JP2014232743A - Optical device, filter, and method of manufacturing the same - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inexpensive filter capable of being easily replaced at low cost, a method of manufacturing the filter, and an optical device using the filter.SOLUTION: A filter has a roll-like film 13. Additionally, the filter comprises a plurality of transmission parts 12 that are arranged along the longitudinal direction of the film 13, and a support part 11 that is provided around the transmission part 12. The transmission parts 12 has a mesh-like support pattern 14b that is formed on the film 13. In the support part 11, the support pattern 14a is formed on the whole surface of the film 13.

Description

本発明は、光学装置、フィルタ、及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical device, a filter, and a manufacturing method thereof.

Ｘｅプラズマを光源からＸ線を取り出すＸ線フィルタにおいて、ジルコニウムフォイルを用いたフィルタが利用されている（非特許文献１、２）。ジルコニウムフォイルを用いることで、赤外線を効果的にカットすることができる。Ｘ線の透過率を高くするためには、ジルコニウムフォイルの厚さを１００ｎｍ程度とすることが望ましい。   A filter using zirconium foil is used in an X-ray filter that extracts X-rays from Xe plasma from a light source (Non-Patent Documents 1 and 2). By using a zirconium foil, infrared rays can be effectively cut. In order to increase the X-ray transmittance, the thickness of the zirconium foil is preferably about 100 nm.

しかしながら、フォイルを薄くした結果、機械的な強度が不足し、光源から飛来するデブリなどの衝突によって、フィルタに容易に穴が開いてしまう。特に、透過率が高い薄いフィルタは、頻繁に交換する必要がある。また、フィルタ交換の際は、真空を破る必要がある。したがって、真空チャンバを再度真空にするまでの時間を含めると数時間要してしまう。したがって、交換時間が長くなってしまい、フィルタが設置される装置の稼働率が低下してしまう。さらに、装置にフィルタを固定するためには、非特許文献１のようにフィルタの外周部にフレームを形成する必要がある。すなわち、機械的強度を高めるために、フィルタの周辺にフレームを設ける必要がある。フレームを持つ複雑な構造とした場合、フィルタの低コスト化が困難になってしまう。   However, as a result of thinning the foil, the mechanical strength is insufficient, and a hole is easily opened in the filter due to a collision such as debris flying from the light source. In particular, thin filters with high transmittance need to be replaced frequently. Also, when replacing the filter, it is necessary to break the vacuum. Accordingly, it takes several hours to include the time until the vacuum chamber is evacuated again. Therefore, the replacement time becomes long, and the operation rate of the apparatus in which the filter is installed is lowered. Further, in order to fix the filter to the apparatus, it is necessary to form a frame on the outer periphery of the filter as in Non-Patent Document 1. That is, it is necessary to provide a frame around the filter in order to increase the mechanical strength. In the case of a complicated structure having a frame, it is difficult to reduce the cost of the filter.

T.A. Johnson, R. Soufli, E.M. Gulikson, M. Clift, “Zirconium and Niobium Transmission Data at Wavelengths from 11-16 nm and 200-1200 nm” Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths (part of SPIE's Annual Meeting on Optical Science and TechnologyTA Johnson, R. Soufli, EM Gulikson, M. Clift, “Zirconium and Niobium Transmission Data at Wavelengths from 11-16 nm and 200-1200 nm” Optical Constants of Materials for UV to X-Ray Wavelengths (part of SPIE's Annual Meeting on Optical Science and Technology Forbes R. Powell, Terry A. Johnson, “Filter windows for EUV lithography”, [平成２５年５月２１日検索] インターネットURL:http://www.luxel.com/wp-content/uploads/2010/04/EUVL-Paper.pdf#search=%27Filter+windows+for+EUV+lithography%27Forbes R. Powell, Terry A. Johnson, “Filter windows for EUV lithography”, [Search May 21, 2013] Internet URL: http://www.luxel.com/wp-content/uploads/2010/04 /EUVL-Paper.pdf#search=%27Filter+windows+for+EUV+lithography%27

本発明は、このような事情を背景としてなされたものであり、低コストで交換が容易なフィルタ、フィルタの製造方法、及び光学装置を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made against the background of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a filter, a filter manufacturing method, and an optical device that can be easily replaced at low cost.

本発明の一態様に係るフィルタは、ロール状のフィルムと、前記フィルム上に形成されたメッシュ状の支持パターンを有し、前記フィルムの長手方向に沿って配列された複数の透過部と、前記支持パターンが前記フィルムの全面に形成され、前記透過部の周囲に設けられた支持部と、を備えたものである。これにより、低コストで交換が容易なフィルムを実現することができる。   The filter according to an aspect of the present invention includes a roll-shaped film, a plurality of transmission portions arranged along the longitudinal direction of the film, the mesh-shaped support pattern formed on the film, A support pattern formed on the entire surface of the film, and a support portion provided around the transmission portion. As a result, a film that can be easily replaced at low cost can be realized.

上記のフィルタにおいて、前記支持パターンが前記フィルムよりも厚く形成されていてもよい。これにより、フィルム１３を確実に支持することができる   In the above filter, the support pattern may be formed thicker than the film. Thereby, the film 13 can be reliably supported.

上記のフィルタにおいて、前記フィルムがジルコニウム膜によって形成され、前記支持パターンが、ニッケルメッキ膜によって形成されていてもよい。これにより、Ｘ線を効果的に透過させることができる。   In the above filter, the film may be formed of a zirconium film, and the support pattern may be formed of a nickel plating film. Thereby, X-rays can be effectively transmitted.

本発明の一態様にかかる光学装置は、上記のフィルタと、前記フィルタを張設するように、前記フィルタが巻き付けられた一対のリールと、前記フィルタの前記透過部を通過する光を出射する光源と、前記光源からの光の光路中に配置される前記透過部を順番に送り出すために、前記一対のリールを駆動する駆動機構と、前記フィルタと前記一対のリールと前記光源とを収容する真空チャンバと、を備えたものである。   An optical device according to an aspect of the present invention includes the above-described filter, a pair of reels around which the filter is wound so as to stretch the filter, and a light source that emits light passing through the transmission portion of the filter. And a drive mechanism for driving the pair of reels, a vacuum for housing the filter, the pair of reels, and the light source in order to sequentially send out the transmission portions arranged in the optical path of light from the light source. And a chamber.

本発明の一態様にかかるフィルタの製造方法は、複数の透過部と、前記透過部の周囲に設けられた支持部とを備えたロールフィルム状のフィルタの製造方法であって、前記透過部となる領域にはメッシュ状の開口部を有し、前記支持部となる領域で開口したレジストパターンをベースフィルム上に形成するステップと、前記レジストパターンをマスクとして、前記ベースフィルムにメッキ膜を形成するステップと、前記レジストパターン、及び前記メッキ膜を覆うようにフィルタ膜を形成するステップと、前記フィルタ膜、及び前記メッキ膜から、前記ベースフィルム、及び前記レジストパターンを取り外すステップと、を備えたものである。これにより、高い生産性で、フィルタを製造することができる。   The method for manufacturing a filter according to one aspect of the present invention is a method for manufacturing a roll film filter including a plurality of transmission parts and a support part provided around the transmission parts, Forming a resist pattern on the base film having a mesh-like opening in the region to be formed, and forming a plating film on the base film using the resist pattern as a mask And a step of forming a filter film so as to cover the resist pattern and the plating film, and a step of removing the base film and the resist pattern from the filter film and the plating film. It is. Thereby, a filter can be manufactured with high productivity.

