JP2014224869A

JP2014224869A - Reflection type display device

Info

Publication number: JP2014224869A
Application number: JP2013103453A
Authority: JP
Inventors: 梅　谷　雅　規; Masaki Umetani; 谷雅規梅; 多浩之本; Hiroyuki Honda; 好徹三; Toru Miyoshi
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 2013-05-15
Filing date: 2013-05-15
Publication date: 2014-12-04

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a reflection type display device capable of preventing a through hole of a pixel electrode from being arranged under a partition wall.SOLUTION: A reflection type display device includes: a partition wall that partitions a plurality of regions arranged between two substrates; and a presentation medium arranged in a cell, regarding each of the regions divided by the partition wall as a cell. A pixel electrode is formed on one of the substrates. A through hole is formed in the pixel electrode. The partition wall is formed with a common first unit pattern as a reference pattern. The pixel electrode is formed with a common second unit pattern as a reference pattern. The reference pattern of the partition wall and the reference pattern of the pixel electrode are different from each other. The top of the partition wall on the pixel electrode side is arranged so as not to overlap with the through hole.

Description

本発明は、電子ペーパー等に応用されている反射型表示装置に関する。 The present invention relates to a reflective display device applied to electronic paper and the like.

反射型表示装置として、最近、表示媒体に含まれる電気応答性材料として電気泳動体を用いた電気泳動表示装置が広く用いられている。電気泳動表示装置とは、空気中または溶媒中の電気泳動体（通常は電気泳動する粒子）の電気的な泳動、すなわち粒子移動を利用して情報を表示する装置である。通常、２枚の基板間に電界を与えることで電気的な泳動の状態が制御され、それによって所望の表示が実現されるように構成される。電気泳動体としては、荷電粒子の他、荷電粉体をも利用され得る。その場合、当該荷電粉体は気体中を電気的に泳動する。 Recently, as a reflective display device, an electrophoretic display device using an electrophoretic material as an electroresponsive material contained in a display medium has been widely used. An electrophoretic display device is a device that displays information by using electrophoretic migration, that is, particle movement, of an electrophoretic body (usually electrophoretic particles) in air or in a solvent. In general, an electrophoretic state is controlled by applying an electric field between two substrates, thereby realizing a desired display. As the electrophoretic body, charged powder as well as charged particles can be used. In that case, the charged powder electrophoreses in the gas.

電気泳動表示装置は、近年では特に、電子ペーパーとしての応用が注目されている。電子ペーパーとして応用する場合には、印刷物レベルの視認性（目にやさしい）、情報書き換えの容易性、低消費電力、軽量といった利点を享受できる。 In recent years, the electrophoretic display device has attracted attention especially as an electronic paper. When applied as an electronic paper, it is possible to enjoy advantages such as visibility at the printed matter level (easy for eyes), ease of information rewriting, low power consumption, and light weight.

電気泳動表示装置では、しかし、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して、表示の不良、特にコントラストの低下が生じることがある。この現象を防止するべく、上下の電極基板間に隔壁を形成して、電気泳動する粒子や粉体の泳動空間、すなわち移動空間を微小な空間に分割することが採用されている。この微小な空間は、セルと呼ばれている。各セルの中に、電気泳動体を含むインキやガス（表示媒体）が封入されている。例えば特許文献１（特開２０１１−１７００１９号公報）及び特許文献２（国際公開第２００５／０１５８９２号公報）には、そのようなタイプの電気泳動表示装置の従来例が開示されている。 However, in an electrophoretic display device, display defects, particularly a decrease in contrast, may occur due to sedimentation or uneven distribution of particles or powder. In order to prevent this phenomenon, it is used to form partition walls between the upper and lower electrode substrates and divide the migration space of the particles and powder to be electrophoresed, that is, the movement space into minute spaces. This minute space is called a cell. In each cell, ink or gas (display medium) containing an electrophoretic body is enclosed. For example, Patent Literature 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 2011-170019) and Patent Literature 2 (International Publication No. 2005/015892) disclose a conventional example of such an electrophoretic display device.

特開２０１１−１７００１９号公報JP 2011-170019 A 国際公開第２００５／０１５８９２号公報International Publication No. 2005/015892 特許第４５１６４８１号公報Japanese Patent No. 4516481 特許第４５７９７６８号公報Japanese Patent No. 4579768

本件発明者は、画素電極上への隔壁の配置方法について鋭意研究を重ねるうち、以下のような知見を得るに至った。 The present inventor has obtained the following knowledge while earnestly researching the arrangement method of the partition wall on the pixel electrode.

上下の電極基板の一方に、ＴＦＴが配置される画素電極など、上層部がアイランド状になっている電極が用いられる場合には、画素電極と隔壁との配置関係が問題となってくる。すなわち、上層部がアイランド状の電極には上層部の電極と下層部の電極とを電気的に接続するためのスルーホールが形成されているため、図１６に示すように、このスルーホールが隔壁の下に配置されると、隔壁の下にスルーホールを通してセル間を連通する通路ができてしまう。そして表示媒体に含まれる電気応答性材料は、基板間に当該電気応答性材料を駆動するための電圧が印加されると、当該通路を通って他のセルに移動してしまうことがある。このように、電気応答性材料が、セル間を移動してしまうと、セル内の表示材料の成分比が変動し電荷バランスを崩し、反射率低下、表示ムラなどの表示特性の不具合を発生させてしまう。 When an electrode having an island shape in the upper layer portion such as a pixel electrode in which a TFT is arranged is used on one of the upper and lower electrode substrates, the arrangement relationship between the pixel electrode and the partition wall becomes a problem. That is, since the through-hole for electrically connecting the upper layer electrode and the lower layer electrode is formed in the electrode having an island-like upper layer portion, as shown in FIG. If it is arranged below, there will be a passage communicating between the cells through the through hole under the partition. When the voltage for driving the electroresponsive material is applied between the substrates, the electroresponsive material included in the display medium may move to another cell through the passage. As described above, when the electrically responsive material moves between cells, the component ratio of the display material in the cell fluctuates, the charge balance is lost, and display characteristics such as a decrease in reflectance and display unevenness occur. End up.

このような問題を回避するために、隔壁と画素電極とを両者のパターンの位置ズレが起こらないように精密にアライメントし、スルーホールが隔壁の下に配置されないように、隔壁を画素電極上に配置することも考えられる。しかし、例えば隔壁と画素電極とが異なる基板上に配置されている場合には、製造上の容易さや製造コストの面から、隔壁と画素電極との間の精密なアライメントを要しない方法で、これらの基板が貼り合わされることが好ましい。また、電極基板としてプラスチックフィルムが採用された場合には、そもそも基板自体の寸法安定性を確保することができないため、隔壁と画素電極と間の精密なアライメントを行いながら上下の電極基板を貼り合わせることは、不可能である。さらに、隔壁が非周期的なパターンで形成された場合も、隔壁と画素電極との間の精密なアライメントを行うことは困難である。 In order to avoid such a problem, the partition and the pixel electrode are precisely aligned so that the pattern misalignment between them does not occur, and the partition is placed on the pixel electrode so that the through hole is not disposed under the partition. Arrangement is also possible. However, for example, when the partition wall and the pixel electrode are arranged on different substrates, they are not required for precise alignment between the partition wall and the pixel electrode in terms of manufacturing ease and manufacturing cost. It is preferable that these substrates are bonded together. In addition, when a plastic film is used as the electrode substrate, the dimensional stability of the substrate itself cannot be ensured in the first place, so the upper and lower electrode substrates are bonded together while performing precise alignment between the partition walls and the pixel electrodes. It is impossible. Furthermore, even when the partition walls are formed in an aperiodic pattern, it is difficult to perform precise alignment between the partition walls and the pixel electrodes.

本発明は、このような事情に基づいて行われたものであり、その目的は、隔壁と画素電極との間の精密なアライメントが行われない場合であっても、隔壁の下に画素電極のスルーホールが配置されることが抑制される、反射型表示装置を提供することにある。 The present invention has been made based on such circumstances, and its purpose is to provide a pixel electrode under the partition even when precise alignment between the partition and the pixel electrode is not performed. An object of the present invention is to provide a reflective display device in which the arrangement of through holes is suppressed.

本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、前記２枚の基板間に配置された複数の領域を区画する隔壁と、前記隔壁で区画された各領域をセルとして、各セル内に配置された前記表示媒体と、を備え、一方の基板には、透光性電極が形成されており、他方の基板には、画素電極が形成されており、前記透光性電極と前記画素電極とが対向するように配置されており、前記画素電極には、スルーホールが形成されており、前記隔壁は、共通の第一単位パターンを基準パターンとして形成されており、前記画素電極は、共通の第二単位パターンを基準パターンとして形成されており、前記隔壁の基準パターンと前記画素電極の基準パターンとは、互いに異なっており、前記隔壁の前記画素電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記スルーホールと重ならないように配置されていることを特徴とする反射型表示装置である。 In the present invention, a display medium including at least one kind of electrically responsive material is sealed between two opposing substrates on which at least one has translucency and each has electrodes formed thereon, A reflective display device in which the display medium performs a desired display when a predetermined electric field is applied between two substrates, and a partition that partitions a plurality of regions disposed between the two substrates; Each of the regions defined by the partition walls as a cell, and the display medium disposed in each cell, and a transparent electrode is formed on one substrate, and on the other substrate, A pixel electrode is formed, the translucent electrode and the pixel electrode are arranged to face each other, a through hole is formed in the pixel electrode, and the partition wall is a common first The unit pattern is formed as a reference pattern, The element electrode is formed using a common second unit pattern as a reference pattern, the reference pattern of the partition and the reference pattern of the pixel electrode are different from each other, and the top of the partition on the pixel electrode side is The reflective display device is arranged so as not to overlap with the through hole when viewed from the one substrate toward the other substrate.

