JP2014198681A - Composition containing sulfonic acid group-containing ether compound and method for producing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物およびその製造方法に関する。より詳しくは、水処理剤、洗剤ビルダー、分散剤等の、各種用途に有用なスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition and a method for producing the same. More specifically, the present invention relates to a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition useful for various uses such as a water treatment agent, a detergent builder, and a dispersant, and a method for producing the same.
不飽和二重結合、スルホン酸（塩）基及びエーテル結合を有するスルホン酸基含有エーテル化合物は、水処理剤、洗剤用ビルダー、洗剤組成物、分散剤、洗浄剤等に使用される重合体の原料として有用な化合物であり、代表的な化合物として３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウム（以下、「ＨＡＰＳ」とも称する。）が知られている。 A sulfonic acid group-containing ether compound having an unsaturated double bond, a sulfonic acid (salt) group and an ether bond is a polymer used in water treatment agents, detergent builders, detergent compositions, dispersants, cleaning agents, and the like. It is a compound useful as a raw material, and sodium 3-allyloxy-2-hydroxy-1-propanesulfonate (hereinafter also referred to as “HAPS”) is known as a typical compound.
このようなスルホン酸基含有エーテル化合物について、ｐＨを１０以上に調整したアルカリ水に、アリルグリシジルエーテル等の特定のエーテル化合物と亜硫酸塩水溶液を滴下する製造方法や、スルホン酸基含有エーテル化合物を含む組成物が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
また、アルカリ性物質を用いてｐＨを５．５以上に調整する工程と、亜硫酸化合物が存在する反応器にアリルグリシジルエーテル等の特定のエーテル化合物を添加する工程とを含むスルホン酸基含有エーテル化合物の製造方法や、スルホン酸基含有エーテル化合物を含む組成物が開示されている（例えば、特許文献２参照）。
About such a sulfonic acid group-containing ether compound, a production method in which a specific ether compound such as allyl glycidyl ether and an aqueous sulfite solution are dropped into alkaline water whose pH is adjusted to 10 or more, and a sulfonic acid group-containing ether compound are included. A composition is disclosed (see, for example, Patent Document 1).
And a step of adjusting the pH to 5.5 or higher using an alkaline substance, and a step of adding a specific ether compound such as allyl glycidyl ether to a reactor in which a sulfurous acid compound is present. A production method and a composition containing a sulfonic acid group-containing ether compound are disclosed (for example, see Patent Document 2).
上記のように、従来よりスルホン酸基含有エーテル化合物の製造方法やスルホン酸基含有エーテル化合物を含む組成物について報告されているが、スルホン酸基含有エーテル化合物の長期間の保存については何ら記載されていない。本発明者は、スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を長期間保存した場合、色調に変化が生じる、という新たな課題を見出した。色調変化したスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を重合体の原料として使用した場合、得られる重合体の色調が悪化し、望ましくない。従って長期保存をした場合のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の色調安定性を向上させる必要があった。 As described above, a method for producing a sulfonic acid group-containing ether compound and a composition containing the sulfonic acid group-containing ether compound have been reported so far, but there is no description about long-term storage of the sulfonic acid group-containing ether compound. Not. The present inventor has found a new problem that a color tone changes when a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition is stored for a long period of time. When the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition having a changed color tone is used as a raw material for the polymer, the color tone of the resulting polymer is deteriorated, which is not desirable. Therefore, it is necessary to improve the color stability of the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition when stored for a long period of time.
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、長期保存した場合においても優れた色調安定性を有するスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物及びその製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above situation, and an object thereof is to provide a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition having excellent color tone stability even when stored for a long period of time, and a method for producing the same.
本発明者は、上記課題を解決する手段について種々検討したところ、スルホン酸基含有エーテル化合物に対して、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を所定の割合で含む組成物の形態とすると、スルホン酸基含有エーテル化合物の色調変化が抑制され、長期間保存した場合においても色調安定性に優れたスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物となることを見いだした。本発明者は更に、このような色調安定性に優れたスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の好適な製造方法も見出し、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。 As a result of various studies on means for solving the above problems, the present inventor found that at least one compound selected from the group consisting of a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound, and a nitrogen-containing compound with respect to the sulfonic acid group-containing ether compound. In the form of a composition containing a predetermined ratio, the change in the color tone of the sulfonic acid group-containing ether compound is suppressed, and the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition has excellent color tone stability even when stored for a long period of time. I found out. The present inventor has also found a suitable method for producing such a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition having excellent color tone stability, and has conceived that the above problems can be solved brilliantly, and has reached the present invention. It is a thing.
すなわち本発明は、下記一般式（１）； That is, the present invention provides the following general formula (1);
（式中、Ｒ１は、単結合、ＣＨ２基又はＣＨ２ＣＨ２基を表す。Ｒ２は、Ｈ又はＣＨ３基を表す。Ｘ、Ｙは水酸基またはスルホン酸（塩）基を表し、Ｘ、Ｙのいずれか一方は水酸基を表し、他の一方はスルホン酸（塩）基を表す。）で表されるスルホン酸基含有エーテル化合物と、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物とを含み、上記硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の含有量は、スルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、２．３〜１９モル％であることを特徴とするスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物である。
本発明はまた、下記一般式（１）；
(Wherein R 1 represents a single bond, a CH 2 group or a CH 2 CH 2 group. R 2 represents H or a CH 3 group. X and Y represent a hydroxyl group or a sulfonic acid (salt) group, One of X and Y represents a hydroxyl group, and the other represents a sulfonic acid (salt) group.) And a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound, and a nitrogen-containing compound. And at least one compound selected from the group consisting of the above sulfur-containing compound, phosphorus-containing compound and nitrogen-containing compound is a sulfonic acid group-containing ether compound. It is a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition characterized by being 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol%.
The present invention also provides the following general formula (1):
（式中、Ｒ１は、単結合、ＣＨ２基又はＣＨ２ＣＨ２基を表す。Ｒ２は、Ｈ又はＣＨ３基を表す。Ｘ、Ｙは水酸基またはスルホン酸（塩）基を表し、Ｘ、Ｙのいずれか一方は水酸基を表し、他の一方はスルホン酸（塩）基を表す。）で表されるスルホン酸基含有エーテル化合物と、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物とを含む組成物を製造する方法であって、
上記製造方法は、下記一般式（２）；
(Wherein R 1 represents a single bond, a CH 2 group or a CH 2 CH 2 group. R 2 represents H or a CH 3 group. X and Y represent a hydroxyl group or a sulfonic acid (salt) group, One of X and Y represents a hydroxyl group, and the other represents a sulfonic acid (salt) group.) And a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound, and a nitrogen-containing compound. A method for producing a composition comprising at least one compound selected from the group consisting of:
The above production method has the following general formula (2);
（式中、Ｒ１は、単結合、ＣＨ２基又はＣＨ２ＣＨ２基を表す。Ｒ２は、Ｈ又はＣＨ３基を表す。）で表される化合物と亜硫酸（塩）及び／又は重亜硫酸（塩）とを反応させる工程と、上記反応工程により得られたスルホン酸基含有エーテル化合物を含む組成物中の硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の量をスルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、２．３〜１９モル％に調整する工程とを含むことを特徴とするスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の製造方法でもある。
以下に本発明を詳述する。
なお、以下において記載する本発明の個々の好ましい形態を２つ以上組み合わせたものもまた、本発明の好ましい形態である。
(Wherein R 1 represents a single bond, a CH 2 group or a CH 2 CH 2 group. R 2 represents H or a CH 3 group) and a sulfurous acid (salt) and / or heavy compound. A step of reacting with sulfurous acid (salt) and at least one selected from the group consisting of a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound and a nitrogen-containing compound in a composition containing a sulfonic acid group-containing ether compound obtained by the reaction step And adjusting the amount of the seed compound to 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol% of the sulfonic acid group-containing ether compound, and a method for producing a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition But there is.
The present invention is described in detail below.
A combination of two or more preferred embodiments of the present invention described below is also a preferred embodiment of the present invention.
＜スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物＞
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物は、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物（以下、「着色抑制物質」とも称する。）を上記一般式（１）で表わされるスルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、２．３〜１９モル％含むことを特徴としている。
スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の着色は、組成物中に含まれる不純物の酸化反応により起こると考えられ、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の酸化防止作用により、不純物の酸化反応が抑制されることで、組成物の着色が抑制されると推定される。
なお、本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物が着色抑制物質に該当する化合物を２種以上含む場合、当該２種以上の化合物の合計量が、上記一般式（１）で表わされるスルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、２．３〜１９モル％である。
<Sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition>
The sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention comprises at least one compound selected from the group consisting of a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound, and a nitrogen-containing compound (hereinafter also referred to as “coloring inhibitor”). It is characterized by containing 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol% of the sulfonic acid group-containing ether compound represented by the general formula (1).
