JP2015004601A - 偏芯測定装置、偏芯測定方法およびレンズの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】光学系における二つの光学面の近軸焦点もしくは曲率中心の位置が互いに近い場
合であっても、これら二つの光学面の偏芯量を精度良く測定することができる偏芯測定装
置および偏芯測定方法を提供する。
【解決手段】偏芯測定装置１は、第１および第２光学面５ａ，６ａにおいて反射された反
射測定光の位置情報、および第１および第２光学面５ａ，６ａを透過した透過測定光の位
置情報に基づいて、第１および第２光学面５ａ，６ａの偏芯量をそれぞれ算出する演算処
理部６０を備えて構成される。
【選択図】図１

Description

本発明は、光学系を構成する複数の光学素子のうちの二つの光学面の光学系の光軸に対
する偏芯量をそれぞれ測定する偏芯測定装置および偏芯測定方法に関する。また、この偏
芯測定装置を用いたレンズの製造方法に関する。

従来の偏芯測定装置として、光源から射出された光（照明光）をフォーカスレンズ系に
よって測定対象物である光学素子の測定対象面の近軸曲率中心位置に集光させ、測定対象
面において反射した光（測定光）をフォーカスレンズ系を介して集光レンズにより光位置
センサー（PSD：Position Sensitive Detector）に集光させる構成の装置が知られている
。このような偏芯測定装置では、測定対象面を光軸中心に回転させ、光位置センサーによ
って検出した測定光（スポット像）の振れ量から測定光の角度振れを検出し、測定対象物
の偏芯量を算出するように構成されている。また、従来の偏芯測定装置として、照明光を
フォーカスレンズ系によって測定対象面の近軸焦点位置に集光させ、測定対象面において
反射して平行光となった測定光を集光レンズによって光位置センサーに集光させる構成の
装置も知られている（例えば、特許文献１を参照）。

特開２０００‐２０５９９８号公報

ところで、測定対象が複数のレンズからなるレンズ系の場合に、照明光は、当該レンズ
系を構成するそれぞれのレンズの光学面において反射される。そのため、例えば、それら
のうちの二つの光学面の近軸焦点もしくは曲率中心の位置が互いに近い場合には、二つの
光学面からの反射光が重なった状態で光位置センサーにおいて検出されるため、二つの光
学面の偏芯量を精度良く測定することが難しいという問題があった。

本発明はこのような課題に鑑みたものであり、光学系における二つの光学面の近軸焦点
もしくは曲率中心の位置が互いに近い場合であっても、これら二つの光学面の偏芯量を精
度良く測定することができる偏芯測定装置および偏芯測定方法を提供することを目的とす
る。また、この偏芯測定装置を用いたレンズの製造方法を提供することを目的とする。

このような目的を達成するため、本発明に係る偏芯測定装置は、光軸上に沿って複数の
光学素子が並んで構成される光学系において、前記複数の光学素子のうちの二つの光学面
の近軸焦点位置もしくは曲率中心位置が近くに位置する構成において、前記二つの光学面
の前記光軸に対する偏芯量をそれぞれ測定する偏芯測定装置であって、照明光を前記二つ
の光学面の一方の前記近軸焦点位置もしくは前記曲率中心位置に集光するように前記二つ
の光学面に照射する照明部と、前記照明光が照射された前記二つの光学面において反射さ
れた反射光を所定の第１集光面に集光する第１集光部と、前記第１集光面に集光された前
記反射光を検出する第１検出部と、前記照明光が照射された前記二つの光学面を透過した
透過光を所定の第２集光面に集光する第２集光部と、前記第２集光面に集光された前記透
過光を検出する第２検出部と、前記第１検出部により検出された前記第１集光面における
前記反射光の位置情報、および前記第２検出部により検出された前記第２集光面における
前記透過光の位置情報に基づいて、前記二つの光学面の前記偏芯量をそれぞれ算出する算
出部とを備えて構成される。