本発明によれば、隔壁の形成に用いられる基準パターンと、画素電極の形成に用いられる基準パターンとは、異なっている。このことにより、隔壁と画素電極とのアライメントマージンが広くなり、本発明による反射型表示装置は、隔壁と画素電極とが精密にアライメントされない場合や基板がプラスチックフィルムなどの寸法安定性の得られにくい材料で作られていた場合であっても、容易に、隔壁の下にスルーホールが配置されないように製造される。また、隔壁の画素電極側の頂部がスルーホールと重ならないように配置されているため、表示媒体中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することが抑制される。 According to the present invention, the reference pattern used to form the partition is different from the reference pattern used to form the pixel electrode. As a result, the alignment margin between the partition walls and the pixel electrodes is widened, and the reflective display device according to the present invention is difficult to obtain dimensional stability such as when the partition walls and the pixel electrodes are not precisely aligned or when the substrate is a plastic film. Even when it is made of a material, it is easily manufactured so that the through hole is not disposed under the partition wall. In addition, since the top of the partition wall on the pixel electrode side is arranged so as not to overlap with the through hole, the particles in the display medium are suppressed from moving between the cells through the through hole.

好ましくは、各画素電極におけるスルーホールの位置は、全て共通である。この場合、画素電極及び画素電極に配置されるＴＦＴの形成が容易である。 Preferably, the positions of the through holes in each pixel electrode are all common. In this case, it is easy to form the pixel electrode and the TFT disposed on the pixel electrode.

また、好ましくは、各画素電極におけるスルーホールの位置は、２種類以上から選択されている。この場合、隔壁と画素電極とのアライメントマージンが更に広がる。例えば、各画素電極におけるスルーホールの位置は、２種類から選択されており、隣り合う画素電極におけるスルーホール同士が、互い違いに配列されている。 Preferably, the position of the through hole in each pixel electrode is selected from two or more types. In this case, the alignment margin between the partition wall and the pixel electrode is further expanded. For example, the positions of through holes in each pixel electrode are selected from two types, and the through holes in adjacent pixel electrodes are arranged alternately.

好ましくは、前記第一単位パターンと前記第二単位パターンとは、互いに異なっている。この場合、隔壁の形成に用いられる基準パターンと画素電極の形成に用いられる基準パターンとが顕著に異なることとなるため、モアレの発現が、効果的に抑制される。 Preferably, the first unit pattern and the second unit pattern are different from each other. In this case, since the reference pattern used for forming the partition and the reference pattern used for forming the pixel electrode are remarkably different, the occurrence of moire is effectively suppressed.

あるいは、本発明は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、前記２枚の基板間に配置された複数の領域を区画する隔壁と、前記隔壁で区画された各領域をセルとして、各セル内に配置された前記表示媒体と、を備え、前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、共通の第一単位パターンを基準パターンとして、当該基準パターンの分岐点を起点として延出する当該基準パターンの各辺の方向に当該辺の延出長さの１／２倍を最大変位として規定される領域内に位置し、且つ、前記基準パターンの分岐点とは重なっておらず、一方の基板には、透光性電極が形成されており、他方の基板には、画素電極が形成されており、前記透光性電極と前記画素電極とが対向するように配置されており、前記画素電極には、スルーホールが形成されており、前記画素電極は、共通の第二単位パターンを基準パターンとして形成されており、前記隔壁の前記画素電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記スルーホールと重ならないように配置されていることを特徴とする反射型表示装置である。 Alternatively, in the present invention, a display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates on which at least one has translucency and each electrode is formed. A reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates, and divides a plurality of regions arranged between the two substrates. A partition, and the display medium disposed in each cell with each region partitioned by the partition as a cell, and at least some of the branch points of the partition have a common first unit pattern as a reference pattern As a starting point that is located within a region defined as a maximum displacement of 1/2 times the extension length of the side in the direction of each side of the reference pattern extending from the branch point of the reference pattern, and It overlaps with the branch point of the reference pattern However, a light-transmitting electrode is formed on one substrate, and a pixel electrode is formed on the other substrate, and the light-transmitting electrode and the pixel electrode are arranged to face each other. The pixel electrode is formed with a through hole, the pixel electrode is formed with a common second unit pattern as a reference pattern, and the top of the partition wall on the pixel electrode side is The reflective display device is arranged so as not to overlap the through hole when viewed from one substrate toward the other substrate.

本発明によれば、隔壁の形成に用いられる基準パターンと、画素電極の形成に用いられる基準パターンとは、異なっている。このことにより、隔壁と画素電極とのアライメントマージンが広くなり、本発明による反射型表示装置は、隔壁と画素電極とが精密にアライメントされない場合や基板がプラスチックフィルムなどの寸法安定性の得られにくい材料で作られていた場合であっても、容易に、隔壁の下にスルーホールが配置されないように製造される。また、隔壁の画素電極側の頂部がスルーホールと重ならないように配置されているため、表示媒体中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することが抑制される。また、隔壁の形成に用いられる基準パターンと、画素電極の形成に用いられる基準パターンとが、異なっているだけでなく、隔壁は、非周期的なパターンで形成されている。この結果、モアレの発現が、極めて効果的に抑制される。 According to the present invention, the reference pattern used to form the partition is different from the reference pattern used to form the pixel electrode. As a result, the alignment margin between the partition walls and the pixel electrodes is widened, and the reflective display device according to the present invention is difficult to obtain dimensional stability such as when the partition walls and the pixel electrodes are not precisely aligned or when the substrate is a plastic film. Even when it is made of a material, it is easily manufactured so that the through hole is not disposed under the partition wall. In addition, since the top of the partition wall on the pixel electrode side is arranged so as not to overlap with the through hole, the particles in the display medium are suppressed from moving between the cells through the through hole. In addition, the reference pattern used for forming the partition walls is different from the reference pattern used for forming the pixel electrodes, and the partition walls are formed in an aperiodic pattern. As a result, the expression of moire is suppressed extremely effectively.

本発明によれば、隔壁と画素電極との間の精密なアライメントが行われない場合であっても、隔壁の下に画素電極のスルーホールが配置されることが抑制される、反射型表示装置を提供することができる。 According to the present invention, even when precise alignment between the partition walls and the pixel electrode is not performed, the reflective display device in which the through hole of the pixel electrode is suppressed from being disposed under the partition wall. Can be provided.

図１は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a reflective display device according to an embodiment of the present invention. 図２は、図１に示す反射型表示装置の他方の基板上に共通の単位パターンを基準パターンとして形成された画素電極におけるスルーホールの配置を概略的に示す平面図である。詳しくは、図２（ａ）が、スルーホールの位置が２種類から選択されており、隣り合う画素電極におけるスルーホール同士が互い違いに配列されている画素電極を示す平面図であり、図２（ｂ）が、各画素電極におけるスルーホールの位置が全て共通である画素電極を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view schematically showing the arrangement of through holes in pixel electrodes formed on the other substrate of the reflective display device shown in FIG. 1 using a common unit pattern as a reference pattern. Specifically, FIG. 2A is a plan view showing pixel electrodes in which the positions of through holes are selected from two types, and through holes in adjacent pixel electrodes are alternately arranged, and FIG. b) is a plan view showing pixel electrodes in which the positions of the through holes in each pixel electrode are all common. 図３は、画素電極と当該画素電極に配置されたＴＦＴの構成を概略的に示す図である。詳しくは、図３（ａ）が、画素電極とＴＦＴとを示す平面図であり、図３（ｂ）が、図３（ａ）の３ｂ−３ｂ線断面を示す断面図である。FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a pixel electrode and a TFT disposed on the pixel electrode. Specifically, FIG. 3A is a plan view showing a pixel electrode and a TFT, and FIG. 3B is a cross-sectional view showing a cross section taken along line 3b-3b of FIG. 図４は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。FIG. 4 is a flowchart schematically showing a manufacturing method of the reflective display device according to the embodiment of the present invention. 図５は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of the partition wall forming step. 図６は、隔壁の頂面の幅の定義について説明する図である。FIG. 6 is a diagram for explaining the definition of the width of the top surface of the partition wall. 図７は、隔壁のパターンの例を示す図である。詳しくは、図７（ａ）が、共通の六角形の単位パターンで成る基準パターンを示す図であり、図７（ｂ）が、図７（ａ）の基準パターンに基づいて非周期的に形成された隔壁のパターンを示す図であり、図７（ｃ）が、基準パターンの分岐点を起点として延出する当該基準パターンの各辺の方向に当該辺の延出長さの１／２倍を最大変位として規定される領域を説明するための図である。FIG. 7 is a diagram illustrating an example of a partition pattern. Specifically, FIG. 7A is a diagram showing a reference pattern composed of a common hexagonal unit pattern, and FIG. 7B is formed aperiodically based on the reference pattern of FIG. 7A. FIG. 7C is a diagram showing the pattern of the partition walls formed, and FIG. 7C is a half of the extension length of the side in the direction of each side of the reference pattern extending from the branch point of the reference pattern. It is a figure for demonstrating the area | region prescribed | regulated as maximum displacement. 図８は、接着層形成工程の一例を概略的に示す図である。FIG. 8 is a diagram schematically showing an example of the adhesive layer forming step. 図９は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。FIG. 9 is a diagram schematically showing an example of the display medium arranging step. 図１０は、対向基板配置工程において、他方の基板上に一方の基板が接着されている様子を概略的に示す断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view schematically showing a state where one substrate is bonded onto the other substrate in the counter substrate arranging step. 図１１は、本発明の第１の実施例による表示装置における隔壁と画素電極との配置関係を示す概略平面図である。FIG. 11 is a schematic plan view showing the positional relationship between the partition walls and the pixel electrodes in the display device according to the first embodiment of the present invention. 図１２は、図１１に示す隔壁と画素電極のスルーホールとの配置関係を示す概略断面図である。FIG. 12 is a schematic cross-sectional view showing the positional relationship between the partition walls shown in FIG. 11 and the through holes of the pixel electrodes. 図１３は、本発明の第２の実施例による表示装置における隔壁と画素電極との配置関係を示す概略平面図である。FIG. 13 is a schematic plan view showing the positional relationship between the partition walls and the pixel electrodes in the display device according to the second embodiment of the present invention. 図１４は、本発明の第３の実施例による表示装置における隔壁と画素電極との配置関係を示す概略平面図である。FIG. 14 is a schematic plan view showing the positional relationship between the partition walls and the pixel electrodes in the display device according to the third embodiment of the present invention. 図１５は、本発明の第１の比較例による表示装置における隔壁と画素電極との配置関係を示概略平面す図である。FIG. 15 is a schematic plan view showing the positional relationship between the partition walls and the pixel electrodes in the display device according to the first comparative example of the present invention. 図１６は、図１５に示す隔壁と画素電極のスルーホールとの配置関係を示す概略断面図である。FIG. 16 is a schematic cross-sectional view showing the positional relationship between the partition walls shown in FIG. 15 and the through holes of the pixel electrodes. 図１７は、本発明の第２の比較例による表示装置における隔壁と画素電極との配置関係を示す概略平面図である。FIG. 17 is a schematic plan view showing the positional relationship between the partition walls and the pixel electrodes in the display device according to the second comparative example of the present invention.

