JP2014222027A - 圧縮機用ベーン、ローリングピストン型圧縮機、及び圧縮機用ベーンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】中空のシリンダ20と、シリンダ20の内周面に沿って偏心回転するローラ21と、シリンダ20の内周面から径方向外側に向かって形成されたベーン溝22と、を有するローリングピストン型圧縮機1に備えられ、ベーン溝22に摺動自在に挿入されてローラ21の外周面に当接し、シリンダ20内の空間を低圧側と高圧側とに分離するベーン23であって、ステンレス鋼製の基材70と、基材70の窒化処理により基材70の表面側に形成された化合物層71と、を有し、基材70と化合物層71との界面72の界面粗さRzは2.0μm以下であることを特徴とするものである。
【選択図】図3
Description
本発明の実施の形態1に係る圧縮機用ベーン、ローリングピストン型圧縮機、及び圧縮機用ベーンの製造方法について説明する。図1は、本実施の形態に係るローリングピストン型圧縮機(ロータリ圧縮機)1の概略構成を示す縦断面図である。図2は、本実施の形態に係るローリングピストン型圧縮機1の圧縮機構部10の概略構成を示す横断面図である。本実施の形態では、1つのシリンダを備えた単段圧縮式のローリングピストン型圧縮機1を示している。ローリングピストン型圧縮機1は、例えば、空気調和装置、冷蔵庫、冷凍機、自動販売機、給湯器等に用いられる冷凍サイクルの構成要素の一つとなるものであり、冷凍サイクルを循環する冷媒(流体の一例)を吸入し、吸入した冷媒を圧縮して吐出する流体機械である。なお、図1及び図2を含む以下の図面では、各構成部材の寸法の関係や形状等が実際のものとは異なる場合がある。また、明細書中における各構成部材同士の位置関係(例えば、上下関係等)は、原則として、ローリングピストン型圧縮機1を使用可能な状態に設置したときのものである。
本発明は、上記実施の形態に限らず種々の変形が可能である。
例えば、上記実施の形態では、1つのシリンダを備えたローリングピストン型圧縮機を例に挙げたが、本発明は、2つ以上のシリンダを備えたローリングピストン型圧縮機にも適用できる。
Claims (11)
- 中空のシリンダと、前記シリンダの内周面に沿って偏心回転するローラと、前記シリンダの内周面から径方向外側に向かって形成されたベーン溝と、を有するローリングピストン型圧縮機に備えられ、前記ベーン溝に摺動自在に挿入されて前記ローラの外周面に当接し、前記シリンダ内の空間を低圧側と高圧側とに分離する圧縮機用ベーンであって、
ステンレス鋼製の基材と、前記基材の窒化処理により前記基材の表面側に形成された化合物層と、を有し、
前記基材と前記化合物層との界面の界面粗さRzは2.0μm以下であること
を特徴とする圧縮機用ベーン。 - 前記ローリングピストン型圧縮機で圧縮される冷媒として、R32又はR32を含む混合冷媒が用いられていること
を特徴とする請求項1に記載の圧縮機用ベーン。 - 前記ステンレス鋼はSUS440Cであること
を特徴とする請求項1又は請求項2に記載の圧縮機用ベーン。 - 前記ローリングピストン型圧縮機の摺動部を潤滑する冷凍機油として、エステル、エーテル又はアルキルベンゼンが用いられていること
を特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の圧縮機用ベーン。 - 前記化合物層表面の表面粗さRzは2.0μm以下であること
を特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の圧縮機用ベーン。 - 前記界面の界面粗さRzは、前記化合物層表面の表面粗さRz以下であること
を特徴とする請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の圧縮機用ベーン。 - 表面硬度がHv1000以上であること
を特徴とする請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の圧縮機用ベーン。 - 請求項1〜請求項7のいずれか一項に記載の圧縮機用ベーンを備えること
を特徴とするローリングピストン型圧縮機。 - ローリングピストン型圧縮機に用いられる圧縮機用ベーンの製造方法であって、
ステンレス鋼を成形して基材を形成する第1工程と、
前記基材表面を2.0μm以下の表面粗さRzに研磨する第2工程と、
前記基材に窒化処理を施して、前記基材表面に化合物層を形成するとともに前記化合物層表面に白層を形成する第3工程と、
前記白層を研磨して前記白層の少なくとも一部を除去し前記化合物層を露出させるとともに、露出した前記化合物層表面を研磨する第4工程と、
を有することを特徴とする圧縮機用ベーンの製造方法。 - 前記第4工程では、前記化合物層表面を2.0μm以下の表面粗さRzに研磨すること
を特徴とする請求項9に記載の圧縮機用ベーンの製造方法。 - 前記第2工程では、前記基材表面を、前記第4工程で研磨された前記化合物層表面の表面粗さRz以下の表面粗さRzに研磨すること
を特徴とする請求項9又は請求項10に記載の圧縮機用ベーンの製造方法。
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