JP2014170743A - 非移送式中空型プラズマトーチ - Google Patents
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Abstract
【課題】部品の交換又は修理が容易な非移送式中空型プラズマトーチの提供。
【解決手段】後方トーチ部104及び前方トーチ部106を備える非移送式中空型プラズマトーチ100であって、後方トーチ部104は、両側が開放され形成される後方電極ハウジング125と、後方電極ハウジング125の内部に固定される中空状の後方電極体121と、後方電極体121と対応し、後方電極ハウジング125に巻かれる磁気コイル127と、後方電極ハウジング125の開放された一側に挿入され、後方電極体121の一端部に脱着可能に形成される後方電極蓋123とを備える。
【選択図】図1
【解決手段】後方トーチ部104及び前方トーチ部106を備える非移送式中空型プラズマトーチ100であって、後方トーチ部104は、両側が開放され形成される後方電極ハウジング125と、後方電極ハウジング125の内部に固定される中空状の後方電極体121と、後方電極体121と対応し、後方電極ハウジング125に巻かれる磁気コイル127と、後方電極ハウジング125の開放された一側に挿入され、後方電極体121の一端部に脱着可能に形成される後方電極蓋123とを備える。
【選択図】図1
Description
本発明は、非移送式中空型プラズマトーチに関するものである。
プラズマトーチは、電極間でプラズマアーク柱(Plasma Arc Column)を発生させ且つ維持する装置である。プラズマトーチからプラズマアーク柱を通じて電流が流れる時、プラズマアーク柱の電気的な抵抗によって電気エネルギーが熱エネルギーに変換し加熱され、既存の燃焼方式の熱源よりさらに高い温度(例えば、20,000K以上)及び熱量が得られる。プラズマトーチに用いられるガスとしては、圧縮空気、酸素、蒸気、アルゴン、窒素、二酸化炭素、水素等応用される分野によって様々用いられ、これは有機物が多く含まれている有害廃棄物の処理に好適である。
先行技術として開示されている長寿命プラズマトーチは、電極の寿命が尽きた場合、絶縁物体を介して結合する陽極ハウジング及び陰極ハウジングを分解して電極の交換作業を遂行しなければならない。しかしながら、陽極ハウジング及び陰極ハウジングの内部には冷却ラインが構成されており、陽極ハウジング及び陰極ハウジングのそれぞれにソレノイド状の引込線が配設されているため、電極を交換するためには絶縁物体と、陽極ハウジングと、陰極ハウジングとの間の各結合を解離しなければならず、それ故に電極交換に多大な時間及び努力を必要とするといった問題点がある。そして、中空型陽極を交換する際、中空型陽極全体を新たに交換しなければならないため、電極交換によるコストの増大といった問題点がある。
本発明は、電極交換が容易な非移送式中空型プラズマトーチを提供することを目的とする。
本発明は、後方電極全体ではなく後方電極蓋のみを交換する非移送式中空型プラズマトーチを提供することを目的とする。
1.本発明による非移送式中空型プラズマトーチは、後方トーチ部及び前方トーチ部を備える非移送式中空型プラズマトーチであって、前記後方トーチ部は、両側が開放され形成される後方電極ハウジングと、前記後方電極ハウジングの内部に固定される中空状の後方電極体と、前記後方電極体と対応し、前記後方電極ハウジングに巻かれる磁気コイルと、前記後方電極ハウジングの開放された一側に挿入され、前記後方電極体の一端部に脱着可能に形成される後方電極蓋とを備える。
2.前記項目1において、前記磁気コイルは、磁場を発生し、前記非移送式中空型プラズマトーチ内のプラズマアークを前記後方電極蓋に誘導することができる。
3.前記項目1において、前記後方電極蓋は、前記後方電極ハウジングの内側と分離可能に結合され得る。
4.前記項目1において、前記非移送式中空型プラズマトーチは、前記後方トーチ部と前記前方トーチ部との間に、前記後方トーチ部と前記前方トーチ部とにより押圧されることで固定される絶縁物体と、前記後方トーチ部及び前記絶縁物体を内部に収納し、一側は開放されて形成され、他側は前記前方トーチ部と結合される外部ハウジングと、前記外部ハウジングの一側で前記外部ハウジングと結合されるハウジング蓋とをさらに備えることができる。
5.前記項目4において、前記非移送式中空型プラズマトーチは、前記後方電極ハウジングの一端部に形成され、前記後方電極ハウジングの内部に冷却水を出入りさせる後方トーチ冷却部と、前記後方電極ハウジングの内部に形成され、前記後方トーチ冷却部と連通する第1の冷却水流動空間とをさらに備えることができる。
6.前記項目5において、前記後方トーチ冷却部の一端部は、前記ハウジング蓋を貫通して前記外部ハウジングの外部に露出することができる。
