described in detail.

図7は、並進機構15Aの機能を説明する図である。   FIG. 7 is a diagram illustrating the function of the translation mechanism 15A.

上述した復調演算には、例えば、同一の標本5かつ同一方向の干渉縞に関する変調画像であって、干渉縞の位相の異なる2枚以上の変調画像が使用される。なぜなら、構造化照明顕微鏡装置1が生成する変調画像には、標本5の蛍光領域の構造のうち、干渉縞により空間周波数の変調された構造情報である0次変調成分、+1次変調成分、−1次変調成分が含まれており、それら3つの未知パラメータを復調演算で既知とする必要があるからである。   In the demodulation operation described above, for example, two or more modulated images that are related to interference fringes in the same sample 5 and in the same direction and having different phases of the interference fringes are used. This is because the modulated image generated by the structured illumination microscope apparatus 1 includes a 0th-order modulation component, a + 1st-order modulation component, − This is because a primary modulation component is included, and these three unknown parameters need to be made known by demodulation calculation.

そこで、並進機構15Aは、干渉縞の位相をシフトするために、図7に示すように、照明光学系10の光軸Oと垂直な方向であって、周期構造の形成方向Dに対して非垂直な方向(x方向)にかけて回折格子13をシフトさせる。 Therefore, the translation mechanism 15A, in order to shift the phase of the interference fringe, as shown in FIG. 7, an optical axis O perpendicular direction of the illumination optical system 10 for forming direction D 1 of the periodic structure The diffraction grating 13 is shifted in a non-vertical direction (x direction).

回折格子13の構造周期をPとおき、回折格子13のシフト方向(x方向)と方向Dとのなす角をθとおき、干渉縞の位相シフト量をφとおくと、回折格子13のx方向のシフト量Lは、L=φ×P/(4π×|cosθ|)で表される。 When the structural period of the diffraction grating 13 is P, the angle between the shift direction (x direction) of the diffraction grating 13 and the direction D 1 is θ 1 , and the phase shift amount of the interference fringes is φ, the diffraction grating 13 The shift amount L in the x direction is expressed by L = φ × P / (4π × | cos θ 1 |).

因みに、干渉縞の位相シフト量φを2πとするために必要な回折格子13のx方向のシフト量Lは、P/(2×|cosθ|)となる。これは、回折格子13の半周期に相当する量である。つまり、回折格子13を半周期分シフトさせるだけで、干渉縞の位相を1周期分シフトできる(なぜなら、±1次回折光からなる干渉縞の縞周期は、回折格子13の構造周期の2倍に相当する。)。 Incidentally, the shift amount L in the x direction of the diffraction grating 13 necessary for setting the phase shift amount φ of the interference fringes to 2π is P / (2 × | cos θ 1 |). This is an amount corresponding to a half period of the diffraction grating 13. In other words, the phase of the interference fringes can be shifted by one period simply by shifting the diffraction grating 13 by half a period (because the fringe period of the interference fringes made of ± 1st order diffracted light is twice the structural period of the diffraction grating 13. Equivalent to.).

次に、制御装置39の動作手順を説明する。   Next, the operation procedure of the control device 39 will be described.

制御装置39は、以下の手順(1)〜(5)を実行することにより、超解像画像の生成に必要なデータを取得する。   The control device 39 acquires data necessary for generating a super-resolution image by executing the following procedures (1) to (5).

(1)制御装置39は、レーザユニット100の出射波長(光源波長)を、2種類の波長λ1、λ2の双方に設定する。また、回動機構200Aを駆動することにより、0次回折光束をオフする。   (1) The control device 39 sets the emission wavelength (light source wavelength) of the laser unit 100 to both of the two wavelengths λ1 and λ2. Further, the 0th-order diffracted light beam is turned off by driving the rotation mechanism 200A.

(2)制御装置39は、回動機構50A、31Aを駆動することにより、1対の偏向プリズム50−1、50−2の回動角θ’を0°に設定すると共に、1/4波長板31’の回動角θ”を0°に設定する。   (2) The control device 39 sets the rotation angle θ ′ of the pair of deflection prisms 50-1 and 50-2 to 0 ° by driving the rotation mechanisms 50A and 31A, and sets the quarter wavelength. The rotation angle θ ″ of the plate 31 ′ is set to 0 °.

(3)制御装置39は、並進機構15Aを駆動することにより、干渉縞の位相を複数段階にシフトさせると共に、それら位相の各々の下で、レーザユニット100、第1撮像素子351、第2撮像素子352を駆動することにより、複数枚の画像を波長毎に取得する。   (3) The control device 39 drives the translation mechanism 15A to shift the phase of the interference fringes in a plurality of stages, and under each of these phases, the laser unit 100, the first image sensor 351, and the second image sensor. By driving the element 352, a plurality of images are acquired for each wavelength.

(4)制御装置39は、回動機構50A、31Aを駆動することにより、偏向プリズム50−1、50−2の回動角θ’を+60°だけ変化させると共に、1/4波長板31’の回動角θ”を−60°だけ変化させ、手順(3)を実行する。   (4) The control device 39 drives the rotation mechanisms 50A and 31A to change the rotation angle θ ′ of the deflection prisms 50-1 and 50-2 by + 60 °, and at the same time, the quarter wavelength plate 31 ′. Is changed by −60 ° and step (3) is executed.

(5)制御装置39は、回動機構50A、31Aを駆動することにより、偏向プリズム50−1、50−2の回動角θ’を+60°だけ変化させると共に、1/4波長板31’の回動角θ”を−60°だけ変化させ、手順(3)を実行する(以上、手順(5))。   (5) The control device 39 drives the rotation mechanisms 50A and 31A to change the rotation angle θ ′ of the deflection prisms 50-1 and 50-2 by + 60 °, and at the same time, the quarter wavelength plate 31 ′. Is changed by −60 ° and step (3) is executed (step (5)).

上述したとおり本実施形態では、干渉縞の方向切り換えに関する手順(4)、(5)を高速化できる。したがって、本実施形態では、超解像に必要なデータの取得速度を高めることができる。   As described above, in this embodiment, it is possible to speed up the procedures (4) and (5) regarding the direction switching of the interference fringes. Therefore, in this embodiment, the acquisition speed of data necessary for super-resolution can be increased.

なお、本実施形態の制御装置39は、手順(1)〜(5)からなる一連の処理を繰り返し、本実施形態の画像記憶・演算装置40は、その一連の処理が完了する度に超解像画像の生成(更新)を行ってもよい。   Note that the control device 39 of the present embodiment repeats a series of processes consisting of the procedures (1) to (5), and the image storage / arithmetic apparatus 40 of the present embodiment supervises every time the series of processes is completed. An image image may be generated (updated).

但し、一連の処理を繰り返す場合、2回目以降の処理では、制御装置39は上述した手順(1)、(2)の代わりに以下の手順(1’)を実行すればよい。   However, when a series of processing is repeated, in the second and subsequent processing, the control device 39 may execute the following procedure (1 ') instead of the above-described procedures (1) and (2).