また、本発明に係る偏芯測定方法は、光軸上に沿って複数の光学素子が並んで構成され
る光学系において、前記複数の光学素子のうちの二つの光学面の近軸焦点位置もしくは曲
率中心位置が近くに位置する構成において、前記二つの光学面の前記光軸に対する偏芯量
をそれぞれ測定する偏芯測定方法であって、照明光を前記二つの光学面の一方の前記近軸
焦点位置もしくは前記曲率中心位置に集光するように前記二つの光学面に照射する照明工
程と、前記照明光が照射された前記二つの光学面において反射された反射光を所定の第１
集光面に集光する第１集光工程と、前記第１集光面に集光された前記反射光を検出する第
１検出工程と、前記照明光が照射された前記二つの光学面を透過した透過光を所定の第２
集光面に集光する第２集光工程と、前記第２集光面に集光された前記透過光を検出する第
２検出工程と、前記第１検出工程において検出された前記第１集光面における前記反射光
の位置情報、および前記第２検出工程において検出された前記第２集光面における前記透
過光の位置情報に基づいて、前記二つの光学面の前記偏芯量をそれぞれ算出する算出工程
とを備えて構成される。

また、本発明に係るレンズの製造方法は、上記構成の偏芯測定装置を用いて被検レンズ
系の光軸に対する偏芯量を算出する算出工程と、前記偏芯量の算出結果に基づいて、前記
偏芯量が許容値内となるように前記被検レンズ系の偏芯調整を行う調整工程とを備えて構
成される。

本発明によれば、光学系における二つの光学面の近軸焦点もしくは曲率中心の位置が互
いに近い場合であっても、これら二つの光学面の偏芯量を精度良く測定することができる
。

本実施形態の偏芯測定装置の構成図である。 本実施形態の偏芯測定方法を示すフローチャートである。 第１および第２光学面における互いの偏芯が異なる場合における照明光および反射光について説明する光線図である。 第１および第２光学面の偏芯が同じ場合における照明光および反射光について説明する光線図である。 第１および第２光学面の偏芯量を算出する演算処理について説明するためのモデルケースを示す図である。 本実施形態のレンズの製造方法を示すフローチャートである。

以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。本実施形態に係る偏芯測定
装置１は、図１に示すように、測定対象物であるレンズ系を構成する第１レンズ５の光学
面５ａ（以下、第１光学面５ａと称する）および第２レンズ６の光学面６ａ（以下、第２
光学面６ａと称する）に照明光を照射する照明光学系１０と、第１光学面５ａおよび第２
光学面６ａからの反射光を第１集光面３１上に集光させる第１集光光学系２０と、第１集
光面３１に集光された集光光（スポット光）の第１集光面３１上の位置を検出する第１光
位置センサー３０と、第１光学面５ａおよび第２光学面６ａを透過した透過光を第２集光
面５１上に集光させる第２集光光学系４０と、第２集光面５１に集光された集光光（スポ
ット光）の第２集光面５１上の位置を検出する第２光位置センサー５０と、第１光位置セ
ンサー３０からの検出信号および第２光位置センサー５０からの検出信号に基づいて第１
および第２レンズ５，６の偏芯量をそれぞれ算出する演算処理部６０とを有して構成され
る。

測定対象である第１および第２レンズ５，６は、その光軸が照明光学系１０の光軸（レ
ンズ系の光軸）と重なるように配置され、高精度の回転台（図示せず）上に載置されてい
る。この回転台により第１および第２レンズ５，６はレンズの光軸を中心に回転可能とな
っている。そのため、第１および第２レンズ５，６の第１および第２光学面５ａ，６ａの
近軸焦点および曲率中心は、照明光学系１０の光軸上に位置することになる。

なお、第１および第２レンズ５，６は、図１では第１および第２光学面５ａ，６ａだけ
を図示しているが、実際には第１および第２光学面５ａ，６ａの反対側の光学面も有して
いる。そのため、第１光学面５ａに照射された照明光は、第１光学面５ａに入射する時お
よび反対側の光学面から射出する時にそれぞれ屈折され、第２レンズ６の光学面６ａに入
射する。従って、実際にはレンズの屈折を考えて光線追跡の計算を行い、偏芯測定が行わ
れる。しかしながら、以下においては、説明の容易化のため、第１および第２レンズ５，
６における一方の光学面５ａ，６ａだけを取り出して原理説明を行う。また、以下におい
ては、第１光学面５ａの近軸焦点位置Ｆと第２光学面６ａの近軸焦点位置Ｆ′がほぼ同じ
位置に位置する場合について説明する。