上記のフィルタの製造方法において、前記メッキ膜が前記フィルタ膜よりも厚く形成されていてもよい。これにより、フィルタを確実に支持することができる。   In the filter manufacturing method, the plating film may be formed thicker than the filter film. Thereby, a filter can be supported reliably.

上記のフィルタの製造方法において、前記フィルタ膜を形成する前に、レジストパターンの表面を粗面化する工程をさらに備えていてもよい。これにより、張力によって、フィルタが破れるのを防ぐことができる。   In the above-described filter manufacturing method, a step of roughening the surface of the resist pattern may be further provided before forming the filter film. Thereby, it can prevent that a filter is torn by tension | tensile_strength.

上記のフィルタの製造方法において、前記ベースフィルムに、前記透過部を複数列形成し、隣接する列間の位置で、前記フィルム膜を切断するようにしてもよい。こうすることで、より低コストで、フィルタを製造することができる。   In the filter manufacturing method, a plurality of rows of the transmission portions may be formed on the base film, and the film film may be cut at a position between adjacent rows. By carrying out like this, a filter can be manufactured at lower cost.

上記のフィルタの製造方法において、前記フィルタ膜がジルコニウム膜であり、前記メッキ膜が、ニッケルメッキ膜であってもよい。これにより、Ｘ線を効果的に透過させることができる。   In the filter manufacturing method, the filter film may be a zirconium film, and the plating film may be a nickel plating film. Thereby, X-rays can be effectively transmitted.

本発明によれば、低コストで交換が容易なフィルタ、フィルタの製造方法、及び光学装置を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the filter which can be replaced | exchanged easily at low cost, the manufacturing method of a filter, and an optical apparatus can be provided.

本実施の形態にかかるフィルタを用いた光学装置の全体構成を示す図である。It is a figure which shows the whole structure of the optical apparatus using the filter concerning this Embodiment. フィルタの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of a filter. 図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。It is III-III sectional drawing of FIG. 図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。It is III-III sectional drawing of FIG. フィルタの製造工程を示す工程断面図である。It is process sectional drawing which shows the manufacturing process of a filter. フィルタの別の製造工程を示す平面図であるIt is a top view which shows another manufacturing process of a filter. フィルタの変形例を示す平面図である。It is a top view which shows the modification of a filter.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照して説明する。以下の説明は、本発明の好適な実施の形態を示すものであって、本発明の範囲が以下の実施の形態に限定されるものではない。以下の説明において、同一の符号が付されたものは実質的に同様の内容を示している。また、以下、説明の明確化のため、ＸＹＺ直交座標系を用いて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The following description shows preferred embodiments of the present invention, and the scope of the present invention is not limited to the following embodiments. In the following description, the same reference numerals indicate substantially the same contents. In addition, for the sake of clarity, the following description will be made using an XYZ orthogonal coordinate system.

図１を用いて、本実施の形態にかかる光学装置について、説明する。図１は、フィルタ１０を用いた光学装置１００の全体構成を模式的に示す図である。光源装置１００は、真空チャンバ１、光源チャンバ２、フィルタ用チャンバ３、光源５、及びフィルタ装置６を備えている。フィルタ装置６は、フィルタ１０、回転軸２１、回転軸２２、送り出しリール２３、及び巻き取りリール２４を備えている。   The optical device according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a diagram schematically showing an overall configuration of an optical device 100 using a filter 10. The light source device 100 includes a vacuum chamber 1, a light source chamber 2, a filter chamber 3, a light source 5, and a filter device 6. The filter device 6 includes a filter 10, a rotation shaft 21, a rotation shaft 22, a delivery reel 23, and a take-up reel 24.

真空チャンバ１は、光源チャンバ２とフィルタ用チャンバ３を備えている。光源チャンバ２は、フィルタ用チャンバ３と連通している。真空チャンバ１は、図示しない真空ポンプによって排気され、真空状態となっている。   The vacuum chamber 1 includes a light source chamber 2 and a filter chamber 3. The light source chamber 2 communicates with the filter chamber 3. The vacuum chamber 1 is evacuated by a vacuum pump (not shown) and is in a vacuum state.

光源チャンバ２には、光源５が収容されている。光源５は、例えば、放電によりＸ線を発生するプラズマＸ線源である。光源５は、内部に放電用の電極を備えており、ガス配管５ａから供給される光源ガスを放電させることでＸ線を発生させる。すなわち、放電ガスを光源チャンバ２に供給しながら、光源５の電極に電圧を印加することで、光源５内でプラズマが発生する。これにより、光源５からＸ線Ｌが発生する。Ｘ線Ｌは、所定の角度で拡がりながら、フィルタ用チャンバ３に入射する。ここでは、Ｘ線Ｌの光軸をＺ方向として説明する。ガス配管５ａから供給する放電ガスとしては、Ｘｅガス、Ｓｎガス又はこれらの混合ガス等を用いることができる。なお、ＸｅガスやＳｎガス以外の放電ガスを用いたＤＰＰ（Discharge Produced Plasma）光源、あるいはＬＰＰ（Laser Produced Plasma）光源を光源５として用いてもよい。   A light source 5 is accommodated in the light source chamber 2. The light source 5 is, for example, a plasma X-ray source that generates X-rays by discharge. The light source 5 includes an electrode for discharge inside, and generates X-rays by discharging light source gas supplied from the gas pipe 5a. That is, plasma is generated in the light source 5 by applying a voltage to the electrode of the light source 5 while supplying the discharge gas to the light source chamber 2. Thereby, X-rays L are generated from the light source 5. The X-ray L enters the filter chamber 3 while spreading at a predetermined angle. Here, the optical axis of the X-ray L is described as the Z direction. As the discharge gas supplied from the gas pipe 5a, Xe gas, Sn gas, a mixed gas thereof or the like can be used. Note that a DPP (Discharge Produced Plasma) light source or a LPP (Laser Produced Plasma) light source using a discharge gas other than Xe gas or Sn gas may be used as the light source 5.