(1’)制御装置39は、回動機構50A、31Aを駆動することにより、1対の偏向プリズム50−1、50−2の回動角θ’を+60°だけ変化させると共に、1/4波長板31’の回動角θ”を−60°だけ変化させる。   (1 ′) The control device 39 drives the rotation mechanisms 50A and 31A to change the rotation angle θ ′ of the pair of deflection prisms 50-1 and 50-2 by + 60 °, and 1/4. The rotation angle θ ″ of the wave plate 31 ′ is changed by −60 °.

[第2実施形態]
以下、本発明の第2実施形態として第1実施形態の変形例を説明する。ここでは、第1実施形態との相違点のみを説明する。相違点は、屈折型のイメージローテータ50の代わりに反射型のイメージローテータ60が使用された点にある。
[Second Embodiment]
Hereinafter, modifications of the first embodiment will be described as a second embodiment of the present invention. Here, only differences from the first embodiment will be described. The difference is that a reflective image rotator 60 is used instead of the refractive image rotator 50.

図8は、本実施形態のイメージローテータ60及びその周辺を示す図である。なお、図8では、イメージローテータ60の光学要素以外の部分の図示を省略し、0次回折光束以外の回折光束の図示を省略した。   FIG. 8 is a diagram showing the image rotator 60 and its surroundings according to the present embodiment. In FIG. 8, illustration of the image rotator 60 other than the optical elements is omitted, and illustration of diffracted light beams other than the 0th-order diffracted light beam is omitted.

図8に示すとおり本実施形態のイメージローテータ60は、第1実施形態のイメージローテータ50において、1対の偏向プリズムの代わりに1対の偏向ミラー60−1、60−3を配置し、反射プリズムの代わりに中空反射ミラー60−2を配置したものである。   As shown in FIG. 8, the image rotator 60 of the present embodiment includes a pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 instead of the pair of deflection prisms in the image rotator 50 of the first embodiment. A hollow reflecting mirror 60-2 is arranged instead of the above.

偏向ミラー60−1は、照明光学系10の光軸Oに対して傾斜配置された平面反射ミラーである。照明光学系10の光軸Oに沿った方向から偏向ミラー60−1へ入射した回折光束群は、偏向ミラー60−1を反射することで光路を偏向させ、光軸Oから逸れた方向へと進行する。   The deflection mirror 60-1 is a plane reflection mirror that is disposed to be inclined with respect to the optical axis O of the illumination optical system 10. The diffracted light beam group incident on the deflecting mirror 60-1 from the direction along the optical axis O of the illumination optical system 10 reflects the deflecting mirror 60-1, deflects the optical path, and deviates from the optical axis O. proceed.

中空反射ミラー60−2は、中空の角柱状ミラー、具体的には、中空の六角柱ミラーであって、その中心線(底面の中心を通る母線方向の直線)を、照明光学系10の光軸上に配置している。よって、偏向ミラー60−1から射出した回折光束群は、中空反射ミラー60−2の何れか1つの内側面で反射すると、反射ミラー60−2の他方の開口に向かって進行する。   The hollow reflection mirror 60-2 is a hollow prismatic mirror, specifically, a hollow hexagonal column mirror. The center line (a straight line in the generatrix direction passing through the center of the bottom surface) is used as the light of the illumination optical system 10. It is arranged on the axis. Therefore, when the diffracted light beam group emitted from the deflection mirror 60-1 is reflected by any one inner surface of the hollow reflection mirror 60-2, it proceeds toward the other opening of the reflection mirror 60-2.

偏向ミラー60−3は、照明光学系10の光軸に対して傾斜配置された平面反射ミラーである。中空反射ミラー60−2から射出した回折光束群は、偏向ミラー60−3にて反射することで光路を偏向させ、照明光学系10の光軸Oに沿った方向へと進行する。   The deflection mirror 60-3 is a plane reflection mirror that is disposed to be inclined with respect to the optical axis of the illumination optical system 10. The group of diffracted light beams emitted from the hollow reflecting mirror 60-2 is reflected by the deflecting mirror 60-3 to deflect the optical path, and proceeds in a direction along the optical axis O of the illumination optical system 10.

ここで、イメージローテータ60の入射側に配置された偏向ミラー60−1と、イメージローテータ60の射出側に配置された偏向ミラー60−3とは、同型同大であって、偏向ミラー60−1の姿勢及び配置先と、偏向ミラー60−3の姿勢及び配置先とは、中空反射ミラー60−2の長手方向(照明光学系10の光軸O方向)における中心点を通り光軸Oと垂直な平面に関して対称である。また、偏向ミラー60−1と偏向ミラー60−3との配置間隔(光軸O方向の間隔)は、偏向ミラー60−1の入射光軸と偏向ミラー60−3の射出光軸とが一致するような最適値に設定されている。   Here, the deflecting mirror 60-1 disposed on the incident side of the image rotator 60 and the deflecting mirror 60-3 disposed on the exit side of the image rotator 60 have the same shape and the same size, and the deflecting mirror 60-1 The orientation and the location of the deflection mirror 60-3 and the orientation and the location of the deflection mirror 60-3 pass through the center point in the longitudinal direction of the hollow reflection mirror 60-2 (the optical axis O direction of the illumination optical system 10) and are perpendicular to the optical axis O. Symmetric with respect to any plane. Further, the arrangement interval (interval in the optical axis O direction) between the deflection mirror 60-1 and the deflection mirror 60-3 matches the incident optical axis of the deflection mirror 60-1 and the emission optical axis of the deflection mirror 60-3. The optimum value is set.

そして、偏向ミラー60−1、60−3は、回動機構60A(図9参照)によって光軸Oの周りに回動可能である。但し、その回転の際、1対の偏向ミラー60−1、60−3の姿勢及び配置先の対称性は、維持される。   The deflection mirrors 60-1 and 60-3 can be rotated around the optical axis O by a rotation mechanism 60A (see FIG. 9). However, during the rotation, the posture of the pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 and the symmetry of the arrangement destination are maintained.

ここで、1対の偏向ミラー60−1、60−3の回動角θ’は、60°の角度周期で3通り(0°、60°、120°)に切り換わる。   Here, the rotation angle θ ′ of the pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 is switched to three (0 °, 60 °, 120 °) at an angular period of 60 °.

1対の偏向ミラー60−1、60−3の回動角θ’が0°であるときには、中空反射ミラー60−2の或る反射面(「第1内側面」と称す。)が反射に使用され、1対の偏向ミラー60−1、60−3の回動角θ’が60°であるときには、中空反射ミラー60−2の第1内側面に隣接する第2内側面が反射に使用され、1対の偏向ミラー60−1、60−3の回動角θ’が120°であるときには、中空反射ミラー60−2の第2内側面に隣接する第3内側面が反射に使用される。   When the rotation angle θ ′ of the pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 is 0 °, a certain reflection surface (referred to as “first inner side surface”) of the hollow reflection mirror 60-2 is reflected. When the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting mirrors 60-1 and 60-3 is 60 °, the second inner side surface adjacent to the first inner side surface of the hollow reflecting mirror 60-2 is used for reflection. When the rotation angle θ ′ of the pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 is 120 °, the third inner side surface adjacent to the second inner side surface of the hollow reflection mirror 60-2 is used for reflection. The

このように、本実施形態のイメージローテータ60では、1対の偏向ミラー60−1、60−3が回動するのに対して、中空反射ミラー60−2は固定されたままである。   Thus, in the image rotator 60 of the present embodiment, the pair of deflecting mirrors 60-1 and 60-3 rotate, while the hollow reflecting mirror 60-2 remains fixed.