The coloring of the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition is considered to occur by an oxidation reaction of impurities contained in the composition, and is at least one selected from the group consisting of sulfur-containing compounds, phosphorus-containing compounds, and nitrogen-containing compounds. It is presumed that coloring of the composition is suppressed by suppressing the oxidation reaction of impurities due to the antioxidant action of the compound.
In addition, when the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention contains two or more compounds corresponding to the color-inhibiting substance, the total amount of the two or more compounds is a sulfone represented by the general formula (1). It is 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol% of the acid group-containing ether compound.
上記硫黄含有化合物としては、例えば、亜硫酸ナトリウム、次亜硫酸ナトリウム等が挙げられる。また、硫黄含有還元剤や硫黄含有酸化防止剤等が挙げられる。水への溶解性やアリルグリシジルエーテルへの反応性を考慮すると、亜硫酸ナトリウム、次亜硫酸ナトリウムが好ましい。 Examples of the sulfur-containing compound include sodium sulfite and sodium hyposulfite. Moreover, a sulfur containing reducing agent, a sulfur containing antioxidant, etc. are mentioned. Considering solubility in water and reactivity to allyl glycidyl ether, sodium sulfite and sodium hyposulfite are preferable.
上記りん含有化合物としては、例えば、亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸ナトリウム等が挙げられる。また、りん含有還元剤やりん含有酸化防止剤等が挙げられる。水への溶解性やアリルグリシジルエーテルへの反応性を考慮すると、亜リン酸ナトリウム、次亜リン酸ナトリウムが好ましい。 Examples of the phosphorus-containing compound include sodium phosphite and sodium hypophosphite. Moreover, a phosphorus containing reducing agent, a phosphorus containing antioxidant, etc. are mentioned. Considering solubility in water and reactivity to allyl glycidyl ether, sodium phosphite and sodium hypophosphite are preferable.
上記窒素含有化合物としては、例えば、亜硝酸ナトリウム、次亜硝酸ナトリウム等が挙げられる。また、窒素含有還元剤や窒素含有酸化防止剤等が挙げられる。水への溶解性やアリルグリシジルエーテルへの反応性を考慮すると、亜硝酸ナトリウム、次亜硝酸ナトリウムが好ましい。 Examples of the nitrogen-containing compound include sodium nitrite and sodium hyponitrite. Moreover, a nitrogen-containing reducing agent, a nitrogen-containing antioxidant, etc. are mentioned. In view of solubility in water and reactivity to allyl glycidyl ether, sodium nitrite and sodium hyponitrite are preferable.
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物が含む着色抑制物質は、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物であればよく、特に制限されないが、硫黄含有化合物が好ましく、より好ましくは亜硫酸（塩）及び／又は重亜硫酸（塩）である。 The color-suppressing substance contained in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention may be at least one compound selected from the group consisting of sulfur-containing compounds, phosphorus-containing compounds, and nitrogen-containing compounds, and is not particularly limited. Is preferably a sulfur-containing compound, more preferably sulfurous acid (salt) and / or bisulfurous acid (salt).
なお、上記亜硫酸（塩）及び／又は重亜硫酸（塩）の塩としては、金属塩、アンモニウム塩、有機アミン塩等が挙げられ、より具体的には、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属の塩；マグネシウム塩、カルシウム塩、ストロンチウム塩、バリウム塩等のアルカリ土類金属の塩；アルミニウム塩、鉄塩等の塩；アンモニウム塩；モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩、トリエタノールアミン塩等のアルカノールアミン塩；モノエチルアミン塩、ジエチルアミン塩、トリエチルアミン塩等のアルキルアミン塩；エチレンジアミン塩、トリエチレンジアミン塩等のポリアミン塩等が挙げられる。 In addition, as a salt of the said sulfurous acid (salt) and / or a bisulfite (salt), metal salt, ammonium salt, organic amine salt, etc. are mentioned, More specifically, alkali metal, such as sodium salt and potassium salt, is mentioned. Salts: Alkaline earth metal salts such as magnesium salts, calcium salts, strontium salts and barium salts; salts such as aluminum salts and iron salts; ammonium salts; alkanolamines such as monoethanolamine salts, diethanolamine salts and triethanolamine salts Salts: Alkylamine salts such as monoethylamine salts, diethylamine salts and triethylamine salts; Polyamine salts such as ethylenediamine salts and triethylenediamine salts.
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物は、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の含有量が、上記一般式（１）で表わされるスルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、２．３〜１９モル％であることを特徴としている。着色抑制物質をこのような割合で含むことで、スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の着色を抑制する効果を良好に発揮することができる。上記一般式（１）で表わされるスルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対する着色抑制物質の含有量は、好ましくは２．３モル以上、より好ましくは３．３モル％以上、更に好ましくは３．５モル％以上、最も好ましくは４．０モル％以上、好ましくは１７モル％以下、より好ましくは１５モル％以下、更に好ましくは１３モル％以下、最も好ましくは１０モル％以下である。
スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の含有量は、酸化還元滴定を用いて測定することができる。
In the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention, the content of at least one compound selected from the group consisting of a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound and a nitrogen-containing compound is represented by the above general formula (1). It is characterized by being 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol% of the sulfonic acid group-containing ether compound. By including the coloring inhibitor at such a ratio, the effect of suppressing the coloring of the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition can be satisfactorily exhibited. The content of the coloring inhibitor with respect to 100 mol% of the sulfonic acid group-containing ether compound represented by the general formula (1) is preferably 2.3 mol or more, more preferably 3.3 mol% or more, and still more preferably 3. 5 mol% or more, most preferably 4.0 mol% or more, preferably 17 mol% or less, more preferably 15 mol% or less, still more preferably 13 mol% or less, and most preferably 10 mol% or less.
The content of at least one compound selected from the group consisting of a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound, and a nitrogen-containing compound in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition can be measured using redox titration. .
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物（以下、「本発明の組成物」とも称する。）は、上記一般式（１）で表わされる化合物（スルホン酸基含有エーテル化合物）を必須とする。
上記スルホン酸基含有エーテル化合物において、スルホン酸（塩）基とは、−ＳＯ３Ｚ（Ｚは、水素原子、金属原子、アンモニウム基又は有機アミン基を表す。）で表される基を意味する。金属原子としては、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属；マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム等のアルカリ土類金属；アルミニウム、鉄等が好ましく、また、有機アミン基としては、モノエタノールアミン基、ジエタノールアミン基、トリエタノールアミン基等のアルカノールアミン基；モノエチルアミン基、ジエチルアミン基、トリエチルアミン基等のアルキルアミン基；エチレンジアミン基、トリエチレンジアミン基等のポリアミン基等が好ましい。上記スルホン酸（塩）基としてより好ましくは、スルホン酸基、スルホン酸リチウム基、スルホン酸カリウム基、スルホン酸ナトリウム基、スルホン酸アンモニウム基、又は、スルホン酸の４級アミン基である。
The sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention (hereinafter also referred to as “the composition of the present invention”) essentially comprises the compound represented by the general formula (1) (sulfonic acid group-containing ether compound). .
In the sulfonic acid group-containing ether compound, the sulfonic acid (salt) group means a group represented by —SO 3 Z (Z represents a hydrogen atom, a metal atom, an ammonium group, or an organic amine group). . The metal atom is preferably an alkali metal such as sodium or potassium; an alkaline earth metal such as magnesium, calcium, strontium or barium; preferably aluminum or iron; and the organic amine group is a monoethanolamine group, diethanolamine group, Preferred are alkanolamine groups such as triethanolamine group; alkylamine groups such as monoethylamine group, diethylamine group and triethylamine group; polyamine groups such as ethylenediamine group and triethylenediamine group. The sulfonic acid (salt) group is more preferably a sulfonic acid group, a lithium sulfonate group, a potassium sulfonate group, a sodium sulfonate group, an ammonium sulfonate group, or a quaternary amine group of sulfonic acid.