7.前記項目4において、前記前方トーチ部は、一側が前記外部ハウジングの他側と結合して前記絶縁物体を押圧する前方電極ハウジングと、一側が前記前方電極ハウジングの内部において前記絶縁物体と結合する中空状の前方電極と、前記前方電極ハウジング及び前記前方電極の他側が結合して、前記前方電極ハウジングの他側と分離可能に結合する固定部とを備えることができる。
8.前記項目7において、前記非移送式中空型プラズマトーチは、前記外部ハウジングに形成され、前記前方電極ハウジングの内部に冷却水を出入りさせる前方トーチ冷却部と、前記前方電極ハウジングの内部に形成され、前記前方トーチ冷却部と連通する第2の冷却水流動空間とをさらに備えることができる。
9.前記項目4において、前記前方電極及び前記後方電極体は、同芯軸上で相互離隔するように配列され得る。
10.本発明の他の実施形態による非移送式中空型プラズマトーチは、後方トーチ部及び前方トーチ部を備える非移送式中空型プラズマトーチであって、前記後方トーチ部は、両側が開放され形成される後方電極ハウジングと、前記後方電極ハウジングの内部に固定される中空状の後方電極体と、前記後方電極体と対応して前記後方電極ハウジングに巻かれて形成され、磁場を発生して前記非移送式中空型プラズマトーチ内のプラズマアークを前記後方電極体の一端部に誘導する磁気コイルとを備える。
11.前記項目10において、前記非移送式中空型プラズマトーチは、前記後方電極ハウジングの開放された一側に挿入され、前記後方電極体の一端部に脱着可能に形成される後方電極蓋をさらに備えることができる。
12.前記項目11において、前記磁気コイルは、前記後方電極ハウジングに前記後方電極蓋まで対応するようにさらに形成され得る。
13.前記項目11において、前記磁気コイルは、前記プラズマアークを前記後方電極蓋へ均等に誘導することができる。
本発明によれば、プラズマアークを後方電極の一端部に誘導することにより、後方電極体の侵食及び消耗を最小限に抑制することができ、それによって非移送式中空型プラズマトーチの寿命を延ばすことができる。この時、侵食及び消耗が生じた後方電極蓋のみを交換すれば良いため、部品交換によるコスト及び労力を低減することができる。そして、後方電極蓋は、カートリッジの形態であるため、容易に交換又は修理をすることができる。また、前方電極もカートリッジの形態であるため、容易に交換又は修理をすることができる。
以下、図1乃至図3を参照して、本発明の非移送式中空型プラズマトーチの具体的な実施形態を説明する。しかしながら、これは例示としての実施形態に過ぎず、本発明はこれらに制限されない。
本発明を説明するにあたり、本発明に係る公知技術についての具体的な説明が、本発明の要旨を不明瞭にすると判断される場合には、その詳細な説明を省略する。そして、後述する用語は、本発明における機能を考慮して定義された用語であって、これは使用者、運用者の意図又は慣例等により変わり得る。従って、その定義は、本明細書の全般にわたる内容に基づいてなされるべきである。
本発明の技術的思想は特許請求の範囲によって定められ、以下の実施形態は、進歩性を有する本発明の技術的思想を本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者に効率的に説明するための一手段に過ぎない。
図1は、本発明の一実施形態による非移送式中空型プラズマトーチを示した断面図である。
図1を参照すると、非移送式中空型プラズマトーチ100は、絶縁物体102と、後方トーチ部104と、前方トーチ部106と、外部ハウジング108と、ハウジング蓋110とを備える。
絶縁物体102は、外部ハウジング108の内側に形成された第1の結合部131と結合することができる。絶縁物体102は、外部ハウジング108の内部において、後方トーチ部104と前方トーチ部106との間に設けられる。具体的には、絶縁物体102は、後方トーチ部104と前方トーチ部106との間において、後方トーチ部104と前方トーチ部106とにより両側から押圧される状態となる。この場合、絶縁物体102は、別途の結合部材なしで後方トーチ部104と前方トーチ部106との間に位置することとなる。絶縁物体102は、例えば、テフロン(登録商標)素材からなり得るが、これに限定されるものではなく、これ以外の様々な絶縁物質からなり得る。絶縁物体102は、後方トーチ部104と前方トーチ部106とを絶縁する役割を果たす。
後方トーチ部104は、絶縁物体102の一側に形成される。後方トーチ部104は、後方電極体121と、後方電極蓋123と、後方電極ハウジング125と、磁気コイル127と、後方トーチ冷却部129とを備える。