しかし、本実施形態のイメージローテータ60における反射ミラー60−2は、光軸Oの周りの60°ずつ異なる各角度位置に反射面(固定された反射面)を有しているので、偏向ミラー60−1、60−3の回動角θ’が0°、60°、120°の何れであったとしても、偏向ミラー60−1と偏向ミラー60−3との間で回折光束群を中継することができる。   However, since the reflection mirror 60-2 in the image rotator 60 of the present embodiment has reflection surfaces (fixed reflection surfaces) at different angular positions around the optical axis O by 60 °, the deflection mirror 60 is provided. The diffracted light beam group is relayed between the deflecting mirror 60-1 and the deflecting mirror 60-3 regardless of whether the rotation angle θ ′ of −1, 60-3 is 0 °, 60 °, or 120 °. be able to.

なお、中空反射ミラー60−2の内側面(固定された反射面)のサイズは、回折光束群の全体(少なくとも±1回折光束及び0次回折光束の全体)を反射できるような大きさに設定されている。   The size of the inner side surface (fixed reflecting surface) of the hollow reflecting mirror 60-2 is set to a size that can reflect the entire diffracted light beam group (at least ± 1 diffracted light beam and 0th order diffracted light beam). Has been.

したがって、本実施形態では、1対の偏向ミラー60−1、60−3の回動角θ’が60°の角度周期で3通りに切り換わると、イメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向が光軸Oの周りに120°の角度周期で3通りに切り換わる。   Therefore, in this embodiment, when the rotation angle θ ′ of the pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 is switched in three ways with an angular period of 60 °, the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 is branched. The direction is switched in three ways around the optical axis O with an angular period of 120 °.

なお、イメージローテータ50から射出する回折光束群の分岐方向の回動角θと、1対の偏向ミラー60−1、60−3の回動角度θ’との関係は、ダブプリズムを使用した従来のイメージローテータと同様、θ=2θ’である(但し、ここではθ’=0°におけるθの値をゼロとした。)。   The relationship between the rotation angle θ in the branching direction of the diffracted light beam group emitted from the image rotator 50 and the rotation angle θ ′ of the pair of deflecting mirrors 60-1 and 60-3 is the conventional one using a dove prism. As in the image rotator, θ = 2θ ′ (however, here, the value of θ at θ ′ = 0 ° is set to zero).

次に、本実施形態の回動機構60Aの一例を説明する。   Next, an example of the rotation mechanism 60A of the present embodiment will be described.

図9(A)は、光軸Oを含む或る切断面でイメージローテータ60及び回動機構60Aを切断してできる断面図であり、図9(B)は、図9(A)における切断面B−B’でイメージローテータ60及び回動機構60Aを切断してできる断面図である。なお、図9において符号Aの付与された各要素が回動機構60Aの構成要素であり、符号60Bの付与された部分は構造化照明顕微鏡装置1のベースである。   9A is a cross-sectional view obtained by cutting the image rotator 60 and the rotation mechanism 60A at a certain cut surface including the optical axis O, and FIG. 9B is a cut surface in FIG. 9A. It is sectional drawing which can cut | disconnect the image rotator 60 and the rotation mechanism 60A by BB '. In FIG. 9, each element to which reference numeral A is given is a constituent element of the rotation mechanism 60 </ b> A, and a part to which reference numeral 60 </ b> B is given is a base of the structured illumination microscope apparatus 1.

図9(A)、(B)に示すとおり1対の偏向ミラー60−1、60−3は、照明光学系10の光軸O上に配設された回動軸60A−2を介して、中空反射ミラー60−2の中空部に配設された回転モータ60A−1に連結されている。その回転モータ60A−1が駆動されると、1対の偏向ミラー60−1、60−3が回動軸60A−2の周りに等角度で回動する。   As shown in FIGS. 9A and 9B, the pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 is arranged via a rotation shaft 60 </ b> A- 2 disposed on the optical axis O of the illumination optical system 10. It is connected to a rotary motor 60A-1 disposed in the hollow part of the hollow reflecting mirror 60-2. When the rotary motor 60A-1 is driven, the pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 rotate around the rotation shaft 60A-2 at an equal angle.

また、図9(B)に示すとおりモータ60A−1は、アーム60A−3を介してベース60Bに固定されている。中空反射ミラー60−2において互いに隣接する2つの反射面の間には間隙が設けられており、その間隙をアーム60A−3が貫くことにより、中空反射ミラー60−2の中空部に位置するモータ60A−1と、中空反射ミラー60−2の外部に位置するベース60Bとが互いに固定されている。   Further, as shown in FIG. 9B, the motor 60A-1 is fixed to the base 60B via the arm 60A-3. A gap is provided between two reflecting surfaces adjacent to each other in the hollow reflection mirror 60-2, and the arm 60A-3 penetrates the gap so that the motor positioned in the hollow portion of the hollow reflection mirror 60-2. 60A-1 and the base 60B located outside the hollow reflection mirror 60-2 are fixed to each other.

[第2実施形態の補足]
なお、第1実施形態のイメージローテータ50は完全屈折型で構成されたのに対して、第2実施形態のイメージローテータ60は完全反射型で構成されたが、第1実施形態のイメージローテータ50の一部(屈折部材)と第2実施形態のイメージローテータ60の他の一部(反射部材)とを組み合わせてなる反射屈折型のイメージローテータを構造化照明顕微鏡装置1に使用してもよいことは言うまでもない。
[Supplement of the second embodiment]
The image rotator 50 according to the first embodiment is configured as a perfect refraction type, whereas the image rotator 60 according to the second embodiment is configured as a perfect reflection type. A catadioptric image rotator that is a combination of a part (refractive member) and another part (reflective member) of the image rotator 60 of the second embodiment may be used in the structured illumination microscope apparatus 1. Needless to say.

[第3実施形態]
以下、本発明の第3実施形態として第1実施形態の変形例を説明する。ここでは、第1実施形態との相違点のみを説明する。相違点は、イメージローテータ50の代わりにイメージローテータ70が使用された点にある。
[Third Embodiment]
Hereinafter, a modification of the first embodiment will be described as a third embodiment of the present invention. Here, only differences from the first embodiment will be described. The difference is that an image rotator 70 is used instead of the image rotator 50.

図10(A)は、本実施形態のイメージローテータ70及びその周辺を示す図である。なお、図10(A)では、イメージローテータ70の光学要素以外の部分の図示を省略し、0次回折光束以外の回折光束の図示を省略した。   FIG. 10A is a diagram showing the image rotator 70 and its surroundings according to the present embodiment. In FIG. 10A, illustration of portions other than the optical elements of the image rotator 70 is omitted, and illustration of diffracted light beams other than the 0th-order diffracted light beam is omitted.