図１は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の構成を概略的に示す断面図である。本実施の形態による反射型表示装置は、少なくとも一方が透光性を有しており各々電極１１１，１６１が形成されている対向する２枚の基板間１１，１６に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体１３が封入されていて、２枚の基板１１，１６間に所定の電界が与えられる際に表示媒体１３が所望の表示をするようになっている。ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲において「透光性」とは、光を透過する性質、という程度の意味である。本実施の形態においては、視認側に配置される基板（一方の基板１１）は、全光透過率が５０％以上、好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上となるような透光性を有している。 FIG. 1 is a cross-sectional view schematically showing a configuration of a reflective display device according to an embodiment of the present invention. In the reflective display device according to the present embodiment, at least one of the electrical responses is provided between the two opposing substrates 11 and 16 on which at least one of them has translucency and the electrodes 111 and 161 are respectively formed. A display medium 13 containing a conductive material is enclosed, and the display medium 13 performs a desired display when a predetermined electric field is applied between the two substrates 11 and 16. Here, in the specification and claims of the present application, “translucent” means a property of transmitting light. In the present embodiment, the substrate (one substrate 11) arranged on the viewing side has a light-transmitting property such that the total light transmittance is 50% or more, preferably 80% or more, more preferably 90% or more. have.

図２乃至図１７において、一方の基板１１の面上には、電極１１１が設けられているが、電極１１１の図示は省略されている。本実施の形態においては、一方の基板１１が視認側に配置され、他方の基板１６が非視認側に配置される。 2 to 17, an electrode 111 is provided on the surface of one substrate 11, but the electrode 111 is not shown. In the present embodiment, one substrate 11 is disposed on the viewing side, and the other substrate 16 is disposed on the non-viewing side.

一方の基板１１としては、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等の透光性フィルムや透光性ガラスに、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等の透光性を有する電極（透光性電極）１１１を付したものが、典型的に用いられ得る。 One substrate 11 includes a light-transmitting film such as polyethylene (PE), polyethylene terephthalate (PET), polyethersulfone (PES), polyethylene naphthalate (PEN), or light-transmitting glass, and indium tin oxide (ITO). ), Zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), and the like, to which a light-transmitting electrode (translucent electrode) 111 is attached can be typically used.

透光性電極１１１は、塗工法やスパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法等によって形成され得る。透光性電極１１１は、アクティブマトリクス駆動の場合及びセグメント駆動の場合は共通電極として用いられるので、必ずしもパターンが形成されている必要は無く、基板全面が電極であってもよい。 The translucent electrode 111 can be formed by a coating method, sputtering, a vacuum deposition method, a CVD method, or the like. Since the translucent electrode 111 is used as a common electrode in the case of active matrix driving and segment driving, it is not always necessary to form a pattern, and the entire surface of the substrate may be an electrode.

一方の基板１１の厚みは、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。 The thickness of one substrate 11 is preferably 10 μm to 1 mm. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.

一方の基板１１は、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。 One substrate 11 can be applied in either a roll shape or a sheet shape.

他方の基板１６としては、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等の表示媒体側の面に金属等の導電性材料によって電極が形成されたものが用いられ得る。また他方の基板１６は、透光性を有する基材が用いられてもよい。さらに透光性を有しているが不透明な基材であってもよく、電極面とは異なるもう一方の面を粗面化した不透明なガラス基材、樹脂フィルム、樹脂板、ガラス、エポキシガラス（ガラエポ）等が用いられ得る。本実施の形態では、他方の基板１６は、視認側と反対側の位置に配置されるため、透光性を有している必然性はない。しかし、熱膨張特性など一方の基板１１と同じ物性が必要とされる場合は、一方の基板１１と同様の透光性の部材が使用され得る。 As the other substrate 16, a substrate in which an electrode is formed of a conductive material such as a metal on a display medium side surface such as a resin film, a resin plate, glass, or epoxy glass (glass epoxy) can be used. The other substrate 16 may be a translucent base material. Furthermore, it may be an opaque base material that is translucent, but an opaque glass base material, resin film, resin plate, glass, epoxy glass with the other surface different from the electrode surface roughened. (Garaepo) or the like can be used. In the present embodiment, since the other substrate 16 is disposed at a position opposite to the viewing side, there is no necessity of having translucency. However, when the same physical properties as the one substrate 11 such as thermal expansion characteristics are required, a light-transmitting member similar to the one substrate 11 can be used.

他方の基板１６の厚みも、一方の基板１１の厚みと同様に、１０μｍ〜１ｍｍが好適である。１０μｍよりも薄いと、パネルとしての強度を得ることができず、破損に至る危険度が増す一方、１ｍｍよりも厚いと、パネル重量が重くなり過ぎて取り扱いが不便になるし、コストも高くなるからである。破損しにくく取り扱いが容易である好適な厚みの範囲は、５０μｍ〜３００μｍ程度である。 The thickness of the other substrate 16 is preferably 10 μm to 1 mm, similarly to the thickness of the one substrate 11. If it is thinner than 10 μm, the strength as a panel cannot be obtained and the risk of breakage increases. On the other hand, if it is thicker than 1 mm, the panel weight becomes too heavy and the handling becomes inconvenient and the cost also increases. Because. A suitable thickness range that is difficult to break and easy to handle is about 50 μm to 300 μm.

他方の基板１６も、ロール状でもシート状でもどちらでも適用可能である。 The other substrate 16 can be applied in either a roll shape or a sheet shape.

画素電極１６１は、反射型表示装置において所望の表示に利用される領域（表示領域）を網羅するように、マトリックス状に配置されている。電極１６１としては、セグメント駆動およびパッシブマトリクス駆動の場合はパターン状の電極、また、アクティブマトリクス駆動の場合はＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）が配置される画素電極が用いられる。本実施の形態においては、画素電極１６１は、ＴＦＴ１６３が配置される画素電極であり、図２に示すように、共通の矩形の単位パターンを基準パターンとして、基準パターンと同じパターンで形成されている。 The pixel electrodes 161 are arranged in a matrix so as to cover a region (display region) used for desired display in the reflective display device. As the electrode 161, a pattern electrode is used in the segment drive and passive matrix drive, and a pixel electrode in which a TFT (Thin Film Transistor) is arranged in the active matrix drive. In the present embodiment, the pixel electrode 161 is a pixel electrode in which the TFT 163 is arranged, and is formed in the same pattern as the reference pattern, using a common rectangular unit pattern as a reference pattern, as shown in FIG. .

ここで、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「単位パターン」とは、全体のパターンによって分割された個々の領域を囲む個々のパターンである。また、「基準パターン」とは、最終のパターンを形成する際に基準（基礎）とされるパターンである。本実施の形態においては、画素電極１６１の第二単位パターンは、図２（ａ）または図２（ｂ）に示すような個々の矩形のパターンであり、画素電極１６１の基準パターンは、当該第二単位パターンが規則的に配列されてなる図２（ａ）または図２（ｂ）に示すような格子状の全体のパターンである。 Here, in the present specification and claims, the “unit pattern” is an individual pattern surrounding individual regions divided by the entire pattern. The “reference pattern” is a pattern used as a reference (basic) when forming the final pattern. In the present embodiment, the second unit pattern of the pixel electrode 161 is an individual rectangular pattern as shown in FIG. 2A or 2B, and the reference pattern of the pixel electrode 161 is the first pattern. It is a lattice-like whole pattern as shown in FIG. 2A or FIG. 2B in which two unit patterns are regularly arranged.

各画素電極１６１には、図３に示すように、画素電極１６１と、当該画素電極１６１及び他方の基板１６の間に設けられたＴＦＴ１６３と、を電気的に接続するためのスルーホール１６２が形成されている。本実施の形態においては、各画素電極１６１におけるスルーホール１６２の位置は、２種類、すなわち図２（ａ）に示す画素電極１６１の中央の位置及び上側の位置、から選択されており、隣り合う画素電極１６１におけるスルーホール１６２同士が、互い違いに配列されている。もっとも、各画素電極１６１におけるスルーホール１６２の位置は、図２（ｂ）に示すように全て共通であってもよいし、２種類以上から選択されてもよい。 As shown in FIG. 3, each pixel electrode 161 has a through hole 162 for electrically connecting the pixel electrode 161 and the TFT 163 provided between the pixel electrode 161 and the other substrate 16. Has been. In the present embodiment, the position of the through hole 162 in each pixel electrode 161 is selected from two types, that is, the central position and the upper position of the pixel electrode 161 shown in FIG. The through holes 162 in the pixel electrode 161 are alternately arranged. However, the positions of the through holes 162 in each pixel electrode 161 may all be common as shown in FIG. 2B, or may be selected from two or more types.

＜反射型表示装置の製造方法＞
図４は、本発明の一実施の形態による反射型表示装置の製造方法を概略的に示すフロー図である。 <Method for manufacturing reflective display device>
FIG. 4 is a flowchart schematically showing a manufacturing method of the reflective display device according to the embodiment of the present invention.