照明光学系１０は、直線偏光（Ｐ偏光）を射出する光源１１と、光源１１から射出され
た照明光を平行光に変換するコリメータレンズ系１２と、コリメータレンズ系１２を透過
した照明光（平行光）を集光させるフォーカスレンズ系１４と、フォーカスレンズ系１４
によって集光された照明光が入射する位置に設けられた偏光ビームスプリッター１３と、
偏光ビームスプリッター１３を透過した照明光が入射する位置に設けられた１／４波長板
１５とを有し、１／４波長板１５を透過した照明光が第１および第２光学面５ａ，６ａに
入射するように構成される。

フォーカスレンズ系１４は、レンズ間隔を変化させることにより、照明光の集光点の位
置（集光位置）を照明光学系１０の光軸（レンズ系の光軸）に沿って移動調整することが
可能に構成されている。偏光ビームスプリッター１３は、光源１１から射出された照明光
であるＰ偏光（振動方向が入射面内に含まれる直線偏光）を透過させ、Ｐ偏光と振動方向
が直交するＳ偏光を反射させる光学素子である。

光源１１から射出された照明光（Ｐ偏光）は、コリメータレンズ系１２を透過して平行
光となり、フォーカスレンズ系１４によって集光され、偏光ビームスプリッター１３に入
射する。このとき、フォーカスレンズ系１４のレンズ間隔が調整され、第１光学面５ａの
近軸焦点位置Ｆ（もしくは第２光学面６ａの近軸焦点位置Ｆ′）に照明光が集光される。

偏光ビームスプリッター１３を透過した照明光は、１／４波長板１５を透過した後に第
１光学面５ａに照射される。照明光が照射され第１光学面５ａで反射した光（以下、第１
反射測定光と称する）は、照明光が近軸焦点位置Ｆに集光されているため平行光となり、
１／４波長板１５を透過して偏光ビームスプリッター１３に入射する。このとき、光源１
１から射出された照明光は、Ｐ偏光として偏光ビームスプリッター１３を透過し、第１光
学面５ａで反射して偏光ビームスプリッター１３に戻るまでに、１／４波長板１５を２回
通過するので、偏光ビームスプリッター１３に入射する第１反射測定光はＳ偏光となる。
そのため、第１反射測定光は、偏光ビームスプリッター１３で反射して第１集光光学系２
０に入射する。

照明光が照射され第１光学面５ａを透過した光は、第２光学面６ａに照射される。そし
て、第２光学面６ａで反射した光（以下、第２反射測定光と称する）は、第１反射測定光
と同様に平行光となり、第１光学面５ａを透過して第１反射測定光と重なった状態となり
、１／４波長板１５を透過して偏光ビームスプリッター１３に入射する。この第２反射測
定光においても１／４波長板１５を２回通過しているのでＳ偏光となるため、第２反射測
定光は、偏光ビームスプリッター１３で反射して第１集光光学系２０に入射する。一方、
第１光学面５ａを透過した光が照射され第２光学面６ａを透過した光（以下、透過測定光
と称する）は、照明光が近軸焦点位置Ｆに集光されているため平行光となり、第２集光光
学系４０に入射する。

第１集光光学系２０は、偏光ビームスプリッター１３で反射された第１および第２反射
測定光を第１集光面３１上に集光させる第１集光レンズ２１と、第１集光レンズ２１と第
１集光面３１の間に設けられた第１ハービング２２と、第１ハービング２２を反射測定光
の光軸に対して傾斜させる第１ハービング駆動装置２３とを有して構成される。第１集光
レンズ２１は、図１において１枚の光学レンズとして図示しているが、複数の光学レンズ
からなるレンズ系によって構成されてもよい。第１ハービング２２は、光学ガラスを用い
た平行平板であり、入射した反射測定光を屈折させる光学素子である。第１ハービング駆
動装置２３は、第１ハービング２２の反射測定光の光軸に対しての傾きを制御して反射測
定光を屈折させる量を制御することにより、第１集光面３１における反射測定光の集光位
置を変更させることが可能に構成されている。

偏光ビームスプリッター１３で反射された第１および第２測定反射光（Ｓ偏光）は、第
１集光レンズ２１および第１ハービング２２を透過して第１光位置センサー３０の検出部
に設けられた第１集光面３１に集光される。

第１光位置センサー３０は、第１集光光学系２０（第１集光レンズ２１）により第１集
光面３１に集光された第１および第２反射測定光（スポット像）を検出する。第１光位置
センサー３０は、第１集光面３１に集光された反射測定光の位置（重心位置）を検出可能
であり、その検出信号を演算処理部６０へ出力する。