図10(A)に示すとおり本実施形態のイメージローテータ70は、第1実施形態のイメージローテータ50において、1対の偏向プリズムの各々と反射プリズムとの間に、それら1対の偏向プリズムの偏向機能を補助する補助偏向プリズムを追加したものである。つまり、本実施形態のイメージローテータ70には、光源側から順に、偏向プリズム50−1と、補助偏向プリズム70−1’と、反射プリズム50−2と、補助偏向プリズム70−3’と、偏向プリズム50−3とが配置される。   As shown in FIG. 10A, the image rotator 70 of the present embodiment is the same as that of the image rotator 50 of the first embodiment, but between each of the pair of deflecting prisms and the reflecting prism, the deflection of the pair of deflecting prisms. An auxiliary deflecting prism that assists the function is added. That is, the image rotator 70 of the present embodiment includes, in order from the light source side, the deflection prism 50-1, the auxiliary deflection prism 70-1 ′, the reflection prism 50-2, the auxiliary deflection prism 70-3 ′, and the deflection. A prism 50-3 is arranged.

補助偏向プリズム70−1’補助偏向プリズム70−3’とは同型同大、同質であって、補助偏向プリズム70−1’の姿勢及び配置先と、補助偏向プリズム70−3’の姿勢及び配置先とは、反射プリズム50−2の長手方向(照明光学系10の光軸O方向)における中心点を通り光軸Oと垂直な平面に関して対称である。   The auxiliary deflection prism 70-1 'is the same type and the same size as the auxiliary deflection prism 70-3', and the posture and arrangement of the auxiliary deflection prism 70-1 'and the posture and arrangement of the auxiliary deflection prism 70-3'. The tip is symmetrical with respect to a plane that passes through the central point in the longitudinal direction of the reflecting prism 50-2 (the direction of the optical axis O of the illumination optical system 10) and is perpendicular to the optical axis O.

また、1対の偏向プリズム50−1、50−3は、不図示の回動機構によって照明光学系10の光軸Oの周りに回動可能であるのに対して、補助偏向プリズム70−1’、反射プリズム50−2、補助偏向プリズム70−3’は、予め固定されている。   The pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 can be rotated around the optical axis O of the illumination optical system 10 by a rotating mechanism (not shown), whereas the auxiliary deflecting prism 70-1 is used. ', The reflecting prism 50-2, and the auxiliary deflection prism 70-3' are fixed in advance.

本実施形態の偏向プリズム50−1の機能は、第1実施形態の偏向プリズム50−1の機能と基本的に同じであるが、本実施形態の偏向プリズム50−1の光偏向量は、第1実施形態の偏向プリズム50−1の光偏向量よりも小さく抑えられている。   The function of the deflecting prism 50-1 of the present embodiment is basically the same as the function of the deflecting prism 50-1 of the first embodiment, but the amount of light deflection of the deflecting prism 50-1 of the present embodiment is the first. It is suppressed to be smaller than the light deflection amount of the deflection prism 50-1 of the embodiment.

よって、本実施形態の偏向プリズム50−1の頂角(楔角度)は、第1実施形態の偏向プリズム50−1の頂角よりも小さく抑えられ、本実施形態の偏向プリズム50−1の重量は、第1実施形態の偏向プリズム50−1の重量よりも低く抑えられる。   Therefore, the apex angle (wedge angle) of the deflecting prism 50-1 of the present embodiment is suppressed to be smaller than the apex angle of the deflecting prism 50-1 of the first embodiment, and the weight of the deflecting prism 50-1 of the present embodiment. Is suppressed to be lower than the weight of the deflecting prism 50-1 of the first embodiment.

また、これによって不足した偏向量は、補助偏向プリズム70−1’によって補償される。   Further, the insufficient deflection amount is compensated by the auxiliary deflection prism 70-1 '.

また、本実施形態の反射プリズム50−2の機能は、第1実施形態の反射プリズム50−2の機能と同じである。   The function of the reflecting prism 50-2 of the present embodiment is the same as the function of the reflecting prism 50-2 of the first embodiment.

また、本実施形態の偏向プリズム50−3の機能は、第1実施形態の偏向プリズム50−3の機能と基本的に同じであるが、本実施形態の偏向プリズム50−3の光偏向量は、第1実施形態の偏向プリズム50−3の光偏向量よりも小さく抑えられている。   The function of the deflecting prism 50-3 of the present embodiment is basically the same as the function of the deflecting prism 50-3 of the first embodiment, but the amount of light deflection of the deflecting prism 50-3 of the present embodiment is The amount of light deflection of the deflecting prism 50-3 of the first embodiment is suppressed to be smaller.

よって、本実施形態の偏向プリズム50−3の頂角(楔角度)は、第1実施形態の偏向プリズム50−3の頂角よりも小さく抑えられ、本実施形態の偏向プリズム50−3の重量は、第1実施形態の偏向プリズム50−3の重量よりも低く抑えられる。   Therefore, the apex angle (wedge angle) of the deflecting prism 50-3 of the present embodiment is suppressed to be smaller than the apex angle of the deflecting prism 50-3 of the first embodiment, and the weight of the deflecting prism 50-3 of the present embodiment. Is suppressed to be lower than the weight of the deflecting prism 50-3 of the first embodiment.

また、これによって不足した偏向量は、補助偏向プリズム70−3’によって補償される。   Further, the insufficient deflection amount is compensated by the auxiliary deflection prism 70-3 '.

したがって、本実施形態のイメージローテータ70は、第1実施形態のイメージローテータ50よりも、可動部分の重量を更に抑えることができる。   Therefore, the image rotator 70 of the present embodiment can further reduce the weight of the movable part as compared with the image rotator 50 of the first embodiment.

ここで、本実施形態において追加された補助偏向プリズム70−1’は、照明光学系10の光軸O周りの60°ずつ異なる各位置に楔プリズム要素(固定された屈折要素)を配置してなるので、偏向プリズム50−1の回動角θ’が0°、60°、120°の何れであったとしても、偏向プリズム50−1と反射プリズム50−2との間で回折光束群を中継することができる。   Here, the auxiliary deflection prism 70-1 ′ added in the present embodiment has wedge prism elements (fixed refractive elements) arranged at respective positions different by 60 ° around the optical axis O of the illumination optical system 10. Therefore, even if the rotation angle θ ′ of the deflection prism 50-1 is 0 °, 60 °, or 120 °, the diffracted light beam group is formed between the deflection prism 50-1 and the reflection prism 50-2. Can be relayed.

また、本実施形態において追加された補助偏向プリズム70−3’は、照明光学系10の光軸周りの60°ずつ異なる各位置に楔プリズム要素(固定された屈折要素)を配置してなるので、偏向プリズム50−3の回動角θ’が0°、60°、120°の何れであったとしても、反射プリズム50−2と偏向プリズム50−3との間で回折光束群を中継することができる。   Further, the auxiliary deflection prism 70-3 ′ added in the present embodiment is formed by arranging wedge prism elements (fixed refractive elements) at different positions around the optical axis of the illumination optical system 10 by 60 °. Even if the rotation angle θ ′ of the deflection prism 50-3 is 0 °, 60 °, or 120 °, the diffracted light beam group is relayed between the reflection prism 50-2 and the deflection prism 50-3. be able to.