図５は、隔壁形成工程の一例を概略的に示す図である。図５に示すように、まず、一般には水平方向に載置される一方の基板１１の上面に、例えばフォトリソグラフィ法（紫外線（ＵＶ）照射による露光→現像→焼成）によって、隔壁１２が形成される。隔壁１２は、後述する複数のセルを規定する部材である。 FIG. 5 is a diagram schematically showing an example of the partition wall forming step. As shown in FIG. 5, first, partition walls 12 are formed on the upper surface of one substrate 11 generally placed in the horizontal direction by, for example, photolithography (exposure by ultraviolet (UV) irradiation → development → firing). The The partition wall 12 is a member that defines a plurality of cells to be described later.

なお、本件の明細書及び特許請求の範囲においては、「セル」とは、粒子や粉体の沈降や偏在に起因して表示の不良、特にコントラストの低下を防止するべく上下の電極基板１１，１６間に形成された隔壁１２によって分割された、電気泳動する粒子や粉体の微小な泳動空間、すなわち移動空間を意味する。 In the specification and claims of the present application, the “cell” means the upper and lower electrode substrates 11, 11 to prevent display defects due to sedimentation or uneven distribution of particles or powder, in particular, reduction in contrast. This means a minute migration space of particles or powder to be electrophoresed, that is, a movement space, divided by partition walls 12 formed between 16.

隔壁１２は、紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、常温硬化樹脂等によって構成可能であり、隔壁１２の形成方法は、フォトリソグラフィ法の他、エンボス加工などの型転写方法も採用され得る。さらに、所望のパターンの構造物を隔壁として製造しておいて、それを一方の基板１１に貼り付けるという方法も採用され得る。開口率は、７０％以上が好ましく、特に９０％以上が好ましい。高開口率であるほど、表示可能エリアが広くなるため、高コントラストを得ることができる。 The partition wall 12 can be composed of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, a room temperature curable resin, or the like. As a method for forming the partition wall 12, a mold transfer method such as embossing can be adopted in addition to the photolithography method. Further, a method of manufacturing a structure having a desired pattern as a partition and sticking the structure to one substrate 11 may be employed. The aperture ratio is preferably 70% or more, and particularly preferably 90% or more. The higher the aperture ratio, the wider the displayable area, so that high contrast can be obtained.

隔壁１２は、本実施の形態では、図７（ａ）に示すように、六角形の第一単位パターンを規則的に配列してなるハニカム状の全体のパターンを基準パターンとして形成されている。第一単位パターンの形状としては、六角形以外の形状も採用可能であり、例えば、円、矩形、その他の多角形など、基本的に任意であり、画素電極１６１の第二単位パターンと同じ形状であってもよい。しかし、当該第一単位パターンを規則的に配列してなる隔壁１２の基準パターンは、第二単位パターンを規則的に配列してなる画素電極１６１の基準パターンとは、異なるパターンである。 In the present embodiment, as shown in FIG. 7A, the partition wall 12 is formed with a honeycomb-shaped whole pattern formed by regularly arranging hexagonal first unit patterns as a reference pattern. As the shape of the first unit pattern, a shape other than a hexagon can also be adopted. For example, the shape is basically arbitrary such as a circle, a rectangle, and other polygons, and has the same shape as the second unit pattern of the pixel electrode 161. It may be. However, the reference pattern of the barrier rib 12 formed by regularly arranging the first unit patterns is different from the reference pattern of the pixel electrode 161 formed by regularly arranging the second unit patterns.

本実施の形態においては、隔壁１２は、隔壁１２の少なくとも一部の分岐点が、図７（ａ）に示すような、共通の六角形の単位パターンを基準パターンとして、当該基準パターンの分岐点を起点として延出する当該基準パターンの各辺の方向に当該辺の延出長さの１／２倍を最大変位として規定される領域内に位置し、且つ、当該基準パターンの分岐点とは重ならないように、図７（ｂ）に示すような非周期的なパターンで形成される。 In the present embodiment, the partition wall 12 has at least a part of branch points of the partition wall 12 as a reference pattern having a common hexagonal unit pattern as shown in FIG. 7A. In the direction of each side of the reference pattern extending from the starting point, it is located in a region defined as ½ times the extension length of the side as the maximum displacement, and the branch point of the reference pattern is In order not to overlap, it is formed in an aperiodic pattern as shown in FIG.

ここで、「周期的なパターン」とは、共通の単位パターンを所定のピッチ及び所定の配置関係で配置することにより、全体として規則性を有するように形成されるパターンのことをいう。そして、「非周期的なパターン」とは、様々な形状のパターンが様々なピッチで配置されて成るパターンなど、周期的なパターンの形状や配置に関する規則性のうち、何らかの規則性を失ったパターンをいう。 Here, the “periodic pattern” refers to a pattern formed to have regularity as a whole by arranging common unit patterns with a predetermined pitch and a predetermined arrangement relationship. A non-periodic pattern is a pattern that loses some regularity among the regularity related to the shape and arrangement of periodic patterns, such as a pattern in which patterns of various shapes are arranged at various pitches. Say.

また、本件の明細書及び特許請求の範囲において「基準パターンの分岐点を起点として延出する当該基準パターンの各辺の方向に当該辺の延出長さの１／２倍を最大変位として規定される領域」とは、図７（ｃ）に示すような、基準パターンの分岐点Ｋを起点として延出する辺Ｋ−Ｋ１、Ｋ−Ｋ２、Ｋ−Ｋ３、・・、Ｋ−Ｋｎの各辺と、分岐点Ｋから各辺Ｋ−Ｋ１、Ｋ−Ｋ２、Ｋ−Ｋ３、・・、Ｋ−Ｋｎの長さの１／２の距離だけ離れた位置で直交する各線Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３、・・、Ｌｎで囲まれる領域、を意味する。 Further, in the specification and claims of the present application, “the maximum displacement is defined as ½ times the extension length of the side in the direction of each side of the reference pattern extending from the branch point of the reference pattern. The “region to be performed” means each of the sides K-K1, K-K2, K-K3,..., K-Kn extending from the branch point K of the reference pattern as shown in FIG. Lines L1, L2, L3 orthogonal to the side at a position separated from the branch point K by a distance of half the length of each side K-K1, K-K2, K-K3,. .., Means a region surrounded by Ln.

セルのサイズ（ピッチ）は、表示パネルの大きさにもよるが、０．０５ｍｍ〜１ｍｍピッチ、好ましくは０．１ｍｍ〜０．５ｍｍピッチである。ここで、ピッチとは、隣接するセルの中心点の距離を意味している。なお、図７（ｂ）に示すような非周期的なパターンで形成された隔壁１２によって区画されるセルの場合は、セルの中心点とは、当該隔壁１２の形成の基礎とされた、あるいは比較対象とされる基準パターンの中心点を意味する。 The cell size (pitch) depends on the size of the display panel, but is 0.05 mm to 1 mm pitch, preferably 0.1 mm to 0.5 mm pitch. Here, the pitch means the distance between the center points of adjacent cells. In the case of a cell partitioned by the partition 12 formed in an aperiodic pattern as shown in FIG. 7B, the center point of the cell is the basis of the formation of the partition 12, or It means the center point of the reference pattern to be compared.

隔壁１２の頂面の幅は、９μｍ〜５０μｍ、好ましくは９μｍ〜２０μｍである。９μｍというのは、隔壁１２が倒れることなくパターニングできる線幅の下限である。隔壁１２の頂面の幅が９μｍ未満である場合、隔壁１２の長さが６０μｍ以上に亘るようなパターンでは、少なくとも隔壁１２の一部が倒れたり、剥がれたり、剥がれた隔壁１２が基板上を移動したりする。そうなった場合には、隔壁１２による粒子の移動を防ぐという機能が失われ、表示品質が劣化してしまう。一方、好適な範囲の上限である５０μｍというのは、目視したときに隔壁１２が目立ち過ぎない上限である。 The width of the top surface of the partition wall 12 is 9 μm to 50 μm, preferably 9 μm to 20 μm. 9 μm is the lower limit of the line width at which the partition wall 12 can be patterned without falling down. When the width of the top surface of the partition wall 12 is less than 9 μm, in a pattern in which the length of the partition wall 12 is 60 μm or more, at least a part of the partition wall 12 falls, peels off, or the separated partition wall 12 moves over the substrate. Or move. In that case, the function of preventing the movement of particles by the partition wall 12 is lost, and the display quality is deteriorated. On the other hand, the upper limit of 50 μm, which is the upper limit of the preferred range, is an upper limit at which the partition wall 12 is not too conspicuous when visually observed.

ここで、隔壁１２の頂面の幅の定義を、図６に示す。頂面の角が丸まっていなければ、図６（ａ）や図６（ｂ）に示すように、頂面の幅はそのまま定義される。一方、頂面の角が丸まっている場合には、図６（ｃ）や図６（ｄ）に示すように、頂面の延長面と壁面の延長面との交線間の幅として理解される。評価のための測定方法としては、隔壁１２が形成された一方の基板１１を硬化性樹脂にて包埋し、ミクロートーム（大和光機工業株式会社製：ＦＸ−８０１）により隔壁１２の断面を切り出し、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）によって撮影した画像に基づいて各幅を測定することができる。 Here, the definition of the width of the top surface of the partition wall 12 is shown in FIG. If the corners of the top surface are not rounded, the width of the top surface is defined as it is, as shown in FIGS. 6 (a) and 6 (b). On the other hand, when the corner of the top surface is rounded, it is understood as the width between the intersection lines of the extended surface of the top surface and the extended surface of the wall surface as shown in FIG. 6 (c) and FIG. 6 (d). The As a measuring method for evaluation, one substrate 11 on which the partition wall 12 was formed was embedded in a curable resin, and a cross section of the partition wall 12 was cut out by a microtome (Daiwa Kogyo Kogyo Co., Ltd .: FX-801). Each width can be measured based on an image taken by a scanning electron microscope (SEM).