フィルタ用チャンバ３には、フィルタ装置６が収容されている。フィルタ装置６は、一対のリールである送り出しリール２３及び巻き取りリール２４を備えている。送り出しリール２３及び巻き取りリール２４は円筒状になっている。送り出しリール２３、及び巻き取りリール２４の側面にフィルタ１０がロール状に巻き付けられている。すなわち、フィルタ１０の一端は、送り出しリール２３に取り付けられ、他端は巻き取りリール２４に取り付けられている。フィルタ１０は、送り出しリール２３及び巻き取りリール２４の間に張設されている。このように、フィルタ１０は、送り出しリール２３及び巻き取りリール２４に巻き付けられたロールフィルムとなっている。例えば、５ｍ程度の長さを有するフィルタ１０が送り出しリール２３、巻き取りリール２４に巻き付けられている。   A filter device 6 is accommodated in the filter chamber 3. The filter device 6 includes a delivery reel 23 and a take-up reel 24 which are a pair of reels. The delivery reel 23 and the take-up reel 24 are cylindrical. The filter 10 is wound around the side surfaces of the delivery reel 23 and the take-up reel 24 in a roll shape. That is, one end of the filter 10 is attached to the delivery reel 23, and the other end is attached to the take-up reel 24. The filter 10 is stretched between the delivery reel 23 and the take-up reel 24. Thus, the filter 10 is a roll film wound around the feed reel 23 and the take-up reel 24. For example, the filter 10 having a length of about 5 m is wound around the feed reel 23 and the take-up reel 24.

送り出しリール２３、及び巻き取りリール２４には、駆動機構である回転軸２１、２２がそれぞれ取り付けられている。回転軸２１、２２は、ＸＺ平面に垂直な方向に沿って配置されている。回転軸２１、２２は、図示しないモータなどによって、回転する。回転軸２１が送り出しリール２３を回転駆動し、回転軸２２が巻き取りリール２４を回転駆動する。これにより、ロール状のフィルタ１０が、Ｘ方向に送り出されていく。   Rotating shafts 21 and 22 as drive mechanisms are attached to the delivery reel 23 and the take-up reel 24, respectively. The rotary shafts 21 and 22 are arranged along a direction perpendicular to the XZ plane. The rotary shafts 21 and 22 are rotated by a motor (not shown) or the like. The rotating shaft 21 drives the delivery reel 23 to rotate, and the rotating shaft 22 drives the take-up reel 24 to rotate. Thereby, the roll-shaped filter 10 is sent out in the X direction.

送り出しリール２３と、巻き取りリール２４はＸ方向に離間して配置されている。送り出しリール２３と、巻き取りリール２４とは、Ｘ線Ｌの光路を挟むように配置されている。そして、Ｘ線Ｌが通過する位置では、フィルム状のフィルタ１０が、Ｚ方向と垂直な面に配置されている。すなわち、フィルタ１０の厚さ方向がＺ方向と平行になっている。したがって、送り出しリール２３と巻き取りリール２４との間に張設されたフィルタ１０をＸ線Ｌが横切る。フィルタ１０が、不要な波長の光（例えば、赤外線）をカットする。さらには、フィルタ１０が、光源５で発生したデブリ、分子、イオンをカットする。   The delivery reel 23 and the take-up reel 24 are spaced apart in the X direction. The delivery reel 23 and the take-up reel 24 are arranged so as to sandwich the optical path of the X-ray L. And in the position where X-ray L passes, the film-like filter 10 is arrange | positioned on the surface perpendicular | vertical to a Z direction. That is, the thickness direction of the filter 10 is parallel to the Z direction. Therefore, the X-ray L crosses the filter 10 stretched between the delivery reel 23 and the take-up reel 24. The filter 10 cuts light with an unnecessary wavelength (for example, infrared rays). Further, the filter 10 cuts debris, molecules, and ions generated by the light source 5.

例えば、Ｘ線Ｌを用いた光学装置１００は、Ｘ線露光用の露光装置や、Ｘ線露光用マスクの検査装置である。したがって、フィルタ用チャンバ３の後段には、Ｘ線Ｌのアプリケーションとなる検査装置や露光装置が設けられている。したがって、図１において図示はされないが、真空チャンバ１内には、Ｘ線Ｌを伝搬するための光学系や、Ｘ線が照射されるウェハやマスクなどが収容される。例えば、フィルタ１０を通過したＸ線Ｌを反射するミラー（不図示）が真空チャンバ１内に配置されている。すなわち、フィルタ１０の後段にはミラーが配置されて、Ｘ線Ｌを所定の方向に反射する。   For example, the optical device 100 using X-rays L is an exposure device for X-ray exposure or an inspection device for an X-ray exposure mask. Therefore, an inspection apparatus and an exposure apparatus that are X-ray L applications are provided in the subsequent stage of the filter chamber 3. Therefore, although not shown in FIG. 1, the vacuum chamber 1 accommodates an optical system for propagating X-rays L, a wafer and a mask to which X-rays are irradiated, and the like. For example, a mirror (not shown) that reflects X-rays L that have passed through the filter 10 is disposed in the vacuum chamber 1. That is, a mirror is disposed at the subsequent stage of the filter 10 to reflect the X-ray L in a predetermined direction.

次に、フィルタ１０の構成について、図２を用いて説明する。図２は、フィルタ１０の一部分を示す平面図である。図２は、フィルタ１０の、送り出しリール２３と巻き取りリール２４とに張設された部分を模式的に示すＸＹ平面図である。   Next, the configuration of the filter 10 will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a plan view showing a part of the filter 10. FIG. 2 is an XY plan view schematically showing a portion of the filter 10 that is stretched between the delivery reel 23 and the take-up reel 24.

フィルタ１０は、Ｘ方向を長手方向とする短冊状になっている。フィルタ１０は、支持部１１と、透過部１２を備えている。透過部１２は、Ｘ線を透過させる部分であり、フィルタ１０に複数設けられている。図２では、７個の透過部１２が図示されている。複数の透過部１２は、フィルタ１０の長手方向（Ｘ方向）に沿って、１列に並んでいる。それぞれの透過部１２は、円形になっている。それぞれの透過部１２は、フィルタ１０を通過するＸ線Ｌのスポット径に応じた直径を有している。例えば、Ｘ線Ｌが透過部１２を横切るように、透過部１２は、Ｘ線Ｌのスポット径よりも若干大きくなっている。透過部１２は、例えば、直径５０ｍｍ程度の円形になっている。   The filter 10 has a strip shape whose longitudinal direction is the X direction. The filter 10 includes a support part 11 and a transmission part 12. The transmission part 12 is a part that transmits X-rays, and a plurality of transmission parts 12 are provided in the filter 10. In FIG. 2, seven transmission parts 12 are shown. The plurality of transmission parts 12 are arranged in a line along the longitudinal direction (X direction) of the filter 10. Each transmission part 12 is circular. Each transmission part 12 has a diameter corresponding to the spot diameter of the X-ray L passing through the filter 10. For example, the transmissive portion 12 is slightly larger than the spot diameter of the X-ray L so that the X-ray L crosses the transmissive portion 12. The transmission part 12 has a circular shape with a diameter of about 50 mm, for example.