上記一般式（１）中、Ｒ１及びＲ２は、上記スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を重合体の原料として使用した場合に、得られる重合体のスケール防止能が向上する傾向にあることから、上記一般式（１）におけるＲ１はＣＨ２基又はＣＨ２ＣＨ２基であり、Ｒ２は、Ｈ又はＣＨ３基であることが好ましい。上記スルホン酸基含有エーテル化合物としてより好ましくは、３−（メタ）アリルオキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウムである。
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物は、上記一般式（１）で表わされる化合物を本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物１００質量％に対し、２０〜８０質量％含むことが好ましい。上記一般式（１）で表わされる化合物の濃度が高すぎる場合には不純物の析出又は沈殿が生じ、また濃度が低すぎる場合には、重合体の原料として使用した場合に重合濃度が低くなって重合反応が進行しにくくなるという不具合が生じるおそれがあるが、一般式（１）で表わされる化合物を上記のような濃度で含むと、このような不具合の発生を充分に抑制することができる。より好ましくは３０〜６０質量％であり、更に好ましくは３５〜５０質量％である。
In the general formula (1), R 1 and R 2 tend to improve the scale preventing ability of the resulting polymer when the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition is used as a raw material for the polymer. Therefore, R 1 in the general formula (1) is preferably a CH 2 group or a CH 2 CH 2 group, and R 2 is preferably H or a CH 3 group. More preferred as the sulfonic acid group-containing ether compound is sodium 3- (meth) allyloxy-2-hydroxy-1-propanesulfonate.
The sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention contains 20 to 80% by mass of the compound represented by the general formula (1) with respect to 100% by mass of the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention. Is preferred. When the concentration of the compound represented by the general formula (1) is too high, precipitation or precipitation of impurities occurs, and when the concentration is too low, the polymerization concentration becomes low when used as a polymer raw material. Although there is a possibility that a problem that the polymerization reaction does not easily proceed is caused, the occurrence of such a problem can be sufficiently suppressed when the compound represented by the general formula (1) is contained at the above concentration. More preferably, it is 30-60 mass%, More preferably, it is 35-50 mass%.
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物は、上記一般式（１）で表わされる化合物及び上記着色抑制物質に加え、水等の溶媒や、副生成物等を含んでいても良い。
下記一般式（３）で表される化合物は、上記一般式（１）で表される化合物を製造する際に副生しやすい化合物であるが、上記スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の下記一般式（３）で表される化合物の含有割合は、上記一般式（１）で表される化合物１００モル％に対し、１０モル％未満であることが適当である。このようなスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を重合体原料として使用した場合に、スケール防止能（スケール抑制能）に特に優れた重合体を得ることが可能になる。このような重合体の性能面及びスルホン酸基含有エーテル化合物の重合性の観点から、下記一般式（３）で表される化合物の含有割合は１０モル％未満であることが適当である。好ましくは５モル％未満であり、更に好ましくは３モル％未満である。
The sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention may contain a solvent such as water, a by-product, and the like in addition to the compound represented by the general formula (1) and the color-suppressing substance.
The compound represented by the following general formula (3) is a compound that is easily produced as a by-product when the compound represented by the general formula (1) is produced. In the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition, The content of the compound represented by the following general formula (3) is suitably less than 10 mol% with respect to 100 mol% of the compound represented by the general formula (1). When such a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition is used as a polymer raw material, it is possible to obtain a polymer particularly excellent in scale prevention ability (scale inhibition ability). From the viewpoint of the performance of such a polymer and the polymerizability of the sulfonic acid group-containing ether compound, the content of the compound represented by the following general formula (3) is suitably less than 10 mol%. Preferably it is less than 5 mol%, More preferably, it is less than 3 mol%.
（一般式（３）中、Ｒ１は、単結合、ＣＨ２基又はＣＨ２ＣＨ２基を表す。Ｒ２は、Ｈ又はＣＨ３基を表す。） (In General Formula (3), R 1 represents a single bond, a CH 2 group or a CH 2 CH 2 group. R 2 represents H or a CH 3 group.)
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物は、上記一般式（３）で表される化合物以外の不純物を含んでいてもよいが、上記一般式（３）で表される化合物以外の不純物の含有量は、上記一般式（１）で表される化合物１００モル％に対し、１０モル％未満であることが適当である。より好ましくは、５モル％未満である。 The sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention may contain impurities other than the compound represented by the general formula (3), but impurities other than the compound represented by the general formula (3). The content of is suitably less than 10 mol% with respect to 100 mol% of the compound represented by the general formula (1). More preferably, it is less than 5 mol%.
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物が含む溶媒としては、水の他、極性溶媒が挙げられ、例えばメタノール、エタノール等の低級アルコールや、アセトン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジオキサン等が挙げられる。これらの１種又は２種以上を用いることができる。これらの中でも好ましくは、水である。 Examples of the solvent contained in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention include polar solvents in addition to water, such as lower alcohols such as methanol and ethanol, acetone, dimethyl sulfoxide, dimethylformamide, dioxane and the like. It is done. These 1 type (s) or 2 or more types can be used. Among these, water is preferable.
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物が溶媒を含む場合、溶媒の含有量は、スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物１００質量％に対し、２０〜８０質量％であることが好ましい。より好ましくは、４０〜７０質量％である。さらに好ましくは、５０〜６５質量％である。 When the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention includes a solvent, the content of the solvent is preferably 20 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition. More preferably, it is 40-70 mass%. More preferably, it is 50-65 mass%.
＜スルホン酸基含有エーテル化合物の製造方法＞
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物の製造方法は、一般式（２）で表される化合物と亜硫酸化合物とを反応する工程（以下、「反応工程」とも称する。）と、反応工程により得られたスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の着色抑制物質の量をスルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、２．３〜１９モル％に調整する工程（以下、「着色抑制物質濃度調整工程」とも称する。）とを含む。また、本発明の作用効果を損なわない限り、通常の製法で行われるような他の工程を更に含むものであってもよい。
<Method for producing sulfonic acid group-containing ether compound>
The method for producing a sulfonic acid group-containing ether compound of the present invention is obtained by a step of reacting a compound represented by the general formula (2) with a sulfite compound (hereinafter also referred to as “reaction step”) and a reaction step. The step of adjusting the amount of the coloring suppression substance in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition to 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol% of the sulfonic acid group-containing ether compound (hereinafter referred to as “coloring suppression substance concentration Also referred to as an “adjustment step”). Moreover, unless the effect of this invention is impaired, the other process which is performed by a normal manufacturing method may be further included.
上記反応工程は、一般式（２）で表される化合物と亜硫酸化合物とを反応させる限り特に制限されないが、アルカリ性物質を用いて反応系のｐＨを５．５以上に調整する工程（以下、「ｐＨ調整工程」とも称する。）と、亜硫酸（塩）及び／又は亜硫酸（塩）が存在する反応器に上記一般式（２）で表される化合物を添加する工程（以下、「添加工程」とも称す。）とを含むことが好ましい。亜硫酸化合物が存在する反応器に上記一般式（２）で表される化合物を添加する際、ｐＨが低いと亜硫酸ガスとして系外に排出され、得られるスルホン酸基含有エーテル化合物の収率が低下すると考えられる。 The reaction step is not particularly limited as long as the compound represented by the general formula (2) is reacted with the sulfite compound, but the step of adjusting the pH of the reaction system to 5.5 or higher using an alkaline substance (hereinafter, “ and a step of adding the compound represented by the above general formula (2) to a reactor containing sulfurous acid (salt) and / or sulfurous acid (salt) (hereinafter also referred to as “adding step”). Preferably). When adding a compound represented by the above general formula (2) to a reactor containing a sulfurous acid compound, if the pH is low, it is discharged out of the system as sulfurous acid gas, and the yield of the resulting sulfonic acid group-containing ether compound decreases. I think that.
上記ｐＨ調整工程においては、アルカリ性物質として、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属の水酸化物；水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属の水酸化物；アンモニア；アミン類等の１種又は２種以上を用いてｐＨを調整することが好ましい。 In the pH adjustment step, examples of alkaline substances include alkali metal hydroxides such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; alkaline earth metal hydroxides such as calcium hydroxide; ammonia; It is preferable to adjust the pH using seeds or two or more kinds.