隔壁１２の厚みは、５〜５０μｍ、好ましくは１０〜５０μｍである。５μｍ以下では、充填するインキ量が少なく、十分な表示特性、特にコントラストが得られない一方、５０μｍ以上では、パネルの厚みが厚すぎて、駆動電圧が上昇し過ぎてしまう。低駆動電圧で良好な表示特性が得られるという観点から、１０〜５０μｍの範囲の厚みが好適である。 The thickness of the partition wall 12 is 5 to 50 μm, preferably 10 to 50 μm. If the thickness is 5 μm or less, the amount of ink to be filled is small and sufficient display characteristics, particularly contrast, cannot be obtained. From the viewpoint that good display characteristics can be obtained at a low driving voltage, a thickness in the range of 10 to 50 μm is preferable.

次に、隔壁１２上に接着層２２が形成される（接着層形成工程：図４の工程（２））。この接着層形成工程では、例えば転写法や印刷法により、ポリエステル系熱可塑性接着剤のような熱可塑性樹脂が、１μｍ〜１００μｍの厚みで形成される。好ましくは、１μｍ〜５０μｍの厚みで形成され、特に好ましくは、１μｍ〜２０μｍの厚みで形成される。 Next, the adhesive layer 22 is formed on the partition wall 12 (adhesive layer forming step: step (2) in FIG. 4). In this adhesive layer forming step, a thermoplastic resin such as a polyester-based thermoplastic adhesive is formed with a thickness of 1 μm to 100 μm by, for example, a transfer method or a printing method. Preferably, it is formed with a thickness of 1 μm to 50 μm, particularly preferably with a thickness of 1 μm to 20 μm.

転写法として典型的な熱転写法の一例について具体的な説明を補足すれば、図８に示すように、例えば基材２１としてのＰＥＴフィルム上に２０μｍの厚みでポリエステル系熱可塑性接着剤のような接着剤２２１を形成した転写シート２０を用意する。次に、この転写シート２０を、接着剤２２１の面が一方の基板１１の隔壁１２の頂面上に配置されるように、一方の基板１１と対向して配置する。この状態で、一方の基板１１と転写シート２０とを、常温で１ｋＰａの圧力でラミネートする。ラミネートの後で、これをヒートシール剤２２１の軟化温度以上の温度である例えば１２０℃に保たれたホットプレート上において１分間加熱し、その後転写シート２０を剥離する。これにより、隔壁１２上に例えば６μｍ程度の接着層２２が形成される。 Supplementing a specific description of an example of a typical thermal transfer method as a transfer method, as shown in FIG. 8, for example, a polyester-based thermoplastic adhesive having a thickness of 20 μm on a PET film as a substrate 21 is used. A transfer sheet 20 on which an adhesive 221 is formed is prepared. Next, the transfer sheet 20 is arranged to face the one substrate 11 so that the surface of the adhesive 221 is arranged on the top surface of the partition wall 12 of the one substrate 11. In this state, one substrate 11 and the transfer sheet 20 are laminated at a normal temperature and a pressure of 1 kPa. After lamination, this is heated for 1 minute on a hot plate maintained at, for example, 120 ° C., which is equal to or higher than the softening temperature of the heat sealant 221, and then the transfer sheet 20 is peeled off. As a result, an adhesive layer 22 of about 6 μm, for example, is formed on the partition wall 12.

接着層２２を形成するための接着剤２２１としては、熱可塑性材料を用いた接着剤が好ましく、加熱により軟化して、冷却すると固化する性質を有し、冷却と加熱を繰り返した場合に、塑性が可逆的に保たれる材料である。 As the adhesive 221 for forming the adhesive layer 22, an adhesive using a thermoplastic material is preferable. It has a property of softening by heating and solidifying when cooled, and is plastic when repeated cooling and heating. Is a material that is reversibly maintained.

熱可塑性材料からなる接着剤を接着層として用いた場合には、転写シート基材上の固化している接着剤をその軟化温度を超える温度にまで加熱することにより軟化させて、隔壁上面のみに確実に接着剤を熱転写することもできる。また、熱転写後の接着剤は常温まで冷却して再び固化することにより、タック、すなわちねばつきが無くなるため、取り扱いの便宜が極めて良い。また、タック、すなわちねばつきが無いことによって、セル内に充填された表示媒体が接着剤と接着してしまうことがない。そして、再び隔壁頂面の接着剤をその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることにより、タック、すなわちねばつきを有するようになるため、他方の基板に確実に接着される。他方の基板との接着後の接着剤は、再び常温においてはタック、すなわちねばつきが無いため、やはり表示媒体が接着剤と接着してしまうことがなく、表示品質の低下のおそれもない。 When an adhesive made of a thermoplastic material is used as the adhesive layer, the adhesive solidified on the transfer sheet substrate is softened by heating to a temperature exceeding the softening temperature, and only on the upper surface of the partition wall. The adhesive can be reliably thermally transferred. Moreover, since the adhesive after thermal transfer is cooled to room temperature and solidified again, tackiness, that is, stickiness, is eliminated. Further, since there is no tack or stickiness, the display medium filled in the cell does not adhere to the adhesive. Then, the adhesive on the top surface of the partition wall is heated again to a temperature exceeding the softening temperature to be softened, so that it has tackiness, that is, stickiness, so that it is securely bonded to the other substrate. Since the adhesive after being bonded to the other substrate does not have tack or stickiness at normal temperature again, the display medium will not adhere to the adhesive and display quality may not be deteriorated.

具体的には、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリエステル、ポリアミド、ポリオレフィン、ポリウレタンなどの熱可塑性ベースポリマーや、天然ゴム、スチレン−ブタジエンブロック共重合体、スチレン−イソプレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−エチレン−プロピレン−スチレン共重合体などの熱可塑性エラストマーを主成分とし、粘着性付与樹脂や可塑剤を配合した樹脂が主に使用される。 Specifically, thermoplastic base polymers such as ethylene-vinyl acetate copolymer, polyester, polyamide, polyolefin, polyurethane, natural rubber, styrene-butadiene block copolymer, styrene-isoprene block copolymer, styrene-ethylene. A resin mainly composed of a thermoplastic elastomer such as a butylene-styrene block copolymer or a styrene-ethylene-propylene-styrene copolymer, and a tackifier resin or a plasticizer is mainly used.

隔壁１２と接着剤２２１との密着性を上げるために、隔壁１２に紫外線照射やプラズマ処理などにより表面処理が施されてもよいし、プライマーが形成されてもよい。あるいは、接着剤２２１の方にシランカップリング剤が添加されてもよい。 In order to improve the adhesion between the partition wall 12 and the adhesive 221, the partition wall 12 may be subjected to a surface treatment by ultraviolet irradiation, plasma treatment, or the like, or a primer may be formed. Alternatively, a silane coupling agent may be added to the adhesive 221.

次に、他方の基板１６上に表示媒体としてのインキ１３が配置される（表示媒体配置工程：図４の工程（３））。図９は、表示媒体配置工程の一例を概略的に示す図である。ここでは、（１）ディスペンサ３１あるいはインクジェット、ダイコートからインキ１３が滴下され（インキ滴下工程）、（２）アプリケータ３２あるいはドクターブレード、ドクターナイフ、中央スキージによって面内均一となるようにインキ１３が塗布される（インキ塗布工程）。なお、インキ１３は、一方の基板１１上に配置されてもよい。 Next, the ink 13 as a display medium is arranged on the other substrate 16 (display medium arranging step: step (3) in FIG. 4). FIG. 9 is a diagram schematically showing an example of the display medium arranging step. Here, (1) the ink 13 is dropped from the dispenser 31 or inkjet or die coat (ink dropping step), and (2) the ink 13 is made uniform in the surface by the applicator 32 or doctor blade, doctor knife, and central squeegee. It is applied (ink application process). The ink 13 may be disposed on one substrate 11.

表示媒体１３としては、少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が用いられ得る。電気応答性材料としては、電荷粒子材料、液晶材料があり、電荷粒子材料には白や黒、カラーなどの色づけされた粒子が電場に応答して移動するいわゆる電気泳動材料、または、粒子が二色に色分けされ電場により回転するツイストボールに代表される材料、または、電場により移動するナノ粒子材料等がある。一方、液晶材料は、ＰＤＬＣ（ＰｏｌｙｍｅｒＤｉｓｐｅｒｓｅｄＬｉｑｕｉｄＣｒｙｓｔａｌ）で知られる透過と散乱を電気的に制御する材料や、液晶に色素を混合した材料、コレステリック液晶材料などがある。これらの電気応答性を有し光学特性を変化させる材料は、種類を問わずセルに隔離する必要があり、本発明の適用対象である。 As the display medium 13, a display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials can be used. Examples of the electroresponsive material include a charged particle material and a liquid crystal material, and the charged particle material includes a so-called electrophoretic material in which colored particles such as white, black, and color move in response to an electric field, or two particles. There are materials typified by twist balls that are color-coded and rotated by an electric field, or nanoparticle materials that move by an electric field. On the other hand, the liquid crystal material includes a material for electrically controlling transmission and scattering known as PDLC (Polymer Dispersed Liquid Crystal), a material in which a liquid crystal is mixed with a dye, a cholesteric liquid crystal material, and the like. These materials that have electrical responsiveness and change optical characteristics need to be isolated into cells regardless of the type, and are subject to application of the present invention.

一般的に表示媒体１３の平均粒子径は、例えば引用文献３（特許第４５１６４８１号公報）及び引用文献４（特許第４５７９７６８号公報）に記載されているように、０．０５μｍ以上であり、好ましくは０．０８μｍ以上であり、さらに好ましくは０．１μｍ以上である。さらに、一般的に表示媒体１３の平均粒子径は、例えば引用文献３（特許第４５１６４８１号公報）及び引用文献４（特許第４５７９７６８号公報）に記載されているように、５μｍ以下であり、好ましくは３μｍ以下であり、さらに好ましくは１．５μｍ以下である。 In general, the average particle size of the display medium 13 is 0.05 μm or more as described in, for example, cited document 3 (Patent No. 4516481) and cited document 4 (Patent No. 4579768), preferably Is 0.08 μm or more, more preferably 0.1 μm or more. Furthermore, the average particle diameter of the display medium 13 is generally 5 μm or less as described in, for example, cited document 3 (Patent No. 45164481) and cited document 4 (Patent No. 4579768), preferably Is 3 μm or less, more preferably 1.5 μm or less.