複数の透過部１２の周囲に、支持部１１が形成されている。支持部１１は、透過部１２の外周を囲むように配置されている。Ｘ方向において、隣接する透過部１２の間には、支持部１１が配置されている。換言すると、支持部１１を設けることで、透過部１２が複数に分割される。フィルタ１０の透過部１２以外の部分が、支持部１１となる。支持部１１は、透過部１２を支持している。   A support portion 11 is formed around the plurality of transmission portions 12. The support part 11 is disposed so as to surround the outer periphery of the transmission part 12. A support portion 11 is disposed between adjacent transmission portions 12 in the X direction. In other words, the transmission part 12 is divided into a plurality of parts by providing the support part 11. The part other than the transmission part 12 of the filter 10 becomes the support part 11. The support part 11 supports the transmission part 12.

複数の透過部１２は、Ｘ方向、すなわち、送り出しリール２３の送りだし方向に沿って配列されている。そして、１列に配列された透過部１２が順番に使用されていく。例えば、光源５で発生したデブリによって、フィルタ１０に穴が開いた場合は、フィルム状のフィルタ１０をＸ方向に送り出す。図１に示した回転軸２１、２２が送り出しリール２３、巻き取りリール２４を回転させて、ロールフィルム状のフィルタ１０を送り出していく。これにより、穴が開いた透過部１２が、巻き取りリール２４によって巻き取られる。そして、送り出しリール２３に巻き付けられていたフィルタ１０の新しい透過部１２が、Ｘ線Ｌの光路を横切る位置に移動する。新しい透過部１２、すなわち、穴が開いていない透過部１２をＸ線Ｌが通過する。なお、一定時間ごとに、新しい透過部１２を送り出すようにしてもよい。   The plurality of transmitting portions 12 are arranged along the X direction, that is, the feeding direction of the feeding reel 23. Then, the transmissive portions 12 arranged in one row are used in order. For example, when a hole is opened in the filter 10 due to debris generated by the light source 5, the film-like filter 10 is sent out in the X direction. The rotating shafts 21 and 22 shown in FIG. 1 rotate the delivery reel 23 and the take-up reel 24 to feed out the roll film filter 10. As a result, the transmissive portion 12 having the hole is taken up by the take-up reel 24. Then, the new transmission part 12 of the filter 10 wound around the delivery reel 23 moves to a position crossing the optical path of the X-ray L. The X-ray L passes through the new transmission part 12, that is, the transmission part 12 in which no hole is formed. In addition, you may make it send out the new permeation | transmission part 12 for every fixed time.

このように、回転軸２１、２２が一対のリールを駆動することで、光源５からの光の光路中に配置される透過部１２を順番に送り出すことができる。それぞれの透過部１２が、１枚のＸ線フィルタとして機能する。モータによって回転軸２１、２２を駆動するだけで、実質的にフィルタを交換することができる。これにより、真空チャンバ１を大気開放することなく、フィルタ１０を連続的に使用することができる。そして、全ての透過部１２を使用し終わった後に、フィルタ１０が巻き付けられた送り出しリール２３、巻き取りリール２４を交換する。このように、複数の透過部１２を順番に使用していくことで、光学装置１００のダウンタイムを短くすることができる。実質的に、複数のＸ線フィルタを真空チャンバ１内に収容することができるため、光学装置１００の稼働時間を長くすることができる。例えば、フィルタ１０に１００個の透過部１２を形成することで、稼働時間を１００倍程度にすることができる。また、フィルタ１０、回転軸２１、２２、送り出しリール２３、及び巻き取りリール２４を真空チャンバ１内に収容するのみでよい。よって、多数の透過部１２を有するフィルタ装置６を真空チャンバ１内に収容した場合でも、真空チャンバ１の大型化を防ぐことができる。   As described above, when the rotation shafts 21 and 22 drive the pair of reels, it is possible to sequentially send out the transmission unit 12 arranged in the optical path of the light from the light source 5. Each transmission part 12 functions as one X-ray filter. The filter can be substantially exchanged only by driving the rotary shafts 21 and 22 by the motor. Thereby, the filter 10 can be continuously used without opening the vacuum chamber 1 to the atmosphere. Then, after all the transmission parts 12 are used, the delivery reel 23 and the take-up reel 24 around which the filter 10 is wound are replaced. Thus, the downtime of the optical device 100 can be shortened by using the plurality of transmission parts 12 in order. Substantially, a plurality of X-ray filters can be accommodated in the vacuum chamber 1, so that the operation time of the optical device 100 can be extended. For example, by forming 100 transmission parts 12 in the filter 10, the operating time can be increased about 100 times. Further, the filter 10, the rotary shafts 21 and 22, the delivery reel 23, and the take-up reel 24 need only be accommodated in the vacuum chamber 1. Therefore, even when the filter device 6 having a large number of transmission parts 12 is accommodated in the vacuum chamber 1, the enlargement of the vacuum chamber 1 can be prevented.

Ｘ線Ｌに対するフィルタ１０の透過率を高くするために、フィルタ１０を薄くする必要がある。以下、フィルタ１０の断面構造について、図３を用いて説明する。図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面図である。図３は、透過部１２を横切る位置でのＹＺ断面図である。   In order to increase the transmittance of the filter 10 with respect to the X-ray L, it is necessary to make the filter 10 thinner. Hereinafter, the cross-sectional structure of the filter 10 will be described with reference to FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the line III-III in FIG. FIG. 3 is a YZ cross-sectional view at a position crossing the transmission part 12.

図３では、左下に、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ断面が示されている。さらに、図３では右上に、Ａの部分、すなわち透過部１２を拡大して示している。上記のように、透過部１２の両端に支持部１１が位置している。支持部１１は、フィルム１３と支持パターン１４ａの２層構造となっている。すなわち、支持部１１では、フィルム１３の全体に支持パターン１４ａが形成されている。   In FIG. 3, the III-III cross section of FIG. 2 is shown in the lower left. Further, in FIG. 3, the portion A, that is, the transmissive portion 12 is shown enlarged on the upper right. As described above, the support portions 11 are located at both ends of the transmission portion 12. The support part 11 has a two-layer structure of a film 13 and a support pattern 14a. That is, in the support part 11, the support pattern 14 a is formed on the entire film 13.

透過部１２には、フィルム１３が設けられている。さらに、図３の右上の拡大断面図に示すように、透過部１２には、部分的に支持パターン１４ｂが形成されている。透過部１２の支持パターン１４ｂは、メッシュ状に形成されている。例えば、透過部１２では、支持パターン１４ｂが格子状のメッシュ又はハニカム状のメッシュになっている。   A film 13 is provided in the transmission part 12. Furthermore, as shown in the enlarged cross-sectional view in the upper right of FIG. 3, a support pattern 14 b is partially formed in the transmission portion 12. The support pattern 14b of the transmission part 12 is formed in a mesh shape. For example, in the transmission part 12, the support pattern 14b is a lattice-like mesh or a honeycomb-like mesh.