上記亜硫酸化合物としては、亜硫酸、亜硫酸水素、亜二チオン酸、メタ重亜硫酸、及びこれらの塩が好適である。亜硫酸化合物は、酸として使用（すなわち亜硫酸等を使用）することもできるが、取り扱いの面から、また収率向上の観点からは、塩として添加することが好ましい。すなわち、上記亜硫酸化合物は塩であることが好ましく、より好ましくは、亜硫酸塩、亜硫酸水素塩、亜二チオン酸塩及びメタ重亜硫酸塩からなる群より選択される少なくとも１種の塩である。中でも、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリウム、亜二チオン酸ナトリウム、亜二チオン酸カリウム、メタ重亜硫酸ナトリウム、メタ重亜硫酸カリウム等の低級酸化物及びその塩等が好適である。経済的又は収率の向上の観点から、より好ましくは、亜硫酸水素塩及びメタ重亜硫酸塩であり、更に好ましくは、亜硫酸水素ナトリウム、メタ重亜硫酸ナトリウムである。
なお、上記塩としては、上述した亜硫酸（塩）及び／又は重亜硫酸（塩）の塩と同様である。
As the sulfite compound, sulfite, hydrogen sulfite, dithionite, metabisulfite, and salts thereof are suitable. The sulfurous acid compound can be used as an acid (that is, sulfurous acid or the like is used), but it is preferably added as a salt from the viewpoint of handling and from the viewpoint of improving the yield. That is, the sulfite compound is preferably a salt, more preferably at least one salt selected from the group consisting of sulfite, hydrogen sulfite, dithionite, and metabisulfite. Among these, lower oxides such as sodium hydrogen sulfite, potassium hydrogen sulfite, sodium dithionite, potassium dithionite, sodium metabisulfite, potassium metabisulfite, and salts thereof are preferable. From the viewpoint of economy or improvement in yield, more preferred are bisulfite and metabisulfite, and still more preferred are sodium bisulfite and sodium metabisulfite.
The salt is the same as the above-mentioned salt of sulfurous acid (salt) and / or bisulfurous acid (salt).
上記亜硫酸化合物の使用量は、上記一般式（１）で表される化合物１モルに対して、化学量論量で０．９モル以上、１．３モル以下であることが好ましい。「化学量論量で」とは、例えば、亜硫酸化合物として亜硫酸水素ナトリウムを用いる場合であれば、上記一般式（２）で表される化合物１モルに対して１モルが反応するため、０．９モル以上、１．３モル以下が好ましく、メタ重亜硫酸ナトリウムであれば、上記一般式（２）で表される化合物１モルに対して１／２モルが反応するため、１／２モル量である、０．４５モル以上、０．６５モル以下が好ましいことを意味する。化学量論量で０．９モル未満であれば、未反応の上記一般式（２）で表される化合物が増加したり、副生成物が多く副生するおそれがある。また、１．３モルを超えると、亜硫酸化合物に由来する副生成物が多くなるおそれがある。上記亜硫酸化合物の使用量としてより好ましくは、上記一般式（２）で表される化合物１モルに対して、化学量論量で０．９５モル以上であり、更に好ましくは０．９７以上である。また、化学量論量で１．２モル以下がより好ましく、更に好ましくは１．１モル以下である。 The amount of the sulfite compound used is preferably 0.9 mole or more and 1.3 mole or less in stoichiometric amount with respect to 1 mole of the compound represented by the general formula (1). “In stoichiometric amount” means, for example, that when sodium bisulfite is used as the sulfite compound, 1 mol reacts with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (2). 9 mol or more and 1.3 mol or less are preferable. If sodium metabisulfite is used, 1/2 mol reacts with 1 mol of the compound represented by the general formula (2). It means that 0.45 mol or more and 0.65 mol or less are preferable. If the stoichiometric amount is less than 0.9 mol, the amount of the unreacted compound represented by the general formula (2) may increase or a large amount of by-products may be produced as a by-product. Moreover, when it exceeds 1.3 mol, there exists a possibility that the by-product derived from a sulfite compound may increase. The amount of the sulfite compound used is more preferably 0.95 mol or more, more preferably 0.97 or more in terms of the stoichiometric amount with respect to 1 mol of the compound represented by the general formula (2). . The stoichiometric amount is more preferably 1.2 mol or less, still more preferably 1.1 mol or less.
上記亜硫酸化合物は、その全使用量のうち、一部又は全部を、反応開始前に反応器に添加（初期仕込み）しておくことが好適である。例えば、全使用量を１００モル％とすると、その５０モル％以上を初期仕込みしておくことが好適であり、より好ましくは８０モル％以上、更に好ましくは１００モル％（すなわち、全量を初期仕込みすること）である。また、初期仕込みする代わりに、反応の極初期（反応開始後の極初期）に、例えば、上記一般式（２）で表される化合物の全量１００モル％中の５０モル％を添加する前に、亜硫酸化合物の全使用量１００モル％中の８０モル％以上を添加することも好適であり、より好ましくは１００モル％（全量）である。 It is preferable to add (initially charge) a part or all of the above-mentioned sulfite compound to the reactor before starting the reaction. For example, when the total amount used is 100 mol%, it is preferable to initially charge 50 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, and still more preferably 100 mol% (that is, the entire amount is initially charged). It is to be. Further, instead of the initial charge, for example, before adding 50 mol% in the total amount of 100 mol% of the compound represented by the general formula (2) at the very initial stage of the reaction (the very initial stage after the start of the reaction). It is also preferable to add 80 mol% or more of the total amount of sulfite compound used in 100 mol%, more preferably 100 mol% (total amount).
上記添加工程では、亜硫酸化合物が存在する反応器に上記一般式（２）で表される化合物を添加することになる。これによって、副反応が抑えられ、スルホン酸基含有エーテル化合物の収率を向上させることができる。
上記一般式（２）で表される化合物は、その全使用量のうち、一部は初期仕込みしても構わないが、スルホン酸基含有エーテル化合物の収率向上の観点からは、全使用量１００モル％中の６０モル％以上を反応開始以後に反応器に添加することが好ましい。より好ましくは８０モル％以上、更に好ましくは１００モル％、すなわち全量を反応開始以後に反応器に添加することである。なお、「反応開始以後」とは、反応開始と同時又は反応開始後であることを意味する。
In the addition step, the compound represented by the general formula (2) is added to the reactor in which the sulfite compound is present. Thereby, side reactions can be suppressed and the yield of the sulfonic acid group-containing ether compound can be improved.
The compound represented by the general formula (2) may be initially charged out of the total amount used, but from the viewpoint of improving the yield of the sulfonic acid group-containing ether compound, the total amount used. It is preferable to add 60 mol% or more of 100 mol% to the reactor after the start of the reaction. More preferably, it is 80 mol% or more, more preferably 100 mol%, that is, the whole amount is added to the reactor after the start of the reaction. In addition, “after the reaction start” means at the same time as the reaction start or after the reaction start.
上記反応工程の原料の仕込みにおいて、通常、原料中に存在するビニル基の空気中の酸素による酸化劣化を防ぐ目的で窒素ガスを流通しながら仕込み操作を行うが、アルカリ性物質の仕込み終了後、さらに窒素を導入する時間は、好ましくは１分間以上、より好ましくは５分間以上、更に好ましくは１５分間以上、最も好ましくは２５分間以上である。また、６０分間以下が好ましいが、反応器の容積が、数１０ｍ３に及ぶ場合は、その限りではなく、数日間に及ぶ場合もありうる。窒素導入について、前述の範囲の時間維持し、その後窒素導入を止めることが好ましい。このような方法で窒素の導入を行うことで、原料の酸化劣化を充分に抑制することが可能となる。一方、着色抑制物質として亜硫酸（塩）や重亜硫酸（塩）を用いた場合、窒素導入の時間が長い場合にこれらが毒性の高い亜硫酸ガスとして流出する不具合が生じるおそれがあるが、窒素導入の時間が前述の範囲である場合、このような不具合の発生が充分に抑制され、得られるスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の着色を抑制する効果も充分に得ることができる。更に、無駄に使用される窒素ガスを減少させ、コストを削減することもできる。 In the charging of the raw material in the above reaction step, the charging operation is usually performed while circulating nitrogen gas for the purpose of preventing oxidative deterioration due to oxygen in the air of the vinyl group present in the raw material. The time for introducing nitrogen is preferably 1 minute or more, more preferably 5 minutes or more, still more preferably 15 minutes or more, and most preferably 25 minutes or more. Moreover, although 60 minutes or less is preferable, when the volume of a reactor reaches several tens of m < 3 >, it is not limited to this and may extend for several days. Regarding nitrogen introduction, it is preferable to maintain the time in the above-mentioned range and then stop nitrogen introduction. By introducing nitrogen by such a method, it is possible to sufficiently suppress the oxidative deterioration of the raw material. On the other hand, when sulfurous acid (salt) or bisulfurous acid (salt) is used as a coloring inhibitor, there is a risk that these may flow out as highly toxic sulfurous acid gas when the time of nitrogen introduction is long. When time is in the above-mentioned range, the occurrence of such a problem is sufficiently suppressed, and the effect of suppressing coloring of the resulting sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition can be sufficiently obtained. Furthermore, it is possible to reduce the wasteful nitrogen gas and reduce the cost.