後方電極体121は、後方電極ハウジング125の内部に挿入されて固定される。この際、後方電極体121の終端は、後方電極ハウジング125の終端内側に形成される第2の結合部133と結合することができる。後方電極体121は、中央が空いている中空状に形成され、後方電極体121の両側は開放されて形成され得る。後方電極体121は、例えば、無酸素銅(Oxygen Free High-conductive Copper;OFHC)からなり得る。無酸素銅は、銅中に含まれる酸素を除去し、銅の電気伝導度及び熱伝導度を向上させた物質である。しかしながら、後方電極体121の材質はこれに限定されるものではない。
後方電極蓋123は、後方電極体121の一側と分離可能に結合する。後方電極蓋123によって後方電極体121の一側は閉鎖される。後方電極蓋123は、後方電極体121の一側から後方電極体121の内部に挿入され得る。この際、後方電極蓋123の終端は、後方電極体121の内側に形成される第3の結合部135と結合することができる。そして、後方電極蓋123は、第1の結合部材137を介して後方電極ハウジング125の内側と結合することができる。この場合、後方電極ハウジング125の内部において、後方電極蓋123が後方電極体121を押圧し固定する。後方電極体121は、別途の結合部材なしで後方電極蓋123と絶縁物体102との間に固定され得る。本発明の実施形態において、前方電極141に対応する後方電極は、後方電極体121及び後方電極蓋123を備える。
後方電極ハウジング125は、外部ハウジング108の内部において後方電極体121及び後方電極蓋123を囲んで形成される。後方電極ハウジング125は、後方電極体121及び後方電極蓋123を外部環境から保護する役割を果たす。後方電極ハウジング125の終端は絶縁物体102の一側と結合する。
磁気コイル127は、後方電極ハウジング125の外周面に形成される。磁気コイル127は、後方電極ハウジング125の外周面にソレノイド状の引込線を複数回巻き付けて形成することができる。磁気コイル127の一端は、非移送式中空型プラズマトーチ100の電源(図示しない)に接続され、磁気コイル127の他端は、後方電極ハウジング125と結合し後方電極体121と電気的に接続され得る。この場合、磁場を形成するための別途の磁場形成用電源なしで、非移送式中空型プラズマトーチ100の電源(図示しない)のみでも磁場を形成することができる。
磁気コイル127は、自己誘導磁場(Self Induced Magnetic Field)の原理によって磁場を形成し、プラズマアークを後方電極蓋123側に誘導することができる。具体的には、磁気コイル127の巻線数及び各電極(すなわち、後方電極及び前方電極)に印加する電流、電圧の強度等を調節すれば、プラズマアークを後方電極蓋123側に誘導することができる。この場合、主に後方電極蓋123のみに侵食及び消耗が生じるため、後方電極体121を全て交換する必要がなく、後方電極蓋123のみを交換すれば良い。この時、後方電極蓋123は交換が容易であり、交換によるコストも削減することができる。プラズマアークを後方電極蓋123側に誘導する場合、後方電極蓋123の全面積にて均等に侵食が起こるようにし、後方電極蓋123の寿命を延長することが好ましい。即ち、プラズマアークを後方電極体121と対向する後方電極蓋123の末端部分の全面積にわたって均等に誘導することができる。また、磁気コイル127は、自己誘導磁場によって別途の磁場調節装置がなくてもプラズマアークの強度に応じて磁場の強度が自己調節される。
ここでは、磁気コイル127が後方電極蓋123の一側(即ち、前段部)まで形成されるものとして図示したが、これに限定されるものではなく、磁気コイル127は、後方電極ハウジング125から後方電極蓋123の他側(即ち、後段部)まで形成されてもよい。この場合、自己誘導磁場によるプラズマアークの誘導をより効率的に遂行することができ、後方電極蓋123の寿命を延ばすことができる。
後方トーチ冷却部129は、後方電極ハウジング125の一端に形成される。この際、後方トーチ冷却部129は、後方電極ハウジング125と一体に形成され得る。後方トーチ冷却部129は、後方トーチ部104の過熱を防止する役割を果たす。すなわち、後方トーチ冷却部129を介して後方電極体121を冷却することにより、高熱による後方電極体121の摩耗を最小限にすることができ、後方電極体121の寿命を延長することができる。
後方トーチ冷却部129は、冷却水が注入される第1の冷却水注入口129−1と、冷却水が排出される第1の冷却水排出口129−2とを備える。第1の冷却水注入口129−1及び第1の冷却水排出口129−2の一側は、ハウジング蓋110を貫通して形成され得る。後方電極ハウジング125の内部には、第1の冷却水注入口129−1及び第1の冷却水排出口129−2と連通する第1の冷却水流動空間139が形成される。この場合、第1の冷却水注入口129−1を通じて注入された冷却水は、第1の冷却水流動空間139に流入して後方電極体121を冷却する。そして、後方電極体121と熱交換を行った冷却水は、第1の冷却水排出口129−2を通じて外部に排出される。
