JP2014172964A

JP2014172964A - 洗浄剤組成物

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Publication number: JP2014172964A
Application number: JP2013045647A
Authority: JP
Inventors: Toshiichi Nabeshima; 敏一鍋島
Original assignee: Dai Ichi Kogyo Seiyaku Co Ltd
Current assignee: DKS Co Ltd
Priority date: 2013-03-07
Filing date: 2013-03-07
Publication date: 2014-09-22

Abstract

【課題】シリコンウエハ製造時に付着した不純物を、より簡便な洗浄条件においても除去できる洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）アルカリ剤、（ｂ）下記一般式（１）で示されるアミノ酸、（ｃ）非イオン界面活性剤及び水を含有する洗浄剤組成物を用いる。
【化１】

ただし、式中Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基を示す。
【選択図】なし

Description

本発明は、主としてシリコンウエハの洗浄に用いられる洗浄剤組成物に関するものである。

太陽電池などの半導体用途に用いられるシリコンウエハは、その表面に残存する不純物を可能な限り低減することが求められている。

例えば、シリコンインゴットをスライスしてシリコンウエハを製造する工程では、切削液（クーラント）、シリコン粉又は砥粒などを含有するスラリーが切削物に付着するため、これを効率的に除去する必要がある。また近年、固定砥粒を用いたワイヤソー方式が実施されるようになり、スライス時に発生する微細な亀裂（ソーマーク）に付着したスラリーの除去が求められている。また、洗浄後のすすぎが容易であることも必要である。

さらに、太陽電池用途のシリコンウエハでは、エネルギー変換効率を向上させるために、シリコンウエハ表面にテクスチャー構造と呼ばれるピラミッド構造がエッチングにより形成され、特に単結晶シリコンウエハにおいては、水酸化ナトリウムなどを含むエッチング液が用いられる。従って、テクスチャー形成工程においては、これらのエッチング液も十分に除去する必要がある。

上記のようなシリコンウエハ製造時の洗浄に用いられる洗浄剤としては、アルカリ剤、界面活性剤、キレート剤などを含むものが開示されている（特許文献１等）。

しかしながら、上記のような従来技術の洗浄剤をシリコンウエハ製造時の洗浄に用いた場合、超音波洗浄等の操作を行わなければ不純物を十分に除去できないという問題があった。

特開２００６−２６５４６９号公報

本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、シリコンウエハ製造時に付着した不純物をより簡便な洗浄条件下でも除去できる優れた洗浄性を有し、すすぎ性も高い洗浄剤組成物を提供することを目的とする。

本発明の洗浄剤組成物は上記の課題を解決するために、（ａ）アルカリ剤、（ｂ）下記一般式（１）で示されるアミノ酸、（ｃ）非イオン界面活性剤及び水を含有するものとする。

ただし、式中Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基を示す。

上記（ｃ）非イオン界面活性剤としては、下記一般式（２）で示される化合物を用いることができる。

ただし、式中Ｒ^２は炭素数１０〜１４のアルキル基もしくはアルケニル基を示し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、ｎは平均付加モル数であり、１〜４０の数である。

本発明の洗浄剤組成物は、上記（ａ）アルカリ剤１００質量部に対し、（ｂ）一般式（１）で示されるアミノ酸を３〜１０００質量部、（ｃ）非イオン界面活性剤を５〜１０００質量部含有することが好ましい。

洗浄剤組成物中の各成分の含有量は限定されないが、例えば、（ａ）アルカリ剤を０．０５〜３０質量％、（ｂ）一般式（１）で示されるアミノ酸を０．０５〜３０質量％、（ｃ）非イオン界面活性剤を０．０５〜３０質量％含有するものとすることができる。

上記本発明の洗浄剤組成物には、（ｄ）可溶化剤をさらに含有させることもできる。また、（ｅ）金属イオン封止剤をさらに含有させることもできる。

本発明の洗浄剤組成物は、シリコンウエハの洗浄に好適に用いることができる。

本発明の洗浄方法は、上記本発明の洗浄剤組成物のいずれかを使用するものとする。

本発明の洗浄剤組成物は、シリコンウエハ製造時に付着した不純物を、超音波洗浄等の操作なしに浸け置き等の簡便な洗浄条件のみでも除去できる優れた洗浄性と高いすすぎ性を有するものとなる。

本発明の洗浄剤組成物は、上記のように（ａ）アルカリ剤、（ｂ）一般式（１）で示されるアミノ酸、（ｃ）非イオン界面活性剤及び水を含有してなり、シリコンウエハの洗浄に好適に用いることができ、またエッチングによるテクスチャー形成後の洗浄にも用いることができる。シリコンウエハスライス工程後の洗浄では、洗浄性が極めて優れ、すすぎ性も高く、またテクスチャー形成後の洗浄で使用した場合は、ウエハ表面形状保持効果が高いものとなる。