第２集光光学系４０は、第１光学面５ａおよび第２光学面６ａを透過した透過測定光を
第２集光面５１上に集光させる第２集光レンズ４１を有して構成される。第２集光レンズ
４１は、上記第１集光レンズ２１と同様に、複数の光学レンズからなるレンズ系によって
構成されてもよい。第１光学面５ａおよび第２光学面６ａを透過した透過測定光は、第２
集光レンズ４１により第２光位置センサー５０の検出部に設けられた第２集光面５１に集
光される。

第２光位置センサー５０は、第２集光光学系４０（第２集光レンズ４１）により第２集
光面５１に集光された透過測定光（スポット像）を検出する。第２光位置センサー５０は
、第２集光面５１に集光された透過測定光の位置（重心位置）を検出可能であり、その検
出信号を演算処理部６０へ出力する。

演算処理部６０は、第１光位置センサー３０により検出された第１集光面３１における
反射測定光の位置情報、および、第２光位置センサー５０により検出された第２集光面５
１における透過測定光の位置情報に基づいて、後述する計算処理を行い、第１光学面５ａ
および第２光学面６ａの偏芯量（光学系の光軸に対する偏芯量）をそれぞれ算出するよう
に構成されている。第１および第２光学面５ａ，６ａの偏芯測定を行うときには、不図示
の回転台に載置された第１および第２レンズ５，６を回転させる。そうすると、第１光位
置センサー３０において第１集光面３１における反射測定光のリサージュ（軌跡）が検出
され、そのリサージュ半径を上記反射測定光の位置情報として用いる。また、第２光位置
センサー５０において第２集光面５１における透過測定光のリサージュが検出され、その
リサージュ半径を上記透過測定光の位置情報として用いる。

以上のように構成される偏芯測定装置１を用いた偏芯測定方法について、図２のフロー
チャートを参照しながら説明する。まず、照明光学系１０により測定対象の第１光学面５
ａおよび第２光学面６ａに照明光を照射する（ステップＳ１０１）。この照明工程におい
て、フォーカスレンズ系１４のレンズ間隔を駆動調整し、照明光が第１光学面５ａの近軸
焦点位置Ｆ（もしくは第２光学面６ａの近軸焦点位置Ｆ′）に集光するように照明光を照
射する。このような状態において、光源１１から射出された照明光は、コリメータレンズ
系１２を透過して平行光となり、フォーカスレンズ系１４によって近軸焦点位置Ｆに向け
て集光され、偏光ビームスプリッター１３および１／４波長板１５を透過して第１光学面
５ａおよび第２光学面６ａに照射される。

例えば、図３に示すように、第１および第２光学面５ａ，６ａにおける互いの偏芯（光
学系の光軸（照明光の光軸）に対して傾斜）が異なる場合には、第１光学面５ａに照射さ
れた照明光の一部は第１光学面５ａにおいて光軸Ａ方向（図３において左方に傾いた方向
）に反射され、その反射光（第１測定反射光）は偏光ビームスプリッター１３で反射され
て第１集光光学系２０に入射する。また、第２光学面６ａに照射された照明光の一部は第
２光学面６ａにおいて上記光軸Ａと異なる光軸Ｂ方向（図３において右方に傾いた方向）
に反射され、その反射光（第２反射測定光）は偏光ビームスプリッター１３で反射されて
第１集光光学系２０に入射する。

なお、図４に示すように、第１および第２光学面５ａ，６ａが互いに同じ方向に偏芯し
、その偏芯量が同じ場合には、第１光学面５ａにおいて反射された第１測定反射光は、光
軸Ａ′方向（図３において左方に傾いた方向）に進み、偏光ビームスプリッター１３で反
射されて第１集光光学系２０に入射する。また、第２光学面６ａにおいて反射された第２
測定反射光は、上記光軸Ａ′と平行な光軸Ｂ′方向に進み、偏光ビームスプリッター１３
で反射されて第１集光光学系２０に入射する。なお、光軸Ａ′と光軸Ｂ′の距離は、第１
光学面５ａと第２光学面６ａの距離に関連するものである。このように第１および第２光
学面５ａ，６ａが同じように偏芯する場合であっても、それぞれの光学面で反射される光
の方向は異なり、反射偏芯は変化する。