さて、以上のイメージローテータ70において、偏向プリズム50−1、50−3及び反射プリズム50−2における回折光束群の屈折角度は、基本的に光源波長に依存し、その屈折角度は、光源波長が長いときほど小さくなる。このため、1対の偏向プリズム50−1、50−3の最適な配置間隔、つまりイメージローテータ70の入射光軸と射出光軸とを一致させるために必要な配置間隔は、光源波長が長いときほど広くなる。   In the image rotator 70 described above, the refraction angle of the diffracted light beam group in the deflecting prisms 50-1, 50-3 and the reflecting prism 50-2 basically depends on the light source wavelength, and the refraction angle depends on the light source wavelength. The longer it is, the smaller it becomes. For this reason, the optimal arrangement interval of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3, that is, the arrangement interval necessary for matching the incident optical axis and the outgoing optical axis of the image rotator 70 is when the light source wavelength is long. It gets wider.

因みに、イメージローテータ70の入射光軸と射出光軸とのズレが大きくなると、干渉縞の位相が設計値どおりにならない、±1次回折光束の一方が標本5に到達できなくなる、といった不具合が生じ、干渉縞パターンが不適切になる。   Incidentally, when the deviation between the incident optical axis and the outgoing optical axis of the image rotator 70 is increased, the phase of the interference fringes does not become as designed, and one of the ± first-order diffracted light beams cannot reach the sample 5. The interference fringe pattern becomes inappropriate.

そこで、本実施形態のイメージローテータ70には、1対の偏向プリズム50−1、50−3の配置間隔(光軸Oの方向の間隔)を調整する調節機構(不図示)が備えられる。   Therefore, the image rotator 70 of this embodiment is provided with an adjustment mechanism (not shown) that adjusts the arrangement interval (interval in the direction of the optical axis O) of the pair of deflection prisms 50-1 and 50-3.

この調節機構は、具体的に、光源波長が短い波長λ2であるとき(つまり屈折角度が大きいとき)には、1対の偏向プリズム50−1、50−3の配置間隔を図10(A)に示すとおり狭く設定し、光源波長が長い波長λ1であるとき(つまり屈折角度が小さいとき)には、1対の偏向プリズム50−1、50−3の配置間隔を図10(B)に示すとおり広く設定することで、イメージローテータ70の入射光軸と射出光軸とのズレ量を、波長に依らずゼロに抑える。   Specifically, in this adjustment mechanism, when the light source wavelength is a short wavelength λ2 (that is, when the refraction angle is large), the arrangement interval of the pair of deflection prisms 50-1 and 50-3 is set as shown in FIG. When the light source wavelength is a long wavelength λ1 (that is, when the refraction angle is small) as shown in FIG. 10, the arrangement interval of the pair of deflection prisms 50-1 and 50-3 is shown in FIG. By setting as wide as possible, the amount of deviation between the incident optical axis and the outgoing optical axis of the image rotator 70 is suppressed to zero regardless of the wavelength.

したがって、本実施形態のイメージローテータ70によれば、第1実施形態と同様の効果に加えて、光源波長に依らず干渉縞パターンを適正に保つことができるという付加的な効果も得られる。   Therefore, according to the image rotator 70 of the present embodiment, in addition to the same effect as that of the first embodiment, an additional effect that the interference fringe pattern can be appropriately maintained regardless of the light source wavelength can be obtained.

[第3実施形態の補足]
なお、第3実施形態で説明した調整機構は、第1実施形態又は第2実施形態のイメージローテータにも同様に搭載することが可能である。
[Supplement of the third embodiment]
The adjustment mechanism described in the third embodiment can be similarly mounted on the image rotator of the first embodiment or the second embodiment.

また、第3実施形態では、イメージローテータ70に1対の偏向プリズム50−1、50−3を使用したが、1対の偏向プリズム50−1、50−3の代わりに、第2実施形態で説明した1対の偏向ミラー60−1、60−3を使用してもよい。   In the third embodiment, the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3 are used for the image rotator 70, but instead of the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3, the second embodiment is used. The pair of deflection mirrors 60-1 and 60-3 described may be used.

なお、第3実施形態では、イメージローテータ70に反射プリズム50−2を使用したが、反射プリズム50−2の代わりに、第2実施形態で説明した中空反射ミラー60−2を使用してもよい。   In the third embodiment, the reflecting prism 50-2 is used for the image rotator 70, but the hollow reflecting mirror 60-2 described in the second embodiment may be used instead of the reflecting prism 50-2. .

また、第3実施形態では、イメージローテータ70に1対の補助偏向プリズム70−1’、70−3’を使用したが、1対の補助偏向プリズム70−1’、70−3’の代わりに、図11(A)、(B)に示すような1対の補助偏向ミラー80−1’、80−3’を使用してもよい。補助偏向ミラー80−1’は、補助偏向プリズム70−1’を反射型で構成したものであって、補助偏向ミラー80−3’は、補助偏向プリズム70−3’を反射型で構成したもの(固定された反射要素で構成したもの)である。   In the third embodiment, the pair of auxiliary deflection prisms 70-1 ′ and 70-3 ′ is used for the image rotator 70, but instead of the pair of auxiliary deflection prisms 70-1 ′ and 70-3 ′. A pair of auxiliary deflection mirrors 80-1 ′ and 80-3 ′ as shown in FIGS. 11A and 11B may be used. The auxiliary deflection mirror 80-1 ′ is a reflection type of the auxiliary deflection prism 70-1 ′, and the auxiliary deflection mirror 80-3 ′ is a reflection type of the auxiliary deflection prism 70-3 ′. (Consisting of fixed reflective elements).

なお、イメージローテータ70の一部の屈折部材を反射部材に置換すれば、波長による光路のズレ量(色収差の発生量)が小さく抑えられるので、可動部分(1対の偏向プリズム50−1、50−3)の間隔調整量(ストローク)も小さく抑えることができる。   If a part of the refracting members of the image rotator 70 is replaced with a reflecting member, the amount of shift of the optical path due to the wavelength (the amount of chromatic aberration) can be kept small, so that the movable part (the pair of deflecting prisms 50-1 and 50). -3), the interval adjustment amount (stroke) can also be kept small.

因みに、図12に示すイメージローテータ80は、第3実施形態のイメージローテータ70において、可動部分(1対の偏向プリズム50−1、50−3)以外の全ての光学要素を反射型で構成したものである。   Incidentally, the image rotator 80 shown in FIG. 12 is the image rotator 70 of the third embodiment in which all the optical elements other than the movable parts (the pair of deflecting prisms 50-1 and 50-3) are configured in a reflective type. It is.

[イメージローテータの角度関係]
次に、イメージローテータを構成する各要素の角度関係を説明する。
[Angle relation of image rotator]
Next, the angular relationship between the elements constituting the image rotator will be described.

ここでは、一例として、図12に示したイメージローテータ80を想定する。   Here, the image rotator 80 shown in FIG. 12 is assumed as an example.

図13は、イメージローテータ80の一部の概念図である。   FIG. 13 is a conceptual diagram of a part of the image rotator 80.

図13に示すとおり偏向プリズム50−1の頂角(楔角度)をαとおき、偏向プリズム50−1の屈折率をnとおき、補助偏向ミラー80−1’の配置角度をβとおく。   As shown in FIG. 13, the apex angle (wedge angle) of the deflecting prism 50-1 is set to α, the refractive index of the deflecting prism 50-1 is set to n, and the arrangement angle of the auxiliary deflecting mirror 80-1 ′ is set to β.