上記反応工程において、原料中に存在するビニル基の空気中の酸素による酸化劣化を防ぐ目的及び反応系外からの酸素ガスの侵入を防ぐ目的で窒素ガスを流通させながら、合成反応を行う場合がある。
窒素ガス流通速度は、通常、反応器上部の空間部（容積）と窒素ガス流量（容積／時間）で、反応装置の大きさに依存しないＳＶ（空間速度）[ｈｒ−１]という単位で、表すことが可能である。
一方、上記反応工程におけるアリルグリシジルエーテル等の原料の滴下操作を行う際の窒素ガスのＳＶ値は、２４[ｈｒ−１]以下であれば特に限定はないが、好ましい窒素ガスのＳＶ値は、２．４[ｈｒ−１]以下である。より好ましくは０．２４[ｈｒ−１]以下である。さらに好ましくは０．０２４[ｈｒ−１]以下である。最も好ましくは、窒素ガスの流通は０．０[ｈｒ−１]である。反応工程における窒素ガスのＳＶ値が、前述の範囲よりも大きい場合、着色抑制物質としての亜硫酸（塩）や重亜硫酸（塩）が亜硫酸ガスとして、反応系外に流出するため好ましくない。
In the above reaction step, the synthesis reaction may be performed while nitrogen gas is circulated for the purpose of preventing oxidative degradation due to oxygen in the air of the vinyl group present in the raw material and for the purpose of preventing oxygen gas from entering from outside the reaction system. is there.
The nitrogen gas flow rate is usually the space (volume) at the top of the reactor and the nitrogen gas flow rate (volume / hour), in units of SV (space velocity) [hr −1 ] independent of the size of the reactor, Can be represented.
On the other hand, the SV value of the nitrogen gas when performing the dropping operation of the raw materials such as allyl glycidyl ether in the reaction step is not particularly limited as long as it is 24 [hr −1 ] or less, but the preferred SV value of the nitrogen gas is It is 2.4 [hr −1 ] or less. More preferably, it is 0.24 [hr −1 ] or less. More preferably, it is 0.024 [hr −1 ] or less. Most preferably, the nitrogen gas flow is 0.0 [hr −1 ]. When the SV value of nitrogen gas in the reaction step is larger than the above range, sulfurous acid (salt) or bisulfurous acid (salt) as a coloring inhibitory substance flows out of the reaction system as sulfurous acid gas, which is not preferable.
上記製造方法において、反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、特に限定されないが、少なくとも水を含む溶媒（水単独溶媒、又は、水と有機溶剤とを含む混合溶媒）が好ましい。より好ましくは、溶媒の総量１００質量％中、水が５０質量％以上であり、更に好ましくは７０質量％以上、最も好ましくは１００質量％、すなわち水単独溶媒である。また、反応時の固形分濃度（反応終了時の固形分濃度）は、２０質量％以上、８０質量％以下であることが好ましい。 In the above production method, the reaction is usually carried out in a solvent. Although it does not specifically limit as a solvent, The solvent (Water single solvent or the mixed solvent containing water and an organic solvent) containing water at least is preferable. More preferably, water is 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, and most preferably 100% by mass, that is, water alone, in the total amount of the solvent of 100% by mass. Moreover, it is preferable that solid content concentration at the time of reaction (solid content concentration at the time of completion | finish of reaction) is 20 mass% or more and 80 mass% or less.
上記反応はまた、反応温度３０℃以上、８０℃未満で行われることが好適である。８０℃未満であれば、副生成物の生成を減少させることができ、また、３０℃以上であれば、目的とするスルホン酸基含有エーテル化合物の収率が向上する傾向にある。より好ましくは、５０℃以上７５℃未満、更に好ましくは５８℃以上６８℃未満である。
なお、本発明の製造方法における全反応工程が、上記反応温度の範囲で行われることが最も好ましいが、全反応工程の時間１００％中の３０％以上の時間帯において、上記反応温度の範囲で反応が行われれば好ましい形態であり、５０％以上であればより好ましい。
The reaction is also preferably performed at a reaction temperature of 30 ° C. or higher and lower than 80 ° C. If it is less than 80 degreeC, the production | generation of a by-product can be reduced, and if it is 30 degreeC or more, it exists in the tendency for the yield of the target sulfonic acid group containing ether compound to improve. More preferably, it is 50 degreeC or more and less than 75 degreeC, More preferably, it is 58 degreeC or more and less than 68 degreeC.
In addition, it is most preferable that all reaction steps in the production method of the present invention are performed within the range of the reaction temperature, but in the time range of 30% or more in the time of 100% of all reaction steps, in the range of the reaction temperature. If reaction is performed, it is a preferable form, and if it is 50% or more, it is more preferable.
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の製造方法は、上記一般式（１）で表される化合物含有組成物中の硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群から選択される少なくとも１種の化合物の量をスルホン酸基含有エーテル化合１００モル％に対して、２．３〜１９モル％に調整する工程（以下、「着色抑制物質濃度調整工程」とも称す。）を含む。本工程を含むことにより、スルホン酸基含有エーテル化合物を含む組成物を長期保存した場合の色調安定性が向上する。硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物は、単独で用いてもよく、２種以上併用してもよい。 The method for producing the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention is selected from the group consisting of a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound and a nitrogen-containing compound in the compound-containing composition represented by the general formula (1). A step of adjusting the amount of at least one compound to 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol% of the sulfonic acid group-containing ether compound (hereinafter, also referred to as “coloring inhibitor concentration adjusting step”). . By including this step, the color tone stability when a composition containing a sulfonic acid group-containing ether compound is stored for a long period of time is improved. The sulfur-containing compound, phosphorus-containing compound and nitrogen-containing compound may be used alone or in combination of two or more.
上記着色抑制物質濃度調整工程において、スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の着色抑制物質濃度を調整する形態としては、下記形態Ａ及びＢがあり、これらを併用してもよい。下記形態Ａは、反応工程において着色抑制物質が添加され、反応工程後の着色抑制物質の濃度が上述の範囲となる形態である。この場合、反応工程後に得られたスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物の合計の濃度が上述の範囲となるように、反応工程において着色抑制物質の量が調整して添加されることになり、反応工程と着色抑制物質濃度調整工程とが同時に行われることになる。
形態Ａ：上記反応工程後に得られたスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物の合計の濃度が上述の範囲となる形態。
形態Ｂ：上記反応工程後に得られた上記スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物に、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物を添加することにより、該スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の上記着色抑制物質の合計の濃度を上述の範囲の濃度に調整する形態。
In the coloring suppression substance concentration adjusting step, there are the following forms A and B as forms for adjusting the coloring suppression substance concentration in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition, and these may be used in combination. Form A below is a form in which a coloring inhibitor is added in the reaction step, and the concentration of the coloring inhibitor after the reaction step is in the above range. In this case, the coloring suppression substance in the reaction step is set so that the total concentration of the sulfur-containing compound, the phosphorus-containing compound and the nitrogen-containing compound in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition obtained after the reaction step is within the above range. Thus, the reaction step and the color-suppressing substance concentration adjusting step are performed simultaneously.
Form A: A form in which the total concentration of the sulfur-containing compound, phosphorus-containing compound and nitrogen-containing compound in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition obtained after the reaction step is in the above range.
Form B: In the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition, a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound, and a nitrogen-containing compound are added to the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition obtained after the reaction step. The form which adjusts the density | concentration of the sum total of the said coloring suppression substance to the density | concentration of the said range.
上記硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物は特に限定されず、上述した本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物が含むものと同様の化合物を用いることができる。 The sulfur-containing compound, phosphorus-containing compound and nitrogen-containing compound are not particularly limited, and the same compounds as those contained in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention described above can be used.