前方トーチ部106は、絶縁物体102の他側に形成される。前方トーチ部106は、前方電極141及び前方電極ハウジング143を備える。
前方電極141は、前方電極ハウジング143の内部に挿入され固定される。この際、前方電極141の一端は絶縁物体102の他側と結合される。前方電極141の他端は固定部145と結合される。前方電極141は、中央が空いている中空状に形成され、前方電極141の両側は開放されて形成され得る。前方電極141は、例えば、無酸素銅からなり得るが、これに限定されるものではない。前方電極141は後方電極体121と一定間隔離隔して形成され、後方電極体121と対向して形成され得る。この際、後方電極体121と前方電極141とは、非移送式中空型プラズマトーチ100の性能及び修理或いは交換の容易性の側面から、同芯軸上に相互対向して形成され得る。
後方電極体121と前方電極141との間には、ガス流動空間147が形成される。ここで、ガス注入口(図示しない)を通じて注入されたガスは、ガス流動空間147に流入してプラズマアークを発生する。ガス注入口(図示しない)に注入されるガスとしては、例えば、圧縮空気、酸素、蒸気、アルゴン、窒素、二酸化炭素、水素等が挙げられるが、これに限定されるものではなく、非移送式中空型プラズマトーチ100が応用される分野に応じて様々なガスが用いられ得る。
前方電極ハウジング143は、前方電極141を囲んで形成される。前方電極ハウジング143は、前方電極141を外部環境から保護する役割を果たす。前方電極ハウジング143の一端は、絶縁物体102の他側及び外部ハウジング108の終端と結合する。前方電極ハウジング143の他端は固定部145と結合する。この際、前方電極ハウジング143の一端は、第2の結合部材149を介して外部ハウジング108と結合し、前方電極ハウジング143の他端は、第3の結合部材151を介して固定部145と結合することができる。この場合、前方電極141及び前方電極ハウジング143が、絶縁物体102の他側から絶縁物体102を押圧し固定する。そして、固定部145が、前方電極141の他端から前方電極141を押圧し固定する。前方電極ハウジング143の内部には、第2の冷却水流動空間153が形成され得る。
ここで、前方電極141はカートリッジの形態を有するため、容易に分離して交換することができる。すなわち、前方トーチ部106には磁気コイルが形成されておらず、前方電極141の一端は、別途の結合部材なしに絶縁物体102の他側と結合しているため、前方電極141を交換するためには、第3の結合部材151を外して前方電極141を分離すれば良い。
外部ハウジング108は、絶縁物体102と、後方トーチ部104と、前方トーチ部106との一部を囲んで形成され得る。外部ハウジング108は、絶縁物体102及び後方トーチ部104を外部環境から保護する役割を果たす。特に、絶縁物体102及び磁気コイル127は、外部に露出することなく外部ハウジング108によって保護される。外部ハウジング108の一端は、第4の結合部材155を介してハウジング蓋110と結合し、外部ハウジング108の他端は、第2の結合部材149を介して前方トーチ部106と結合する。
外部ハウジング108には、前方トーチ冷却部157が形成され得る。この際、前方トーチ冷却部157は、外部ハウジング108の外周面に形成され得る。前方トーチ冷却部157は、前方トーチ部106が過熱することを防止する役割を果たす。すなわち、前方トーチ冷却部157を介して前方電極141を冷却することにより、高熱による前方電極141の摩耗を最小限にすることができ、前方電極141の寿命を延長することができる。
前方トーチ冷却部157は、冷却水が注入される第2の冷却水注入口157−1と、冷却水が排出される第2の冷却水排出口157−2とを備える。第2の冷却水注入口157−1及び第2の冷却水排出口157−2は、それぞれ前方電極ハウジング143の内部に形成される第2の冷却水流動空間153と連通する。この場合、第2の冷却水注入口157−1を通じて注入された冷却水は、第2の冷却水流動空間153に流入して前方電極141を冷却する。そして、前方電極141と熱交換を行った冷却水は、第2の冷却水排出口157−2を通じて外部に排出される。
ハウジング蓋110は、外部ハウジング108の一端で第4の結合部材155を介して外部ハウジング108と結合する。ハウジング蓋110には、第1の貫通ホール159及び第2の貫通ホール161が形成され得る。ここで、第1の冷却水注入口129−1は第1の貫通ホール159に挿入され、第1の冷却水排出口129−2は第2の貫通ホール161に挿入されてハウジング蓋110を貫通する。ハウジング蓋110は、外部ハウジング108と第1の冷却水注入口129−1及び第1の冷却水排出口129−2との間の絶縁のために絶縁物体を用いることができる。