本発明で用いる（ａ）アルカリ剤は特に限定されないか、例としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、第二リン酸ナトリウム、第二リン酸カリウム、第三リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウム及びアンモニアなどの無機アルカリ化合物、水酸化テトラメチルアンモニウム、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、エチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、エチルジエタノールアミン、シクロヘキシルアミン及びトリイソパノールアミンなどの有機アルカリ化合物が挙げられる。これらのうち、洗浄性が優れることから、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが好ましい。

本発明で用いる（ｂ）アミノ酸は、次の式（１）で表される構造を有するものである。

式（１）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基を示す。ここで、アルキル基は、炭素数１〜３がより好ましく、炭素数１が特に好ましい。ヒドロキシアルキル基は、炭素数１〜３がより好ましく、炭素数１〜２がさらに好ましく、炭素数１が特に好ましい。

好ましい具体例としては、Ｒ^１が水素原子のグリシンが挙げられ、またＲ^１がアルキル基の場合は、炭素数１のアラニン、炭素数３のバリン、炭素数４のロイシン、イソロイシン等が挙げられる。Ｒ^１がヒドロキシアルキル基の場合は、炭素数１のセリン、炭素数２のトレオニン等が挙げられる。上記の中でも、すすぎ性やウエハ表面形状保持性がより向上する点から、グリシン、アラニン、セリンが好ましい。

本発明で用いられる（ｃ）非イオン界面活性剤は特に限定されず、種々の洗浄剤組成物に用いられている化合物を広く使用することができるが、アルコールにアルキレンオキサイドを付加したものが好ましく、下記一般式（２）で示されるものがより好ましい。

式（２）中、Ｒ^２は炭素数１０〜１４のアルキル基もしくはアルケニル基を示し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、ｎは平均付加モル数であり、１〜４０の数を示す。

具体例としては、Ｒ^２がアルキル基の場合、デシル基、イソデシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基等が挙げられ、Ｒ^２がアルケニル基の場合、デセニル基、イソデセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基等が挙げられる。ＡＯの例としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドが挙げられる。中でもエチレンオキサイドを含むことが好ましく、エチレンオキサイドの平均付加モル数は、２〜３０モルが好ましく、３〜２０モルがより好ましく、５〜１５モルがさらに好ましい。ｎは、２〜２０の範囲がより好ましい。上記範囲内とすることにより、すすぎ性をより向上させることができる。

本発明の洗浄剤組成には、必要に応じてさらに（ｄ）可溶化剤を配合することもできる。本発明の洗浄剤組成物が上記（ａ）〜（ｃ）を高濃度で含む水溶液である場合、これらの成分の溶解が不十分となり、沈殿等を生じるおそれがあるが、可溶化剤を配合することにより、これら各成分の溶解性を向上させ、水溶液の透明性を確保し、保存安定性をより向上させることが可能となる。

本発明で用いる（ｄ）可溶化剤は特に限定されないが、例としては、アルキルポリグルコシド、有機酸及び有機酸の塩が挙げられる。アルキルポリグルコシドの例としては、プロピルポリグルコシド、ブチルポリグルコシド、ヘキシルポリグルコシド、オクチルポリグルコシド、ノニルグルコシド、デシルグルコシド、デシルマルトシド、ドデシルマルトシド、トリデシルマルトシド等が挙げられる。有機酸の例としては、クメンスルホン酸、トルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、オクタン酸、２−エチルヘキサン酸等が挙げられる。有機酸としては、上記有機酸のナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩等の金属イオンの塩も用いられ、またアンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、メチルエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、エチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、エチルジエタノールアミンなどのオニウムイオンの塩等も用いられる。