上記着色抑制物質濃度調整工程によって調整されるスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の着色抑制物質濃度の好ましい範囲は、上述した本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物における着色抑制物質濃度の好ましい範囲と同様である。また、着色抑制物質として好ましい化合物も上述した本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物における着色抑制物質濃度の好ましい化合物と同様である。
上記一般式（１）で表される化合物含有組成物中の着色抑制物質濃度には、上記反応工程におけるアルカリ性物質の添加量が影響し、例えば、着色抑制物質として亜硫酸（塩）や重亜硫酸（塩）を用いた場合、アルカリ性物質の添加量が少ない場合には、組成物中の亜硫酸（塩）及び重亜硫酸（塩）濃度が低くなる。これは、アルカリ性物質の添加量が少ない場合には、組成物のｐＨが低いため、着色抑制物質として亜硫酸（塩）や重亜硫酸（塩）を用いた場合には、これらが亜硫酸ガスとして追い出され、残存亜硫酸（塩）及び重亜硫酸（塩）濃度が低下するためであると考えられる。
The preferable range of the color-suppressing substance concentration in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition adjusted by the color-suppressing substance concentration adjusting step is the color-suppressing substance concentration in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention described above. This is the same as the preferred range. Moreover, the compound preferable as a coloring inhibitory substance is the same as the preferable compound of the coloring inhibitory substance density | concentration in the sulfonic acid group containing ether compound containing composition of this invention mentioned above.
The concentration of the color-suppressing substance in the compound-containing composition represented by the general formula (1) is affected by the amount of the alkaline substance added in the reaction step. For example, as the color-suppressing substance, sulfurous acid (salt) or bisulfite ( When the amount of the alkaline substance is small, the concentration of sulfurous acid (salt) and bisulfurous acid (salt) in the composition is low. This is because when the amount of the alkaline substance added is small, the pH of the composition is low. Therefore, when sulfurous acid (salt) or bisulfurous acid (salt) is used as the coloring inhibitor, these are driven out as sulfurous acid gas. This is considered to be because the concentration of residual sulfurous acid (salt) and bisulfurous acid (salt) decreases.
上記一般式（２）で表される化合物において、Ｒ１は、単結合、ＣＨ２基又はＣＨ２ＣＨ２基を表すが、この中でも、ＣＨ２基であることが好適である。すなわち、上記一般式（２）で表される化合物は、一般式（２）中のＲ１がＣＨ２基である化合物であることが好ましい。Ｒ１がＣＨ２基であれば、当該化合物を原料として得られるスルホン酸基含有エーテル化合物を重合して得られる重合体において、スケール防止能をより向上することが可能になる。重合体のスケール防止能を更に向上する観点から、上記一般式（２）で表される化合物としては、（メタ）アリルグリシジルエーテルが特に好適である。 In the compound represented by the general formula (2), R 1 represents a single bond, a CH 2 group or a CH 2 CH 2 group, and among these, a CH 2 group is preferred. That is, the compound represented by the general formula (2) is preferably a compound in which R 1 in the general formula (2) is a CH 2 group. When R 1 is a CH 2 group, it becomes possible to further improve the scale preventing ability in a polymer obtained by polymerizing a sulfonic acid group-containing ether compound obtained using the compound as a raw material. From the viewpoint of further improving the ability to prevent scale of the polymer, (meth) allyl glycidyl ether is particularly suitable as the compound represented by the general formula (2).
上述したように、本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物は、長期間の保存でも着色が抑制された色調安定性に優れた組成物である。このような効果は、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を、スルホン酸基含有エーテル化合物に対して所定の割合で含むことで、発揮されることになる。このような、スルホン酸基含有エーテル化合物の安定化方法、すなわち、下記一般式（１）； As described above, the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention is a composition excellent in color tone stability in which coloring is suppressed even after long-term storage. Such an effect is exhibited by containing at least one compound selected from the group consisting of a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound, and a nitrogen-containing compound at a predetermined ratio with respect to the sulfonic acid group-containing ether compound. Will be. Such a method for stabilizing a sulfonic acid group-containing ether compound, that is, the following general formula (1);
（式中、Ｒ１は、単結合、ＣＨ２基又はＣＨ２ＣＨ２基を表す。Ｒ２は、Ｈ又はＣＨ３基を表す。Ｘ、Ｙは水酸基またはスルホン酸（塩）基を表し、Ｘ、Ｙのいずれか一方は水酸基を表し、他の一方はスルホン酸（塩）基を表す。）で表されるスルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を２．３〜１９モル％含有させるスルホン酸基含有エーテル化合物の安定化方法もまた、本発明の１つであり、そのようなスルホン酸基含有エーテル化合物の安定化方法を用いたスルホン酸基含有エーテル化合物の保存方法もまた、本発明の１つである。
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物の安定化方法、及び、保存方法の好ましい形態は、上述した本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の好ましい形態と同様である。
(Wherein R 1 represents a single bond, a CH 2 group or a CH 2 CH 2 group. R 2 represents H or a CH 3 group. X and Y represent a hydroxyl group or a sulfonic acid (salt) group, One of X and Y represents a hydroxyl group, and the other represents a sulfonic acid (salt) group.) 100 mol% of a sulfonic acid group-containing ether compound represented by And a method for stabilizing a sulfonic acid group-containing ether compound containing 2.3 to 19 mol% of at least one compound selected from the group consisting of nitrogen-containing compounds is also one aspect of the present invention. A method for preserving a sulfonic acid group-containing ether compound using a method for stabilizing a sulfonic acid group-containing ether compound is also one aspect of the present invention.
The preferred form of the method for stabilizing and preserving the sulfonic acid group-containing ether compound of the present invention is the same as the preferred form of the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention described above.
本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物は、上述の構成よりなり、長期保存した場合においても着色を抑制し、色調を維持することが可能なものである。スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を重合体の原料として使用した場合に、重合体の色調に、悪影響を与えることがない。また、重合体の原料として配合量の自由度が増し、より多くのスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を導入できるため、重合体の耐硬水性が向上する。したがって、スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物は、水処理剤、洗剤用ビルダー、洗剤組成物、分散剤、洗浄剤等に使用される重合体の原料として有用な組成物である。 The sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention has the above-described configuration, and can suppress coloration and maintain the color tone even when stored for a long time. When the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition is used as a raw material for the polymer, the color tone of the polymer is not adversely affected. Moreover, since the freedom degree of a compounding quantity increases as a raw material of a polymer, and more sulfonic acid group containing ether compound containing compositions can be introduce | transduced, the hard water resistance of a polymer improves. Therefore, the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition is a composition useful as a raw material for polymers used in water treatment agents, detergent builders, detergent compositions, dispersants, cleaning agents, and the like.
以下に実施例を掲げて本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」は「重量部」を、「％」は「質量％」を意味するものとする。 The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, the present invention is not limited to these examples. Unless otherwise specified, “part” means “part by weight” and “%” means “mass%”.
＜アクリル酸（塩）および３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸（塩）の定量方法＞
アクリル酸（塩）の定量は、下記条件にて高速クロマトグラフィーを用いて行った。
測定装置：株式会社日立製作所製 Ｌ−７０００シリーズ
検出器：株式会社日立製作所製 ＵＶ検出器 Ｌ−７４００
カラム：昭和電工株式会社製 ＳＨＯＤＥＸ ＲＳｐａｋ ＤＥ−４１３Ｌ
温度：４０．０℃
溶離液：０．１％リン酸水溶液
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ．
＜アリルグリシジルエーテルおよび３−アリルオキシ−１，２−プロパンジオールの定量方法＞
測定装置：東ソー株式会社製 ８０２０シリーズ
カラム：株式会社資生堂製 ＣＡＰＣＥＬＬ ＰＡＫ Ｃ１ ＵＧ１２０（５μｍ φ４．６ｍｍ×２５０ｍｍ）
温度：４０．０℃
溶離液：１０ｍｍｏｌ／Ｌリン酸水素二ナトリウム・１２水和物水溶液
（リン酸でｐＨ７に調整）／アセトニトリル＝４５／５５（体積比）
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ
検出器：ＲＩ
<Method for quantifying acrylic acid (salt) and 3-allyloxy-2-hydroxy-1-propanesulfonic acid (salt)>
The quantitative determination of acrylic acid (salt) was performed using high-speed chromatography under the following conditions.
Measuring device: L-7000 series detector manufactured by Hitachi, Ltd .: UV detector L-7400 manufactured by Hitachi, Ltd.
Column: SHODEX RSpak DE-413L manufactured by Showa Denko KK
Temperature: 40.0 ° C
Eluent: 0.1% phosphoric acid aqueous solution Flow rate: 1.0 mL / min.
<Method for quantifying allyl glycidyl ether and 3-allyloxy-1,2-propanediol>
Measuring device: 8020 series manufactured by Tosoh Corporation Column: CAPCELL PAK C1 UG120 (5 μm φ4.6 mm × 250 mm) manufactured by Shiseido Co., Ltd.