支持パターン１４ａ、１４ｂの厚さはフィルム１３よりも厚くなっている。よって、フィルム１３を十分に薄くした場合でも、フィルム１３を確実に支持することができる。フィルム１３は、例えば、厚さ約１００ｎｍ、あるいは１００ｎｍ以下のジルコニウム膜である。支持パターン１４ｂは、例えば、ピッチ３００μｍ、幅３０μｍ、厚み５０μｍのニッケルメッシュである。支持パターン１４ｂは支持パターン１４ａと同じ材料、及び同じ厚さで形成されている。   The support patterns 14 a and 14 b are thicker than the film 13. Therefore, even when the film 13 is sufficiently thin, the film 13 can be reliably supported. The film 13 is, for example, a zirconium film having a thickness of about 100 nm or 100 nm or less. The support pattern 14b is, for example, a nickel mesh having a pitch of 300 μm, a width of 30 μm, and a thickness of 50 μm. The support pattern 14b is formed with the same material and the same thickness as the support pattern 14a.

このように、透過部１２では、フィルム１３に網目状の支持パターン１４ｂを設けている。すなわち、透過部１２では支持パターン１４ｂが非常に薄いフィルム１３を支持している。さらに、透過部１２の周囲に、支持パターン１４ａが全面に形成された支持部１１が設けられている。これにより、フィルム１３の厚さを十分に薄くすることができる。よって、フィルム１３を厚さ１００ｎｍ程度のジルコニウム膜で形成することができ、Ｘ線の透過率を高くすることができる。   Thus, in the transmission part 12, the mesh-like support pattern 14b is provided in the film 13. FIG. That is, in the transmission part 12, the support pattern 14b supports the very thin film 13. Further, a support portion 11 having a support pattern 14 a formed on the entire surface is provided around the transmission portion 12. Thereby, the thickness of the film 13 can be made sufficiently thin. Therefore, the film 13 can be formed of a zirconium film having a thickness of about 100 nm, and the X-ray transmittance can be increased.

図４に波長１３．５ｎｍの光における透過率のシミュレーション結果を示す。図４では、横軸に、ジルコニウム膜の厚さを示し、縦軸に波長１３．５ｎｍでの透過率を示している。さらに、実線はニッケルメッシュがある場合を示し、破線はニッケルメッシュがない場合を示している。図４に示すように、ジルコニウム膜が薄くなるほど、透過率が高くなる。例えば、ジルコニウム膜を１００ｎｍ以下とすることで、約６０％の透過率を得ることができる。   FIG. 4 shows the simulation result of the transmittance of light having a wavelength of 13.5 nm. In FIG. 4, the horizontal axis represents the thickness of the zirconium film, and the vertical axis represents the transmittance at a wavelength of 13.5 nm. Furthermore, the solid line shows the case where there is a nickel mesh, and the broken line shows the case where there is no nickel mesh. As shown in FIG. 4, the thinner the zirconium film, the higher the transmittance. For example, a transmittance of about 60% can be obtained by setting the zirconium film to 100 nm or less.

次に、フィルタ１０の製造方法について、図５(ａ)〜図５（ｄ）を参照して説明する。図５（ａ）〜図５（ｄ）は、フィルタ１０の製造工程を示す工程断面図である。図５(ａ)〜図５（ｄ）は、ＹＺ断面を示している。したがって、図５(ａ)〜図５（ｄ）の両端が支持部１１となり、中央部が透過部１２となる。   Next, a method for manufacturing the filter 10 will be described with reference to FIGS. 5 (a) to 5 (d). FIG. 5A to FIG. 5D are process cross-sectional views illustrating the manufacturing process of the filter 10. FIG. 5A to FIG. 5D show YZ cross sections. Therefore, both ends of FIG. 5A to FIG. 5D are the support portions 11, and the central portion is the transmission portion 12.

まず、図５（ａ）に示すように、ベースフィルム３１上にレジストパターン３２を形成する。レジストパターン３２は、支持パターン１４ａ、１４ｂを形成しない位置に形成される。したがって、透過部１２となる領域では、レジストパターン３２はメッシュ状の開口部３２ａを有する。一方、支持部１１では、レジストパターン３２が除去されて、開口している。例えば、ベースフィルム３１としては、例えば、１００μｍ程度の厚さを有するフレキシブルなステンレス基板を用いることができる。ベースフィルム３１の全面にドライフィルムレジストを貼り付けた後、レジストを露光する。そして、レジストを現像することで、ベースフィルム３１にレジストパターン３２を形成することができる。あるいは、予めパターンが形成されたドライフィルムレジストをベースフィルム３１に貼り付けるようにしてもよい。   First, as shown in FIG. 5A, a resist pattern 32 is formed on the base film 31. The resist pattern 32 is formed at a position where the support patterns 14a and 14b are not formed. Therefore, the resist pattern 32 has a mesh-shaped opening 32 a in the region to be the transmission portion 12. On the other hand, in the support part 11, the resist pattern 32 is removed and opened. For example, as the base film 31, for example, a flexible stainless steel substrate having a thickness of about 100 μm can be used. After a dry film resist is attached to the entire surface of the base film 31, the resist is exposed. Then, the resist pattern 32 can be formed on the base film 31 by developing the resist. Alternatively, a dry film resist in which a pattern is formed in advance may be attached to the base film 31.

次に、図５（ｂ）に示すように、レジストパターン３２をマスクとして、ベースフィルム３１上に、Ｎｉメッキ膜３３を形成する。これにより、レジストパターン３２が形成されていない領域で、ベースフィルム３１上にＮｉメッキ膜３３が形成される。したがって、支持部１１では、ベースフィルム３１の全面にＮｉメッキ膜３３が形成される。一方、透過部１２では、レジストパターン３２の開口部３２ａであった位置に、Ｎｉメッキ膜３３が形成され、レジストパターン３２がある位置には、Ｎｉメッキ膜３３が形成されない。例えば、電鋳加工によって、導電性のベースフィルム３１が露出している部分に、Ｎｉメッキ膜３３を形成する。Ｎｉメッキ膜３３は、レジストパターン３２とほぼ同じ厚さとなっている。換言すると、Ｎｉメッキ膜３３と同程度の厚さのレジストパターン３２が、ベースフィルム３１上に塗布される。   Next, as shown in FIG. 5B, a Ni plating film 33 is formed on the base film 31 using the resist pattern 32 as a mask. Thereby, the Ni plating film 33 is formed on the base film 31 in a region where the resist pattern 32 is not formed. Therefore, the Ni plating film 33 is formed on the entire surface of the base film 31 in the support portion 11. On the other hand, in the transmission part 12, the Ni plating film 33 is formed at the position where the opening 32 a of the resist pattern 32 is formed, and the Ni plating film 33 is not formed at the position where the resist pattern 32 is present. For example, the Ni plating film 33 is formed on a portion where the conductive base film 31 is exposed by electroforming. The Ni plating film 33 has substantially the same thickness as the resist pattern 32. In other words, the resist pattern 32 having the same thickness as the Ni plating film 33 is applied on the base film 31.