次に、第１集光光学系２０により第１光学面５ａで反射した第１反射測定光および第２
光学面６ａで反射した第２反射測定光を第１光位置センサー３０の第１集光面３１に集光
する（ステップＳ１０２）。この第１集光工程において、偏光ビームスプリッター１３で
反射した第１および第２反射測定光は、第１集光レンズ２１により集光され、第１ハービ
ング２２を通過した後に第１光位置センサー３０の第１集光面３１に集光される。このと
き、第１および第２光学面５ａ，６ａが偏芯している場合には、第１集光面３１において
、第１反射測定光（第１光学面５ａで反射した光）が集光する位置と、第２反射測定光（
第２光学面６ａで反射した光）が集光する位置とが異なる。

そして、第１光位置センサー３０により第１集光面３１に集光された第１反射測定光お
よび第２反射測定光（スポット像）を検出する（ステップＳ１０３）。この第１検出工程
において、第１光位置センサー３０は、第１集光面３１における第１および第２反射測定
光の位置（重心位置）を検出し、その検出信号を演算処理部６０へ出力する。このとき、
不図示の回転台により第１および第２レンズ５，６が回転駆動され、第１光位置センサー
３０において第１集光面３１における第１および第２反射測定光（スポット重心）のリサ
ージュ（軌跡）が検出される。また、第１ハービング駆動装置２３を駆動して第１ハービ
ング２２の測定光軸に対する傾きを制御して第１および第２反射測定光を屈折させる量を
制御することにより、第１光位置センサー３０の第１集光面３１における第１および第２
反射測定光の集光位置を変更させる。これにより第１および第２反射測定光の光量比（強
度比）を検出し、その検出信号を演算処理部６０へ出力する。

一方、照明光学系１０により第１光学面５ａに照射された照明光の一部は第１光学面５
ａを透過し、その際に第１光学面５ａによって屈折され、その透過光が第２光学面６ａに
入射する。そして、その透過光の一部は第２光学面６ａを透過し、その際に第２光学面６
ａによって屈折され、その透過光（透過測定光）は第２集光光学系４０に入射する。ここ
で、例えば、図４に示すように、第１および第２光学面５ａ，６ａが互いに同じ方向に偏
芯し、その偏芯量が同じ場合には、第１光学面５ａにおいて屈折される方向と、第２光学
面６ａにおいて屈折される方向とが同じ方向となり、透過偏芯は変化しない。一方、図３
に示すように、第１および第２光学面５ａ，６ａにおける互いの偏芯（光学系の光軸（照
明光の光軸）に対して傾斜）が異なる場合には、第１光学面５ａにおいて屈折される方向
と、第２光学面６ａにおいて屈折される方向とが異なる方向となり、透過偏芯は変化する
。

次に、第２集光光学系４０により第１および第２光学面５ａ，６ａを透過した透過測定
光を第２光位置センサー５０の第２集光面５１に集光する（ステップＳ１０４）。この第
２集光工程において、第１および第２光学面５ａ，６ａを透過した透過測定光は、第２集
光レンズ４１により集光され、第２光位置センサー５０の第２集光面５１に集光される。

そして、第２光位置センサー５０により第２集光面５１に集光された透過測定光（スポ
ット像）を検出する（ステップＳ１０５）。この第２検出工程において、第２光位置セン
サー５０は、第２集光面５１における透過測定光の位置（重心位置）を検出し、その検出
信号を演算処理部６０へ出力する。このとき、不図示の回転台により第１および第２レン
ズ５，６が回転駆動され、第２光位置センサー５０において第２集光面５１における透過
測定光（スポット重心）のリサージュ（軌跡）が検出される。

第１光位置センサー３０からの検出信号および第２光位置センサー５０からの検出信号
が演算処理部６０に入力されると、ステップＳ１０６の測定工程において、演算処理部６
０は、第１光位置センサー３０により検出された第１および第２反射測定光のリサージュ
の半径を測定し、そのリサージュの半径に基づいて第１および第２光学面５ａ，６ａの反
射偏芯量を求める。また、演算処理部６０は、第２光位置センサー５０により検出された
透過測定光のリサージュの半径を測定し、そのリサージュの半径に基づいて第１および第
２光学面５ａ，６ａの透過偏芯量を求める。そして、演算処理部６０は、求めた反射偏芯
量および透過偏芯量、並びに、上述の第１検出工程において検出した第１および第２反射
測定光の光量比に基づいて、後述する演算処理を行って第１光学面５ａの偏芯量および第
２光学面６ａの偏芯量をそれぞれ算出し、処理を終了する。