Temperature: 40.0 ° C
Eluent: 10 mmol / L Disodium hydrogen phosphate.12 hydrate aqueous solution (adjusted to pH 7 with phosphoric acid) / acetonitrile = 45/55 (volume ratio)
Flow rate: 1.0 mL / min
Detector: RI
＜過酸化水素濃度の定量方法＞
０．１％過酸化水素水の過酸化水素濃度の測定は以下の手順にしたがって行った。１００ｍＬビーカーに、ヨウ化カリウム１．０ｇを秤りとり、純水７０ｇを加え、マグネチックスターラーで撹拌する。ここへ、撹拌下、ホールピペットで１８Ｎ硫酸１５ｍＬを加えた後、さらに、０．１％過酸化水素水を、褐色に変色するまで加え（Ｚｇ）、２分撹拌する。ここへ、撹拌下、ホールピペットで１％デンプン１ｍＬを加え、溶液が黒褐色に変色するのを確認する。変色確認後、ただちに、撹拌下、自動滴定装置（平沼産業株式会社製ＣＯＭ−１７００）を用いて０．１Ｍチオ硫酸ナトリウム水溶液で滴定し、色が消えたところを終点（ＡｍＬ）とする。別途、ブランクとして、０．１％過酸化水素水を添加しないものについても滴定し、終点（ＢｍＬ）を求めておく。各測定値を下式に入力することにより、過酸化水素濃度を算出する。
過酸化水素濃度（％）＝（Ａ−Ｂ）×０．１７×（０．１Ｍチオ硫酸ナトリウム水溶液の
ファクター）／Ｚ
<Quantification method of hydrogen peroxide concentration>
The measurement of the hydrogen peroxide concentration of 0.1% hydrogen peroxide was performed according to the following procedure. In a 100 mL beaker, weigh 1.0 g of potassium iodide, add 70 g of pure water, and stir with a magnetic stirrer. To this, 15 mL of 18N sulfuric acid was added with a whole pipette under stirring, and then 0.1% hydrogen peroxide solution was further added until the color changed to brown (Zg) and stirred for 2 minutes. Here, 1 mL of 1% starch is added with a whole pipette under stirring, and it is confirmed that the solution turns dark brown. Immediately after confirming the color change, titration with 0.1M sodium thiosulfate aqueous solution is performed with stirring using an automatic titrator (COM-1700 manufactured by Hiranuma Sangyo Co., Ltd.), and the point where the color disappears is taken as the end point (AmL). Separately, a blank to which 0.1% hydrogen peroxide solution is not added is titrated to obtain an end point (BmL). The hydrogen peroxide concentration is calculated by inputting each measured value into the following equation.
Hydrogen peroxide concentration (%) = (A−B) × 0.17 × (factor of 0.1M sodium thiosulfate aqueous solution) / Z
＜亜硫酸（塩）、重亜硫酸（塩）の定量方法＞
スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物中の亜硫酸（塩）と重亜硫酸（塩）濃度の測定は、上記組成物中に酸化剤として過酸化水素を過剰に加えることにより、上記組成物中に含まれる亜硫酸（塩）と重亜硫酸（塩）をすべて分解させた後、残存する過酸化水素の濃度を、還元剤としてチオ硫酸ナトリウムを用いた酸化還元滴定により算出するものである。測定は以下の手順に従って行った。
０．１％過酸化水素水を十分な量調製し、上記＜過酸化水素濃度の測定＞にしたがって、正確な濃度（Ｓ％）を算出しておく。５０ｍＬスクリュー管に、固形分４０％に調整したスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物３．０ｇ（正確な重量をＸｇとする）及び０．１％過酸化水素水１５ｇ（正確な重量をＹｇとする）を秤りとり、マグネチックスターラーで１０分撹拌し、これを溶液Ｃとする。１００ｍＬビーカーに、ヨウ化カリウム１．０ｇを秤りとり、純水７０ｇを加え、マグネチックスターラーで撹拌する。このビーカーに、撹拌下、ホールピペットで１８Ｎ硫酸１５ｍＬを加えた後、溶液Ｃを褐色に変色するまで（Ｚｇ）加え、２分撹拌する。さらに、撹拌下、ホールピペットで１％デンプン１ｍＬを加え、溶液が黒褐色に変色するのを確認する。変色確認後、ただちに、撹拌下、自動滴定装置（平沼産業株式会社製ＣＯＭ−１７００）を用いて０．１Ｍチオ硫酸ナトリウム水溶液で滴定し、色が消えたところを終点（ＡｍＬ）とする。別途、ブランクとして、溶液Ｃを添加しないサンプルの終点（ＢｍＬ）を求めておく。各測定値を下式に入力することにより、亜硫酸（塩）、重亜硫酸（塩）濃度を算出する。ただし、Ｆは０．１Ｍチオ硫酸ナトリウム水溶液のファクターを示す。
亜硫酸（塩）、重亜硫酸（塩）濃度（ｐｐｍ）＝３０６００×（Ｘ＋Ｙ）／｛Ｘ×（Ｓ×Ｙ／（Ｘ＋Ｙ）−０．１７×Ｆ×（Ａ−Ｂ）／Ｚ）｝
上記計算式における定数３０６００及び０．１７は、測定に使用した化合物の分子量及び濃度の単位換算を考慮したうえで導出されたものである。
<Method for quantifying sulfurous acid (salt) and bisulfite (salt)>
Measurement of the concentration of sulfurous acid (salt) and bisulfurous acid (salt) in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition is included in the composition by adding hydrogen peroxide as an oxidizing agent to the composition. After the decomposition of all the sulfurous acid (salt) and bisulfurous acid (salt), the concentration of the remaining hydrogen peroxide is calculated by oxidation-reduction titration using sodium thiosulfate as a reducing agent. The measurement was performed according to the following procedure.
A sufficient amount of 0.1% hydrogen peroxide solution is prepared, and an accurate concentration (S%) is calculated according to the above <Measurement of hydrogen peroxide concentration>. In a 50 mL screw tube, 3.0 g of a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition adjusted to a solid content of 40% (the exact weight is Xg) and 15 g of 0.1% hydrogen peroxide solution (the exact weight is Yg) ) Is weighed and stirred with a magnetic stirrer for 10 minutes to give solution C. In a 100 mL beaker, weigh 1.0 g of potassium iodide, add 70 g of pure water, and stir with a magnetic stirrer. To this beaker, 15 mL of 18N sulfuric acid was added with a whole pipette with stirring, and then Solution C was changed to brown (Zg) and stirred for 2 minutes. Further, 1 mL of 1% starch is added with a whole pipette under stirring, and it is confirmed that the solution turns blackish brown. Immediately after confirming the color change, titration with 0.1M sodium thiosulfate aqueous solution is performed with stirring using an automatic titrator (COM-1700 manufactured by Hiranuma Sangyo Co., Ltd.), and the point at which the color disappears is taken as the end point (AmL). Separately, the end point (BmL) of the sample to which the solution C is not added is obtained as a blank. By inputting each measured value into the following equation, the concentration of sulfurous acid (salt) and bisulfite (salt) is calculated. However, F shows the factor of 0.1M sodium thiosulfate aqueous solution.
Sulfurous acid (salt), bisulfite (salt) concentration (ppm) = 30600 × (X + Y) / {X × (S × Y / (X + Y) −0.17 × F × (AB) / Z)}
The constants 30600 and 0.17 in the above calculation formula are derived in consideration of unit conversion of the molecular weight and concentration of the compound used for the measurement.