なお、非移送式中空型プラズマトーチ100は、絶縁物体102、後方電極体121、前方電極141、及びハウジング蓋110を除いて、基本的にステンレススチール(Stainless Steel)からなり得る。この場合、機械的強度に優れ、耐腐食性を有し、熱伝導度が銅と比較して低いため、外部への熱損失を減らすことができ、磁場の透過性に優れる特徴がある。しかしながら、これに限定されるものではなく、それ以外の材質からもなり得る。
本発明の実施形態によれば、プラズマアークを後方電極蓋123側に誘導することにより、後方電極体121の侵食且つ消耗を最小限に抑制することができ、それによって非移送式中空型プラズマトーチ100の寿命を延ばすことができる。この時、侵食且つ消耗が生じた後方電極蓋123のみを交換すれば良いため、部品交換によるコスト及び労力を低減することができる。そして、後方電極蓋123はカートリッジの形態であるため、容易に交換又は修理をすることができる。また、前方電極141もカートリッジの形態であるため、容易に交換又は修理をすることができる。
図2は、本発明の一実施形態による非移送式中空型プラズマトーチにおいて、後方電極蓋が分離された状態を示した図である。
図2を参照すると、非移送式中空型プラズマトーチ100の場合、磁気コイル127の巻線数、後方電極体121及び前方電極141に印加する電流、電圧強度等を調節することにより、プラズマアークが後方電極蓋123側に誘導される。この場合、主に後方電極蓋123のみに侵食且つ消耗が生じるため、後方電極蓋123を周期的に交換(又は修理)する必要がある。この時、後方電極蓋123の交換周期を伸ばすためには、プラズマアークを後方電極蓋123側に誘導する際、プラズマアークによる侵食が後方電極蓋123の全面積において均等に起こるようにする。
ここで、後方電極蓋123は、1)第4の結合部材155を外してハウジング蓋110を外部ハウジング108から分離し、2)第1の結合部材137を外して後方電極蓋123を後方電極ハウジング125から分離すれば良いため、後方電極蓋123を容易に交換(又は修理)することができる。すなわち、後方電極蓋123は、カートリッジの形態として容易に交換(又は修理)することができる。また、この状態で後方電極体121を後方電極ハウジング125から取り出せば良いため、後方電極体121も容易に分離することができる。
図3は、本発明の一実施形態による非移送式中空型プラズマトーチにおいて、前方電極が分離された状態を示した図である。
図3を参照すると、前方電極141を交換する必要がある場合、第3の結合部材151を外して固定部145を前方電極ハウジング143から分離した後、前方電極141を前方電極ハウジング143の外に取り出せば良いため、前方電極141を容易に交換又は修理することができる。すなわち、前方電極141は、カートリッジの形態として容易に交換又は修理をすることができる。
以上において、代表的な実施形態を通じて本発明について詳しく説明したが、本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者は、上述の実施形態について本発明の範疇から外れない範囲内で様々な変形が可能であることを理解しなければならない。従って、本発明の権利範囲は説明された実施形態に限定して定めるべきではなく、後述する特許請求の範囲のみならず、この特許請求の範囲と均等なもの等によって定めなければならない。
100:非移送式中空型プラズマトーチ
102:絶縁物体
104:後方トーチ部
106:前方トーチ部
108:外部ハウジング
110:ハウジング蓋
121:後方電極体
123:後方電極蓋
125:後方電極ハウジング
127:磁気コイル
129:後方トーチ冷却部
129−1:第1の冷却水注入口
129−2:第1の冷却水排出口
131:第1の結合部
133:第2の結合部
135:第3の結合部
137:第1の結合部材
139:第1の冷却水流動空間
141:前方電極
143:前方電極ハウジング
145:固定部
147:ガス流動空間
149:第2の結合部材
151:第3の結合部材
153:第2の冷却水流動空間
155:第4の結合部材
157:前方トーチ冷却部
157−1:第2の冷却水注入口
157−2:第2の冷却水排出口
159:第1の貫通ホール
161:第2の貫通ホール
102:絶縁物体
104:後方トーチ部
106:前方トーチ部
108:外部ハウジング
110:ハウジング蓋
121:後方電極体
123:後方電極蓋
125:後方電極ハウジング
127:磁気コイル
129:後方トーチ冷却部
129−1:第1の冷却水注入口
129−2:第1の冷却水排出口
131:第1の結合部
133:第2の結合部
135:第3の結合部
137:第1の結合部材
139:第1の冷却水流動空間
141:前方電極
143:前方電極ハウジング
145:固定部
147:ガス流動空間
149:第2の結合部材
151:第3の結合部材
153:第2の冷却水流動空間