図４に戻って、隔壁１２上の接着層２２と一方の基板１１に対して対向する他方の基板１６とが、隔壁１２内のセル容積を超える余剰のインクを押し出しながら接着される（対向基板配置工程：図４の工程（４））。これにより、表示媒体（インキ１３）が各セル内に封止される。 Returning to FIG. 4, the adhesive layer 22 on the partition wall 12 and the other substrate 16 facing the one substrate 11 are bonded while extruding excess ink exceeding the cell volume in the partition wall 12 (opposite substrate). Arrangement step: step (4) in FIG. Thereby, the display medium (ink 13) is sealed in each cell.

本実施の形態の対向基板配置工程では、一方の基板１１と他方の基板１６とは、顕微鏡などを用いて精密にアライメントされる必要は無く、例えば、一方の基板１１に設けられたアライメント用のマークと、他方の基板１６に設けられたアライメント用のマークと、を肉眼で観察して一致させながらアライメントされてもよい。 In the counter substrate placement process of the present embodiment, the one substrate 11 and the other substrate 16 do not need to be precisely aligned using a microscope or the like, for example, for alignment provided on the one substrate 11. You may align, aligning a mark and the mark for alignment provided in the other board | substrate 16 by observing with the naked eye.

さらに、本実施の形態の対向基板配置工程では、図１０に示すように、接着層２２として転写された接着剤２２１を加熱させて接着力を得るようになっている。具体的には、ラミネータ９１によって所定の熱圧着圧力（ラミネート圧力）を付与しながら、接着剤２２１を周辺からその軟化温度を超える温度にまで加熱して軟化させることによって、隔壁１２と他方の基板１６とを接着する。もっとも、他の熱圧着の態様が採用されてもよい。 Furthermore, in the counter substrate arrangement step of the present embodiment, as shown in FIG. 10, the adhesive 221 transferred as the adhesive layer 22 is heated to obtain an adhesive force. Specifically, the partition wall 12 and the other substrate are softened by heating the adhesive 221 from the periphery to a temperature exceeding the softening temperature while applying a predetermined thermocompression bonding pressure (laminating pressure) by the laminator 91. 16 is bonded. However, other thermocompression bonding modes may be employed.

その後、図４に示すように、ギロチン、上刃スライド装置、レーザカット装置、レーザーカッター等の断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され（断裁工程：図４の工程（５））、所望の反射型表示装置の製造が完了する。 Thereafter, as shown in FIG. 4, the sheet is cut into a predetermined size by a cutting device 51 such as a guillotine, an upper blade slide device, a laser cutting device, or a laser cutter (cutting step: step (5) in FIG. 4) and desired reflection. The production of the mold display device is completed.

本実施の形態によれば、隔壁１２の形成に用いられる基準パターンと、画素電極１６１の形成に用いられる基準パターンとは、異なっている。このことにより、隔壁１２と画素電極１６１とのアライメントマージンが広くなり、本実施の形態による反射型表示装置は、隔壁１２と画素電極１６１とが精密にアライメントされない場合や基板１１，１６がプラスチックフィルムなどの寸法安定性の得られにくい材料で作られていた場合であっても、容易に、隔壁１２の下にスルーホール１６２が配置されないように製造される。また、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部がスルーホール１６２と重ならないように配置されているため、表示媒体１３中の粒子がスルーホールを通ってセル間を移動することがない。また、隔壁１２の形成に用いられる基準パターンと、画素電極１６１の形成に用いられる基準パターンとが、異なっているため、モアレの発現が、効果的に抑制される。 According to the present embodiment, the reference pattern used for forming the partition wall 12 is different from the reference pattern used for forming the pixel electrode 161. As a result, the alignment margin between the partition wall 12 and the pixel electrode 161 is widened. In the reflective display device according to the present embodiment, when the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are not precisely aligned, the substrates 11 and 16 are made of a plastic film. Even if it is made of a material that is difficult to obtain dimensional stability, the through hole 162 is easily manufactured so as not to be disposed under the partition wall 12. In addition, since the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side is arranged so as not to overlap with the through hole 162, particles in the display medium 13 do not move between the cells through the through hole. Further, since the reference pattern used for forming the partition wall 12 is different from the reference pattern used for forming the pixel electrode 161, the occurrence of moiré is effectively suppressed.

また、本実施の形態によれば、各画素電極１６１におけるスルーホール１６２の位置は、２種類以上から選択されている。この場合、隔壁１２と画素電極１６１とのアライメントマージンが更に広がる。なお、各画素電極１６１におけるスルーホール１６２の位置が全て共通の場合には、画素電極１６１及び画素電極１６１に配置されるＴＦＴ１６３の形成が容易である。 Further, according to the present embodiment, the position of the through hole 162 in each pixel electrode 161 is selected from two or more types. In this case, the alignment margin between the partition wall 12 and the pixel electrode 161 is further expanded. Note that when all the positions of the through holes 162 in each pixel electrode 161 are common, it is easy to form the pixel electrode 161 and the TFT 163 disposed on the pixel electrode 161.

また、本実施の形態によれば、隔壁１２の形成に用いられる基準パターンと、画素電極１６１の形成に用いられる基準パターンとが、異なっているだけでなく、隔壁１２は、非周期的なパターンで形成されている。この結果、モアレの発現が、極めて効果的に抑制される。 Further, according to the present embodiment, the reference pattern used for forming the partition wall 12 and the reference pattern used for forming the pixel electrode 161 are not only different, but the partition wall 12 has a non-periodic pattern. It is formed with. As a result, the expression of moire is suppressed extremely effectively.

次に、実際に行われた実施例について説明する。 Next, practical examples actually performed will be described.

＜反射型表示装置の実施例＞
＜実施例１＞
一方の基板１１として、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×厚さ０．１２５ｍｍのＰＥＴフィルム（東洋紡製Ａ４１００）の一方の面に透光性電極１１１として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）蒸着膜（厚さ０．２μｍ）が設けられた基板が用意された。透光性電極１１１は、スパッタリング、真空蒸着法、ＣＶＤ法などの一般的な成膜方法によって形成され、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）の他に、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ）等によっても形成され得る。 <Example of Reflective Display Device>
<Example 1>
As one substrate 11, an indium tin oxide (ITO) vapor deposition film (thickness 0.2 μm) is formed as a translucent electrode 111 on one surface of a PET film (Toyobo A4100) having a size of 150 mm × 150 mm × thickness 0.125 mm. A provided substrate was prepared. The translucent electrode 111 is formed by a general film forming method such as sputtering, vacuum evaporation, or CVD, and in addition to indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or the like. Can also be formed.

次に、当該一方の基板１１に、ネガ型感光性樹脂材料（デュポンＭＲＣドライフィルムレジスト（株）製のドライフィルムレジスト）を２０μｍの厚さにラミネートして１００℃、１分間の条件で加熱し、次いで露光マスクを使用して露光（露光量５００ｍＪ／ｃｍ^２）し、その後、１％ＫＯＨ水溶液を用いた現像を３０秒行い、２００℃、６０分間の条件で焼成することで、線幅が２０μｍの隔壁１２が形成された。隔壁１２は、共通の六角形の単位パターンを基準パターン（ピッチ３００μｍ）として、当該基準パターンの分岐点を不規則に変位させて得られた、図７（ｂ）に示すような非周期的なハニカムパターンで形成された。 Next, a negative photosensitive resin material (a dry film resist manufactured by DuPont MRC Dry Film Resist Co., Ltd.) is laminated on the one substrate 11 to a thickness of 20 μm and heated at 100 ° C. for 1 minute. Then, exposure is performed using an exposure mask (exposure amount: 500 mJ / cm ² ), and thereafter development using a 1% KOH aqueous solution is performed for 30 seconds, followed by baking at 200 ° C. for 60 minutes. A 20 μm partition wall 12 was formed. The partition wall 12 is obtained by using a common hexagonal unit pattern as a reference pattern (pitch: 300 μm) and irregularly displacing a branch point of the reference pattern as shown in FIG. 7B. It was formed with a honeycomb pattern.

そして、転写フィルム基材２１として厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム２１（帝人・デュポン社製）が用いられ、これにヒートシール剤２２１（東洋紡製バイロン６３０）が厚さ２０μｍでダイコーダにて塗布され、乾燥された。これにより、１０μｍの接着層を有するロール状の転写シート２０が作製された。なお、ヒートシール剤２２１の軟化温度は約１１０℃であった。 A polyethylene terephthalate (PET) film 21 (manufactured by Teijin DuPont) having a thickness of 50 μm is used as the transfer film substrate 21, and a heat sealant 221 (Byron 630 manufactured by Toyobo Co., Ltd.) having a thickness of 20 μm is formed by a die coder. Applied and dried. Thereby, a roll-shaped transfer sheet 20 having a 10 μm adhesive layer was produced. The softening temperature of the heat sealant 221 was about 110 ° C.

そして、転写フィルム２０の上に、一方の基板１１が、その隔壁１２が形成されている側の面を下にした状態で載せられ、この状態で、１ｋＰａ程度の押圧力で常温でラミネートされた。その後、ヒートシール剤２２１の周辺がその軟化温度を超える温度、例えば１３０℃程度にまで加熱され、その状態で一方の基板１１が、転写フィルム２０から剥離された。その結果、ヒートシール剤２２１が隔壁１２の頂面の全面に熱転写された。隔壁１２の頂面からヒートシール剤２２１の頭頂部までの高さは、約６μｍであった。 Then, one substrate 11 was placed on the transfer film 20 with the surface on which the partition wall 12 was formed facing down, and was laminated at room temperature with a pressing force of about 1 kPa in this state. . Thereafter, the periphery of the heat sealant 221 was heated to a temperature exceeding its softening temperature, for example, about 130 ° C., and one substrate 11 was peeled from the transfer film 20 in that state. As a result, the heat sealant 221 was thermally transferred to the entire top surface of the partition wall 12. The height from the top surface of the partition 12 to the top of the heat sealant 221 was about 6 μm.