この場合、偏向プリズム50−1の入射面に対する平行光束の入射角度は、αとなる。   In this case, the incident angle of the parallel light flux with respect to the incident surface of the deflecting prism 50-1 is α.

また、その面に対する平行光束の入射角度αと、その面から射出する平行光束の射出角度θとの関係は、sinα=nsinθである。よって、角度θは以下の式で表される。 Further, the relationship between the incident angle α of the parallel light beam on the surface and the emission angle θ 1 of the parallel light beam emitted from the surface is sin α = n sin θ 1 . Therefore, the angle θ 1 is expressed by the following formula.

Figure 2015007754
また、偏向プリズム50−1の射出面に対する平行光束の入射角度θは、以下の式で表される。
Figure 2015007754
Further, the incident angle θ 2 of the parallel light flux with respect to the exit surface of the deflecting prism 50-1 is expressed by the following equation.

Figure 2015007754
また、偏向プリズム50−1の射出面に対する平行光束の入射角度θと、その面から射出する平行光束の射出角度θとの関係は、nsinθ=sinθである。よって、角度θは以下の式で表される。
Figure 2015007754
Further, the relationship between the incident angle θ 2 of the parallel light beam with respect to the exit surface of the deflecting prism 50-1 and the exit angle θ 3 of the parallel light beam exiting from the surface is n sin θ 2 = sin θ 3 . Therefore, the angle θ 3 is expressed by the following formula.

Figure 2015007754
したがって、中空反射ミラー60−2の反射面に対する平行光束の入射角度θは、以下の式で表される。
Figure 2015007754
Therefore, the incident angle θ 4 of the parallel light flux with respect to the reflecting surface of the hollow reflecting mirror 60-2 is expressed by the following equation.

Figure 2015007754
なお、ここでは、イメージローテータ80の上流側の角度関係しか説明しなかったが、下流側の角度関係も、上述したものと同様である。
Figure 2015007754
Although only the upstream angular relationship of the image rotator 80 has been described here, the downstream angular relationship is the same as that described above.

[各実施形態の補足]
なお、上述した実施形態のイメージローテータは、可動部分(偏向プリズム又は偏向ミラー)の回動角度θ’を「60°」の角度周期で切り換えたので、固定部分(反射プリズム又は中空反射ミラー)の側面数を「6枚」に設定したが、回動角度θ’の切り換えの角度周期と固定部分の側面数との組み合わせは、他の組み合わせに設定されてもよい。
[Supplement of each embodiment]
In the image rotator of the above-described embodiment, the rotation angle θ ′ of the movable part (deflection prism or deflection mirror) is switched at an angular period of “60 °”, so that the fixed part (reflection prism or hollow reflection mirror) Although the number of side surfaces is set to “6”, the combination of the angle period for switching the rotation angle θ ′ and the number of side surfaces of the fixed portion may be set to other combinations.

例えば、回動角度θ’の切り換えの角度周期を「36°」に設定し、固定部分の側面数を「10枚」に設定してもよい。この場合、六角柱状の反射プリズムの代わりに10角柱状の反射プリズムを使用し、六角柱状の中空ミラーの代わりに10角柱状の中空ミラーを使用し、補助偏向プリズムの要素数を10とし、補助偏向ミラーの要素数を10とすればよい。   For example, the angle period for switching the rotation angle θ ′ may be set to “36 °”, and the number of side surfaces of the fixed portion may be set to “10”. In this case, a decagonal prism is used instead of the hexagonal prism, a decagonal hollow mirror is used instead of the hexagonal hollow mirror, the number of elements of the auxiliary deflection prism is 10, and the auxiliary prism is used. The number of elements of the deflection mirror may be 10.

或いは、回動角度θ’の切り換えの角度周期を「45°」に設定し、固定部分の側面数を「8枚」に設定してもよい。この場合、六角柱状の反射プリズムの代わりに8角柱状の反射プリズムを使用し、六角柱状の中空ミラーの代わりに8角柱状の中空ミラーを使用し、補助偏向プリズムの要素数を8とし、補助偏向ミラーの要素数を8とすればよい。   Alternatively, the angle period for switching the rotation angle θ ′ may be set to “45 °”, and the number of side surfaces of the fixed portion may be set to “8”. In this case, an octagonal prismatic reflecting prism is used in place of the hexagonal prismatic reflecting prism, an octagonal columnar hollow mirror is used in place of the hexagonal columnar hollow mirror, the number of elements of the auxiliary deflection prism is 8, and the auxiliary prism is used. The number of deflection mirror elements may be set to eight.

つまり、回動角度θ’の切り換えの角度周期Δθ(rad)と、固定部分の側面数Nとの関係は、N=(2π/Δθ)に設定されればよい。   That is, the relationship between the angle period Δθ (rad) for switching the rotation angle θ ′ and the number of side surfaces N of the fixed portion may be set to N = (2π / Δθ).

因みに、回動角度θ’の切り換えの角度周期Δθを小さくして固定部分の側面数Nを増やせば、超解像可能な方位の数を増やすことができる。   Incidentally, if the angle period Δθ for switching the rotation angle θ ′ is reduced to increase the number N of the side surfaces of the fixed portion, the number of directions capable of super-resolution can be increased.

また、上述した実施形態のイメージローテータでは、1対の光学要素(1対の偏向プリズム又は2対の偏向ミラー)の双方を共通の回動機構で駆動してもよいが、1対の光学要素を1対の回動機構で個別に駆動してもよいことは言うまでもない。但し、その場合は、1対の回動機構は同期制御されることが望ましい。   In the image rotator of the above-described embodiment, both the pair of optical elements (one pair of deflection prisms or two pairs of deflection mirrors) may be driven by a common rotation mechanism. Needless to say, these may be driven individually by a pair of rotation mechanisms. However, in that case, it is desirable that the pair of rotation mechanisms be controlled synchronously.

また、上述した実施形態では、0次光回折光束をオフして標本5へ投影する干渉縞を2光束干渉縞とした(すなわち、構造化照明顕微鏡装置1を2D−SIMモードで使用する例を説明した)が、0次光回折光束をオンすれば、標本5へ投影する干渉縞を3光束干渉縞とすること(すなわち、構造化照明顕微鏡装置1を3D−SIMモードで使用すること)も可能である。   Further, in the above-described embodiment, the interference fringes that turn off the 0th-order light diffracted light beam and project it onto the specimen 5 are the two light beam interference fringes (that is, an example in which the structured illumination microscope apparatus 1 is used in the 2D-SIM mode). However, if the 0th-order diffracted light beam is turned on, the interference fringes projected onto the specimen 5 are changed to the three-beam interference fringes (that is, the structured illumination microscope apparatus 1 is used in the 3D-SIM mode). Is possible.

このように、3つの回折光束の干渉(3光束干渉)によって生成される干渉縞は、標本2の表面方向だけでなく、標本5の深さ方向にも空間変調されている。よって、この干渉縞によると、標本5の深さ方向にも超解像効果を得ることができる。   Thus, the interference fringes generated by the interference of the three diffracted light beams (three-beam interference) are spatially modulated not only in the surface direction of the sample 2 but also in the depth direction of the sample 5. Therefore, according to this interference fringe, a super-resolution effect can be obtained also in the depth direction of the specimen 5.