155:第4の結合部材
157:前方トーチ冷却部
157−1:第2の冷却水注入口
157−2:第2の冷却水排出口
159:第1の貫通ホール
161:第2の貫通ホール
Claims (13)
- 後方トーチ部及び前方トーチ部を備える非移送式中空型プラズマトーチであって、前記後方トーチ部は、両側が開放され形成される後方電極ハウジングと、前記後方電極ハウジングの内部に固定される中空状の後方電極体と、前記後方電極体と対応し、前記後方電極ハウジングに巻かれる磁気コイルと、前記後方電極ハウジングの開放された一側に挿入され、前記後方電極体の一端部に脱着可能に形成される後方電極蓋とを備える、非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記磁気コイルは、磁場を発生し、前記非移送式中空型プラズマトーチ内のプラズマアークを前記後方電極蓋に誘導する、請求項1に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記後方電極蓋は、前記後方電極ハウジングの内側と分離可能に結合される、請求項1に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記非移送式中空型プラズマトーチは、前記後方トーチ部と前記前方トーチ部との間に、前記後方トーチ部と前記前方トーチ部とにより押圧されることで固定される絶縁物体と、前記後方トーチ部及び前記絶縁物体を内部に収納し、一側は開放されて形成され、他側は前記前方トーチ部と結合される外部ハウジングと、前記外部ハウジングの一側で前記外部ハウジングと結合されるハウジング蓋とをさらに備える、請求項1に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記非移送式中空型プラズマトーチは、前記後方電極ハウジングの一端部に形成され、前記後方電極ハウジングの内部に冷却水を出入りさせる後方トーチ冷却部と、前記後方電極ハウジングの内部に形成され、前記後方トーチ冷却部と連通する第1の冷却水流動空間とをさらに備える、請求項4に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記後方トーチ冷却部の一端部は、前記ハウジング蓋を貫通して前記外部ハウジングの外部に露出する、請求項5に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記前方トーチ部は、一側が前記外部ハウジングの他側と結合して前記絶縁物体を押圧する前方電極ハウジングと、一側が前記前方電極ハウジングの内部において前記絶縁物体と結合する中空状の前方電極と、前記前方電極ハウジング及び前記前方電極の他側が結合して、前記前方電極ハウジングの他側と分離可能に結合する固定部とを備える、請求項4に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記非移送式中空型プラズマトーチは、前記外部ハウジングに形成され、前記前方電極ハウジングの内部に冷却水を出入りさせる前方トーチ冷却部と、前記前方電極ハウジングの内部に形成され、前記前方トーチ冷却部と連通する第2の冷却水流動空間とをさらに備える、請求項7に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記前方電極及び前記後方電極体は、同芯軸上で相互離隔するように配列される、請求項7に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 後方トーチ部及び前方トーチ部を備える非移送式中空型プラズマトーチであって、前記後方トーチ部は、両側が開放され形成される後方電極ハウジングと、前記後方電極ハウジングの内部に固定される中空状の後方電極体と、前記後方電極体と対応して前記後方電極ハウジングに巻かれて形成され、磁場を発生して前記非移送式中空型プラズマトーチ内のプラズマアークを前記後方電極体の一端部に誘導する磁気コイルとを備える、非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記非移送式中空型プラズマトーチは、前記後方電極ハウジングの開放された一側に挿入され、前記後方電極体の一端部に脱着可能に形成される後方電極蓋をさらに備える、請求項10に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記磁気コイルは、前記後方電極ハウジングに前記後方電極蓋まで対応するようにさらに形成される、請求項11に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
- 前記磁気コイルは、前記プラズマアークを前記後方電極蓋へ均等に誘導する、請求項11に記載の非移送式中空型プラズマトーチ。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2013-0022958 | 2013-03-04 | ||