この演算処理について図５に示すモデルケースを用いて説明する。このモデルケースに
おいては、第１面の曲率半径がＲ１、第２面の曲率半径がＲ２であり、第１面と第２面は
中心間隔（光学系の光軸上の距離）がｔである。そして、第２面の第１面と反対側の屈折
率がｎ１、第１面と第２面の間の屈折率がｎ２、第１面の第２面と反対側の屈折率がｎ３
であり、第１面の物理的な偏芯量がｓ１、第２面の物理的な偏芯量がｓ２である。このよ
うな第１面および第２面において、上述の偏芯測定装置１を用いて第２面、第１面の順に
照明光を照射したときに測定される透過偏芯量transmission〔rad〕は下記の数式１のよ
うに表すことができる。

一方、図５に示す第１面および第２面において、上述の偏芯測定装置１を用いて測定さ
れる反射偏芯量reflective〔rad〕は、偏芯測定装置１において検出される第１面および
第２面で反射された光の光量比ｒ（光の強度比）も用いて、下記の数式２のように表すこ
とができる。なお、光量比ｒは、第１面で反射された光の光量を、第２面で反射された光
の光量で除した（割り算した）値である。

上記数式１および数式２を整理すると、下記の数式３に示すようになる。そして、この
数式３から下記の数式４に示すように第１面および第２面の物理的な偏芯量がｓ１，ｓ２
をそれぞれ算出することができる。

このように偏芯測定装置１では、第１および第２光学面５ａ，６ａの反射偏芯量を測定
するとともに、第１および第２光学面５ａ，６ａでそれぞれ反射された第１および第２反
射測定光の光量比を測定し、さらに第１および第２光学面５ａ，６ａの透過偏芯量を測定
するように構成されている。そして、測定した反射偏芯量、第１および第２反射測定光の
光量比および透過偏芯量に基づいて、上記数式１〜３を用いて第１および第２光学面５ａ
，６ａの偏芯量をそれぞれ算出するように構成されている。そのため、第１および第２光
学面５ａ，６ａの近軸焦点もしくは曲率中心の位置が互いに近い場合であっても、第１お
よび第２光学面５ａ，６ａの偏芯量を精度良く測定することができる。

次に、複数のレンズ部品を有するレンズ（レンズ系）の製造方法について、図６に示す
フローチャートを参照しながら説明する。まず、レンズ鏡筒内に複数のレンズ部品を配置
して、レンズ系を組み立てる（ステップＳ２０１）。次に、組み立てたレンズ系の偏芯量
を、上述した図１に示す偏芯測定装置１を用いて測定する（ステップＳ２０２）。そして
、偏芯量の測定結果に基づいて、当該偏芯量が許容値内となるようにレンズ系の偏芯調整
を行う（ステップＳ２０３）。

このような製造方法によれば、上述した偏芯測定装置１を用いて、正確な偏芯量を測定
することができるので、レンズ（レンズ系）の製造品質を向上させることができる。なお
、単レンズの場合にも、同様の製造を行うことができる。すなわち、レンズについては、
複数のレンズ部品からなるレンズ系でも、単レンズでもよい。

なお、上述の実施形態において、照明光学系１０により照明光が第１光学面５ａの近軸
焦点位置Ｆ（もしくは第２光学面６ａの近軸焦点位置Ｆ′に集光するように照射されて偏
芯測定が行われているが、第１もしくは第２光学面５ａ，６ａの曲率中心に集光するよう
に照明光を照射して偏芯測定を行うように構成してもよい。

また、上述の実施形態において、第１集光工程および第１検出工程（ステップＳ１０２
，１０３）と、第２集光工程および第２検出工程（ステップＳ１０４，１０５）との順番
を入れ替えて（逆にして）もよい。すなわち、透過測定光を検出し、それから反射測定光
を検出するようにしてもよい。また、透過測定光および反射測定光の検出を略同時におこ
なうようにしてもよい。