可溶化剤は、洗浄剤組成物の上記安定化効果が高いことから、これらの中でもアルキルポリグルコシドが好ましい。

本発明の洗浄剤組成物には、必要に応じて洗浄効果をより向上させるために、（ｅ）金属イオン封止剤をさらに配合することもできる。金属イオン封止剤の種類も特に限定されず、種々の洗浄剤組成物に用いられている化合物を広く使用することができるが、好ましい例としては、エタン−１，１−ジホスホン酸、エタン−１，１，２−トリホスホン酸、１−ヒドロキシエタン−１，１−ジホスホン酸（ＨＥＤＰ）、エタンヒドロキシ−１，１，２−トリホスホン酸、エタン−１，２−ジカルボキシ−１，２−ジホスホン酸、メタンヒドロキシホスホン酸、ニトリロトリメチレンホスホン酸（ＮＴＭＰ）、３−カルボキシ−３−ホスホノヘキサン二酸（ＰＢＴＣ）、エチレンジアミンテトラキスメチレンホスホン酸、Ｌ−グルタミン酸二酢酸、メチルグリシン二酢酸、グルコン酸、グリコール酸、エチレンジアミン四酢酸、ニトリロ三酢酸、イミノ二酢酸、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸、ジエチレントリアミン五酢酸、グリコールエーテルジアミン四酢酸、ヒドロキシエチレンジアミンテトラアミン六酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、トリエチレンテトラミン六酢酸、クエン酸、リンゴ酸及びこれらの塩などが挙げられる。

本発明の洗浄剤組成物には、上記各成分以外に、消泡剤、防腐剤、防錆剤、酸化防止剤、ｐＨ調整剤等の公知の添加剤を、本発明の目的に反しない範囲で適宜配合することもできる。

上記（ａ）〜（ｃ）成分の配合割合は、（ａ）アルカリ剤１００質量部に対して、（ｂ）一般式（１）で示されるアミノ酸は３〜１０００質量部が好ましく、５〜８００質量部がより好ましく、１０〜５００質量部が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性がより優れたものとなる。また、テクスチャー形成後の洗浄に使用した場合は、ウエハ表面形状保持効果も優れたものとなる。また、（ｃ）非イオン界面活性剤は、（ａ）アルカリ剤１００質量部に対して、５〜１０００質量部が好ましく、１０〜８００質量部がより好ましく、２０〜５００質量部が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性とすすぎ性のバランスがより向上する。

また（ｄ）可溶化剤を使用する場合の配合割合は、（ａ）アルカリ剤１００質量部に対して５〜１０００質量部が好ましく、１０〜８００質量部がより好ましく、２０〜５００質量部が更に好ましい。さらに、（ｃ）非イオン界面活性剤１００質量部に対しては、５〜１０００質量部が好ましく、１０〜８００質量部がより好ましく、５０〜５００質量部が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄剤組成物を高濃度で含む水溶液の作製が可能となり、保存安定性に優れ、使用時に水による希釈がより容易になる。また、すすぎ性がより優れる。

本発明の洗浄剤組成物は、上記（ａ）〜（ｃ）各成分と、必要に応じて用いられる（ｄ）成分及び／又は（ｅ）成分と、残部の水とからなり、使用目的に応じて広範囲の濃度で使用することができる。従って、洗浄剤組成物中の上記（ａ）〜（ｅ）各成分の配合量（濃度）を一律に示すことはできないが、一例を以下に示す。

上記（ａ）アルカリ剤の配合量は０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２５質量％がより好ましく、０．２〜２０質量％がさらに好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性がより優れたものとなる。

上記（ｂ）一般式（１）で示されるアミノ酸の配合量は、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．１〜１５質量％が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性がより優れたものとなる。また、テクスチャー形成後の洗浄においてはウエハ表面形状保持効果がより優れたものとなる。

上記（ｃ）非イオン界面活性剤の配合量は、０．０５〜３０質量％が好ましく、０．１〜２５質量％がより好ましく、０．１〜２０質量％が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、洗浄性とすすぎ性のバランスがより優れたものとなる。

上記（ｄ）可溶化剤を使用する場合の配合量は０．０５〜４０質量％が好ましく、０．１〜３０質量％がより好ましく、０．２〜２０質量％が更に好ましい。上記範囲内とすることにより、水による希釈がより容易になり、また、すすぎ性がより優れる。

上記（ｅ）金属イオン封止剤を使用する場合の配合量は、０．０１〜２０質量％が好ましく、０．０５〜１５質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％がさらに好ましい。上記範囲内とすることにより、シリコンウエハ表面に残存する金属量をより低減でき、またすすぎ性もより優れるものとなる。

本発明の洗浄剤組成物は、上記の通り、シリコンウエハの洗浄全般、すなわちシリコンウエハスライス工程後の粗洗浄及び仕上げ洗浄のいずれにも好適に用いることができ、またエッチングによるテクスチャー形成後の洗浄においても用いることができるが、必要に応じて、それ以外の種々の洗浄対象にも用いることができる。

本発明の洗浄剤組成物を用いてシリコンウエハを洗浄する際には、配合量（濃度）の例として示した上記のものをそのまま使用することもでき、これを原液として水で希釈して使用することもできる。上記配合量のものを水で希釈する場合は１００倍以下（但し、体積基準とする。以下同様。）に希釈して使用するのが好ましい。希釈倍率が１００倍を超えると洗浄性が低下するようになる。