＜実施例１＞
温度計、攪拌機、窒素流入管と窒素流出口に冷却トラップを備えたＳＵＳ製反応容器に、窒素を導入しながら、脱イオン水１６１．９ｇ、４８％水酸化ナトリウム水溶液７６．３ｇを仕込んだ。４８％水酸化ナトリウム水溶液の仕込み終了後、さらに窒素導入を３０分間維持し、その後窒素導入を止めた（窒素ガスのＳＶ値：０．０[ｈｒ−１]）。これに３５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液５４９．０ｇを添加した。液温を６３℃に昇温し、アリルグリシジルエーテル２１２．９ｇを２２５分かけて滴下した。アリルグリシジルエーテルの滴下終了後、反応液の温度を６３℃で３０分間維持した。（このようにして得た本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を、「スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物（１）」と言う。）。
上記スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物（１）中、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウムの収率（アリルグリシジルエーテルベース）は、９４．９％であった。また、スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物（１）に含まれる亜硫酸（塩）と重亜硫酸（塩）の合計の存在量は３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウム（酸型換算）１００モル％に対し６．２モル％であった。
<Example 1>
While introducing nitrogen into a SUS reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen inlet pipe and a cooling trap at the nitrogen outlet, 161.9 g of deionized water and 76.3 g of a 48% sodium hydroxide aqueous solution were charged. After the 48% sodium hydroxide aqueous solution was charged, the nitrogen introduction was further maintained for 30 minutes, and then the nitrogen introduction was stopped (SV value of nitrogen gas: 0.0 [hr −1 ]). To this was added 549.0 g of a 35% aqueous sodium hydrogen sulfite solution. The liquid temperature was raised to 63 ° C., and 212.9 g of allyl glycidyl ether was added dropwise over 225 minutes. After completion of the dropwise addition of allyl glycidyl ether, the temperature of the reaction solution was maintained at 63 ° C. for 30 minutes. (The sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention thus obtained is referred to as “sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition (1)”).
In the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition (1), the yield of sodium 3-allyloxy-2-hydroxy-1-propanesulfonate (based on allyl glycidyl ether) was 94.9%. The total amount of sulfurous acid (salt) and bisulfurous acid (salt) contained in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition (1) is sodium 3-allyloxy-2-hydroxy-1-propanesulfonate (acid type). It was 6.2 mol% with respect to 100 mol%.
＜比較例１＞
温度計、攪拌機、窒素流入管と窒素流出口に冷却トラップを備えたＳＵＳ製反応容器に、窒素を導入しながら、脱イオン水１６１．９ｇ、４８％水酸化ナトリウム水溶液７６．３ｇを仕込み、これに３５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液５４９．０ｇを添加した。液温を６３℃に昇温し、アリルグリシジルエーテル２１２．９ｇを２２５分かけて滴下した。アリルグリシジルエーテルの滴下終了後、反応液の温度を６３℃で３０分間維持した。
その後、反応液の温度を６３℃に保持したまま、３５％過酸化水素水５．１ｇを添加して３００分間維持した（このようにして得た本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を、「スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物（２）」と言う。）。
上記スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物（２）中、３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウムの収率（アリルグリシジルエーテルベース）は、９４．９％であった。また、スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物（２）に含まれる亜硫酸（塩）と重亜硫酸（塩）の合計の存在量は３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウム（酸型換算）１００モル％に対し０モル％であった。
<Comparative Example 1>
While introducing nitrogen into a SUS reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen inlet pipe and a cooling trap at the nitrogen outlet, charged with 161.9 g of deionized water and 76.3 g of 48% sodium hydroxide aqueous solution, To this was added 549.0 g of a 35% aqueous sodium hydrogen sulfite solution. The liquid temperature was raised to 63 ° C., and 212.9 g of allyl glycidyl ether was added dropwise over 225 minutes. After completion of the dropwise addition of allyl glycidyl ether, the temperature of the reaction solution was maintained at 63 ° C. for 30 minutes.
Thereafter, while maintaining the temperature of the reaction liquid at 63 ° C., 5.1 g of 35% hydrogen peroxide solution was added and maintained for 300 minutes (the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition of the present invention thus obtained). (Referred to as “sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition (2)”).
In the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition (2), the yield of sodium 3-allyloxy-2-hydroxy-1-propanesulfonate (based on allyl glycidyl ether) was 94.9%. The total amount of sulfurous acid (salt) and bisulfurous acid (salt) contained in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition (2) is sodium 3-allyloxy-2-hydroxy-1-propanesulfonate (acid type). Conversion) was 0 mol% with respect to 100 mol%.
＜比較例２＞
温度計、攪拌機、窒素流入管と窒素流出口に冷却トラップを備えたＳＵＳ製反応容器に、窒素を導入しながら、イオン交換水２３２ｇ、水酸化ナトリウム２ｇを初期仕込みした。液温を８３℃に昇温し、アリルグリシジルエーテル２００ｇ、３５％亜硫酸水素ナトリウム水溶液５２０ｇを１２０分かけて滴下した。その後、反応液の温度を８３℃で１時間維持することにより反応を完結した。３−アリルオキシ−２−ヒドロキシプロパンスルホン酸ナトリウム（本発明のスルホン酸基含有エーテル化合物）の収率（アリルグリシジルエーテルベース）は、９４．５％であった。スルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物（３）に含まれる亜硫酸（塩）と重亜硫酸（塩）の合計の存在量は３−アリルオキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸ナトリウム（酸型換算）１００モル％に対し２．２モル％であった。
<Comparative example 2>
While introducing nitrogen, 232 g of ion exchange water and 2 g of sodium hydroxide were initially charged into a SUS reaction vessel equipped with a thermometer, a stirrer, a nitrogen inlet pipe and a cooling trap at the nitrogen outlet. The liquid temperature was raised to 83 ° C., and 200 g of allyl glycidyl ether and 520 g of 35% aqueous sodium hydrogen sulfite solution were added dropwise over 120 minutes. Thereafter, the reaction was completed by maintaining the temperature of the reaction solution at 83 ° C. for 1 hour. The yield (based on allyl glycidyl ether) of sodium 3-allyloxy-2-hydroxypropanesulfonate (sulfonic acid group-containing ether compound of the present invention) was 94.5%. The total amount of sulfurous acid (salt) and bisulfurous acid (salt) contained in the sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition (3) is sodium 3-allyloxy-2-hydroxy-1-propanesulfonate (acid type conversion) It was 2.2 mol% with respect to 100 mol%.
＜色調の測定方法＞
色調（ＡＰＨＡ）の測定方法は下記条件にてＬ、ａ、ｂ値を測定し、式１、２よりＡＰＨＡを算出した。
装置：日本電色工業株式会社製分光式差計ＳＥ２０００
式１ Ｗ＝１００−｛（１００−Ｌ）２＋ａ２＋ｂ２｝０．５
式２ ＡＰＨＡ＝−３４．９×Ｗ＋３４９０
<Measurement method of color tone>
The color tone (APHA) was measured by measuring L, a, and b values under the following conditions, and calculating APHA from Equations 1 and 2.
Apparatus: Spectrometer SE2000 manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
Formula 1 W = 100 − {(100−L) 2 + a 2 + b 2 } 0.5
Formula 2 APHA = −34.9 × W + 3490
＜保存安定性評価＞
実施例１及び比較例１で合成したスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物を１００ｍＬのスクリュー管に入れ蓋をし、４０℃のオーブンで３か月間静置し、静置前後の色調を測定した。結果を表１に示す。
<Storage stability evaluation>
The sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition synthesized in Example 1 and Comparative Example 1 was placed in a 100 mL screw tube, covered, and allowed to stand in an oven at 40 ° C. for 3 months, and the color tone before and after standing was measured. . The results are shown in Table 1.
Claims (3)
該硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の含有量は、スルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、２．３〜１９モル％であることを特徴とするスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物。 The following general formula (1);
The content of at least one compound selected from the group consisting of the sulfur-containing compound, phosphorus-containing compound and nitrogen-containing compound is 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol% of the sulfonic acid group-containing ether compound. A sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition,
該製造方法は、下記一般式（２）；
該反応工程により得られたスルホン酸基含有エーテル化合物を含む組成物中の硫黄含有化合物、りん含有化合物及び窒素含有化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の量をスルホン酸基含有エーテル化合物１００モル％に対して、２．３〜１９モル％に調整する工程とを含むことを特徴とするスルホン酸基含有エーテル化合物含有組成物の製造方法。 The following general formula (1);
The production method comprises the following general formula (2):
The amount of at least one compound selected from the group consisting of a sulfur-containing compound, a phosphorus-containing compound and a nitrogen-containing compound in the composition containing the sulfonic acid group-containing ether compound obtained by the reaction step is changed to a sulfonic acid group-containing ether. And a step of adjusting to 2.3 to 19 mol% with respect to 100 mol% of the compound, and a method for producing a sulfonic acid group-containing ether compound-containing composition.
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Publications (1)
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| JP (1) | JP2014198681A (en) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2010030024A1 (en) * | 2008-09-12 | 2010-03-18 | 株式会社日本触媒 | Manufacturing method for sulfonic acid group-containing ether compound |
| JP2011213615A (en) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Nippon Shokubai Co Ltd | Method for producing ether compound bearing sulfonic group |
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- 2013-03-29 JP JP2013074178A patent/JP2014198681A/en active Pending
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