また、上述の実施形態において、第１ハービング２２の測定光軸に対する傾きを制御し
て反射測定光を屈折させる量を制御することにより、第１光位置センサー３０の第１集光
面３１における反射測定光の集光位置を変更させることが可能に構成されているが、これ
に限られるものではない。例えば、第１ハービング２２に代えてリズレープリズム系やミ
ラー等の光学素子を備える構成、もしくは第１光位置センサー３０を測定光軸に対して移
動させる構成としてもよく、このような構成により第１集光面３１における反射測定光の
集光位置を変更させることを可能に構成してもよい。

１ 偏芯測定装置
５ 第１レンズ（光学素子）
５ａ 第１光学面
６ 第２レンズ（光学素子）
６ａ 第２光学面
１０ 照明光学系（照明部）
２０ 第１集光光学系（第１集光部）
３０ 第１光位置センサー（第１検出部）
３１ 第１集光面
４０ 第２集光光学系（第２集光部）
５０ 第２光位置センサー（第２検出部）
５１ 第２集光面
６０ 演算処理部（算出部）

Claims (4)

1. 光軸上に沿って複数の光学素子が並んで構成される光学系において、前記複数の光学素
   子のうちの二つの光学面の近軸焦点位置もしくは曲率中心位置が近くに位置する構成にお
   いて、前記二つの光学面の前記光軸に対する偏芯量をそれぞれ測定する偏芯測定装置であ
   って、
   照明光を前記二つの光学面の一方の前記近軸焦点位置もしくは前記曲率中心位置に集光
   するように前記二つの光学面に照射する照明部と、
   前記照明光が照射された前記二つの光学面において反射された反射光を所定の第１集光
   面に集光する第１集光部と、
   前記第１集光面に集光された前記反射光を検出する第１検出部と、
   前記照明光が照射された前記二つの光学面を透過した透過光を所定の第２集光面に集光
   する第２集光部と、
   前記第２集光面に集光された前記透過光を検出する第２検出部と、
   前記第１検出部により検出された前記第１集光面における前記反射光の位置情報、およ
   び前記第２検出部により検出された前記第２集光面における前記透過光の位置情報に基づ
   いて、前記二つの光学面の前記偏芯量をそれぞれ算出する算出部とを備えて構成されるこ
   とを特徴とする偏芯測定装置。
2. 前記算出部は、前記反射光の位置情報に基づいて前記二つの光学面の反射偏芯量を求め
   、前記透過光の位置情報に基づいて前記二つの光学面の透過偏芯量を求め、前記反射光の
   位置情報に基づいて前記二つの光学面のそれぞれにおいて反射された光の光量比を求め、
   前記反射偏芯量、前記透過偏芯量および前記光量比を用いて前記二つの光学面の前記偏芯
   量をそれぞれ算出するように構成されることを特徴とする請求項１に記載の偏芯測定装置
   。
3. 光軸上に沿って複数の光学素子が並んで構成される光学系において、前記複数の光学素
   子のうちの二つの光学面の近軸焦点位置もしくは曲率中心位置が近くに位置する構成にお
   いて、前記二つの光学面の前記光軸に対する偏芯量をそれぞれ測定する偏芯測定方法であ
   って、
   照明光を前記二つの光学面の一方の前記近軸焦点位置もしくは前記曲率中心位置に集光
   するように前記二つの光学面に照射する照明工程と、
   前記照明光が照射された前記二つの光学面において反射された反射光を所定の第１集光
   面に集光する第１集光工程と、
   前記第１集光面に集光された前記反射光を検出する第１検出工程と、
   前記照明光が照射された前記二つの光学面を透過した透過光を所定の第２集光面に集光
   する第２集光工程と、
   前記第２集光面に集光された前記透過光を検出する第２検出工程と、
   前記第１検出工程において検出された前記第１集光面における前記反射光の位置情報、
   および前記第２検出工程において検出された前記第２集光面における前記透過光の位置情
   報に基づいて、前記二つの光学面の前記偏芯量をそれぞれ算出する算出工程とを備えるこ
   とを特徴とする偏芯測定方法。
4. 請求項１または２に記載の偏芯測定装置を用いて被検レンズ系の光軸に対する偏芯量を
   算出する算出工程と、
   前記偏芯量の算出結果に基づいて、前記偏芯量が許容値内となるように前記被検レンズ
   系の偏芯調整を行う調整工程とを備えることを特徴とするレンズの製造方法。