洗浄方法は特に限定されず、従来公知の洗浄方法を適宜用いることができる。例えば、浸漬洗浄、超音波洗浄、ブラシ洗浄、スクラブ洗浄、噴流洗浄、スプレー洗浄、手拭き洗浄、及びこれらの組み合わせが挙げられる。但し、本発明の洗浄剤組成物は洗浄効果が高いため、浸漬等の簡易な手段でも十分な洗浄効果を得ることができる。

洗浄後は、使用目的に応じて、そのまま乾燥させることもでき、水等ですすいだのち乾燥させることもできる。

次に、本発明を実施例及び比較例に基づいて説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。また、以下において「部」又は「％」とあるときは、特にことわらない限り質量基準である。

表１及び表２に記載の原料をこれらの表に示した配合量で混合することにより、各洗浄剤組成物を調整し、下記の評価を行った。原料の詳細は以下の通りである。結果を表１及び２に示す。

（ａ）アルカリ剤
（ａ−１）水酸化ナトリウム
（ａ−２）水酸化カリウム
（ｂ）一般式（１）で示されるアミノ酸
（ｂ−１）グリシン（Ｒ＝Ｈ）
（ｂ−２）アラニン（Ｒ＝ＣＨ_３）
（ｂ−３）セリン（Ｒ＝ＣＨ_２ＯＨ）
（ｃ）非イオン界面活性剤
（ｃ−１）イソデシルアルコールにエチレンオキサイド７モルを付加した化合物
（ｃ−２）イソデシルアルコールにエチレンオキサイド１２モルとプロピレンオキサイド２モルをランダム付加した化合物
（ｃ−３）ドデシルアルコールにエチレンオキサイド８モルとプロピレンオキサイド２モルをランダム付加した化合物
（ｃ−４）トリデシルアルコールにエチレンオキサイド８モルを付加した化合物
（ｄ）可溶化剤
（ｄ−１）ブチルポリグルコシド
（ｄ−２）パラトルエンスルホン酸ナトリウム
（ｅ）金属イオン封止剤
（ｅ−１）グルコン酸ナトリウム
（ｅ−２）エチレンジアミン四酢酸ナトリウム

（１）シリコンウエハ製造工程における評価
（洗浄性）
ワイヤーソーオイル（パレス化学株式会社製、ＰＳ−ＤＷＳ−８）とシリコン粉（平均粒子経１μｍ）を質量比９０：１０で混合したものを洗浄対象物のモデルとした。固定砥粒方式でスライスされた単結晶シリコンウエハ（サイズ：１５６ｍｍ×１５６ｍｍ）１枚を上記洗浄対象物のモデル液に完全に浸漬し、引き上げたものをテストピースとした。

表１及び表２の各洗浄剤組成物の水１０倍希釈品を調製し、６０℃に調温して上記テストピースを１０分間浸漬し、さらに、４０℃のイオン交換水に１０分間浸漬した。その後、２５℃のイオン交換水にテストピースを１０分間浸漬した後、８０℃乾燥機にて２０分間乾燥した。

それぞれウエハ表面の洗浄対象物の除去面積率（％）を判定し、その平均値を洗浄性（％）とした。判定においては、ウエハと同じサイズの碁盤状の枠（１０×１０マス）を作成し、これを洗浄後のウエハに当てはめてマス目を数えることにより面積を求めた。また、この洗浄性を以下の基準で評価した。その結果を表１及び２に示す。
○：良好（洗浄性９８％以上）
△：一部洗浄残り（洗浄性９０％以上９８％未満）
×：不良（洗浄性９０％未満）

（間隙洗浄性）
ワイヤーソーオイル（パレス化学株式会社製、ＰＳ−ＤＷＳ−８）とシリコン粉（平均粒子経１μｍ）を質量比９０：１０で混合したものを洗浄対象物のモデルとした。これを固定砥粒方式でスライスされた単結晶シリコンウエハ（サイズ：１５６ｍｍ×１５６ｍｍ）２枚の間にセットした。このとき、ウエハ間の間隔は１５０μｍで固定し、テストピースとした。

表１及び２の各洗浄剤の水２０倍希釈品を調製し、５０℃に調温して上記テストピースを１０分間浸漬し、さらにそのテストピースを２５℃のイオン交換水に１０分間浸漬した。

上記処理後、２枚のウエハを開け、それぞれウエハ表面の洗浄対象物の除去面積率（％）を判定し、その平均値を洗浄性（％）とした。判定においては、ウエハと同じサイズの碁盤状の枠（１０×１０マス）を作成し、これを洗浄後ウエハに当てはめて、除去面積を求めた。また、この除去面積率に基づき洗浄性を以下の基準で評価した。その結果を表１及び２に示す。
○：良好（洗浄性８０％以上）
△：一部洗浄残り（洗浄性５０％以上８０％未満）
×：不良（洗浄性５０％未満）