KR1020130022958A KR101345602B1 (ko) | 2013-03-04 | 2013-03-04 | 비이송식 공동형 플라즈마 토치 |
KR1020130117660A KR101381666B1 (ko) | 2013-10-02 | 2013-10-02 | 비이송식 공동형 플라즈마 토치 |
KR10-2013-0117660 | 2013-10-02 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014170743A true JP2014170743A (ja) | 2014-09-18 |
Family
ID=50159153
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014031189A Pending JP2014170743A (ja) | 2013-03-04 | 2014-02-21 | 非移送式中空型プラズマトーチ |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20140246410A1 (ja) |
EP (1) | EP2775805A3 (ja) |
JP (1) | JP2014170743A (ja) |
CN (1) | CN104039064A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN108289364A (zh) * | 2018-01-05 | 2018-07-17 | 安徽理工大学 | 一种水循环散热的介质阻挡放电等离子体助燃装置 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104470186B (zh) * | 2014-12-11 | 2017-06-13 | 中国航天空气动力技术研究院 | 大电流低烧蚀弧形电极 |
CN108907425A (zh) * | 2018-07-05 | 2018-11-30 | 叶露穗 | 一种具有磁稳定装置的能效等离子电焊机 |
CN109587923B (zh) * | 2018-12-21 | 2020-11-06 | 西安航天动力研究所 | 一种等离子体炬用的水电气分流装置 |
CN109587917A (zh) * | 2018-12-21 | 2019-04-05 | 西安航天动力研究所 | 一种基于永磁铁约束的大功率长寿命等离子体炬 |
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JPH11297492A (ja) * | 1998-04-06 | 1999-10-29 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | プラズマトーチ |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101249457B1 (ko) * | 2012-05-07 | 2013-04-03 | 지에스플라텍 주식회사 | 비이송식 공동형 플라즈마 토치 |
CN102802334A (zh) * | 2012-07-31 | 2012-11-28 | 北京航空航天大学 | 一种加载磁场的滑动电弧放电等离子体发生装置 |
-
2014
- 2014-02-21 JP JP2014031189A patent/JP2014170743A/ja active Pending
- 2014-02-27 EP EP20140156973 patent/EP2775805A3/en not_active Withdrawn
- 2014-03-03 US US14/195,400 patent/US20140246410A1/en not_active Abandoned
- 2014-03-04 CN CN201410077514.7A patent/CN104039064A/zh active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104039064A (zh) | 2014-09-10 |
EP2775805A2 (en) | 2014-09-10 |
US20140246410A1 (en) | 2014-09-04 |
EP2775805A3 (en) | 2015-05-20 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150120 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20150616 |