そして、図５（ｃ）に示すように、Ｎｉメッキ膜３３、及びレジストパターン３２の上から、フィルタ膜となるジルコニウム膜３４を形成する。ジルコニウム膜３４は、Ｎｉメッキ膜３３、及びレジストパターン３２を覆うように、ベースフィルム３１の全面に成膜される。ジルコニウム膜３４はスパッタや蒸着などの公知の成膜方法によって形成される。   Then, as shown in FIG. 5C, a zirconium film 34 to be a filter film is formed on the Ni plating film 33 and the resist pattern 32. The zirconium film 34 is formed on the entire surface of the base film 31 so as to cover the Ni plating film 33 and the resist pattern 32. The zirconium film 34 is formed by a known film formation method such as sputtering or vapor deposition.

なお、ジルコニウム膜３４を形成する前に、レジストパターン３２の表面を粗面化する処理を施してもよい。例えば、ブラスト処理によって、レジストパターン３２の表面を粗くする。あるいは、酸やアルカリなどの溶液を用いて、化学的にレジストパターン３２の表面を粗くしてもよい。これにより、ジルコニウム膜３４が成膜されるレジストパターン３２の表面に微細な凹凸が形成される。すなわち、ジルコニウム膜３４の成膜面が凹凸面になる。これにより、ジルコニウム膜３４にかかる張力を緩和することができる。   Note that before the zirconium film 34 is formed, a treatment for roughening the surface of the resist pattern 32 may be performed. For example, the surface of the resist pattern 32 is roughened by blasting. Alternatively, the surface of the resist pattern 32 may be chemically roughened using a solution such as acid or alkali. Thereby, fine irregularities are formed on the surface of the resist pattern 32 on which the zirconium film 34 is formed. That is, the deposition surface of the zirconium film 34 is an uneven surface. Thereby, the tension applied to the zirconium film 34 can be relaxed.

例えば、ジルコニウム膜３４を平坦な成膜面上に成膜した場合、張力によってジルコニウム膜３４が破れやすくなってしまう。これに対して、レジストパターン３２の表面を粗面化することで、ジルコニウム膜３４にかかる張力を緩和することができる。よって、ジルコニウム膜３４を破れにくくすることができる。なお、レジストパターン３２の表面を粗面化する工程は、レジストの形成後からジルコニウム膜３４の形成前であれば、どのタイミングで行われてもよい。例えば、レジストの露光前、レジストの露光後、レジストパターン形成後、メッキ処理後等に、レジストパターン３２の表面を粗面化することも可能である。   For example, when the zirconium film 34 is formed on a flat film formation surface, the zirconium film 34 is easily broken by tension. On the other hand, the tension applied to the zirconium film 34 can be relaxed by roughening the surface of the resist pattern 32. Therefore, it is possible to make the zirconium film 34 difficult to break. Note that the step of roughening the surface of the resist pattern 32 may be performed at any timing after the formation of the resist and before the formation of the zirconium film 34. For example, the surface of the resist pattern 32 can be roughened before exposure of the resist, after exposure of the resist, after formation of the resist pattern, after plating, or the like.

次に、図５（ｄ）に示すように、ジルコニウム膜３４、及びＮｉメッキ膜３３から、ベースフィルム３１、及びレジストパターン３２を取り外す。例えば、レジストパターン３２をジルコニウム膜３４から剥離するとともに、ベースフィルム３１をＮｉメッキ膜３３から剥離する。これにより、ジルコニウム膜３４、及びＮｉメッキ膜３３から、ベースフィルム３１、及びレジストパターン３２が除去される。ジルコニウム膜３４、及びＮｉメッキ膜３３の積層構造のみが残る。ジルコニウム膜３４がフィルム１３となり、Ｎｉメッキ膜３３が支持パターン１４ａ、１４ｂとなる。このようにして、透過部１２の周囲に、支持部１１が形成される。   Next, as illustrated in FIG. 5D, the base film 31 and the resist pattern 32 are removed from the zirconium film 34 and the Ni plating film 33. For example, the resist pattern 32 is peeled off from the zirconium film 34 and the base film 31 is peeled off from the Ni plating film 33. As a result, the base film 31 and the resist pattern 32 are removed from the zirconium film 34 and the Ni plating film 33. Only the laminated structure of the zirconium film 34 and the Ni plating film 33 remains. The zirconium film 34 becomes the film 13, and the Ni plating film 33 becomes the support patterns 14a and 14b. In this way, the support portion 11 is formed around the transmission portion 12.

具体的な一手法として、ベースフィルム３１の端部において、ベースフィルム３１をＮｉメッキ膜３３から剥離する。そして、レジストパターン３２とベースフィルム３１の間から、酸などの溶液を用いて、レジストパターン３２を溶解させる。こうすることで、ジルコニウム膜３４、Ｎｉメッキ膜３３をベースフィルム３１、及びレジストパターン３２を取り外すができる。あるいは、ベースフィルム３１とＮｉメッキ膜３３を物理的に剥離してもよい。カーボン等の微細な粒子をベースフィルム３１上に散布させてもよい。例えば、レジストの塗布前、あるいは、レジストパターン３２の形成後に、ベースフィルム３１上にカーボン粒子を散布させる。これにより、Ｎｉメッキ膜３３とベースフィルム３１とを容易に剥離することができる。   As a specific method, the base film 31 is peeled from the Ni plating film 33 at the end of the base film 31. Then, the resist pattern 32 is dissolved between the resist pattern 32 and the base film 31 using a solution such as an acid. By doing so, the base film 31 and the resist pattern 32 can be removed from the zirconium film 34 and the Ni plating film 33. Alternatively, the base film 31 and the Ni plating film 33 may be physically peeled off. Fine particles such as carbon may be dispersed on the base film 31. For example, carbon particles are dispersed on the base film 31 before applying the resist or after forming the resist pattern 32. Thereby, the Ni plating film 33 and the base film 31 can be easily peeled off.

支持部１１では、フィルタ１０が、支持パターン１４ａ、及びジルコニウム膜３４の２層構造となっている。一方、透過部１２では、支持パターン１４ｂが、フィルム１３上にメッシュ状に形成される。すなわち、透過部１２では、支持パターン１４ｂとフィルム１３の２層構造の部分と、フィルム１３の１層構造の部分が混在している。   In the support portion 11, the filter 10 has a two-layer structure including a support pattern 14 a and a zirconium film 34. On the other hand, in the transmission part 12, the support pattern 14 b is formed on the film 13 in a mesh shape. That is, in the transmission part 12, the part of the two-layer structure of the support pattern 14b and the film 13 and the part of the one-layer structure of the film 13 are mixed.