次いで、他方の基板１６として、１５０ｍｍ×１５０ｍｍ×厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス（日本電気硝子製ＯＡ−１０Ｇ）に、４インチ相当のパネルの駆動電極に相当するＩＴＯ電極である画素電極１６１が、共通の矩形の単位パターンを基準パターン（ピッチ３００μｍ）としてマトリクス状に形成されたものが用いられた。本実施例の電極１６１は、アクティブマトリックス駆動の画素電極であり、各画素電極１６１には、ＴＦＴが配置されている。各画素電極１６１におけるスルーホール１６２の位置は、図２（ａ）に示すように、２種類から選択され、隣り合う画素電極１６１におけるスルーホール１６２同士が、互い違いに配列された。 Next, as the other substrate 16, a pixel electrode 161 which is an ITO electrode corresponding to a drive electrode of a panel corresponding to 4 inches is formed on 150 mm × 150 mm × 0.7 mm thick non-alkali glass (OA-10G manufactured by Nippon Electric Glass). However, a pattern formed in a matrix using a common rectangular unit pattern as a reference pattern (pitch: 300 μm) was used. The electrode 161 in this embodiment is a pixel electrode for active matrix driving, and a TFT is disposed on each pixel electrode 161. As shown in FIG. 2A, the positions of the through holes 162 in each pixel electrode 161 were selected from two types, and the through holes 162 in the adjacent pixel electrodes 161 were alternately arranged.

続いて、表示媒体として、以下の成分を有するインキ１３が用いられ、ディスペンサ３１から滴下されて、アプリケータ３２（テスター産業製）にて、他方の基板１６の表面より５０μｍのギャップにて、他方の基板１６上にインキ１３が塗工された。塗工は、他方の基板１６の中心を基準に、３００ｍｍ×４００ｍｍの位置に行われ、膜厚は３５μｍとした。
＜インキ成分＞
・電気泳動粒子（二酸化チタン）・・・６０重量部
・分散液・・・４０重量部 Subsequently, the ink 13 having the following components is used as a display medium, dropped from the dispenser 31, and applied with an applicator 32 (manufactured by Tester Sangyo) with a gap of 50 μm from the surface of the other substrate 16. Ink 13 was applied on the substrate 16. The coating was performed at a position of 300 mm × 400 mm with the center of the other substrate 16 as a reference, and the film thickness was 35 μm.
<Ink component>
・ Electrophoretic particles (titanium dioxide): 60 parts by weight ・ Dispersion liquid: 40 parts by weight

そして、大気中にて、他方の基板１６の上に一方の基板１１を、一方の基板１１に設けられたアライメント用のマークと、他方の基板１６に設けられたアライメント用のマークと、を肉眼で観察して一致させながら重ね合わせた。そして、ラミネータ９１で一定の押圧力をさらに付与しつつ、セルギャップ間隔が０．０２ｍｍとなるように、一方の基板１１の隔壁１２上の接着層２２と他方の基板１６とが密着された（図１０参照）。このとき、両基板の間に気泡が残らないように、一方の基板１１はカールされた状態で、一方の基板１１及び他方の基板１６の一方の側から対向する他方の側に向けて、隔壁１２内のセル容積を超える余剰のインク１３を押し出しながら、貼り合わされた。この結果、セル内には規定量のインクのみが充填された。 Then, in the atmosphere, the one substrate 11 is placed on the other substrate 16, the alignment mark provided on the one substrate 11, and the alignment mark provided on the other substrate 16 with the naked eye. The images were overlapped while being observed and matched. Then, while further applying a constant pressing force by the laminator 91, the adhesive layer 22 on the partition wall 12 of one substrate 11 and the other substrate 16 were brought into close contact so that the cell gap interval was 0.02 mm ( (See FIG. 10). At this time, one of the substrates 11 is curled so that no air bubbles remain between the two substrates, and the partition wall is directed from one side of the one substrate 11 and the other substrate 16 to the opposite side. The excess ink 13 exceeding the cell volume in 12 was stuck while being pushed out. As a result, only a specified amount of ink was filled in the cell.

その後、断裁装置５１によって所定のサイズに断裁され、両方の基板１１，１６の周辺にディスペンサ（不図示）を用いて紫外線硬化樹脂（イー・エッチ・シー（株）製：ＬＣＢ−６１０）を塗工して封止し、紫外線を露光（露光量７００ｍＪ／ｃｍ^２）して硬化させた（外周封止処理）。以上の工程で、複数の表示パネルが作製された。 Thereafter, the sheet is cut into a predetermined size by the cutting device 51, and a UV curable resin (LCB-610, manufactured by E-Heat Sea Co., Ltd.) is applied to the periphery of both substrates 11 and 16 using a dispenser (not shown). Then, it was cured by exposure to ultraviolet rays (exposure amount 700 mJ / cm ² ) (peripheral sealing treatment). Through the above steps, a plurality of display panels were manufactured.

以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。また、隔壁１２と画素電極１６１との配置関係を観察したところ、ある表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１１（ａ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１１（ａ）の縦方向にずれた状態で接着されていた。また、他の表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１１（ｂ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１１（ｂ）の横方向にずれた状態で接着されていた。しかし、どちらの表示パネルにおいても、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部は、当該方向に見て、スルーホール１６２と重ならないように配置されていた。すなわち、図１２に示すように、隔壁１２の頂面と画素電極１６１とが、接着層２２を介して密着されており、セル間における表示媒体１３の粒子の移動が起こらないようになっていた。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon. Further, when the arrangement relationship between the partition wall 12 and the pixel electrode 161 was observed, in a certain display panel, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are directed from one substrate 11 to the other substrate 16. 11A, the position of the pattern of the partition 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 are adhered in a state of being shifted in the vertical direction of FIG. In other display panels, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are viewed from one substrate 11 toward the other substrate 16 as shown in FIG. The position of the pattern of the partition wall 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 were adhered in a state shifted in the horizontal direction of FIG. However, in both display panels, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side is arranged so as not to overlap the through hole 162 when viewed in the direction. That is, as shown in FIG. 12, the top surface of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are in close contact with each other through the adhesive layer 22, so that the particles of the display medium 13 do not move between the cells. .

＜実施例２＞
前記実施例１に対して、隔壁１２を図７（ａ）に示す基準パターンと同じパターンで形成し、その他は同じ工程で、複数の表示パネルが作製された。 <Example 2>
In contrast to Example 1, the partition walls 12 were formed in the same pattern as the reference pattern shown in FIG. 7A, and the other processes were the same, thereby producing a plurality of display panels.

以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。また、隔壁１２と画素電極１６１との配置関係を観察したところ、ある表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１３（ａ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１３（ａ）の縦方向にずれた状態で接着されていた。また、他の表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１３（ｂ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１３（ｂ）の横方向にずれた状態で接着されていた。しかし、どちらの表示パネルにおいても、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部は、当該方向に見て、スルーホール１６２と重ならないように配置されていた。すなわち、図１２に示すように、隔壁１２の頂面と画素電極１６１とが、接着層２２を介して密着されており、セル間における表示媒体１３の粒子の移動が起こらないようになっていた。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon. Further, when the arrangement relationship between the partition wall 12 and the pixel electrode 161 was observed, in a certain display panel, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are directed from one substrate 11 to the other substrate 16. When viewed in the direction, as shown in FIG. 13A, the position of the pattern of the partition 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 were bonded in a state of being shifted in the vertical direction of FIG. In another display panel, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are viewed from one substrate 11 toward the other substrate 16 as shown in FIG. 13B. The position of the pattern of the partition wall 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 were adhered in a state shifted in the horizontal direction of FIG. However, in both display panels, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side is arranged so as not to overlap the through hole 162 when viewed in the direction. That is, as shown in FIG. 12, the top surface of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are in close contact with each other through the adhesive layer 22, so that the particles of the display medium 13 do not move between the cells. .

＜実施例３＞
前記実施例１に対して、隔壁１２を図７（ａ）に示す基準パターンと同じパターンで形成し、さらに、画素電極１６１のスルーホール１６２の位置を、図２（ｂ）に示すように全て共通にして、その他は同じ工程で、複数の表示パネルが作製された。 <Example 3>
In contrast to the first embodiment, the partition wall 12 is formed in the same pattern as the reference pattern shown in FIG. 7A, and the positions of the through holes 162 of the pixel electrode 161 are all as shown in FIG. 2B. In common, a plurality of display panels were manufactured in the same process except for the above.

以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したが、モアレ現象によるムラはなかった。また、隔壁１２と画素電極１６１との配置関係を観察したところ、ある表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１４（ａ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１４（ａ）の縦方向にずれた状態で接着されていた。また、他の表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１４（ｂ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１４（ｂ）の横方向にずれた状態で接着されていた。しかし、どちらの表示パネルにおいても、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部は、当該方向に見て、スルーホール１６２と重ならないように配置されていた。すなわち、図１２に示すように、隔壁１２の頂面と画素電極１６１とが、接着層２２を介して密着されており、セル間における表示媒体１３の粒子の移動が起こらないようになっていた。 The display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, but there was no unevenness due to the moire phenomenon. Further, when the arrangement relationship between the partition wall 12 and the pixel electrode 161 was observed, in a certain display panel, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are directed from one substrate 11 to the other substrate 16. When viewed in the direction, as shown in FIG. 14A, the position of the pattern of the partition 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 were bonded in a state of being shifted in the vertical direction of FIG. In other display panels, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are viewed from one substrate 11 toward the other substrate 16 as shown in FIG. The position of the pattern of the partition wall 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 were adhered in a state shifted in the horizontal direction of FIG. However, in both display panels, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side is arranged so as not to overlap the through hole 162 when viewed in the direction. That is, as shown in FIG. 12, the top surface of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are in close contact with each other through the adhesive layer 22, so that the particles of the display medium 13 do not move between the cells. .