但し、構造化照明顕微鏡装置1を3D−SIMモードで使用する場合には、0次回折光束と±1次回折光束との間の強度バランスを調整するために、例えば0次回折光束の単独光路へ減光フィルタ(NDフィルタ)を配置することが望ましい。   However, when the structured illumination microscope apparatus 1 is used in the 3D-SIM mode, in order to adjust the intensity balance between the 0th-order diffracted light beam and the ± 1st-order diffracted light beam, for example, a single optical path of the 0th-order diffracted light beam It is desirable to arrange a neutral density filter (ND filter).

また、2D−SIMモードと3D−SIMモードとの間では、画像記憶・演算装置40が実行すべき復調演算の内容が異なる。なぜなら、2D−SIMモードで生成される変調画像には、蛍光の0次変調成分、蛍光の+1次変調成分、蛍光の−1次変調成分の3成分が重畳されているのに対して、3D−SIMモードで生成される変調画像には、蛍光の0次変調成分、蛍光の+1次変調成分、蛍光の−1次変調成分、蛍光の+2次変調成分、蛍光の−2次変調成分の5成分が重畳されているからである。   Further, the contents of the demodulation operation to be executed by the image storage / arithmetic apparatus 40 are different between the 2D-SIM mode and the 3D-SIM mode. This is because the modulated image generated in the 2D-SIM mode is superimposed with three components of the fluorescence zero-order modulation component, the fluorescence plus first-order modulation component, and the fluorescence minus first-order modulation component. -The modulated image generated in the SIM mode includes 5th order of the 0th order modulation component of fluorescence, the 1st order modulation component of fluorescence, the 1st order modulation component of fluorescence, the + 2nd order modulation component of fluorescence, and the 2nd order modulation component of fluorescence. This is because the components are superimposed.

また、2D−SIMモードと3D−SIMモードとの間では、変調画像に重畳する変調成分の数が異なるので、制御装置43が取得すべき変調画像のフレーム数なども異なる。   Further, since the number of modulation components to be superimposed on the modulated image is different between the 2D-SIM mode and the 3D-SIM mode, the number of frames of the modulated image to be acquired by the control device 43 is also different.

また、上述した実施形態では、干渉縞の位相をシフトさせるために回折格子13をシフトさせたが、回折格子13をシフトさせる代わりに、±1次回折光束の光路長差を変化させてもよい。その場合は、例えば、+1次回折光束の光路と−1次回折光束の光路との少なくとも一方に対して位相板を挿脱させてもよい。   In the embodiment described above, the diffraction grating 13 is shifted in order to shift the phase of the interference fringes. However, instead of shifting the diffraction grating 13, the optical path length difference of the ± first-order diffracted light beams may be changed. . In that case, for example, the phase plate may be inserted into and removed from at least one of the optical path of the + 1st order diffracted light beam and the optical path of the −1st order diffracted light beam.

但し、位相板の厚さと位相シフト量との関係は、使用波長によって異なるので、厚さの異なる複数の位相板をターレットに装着し、それらの位相板を光源波長に応じて選択的に光路へ挿入してもよい。   However, since the relationship between the thickness of the phase plate and the amount of phase shift differs depending on the wavelength used, a plurality of phase plates with different thicknesses are attached to the turret, and these phase plates are selectively transferred to the optical path according to the light source wavelength. It may be inserted.

また、上述した実施形態では、光源波長の数を2としたが、1としてもよく、また、3以上に拡張してもよい。   In the above-described embodiment, the number of light source wavelengths is 2, but it may be 1 or may be expanded to 3 or more.

また、上述した実施形態では、標本5に入射する±1次回折光束をS偏光に保つために、固定された1/4波長板と光軸Oの周りを回動可能な1/4波長板との組み合わせを使用したが、回動可能な1/2波長板を使用してもよい。   Further, in the above-described embodiment, in order to keep the ± first-order diffracted light beam incident on the specimen 5 as S-polarized light, a fixed quarter-wave plate and a quarter-wave plate that can rotate around the optical axis O are used. However, a rotatable half-wave plate may be used.

また、上述した実施形態では、光ファイバ11の出射端と波長板との間に直線偏光板を挿入し、余分な偏光成分をカットしてもよい。但し、レーザ光の利用効率を高めるため、その偏光板の軸は、光ファイバ11から射出したレーザ光の偏光方向に一致していることが望ましい。   In the above-described embodiment, a linearly polarizing plate may be inserted between the output end of the optical fiber 11 and the wave plate to cut off an extra polarization component. However, in order to increase the utilization efficiency of the laser light, it is desirable that the axis of the polarizing plate coincides with the polarization direction of the laser light emitted from the optical fiber 11.

また、上述した実施形態では、干渉縞(2D−SIMモードの2光束干渉縞又は3D−SIMモードの3光束干渉縞)を形成するための回折光として、±1次回折光及び0次回折光の組み合わせを用いたが、他の組み合わせを用いてもよい。3光束干渉縞を形成するためには、回折次数の間隔が等間隔な3つの回折光による3光束干渉を生起させればよいので、例えば、0次回折光、1次回折光、2次回折光の組み合わせ、±2次回折光及び0次回折光の組み合わせ、±3次回折光及び0次回折光の組み合わせ、などを用いることが可能である。   In the above-described embodiment, a combination of ± first-order diffracted light and zero-order diffracted light is used as diffracted light for forming interference fringes (two-beam interference fringes in 2D-SIM mode or three-beam interference fringes in 3D-SIM mode). However, other combinations may be used. In order to form a three-beam interference fringe, three-beam interference is generated by three diffracted lights having equal intervals of diffraction orders. For example, a combination of zero-order diffracted light, first-order diffracted light, and second-order diffracted light , A combination of ± 2nd order diffracted light and 0th order diffracted light, a combination of ± 3rd order diffracted light and 0th order diffracted light, and the like can be used.

[その他]
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
[Others]
Note that the requirements of the above-described embodiments can be combined as appropriate. Some components may not be used. In addition, as long as it is permitted by law, the disclosure of all publications and US patents relating to the devices cited in the above embodiments and modifications are incorporated herein by reference.

1…構造化照明顕微鏡装置、100…レーザユニット、11…光ファイバ、10…照明光学系、30…結像光学系、351…第1撮像素子、352…第2撮像素子、39…制御装置、40…画像記憶・演算装置、45…画像表示装置、12…コレクタレンズ、31…1/4波長板、16…集光レンズ、200…0次光シャッタ、18…高次光カット部材、25…レンズ、26…視野絞り、27…フィールドレンズ、28…励起フィルタ、7…ダイクロイックミラー、6…対物レンズ、5…標本、31’…1/4波長板、15A…並進機構、50A…回動機構、31A…回動機構、200A…回動機構   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Structured illumination microscope apparatus, 100 ... Laser unit, 11 ... Optical fiber, 10 ... Illumination optical system, 30 ... Imaging optical system, 351 ... 1st image sensor, 352 ... 2nd image sensor, 39 ... Control apparatus, DESCRIPTION OF SYMBOLS 40 ... Image memory | storage / arithmetic apparatus, 45 ... Image display apparatus, 12 ... Collector lens, 31 ... 1/4 wavelength plate, 16 ... Condensing lens, 200 ... Zero order light shutter, 18 ... High order light cut member, 25 ... Lens, 26 ... Field stop, 27 ... Field lens, 28 ... Excitation filter, 7 ... Dichroic mirror, 6 ... Objective lens, 5 ... Sample, 31 '... 1/4 wavelength plate, 15A ... Translation mechanism, 50A ... Turning mechanism, 31A ... Rotation mechanism, 200A ... Rotation mechanism