本実施の形態では、ロールtoロールの製造装置によって、フィルタ１０を製造することができる。すなわち、ロール状のベースフィルム３１を用意する。そして、ロール状のベースフィルム３１に対して、ロールtoロール方式でレジスト塗布、露光、現像、メッキ、成膜、レジスト剥離等の処理を行う。例えば、ロール状のベースフィルム３１を送り出しながら、各工程の処理が施される。このように、ロールtoロール方式で、フィルタ１０を製造することができるため、一度に多数の透過部１２を形成することができる。よって、フィルタ１０の生産性を向上することができる。   In the present embodiment, the filter 10 can be manufactured by a roll-to-roll manufacturing apparatus. That is, a roll-shaped base film 31 is prepared. Then, the roll-shaped base film 31 is subjected to processing such as resist coating, exposure, development, plating, film formation, and resist stripping in a roll-to-roll manner. For example, the process of each process is performed while feeding the roll-shaped base film 31. Thus, since the filter 10 can be manufactured by a roll-to-roll method, a large number of transmission parts 12 can be formed at one time. Therefore, the productivity of the filter 10 can be improved.

本実施形態では、Ｎｉメッキ膜３３上に、ジルコニウム膜３４を直接成膜している。これにより、ニッケルメッシュと、ジルコニウムフォイルとの間に、接着剤を設ける必要がなくなる。すなわち、接着剤を用いなくても、ジルコニウム膜３４とＮｉメッキ膜３３とを十分に密着させることができる。一方、エポキシ樹脂などの接着剤によって、ジルコニウムフォイルとニッケルメッシュを貼り合わせた場合、耐熱温度が３００℃程度になってしまう。したがって、メッキ膜３３上に直接ジルコニウム膜３４を成膜することで、フィルタ１０の耐熱性を向上することができる。さらん、接着剤を用いた貼り付け工程が不要になるため、製造コストを抑制することができる。   In the present embodiment, the zirconium film 34 is formed directly on the Ni plating film 33. This eliminates the need for an adhesive between the nickel mesh and the zirconium foil. That is, the zirconium film 34 and the Ni plating film 33 can be sufficiently adhered without using an adhesive. On the other hand, when the zirconium foil and the nickel mesh are bonded together with an adhesive such as an epoxy resin, the heat-resistant temperature becomes about 300 ° C. Therefore, the heat resistance of the filter 10 can be improved by forming the zirconium film 34 directly on the plating film 33. Furthermore, since an attaching step using an adhesive is not necessary, the manufacturing cost can be suppressed.

図１に示したように、一対のリールによって、フィルタ１０を真空チャンバ１内に保持している。すなわち、送り出しリール２３、巻き取りリール２４が、フィルタ１０のロール部分を支持する構成としている。よって、非特許文献１のように、フィルタの外周部に機械的なフレームを取り付ける必要がなくなる。これにより、フィルタ１０の部品コストを抑制することが可能になる。   As shown in FIG. 1, the filter 10 is held in the vacuum chamber 1 by a pair of reels. That is, the delivery reel 23 and the take-up reel 24 are configured to support the roll portion of the filter 10. Therefore, unlike Non-Patent Document 1, it is not necessary to attach a mechanical frame to the outer periphery of the filter. Thereby, it becomes possible to suppress the component cost of the filter 10.

フィルタ１０のＮｉメッキ膜３３側を光源５とは反対に配置するようにしてもよい。すなわち、フィルタ１０のＮｉメッキ膜３３が設けられていない面を、光源５側に配置するようにしてもよい。１つの透過部１２を大きくすることで、フィルタ１０を光源５からより離して配置することができる。これにより、光源５からのイオンやデブリ等がフィルタ１０に入射するまでにガス分子などと衝突して、速度が低くなる。よって、フィルタ１０に穴が開くのを防ぐことができる。   The Ni plating film 33 side of the filter 10 may be disposed opposite to the light source 5. That is, the surface of the filter 10 on which the Ni plating film 33 is not provided may be arranged on the light source 5 side. By increasing the size of one transmission part 12, the filter 10 can be arranged farther from the light source 5. As a result, ions, debris, and the like from the light source 5 collide with gas molecules and the like before they enter the filter 10, and the speed is reduced. Therefore, it is possible to prevent the filter 10 from opening a hole.

また、ベースフィルム３１を幅広にして、ベースフィルム３１に複数列の透過部を形成すれば、一度に複数のフィルタ１０を製造することができる。例えば、図６に示すように、ベースフィルム３１の幅方向に、複数の透過部１２を配置できるように、ベースフィルム３１を幅広にする。すると、１つのベースフィルム３１から、複数列の透過部１２が設けられたフィルム１３が形成される。すなわち、フィルム１３には、マトリクス状に透過部１２が形成される。図６では、１つのフィルム１３に３列の透過部１２が形成されている。そして、隣接する列間の位置で、フィルム１３を切断する。すなわち、図６の一点鎖線で示される切断線に沿って、フィルム１３を切断する。これにより、複数列の透過部１２が１列ずつに分断される。１つのベースフィルム３１から、複数のフィルタ１０を製造することができる。よって、生産性をより向上することができる。なお、複数のフィルムに切断する工程の順序は特に限定されるものではない。例えば、ジルコニウム膜３４がベースフィルム３１、及びレジストパターン３２がＮｉメッキ膜３３、ジルコニウム膜３４に取り付けられている状態で、ベースフィルム３１、及びジルコニウム膜３４などを切断してもよい。あるいは、ベースフィルム３１、及びレジストパターン３２からＮｉメッキ膜３３、ジルコニウム膜３４を取り外した後に、ジルコニウム膜３４、及びレジストパターン３２を切断してもよい。   Further, if the base film 31 is widened and a plurality of rows of transmission portions are formed in the base film 31, a plurality of filters 10 can be manufactured at a time. For example, as shown in FIG. 6, the base film 31 is widened so that a plurality of transmission portions 12 can be arranged in the width direction of the base film 31. Then, a film 13 provided with a plurality of rows of transmission portions 12 is formed from one base film 31. That is, the transmission portion 12 is formed in a matrix on the film 13. In FIG. 6, three rows of transmission portions 12 are formed on one film 13. Then, the film 13 is cut at a position between adjacent rows. That is, the film 13 is cut along a cutting line indicated by a one-dot chain line in FIG. As a result, the plurality of rows of transmissive portions 12 are divided into rows. A plurality of filters 10 can be manufactured from one base film 31. Therefore, productivity can be further improved. In addition, the order of the process cut | disconnected to a some film is not specifically limited. For example, the base film 31 and the zirconium film 34 may be cut while the zirconium film 34 is attached to the base film 31 and the resist pattern 32 is attached to the Ni plating film 33 and the zirconium film 34. Alternatively, after removing the Ni plating film 33 and the zirconium film 34 from the base film 31 and the resist pattern 32, the zirconium film 34 and the resist pattern 32 may be cut.