＜比較例１＞
前記実施例１に対して、隔壁１２を、図１５（ａ）及び図１５（ｂ）に示すように、全体として格子状ではあるが、格子線の間隔が不規則であって共通の単位パターンで形成されていないパターンで形成し、その他は同じ工程で、複数の表示パネルが作製された。 <Comparative Example 1>
In contrast to the first embodiment, the partition wall 12 has a lattice shape as a whole as shown in FIGS. 15A and 15B, but the interval between the lattice lines is irregular and has a common unit pattern. A plurality of display panels were manufactured in the same process except that the pattern was not formed in step 1.

以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラはなかった。また、隔壁１２と画素電極１６１との配置関係を観察したところ、ある表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１５（ａ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１５（ａ）の縦方向にずれた状態で接着されていた。また、他の表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１５（ｂ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１５（ｂ）の横方向にずれた状態で接着されていた。そして、どちらの表示パネルにおいても、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部の一部が、当該方向に見て、スルーホール１６２と重なって配置されていた。すなわち、図１６に示すように、隔壁１２の頂面と画素電極１６１とが、接着層２２を介して密着されておらず、セル間における表示媒体１３の粒子の移動が起こるようになっていた。 When the display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, there was no unevenness due to the moire phenomenon. Further, when the arrangement relationship between the partition wall 12 and the pixel electrode 161 was observed, in a certain display panel, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are directed from one substrate 11 to the other substrate 16. 15A, the position of the pattern of the partition 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 are adhered in a state of being shifted in the vertical direction of FIG. In another display panel, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are viewed from one substrate 11 toward the other substrate 16 as shown in FIG. The position of the pattern of the partition wall 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 were adhered in a state shifted in the horizontal direction of FIG. In both display panels, a part of the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side is disposed so as to overlap with the through hole 162 when viewed in the direction. That is, as shown in FIG. 16, the top surface of the partition wall 12 and the pixel electrode 161 are not in close contact with each other through the adhesive layer 22, and the particles of the display medium 13 move between the cells. .

＜比較例２＞
前記実施例１に対して、隔壁１２を、画素電極１６１の基準パターンと同じ格子パターン（ピッチ３００μｍ）で形成し、その他は同じ工程で、複数の表示パネルが作製された。 <Comparative example 2>
In contrast to Example 1, the partition walls 12 were formed in the same lattice pattern (pitch 300 μm) as the reference pattern of the pixel electrodes 161, and the other processes were the same, and a plurality of display panels were manufactured.

以上のようにして得られた表示パネルについて表示品質を評価したところ、モアレ現象によるムラが発生した。そして、隔壁１２と画素電極１６１との配置関係を観察したところ、ある表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１７（ａ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１７（ａ）の縦方向にずれた状態で接着されていた。また、他の表示パネルにおいては、隔壁１２の画素電極１６１側の頂部と画素電極１６１とは、一方の基板１１から他方の基板１６に向かう方向に見て、図１７（ｂ）に示すように、隔壁１２のパターンの位置と画素電極１６１のパターンの位置とが、図１７（ｂ）の横方向にずれた状態で接着されていた。 When the display quality of the display panel obtained as described above was evaluated, unevenness due to the moire phenomenon occurred. Then, when the arrangement relationship between the partition wall 12 and the pixel electrode 161 was observed, in a certain display panel, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are directed from one substrate 11 to the other substrate 16. When viewed in the direction, as shown in FIG. 17A, the position of the pattern of the partition 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 were bonded in a state of being shifted in the vertical direction of FIG. In other display panels, the top of the partition wall 12 on the pixel electrode 161 side and the pixel electrode 161 are viewed from the one substrate 11 toward the other substrate 16 as shown in FIG. The position of the pattern of the partition wall 12 and the position of the pattern of the pixel electrode 161 were adhered in a state shifted in the horizontal direction of FIG.

１１一方の基板
１１１透光性電極
１２隔壁
１３インキ（表示媒体）
１６他方の基板
１６１画素電極
１６２スルーホール
１６３ＴＦＴ
２２接着層
２２１ヒートシール剤
３１ディスペンサ
３２アプリケータ
５１断裁装置
９１ラミネータ 11 One substrate 111 Translucent electrode 12 Partition 13 Ink (display medium)
16 Other substrate 161 Pixel electrode 162 Through hole 163 TFT
22 Adhesive layer 221 Heat seal agent 31 Dispenser 32 Applicator 51 Cutting device 91 Laminator

Claims

少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、
前記２枚の基板間に配置された複数の領域を区画する隔壁と、
前記隔壁で区画された各領域をセルとして、各セル内に配置された前記表示媒体と、
を備え、
一方の基板には、透光性電極が形成されており、
他方の基板には、画素電極が形成されており、
前記透光性電極と前記画素電極とが対向するように配置されており、
前記画素電極には、スルーホールが形成されており、
前記隔壁は、共通の第一単位パターンを基準パターンとして形成されており、
前記画素電極は、共通の第二単位パターンを基準パターンとして形成されており、
前記隔壁の基準パターンと前記画素電極の基準パターンとは、互いに異なっており、
前記隔壁の前記画素電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記スルーホールと重ならないように配置されている
ことを特徴とする反射型表示装置。 A display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates, at least one of which has a light-transmitting property and on which electrodes are respectively formed, and the two substrates A reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the display medium,
A partition partitioning a plurality of regions disposed between the two substrates;
Each region partitioned by the partition as a cell, the display medium disposed in each cell,
With
One substrate is formed with a translucent electrode,
A pixel electrode is formed on the other substrate,
The translucent electrode and the pixel electrode are arranged to face each other,
A through hole is formed in the pixel electrode,
The partition is formed using a common first unit pattern as a reference pattern,
The pixel electrode is formed using a common second unit pattern as a reference pattern,
The reference pattern of the partition wall and the reference pattern of the pixel electrode are different from each other,
A reflective display device, wherein a top portion of the partition wall on the pixel electrode side is disposed so as not to overlap the through hole when viewed from the one substrate toward the other substrate.

各画素電極におけるスルーホールの位置は、全て共通である
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型表示装置。 2. The reflective display device according to claim 1, wherein the positions of the through holes in each pixel electrode are all common.

各画素電極におけるスルーホールの位置は、２種類以上から選択されている
ことを特徴とする請求項１に記載の反射型表示装置。 2. The reflection type display device according to claim 1, wherein the position of the through hole in each pixel electrode is selected from two or more types.

各画素電極におけるスルーホールの位置は、２種類から選択されており、
隣り合う画素電極におけるスルーホール同士が、互い違いに配列されている
ことを特徴とする請求項３に記載の反射型表示装置。 The position of the through hole in each pixel electrode is selected from two types,
The reflective display device according to claim 3, wherein the through holes in adjacent pixel electrodes are alternately arranged.

前記第一単位パターンと前記第二単位パターンとは、互いに異なっている
ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の反射型表示装置。 The reflective display device according to claim 1, wherein the first unit pattern and the second unit pattern are different from each other.

少なくとも一方が透光性を有しており各々電極が形成されている対向する２枚の基板間に少なくとも１種以上の電気応答性材料を含む表示媒体が封入されていて、前記２枚の基板間に所定の電界が与えられる際に前記表示媒体が所望の表示をする、反射型表示装置であって、
前記２枚の基板間に配置された複数の領域を区画する隔壁と、
前記隔壁で区画された各領域をセルとして、各セル内に配置された前記表示媒体と、
を備え、
前記隔壁の少なくとも一部の分岐点は、共通の第一単位パターンを基準パターンとして、当該基準パターンの分岐点を起点として延出する当該基準パターンの各辺の方向に当該辺の延出長さの１／２倍を最大変位として規定される領域内に位置し、且つ、前記基準パターンの分岐点とは重なっておらず、
一方の基板には、透光性電極が形成されており、
他方の基板には、画素電極が形成されており、
前記透光性電極と前記画素電極とが対向するように配置されており、
前記画素電極には、スルーホールが形成されており、
前記画素電極は、共通の第二単位パターンを基準パターンとして形成されており、
前記隔壁の前記画素電極側の頂部は、前記一方の基板から前記他方の基板に向かう方向に見て、前記スルーホールと重ならないように配置されている
ことを特徴とする反射型表示装置。 A display medium containing at least one or more kinds of electrically responsive materials is sealed between two opposing substrates, at least one of which has a light-transmitting property and on which electrodes are respectively formed, and the two substrates A reflective display device in which the display medium displays a desired display when a predetermined electric field is applied between the display medium,
A partition partitioning a plurality of regions disposed between the two substrates;
Each region partitioned by the partition as a cell, the display medium disposed in each cell,
With
At least some of the branch points of the partition wall have a common first unit pattern as a reference pattern, and the extension length of the side in the direction of each side of the reference pattern extending from the branch point of the reference pattern as a starting point Is located within the region defined as the maximum displacement of 1/2 times, and does not overlap with the branch point of the reference pattern,
One substrate is formed with a translucent electrode,
A pixel electrode is formed on the other substrate,
The translucent electrode and the pixel electrode are arranged to face each other,
A through hole is formed in the pixel electrode,
The pixel electrode is formed using a common second unit pattern as a reference pattern,
A reflective display device, wherein a top portion of the partition wall on the pixel electrode side is disposed so as not to overlap the through hole when viewed from the one substrate toward the other substrate.

各画素電極におけるスルーホールの位置は、全て共通である
ことを特徴とする請求項６に記載の反射型表示装置。 The reflective display device according to claim 6, wherein the positions of the through holes in each pixel electrode are all common.

各画素電極におけるスルーホールの位置は、２種類以上から選択されている
ことを特徴とする請求項６に記載の反射型表示装置。 The reflective display device according to claim 6, wherein the position of the through hole in each pixel electrode is selected from two or more types.

各画素電極におけるスルーホールの位置は、２種類から選択されており、
隣り合う画素電極におけるスルーホール同士が、互い違いに配列されている
ことを特徴とする請求項８に記載の反射型表示装置。 The position of the through hole in each pixel electrode is selected from two types,
The reflective display device according to claim 8, wherein through holes in adjacent pixel electrodes are alternately arranged.