Claims (14)

光源からの射出光束を複数の分岐光束に分岐する分岐部と、
前記複数の分岐光束による干渉縞を標本面に形成する光学系と、
前記標本面に形成される前記干渉縞の方向を切り換える切換部と、
を備えた構造化照明装置であって、
前記切換部は、
前記複数の分岐光束を所定の軸から逸れた方向へ偏向する第1偏向部と、
前記第1偏向部から射出した前記複数の分岐光束を反射する反射部と、
前記反射部から射出した前記複数の分岐光束を前記軸に沿った方向へ偏向する第2偏向部とを備え、
前記第1偏向部及び前記第2偏向部は、前記軸周りに回動可能に構成され、
前記反射部は、前記軸周りの複数位置の各々に配置された固定型反射面で構成される
ことを特徴とする構造化照明装置。
A branching portion for branching the emitted light beam from the light source into a plurality of branched light beams;
An optical system for forming interference fringes by the plurality of branched light beams on the sample surface;
A switching unit for switching the direction of the interference fringes formed on the sample surface;
A structured lighting device comprising:
The switching unit is
A first deflecting unit that deflects the plurality of branched light beams in a direction deviating from a predetermined axis;
A reflection part for reflecting the plurality of branched light beams emitted from the first deflection part;
A second deflecting unit that deflects the plurality of branched light beams emitted from the reflecting unit in a direction along the axis;
The first deflection unit and the second deflection unit are configured to be rotatable around the axis,
The structured illuminating device, wherein the reflecting section includes fixed reflecting surfaces arranged at a plurality of positions around the axis.
請求項1に記載の構造化照明装置において、
前記第1偏向部と前記反射部との間には、前記第1偏向部の偏向機能を補助する固定型第1補助偏向部が配置され、
前記反射部と前記第2偏向部との間には、前記第2偏向部の偏向機能を補助する固定型第2補助偏向部が配置される
ことを特徴とする構造化照明装置。
The structured lighting device according to claim 1,
A fixed first auxiliary deflection unit for assisting a deflection function of the first deflection unit is disposed between the first deflection unit and the reflection unit,
A structured illuminating device, wherein a fixed second auxiliary deflection unit for assisting a deflection function of the second deflection unit is disposed between the reflection unit and the second deflection unit.
請求項1又は請求項2に記載の構造化照明装置において、
前記第1偏向部と前記第2偏向部との間隔は、調整可能である
ことを特徴とする構造化照明装置。
The structured lighting device according to claim 1 or 2,
The structured illuminating device, wherein an interval between the first deflection unit and the second deflection unit is adjustable.
請求項2又は請求項3に記載の構造化照明装置において、
前記第1補助偏向部は、前記軸周りの複数位置の各々に配置された固定型屈折要素で構成され、
前記第2補助偏向部は、前記軸周りの複数位置の各々に配置された固定型屈折要素で構成される
ことを特徴とする構造化照明装置。
The structured lighting device according to claim 2 or claim 3,
The first auxiliary deflection unit is composed of a fixed refraction element disposed at each of a plurality of positions around the axis,
The structured auxiliary lighting device, wherein the second auxiliary deflecting unit is composed of fixed refractive elements disposed at a plurality of positions around the axis.
請求項2又は請求項3に記載の構造化照明装置において、
前記第1補助偏向部は、前記軸周りの複数位置の各々に配置された固定型反射要素で構成され、
前記第2補助偏向部は、前記軸周りの複数位置の各々に配置された固定型反射要素で構成される
ことを特徴とする構造化照明装置。
The structured lighting device according to claim 2 or claim 3,
The first auxiliary deflection unit is composed of fixed reflective elements disposed at each of a plurality of positions around the axis,
The structured auxiliary lighting device, wherein the second auxiliary deflecting unit is composed of fixed reflective elements arranged at a plurality of positions around the axis.
請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の構造化照明装置において、
前記反射部は、
前記軸上に中心線を配した角柱状のプリズムである
ことを特徴とする構造化照明装置。
In the structured lighting device according to any one of claims 1 to 5,
The reflective portion is
A structured lighting device, wherein the prism is a prism having a center line on the axis.
請求項1〜請求項5の何れか一項に記載の構造化照明装置において、
前記反射部は、
前記軸上に中心線を配した角柱状の中空ミラーである
ことを特徴とする構造化照明装置。
In the structured lighting device according to any one of claims 1 to 5,
The reflective portion is
A structured illuminating device comprising a prismatic hollow mirror having a center line on the axis.
請求項6に記載の構造化照明装置において、
前記プリズムは、
六角柱状のプリズムである
ことを特徴とする構造化照明装置。
The structured lighting device according to claim 6.
The prism is
A structured illumination device characterized by being a hexagonal prism.
請求項7に記載の構造化照明装置において、
前記中空ミラーは、
六角柱状の中空ミラーである
ことを特徴とする構造化照明装置。
The structured lighting device according to claim 7.
The hollow mirror is
A structured lighting device characterized by being a hexagonal column-shaped hollow mirror.
請求項1〜請求項9の何れか一項に記載の構造化照明装置において、
前記第1偏向部及び前記第2偏向部の各々は、屈折部材である
ことを特徴とする構造化照明装置。
In the structured lighting device according to any one of claims 1 to 9,
Each of said 1st deflection | deviation part and said 2nd deflection | deviation part is a refractive member. The structured illuminating device characterized by the above-mentioned.
請求項1〜請求項9の何れか一項に記載の構造化照明装置において、
前記第1偏向部及び前記第2偏向部の各々は、反射部材である
ことを特徴とする構造化照明装置。
In the structured lighting device according to any one of claims 1 to 9,
Each of said 1st deflection | deviation part and said 2nd deflection | deviation part is a reflecting member. The structured illuminating device characterized by the above-mentioned.
請求項1〜請求項11の何れか一項に記載の構造化照明装置において、
前記干渉縞の位相をシフトさせる位相シフト手段を更に備える
ことを特徴とする構造化照明装置。
In the structured lighting device according to any one of claims 1 to 11,
The structured illumination device further comprising phase shift means for shifting the phase of the interference fringes.
請求項1〜請求項12の何れか一項に記載の構造化照明装置と、
前記干渉縞で空間変調された前記標本の画像である変調画像を撮像する撮像素子と、
を備えたことを特徴とする構造化照明顕微鏡装置。
The structured lighting device according to any one of claims 1 to 12,
An imaging device that captures a modulated image that is an image of the sample spatially modulated by the interference fringes;
A structured illumination microscope apparatus comprising:
請求項13に記載の構造化照明顕微鏡装置において、
前記変調画像に基づき前記標本の復調画像を生成する演算手段を更に備える
ことを特徴とする構造化照明顕微鏡装置。
The structured illumination microscope apparatus according to claim 13,
A structured illumination microscope apparatus, further comprising arithmetic means for generating a demodulated image of the sample based on the modulated image.
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