（２）テクスチャー形成工程における評価
５質量％水酸化ナトリウム水溶液にイソプロピルアルコールを５質量％添加して８０℃に調温したエッチング液に、単結晶シリコンウエハ（サイズ：１５６ｍｍ×１５６ｍｍ）を２０分間浸漬し、さらに、イオン交換水で水洗後することにより、シリコンウエハ表面にテクスチャーを形成した。これを、王水（硝酸:塩酸＝１：３）に完全に浸漬し、その後、イオン交換水ですすぎ、金属イオンと有機物残渣を除去することにより、シリコンウエハのテストピースを作製した。

表１及び表２の各洗浄剤の水１０倍希釈品を調製し、６０℃に調温して上記テストピースを１０分間浸漬し、さらに、４０℃のイオン交換水に１０分間浸漬した。その後、２５℃のイオン交換水にテストピースを１０分間浸漬し、次いで８０℃乾燥機にて２０分間乾燥することにより試験片を作成した。得られた試験片を用いて、以下の通りすすぎ性とウエハ表面形状の評価を行った。

（すすぎ性）
ウエハ表面の有機成分（洗浄剤残渣）をウエハ加熱脱離−ガスクロマトグラフ−質量分析法（株式会社島津製作所、ＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０Ｐｌｕｓ）で分析し、ウエハ片面（約２４３ｃｍ^２当たり）に残存する有機成分をヘキサデカン換算量で算出し、以下の基準で評価した。その結果を表１及び表２に示す。
○：良好（１．００μｇ未満）
△：一部洗浄剤残あり（１．００μｇ以上１０．０μｇ未満）
×：不良（１０．０μｇ以上）

（ウエハ表面形状）
走査電子顕微鏡（日本電子株式会社、ＪＳＭ−６３８０ＬＶ）を用いて、ウエハ表面のテクスチャー形状を観察した。評価は、ウエハの四隅、ウエハの中心点及びウエハ各辺の中点の合計９箇所について、洗浄前のテストピースと比較し、以下の基準で行った。その結果を表１及び表２に示す。
○：テクスチャー構造が保持されている
×：テクスチャーのサイズ変化や消滅が見られる

（表面反射率）
紫外・可視分光光度計（株式会社日立ハイテクノロジーズ、Ｕ−３９００Ｈ）を用いて、波長６００ｎｍにおける試験片の反射率を測定した。その結果を表１及び表２に示す。テストピースの反射率は１２％であり、ウエハ表面のテクスチャー形状が変化すると反射率が高くなる。

表１及び表２に示された結果から、本発明の洗浄剤組成物によれば、（ａ）〜（ｃ）成分併用による相乗効果として、シリコンウエハの洗浄における洗浄効果が顕著に優れ、またすすぎ性にも優れ、更には、テクスチャー形成後の洗浄に使用した場合、ウエハ表面形状保持効果も高いことが分かる。

Claims

（ａ）アルカリ剤、（ｂ）下記一般式（１）で示されるアミノ酸、（ｃ）非イオン界面活性剤、及び水を含有してなる洗浄剤組成物。

ただし、式中Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のヒドロキシアルキル基を示す。
前記（ｃ）非イオン界面活性剤が、下記一般式（２）で示される化合物であることを特徴とする、請求項１に記載の洗浄剤組成物。

ただし、式中Ｒ^２は炭素数１０〜１４のアルキル基もしくはアルケニル基を示し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、ｎは平均付加モル数であり、１〜４０の数である。
前記（ａ）アルカリ剤１００質量部に対し、前記（ｂ）一般式（１）で示されるアミノ酸を３〜１０００質量部、前記（ｃ）非イオン界面活性剤を５〜１０００質量部含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の洗浄剤組成物。
前記（ａ）アルカリ剤を０．０５〜３０質量％、前記（ｂ）一般式（１）で示されるアミノ酸を０．０５〜３０質量％、及び前記（ｃ）非イオン界面活性剤を０．０５〜３０質量％含有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の洗浄剤組成物。
（ｄ）可溶化剤をさらに含有することを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の洗浄剤組成物。
シリコンウエハの洗浄に用いることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の洗浄剤組成物。
請求項１〜５のいずれか１項に記載の洗浄剤組成物を用いることを特徴とする、シリコンウエハの洗浄方法。