なお、図７に示すように、フィルタ１０に送り出しリール２３、巻き取りリール２４に取り付けるための開口部１６を設けてもよい。例えば、Ｙ方向におけるフィルタ１０の両エッジの近傍に、複数の開口部１６を設ける。複数の開口部１６は、Ｘ方向において、等間隔に配列されている。そして、送り出しリール２３、巻き取りリール２４の外周面には、開口部１６に挿入される歯車を形成する。こうすることで、ロールフィルム状のフィルタ１０を容易に送り出しリール２３、巻き取りリール２４に巻き付けることが可能になる。さらに、送り出しリール２３、巻き取りリール２４によるフィルタ１０の送り出し、及び巻き取りを容易に行うことができる。   As shown in FIG. 7, the filter 10 may be provided with an opening 16 for attaching to the feed reel 23 and the take-up reel 24. For example, a plurality of openings 16 are provided in the vicinity of both edges of the filter 10 in the Y direction. The plurality of openings 16 are arranged at equal intervals in the X direction. A gear to be inserted into the opening 16 is formed on the outer peripheral surfaces of the delivery reel 23 and the take-up reel 24. In this way, the roll film filter 10 can be easily wound around the delivery reel 23 and the take-up reel 24. Furthermore, it is possible to easily feed and wind the filter 10 by the feed reel 23 and the take-up reel 24.

なお、上記の説明ではフィルタ１０が、Ｘ線を通過させるＸ線フィルタであるとして説明したが、フィルタ１０の透過波長は、特に限定されるものではない。例えば、フィルタ１０が、ＥＵＶ露光に用いられるＥＵＶ光を通過させるフィルタであってもよい。さらには、フィルタ１０は、光の透過を制限する光学的なフィルタに限らず、デブリ等の通過を遮る物理的なフィルタであってもよい。また、フィルタ１０が用いられる光学装置１００は、検査装置や露光装置に限られるものではない。   In the above description, the filter 10 is described as an X-ray filter that allows X-rays to pass therethrough, but the transmission wavelength of the filter 10 is not particularly limited. For example, the filter 10 may be a filter that transmits EUV light used for EUV exposure. Furthermore, the filter 10 is not limited to an optical filter that restricts light transmission, but may be a physical filter that blocks passage of debris and the like. Further, the optical device 100 in which the filter 10 is used is not limited to an inspection device or an exposure device.

１ 真空チャンバ
２ 光源チャンバ
３ フィルタチャンバ
５ 光源
６ フィルタ装置
１０ フィルタ
１１ 支持部
１２ 透過部
１３ フィルム
１４ 支持パターン
１６ 開口部
２１、２２ 回転軸
２２ 回転軸
２３ 送り出しリール
２４ 巻き取りリール
３１ ベースフィルム
３２ レジストパターン
３３ Ｎｉメッキ膜
３４ ジルコニウム膜
１００ 光学装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum chamber 2 Light source chamber 3 Filter chamber 5 Light source 6 Filter apparatus 10 Filter 11 Support part 12 Transmission part 13 Film 14 Support pattern 16 Opening part 21, 22 Rotating shaft 22 Rotating shaft 23 Delivery reel 24 Take-up reel 31 Base film 32 Resist Pattern 33 Ni plating film 34 Zirconium film 100 Optical device

Claims (9)

ロール状のフィルムと、
前記フィルム上に形成されたメッシュ状の支持パターンを有し、前記フィルムの長手方向に沿って配列された複数の透過部と、
前記支持パターンが前記フィルムの全面に形成され、前記透過部の周囲に設けられた支持部と、を備えたフィルタ。 A roll film,
A plurality of transmission parts having a mesh-like support pattern formed on the film, and arranged along the longitudinal direction of the film;
And a support part provided around the transmission part, wherein the support pattern is formed on the entire surface of the film. 前記支持パターンが前記フィルムよりも厚く形成されている請求項１に記載のフィルタ。   The filter according to claim 1, wherein the support pattern is formed thicker than the film. 前記フィルムがジルコニウム膜によって形成され、
前記支持パターンが、ニッケルメッキ膜によって形成されている請求項１、又は２に記載のフィルタ。 The film is formed by a zirconium film;
The filter according to claim 1, wherein the support pattern is formed of a nickel plating film. 請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルタと、
前記フィルタを張設するように、前記フィルタが巻き付けられた一対のリールと、
前記フィルタの前記透過部を通過する光を出射する光源と、
前記光源からの光の光路中に配置される前記透過部を順番に送り出すために、前記一対のリールを駆動する駆動機構と、
前記フィルタと前記一対のリールと前記光源とを収容する真空チャンバと、を備えた光学装置。 The filter according to any one of claims 1 to 3,
A pair of reels around which the filter is wound so as to stretch the filter;
A light source that emits light passing through the transmission part of the filter;
A driving mechanism for driving the pair of reels in order to sequentially send out the transmitting portions arranged in the optical path of light from the light source;
An optical device comprising: a vacuum chamber that houses the filter, the pair of reels, and the light source. 複数の透過部と、前記透過部の周囲に設けられた支持部とを備えたロールフィルム状のフィルタの製造方法であって、
前記透過部となる領域にはメッシュ状の開口部を有し、前記支持部となる領域で開口したレジストパターンをベースフィルム上に形成するステップと
前記レジストパターンをマスクとして、前記ベースフィルムにメッキ膜を形成するステップと、
前記レジストパターン、及び前記メッキ膜を覆うようにフィルタ膜を形成するステップと、
前記フィルタ膜、及び前記メッキ膜から、前記ベースフィルム、及び前記レジストパターンを取り外すステップと、を備えたフィルタの製造方法。 A method for producing a roll film filter comprising a plurality of transmission parts and a support part provided around the transmission parts,
A region having a mesh-like opening is formed in the region to be the transmission portion, and a resist pattern opened in the region to be the support portion is formed on the base film, and a plating film is formed on the base film using the resist pattern as a mask Forming a step;
Forming a filter film so as to cover the resist pattern and the plating film;
Removing the base film and the resist pattern from the filter film and the plating film. 前記メッキ膜が前記フィルタ膜よりも厚く形成されている請求項５に記載のフィルタの製造方法。   The method for manufacturing a filter according to claim 5, wherein the plating film is formed thicker than the filter film. 前記フィルタ膜を形成する前に、レジストパターンの表面を粗面化する工程をさらに備える請求項５、又は６に記載のフィルタの製造方法。   The method for manufacturing a filter according to claim 5, further comprising a step of roughening a surface of the resist pattern before forming the filter film. 前記ベースフィルムに、前記透過部を複数列形成し、
隣接する列間の位置でフィルタ膜を切断する請求項５〜７のいずれか１項に記載のフィルタの製造方法。 A plurality of rows of the transmission portions are formed on the base film,
The method for manufacturing a filter according to any one of claims 5 to 7, wherein the filter membrane is cut at a position between adjacent rows. 前記フィルタ膜がジルコニウム膜であり、
前記メッキ膜が、ニッケルメッキ膜である請求項５〜８のいずれか１項に記載のフィルタの製造方法。 The filter membrane is a zirconium membrane;
The method for manufacturing a filter according to claim 5, wherein the plating film is a nickel plating film.

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